KR101693562B1 - 광학 장치, 및 반사 요소를 배향하는 방법 - Google Patents

광학 장치, 및 반사 요소를 배향하는 방법 Download PDF

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Abstract

이동가능한 반사 요소(110) 및 관련 액추에이터(109)를 구비하는 광학 장치가 개시된다. 액추에이터는, 제1 마그넷의 이동이 이동가능한 반사 요소의 이동을 야기하도록 이동가능한 반사 요소에 연결되는 제1 마그넷(113)과, 모터의 동작이 제2 마그넷의 이동을 야기하도록 모터(116)에 연결되는 제2 마그넷(114)을 포함하고, 제2 마그넷은 제2 마그넷의 이동이 제1 마그넷의 이동을 야기하도록 제1 마그넷에 대하여 위치되어 있다.

Description

광학 장치, 및 반사 요소를 배향하는 방법{OPTICAL APPARATUS, AND METHOD OF ORIENTING A REFLECTIVE ELEMENT}
본 발명은 2009년 8월 25일에 출원된 미국 가출원 제61/236,803호의 이익을 주장하며, 상기 가출원의 내용은 원용에 의해 그 전체가 본 명세서에 포함된다.
본 발명은 리소그래피 장치의 부분을 형성할 수 있는 광학 장치와, 반사 요소를 배향하는 관련 방법에 관한 것이다.
리소그래피 장치는 기판상에 통상적으로는 기판의 타겟 영역 상에 원하는 패턴을 부여하는 장치이다. 리소그래피 장치는 예컨대 집적회로(IC)의 제조시에 사용될 수 있다. 그 경우, 마스크 또는 레티클(reticle)로도 지칭되는 패터닝 디바이스가 집적회로의 개개의 층 상에 형성될 회로 패턴을 생성하기 위해 사용될 수 있다. 이 패턴은 기판(예컨대, 실리콘 웨이퍼) 상의 타겟 영역(예컨대, 하나의 다이(die)의 일부분, 하나의 다이, 또는 여러 개의 다이를 포함) 상으로 전사(transfer)될 수 있다. 패턴의 전사는 통상적으로 기판상에 제공된 방사선-감응재(레지스트)층 위에의 이미징(imaging)을 통해 수행된다. 일반적으로, 단일 기판은 연속적으로 패터닝되는 인접한 타겟 영역들의 네트워크를 포함할 것이다. 공지된 리소그래피 장치는, 타겟 영역 상에 패턴 전체를 한번에 노광함으로써 각각의 타겟 영역을 조사(照射)하는 소위 스테퍼(stepper), 및 소정의 방향("스캐닝"-방향)의 방사선 빔을 통해 패턴을 스캐닝하는 동시에, 이 방향과 평행한 방향 또는 역-평행 방향으로 기판을 스캐닝함으로써 각각의 타겟 영역을 조사하는 소위 스캐너를 포함한다.
리소그래피는 IC 및 다른 디바이스 및/또는 구조체의 제조에 중요한 단계들 중 하나로 널리 인식되어 있다. 그러나, 리소그래피를 사용하여 이루어지는 특징들의 디멘젼이 작아질수록, 리소그래피는 소형 IC 또는 다른 디바이스 및/또는 구조체가 제조될 수 있도록 하기 위한 더 중요한 요인이 되고 있다.
식(1)에서 도시된 바와 같이 해상도를 위한 레일리(Rayleigh) 기준에 의해 패턴 프린팅의 제한들에 대한 이론적인 추정이 제공된다:
Figure 112012018585745-pct00001
(1)
여기에서 λ는 사용된 방사선 파장이고, NA는 패턴을 프린팅하는 데 사용된 투영 시스템의 개구수(numerical aperture)이며, k1은 프로세스 의존 조절 지수로서, 레일리(Rayleigh) 상수라고 불리며, CD는 프린팅된 형상의 형상 사이즈(또는 임계 디멘젼)이다. 식 (1)로부터, 형상들의 최소 프린팅가능한 사이즈의 감소는 세 가지 방식으로 얻어질 수 있다는 것이 나온다: 노광 파장(λ)을 감소시키는 것, 개구수(NA)를 증가시키는 것, 또는 k1값을 감소시키는 것.
노광 파장을 감소시키고, 그에 따라 최소 프린팅가능한 사이즈를 감소시키기 위해, 극자외(EUV: Extreme ultraviolet)선 소스를 사용하는 것이 제안되어 있다. EUV선은 5-20 nm 범위, 예컨대 13-14 nm의 범위 내의 파장을 갖는 전자기 방사선이다. 10 nm 보다 작은 파장을 가지는 EUV선이 예컨대 6.7 nm 또는 6.8 nm 와 같은 5-10 nm의 범위 내에서 사용될 수 있다는 것이 더 제안되어 있다. 그러한 방사선은 극자외선 또는 소프트 x-ray선의 용어로 지칭된다. 가능한 소스들은, 예컨대 레이저-생성 플라즈마 소스들, 방전 플라즈마 소스들, 또는 전자 스토리지 링(electron storage ring)에 의해 제공된 싱크로트론 방사선(synchrotron radiation) 기반 소스를 포함한다.
EUV선은 플라즈마를 사용하여 생성될 수도 있다. EUV선을 생성하기 위한 방사선 시스템은 플라즈마를 제공하는 연료를 여기 시키기 위한 레이저, 및 플라즈마를 포함하기 위한 소스 콜렉터 모듈을 포함할 수 있다. 플라즈마는, 예컨대 적절한 물질(예컨대, 주석)의 입자들, 또는 Xe 기체나 Li 증기와 같은 적절한 기체 또는 증기의 스트림과 같은 연료에 레이저 빔을 지향시킴으로써, 생성될 수도 있다. 결과적인 플라즈마는, 방사선 콜렉터를 사용하여 집속된, 예컨대 EUV선과 같은 출력 방사선을 방출한다. 방사선 콜렉터는, 방사선을 수광하고 그 방사선을 빔으로 집속시키는, 미러링된 법선 입사 방사선 콜렉터(mirrored normal incidence radiation collector)일 수 있다. 소스 콜렉터 모듈은 플라즈마를 지지하기 위해 진공 환경을 제공하도록 구성된 인클로징 구조체(enclosing structure) 또는 챔버를 포함할 수도 있다. 그러한 방사선 시스템은 통상적으로 레이저 생성 플라즈마(LPP: Laser produced plasma) 소스라고 지칭된다.
리소그래피 장치는 일반적으로 조명 시스템을 포함한다. 조명 시스템은, 예컨대 엑시머 레이저 또는 극자외선 소스와 같은 소스로부터 방사선을 수광하고, 패터닝 디바이스에 입사하는 (종종 "투영" 시스템으로 언급되는) 방사선 빔을 제공한다. 방사선 빔은 패터닝 디바이스에 의해 패터닝되며, 그 후 투영시스템에 의해 기판으로 투영된다.
리소그래피 기술 분야에서, 적절한 조명 모드를 방사선 빔에 제공함으로서 기판상에 투영된 패터닝 디바이스의 이미지가 개선될 수 있다는 것은 공지되어 있다. 조명 모드는, 조명 시스템의 축 또는 광학축에 대하여 집중된, 조명 시스템의 퓨필 면(pupil plane)에서의 방사선 빔의 공간 강도 분포이다. 패터닝 디바이스의 면(필드 면(field plane) 또는 조명 시스템)에서, 그러한 공간 강도 분포는, 방사선의 각 강도 분포로 지칭되는, 입사 방사선의 입사의 각 분포에 대응한다. 원하는 조명 모드는, 예컨대 퓨필 면에서의 중심 조사 부분(central irradiated portion)을 갖는 통상적인 조명 모드, 또는 하나 이상의 고립된 축외 조사 부분(isolated, off-axis irradiated portion)을 갖는 축외 조명 모드일 수 있다. 따라서, 리소그래피 장치의 조명 시스템은, 선택된 조명 모드가 달성되도록 통상적으로 조명 시스템 내에 조사 빔을 지향하고, 조사 빔의 형태를 형성하고, 조사 빔을 제어하도록 배열된 강도 분포 조정 장치를 포함한다.
미국특허 제6,658,084호를 참조하면, 종래 기술에서는, 원하는 조명 모드를 달성하기 위해 조명 빔을 제어하도록 배열된 EUV 리소그래피 장치에 사용하기 위한 강도 분포 조정 장치를 설명한다. 종래기술의 EUV 리소그래피 장치의 조명 시스템은 복수의 반사 요소들을 포함하는 반사형 컴포넌트를 포함하고, 각 반사 요소는 복수의 반사 요소들이 효과적으로 환형 조명 모드를 제공하도록 퓨필 면의 위치에 EUV의 서브빔을 지향하도록 배열되고, 이에 의해 퓨필 면에서의 환형 강도 분포의 내측 및 외측 반경이 제어가능하다. 내측 및 외측 반경의 크기는 통상적으로 σinner 및 σouter 에 의해 각각 표시된다. 이 수들은, 내측 반경 대 투영 시스템의 개구 수에 대응하는 반경의 비율, 및 외측 반경 대 투영 시스템의 개구 수에 대응하는 반경의 비율을 각각 나타낸다.
그러한 조명 시스템의 광학 요소들은, EUV 선이 용기를 가로지를 때 유체들에 의해 실질적으로 흡수되지 않도록 진공 환경을 제공하는 용기에 위치된다. 반사 요소들의 일부는 조명 모드의 변화 또는 제어가 가능하도록 이동가능하거나 교환가능할 수도 있다. 그러므로, 진공 환경에서 조명 시스템의 이동 가능한 반사 요소들을 신뢰성있게 구동하는 문제가 존재한다.
진공 환경에서 사용하기에 적절한 이동가능한 반사 요소 및 관련 엑추에이터를 포함하는 광학 장치를 제공하는 것이 바람직하다.
한 관점에 따르면, 이동가능한 반사 요소 및 관련 엑추에이터를 포함하는 광학 장치가 제공되고, 엑추에이터는 제1 마그넷의 이동이 이동가능한 반사 요소의 이동을 야기하도록 이동가능한 반사 요소에 연결된 제1 마그넷과, 모터의 동작이 제2 마그넷의 이동을 야기하도록 모터에 연결된 제2 마그넷을 포함하고, 제2 마그넷은 제2 마그넷의 이동이 제1 마그넷의 이동을 야기하도록 제1 마그넷에 대하여 위치된다.
한 관점에 따르면, 이동가능한 반사 요소의 배향을 변화시키는 방법이 제공되며, 이 방법은 제2 마그넷을 이동시키기 위해 모터를 사용하는 단계, 제1 마그넷과 제2 마그넷 사이의 자기 상호작용을 통해 제1 마그넷을 이동시키기 위해 제2 마그넷의 이동을 사용하는 단계, 및 제1 마그넷과 이동가능한 반사 요소 사이의 연결을 통해 이동가능한 반사 요소의 배향을 변화시키기 위해 제1 마그넷의 이동을 사용하는 단계를 포함한다.
본 발명은 진공 환경에서 사용하기에 적절한 이동가능한 반사 요소 및 관련 엑추에이터를 포함하는 광학 장치를 제공한다.
이하에서는, 단지 예시를 목적으로 하는 본 발명의 실시예를 대응하는 부분에 대응하는 도면 부호가 부여되어 있는 첨부된 개략 도면을 참조하여 설명할 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 리소그래피 장치를 개략적으로 도시한다.
도 2a는 방전 생성 플라즈마 소스(discharge produced plasma source)를 포함하여 보다 상세하게 도 1의 리소그래피 장치의 부분을 개략적으로 도시한다.
도 2b는 레이저 생성 플라즈마 소스(laser produced plasma source)를 포함하여 보다 상세하게 도 1의 리소그래피 장치의 부분을 개략적으로 도시한다.
도 3 및 도 4는 리소그래피 장치의 조명 시스템의 이동가능한 반사 요소들의 동작을 예시한다.
도 5a 및 도 5b는 리소그래피 장치의 조명 시스템의 이동가능한 반사 요소들의 동작, 및 결과적인 y-다이폴(dipole) 조명 모드를 예시한다.
도 6a 및 도 6b는 리소그래피 장치의 조명 시스템의 이동가능한 반사 요소의 동작, 및 결과적인 x-다이폴 조명 모드를 예시한다.
도 7은 퓨필 면의 제1 사분면을 도시한다.
도 8은 도 8a, 도 8b, 도 8c, 도 8d, 도 8e를 포함하고, 본 발명의 실시예를 사용하여 획득가능한 5개의 조명 모드들 각각을 도시한다.
도 9 및 도 11은 본 발명의 실시예에 따른 이동가능한 반사 요소 및 엑추에이터를 도시한다.
도 10은 도 10a 및 도 10b를 포함하고, 위에서 본 엑추에이터 부분을 도시한다.
도 12는 본 발명의 실시예에 따른 부분을 형성하는 플레이트를 도시한다.
도 13은 본 발명의 실시예에 따른 부분을 형성하는 개구를 도시한다.
도 14는 도 14a 및 도 14b를 포함하고, 본 발명에 따른 엑추에이터의 부분을 형성할 수도 있는 마그넷 스크린을 도시한다.
도 15는 본 발명의 실시예에 따른 엑추에이터의 반대로 자화된 한 쌍의 마그넷들을 포함하는 마그넷들을 예시한다.
도 16은 제3 마그넷에 의해 분리된 반대로 자화된 한 쌍의 마그넷들을 포함하는 마그넷들을 도시한다.
도 17은 요크(yoke)들을 포함하는 반대로 자화된 한 쌍의 마그넷들을 포함하는 마그넷들을 도시한다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 리소그래피 장치를 개략적으로 도시하고 있다. 본 리소그래피 장치는 이하의 구성요소를 포함한다:
- 방사선 빔(B, 예컨대 UV 방사선 또는 DUV 방사선)을 조절하도록 구성된 조명 시스템(조명기)(IL);
- 패터닝 디바이스(예컨대, 마스크)(MA)를 지지하도록 구성되고, 패터닝 디바이스(MA)를 정확히 위치시키도록 구성된 제1 위치 설정기(PM)에 연결된 지지 구조체(예컨대, 마스크 테이블)(MT);
- 기판(예컨대, 레지스트가 코팅된 웨이퍼)(W)을 유지하도록 구성되고, 기판(W)을 정확히 위치시키도록 구성된 제2 위치 설정기(PW)에 연결된 기판 테이블(예컨대, 웨이퍼 테이블)(WT); 및
- 패터닝 디바이스(MA)에 의해 방사선 빔(B)에 부여한 패턴을, 기판(W)의 타겟 영역(C)(예컨대, 하나 이상의 다이를 포함) 상에 투영하도록 구성된 투영 시스템(예컨대, 반사형 투영 렌즈 시스템)(PS).
조명 시스템은 방사선을 지향, 성형 또는 제어하기 위한 굴절식, 반사식, 자기식, 전자기식, 정전식, 또는 다른 형태의 광학 요소들 또는 이들의 임의의 조합과 같은 다양한 형태의 광학 요소들을 포함할 수 있다.
지지 구조체(MT)는 패터닝 디바이스의 배향, 리소그래피 장치의 디자인, 및 예컨대 패터닝 디바이스가 진공 분위기에서 유지되는지의 여부와 같은 기타 조건들에 좌우되는 방식으로 패터닝 디바이스(MA)를 유지한다. 지지 구조체는 패터닝 디바이스를 유지하기 위해 기계식, 진공식, 정전식, 또는 기타 클램핑 기술들을 이용할 수 있다. 지지 구조체는 예컨대 필요에 따라 고정되거나 이동시킬 수 있는 프레임(frame) 또는 테이블일 수도 있다. 지지 구조체는 패터닝 디바이스가 예컨대 투영 시스템에 대하여 요구된 위치에 있도록 할 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 "패터닝 디바이스"라는 용어는, 기판의 타겟 영역에 패턴을 생성하기 위하여 방사선 빔의 단면에 패턴을 부여하기 위해 사용될 수 있는 모든 디바이스를 지칭하는 것으로 폭넓게 해석되어야 한다. 방사선 빔에 부여된 패턴은 집적회로와 같은 타겟 영역 내에 생성되는 디바이스에서의 특정 기능층에 대응할 수도 있다.
패터닝 디바이스는 투과형 또는 반사형일 수 있다. 패터닝 디바이스의 예는 마스크, 프로그래머블 미러 어레이, 및 프로그래머블 LCD 패널을 포함한다. 마스크는 리소그래피 분야에서 잘 알려져 있으며, 바이너리형, 교번 위상 반전형 및 감쇠 위상 반전형과 같은 마스크 타입뿐만 아니라 다양한 하이브리드 마스크 타입들을 포함한다. 프로그래머블 미러 어레이의 예는 소형 미러들의 매트릭스 배열을 채용하며, 그 각각의 미러들은 입사하는 방사선 빔을 상이한 방향으로 반사시키도록 개별적으로 경사지는 것이 가능하다. 경사진 미러들은 미러 매트릭스에 의해 반사되는 방사선 빔에 패턴을 부여한다.
조명 시스템과 같은 투영 시스템은, 이용되고 있는 노광 방사선에 대하여 적합하거나 또는 액침액의 사용 또는 진공의 사용과 같은 다른 요인들에 대하여 적합한, 굴절형, 반사형, 반사 굴절형(catadioptric), 자기형, 전자기형, 및 정전형 광학 시스템, 또는 이들의 임의의 조합과 같은, 다양한 유형의 광학 컴포넌트들을 포함할 수 있다. 다른 기체들이 너무 많은 방사선을 흡수할 수 있기 때문에 EUV선을 위해 진공이 사용되는 것이 바람직할 수도 있다. 그러므로 진공 환경이 진공 벽 및 진공 펌프들을 이용하여 전체 빔 경로에 제공될 수도 있다.
도시된 바와 같이, 리소그래피 장치는 반사형(예컨대, 반사형 마스크를 채용함)이다.
리소그래피 장치는 2개(듀얼 스테이지) 이상의 기판 테이블(및/또는 2개 이상의 패터닝 디바이스 테이블)를 갖는 형태로 구성될 수 있다. 이러한 "다중 스테이지" 기계에서는, 추가의 테이블이 병행하여 사용될 수 있으며, 또는 하나 이상의 테이블 상에서 예비 공정을 수행하면서 다른 하나 이상의 테이블을 노광용으로 사용하는 것이 가능하다.
도 1을 참조하면, 조명기(IL)는 소스 콜렉터 모듈(SO)로부터 EUV선 빔을 수광한다. EUV 광을 생성하는 방법들은, EUV 범위에 있는 하나 이상의 방사 라인(emission lines)으로 물질을 예컨대 제논(xenon), 리튬(lithium) 또는 주석(tin)과 같은 적어도 하나의 요소를 포함하는 플라즈마 상태로 전환하는 것을 포함하지만 그것으로 제한되는 것은 아니다. 종종 LPP(laser produced plasma)로 지칭되는 그러한 한 방법에서, 필요한 플라즈마는 예컨대 필요한 라인-방사 요소(line-emitting element)를 가지는 물질의 방울(droplet), 스트림(stream), 또는 클러스터(cluster)와 같은 연료에 레이저로 조사(irradate)함으로서 생성될 수 있다. 소스 콜렉터 모듈(SO)은 도 1에서 도시되지는 않았지만, 연료를 여기시키는 레이저 빔을 제공하기 위한 레이저를 포함하는 EUV선 시스템의 부분일 수도 있다. 결과적인 플라즈마는 예컨대 EUV선과 같은 출력 방사선을 방출하며, 이것은 방사선 콜렉터를 사용하여 집속되어 소스 콜렉터 모듈에 놓여 진다. 레이저 및 소스 콜렉터 모듈은, 예컨대 CO2 레이저가 연료 여기를 위해 레이저 빔을 제공하는 데 사용되는 경우, 개별적인 개체들 일 수 있다.
그러한 경우, 레이저는 리소그래피 장치의 부분을 형성하는 것으로 고려되지 않으며, 예컨대 적절한 지향 미러들 및/또는 빔 확장기(beam expander)를 포함하는, 빔 전달 시스템을 이용하여 방사선 빔이 레이저로부터 소스 콜렉터 모듈로 전달된다. 다른 경우에, 예컨대 소스가 DPP 소스로 종종 지칭되는 방전 생성 플라즈마 EUV 생성기인 경우, 그 소스는 소스 콜렉터 모듈의 통합된 부분일 수 있다.
조명기(IL)는 방사선 빔의 각 강도 분포를 조정하기 위한 조정기를 포함할 수도 있다. 일반적으로, 적어도 이상에 언급된 조명기의 퓨필 면에서의 강도 분포의 외측 및/또는 내측 반경 범위(각각 σouter 및 σinner 로 표시)는 조정될 수 있다. 부가적으로, 조명기(IL)는, 면체의 필드 및 퓨필 미러 디바이스들과 같이, 다양한 다른 컴포넌트들을 포함할 수도 있다. 조명기는, 패터닝 디바이스 상에 입사되는 방사선 빔의 단면에 원하는 강도 균일성 및 각 강도 분포를 갖기 위해 방사선 빔을 조절하는 데 사용될 수 있다.
방사선 빔(B)은 지지 구조체(예컨대, 마스크 테이블)(MT) 상에 유지되어 있는 패터닝 디바이스(예컨대, 마스크)(MA) 상에 입사되며, 패터닝 디바이스(MA)에 의해 패터닝된다. 패터닝 디바이스(예컨대, 마스크)(MA)로부터 반사된 후, 방사선 빔(B)은 투영 시스템(PS)을 통과하고, 투영 시스템(PS)은 방사선 빔을 기판(W)의 타겟 영역(C) 상에 집속시킨다. 제2 위치 설정기(PW) 및 위치 센서(PS2)(예컨대, 간섭계 디바이스, 선형 인코더, 또는 용량형 센서)를 이용하여, 예컨대 상이한 타겟 영역(C)을 방사선 빔(B)의 경로 내에 위치시키도록 기판 테이블(WT)을 정확하게 이동시킬 수 있다. 마찬가지로, 제1 위치 설정기(PM) 및 다른 위치 센서(PS1)를 이용하여 방사선 빔(B)의 경로에 대하여 패터닝 디바이스(MA)를 정확히 위치시키는 것이 가능하다. 패터닝 디바이스(MA) 및 기판(W)은 패터닝 디바이스 정렬 마크(M1, M2) 및 기판 정렬 마크(P1, P2)를 이용하여 정렬될 수 있다.
도시된 장치는 다음 모드들 중 하나 이상의 모드로 사용될 수 있다:
스텝 모드에서는, 지지 구조체(MT) 및 기판 테이블(WT)을 기본적으로 정지 상태로 유지한 채로, 방사선 빔에 부여한 패턴 전체를 한 번에 타겟 영역(C) 상에 투영한다(즉, 단일 정지 노광). 그리고나서, 상이한 타겟 영역(C)이 노광될 수 있도록 기판 테이블(WT)을 X 방향 및/또는 Y 방향으로 이동시킨다.
스캔 모드에서는, 지지 구조체(MT) 및 기판 테이블(WT)을 동기적으로 스캐닝하면서, 방사선 빔에 부여한 패턴을 타겟 영역(C) 상에 투영한다(즉, 단일 동적 노광). 지지 구조체(MT)에 대한 기판 테이블(WT)의 속도 및 방향은 투영 시스템(PS)의 확대율(축소율) 및 상 반전 특성에 의하여 결정될 수 있다.
또 다른 모드에서는, 프로그래머블 패터닝 디바이스를 유지한 채로 지지 구조체(MT)를 기본적으로 정지 상태로 하고, 또한 기판 테이블(WT)을 이동시키거나 스캐닝하면서, 방사선 빔에 부여한 패턴을 타겟 영역(C) 상에 투영한다. 이 모드에서는, 일반적으로 펄스 방사선 소스가 채용되며, 프로그래머블 패터닝 디바이스는 기판 테이블(WT)의 각각의 이동 후에 또는 스캔 동안의 연속적인 방사 펄스들 사이에서 필요에 따라 업데이트된다. 이 작동 모드는 앞서 언급한 바와 같은 타입의 프로그래머블 미러 어레이와 같은 프로그래머블 패터닝 디바이스를 이용하는 마스크 없는 리소그래피(maskless lithography)에 용이하게 적용될 수 있다.
또한, 전술한 사용 모드들의 조합 및/또는 변형, 또는 전혀 다른 사용 모드들이 채용될 수도 있다.
이상에서 언급된 바와 같이, 조명 시스템(IL)은 강도 분포 조정 장치를 포함한다. 강도 분포 조정 장치는, 패터닝 디바이스에 입사하는 방사선 빔의 각 강도 분포를 제어하기 위해, 조명 시스템의 퓨필 면에서 방사선 빔의 공간 강도 분포를 조절하도록 배열된다. 강도 분포 조정 장치는 조명 시스템의 퓨필 면에서 상이한 조명 모드들을 선택하는 데 사용될 수도 있다. 조명 모드의 선택은, 예컨대 패터닝 디바이스(MA)로부터 기판(W)상으로 투영될 패턴의 특성에 의존할 수 있다. 조명 시스템 퓨필 면에서의 방사선 빔의 공간 강도 분포는, 방사선 빔이 패터닝 디바이스(예컨대, 마스크)(MA)에 입사하기 전에 각 강도 분포로 전환된다. 조명 시스템의 퓨필 면과 패터닝 디바이스(MA)(패터닝 디바이스는 필드 면에 존재함) 사이에는 푸리에 관계가 존재한다고 이해되어 진다. 조명 시스템의 퓨필 면은 패터닝 디바이스(MA)가 위치된 오브젝트 면(object plane)의 푸리에 변환 면(Fourier transform plane)이며, 투영 시스템의 퓨필 면에 대한 공액(conjugate)이다.
도 2a는 소스 콜렉터 모듈(SO2), 조명 시스템(IL), 및 투영 시스템(PS)을 포함하여, 장치(100)를 더욱 상세히 도시한다. 소스 콜렉터 모듈(SO)는 소스 콜렉터 모듈(SO)의 인클로징 구조체(220)에서 진공 환경이 유지될 수 있도록 구성되고 배열된다. EUV 방사선 방사 플라즈마(210)는 방전 생성 플라즈마 소스(discharge produced plasma source)에 의해 형성될 수 있다. EUV선은, 전자기 스펙트럼의 EUV 범위에서 방사선을 방사하도록 매우 뜨거운 플라즈마(210)가 생성되는 예컨대 Xe 기체, Li 증기 또는 Sn 증기와 같은 기체 또는 증기에 의해 생성될 수도 있다. 매우 뜨거운 플라즈마(210)는, 예컨대 적어도 부분적으로 이온화된 플라즈마를 초래하는 전기 방전에 의해 생성된다. 방사선의 효율적인 생성을 위해 Xe, Li, Sn 증기 또는 다른 적절한 기체 또는 증기의 예컨대 10 Pa의 부분압이 요구될 수도 있다. 한 실시예에서, 여기된 주석(Sin)의 플라즈마가 EUV 방사선을 생성하기 위해 제공된다.
뜨거운 플라즈마(210)에 의해 방사된 방사선은, 소스 챔버(211) 내의 개구 내 또는 개구 뒤에 위치된 선택적 기체 장벽 또는 오염물질 트랩(230)(일부 경우에 또한 오염물질 장벽 또는 포일 트랩(foil trap)으로 지칭되기도 함)을 통해 소스 챔버(211)로부터 콜렉터 챔버(212)로 전달된다. 오염물질 트랩(230)이 채널 구조체를 포함할 수도 있다. 오염물질 트랩(230)은 또한 기체 장벽과 채널 구조체의 결합 또는 기체 장벽을 포함할 수도 있다. 본 명세서에서 추가적으로 표시되는 오염물질 트랩 또는 오염물질 장벽(230)은, 본 기술분야에서 공지된 바와 같이, 적어도 채널 구조체를 포함하고 있다.
콜렉터 챔버(211)는 소위 그래이징 입사 콜렉터(grazing incidence collector)일 수 있는 방사선 콜렉터(CO)를 포함할 수도 있다. 방사선 콜렉터(CO)는 업스트림 방사선 콜렉터 측(251)과 다운스트림 방사선 콜렉터 측(252)을 구비한다. 콜렉터(CO)를 횡단하는 방사선은 가상 소스 포인트(IF)에 집속될 격자 스펙트럼 필터(grating spectral filter)(240)를 벗어나 반사될 수 있다. 가상 소스 포인트(IF)는 통상적으로 중간 초점으로서 지칭되며, 소스 콜렉터 모듈은 중간 초점(IF)가 인클로징 구조체(220)의 개구(221)에 또는 그 부근에 위치되도록 배열된다. 가상 소스 포인트(IF)는 방사선 방사 플라즈마(210)의 이미지이다.
그 후 방사선은 조명 시스템(IL)을 횡단하고, 조명 시스템(IL)은, 패터닝 디바이스(MA)에서 방사선 강도의 원하는 균일성뿐만 아니라 패터닝 디바이스(MA)에서 방사선 빔(B)의 원하는 각 분포를 제공하도록 배열된, 이하에서 제1 반사 요소(22)로서 지칭되는 면체의 필드 미러 디바이스(facetted field mirror device)(22) 및 이하에서 제2 반사 요소(24)로서 지칭되는 면체의 퓨필 미러 디바이스(facetted pupil mirror device)(24)를 포함한다. 지지 구조체(MT)에 의해 고정된 패터닝 디바이스(MA)에서 방사선 빔(B)의 반사시, 패터닝된 빔(26)이 형성되고 패터닝된 빔(26)은 웨이퍼 스테이지 또는 기판 테이블(WT)에 의해 고정된 기판(W)상으로 반사 요소(28, 30)를 통해 투영 시스템(PS)에 의해 이미징된다.
일반적으로 도시된 것보다 더 많은 요소들이 조명 광학 유닛(IL) 및 투영 시스템(PS)에 존재할 수 있다. 격자 스펙트럼 필터(240)는 리소그래피 장치의 유형에 따라, 선택적으로 존재할 수 있다. 또한, 도면들에 도시된 것보다 더 많은 미러들이 존재할 수도 있으며, 예컨대 투영 시스템(PS)에 도 2a에 도시된 것보다 더 많은 1-6 개의 추가적인 반사 요소들이 존재할 수 있다.
도 2a에서 예시된 바와 같이, 콜렉터 옵틱(collector optic)(CO)은 단지 콜렉터(또는 콜렉터 미러)의 예시와 같이, 그레이징 입사 반사기들(253, 254, 255)을 가진 네스티드 콜렉터(nested collector)로서 도시된다. 그레이징 입사 반사기들(253, 254, 255)은 광학축(O)의 주변에서 축방향으로 대칭으로 배치되고 이러한 유형의 콜렉터 옵틱(CO)은, 바람직하게는, 종종 DPP 소스로 불리는 방전 생성 플라즈마 소스와 결합하여 사용된다.
대안적으로, 소스 콜렉터 모듈(SO)은 도 2에 도시된 LPP 방사선 시스템의 일부일 수 있다. 레이저(LA)는 레이저 에너지를, 수십 eV의 전자 온도로 고도로 이온화된 플라즈마(210)를 생성하는 제논(Xe), 주석(Sn), 또는 리튬(Li)과 같은 연료로 침착하도록 배열된다. 이러한 이온들의 탈여기(de-excitatoin) 및 재결합 동안 생성된 에너지 방사선(energetic radiation)은, 플라즈마로부터 방출되고, 주변의 법선 입사 콜렉터 옵틱(CO)에 의해 모여지며 인클로징 구조체(220)의 개구(221)로 집속된다.
본 명세서에서는, 집적회로(IC)의 제조에 있어서 리소그래피 장치의 사용예에 대해 특정하게 언급하였지만, 본 명세서에서 설명된 리소그래피 장치는 집적 광학 시스템, 자기 도메인 메모리(magnetic domain memory)용 유도 및 검출 패턴, 평판 디스플레이, 액정 디스플레이(LCD), 박막 자기 헤드 등의 제조와 같은 기타 응용예들을 가질 수 있음을 이해하여야 한다. 당업자라면, 이러한 다른 응용예와 관련하여, 본 명세서에서 사용된 "웨이퍼" 또는 "다이"와 같은 어떠한 용어의 사용도 각각 "기판" 또는 "타겟 영역"과 같은 좀더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있음을 이해할 것이다. 본 명세서에서 언급되는 기판은, 노광 전후에, 예컨대 트랙(전형적으로 기판에 레지스트층을 도포하고 노광된 레지스트를 현상하는 장치), 계측 장비, 및/또는 검사 장치에서 처리될 수 있다. 적용 가능한 범위에서, 상기한 기판 처리 장치와 여타 기판 처리 장치에 본 명세서의 개시 내용이 적용될 수 있다. 또한, 예컨대 다층 집적회로(multi-layer IC)를 생성하기 위하여 기판이 복수 회 처리될 수 있으므로, 본 명세서에 사용되는 기판이라는 용어는 이미 여러 번 처리된 층들을 포함한 기판을 지칭할 수도 있다.
이상에서는 광학 리소그래피의 문맥에서 본 발명의 실시예의 사용에 대해 특정하게 언급하였지만, 본 발명은 예컨대 임프린트 리소그래피와 같은 다른 응용예들에 사용될 수 있으며, 문맥이 허용하는 경우 광학 리소그래피에 한정되지 않는다는 것이 이해되어질 것이다. 임프린트 리소그래피에서 패터닝 디바이스의 토포그래피(topography)는 기판상에 생성된 패턴을 정의한다. 패터닝 디바이스의 토포그래피는, 전자기 방사선, 열, 압력 또는 그들의 결합을 가하여 레지스트가 양생(curing)되는 기판에 공급되는 레지스트 층으로 가압될 수도 있다. 패터닝 디바이스는 레지스트가 양생된 후 패터닝 디바이스에 패턴을 남기며 레지스트 밖으로 이동된다.
문맥이 허용하는 경우, "렌즈"라는 용어는 굴절식, 반사식, 자기, 전자기 및 정전식 광학 요소들을 포함하는 다양한 타입의 광학 컴포넌트들 중 어느 하나 또는 그 조합을 지칭할 수도 있다.
이상에서 본 발명의 특정 실시예들이 설명되었지만, 본 발명은 설명된 것과 다르게 실시될 수도 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 예컨대, 본 발명의 실시예는 위에서 개시된 바와 같은 방법을 기술하는 기계 판독 가능한 명령어들의 하나 이상의 시퀀스들을 포함하는 컴퓨터 프로그램, 또는 이러한 컴퓨터 프로그램이 저장되는 데이터 저장 매체(예컨대, 반도체 메모리, 자기 디스크 또는 광학 디스크)의 형태를 취할 수도 있다. 이상의 설명은 예시적일 뿐 제한적이지 않다. 따라서, 본 발명의 통상의 지식을 가진 자에게 있어 이하에서 주장된 청구범위의 범위에서 벗어나지 않으면서 설명된 본 발명에 변형예들이 이루어질 수 있다는 것이 명백할 것이다.
도 3은, 보다 상세히 제1 반사 컴포넌트 및 제2 반사 컴포넌트를 포함하는 리소그래피 장치의 부분을 개략적으로 도시한다. 제1 반사 컴포넌트(22)는 주 반사 요소들(22a, 22b, 22c, 22d)를 포함하는 복수의 주 반사 요소들을 포함한다. 제2 반사 컴포넌트(24)는 제2 반사 요소들(24a, 24b, 24c, 24d 및 24a', 24b', 24c', 24d')를 포함하는 복수의 제2 반사 요소들을 포함한다. 또한 이하에서 주 반사 요소들과 제2 반사 요소들은 각각 필드 면 미러들(field facet mirrors) 및 퓨필 면 미러들(pupil facet mirrors)로 지칭될 수 있다. 주 반사 요소들(22a-d)는 제2 반사 요소들(24a-s, 24a'-d')를 향해 방사선을 지향(반사)시키도록 구성된다. 비록 단지 네 개의 주 반사 요소들(22a-d)만 도시되었지만, 어떤 수의 주 반사 요소들도 제공될 수 있다. 주 반사 요소들은 2차원 어레이(또는 몇몇의 다른 2차원 배열)로 배열될 수도 있다. 비록 단지 여덟 개의 제2 반사 요소들(24a-s, 24a'-d')만 도시되었지만, 어떤 수의 제2 반사 요소들(그 수는 통상적으로 제1 반사 요소들의 수의 복수 배임)도 제공될 수 있다. 제2 반사 요소들은 2차원 어레이(또는 몇몇의 다른 2차원 배열)로 배열될 수도 있다.
주 반사 요소들(22a-d)은 조정가능한 배향들을 가지며, 선택된 제2 반사 요소들(24a-s, 24a'-d')을 향해 방사선을 지향하는 데 사용될 수 있다.
제2 반사 컴포넌트(24)는 조명 시스템(IL)의 퓨필 면(P)과 같은 면에 존재하거나, 조명 시스템의 퓨필 면에 근접하게 배치된다. 따라서 제2 반사 컴포넌트(24)는, 패터닝 디바이스(MA)상으로 방사선을 지향하는 가상 방사선 소스(또한 통상적으로 제2 방사선 소스로 지칭됨)로서 작용한다. 추가적인 미러(도시되지 않음)가 제2 반사 컴포넌트(24)와 패터닝 디바이스(MA) 사이에 제공될 수 있다. 후자의 미러는 미러들의 시스템일 수 있으며, 사용시 패터닝 디바이스(MA)가 기판 테이블(MT)에 의해 고정되는 면으로 주 반사 요소들(22a-d)를 이미징하도록 배열될 수 있다.
제2 반사 컴포넌트(24)에서의 방사선 빔(B)의 공간 강도 분포는 방사선 빔의 조명 모드를 정의한다. 주 반사 요소들(22a-d)이 조절가능한 배향을 가지기 때문에, 그들은 퓨필 면(P)에서 상이한 공간 강도 본포들을 형성하는데 사용될 수 있으며, 그에 의해 상이한 조명 모드들을 제공한다.
사용시, 방사선 빔(B)은 제1 반사 컴포넌트(22)의 주 반사 요소들(22a-d)에 입사된다. 각각의 주 반사 요소(22a-d)는 제2 반사 컴포넌트(24)의 상이한 제2 반사 요소들(24a-s, 24a'-d')을 향해 방사선의 서브빔을 반사한다. 제1 서브빔(Ba)은 제1의 주 반사요소(22a)에 의해 제1의 제2 반사 요소(24a)에 지향된다. 제2, 제3 및 제4 서브빔(Bb, Bc, Bd)는 각각 제2, 제3, 제4의 주 반사 요소들(22b, 22c, 22d)에 의해 제2, 제3, 제4의 제2 반사 요소들(24b, 24c, 24d)에 지향된다.
서브빔들(Ba-d)은 제2 반사 요소들(24a-d)에 의해 패터닝 디바이스(MA)에 의해 반사된다. 서브빔들은 함께, 마스크(MA) 상의 조명 영역(E)을 조사하는 단일 방사선 빔(B)을 형성하도록 고려될 수 있다. 조명 영역(E)의 형태는 주 반사 요소들(22a-d)의 형태에 의해 결정된다. 스캐닝 리소그래피 장치에서, 조명 영역(E)은 예컨대 사각형 또는 커브형 밴드일 수 있으며, 이것은 스캐닝 방향에 수직인 방향으로의 폭보다 스캐닝 방향으로 더 좁은 폭을 가진다.
주 반사 요소들(22a-d) 각각은 제2 반사 컴포넌트(24)의 상이한 제2 반사 요소들(24a-d, 24a'-d')에서 중간 포커스(IF)의 이미지를 형성한다. 실제로, 중간 포커스(IF)는 플라즈마 소스의 이미지일 것이며, 그러한 이미지는 유한한 직경(예컨대, 4-6 mm)을 가진다. 결과적으로, 각각의 주 반사 요소(22a-d)는 제2 반사 요소들(24a-s, 24a'-d')에서 유한한 직경(3-5 mm)를 갖는 가상 소스 포인트(IF)의 이미지를 형성할 것이다. 제2 반사 요소들(24a-d, 24a'-d') 각각은 (방사선이 제2 반사 요소들 사이에 떨어져 길을 잃게 되는 것을 방지하기 위해) 이상에서 언급된 이미지 직경보다 큰 직경을 갖는 단일 퓨필 면 미러로서 배열되고 구성될 수도 있다. 중간 포커스(IF) 및 중간 포커스(IF)의 이미지들은 예시하기 용이하도록 도면들에서 점들로서 도시된다.
주 반사 요소들 및 제2 반사 요소들은 0(zero)과 상이한 광파워(optical power)를 가질 수도 있다. 예컨대, 각각의 주 반사 요소(22a-d)는 조사되는 제2 반사 요소에서 또는 그 주변에서, 가상 소스 포인트(IF)보다 작은 가상 소스 포인트(IF)의 축소된 이미지를 형성할 수 있다. 제2 반사 요소들(24a-d, 24a'-d')의 각각이, 기판의 노광 동안 패터닝 디바이스가 위치되는 필드 면에서 또는 그 주변에서 주 반사 요소(22a-d) 중 하나의 이미지를 형성할 수도 있다. 이러한 이미지들은 실질적으로 오버랩핑하고 함께 조명 영역(E)을 형성한다.
주 반사 요소들(2a-d)의 배향은 퓨필 면(P)에 형성되는 조명 모드를 결정한다. 예컨대, 주 반사 요소들(22a-d)은 네 개의 최내측 제2 반사 요소들(24c, d, a', b')에 방사선 서브빔들이 지향되도록 배향된다. 이것은 통상적인 (디스크 모양의) 조명 모드의 일차원 등가물로서 고려될 수 있는 조명 모드를 제공할 것이다. 그러한 통상적인 조명 모드는, 상대적으로 낮거나 심지어 제로의 강도의 부분에 의해 둘러싸여 광학축(O)에 중심을 두고 상대적으로 높은 강도를 가진 부분을 구비한 퓨필 면에서의 강도 분포에 의해 특징지워지며, 따라서 이하에서 통상적인 "축 상(on axis)" 조명 모드로서 지칭될 수도 있다. 대안적인 실시예에서, 주 반사 요소들(22a-d)는, 방사선 서브빔들이 제2 반사 컴포넌트(24)의 왼쪽 단부의 두 개의 제2 반사 요소들(24a, 24b) 및 제2 반사 컴포넌트(24)의 오른쪽 단부의 두 개의 제2 반사 요소들(24c', 24d')에서 지향되도록 배향될 수도 있다. 이것은, 예컨대 환형 조명 모드의 일차원 등가물로 고려될 수 있는 조명 모드를 제공할 것이다. 그러한 조명 모드는, 상대적으로 높은 강도의 적어도 한 부분을 구비한 영역에 의해 둘러싸여 광학축(O)에 중심을 두고 상대적으로 낮거나 심지어 제로의 강도를 가진 부분을 구비한 퓨필 면에서의 강도 분포에 의해 특징지워지며, 따라서 이하에서 통상적인 "축 외(off axis)" 조명 모드로서 지칭될 수도 있다.
요소들(22a-d) 중 어느 하나와 같은 주 반사 요소들 각각은, 두 개의 미리결정된 배향들: 제1 배향 및 제2 배향 중 하나가 되도록 구성된다. 제1 배향은, 제2 반사 컴포넌트(24) 상에 제1 소망 위치 내에 포함되는 선택된 제2 반사 요소를 향해 주 반사 요소가 방사선 서브빔을 반사시키도록 되어 있다. 제2 배향은, 제2 반사 컴포넌트(24)상의 제2 소망 위치 내에 포함된 선택된 제2 반사 요소를 향해 방사선의 서브빔을 반사시키도록 되어 있다. 또한, 도 3에 예시된 필드 면(field facet)들 중 어느 하나와 같은 주 반사 요소들(22a-d) 각각은 관련된 제1 배향과 제2 배향 사이에서 이동가능하다.
제1 배향의 필드 면 미러가 사용시, 복수의 제2 반사 요소들로부터 특별히 선택된 특정의 미리선택된 제2 반사 요소를 조사(irradiate)한다는 것을 나타내기 위해, 이하에서 제1의 "관련된" 제2 반사 요소에 참조가 이루어진다. 마찬가지로, 제2의 "관련된" 제2 반사 요소에 참조가 이루어지며, 이것은 필드 면 미러가 제2 배향으로 되어 있을 때 조사되는 요소이다. 유사하게, 이상에서 언급된 제1 소망 위치 및 제2 소망 위치는 이하에서 제1 "관련" 위치 및 제2 "관련" 위치로 지칭된다.
도 4는 예로서 제1 반사 컴포넌트(22)의 제1 주 반사요소(22a)를 사용하여, 제1 배향 및 제2 배향 사이에 주 반사 요소의 이동을 예시한다. 제1 주 반사 요소(22a)는 제1 배향으로 되어 있을 때 제2 반사 컴포넌트(24)의 제1의 제2 방사 요소(24a)를 향해 방사선 빔(Ba)를 지향한다. 제1 주 반사 요소(22a)는 제2 배향으로 되어 있을 때 제2 반사 컴포넌트(24)의 제2의 제2 반사 요소(24a')를 향해 방사선 서브빔(Ba')(점선으로 도시됨)를 지향한다. 대응하는 제1 및 제2 위치는 도 4에서 명확히 도시되지 않았다. 도 4에서, 제1 위치 및 제2 위치는 제1의 제2 반사 요소들(24a) 및 제2의 제2 반사 요소(24a') 각각에 의해 점유되는 위치들과 동일면에 존재한다고 가정될 수도 있다. 그러나, 제1 및 제2 위치들은 퓨필 면(P)에서 분리된 영역일 수 있으며, 이하에서 상세히 언급되는 바와 같이, 각각 복수의 제2 반사 요소들을 포함한다.
요소들(22a-d)의 그룹과 같은 주 반사 요소들의 그룹의 각각의 주 반사 요소는 방사선 서브 빔을 각각의 주 반사 요소들(22a-d)과 연관된 제1 위치 및 제2 위치로 지향하도록 배열될 수도 있으며, 제1 위치 및 제2 위치는 요소들(22a-d)의 그룹과 같은 주 반사 요소들의 그룹에 속하지 않는 다른 주 반사 요소들로부터 방사선 서브 빔을 수광하는 위치들에 관해 상이하고 독특하다. 각각의 주 반사 요소(22a-d)를 적절히 구성함으로써, 방사선은 원하는 조명 모드에 대응하는 공간 강도 분포들을 생성하기 위해 제2 반사 컴포넌트(24)의 필수 위치들을 향해 지향될 수도 있다.
비록 도 3 및 도 4가 단지 4개의 주 반사 요소들(22a-d)을 도시하지만, 더 많은 주 반사 요소들을 포함할 수도 있다. 제1 반사 컴포넌트(22)는 예컨대 100개, 200개, 또는 400개에 이르는 주 반사 요소들을 포함할 수도 있다. 제1 반사 컴포넌트(22)는 예컨대 100-800 범위의 수의 주 반사 요소들을 포함할 수도 있다. 반사 요소들은 미러들 일 수 있다. 제1 반사 컴포넌트(22)는 1024개(예컨대, 32x32) 미러들, 또는 4096개(예컨대, 64x64) 미러들, 또는 다른 적절한 수의 미러들의 배열을 포함할 수도 있다. 주 반사 요소들은 2차원 그리드형 형태로 배열될 수도 있다. 주 반사 요소들은 방사선 빔을 통해 가로지르는 면에 배열될 수도 이TEk.
제1 반사 컴포넌트(22)는 주 반사 요소들의 하나 이상의 어레이들을 포함할 수도 있다. 예컨대, 주 반사 요소들은 복수의 어레이들을 형성하도록 배열되거나 그루핑(grouping)될 수도 있으며, 각각의 어레이는 예컨대 32x32 미러들을 가진다. 본 명세서에서 "어레이" 라는 용어는 단일 어레이 또는 어레이들의 그룹을 의미할 수 있다.
제2 반사 요소들(24a-d, 24a'-d')은, 제2 반사 요소들의 배향들이 제2 반사 컴포넌트의 장착 표면에 관해 고정되도록 장착될 수 있다.
도 5 및 도 6은 퓨필 면(P)에서의 공간 강도 분포를 변화시켜 원하는 조명 모드를 획득하기 위해 방사선을 재지향하는 원칙을 개략적으로 예시한다. 도 5b 및 도 6b의 도면 면들은 도 5a 및 도 6a에서 도시된 퓨필 면(P)과 같은 면이다. 데카르트 좌표(Cartesian coordinate)는 도면들의 설명을 용이하게 하기 위해 도 5b 및 도 6b에서 표시된다. 표시된 데카르트 좌표들은 본 발명을 사용하여 획득될 수 있는 공간 강도 분포들의 배향에 있어서의 어떠한 제한도 암시하려 의도하지 않는다. 공간 강도 분포들의 반경 범위는 통상적으로 σinner (내측 반경범위) 및 σouter (외측 반경범위)에 의해 정의된다. 내측 및 외측 반경 범위는 원형이거나, 또는 다른 형태를 가질 수도 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 퓨필 면(P)에서의 방사선 빔의 공간 강도 분포( 및 그에 따른 조명 모드)는 요소들(22a-d)와 같은 주 반사 요소들의 배향에 의해 결정된다. 예컨대, 조명 모드는, 주 반사 요소들(22a-d) 각각을 선택하여 이를 요구되는 제1 배향 또는 제2 배향으로 이동시킴으로서 제공되고 제어될 수도 있다.
16개의 주 반사 요소들이 존재하는 실시예에서, 그들 중 4개만이 도 5a 및 도 6a에 도시된다(주 반사 요소들(22a-d)). 주 반사 요소들(22a-d)은 그들 각각의 제1 배향으로 되어 있고, 방사선의 서브 빔들(Ba, Bb, Bc, Bd)은 도 5b에서 도시된 바와 같이 관련된 제1 위치들(724a, 724b, 724c, 724d)를 향해 반사된다. 이 위치들은 도 5a 및 도 6a에 도시된 제2 반사 요소들(24a, 24b, 24c, 24d)을 각각 포함한다. 도 5b를 참조하면, 제1 위치들(724a-d)은 그 도면의 최상부에 존재하거나 그에 근접하게 존재한다. 다른 주 반사 요소들(도시되지 않음) 또한 제1 배향들로 이루어져 있고, 근접한 제1 위치들의 그룹(73, 74, 75)로 방사선의 서브 빔들을 지향하며, 근접한 제1 위치들의 그룹은 도면의 최상부에 존재하거나 그에 근접한, 그리고 도 5b의 최하부에 존재하거나 그에 근접하게 존재한다. 방사선의 서브 빔들을 수광하는 위치들은 점선들을 사용해 빗금쳐 있다. 도 5b로부터, 주 반사 요소들(22a-d)이 제1 배향들로 되어 있고 다른 주 반사 요소들(도시되지 않음)이 또한 제1 배향들로 되어 있는 경우, 극들이 y 축 방향으로 분리되어 있는 다이폴 조명 모드가 형성된다는 것을 볼 수 있다.
주 반사 요소들(22a-d)이 제2 배향들로 되어 있는 경우, 방사선의 서브 빔은 도 6b에서 도시된 바와 같이 관련된 제2 위치들(724a',724b', 724c' 및 724d')을 향해 반사된다. 이 위치들은 도 5a 및 도 6a에 도시된 제2 반사 요소들(24a', 24b', 24c', 24d')을 각각 포함한다. 도 6b를 참조하면, 제2 위치들(724a'-d')은 그 도면의 오른쪽 측면에 존재하거나 그에 근접하게 존재한다. 이상에서 언급된 다른 반사 요소들은 또한 제2 배향들로 되어 있고, 근접한 제2 위치들의 그룹(76, 77, 78)으로 방사선의 서브 빔들을 지향하며, 근접한 제2 위치들의 그룹(76, 77, 78)은 도면의 오른쪽 측면에 존재하거나 그에 근접하게 존재하고, 도면의 왼쪽 측면에 존재하거나 그에 근접하게 존재한다. 방사선의 서브 빔들을 수광하는 위치들은 점선들을 사용하여 빗금쳐져 있다. 도 6b로부터, 주 반사 요소들(22a-d) 및 다른 주 반사 요소들이 제2 배향들로 되어 있는 경우, 극들이 x축 방향으로 분리되어 있는 다이폴 조명 모드가 형성된다는 것을 볼 수 있다.
y축 방향 다이폴 조명 모드로부터 x축 방향 다이폴 조명 모드로의 전환은 제1 배향으로부터 제2 배향으로 주 반사 요소들(22a-d) 각각을 이동시키는 것을 포함한다. 마찬가지로, x축 방향 다이폴 조명 모드로부터 y축 방향 다이폴 조명 모드로의 전환은 제2 배향으로부터 제1 배향으로 주 반사 요소들(22a-d) 각각을 이동시키는 것을 포함한다.
다른 조명 모드들의 형성은, 이하에서 추가적으로 설명되는 바와 같이, 주 반사 요소들(22a-d) 중 일부를 제1 배향으로 이동시키고 다른 일부를 제2 배향으로 이동시키는 것을 포함할 수도 있다. 각각의 주 반사 요소들과 연관된 제1 위치 및 제2 위치와 각각의 주 반사 요소의 대응하는 제1 배향 및 제2 배향은, 생성될 수 있는 유용한 조명 모드의 수를 최대화하도록 선택될 수 있다.
주 반사 요소들은 미리결정된 축에 관해 그들을 회전시킴으로써 제1 배향과 제2 배향 사이에서 이동될 수도 있다. 주 반사 요소들은 엑추에이터들을 사용하여 이동될 수도 있다.
하나 이상의 주 반사 요소들은 동일한 미리결정된 축 주변에서 회전하게 구동되도록 구성될 수도 있다. 하나 이상의 다른 주 반사 요소들은 다른 미리결정된 축 주변에서 회전하게 구동되도록 구성될 수 있다.
한 실시예에서, 주 반사 요소는 제1 배향과 제2 배향 사이에서 주 반사 요소를 이동시키도록 배열된 엑추에이터를 포함한다. 엑추에이터는 예컨대 모터가 될 수 있다. 제1 배향 및 제2 배향은 단부 스톱들(end stops)에 의해 정의된다. 제 단부 스톱은 주 반사 요소가 제1 배향을 벗어나 이동하지 않도록 방지하는 기계적 장치를 포함할 수도 있다. 제2 단부 스톱은 주 반사 요소가 제2 배향을 벗어나 이동하지 않도록 방지하는 기계적 장치를 포함할 수도 있다. 단부 스톱들을 포함하는 주 반사 요소들을 위한 적절한 장착은 이하에서 추가적으로 설명된다.
주 반사 요소의 이동이 단부 스톱들에 의해 제한되기 때문에, 주 반사 요소는 주 반사 요소의 위치를 모니터링할 필요없이(예컨대, 위치 모니터링 센서들 또는 피드백 시스템을 사용할 필요없이) 제1 배향 또는 제2 배향으로 정확히 이동될 수 있다. 주 반사 요소들은, 그들이 패터닝 디바이스로부터 기판으로의 패턴의 리소그래피 투영에서 사용될 충분한 품질의 조명 모드를 형성하도록 충분히 정확히 배향될 수 있다.
엑추에이터에 공급되는 드라이버 신호는 바이너리 신호일 수 있다. 엑추에이터는 단지 제1 단부 스톱 또는 제2 단부 스톱으로 주 반사 요소를 이동하는 것이 필요하기 때문에, 가변 아날로그 전압 또는 가변 디지털 전압과 같은 더 복잡한 신호를 사용할 필요가 없다. 더 복잡한 시스템보다 오히려, 엑추에이터를 위한 바이너리(2진의) 드라이버 신호를 사용하는 것이 그렇지 않은 경우보다 더 단순한 제어 시스템이 사용될 수 있도록 한다.
도 5 및 도 6에 관하여 이상에서 설명된 장치는 16개의 주 반사 요소들 및 제2 반사 컴포넌트(24) 상의 32개의 위치들을 포함한다. 그러나, 16개의 주 반사 요소들은 몇몇의 상이한 조명 모드가 획득될 방법의 예시를 허용하는 충분한 수이다. 다음의 조명 모드들은 제2 반사 컴포넌트(24) 상의 각각의 32개 위치들에 관련된 16개의 주 반사 요소들을 사용하여 획득될 수 있다: 환형(annular), 씨쿼드(c-quad), 퀘이사(quasar), 다이폴-y, 및 다이폴-x. 이러한 조명 모드들은, 조명 시스템의 퓨필 면에서의 32개의 관련 위치들 중 원하는 선택 16개를 향해 방사선을 적절히 지향시키도록 16개의 주 반사 요소들을 구성함으로써 형성된다. 제2 반사 컴포넌트(24)의 퓨필 면 미러들의 각각의 표면들이 퓨필 면에 배치되거나 그에 근접하게 배치되어 있기 때문에, 제2 반사 컴포넌트(24) 상의 위치들이 조명 시스템의 퓨필 면에서의 위치들로서 효과적으로 특정되고 표시될 수 있다는 것이 이해되어 진다. 단순화를 위해, 이하에서는 조명 시스템의 퓨필 면에서의 "위치"와 제2 반사 컴포넌트 상의 "위치" 간에 구별하지 않는다.
도 7은, 퓨필 면과 교차하는 광학축(O) 원주방향 둘레에 환형으로 배열된 복수의 위치들을 포함하는 조명 시스템에서 퓨필 면의 제1 사분면(Q1)를 도시한다. 조명 시스템은 5개의 상이한 원하는 조명 모드들을 생성하도록 구성된다. 그 사분면의 위치들(724a-d, 724a'-d')은 주 반사 요소들(22a-d) 각각으로부터 방사선 서브 빔(Ba, Bb, Bc, Bd)을 수광할 수 있다. 조명 위치들의 내측 반경 범위는 σinner로 표시된다. 조명 시스템의 외측 반경 범위는 σouter로 표시된다. 단순화를 위해, 도 7에서 각 위치는 단지 하나의 제2 반사 요소와 연관될 수 있다고 가정된다. 도 7에서, 위치들(724a-d, 724a'-d')은 제2 반사 요소들(24a-d) 및 제2 반사 요소들(24a'-d')과 연관된다.
그러나, 대안적으로 복수의 제2 반사 요소들이 각 위치와 연관될 수도 있다는 것이 이해되어 진다. 예컨대 10개와 20개 사이의 제2 반사 요소들이 각 위치에 제공될 수도 있다. 이러한 경우에, 주 반사 요소들의 수는 그에 따라 정해진다. 예컨대, 소정의 조명 위치에서 10개의 제2 반사 요소들이 존재하면, 그 방향으로 방사선을 지향하도록 배열된 10개의 주 반사 요소들이 존재한다(각각의 주 반사 요소는 그 위치 내의 상이한 제2 반사 요소에 방사선을 지향하도록 배열됨). 다음 설명에서, "주 반사 요소"라는 용어가 사용되는 경우에, 이것은 일제히 이동하도록 구성된 복수의 주 반사 요소들을 포함할 수도 있다.
퓨필 면을 가로지르는 조명 위치들의 상대 표면 영역(relative surface area), 즉 투영 렌즈의 개구수에 대응하는 퓨필 영역에 의해 정규화된 구성 위치들의 표면 영역은, (σouter 2 - σinner 2)/2 이다. 따라서, 사용된 퓨필 영역의 역으로서 정의되는 에탕듀 비(etendue ratio) X는 X=2/(σouter 2 - σinner 2)가 된다.
도 7에서 도시된 사분면(Q1)에서, (전체 퓨필 면에 걸쳐 있는 32개의 위치들에 대응하는) 8개의 제2 반사 요소들(24a-d, 24a'-d') 각각을 포함하는 8개의 위치들이 존재한다. 각 위치는 주 반사 요소에 의해 반사되는 방사선 서브 빔에 의해 조사되도록 크기와 형태가 만들어진다. 각각의 주 반사 요소는 동일한 사분면의 상이한 부분들로부터의 두 개의 상이한 위치들을 분리하여 조사하도록 구성되어 있다. 더 구체적으로는, 각각의 주 반사 요소는, 방사선을 지향하여 동일 사분면에서 제1 관련 위치 또는 제2 관련 위치를 조사하기 위해 제1 배향과 제2 배향 사이에서 이동하고, 그에 따라 제1의 관련된 제2 반사 요소 또는 제2의 관련된 제2 반사 요소를 조사하도록 구성된다.
비록 위치들의 쌍들(724a,a', 724b,b', 724c,c', 724d,d')이 도 7의 동일 사분면(Q1)에 제공된다고 하더라도, 이것이 반드시 그러한 경우일 필요는 없다. 예컨대, 제1 위치는 하나의 사분면에 제공되고, 대응하는 제2 위치는 다른 사분면에 제공될 수도 있다. 한 쌍의 위치들의 제1 위치와 제2 위치 간의 분리가 증가하는 경우, 그 위치들에 방사선 서브 빔을 지향하기 위해 주 반사 요소에 의해 필요로 하는 회전량 또한 증가할 것이다. 위치들의 장소는 주 반사 요소들의 필요로 하는 회전이 감소되도록 선택되거나, 주 반사 요소들 중 어느 것도 미리결정된 최대 회전 이상 회전하는 것이 필요하지 않도록 선택되어 질 수 있다. 위치들의 장소는 (예컨대, 도 8에 대하여 이하에서 부가적으로 설명되는 바와 같이) 원하는 조명 모드들의 세트가 획득되도록 선택될 수도 있다.
제1 주 반사 요소(22a)(도 5 및 도 6을 참조)는, 제1 배향으로 배향될 때는 사분면(Q1)의 제1 관련 위치(724a)를 조사하고, 제2 배향으로 배향될 때는 사분면(Q1)의 제2 관련 위치(724a')를 조사하도록 구성된다. 제2 주 반사 요소(22b)는 제1 배향으로 배향될 때 제1 관련 위치(724b)를 조사하고, 제2 배향으로 배향될 때 제2 관련 위치(724b')를 조사하도록 구성된다. 제3 주 반사 요소(22c)는 제1 배향으로 배향될 때 제1 관련 위치(724c)를 조사하고, 제2 배향으로 배향될 때 제2 관련 위치(724c')를 조사하도록 구성된다. 제4 주 반사 요소(22d)는 제1 배향으로 배향될 때 제1 관련 위치(724d)를 조사하고, 제2 배향으로 배향될 때 제2 관련 위치(724d')를 조사하도록 구성된다.
위치들 및 관련 주 반사 요소들의 등가 배열이 다른 사분면들(도시되지 않음)에 적용될 수도 있다.
주 반사 요소 각각은 미리결정된 축에 대하여 주 반사 요소를 회전시킴으로써 제1 배향과 제2 배향 사이에서 이동될 수도 있다. 복수의 주 반사 요소들은 동일한 축에 대하여 회전가능하도록 구성되고 배열될 수도 있다. 예컨대, 퓨필 면의 동일 사분면에서 근접 위치들의 쌍들과 연관된 주 반사 요소들의 쌍들은 그 동일한 축에 대하여 회전하도록 구성될 수도 있다. 예시된 실시예들에서, 근접한 위치들(724a, 724b)의 쌍과 연관된 제1 주 반사 요소 및 제2 주 반사 요소(22a, 22b)는 제1 축(AA)에 대하여 회전하도록 구성되고, 근접한 위치들(724c, 724d)의 쌍과 연관된 제3 주 반사 요소 및 제4 주 반사 요소(22c, 22d)는 제2 축(BB)에 대하여 회전하도록 구성된다. 제1 축(AA)은 사분면(Q1)에서 x축에 관하여 56.25°로 배열되고, 제2 축(BB)은 사분면(Q1)에서 x축에 관하여 33.75°로 배열된다. 비록 제1 축 및 제2 축(AA, BB)이 도 7의 면에 도시되어 있으나, 이것은 단지 예시의 용이함을 위한 것이다. 그 축들은 제1 반사 컴포넌트(22)의 면에 위치하거나 그에 근접하며, 더 상세하게는, 주 반사 요소들의 쌍들(22a,b 및 22c,d)의 피봇 포인트들을 포함하는 면에 위치하거나 그에 근접하게 위치한다. 제1 축 및 제2 축(AA, BB)은 조명 시스템의 광학 축(O)을 관통한다.
부가적으로 또는 대안적으로, 퓨필 면의 대향되는 사분면들에서의 대응하는 위치들에 연관된 주 반사 요소들은 동일한 축에 대하여 회전하도록 구성될 수도 있다. 예컨대, 제1 사분면(Q1)에 연관된 주 반사 요소들(22a,b) 및 제3 사분면에 연관된 대응하는 주 반사 요소들은 제1 축(AA)에 대하여 회전하도록 구성될 수 있다. 마찬가지로, 제1 사분면(Q1)과 연관된 주 반사 요소들(22c,d) 및 제3 사분면에 연관된 대응하는 주 반사 요소들은 제2 축(BB)에 대하여 회전하도록 구성될 수 있다.
제2 사분면과 연관된 주 반사 요소들, 및 제4 사분면과 연관된 주 반사 요소들은 (예컨대, x축에 대하여 123.75°로 배열되는) 제3 축에 대하여 회전될 수 있다. 부가적으로 제2 사분면에 연관된 주 반사 요소들과 제4 사분면에 연관된 주 반사 요소들은 (예컨대, x축에 대하여 146,25°로 배열되는) 제4 축에 대하여 회전될 수 있다. 이들 사분면 중 어느 것도 도 7에 도시되어 있지 않다.
주 반사 요소들은 동일 축에 대하여 동일한 방향으로 또는 반대 방향으로 회전되도록 구성될 수 있다.
주 반사 요소들이 동일 축에 대하여 회전되고 동일한 방향으로 회전하도록 함께 그룹핑되는 경우, 제1 배향과 제2 배향 간에 주 반사 요소들을 이동시키도록 배열되는 엑추에이터가 단순화될 수도 있다. 예컨대, 동일한 축에 대하여 회전하도록 그룹핑된 주 반사 요소들과 연관된 엑추에이터는 일제히 그 반사 요소들을 이동하도록 배열될 수 있다. 따라서, 4개의 미리결정된 회전 축들이 존재하는 실시예에서 4개의 엑추에이터들이 존재할 수 있다.
도 8은 설명된 장치(즉, 16개의 주 반사 요소들과 4개의 회전축을 사용)를 사용하여, 5개의 상이한 조명 모드가 조명 시스템의 퓨필 면에 형성될 수 있는 방법을 도시한다. 조명 모드들은 다음과 같다: 환형 조명 모드(도 8a), 다이폴-x 조명 모드(도 8b), 다이폴-y 조명 모드(도 8c), 퀘이사 조명 모드(도 8d), 및 씨쿼드 조명 모드(도 8e).
도 8에서 도시된 바와 같이 환형 조명 모드를 생성하기 위해, 제1 사분면과 연관된 주 반사 요소들(22a-d)은 위치들(724b, 724d, 724a', 724c')이 조사되도록 배향된다. 이것은, 제2 배향에 대한 제1 축(AA) 주변에서 제1 주 반사 요소(22a)를 회전시키고, 제1 배향에 대한 제1 축(AA) 주변에서 제2 주 반사 요소(22b)를 회전시키고, 제2 배향에 대한 제2 축(BB) 주변에서 제3 주 반사 요소(22c)를 회전시키고, 제1 배향에 대한 제2 축(BB) 주변에서 제4 주 반사 요소(22d)를 회전시킴으로써 이루어진다. 제2, 제3, 제4 사분면의 위치들과 연관된 주 반사 요소들도 유사하게 배향된다.
도 8b에서 도시된 바와 같이 다이폴-x 조명 모드를 생성하기 위해(도 6b 참조), 제1 사분면과 연관된 주 반사 요소들은 위치들(724b', 724a', 724d' 및 724c')이 조사되도록 배향된다. 이것은, 제2 배향에 대한 제1 축(AA) 주변에서 제1 주 반사 요소(22a)를 회전시키고, 제2 배향에 대한 제1 축(AA) 주변에서 제2 주 반사 요소(22b)를 회전시키고, 제2 배향에 대한 제2 축(BB) 주변에서 제3 주 반사 요소(22c)를 회전시키고, 제2 배향에 대한 제2 축(BB) 주변에서 제4 주 반사 요소(22d)를 회전시킴으로써 이루어진다. 제2, 제3, 제4 사분면의 위치들과 연관된 주 반사 요소들도 유사하게 배향된다.
도 8c에서 도시된 바와 같이 다이폴-y 조명 모드를 생성하기 위해(도 5b 참조), 제1 사분면과 연관된 주 반사 요소들은 위치들(724a, 724b, 724c 및 724d)이 조사되도록 배향된다. 이것은, 제1 배향에 대한 제1 축(AA) 주변에서 제1 주 반사 요소(22a)를 회전시키고, 제1 배향에 대한 제1 축(AA) 주변에서 제2 주 반사 요소(22b)를 회전시키고, 제1 배향에 대한 제2 축(BB) 주변에서 제3 주 반사 요소(22c)를 회전시키고, 제1 배향에 대한 제2 축(BB) 주변에서 제4 주 반사 요소(22d)를 회전시킴으로써 이루어진다. 제2, 제3, 제4 사분면의 위치들과 연관된 주 반사 요소들도 유사하게 배향된다.
도 8d에서 도시된 바와 같이 퀘이사 조명 모드를 생성하기 위해, 제1 사분면과 연관된 주 반사 요소들은 위치들(724c, 724d, 724b' 및 724a')이 조사되도록 배향된다. 이것은, 제2 배향에 대한 제1 축(AA) 주변에서 제1 주 반사 요소(22a)를 회전시키고, 제2 배향에 대한 제1 축(AA) 주변에서 제2 주 반사 요소(22b)를 회전시키고, 제1 배향에 대한 제2 축(BB) 주변에서 제3 주 반사 요소(22c)를 회전시키고, 제1 배향에 대한 제2 축(BB) 주변에서 제4 주 반사 요소(22d)를 회전시킴으로써 이루어진다. 제2, 제3, 제4 사분면의 위치들과 연관된 주 반사 요소들도 유사하게 배향된다.
도 8e에서 도시된 바와 같이 씨쿼드(c-quad) 조명 모드를 생성하기 위해, 제1 사분면과 연관된 주 반사 요소들은 위치들(724a, 724b, 724d' 및 724c')이 조사되도록 배향된다. 이것은, 제1 배향에 대한 제1 축(AA) 주변에서 제1 주 반사 요소(22a)를 회전시키고, 제1 배향에 대한 제1 축(AA) 주변에서 제2 주 반사 요소(22b)를 회전시키고, 제2 배향에 대한 제2 축(BB) 주변에서 제3 주 반사 요소(22c)를 회전시키고, 제2 배향에 대한 제2 축(BB) 주변에서 제4 주 반사 요소(22d)를 회전시킴으로써 이루어진다. 제2, 제3, 제4 사분면의 위치들과 연관된 주 반사 요소들도 유사하게 배향된다. 이상의 실시예들 중 어느 것에서도, (제2 반사 컴포넌트 상의) 위치들의 조사(illumination)는 대응하는 제2 반사 요소로 방사선 서브 빔을 지향하는 것을 포함한다는 것이 이해되어 진다.
도 8에 도시된 조명 모드들의 이상의 설명에서, 제2, 제3, 제4 사분면의 위치들과 연관된 주 반사 요소들도 제1 사분면과 유사하게 배향된다고 언급되었었다. 이하에서는 이것이 이루어지는 방식을 설명한다. 도 8로부터, 다이폴, 퀘이사 및 씨쿼드 모드들이 x축 및 y축에 대하여 대칭임을 알 수 있다. 그러나, 도 8a의 환형 모드는 비록 (90°또는 복수의 회전들에 대하여) 회전적으로는 대칭이지만, x 축 및 y축에 대하여는 대칭적이지 않다.
본 발명의 한 관점에 따르면, 원하는 조명 모드들이 동일한 대칭을 공유하지 않는 경우, 위치들의 장소는 위치들의 각 쌍이 관련 위치들의 쌍을 가지도록 배열되고, 두 개의 쌍들은 사분면을 양분하는 선(SS)에 대하여 대칭이다(도 7 참조). 예컨대, 위치들의 제1 쌍(724a,a')은 위치들의 제3 쌍(724c,c')과 연관된다. 이들 두 쌍은 선(SS)에 대하여 대칭이다. 위치들의 제2 쌍(724b,b')은 위치들의 제4 쌍(724d,d')과 연관된다. 이 두 쌍은 또한 선(SS)에 대하여 대칭이다. 동일한 제한이 다른 사분면들에 적용된다.
제2 사분면은 제1 사분면의 미러 이미지이다. 제3 사분면과 제4 사분면은 제1 사분면과 제2 사분면의 미러 이미지이다. 이러한 방식으로 위치들을 정하는 것은 도 8에서 도시된 조명 모드들 모두가 달성되도록 한다. 도8b-d에 도시된 조명 모드들 중 임의의 모드가 생성될 경우, 각각의 사분면에 대한 대응하는 주 반사 요소들의 배향들은 동일하다. 도 8a의 환형 모드가 생성될 경우, 제1 및 제3 사분면에 대한 주 반사 요소들의 배향들은 제2 및 제4 사분면에 대한 주 반사 요소들에 적용되는 배향들과 반대이다.
비록 이상의 도면들이 단지 적은 수의 주 반사 요소들만을 도시하였지만, 훨씬 더 큰 수의 주 반사 요소들이 사용될 수도 있다. 제1 반사 컴포넌트(22)는 예컨대 100, 200, 400 또는 그 이상의 주 반사 요소들을 포함할 수도 있다. 주 반사 요소들은 2차원 그리드형 형태로 배열될 수도 있다. 주 반사 요소들은 방사 빔을 통해 가로지르는 면에 배열될 수도 있다. 각각의 주 반사 요소는 소정의 조사 위치의 적은 부분을 향해 방사선을 지향할 수도 있다. 예컨대, 도 7을 참조하면, 제1 조명 위치(24a)는 복수의 부분들(예컨대, 수십 개의 부분들)로 세분화될 수 있으며, 그 각각은 상이한 주 반사 요소로부터 방사선을 수광한다.
주 반사 요소들은 미러들이거나, 다른 적절한 반사 요소들일 수도 있다.
도 9는 본 발명의 한 실시예에 따른 미러(110)를 위한 엑추에이터(109)이다. 미러(110)는 도 3에 도시된 반사 컴포넌트(22)의 위에서 언급된 복수의 주 반사 요소들 중 하나이다. 특히, 미러(110)는 주 반사 요소들(22a-d) 중 하나가 될 수도 있다. 엑추에이터는 제1 배향과 제2 배향 사이에서 미러(110)를 회전시키는 데 사용될 수도 있다.
엑추에이터(109)는 미러(110)가 제공될 로드(rod)111)를 포함하며, 로드는 피봇(pivot)(112) 상에 회전가능하게 장착된다. 도 9의 이중 헤드(double-headed) 화살표는 로드(111) 및 미러(110)의 회전 방향을 나타낸다. 로드(111)는 중심 위치(예컨대, 도 9의 로드(111)의 수직 위치)를 향하여 하나 이상의 스프링(도시되지 않음)에 의해 탄성적으로 바이어싱(bias) 된다. 미러는 로드에 고정되어 있기 때문에, 피봇(112)에 대한 로드(111)의 회전은 미러(110)가 회전하는 것을 야기한다. 마그넷(113)은 로드(111)의 최하부에 위치된다. 이 마그넷은 이하에서 로드 마그넷(113)으로 지칭된다.
마그넷(114)은 회전가능한 마운트(115)서 유지된다. 이 마그넷은 이하에서 엑추에이팅 마그넷(114)으로 지칭된다. 회전가능한 마운트(115)는 회전가능한 마운트에 근접하게 위치되는 모터(116)에 의해 축(R)에 대하여 회전하도록 구동된다. 모터(116)는 제어기(117)에 의해 제어된다.
로드 마그넷(113)은 엑추에이팅 마그넷(114)으로 유인되고, 따라서 엑추에이팅 마그넷을 향해 이동한다. 엑추에이팅 마그넷(114)을 향한 로드 마그넷(113)의 이동은 도 9에서 도시된 단부 스톱(118)에 의해 제한된다. 엑추에이팅 마그넷(114)이 도 9에 도시된 위치에 있을 경우, 로드(111)는 도 9에서 도시된 위치에 있을 것이다. 이것은 미러(110)의 제1 배향에 대응할 수 있는 예컨대 로드(111)의 제1 위치가 되도록 고려될 수도 있다.
로드(111)는, 예컨대 모터가 단부 스톱(118)에 대해 로드(111)를 밀도록 모터(116)으로 전력을 계속적으로 공급함으로써 제1 위치에 유지될 수 있다.
모터(116)는 모터가 꺼질 때 로드(111)를 제1 위치에 있도록 유지할 만큼 충분히 견고한 기어링(gearing)을 포함할 수도 있다. 만약 로드(111)가 제1 위치와 제2 위치 사이의 위치로 탄성적으로 바이어스된다면, 기어링은 그러한 탄성적 바이어싱이 제1 위치로부터 멀리 로드(111)를 이동시키는 것을 방지할 만큼 충분히 견고할 수 있다.
또한 비자성 물질(119)의 시트가 도 9에서 도시된다. 그 시트(119)는 엑추에이팅 마그넷(114), 회전가능한 마운트(115), 및 모터(116)로부터 미러(110), 로드(111), 및 로드 마그넷(113)을 씰링(sealing)하고 있다. 그러한 씰링은 엑추에이팅 마그넷(114), 회전가능한 마운트(115), 및 모터(116)로부터 발생하는 오염이 리소그래피 장치의 다른 부분에 진입하는 것을 방지한다. 오염은, 예컨대 종종 모터로부터 발생하는 입자들, 또는 모터의 베어링에 사용된 기름으로부터 기체로서 발산되는 탄화수소 화합물(기체배출(outgassing)로서 공지된 프로세스)을 포함한다. 이러한 오염이 미러(110)의 표면상에 침착되는 경우, 미러의 반사성을 감소시킬 것이다. 그러한 씰링은 이것이 발생하는 것을 방지한다. 시트(119)는 비자성 물질로 형성되기 때문에, 엑추에이팅 마그넷(114)과 로드 마그넷(113) 사이의 자기 상호작용에 간섭하지 않는다.
시트(119)는 예컨대 스테인레스 스틸로 이루어지거나, 다른 적절한 물질로 이루어질 수도 있다. 그러한 물질은, 금속 또는 예컨대 많은 양의 기체 배출을 발생시키지 않는 물질일 수도 있다.
시트(119)는 엑추에이팅 마그넷(114), 회전가능한 마운트(115), 및 모터(116)가 위치되어 있는 (점선(120)으로 표시된) 씰링된 인클로즈의 부분을 형성할 수도 있다. 미러(110), 로드(111) 및 로드 마그넷(113)은 저압(예컨대 5 pa 이하)으로 제공된 수소(또는 다른 기체)에 의해 둘러싸일 수도 있다. 엑추에이팅 마그넷(114), 회전가능한 마운트(115), 및 모터(116)를 씰링된 인클로즈에 제공하는 것은 수소가 그들과 접속하지 못하도록 방지한다. 이것은 수소가 마그넷들(114, 115) 또는 모터(116) 내에 존재하는 마그넷의 동작에 영향을 미치도록 하는 가능성을 피한다.
도 10은 위에서 본 엑추에이팅 마그넷(114) 및 회전가능한 마운트(115)를 도시한다. 도 10a는, 엑추에이팅 마그넷(114)이 도면의 왼쪽 측면(음의 x 방향)에 존재하도록 제1 위치에 회전가능한 마운트(115)를 도시한다. 이것은 도 9에서 도시된 회전가능한 마운트(115)의 위치에 대응한다.
회전가능한 마운트(115)는 도 10a의 화살표로 표시되는 바와 같이, 180°회전될 수도 있다. 회전가능한 마운트(115)의 180°회전은, 엑추에이팅 마그넷(114)이 도면의 오른쪽 측면(양의 x 방향)에 존재하도록, 도 10b에서 도시되는 제2 위치로 회전가능한 카운트를 이동시킨다. 회전가능한 마운트(115)는 도 10b의 화살표로 표시되는 바와 같이, 회전가능한 마운트를 다시 180°뒤로 회전시킴으로서 제1 위치로 복귀시킬 수도 있다.
도 11은 회전가능한 마운트(115)가 제2 위치에 있는 경우 엑추에이터(109)를 도시한다. 엑추에이팅 마그넷(114)은 도 11의 오른쪽에 있다. 로드 마그넷(113)이 엑추에이팅 마그넷(114)으로 유인되기 때문에, 로드 마그넷은 그 이동이 단부 스톱(121)에 의해 정지될 때까지 엑추에이팅 마그넷을 향해 이동한다. 도 11에 도시된 로드(111)의 위치는, 예컨대 미러(110)의 제2 배향에 대응할 수 있는 로드(111)의 제2 위치가 된다고 고려될 수도 있다.
이상에서 언급한 바와 같이, 시트(119)는, 엑추에이팅 마그넷(114), 회전가능한 마운트(115), 및 모터(116)가 위치되어 있는 씰링된 인클로즈(120)의 일부를 형성한다. 엑추에이터(109) 및 미러(110)는 어레이로 제공된 복수의 엑추에이터들 및 미러들 중 하나일 수도 있다. 이러한 경우, 복수의 엑추에이팅 마그넷들(114), 회전가능한 마운트들(115), 및 모터들(116)은 모두 동일한 인클로즈 내에 위치될 수 있다. 인클로즈는 어레이의 엑추에이팅 마그넷들, 회전가능한 마운트들 및 모터들 모두, 또는 어레이의 엑추에이팅 마그넷들, 회전가능한 마운트들 및 모터들의 서브셋을 유지할 수도 있다.
인클로즈는 스테인레스 스틸, 또는 다른 적절한 물질로 형성될 수 있다. 그 물질은 비자성일 수 있다. 그러한 물질은, 예컨대 금속 또는 많은 양의 기체배출을 야기하지 않는 다른 물질일 수도 있다.
제어기(117)는 인클로즈 내에 위치되거나 인클로즈 외부에 위치될 수도 있다. 단일 제어기가 복수의 모터들을 제어하는 데 사용될 수 있다. 대안적으로 각각의 모터가 상이한 제어기에 의해 제어될 수도 있다.
복수의 모터들이 씰링된 인클로즈 내에 제공되는 경우, 씰링된 인클로즈 내로 각 모터를 위한 제어 신호들을 전달하기 위해 하나 이상의 와이어들이 사용될 수도 있다. 씰링된 인클로즈 내로 전달하는 와이어들의 수를 감소하는 것이 바람직할 수 있다. 이것은 제어 신호들을 멀티플렉싱하고 멀티플렉싱된 제어 신호들을 감소된 수의 와이어들을 통해 씰링된 인클로즈로 전달함으로써 이루어질 수 있다. 그 후 제어 신호들은 씰링된 인클로즈 내에 위치된 디멀티플렉서(demultiplexer)를 사용하여 디멀티플렉싱될 수 있다. 그 후 제어 신호들이 모터들에 전달될 수도 있다. 디멀티플렉서는 제어기의 부분을 형성할 수 있다.
대안적인 배열에서, 각각의 엑추에이팅 마그넷(114), 회전가능한 마운트(115) 및 모터(116)는 개별적인 실링된 인클로즈들에 위치될 수도 있다.
비록 엑추에이팅 마그넷(114)이 회전가능한 마운트(115) 내에 유지되는 것으로서 도시되고 있지만, 엑추에이팅 마그넷은 회전가능한 마운트 위로 연장될 수 있다. 예컨대, 엑추에이팅 마그넷은 회전가능한 마운트 상에 위치될 수도 있다. 비록 회전가능한 마운트(115)는 원형으로 도시되었지만, 회전가능한 마운트는 임의의 적절한 형태를 가질 수 있다. 회전가능한 마운트는 엑추에이팅 마그넷(114)을 모터(116)의 회전축(R)로부터 멀리 옮겨 놓을 수 있다. 회전가능한 마운트(115)는, 예컨대 모터(116)의 회전축(R)에 가로지르도록 연장되는 암(arm)일 수 있다. 모터는, 예컨대 회전축(R)에 대하여 회전을 제공하는 임의의 적절한 유형의 회전 모터일 수도 있다.
비록 엑추에이팅 마그넷(114)은 원통형으로 도시되었지만, 엑추에이팅 마그넷은 임의의 적절한 형태를 가질 수 있다. 예컨대, 엑추에이팅 마그넷은 아치형(arcuate), 정사각형(square), 또는 직사각형(rectangula)일 수도 있다.
단부 스톱(118, 121)은 시트(119)로부터 바깥쪽으로 연장되는 블록들로서 도 9 및 도 11에 도시된다. 그러나, 이것은 단순히 예시이며, 단부 스톱들은 임의의 적절한 형태를 취할 수 있다. 예컨대, 단부 스톱들은 물질의 플레이트에 제공된 개구의 형태를 취할 수도 있다. 도 12는, 위쪽에서 본, 4개의 개구들(123a, 123b, 123c, 123d)를 포함하는 플레이트(122)의 예를 도시한다. 각 개구(123a-d)는 4개의 로드 마그넷들(113a, 113b, 113c, 113d) 각각에 대하여 각각의 단부 스톱들(118, 121)을 제공한다. 플레이트(122)의 에지(edge)들은 점선으로 개략적으로 표시되어 있다.
단부 스톱들(118, 121)은 개구들(123)의 주변에 형성된다. 이러한 예에서, 로드 마그넷(113a-d)은 단면이 원형이고, 개구들(123)의 주변에는 어느 한 단부에서 곡선 부분이 제공된다. 곡선 부분들은 로드 마그넷(113a-d)의 곡률 반경보다 더 큰 곡률 반경을 갖는다. 이것은 개구 상에 로드 마그넷을 위한 단일점 접촉을 제공한다. 단일점 접촉을 제공하면 로드 마그넷(113)이 접촉점들 사이에서 미끄러질 가능성을 감소시킨다. 이것은 다시, 접촉점들 사이에서 미끄러지는 동안 오염이 생성될 가능성을 감소시킨다.
도 12에서, 로드 마그넷(13a)들 중 하나는 제2 위치에 있고, 개구(123)의 주변의 오른쪽 단부에 제공된 단부 스톱(121)과 접촉되어 있다. 잔존한 3개의 로드 마그넷들(113b-d)은 제1 위치에 존재하고, 각각은 개구(123)의 주변부의 왼쪽 단부에 제공되는 단부 스톱(118)과 접촉되어 있다.
개구들(123)은 제1 위치와 제2 위치 사이에서 이동할 때 로드 마그넷(113a-d)이 개구의 측면을 접촉할 가능성이 상당히 높지 않도록 충분히 넓다(개구의 측면을 접촉하는 것은 오염이 로그 마그넷 또는 개구로부터 방출되는 것을 초래할 수도 있음).
플레이트(122)는 개구보다 더 크고, 예컨대 복수의 개구들을 포함할 수도 있다. 단일 플레이트(122)는, 예컨대 미러 어레이의 엑추에이터들 모두를 위해 단부 스톱들을 제공하는 데 사용될 수도 있다.
비록 도 12에 도시된 개구들(123)이 모두 동일한 배향을 갖지만, 상이한 개구들이 상이한 배향들을 가질 수도 있다. 상이한 배향을 갖는 개구를 제공하면 엑추에이터가 상이한 경로를 따라 이동할 수 있게 되고, 그에 의해 관련 미러(110)의 회전이 상이한 축에 대하여 행해질 수 있게 된다. 도 7을 참조하면, 예컨대 축(AA)에 대하여 제1 미러가 회전하고 축(BB)에 대하여 제2 미러가 회전하는 것이 바람직할 수 있다. 적절히 배향된 로드 피봇들과 함께, 적절히 배향된 개구들이 이를 성취하는 데 사용될 수도 있다.
로드 피봇(112)(도 9 참조)은, 로드(111) 및 로드 마그넷(113)이 로드 피봇의 배향에 가로질러 선형 방향으로 이동하도록 로드(111) 및 로드 마그넷(113)의 이동을 제한할 수도 있다. 예컨대, 도 9에서 피봇(112)은 y 방향에 평행한 축을 가지며, 로드(111)는 x 방향으로 이동하도록 제한된다. 그러나, 로드 피봇이 y 축에 평행한 축을 가질 필요는 없다. 로드 피봇은 임의의 적절한 방향으로(예컨대, 도 7에서 축들(AA, BB)) 연장되는 축을 가질 수도 있다.
로드 피봇(112)은, 로드(111) 및 로드 마그넷(113)이 선형 방향으로 이동하는 것을 억제하지 않지만, 대신에 로드 및 로드 마그넷이 횡단 방향으로 이동하는 것에 대한 자유를 제공하도록 배열될 수도 있다. 이러한 경우에, 두 방향으로 로드(111) 및 로드 마그넷(113)의 제1 및 제2 위치를 결정하는 데 단부 스톱들이 사용될 수 있다. 이러한 예는 도 13에 관련하여 설명된다.
도 13은 플레이트에 제공된 개구(130)를 도시한다(플레이트의 에지들은 도시되지 않음). 로드 마그넷(132)은 제1 위치(132a)에서 제2 위치(132b)로 이동하는 것으로 도시된다. 제1 위치(132a) 및 제2 위치(132b)는 축(LL) 상에 놓여진다. 축(LL)은, 로드 마그넷(132)에 의해 엑추이에팅되는 미러(도시되지 않음)의 원하는 제1 및 제2 배향들을 제공하도록 선택된다.
로그 마그넷은 엑추에이팅 마그넷(도시되지 않음)에 의해 제1 위치(132a)로부터 이동된다. 로드 마그넷은 로드를 통해, 로드 마그넷을 x 축으로 이동할 수 있도록 하는 피봇으로 연결되며, 또한 로드 마그넷이 y 방향으로 이동할 일부 자유를 제공한다. 비록 로드 마그넷이 y 방향으로 이동하는 것이 자유롭다 하더라도, 로드 마그넷이 우선적으로 x 방향으로 이동하도록 탄성적으로 바이어싱될 수도 있다. 따라서, 로드 마그넷은 (원형 점선 (132c)에 의해 표시된 바와 같이) 개구(130)의 벽(130a)과 접촉하게 될 때까지 x 방향으로 이동할 수도 있다. 로드 마그넷은 그 후 제2 벽(130b)에 접촉하게 될 때까지 개구(130)의 벽(130a)을 따라 이동할 수도 있다. 개구(130)의 제1 벽(130a) 및 제2 벽(130b)은 로드 마그넷의 제2 위치(132b)를 함께 결정한다.
로드 마그넷이 제1 위치(132a)로 이동할 때, 제1 위치는 개구(130)의 제3 벽(130c) 및 제4 벽(130d)에 의해 결정된다.
개구(130)의 형태와 배향이 로드 마그넷의 제1 및 제2 위치들을 결정하는 데 사용될 수도 있다. 예컨대, 개구(130)를 더 길게 형성하는 것은 제1 배향과 제2 배향 사이에서 미러에 의해 경험되는 회전량을 증가시킬 것이다. 개구(130)의 배향을 변화시키는 것은 로드 마그넷의 제1 및 제2 위치들을 연결하는 축(LL)의 배향을 변화시킬 것이다(그에 따라 미러의 회전축을 변화시킴). 개구(130)이 제공되는 플레이트는 각 로드(111)의 원하는 제1 및 제2 위치들, 및 각 미러(110)의 관련된 제1 및 제2 배향들을 선택하는 것을 허용할 만큼 정확하게 제조될 수 있다.
개구(130)는 임의의 적절한 형태를 가질 수 있다. 예컨대, 개구의 벽들은 직선형이기 보다 곡선형일 수도 있으며, 개구의 단부들은 모서리들을 형성하거나 둥글게 되어 있을 수도 있다.
로드 마그넷(132)은 개구(130)의 벽들(130a-d)을 따라 미끄러지기(slide)보다 이들을 따라 회전(roll)하도록 구성된 베어링(예컨대, 볼-베어링)이 제공될 수도 있다. 이것은 오염이 벽들(130a-d)으로부터 또는 로드 마그넷(132)으로부터 방출될 가능성을 감소시키는 데 도움이 될 수 있다.
비록 도 13에 오직 단일 개구가 도시되어 있으나, 개구는 플레이트에 제공되는 복수의 개구들 중 하나 일 수도 있다.
설명된 실시예에서, 로드 마그넷(113)은 단부 스톱과 접촉하게 된다. 그러나, 로드(111)의 몇몇 다른 부분이 대신에 단부 스톱과 접촉하게 될 수도 있다. 예컨대, 로드 마그넷(113)은 로드(111)의 부분을 형성하는 인클로즈 내에 유지될 수도 있으며, 단부 스톱과 접촉하게 되는 것이 인클로즈일 수도 있다.
설명된 실시예에서, 로드 마그넷(113) 및 엑추에이팅 마그넷(114)은 그들이 서로를 끌어당기도록 구성된다. 그러나, 로드 마그넷(113) 및 엑추에이팅 마그넷(114)은 서로를 밀어내도록 구성될 수도 있다. 이러한 경우에, 엑추에이팅 마그넷(114)이 제1 위치와 제2 위치 사이에서 로드 마그넷을 당기기보다 로드 마그넷을 밀어낼 것이라는 것만 제외하면, 엑추에이션은 이상에서 언급된 것과 유사한 방식으로 발생할 것이다.
단부 스톱들(도시되지 않음)은 회전가능한 마운트(115)가 원하는 위치들(예컨대, 도 10a 및 도 10b에서 도시된 위치들) 이외에서 회전하는 것을 방지하는 데 사용될 수 있다. 이 경우에, 모터(116)가 회전가능한 마운트(115)의 위치를 정확하게 제어할 필요가 없으며, 이는 단부 스톱들에 의해 제공되기 때문이다. 모터(116)는 예컨대 통상적인 전기 모터일 수도 있다. 모터(116)는 예컨대 브러쉬리스 모터(brushless motor)일 수도 있다.
모터(116)는, 단부 스톱들이 회전가능한 마운트에 필요하지 않도록 회전가능한 마운트(115)의 배향을 제어하는 데 사용될 수도 있다. 모터(116)는, 예컨대 회전가능한 마운트(115)의 배향을 제어하는 데 사용되는 스테퍼 모터(stepper motor)일 수도 있다.
도 10a에서 회전가능한 마운트(115)는 제1 위치에서 제2 위치로 시계방향으로 회전하도록 도시된다. 회전가능한 마운트(115)는 대신에 제1 위치로부터 제2 위치로 반시계 방향으로 회전할 수도 있다.
이상에서 설명된 실시예에서, 엑추에이팅 마그넷(114)의 이동은, 마그넷을 모터(116)의 회전축으로부터 멀어지도록 이동시키는 회전가능한 마운트(115)를 회전시킴으로써 달성될 수 있다. 그러나, 엑추에이팅 마그넷(114)을 이동시키는 다른 방법들이 사용될 수도 있다. 예컨대, 모터는, 엑추에이팅 마그넷이 장착된 크랭크 쉐프트(crank shaft)를 구동하도록 배열될 수도 있다. 대안적으로, 모터는 톱니(cog)를 구동할 수도 있으며, 이 톱니는 다시 엑추에이팅 마그넷이 연결된 이가 존재하는 막대(toothed bar)(rack)를 구동한다. 부가적인 예에서, 엑추에이팅 마그넷은, 제1 위치에서 제2 위치로 선형으로 엑추에이팅 마그넷을 이동시키도록 구성된 선형 모터에 의해 구동될 수도 있다.
추가적인 배열에서(도시되지 않음), 바이메탈 모터(bimetal motor)가 엑추에이팅 마그넷을 이동시키는 데 사용될 수도 있다. 바이메탈 모터는 한 단부에서 제공되는 엑추에이팅 마그넷을 갖는 바이메탈 스트립을 포함할 수도 있다. 바이메탈 스트립은, 바이메탈 스트립에 인가되는 전류에 응답하여 제1 위치와 제2 위치 사이에서 엑추에이팅 마그넷을 이동시키도록 구성될 수도 있다.
엑추에이팅 마그넷에 인접하지만 엑추에이팅 마그넷에 의해 엑추에이팅되도록 의도되는 것은 아닌 하나 이상의 로드 마그넷들 상에서의 엑추에이팅 마그넷의 효과를 감소시키기 위해 자기 스크리닝(magnetic screening)이 제공될 수도 있다. 예컨대 개구들(123a-d)이 제공되는 플레이트(122)에 의해 자기 스크리닝이 제공될 수도 있다. 이것은 예컨대 강자성 물질로 플레이트(122)를 형성함으로써 이루어질 수 있다.
마그넷들(113, 114)이 임의의 적절한 물질로부터 형성될 수 있다. 하나 이상의 마그넷들은 네오디뮴(neodymium)을 포함할 수도 있다. 예컨대, 하나 이상의 마그넷들이 철, 붕소, 및 네오디뮴을 포함하는 화합물로 형성될 수 있다.
자기 스크리닝이 제공된 본 발명의 실시예가 도 14에서 개략적으로 도시된다. 도 14a는 로드 마그넷 스크린(130), 엑추에이팅 마그넷 스크린(142), 및 로드 마그넷(로드 마그넷은 제1 위치(141a) 및 제2 위치(141b)에서 있는 것으로 도시됨)을 포함하는 자기 스크리닝을 위에서 본 모습을 도시한다. 도 14a는 또한 관련된 제1 위치(143a) 및 제2 위치(143b)의 엑추에이팅 마그넷을 도시한다. 도 14b는, 제1 위치(141)에 있는 로드 마그넷과 제2 위치(143b)에 있는 엑추에이팅 마그넷과 함께, 한 측면에서 본 로드 마그넷 스크린(140) 및 엑추에이팅 마그넷 스크린(142)을 도시한다. 도 14b는 또한 로드 마그넷 스크린(140)과 엑추에이팅 마그넷 스크린(142) 사이에 위치된 비자성 물질(145)의 시트의 일부를 도시한다. 비자성 물질의 시트(145)는 예시의 용이성을 위해 도 14a에서 생략되었다.
비자성 물질의 시트(145)는, 로드 마그넷(141), 로드 마그넷 스크린(140) 및미러(도시되지 않음)로부터 격리되어 있는 환경에서 엑추에이팅 마그넷(143), 모터(도시되지 않음) 및 엑추에이터의 다른 부분들을 씰링하는 인클로즈(도시되지 않음)의 일부를 형성한다.
로드 마그넷 스크린(140)은 자성 물질(예컨대, 저탄소 강철과 같은 강자성 물질)의 링(ring)을 포함한다. 엑추에이팅 마그넷 스크린(142)은 자성 물질(예컨대, 저탄소 강철과 같은 강자성 물질)의 시트로 형성된 개구(150)을 포함한다. 엑추에이팅 마그넷 스크린(142)은 상이한 모양의 개구(150)를 가지긴 하지만, 도 12의 플레이트(122)에 대응할 수 있다.
개구(150)는 엑추에이팅 마그넷(143)의 이동의 대향 단부들에 있는 표면들(151a,b)에서 오목하게 만곡(curve)되어 있다. 오목 표면들(151a,b)은 두 개의 볼록 표면들(152a,b)에 의해 연결된다. 리세스(153a,b)는 각각의 볼록 표면(152a,b)에 형성된다. 각각의 리세스(153a,b)는 부분 원의 형태를 갖는다.
엑추에이팅 마그넷 스크린(142)의 개구(150)는, 예컨대 도 14에서 도시된 바와 같이, 로드 마그넷 스크린(140)보다 엑추에이팅 마그넷의 이동 방향으로 더 길게 되어 있을 수 있다. 로드 마그넷 스크린(140)은 단부 스톱으로 작용할 수도 있으며, 그에 의해 로드 마그넷(141)의 이동이 제한한다. 엑추에이팅 마그네 스크린(142)의 개구(150) 또한 단부 스톱으로 작용할 수 있으며, 그에 의해 엑추에이팅 마그넷(143)의 이동을 제한한다. 개구(150)가 엑추에이팅 마그넷 스크린(142)보다 이동 방향으로 더 길기 때문에, 엑추에이팅 마그넷(143)이 로드 마그넷(141)보다 더 이동할 수도 있다.
도 14a에서 도시된 바와 같이, 로드 마그넷 스크린(142)의 최내측 표면은 로드 마그넷(141)이 제1 위치(141a)에 있을 때 단부 스톱으로 작용할 수 있다. 엑추에이팅 마그넷 스크린(142)의 개구(150)의 오목 부분(151a)은 엑추에이팅 마그넷(143)이 관련된 제1 위치(143a)에 대하여 로드 마그넷(141)보다 더 이동할 수 있도록 한다. 유사하게, 로그 마그넷 스크린(142)의 최내측 표면은 로드 마그넷(141)이 제2 위치(141b)에 있을 때 단부 스톱으로 작용한다. 엑추에이팅 마그넷 스크린(142)의 개구(150)의 오목 부분(151b)은 엑추에이팅 마그넷(143)이 관련 제2 위치(143b)에 대하여 로드 마그넷(141)보다 더 이동할 수 있도록 한다.
로드 마그넷 스크린(140) 및 엑추에이팅 마그넷 스크린(142)은 비자성 물질의 시트(145)에 의해 분리되어 있기는 하지만 서로 인접해 있다. 이러한 근접한 위치들로 인해, 로드 마그넷 스크린(140)은 로드 마그넷(141)과 엑추에이팅 마그넷(143) 모두의 자기 필드에 상당한 영향력을 미친다. 유사하게, 엑추에이팅 마그넷 스크린(142)은 엑추에이팅 마그넷(143) 및 로드 마그넷(141) 모두의 자기 필드에 상당한 영향력을 미친다. 로드 마그넷 스크린(140) 및 엑추에이팅 마그넷 스크린(142)는 함께 결합된 스크리닝 효과를 제공한다.
엑추에이팅 마그넷 스크린(142)과 로드 마그넷 스크린(140)에 의해 제공되는 결합된 스크리닝 효과는, 제1 위치(143a)(또는 제2 위치(143b))에서 엑추에이팅 마그넷(143)이 유지되기 위해 요구되는 힘을 감소시킨다.
엑추에이팅 마그넷(143) 및 로드 마그넷(141)의 자화는 그들이 서로를 향해 끌어당겨지도록 된다. 따라서, 본 발명의 한 실시예에서 엑추에이팅 마그넷(143) 및 로드 마그넷(141)은 서로 일렬로 배열되도록 탄성적으로 바이어싱된다. 엑추에이팅 마그넷(143)이 제1 위치(143a)에 있을 때, 그것은 더 이상 로드 마그넷(141)과 일렬로 배열되어 있지 않으며, 따라서 로드 마그넷은 엑추에이팅 마그넷을 로드 마그넷을 향해 끌어당기는 힘을 발휘한다. 엑추에이팅 마그넷 스크린(142) 및 로드 마그넷 스크린(141)에 의해 제공된 결합된 스크리닝 효과는 이러한 힘을 감소시키며, 이는 결합된 스크리닝 효과가 엑추에이팅 마그넷(143)의 자기 필드로부터 로드 마그넷(141)의 자기 필드를 부분적으로 스크리닝하기 때문이다.
엑추에이팅 마그넷(142)을 제1 위치(143a) 또는 제2 위치(143b)에 유지시키기 위해 필요로 하는 힘이 감소되기 때문에, 엑추에이팅 마그넷은 그렇지 않은 경우보다 더 낮은 힘 출력을 가진 모터를 사용하여 엑추에이팅 될 수 있다.
로드 마그넷 스크린(140) 및 엑추에이팅 마그넷 스크린(142)은 제1 위치로부터 제2 위치로(또는 그 반대) 로드 마그넷(141)을 이동시키는 데 필요한 힘을 감소시킬 수 있다. 로드 마그넷 스크린(140) 및 엑추에이팅 마그넷 스크린(142)는 로드(111)를 탄성적으로 바이어싱하는 것을 보상(compensate)하거나 실질적으로 보상할 수 있다 (도 11 참조).
더 낮은 출력 힘을 생성하는 모터는 더 높은 출력 힘을 생성하는 모터보다 제조하고 동작하기에 더 저렴하고, 그에 따라 엑추에이터를 제조하고 동작하는 비용을 감소시킬 수 있다. 게다가, 그러한 모터는 더 적은 전류를 사용하고, 따라서 더 저렴한 구동 전자 장치를 사용하여 구동될 수 있다.
로드 마그넷 스크린(140) 및 엑추에이팅 마그넷 스크린(142)은 인접한 엑추에이터들의 마그넷들로부터 로드 마그넷 (141) 및 엑추에이팅 마그넷(143)을 스크리닝할 수도 있다.
"마그넷 스크린(magnet screen)"이라는 용어는, 마그넷 스크린이 없는 경우에 존재할 원하지 않는 자기 필드의 강도에 비교하여, 원하지 않는 자기 필드의 강도를 감소시키는 자성 물질을 의미하는 것으로 이해될 수 있다.
비자성 물질(145)의 시트는 예컨대 0.5 mm 두께를 가질 수 있다(또는 다른 두께를 가질 수도 있다). 얇은 두께를 가진 비자성 물질의 시트를 제공하면 로드 마그넷(141) 및 엑추에이팅 마그넷(143)이 서로 인접하도록 할 수 있으며, 따라서 그들 사이에 강한 커플링(coupling)이 생기도록 할 수 있다. 로드 마그넷 스크린(140)은 또한 비자성 물질의 시트(145)와 접촉할 수도 있다. 비자성 물질(145)은 로드 마그넷 스크린(140) 또는 엑추에이팅 마그넷 스크린(142)의 자기 필드에 대해 상당한 효과를 갖지 않는다. 다른 실시예에서, 다른 물질들은 로드 마그넷 스크린(140)과 비자성 물질(145)의 시트 사이에 및/또는 엑추에이팅 마그넷 스크린(142) 과 비자성 물질의 시트(145) 사이에 위치될 수도 있다.
로드 마그넷(141)과 비자성 물질의 시트(145) 사이에 예컨대 0.5 mm의 여유가 제공될 수도 있다. 유사하게, 엑추에이팅 마그넷(143)과 비자성 물질의 시트(145) 사이에 예컨대 0.5 mm의 여유가 제공될 수도 있다.
로드 마그넷 스크린(140)과 엑추에이팅 마그넷 스크린(142)은 비자성 물질(145)의 시트에 구조적 지지대를 제공한다. 이것은 비자성 물질의 시트(145)가 시트의 한 측면에 생기고 시트의 다른 측면에는 생기지 않은 진공으로 인해 발생된 힘들을 견디는 데 도움을 준다.
엑추에이팅 마그넷 스크린의 개구(150)는 도 14에서 도시된 형태와 상이한 모양을 가질 수 있다. 유사하게, 로드 마그넷 스크린(140)은 도 14에 도시된 형태와 상이한 형태를 가질 수도 있다. 형태와 상관없이, 로드 마그넷 스크린(140) 및 엑추에이팅 마그넷 스크린(142)은 결합된 스크리닝 효과를 제공한다. 결합된 스크리닝 효과는 엑추에이팅 마그넷(143)을 제1 위치(143a) 또는 제2 위치(143b)에 유지할 때 필요로 하는 힘을 감소시킨다.
비록 상대적으로 낮은 출력의 힘 또는 낮은 출력 토크를 생성하는 모터의 사용이 이점이 될 수 있지만, 대신에 엑추에이터 마그넷(114)으로 회전가능한 마운트(115)를 구동하는 모터(116)는 본 발명의 한 관점에 따라 상대적으로 높은 출력 토크를 제공하도록 배열된 모터일 수도 있다. 이점은, 제1 위치와 제2 위치 사이의 위치(예컨대, 도 9의 줌심 위치)로 로드(111)를 탄성적으로 바이어싱하는 것이 향상된 열전도를 제공하도록 구성될 수 있다는 것이다. 그러한 구성은 통상적으로 대응하는 더 높은 강성(stiffness)을 특징으로 한다. 향상된 열전도성은 EUV 선의 흡수로 인해 주 반사 요소들이 가열되는 문제점을 완화시킨다. 예컨대, 엑추에이터(109)의 더 높은 강성을 극복하기 위해, 모터(116)는 10 보다 큰 감소 지수(reduction factor)를 가지는 기어 시스템을 포함할 수 있다. 더 낮은 감소 지수를 위해, 기어링은 더 이상, 모터가 꺼질 때 로드(111)를 제1 위치(또는 제2 위치)로 유지할 만큼 충분히 견고하기 않을 수도 있다. 또한, 기어 감소 지수들이 10 이상의 범위에 있도록 하기 위해, 모터의 구동에 필요한 전류는 기어 박스를 포함하지 않는 모터를 구동하는 데 필요로 하는 전류보다 10 이상의 지수만큼 감소될 수도 있다.
본 발명에 따르면, 상대적으로 높은 강성(stiffness)의 엑추에이터(109)는 도15에서 예시된 바와 같이 로드 마그넷 및 엑추에이터 마그넷(113, 114)을 포함한다. 로드 마그넷(113)은 평행한 방향 또는 반대 방향으로 자화된 한 쌍의 마그넷들(1131, 1132)을 포함하고, 그 방향은 이동 방향(도 9, 도 11, 도 15에서 x 방향)에 실질적으로 수직이며, 예컨대 도 15에서의 x,y면에 수직일 수 있다. 자화 방향은 도 15의 화살표로 표시된다. 엑추에이터 마그넷(114)은 각각의 마그넷들(1131, 1132)과 같은 방향으로 자화된 한 쌍의 마그넷(1141, 1142)을 포함한다. 마그넷들(1131, 1132)은 서로 직접 인접하도록 배열되거나, 대안적으로 도 16에서 도시된 바와 같이 이동 방향(도 9 및 도 11에서 x 방향)을 따라 자화되는 제3 마그넷(1133)을 포함할 수도 있다. 유사하게, 마그넷들(1141, 1142)은 서로 직접 인접하게 배열되거나, 대안적으로 이상에서 언급된 마그넷(1133)의 자화 방향에 반대로 자화된 제3 마그넷(1143)을 포함할 수도 있다. 제3 마그넷들(1133, 1143)이 존재하는 경우 엑추에이터 강성이 추가적으로 증가한다.
자기 필드 선들의 도 9 및 도 11에서의 x,y면에서의 공간 범위는, 로드 마그넷(113) 및 엑추에이터 마그넷(114) 각각이 단일 마그넷으로 구성될 때 자기 필드 선들의 공간 범위에 비교해서 감소된다. 결과적으로, 인접한 엑추에이터들 간의 자기 크로스 토크(magnetic cross talk)의 문제가 추가적으로 완화된다. 또한, 구동 마그넷(drive magnet)이 굴곡 마그넷(flex magnet)에 관해 이동될 때 발생하는 로드 마그넷과 엑추에이터 마그넷들 간의 측면 힘은, 로드 마그넷과 엑추에이터 마그넷이 각각 단일 마그넷으로 구성될 때 발생할 측면 힘에 비교하여, 증가된다. 엑추에이터(109)의 본 실시예는 로드 마그넷의 이동방향으로 적어도 1.3배 더 큰 힘 출력능력(또는 강성)을 가진 자기 커플링을 초래하면서, 로드 마그넷 및 엑추에이터 마그넷이 각각 단일 마그넷으로 구성되는 실시예와 비교할 때 동일한 총 마그넷 부피를 유지한다. 또한, 예컨대 도 12에 도시된 스크린(122), 또는 도 14b에 도시된 스크린들(140, 142)과 같은 자기 스크린들과 결합하여, 상대적으로 낮은 음의 강성의 엑추에이터가, 그것으로 탄성적으로 바이어스되는 위에서 언급된 중심 위치에 중심이 위치된 엑추에이터 위치들의 범위에 대하여 초래된다. 단일 마그넷 로드 및 엑추에이터 마그넷을 가진 엑추에이터는 그 위치들의 범위에서 더 높은 음의 강성을 갖는 특징이 있다. 그 상대적으로 낮은 음의 강성은 모터(116)의 기어 어셈블리가 (그 중심 위치에서의 미러(110)의 대응하는 배향 에러를 가지는) 반작용(blacklash)을 겪을 위험을 감소시킨다.
이하에서 실시예들에서 추가적으로 설명되는 바와 같이, 본 발명은 로드 마그넷 및 엑추에이터 마그넷이 반대로 자화된 마그넷들의 쌍들을 포함하는 실시예로 제한되지는 않는다. 대안적인 실시예에서 두 개의 마그넷들 중 단지 한 개, 즉 로드 마그넷(113) 또는 엑추에이터 마그넷(114)은 반대로 자화된 마그넷들의 한 쌍을 포함할 수도 있다.
로드 마그넷과 엑추에이터 마그넷 중 하나 또는 그 각각은 또한 로드 마그넷과 엑추에이터 마그넷 사이의 공간을 마주보는 표면에 대향하여 로드 마그넷 및/또는 엑추에이터 마그넷의 표면에 배치된 요크(170)를 더 포함할 수 있다. 요크들(170)의 존재는 이웃하는 엑추에이터들 간에 자기 크로스 토크의 추가적인 감소를 야기한다. 그러한 요크는 예컨대 철 요크일 수도 있다. 대안적인 실시예는, 엑추에이터 마그넷이 전체적으로 단일 요크로 대체된다는 사실만 빼면, 이러한 실시예와 동일하다. 추가의 대안적인 실시예에서, 로드 마그넷 및 엑추에이터 마그넷이 마그넷들(1133, 1143)과, 마그넷들(1131, 1132, 1141, 1142)을 대체한 요크들로 구성된다. 이들 중 임의의 실시예에서, 요크들이 존재하면 인접하는 엑추에이터들 사이의 자기 크로스 토크의 추가적인 감소를 야기한다. 요크들은 예컨대 철 요크들(iron yokes)일 수 있다. 요크가 마그넷을 대체하는 이상에서 언급된 엑추에이터들은 마그넷들 중 어느 것도 요크에 의해 대체되지 않는 실시예보다 제조하기 더 쉽지만 더 적은 강성을 가진다.
또한, 반대로 자화된 한 마그넷들의 쌍들을 포함하는 로드 마그넷 및 엑추에이터 마그넷들을 설명하는 실시예들은, 로드 마그넷 및 엑추에이터 마그넷의 이동 방향에 수직인 축에 관해 원통형 대칭으로 배열될 수도 있다. 예컨대, 마그넷(1131)은 원통형 마그넷(1132)을 둘러싼 원통형 마그넷일 수 있으며, 여기서 반대로 자화된 것들은 원통 축에 평행하게 배열된다. 그러한 배열에서, 마그넷(1133)은 내측 원통형 마그넷과 외측 원통형 마그넷 사이에 위치될 수 있으며, 방사형 자화를 가진다. 임의의 그러한 원통형 로드 마그넷 및 엑추에이터 마그넷을 구비한 엑추에이터는, 바람직한 마그넷들의 이동 방향에 수직인 축에 대하여 실질적으로 균일한 회전 강성을 가진다.
"모터" 라는 용어는 이상에서 언급된 모터들의 예로 제한되지 않지만, 대신에 전기를 모션으로, 또는 다른 형태의 에너지를 모션으로 전환하는 임의의 디바이스(예컨대, 유압(hydraulic pressure)을 모션으로 전환하는 유압 모터(hydraulic motor))를 포함하도록 의도된다.
설명된 실시예에서, 미러(110)는 마그넷(113)이 제공되는 회전가능하게 장착된 로드(111) 에 연결된다. 마그넷(113)을 이동시키면 로드(111)의 이동이 야기되고 이것은 다시 미러가 회전하도록 한다. 대안적인 실시예에서, 마그넷은 피봇 장착된 미러의 하부 표면에 부착될 수도 있다. 엑추에이팅 마그넷이 미러가 장착된 마그넷으로 향하거나 그로부터 멀어지는 이동은 미러가 회전하도록 야기할 것이다. 추가적인 실시예에서, 마그넷은 미러가 다른 방식으로 이동하도록 야기할 수도 있다. 일반적으로, 마그넷과 미러 사이에 연결이 존재할 수도 있다.
데카르트 좌표들이 일부 도면들에서 도시된다. 이것은 도면의 설명을 용이하게 하기 위한 것이며 본 발명의 임의의 부분들이 특정 배향을 가져야 한다는 것을 의미하는 것이 아니다.
이상에서 언급된 실시예들은 미러(110)를 언급하였다. 미러(110)는 단지 반사 요소의 예일 뿐이다. 임의의 적절한 반사 요소가 사용될 수도 있다.
이상에 언급된 실시예들에서는 반사형 조명 시스템(예컨대, EUV 리소그래피 장치의 일부를 포함함)을 언급하였다. 그러나, 본 발명의 실시예는 굴절형 요소들을 포함하는 조명 시스템에도 제공될 수 있다. 본 발명의 실시예는 예컨대 DUV 리소그래피 장치에 제공될 수도 있다. 하나 이상의 굴절형 광학 컴포넌트들이, 반사형 광학 컴포넌트 대신에 또는 그에 부가하여 조명 시스템 퓨필 면에 제공될 수도 있다.
비록 본 발명의 설명된 실시예들이 리소그래피 장치의 조명 시스템에 대하여 언급하였지만, 본 발명의 실시예는 리소그래피 장치의 임의의 적절한 위치에 제공될 수도 있다.
비록 반사 요소들의 어레이가 리소그래피 장치의 문맥에서 설명되고 있지만, 다른 장치에도 제공될 수 있다.
본 발명의 특정 실시예들이 이상에서 설명되었지만, 본 발명은 설명된 것 이외에 다르게 수행될 수도 있다는 것이 이해되어 진다. 본 설명은 본 발명을 제한하는 것이 아니다.
본 명세서에서 설명된 특징들은 본 발명의 모든 관점들에 적용가능하고 임의의 조합에 사용될 수 있다.

Claims (24)

  1. 광학 장치로서,
    이동가능한 반사 요소, 상기 이동가능한 반사 요소와 연관된 엑추에이터, 및 개구를 갖는 플레이트를 포함하고,
    상기 엑추에이터는 제1 마그넷 및 제2 마그넷을 포함하며, 상기 제1 마그넷은 상기 제1 마그넷의 이동이 상기 이동가능한 반사 요소의 이동을 야기하도록 상기 이동가능한 반사 요소에 연결되고, 상기 제2 마그넷은 모터의 동작이 상기 제2 마그넷의 이동을 야기하도록 상기 모터에 연결되며, 상기 제2 마그넷은 상기 제2 마그넷의 이동이 상기 제1 마그넷의 이동을 야기하도록 상기 제1 마그넷에 대하여 위치되고,
    상기 개구는, 상기 개구와 연관된 제1 마그넷의 이동을 제한하고 상기 제1 마그넷의 제1 위치를 결정하도록 배열된 제1 단부 스톱과, 상기 제1 마그넷의 이동을 제한하며 상기 제1 마그넷의 제2 위치를 결정하도록 배열된 제2 단부 스톱을 제공하는, 광학 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 마그넷은 회전가능하게 장착된 로드에 의해 상기 이동가능한 반사 요소에 연결되는, 광학 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 모터 및 상기 제2 마그넷은 상기 이동가능한 반사 요소 및 상기 제1 마그넷에 대하여 씰링(sealing)되는, 광학 장치.
  4. 삭제
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 모터는 회전 모터이며, 상기 제2 마그넷은 상기 회전 모터의 회전축으로부터 이격되어 배치되는 것인, 광학 장치.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 이동가능한 반사 요소 및 상기 엑추에이터는 이동가능한 반사 요소들 및 상기 이동가능한 반사 요소들과 연관된 엑추에이터들의 어레이의 일부인, 광학 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 어레이의 모터들 및 제2 마그넷들이 상기 어레이의 이동가능한 반사 요소들 및 상기 제1 마그넷들에 대하여 씰링된 인클로즈(enclose) 내에 위치되는, 광학 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 인클로즈 내에 디멀티플렉서(demultiplexer)가 위치되며, 상기 디멀티플렉서는 멀티플렉싱된 인입 신호를 디멀티플렉싱하고 복수의 모터들 각각에 신호를 제공하도록 구성되는, 광학 장치.
  9. 제6항에 있어서,
    상기 플레이트는 복수의 개구들을 포함하고, 각 개구에 대하여, 상기 제1 단부 스톱은 각 개구와 연관된 제1 마그넷의 이동을 제한하고 상기 제1 마그넷의 제1 위치를 결정하도록 배열되고, 상기 제2 단부 스톱은 상기 제1 마그넷의 이동을 제한하며 상기 제1 마그넷의 제2 위치를 결정하도록 배열되는, 광학 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 플레이트는 강자성 물질로 형성되는, 광학 장치.
  11. 청구항 11은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제9항에 있어서,
    상기 제1 단부 스톱은 제1 방향으로 상기 제1 마그넷의 이동을 제한하도록 배열되며, 상기 제2 단부 스톱은 제1 방향으로 상기 제1 마그넷의 이동을 제한하도록 배열되는, 광학 장치.
  12. 청구항 12은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제9항에 있어서,
    상기 제1 단부 스톱은 제1 방향 및 상기 제1 방향을 가로지르는 제2 방향으로 상기 제1 마그넷의 이동을 제한하도록 배열되며, 상기 제2 단부 스톱은 상기 제1 방향 및 상기 제1 방향을 가로지르는 제2 방향으로 상기 제1 마그넷의 이동을 제한하도록 배열되는, 광학 장치.
  13. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1 마그넷에 베어링(bearing)이 제공되는, 광학 장치.
  14. 청구항 14은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 광학 장치는 상기 제1 마그넷과 연관된 제1 스크린 및 상기 제2 마그넷과 연관된 제2 스크린을 포함하는 자기 스크린을 더 포함하고, 상기 제1 스크린 및 제2 스크린은 서로 인접하여 있는, 광학 장치.
  15. 청구항 15은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제14항에 있어서,
    상기 제1 스크린 및 제2 스크린에 의해 제공되는 결합된 스크리닝 효과는, 상기 제1 스크린 및 제2 스크린이 존재하지 않는 경우에 필요한 힘과 비교하여, 상기 제2 마그넷을 상기 제1 위치 또는 제2 위치에 유지하는 데 필요한 힘을 감소시키도록 작용하는, 광학 장치.
  16. 청구항 16은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제14항에 있어서, 상기 제2 스크린은 자성 물질로 형성된 플레이트를 포함하고, 상기 플레이트는 상기 제2 마그넷이 위치되는 개구가 제공되는, 광학 장치.
  17. 청구항 17은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제14항에 있어서, 상기 제1 스크린은 상기 제1 마그넷이 위치되는 자성 물질의 링(ring)을 포함하는, 광학 장치.
  18. 청구항 18은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제14항에 있어서, 상기 제1 스크린 또는 제2 스크린 중 적어도 하나는 상기 제1 마그넷과 상기 제2 마그넷 사이에 놓인 비자성 물질의 시트와 접촉하여 있는, 광학 장치.
  19. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 마그넷 또는 제2 마그넷은 마그넷들의 쌍을 포함하고, 상기 마그넷들의 쌍의 멤버들은 평행한 방향이나 반대 방향으로 자화되는, 광학 장치.
  20. 청구항 20은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제1항 또는 제2항에 따른 광학 장치를 포함하는 리소그래피 장치.
  21. 청구항 21은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    이동가능한 반사 요소의 배향을 변화시키는 방법으로서,
    모터를 사용하여 제2 마그넷을 이동시키는 단계;
    상기 제2 마그넷의 이동을 이용하여 제1 마그넷과 상기 제2 마그넷 사이의 자기 상호작용을 통해 상기 제1 마그넷을 이동시키는 단계;
    상기 제1 마그넷의 이동을 이용하여 상기 제1 마그넷과 이동가능한 반사 요소 사이의 연결을 통해 상기 이동가능한 반사 요소의 배향을 변화시키는 단계;
    플레이트의 개구에 제공되는 제1 단부 스톱을 사용하여 상기 개구와 연관된 제1 마그넷의 이동을 제한하고 상기 제1 마그넷의 제1 위치를 결정하는 단계; 및
    상기 개구에 제공되는 제2 단부 스톱을 사용하여 상기 제1 마그넷의 이동을 제한하며 상기 제1 마그넷의 제2 위치를 결정하는 단계
    를 포함하는, 이동가능한 반사 요소의 배향을 변화시키는 방법.
  22. 청구항 22은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제21항에 있어서, 상기 제1 마그넷은 회전가능하게 장착된 로드에 의해 상기 이동가능한 반사 요소에 연결되는, 이동가능한 반사 요소의 배향을 변화시키는 방법.
  23. 청구항 23은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.
    제21항 또는 제22항에 있어서, 상기 모터 및 제2 마그넷은 상기 이동가능한 반사 요소 및 제1 마그넷에 대하여 씰링되는, 이동가능한 반사 요소의 배향을 변화시키는 방법.
  24. 삭제
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