JP5657000B2 - 照明システム、リソグラフィ装置、及び照明モード調整方法 - Google Patents
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Description
本装置は、
放射ビームB(例えばEUV放射)を調節するよう構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えばマスクまたはレチクル)MAを正確に位置決めする第1ポジショナPMに接続され、パターニングデバイスMAを支持するよう構成されるサポート構造(例えばマスクテーブル)MTと、
基板(例えば、レジストでコーティングされたウエハ)Wを正確に位置決めする第2ポジショナPWに接続され、基板Wを保持するよう構成される基板テーブル(例えばウエハテーブル)WTと、
パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されたパターンを基板Wの(例えば1つまたは複数のダイを含む)ターゲット部分Cに投影する投影システム(例えば反射投影系)PSと、を備える。
1.ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が1回の照射で1つのターゲット部分Cに投影される間、サポート構造(例えばマスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは実質的に静止状態とされる(すなわち1回の静的な露光)。そして、異なるターゲット部分Cが露光されるように基板テーブルWTがX方向及び/またはY方向に移動される。
2.スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、サポート構造(例えばマスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは同期して走査される(すなわち1回の動的な露光)。サポート構造(例えばマスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)特性及び像反転特性により定められてもよい。
3.別のモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、サポート構造(例えばマスクテーブル)MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、基板テーブルWTが移動され、または走査される。
このモードでは一般にパルス放射源が用いられ、プログラマブルパターニングデバイスは必要に応じて、走査中に基板テーブルWTが移動するたびに、または走査中の連続する放射パルスと放射パルスの間に更新される。この動作モードは、上述のタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に適用可能である。
およびディスク磁石131で置き換えられてもよい。回転可能ディスクの平らな表面は、ステンレス鋼シート120と平行であってもよい。
を取り囲む気体環境または真空環境に対する遮蔽壁として作用する。ステンレス鋼は、例示としてあげられている。ステンレス鋼シートは、適切な非磁性遮蔽物質のシートで置き換えられてもよい。
Claims (22)
- 複数の可動反射要素と、関連づけられたアクチュエータとを備え、それらは照明モードを形成するよう構成されうる照明システムであって、
前記アクチュエータのうちの一つ以上のアクチュエータは、第1、第2、第3位置の間を動き、それにより関連づけられた可動反射要素を第1、第2、第3の向きの間で動かすよう構成され、
前記第1および第2の向きは、可動反射要素から反射された放射が照明モードの一部を形成するような向きであり、
前記第3の向きは、可動反射要素から反射された放射が照明モードの一部を形成しないような向きであることを特徴とする照明システム。 - 請求項1に記載の照明システムであって、
前記アクチュエータの第3位置は、第1位置と第2位置との間の該アクチュエータの移動経路上に位置することを特徴とする照明システム。 - 請求項1または2に記載の照明システムであって、
前記アクチュエータは、電力が該アクチュエータに供給されない状態において第1位置、第2位置、第3位置のいずれかにとどまり得るように構成されることを特徴とする照明システム。 - 請求項1から3のいずれかに記載の照明システムであって、前記アクチュエータの第1位置および第2位置はエンドストップによって決定されることを特徴とする照明システム。
- 請求項1から4のいずれかに記載の照明システムであって、前記アクチュエータの第3位置は中間ストップによって決定されることを特徴とする照明システム。
- 請求項1から5のいずれかに記載の照明システムであって、照明モードの一部を形成しない放射を受けるよう構成されるビームダンプをさらに備えることを特徴とする照明システム。
- 請求項1から6のいずれかに記載の照明システムであって、前記アクチュエータの第1位置、第2位置、第3位置は、直線経路上に位置することを特徴とする照明システム。
- 請求項1から6のいずれかに記載の照明システムであって、前記アクチュエータの第1位置、第2位置、第3位置は、非直線経路上に位置することを特徴とする照明システム。
- 請求項1から8のいずれかに記載の照明システムであって、
前記アクチュエータは、
枢動可能に取り付けられるロッドであって、可動反射要素が取り付けられるロッドと、
前記ロッドの一端に設けられる磁石と、
ヨーク内に設けられる第1磁石および第2磁石と、を備え、
前記第1磁石、前記第2磁石および前記ヨークは、ロッド磁石およびロッドの安定的な第1位置と第2位置と第3位置とを定義する磁場をもたらすよう構成されることを特徴とする照明システム。 - 請求項9に記載の照明システムであって、
前記アクチュエータはさらに、第1磁石と関連づけられた第1コイルと、第2磁石と関連づけられた第2コイルとを備え、
前記第1コイルまたは前記第2コイルには、前記ロッド磁石に作用する力を調整するようにエネルギが与えられうることを特徴とする照明システム。 - 請求項9または10に記載の照明システムであって、前記第3位置は前記ヨークのポールに対応することを特徴とする照明システム。
- 請求項1から11のいずれかに記載の照明システムであって、前記アクチュエータは、前記第3位置に向けて弾性的に付勢されていることを特徴とする照明システム。
- 請求項1に記載の照明システムであって、
前記アクチュエータは、第3位置と第4位置との間で変調されるよう構成され、
前記第4位置は、前記可動反射要素から反射された放射が照明モードの一部を形成しないような向きであることを特徴とする照明システム。 - 請求項1から13のいずれかに記載の照明システムを備えるリソグラフィ装置。
- 請求項14に記載のリソグラフィ装置であって、
アクチュエータを複数の位置へと動かす出力信号を提供するよう構成されるコントローラと、
イメージセンサと、
前記コントローラの出力信号と、前記イメージセンサの出力との関係を記録するよう構成されるメモリと、
をさらに備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 複数の可動反射要素で形成される照明モードを調整する方法であって、一つ以上の可動反射要素から反射された放射が照明モードの一部を形成しないように該一つ以上の可動反射要素の向きを変えるステップを備え、
アクチュエータは第1位置または第2位置から第3位置へと動き、したがって前記可動反射要素の一つを第1の向きまたは第2の向きから第3の向きへと動かし、
前記第1の向きおよび第2の向きは、可動反射要素から反射された放射が照明モードの一部を形成するような向きであり、
前記第3の向きは、可動反射要素から反射された放射が照明モードの一部を形成しないような向きであることを特徴とする照明モード調整方法。 - 請求項16に記載の照明モード調整方法であって、
前記アクチュエータの第3位置は、第1位置と第2位置との間の該アクチュエータの移動経路上にあることを特徴とする照明モード調整方法。 - 請求項16または17に記載の照明モード調整方法であって、
前記アクチュエータは、電力が該アクチュエータに供給されない状態において第3位置にとどまることを特徴とする照明モード調整方法。 - 請求項16から18のいずれかに記載の照明モード調整方法であって、
照明モードの一部を形成しない反射された放射はビームダンプにむけて導かれることを特徴とする照明モード調整方法。 - 請求項16から18のいずれかに記載の照明モード調整方法であって、
前記複数の可動反射要素はリソグラフィ装置の一部を構成し、
照明モードの一部を形成しない反射された放射は、該放射を前記リソグラフィ装置のパターニングデバイスにむけて反射しない面へと、導かれることを特徴とする照明モード調整方法。 - 請求項16から20のいずれかに記載の照明モード調整方法であって、
前記アクチュエータは、第3位置から第4位置へと変調し、したがって、前記可動反射要素の一つを第3の向きから第4の向きへと動かし、
前記第4の向きは、前記可動反射要素から反射された放射が照明モードの一部を形成しないような向きであることを特徴とする照明モード調整方法。 - 請求項16に記載のアクチュエータのキャリブレーション方法であって、
アクチュエータを第1位置と第2位置との間の複数の位置に動かすステップと、
イメージセンサを用いて、前記可動反射要素により反射された放射を検出するステップと、
アクチュエータに送られる制御信号と、イメージセンサに入射する放射との関係を決定するステップと、
を備えることを特徴とするキャリブレーション方法。
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