KR101589965B1 - 밀도화 장비 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 밀도화 장비에 관한 것으로, 본 발명은 반응 챔버; 상기 반응 챔버의 내벽에 인접하게 위치하며, 열을 발생시키는 고정형 히터; 상기 반응 챔버에 착탈 가능하게 결합되며, 열을 발생시키는 착탈형 히터; 및 상기 반응 챔버의 내부에 가스를 공급하는 가스공급유닛;을 포함한다. 본 발명에 따르면, 소량의 성형체들을 밀도화시키거나 다량의 성형체들을 밀도화시킬 때 에너지 소모를 최소화하고, 두께가 두꺼운 링 형상의 디스크 성형체를 균일하게 밀도화시킬 뿐만 아니라 이와 같은 성형체들을 밀도화시키는 시간을 감소시킨다.

Description

밀도화 장비{APPARATUS FOR DENSIFYING C/C COMPOSITE MATERIAL}
본 발명은 밀도화 장비에 관한 것이다.
일반적으로, 내열 복합재의 종류로, 탄소섬유 강화 탄화규소 복합재(Cf/SiC) 또는 탄화규소섬유 강화 탄화규소 복합재(SiCf/SiC) 또는 탄소섬유 강화 탄소 복합재((Cf/C)가 있다.
내열 복합재를 제조하는 방법은 탄소섬유(Carbon Fiber, Cf) 또는 탄화규소섬유(Silicon Carbide Fiber, SiCf)를 직조하여 성형체(preform)를 만든 다음, 성형체 내부 섬유들 사이 기공에 기지재(matrix)의 성분인 탄화규소(SiC) 또는 탄소(C)를 채운다(이하 "밀도화"라 함).
성형체를 밀도화하는 방법으로, 화학 증기 침투법(Chemical Vapor Infiltration, CVI), 고분자 침투 열분해법(Polymer Infiltration Pyrolysis, PIP), 용융 금속실리콘 침투법(Liquid Silicon Infiltration, LSI)이 있다.
용융 금속실리콘 침투법으로 내열 복합재를 제조하면, 화학 증기 침투법 또는 고분자 침투 열분해법으로 내열 복합재를 제조할 때보다, 제조시간이 단축되고, 치밀한 내열 복합재를 제조할 수 있다. 그러나, 화학 증기 침투법 또는 고분자 침투 열분해법으로 내열 복합재를 제조할 때보다, 내열 복합재의 성분 중 금속실리콘의 함량이 높아져 내열성 및 내구성이 떨어진다.
화학 증기 침투법은, 대표적인 밀도화 방법으로, 성형체에 메틸트리클로로실란(Methyl Trichloro Silane, MTS) 또는 모노메틸실란(Mono Methyl Silane, MMS)을 투입하여 적당한 조건으로 반응시켜 기지재의 성분인 탄화규소를 생성시킨다. 화학 증기 침투가 이루어지는 장비는 반응 챔버 내부에 다수 개의 성형체들을 적층한 다음 기지재를 형성하는 전구체를 가스 상태로 반응 챔버 내에 공급한다. 반응 챔버 내에 공급된 가스가 성형체에 침투되어 증착되도록 반응 챔버 내의 온도와 압력을 조절한다.
미국등록특허 US 5,904,957(1999. 05. 18. 등록일)(이하, 선행기술이라 함)에는 화학 증기 침투법으로 성형체를 밀도화시키는 장비가 개시되어 있다.
선행기술은 반응 챔버를 형성하는 원통 형태의 코어 히터(9)의 내부에 다수 개의 프리폼(성형체에 해당됨)들이 다수 개 적층된 상태에서 코어 히터로 반응 챔버의 내부 온도 상승시킨 후 반응 챔버 내부에 반응 가스를 주입시켜 프리폼들을 밀도화시키게 된다.
그러나 선행기술은 다량의 성형체들을 한번에 밀도화시키는 장비에는 적합하나, 소량의 성형체들을 밀도화시키는 경우에도 코어 히터를 가열시켜 반응 챔버의 내부온도를 700 ~ 1300도로 유지시켜야 하므로 전력 손실이 많고, 소량의 성형체를 밀도화시키는 시간이 많이 소요되는 단점이 있다. 특히, 성형체가 두께가 두꺼운 링 형상의 디스크이고, 소량일 경우 그 소량의 성형체들을 밀도화시키는 시간이 매우 많이 소요될 뿐만 아니라 성형체의 표면에서 일정 깊이까지만 기지재가 형성되고 그 성형체의 내부 중심까지 가스가 침투하지 못하여 성형체의 내부에 기지재가 채워지지 못하게 된다. 성형체에 기지재가 균일하게 형성되지 못하게 될 경우 그 결과로 만들어진 내열재의 내열 성질과 기계적 성질이 떨어지게 된다.
한편, 소형 밀도화 장비를 설치할 경우 밀도화 장비가 고가여서 비용 발생이 크게 된다.
본 발명의 목적은 소량의 성형체들을 밀도화시키거나 대량의 성형체들을 밀도화시킬 때 에너지 소모를 최소화하는 밀도화 장비를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 두께가 두꺼운 링 형상의 디스크 성형체를 균일하게 밀도화시킬 뿐만 아니라 이와 같은 성형체들을 밀도화시키는 시간을 감소시키는 밀도화 장비를 제공하는 것이다.
상기한 바와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 반응 챔버; 상기 반응 챔버의 내벽에 인접하게 위치하며, 열을 발생시키는 고정형 히터; 상기 반응 챔버에 착탈 가능하게 결합되며, 열을 발생시키는 착탈형 히터; 및 상기 반응 챔버의 내부에 가스를 공급하는 가스공급유닛;을 포함하는 밀도화 장비가 제공된다.
상기 반응 챔버는 내부 공간을 가지며 상하 단부가 막힌 원통 형상으로 형성되되, 반경 방향으로 세 개의 부분으로 구성되며, 세 개의 부분은, 가운데 부분인 중심 몸통부와, 상기 중심 몸통부의 한쪽에 힌지 결합되어 중심 몸통부의 한쪽을 개폐하는 좌측 개폐부와, 상기 중심 몸통부의 다른 한쪽에 힌지 결합되어 중심 몸통부의 다른 한쪽을 개폐하는 우측 개폐부를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 중심 몸통부의 양쪽 개구 테두리 외측으로 균일한 폭과 두께를 갖는 접촉판부가 구비되고, 상기 좌측 개폐부의 테두리 외측으로 상기 중심 몸통부의 접촉판부와 대면되는 접촉판부가 구비되고, 상기 우측 개폐부의 테두리 외측으로 상기 중심 몸통부의 접촉판부와 대면되는 접촉판부가 구비되는 것이 바람직하다.
상기 고정형 히터는 반응 챔버의 내부에 구비되는 원통형 발열부와, 상기 원통형 발열부의 상단에 구비되며 가운데가 관통된 원판 형상의 상부 환형 발열부와, 상기 원통형 발열부의 하단에 구비되며 가운데가 관통된 원판 형상의 하부 환형 발열부를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 착탈형 히터는 상기 반응 챔버의 길이 방향 상하로 착탈되는 것이 바람직하다.
상기 착탈형 히터는 환봉 형상으로 형성되는 발열 본체부와, 상기 발열 본체부의 하단부에 구비되어 상기 반응 챔버의 하면에 착탈되는 하부 착탈부와, 상기 발열 본체부의 상단부에 구비되어 상기 반응 챔버의 상면에 착탈되는 상부 착탈부를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 발열 본체부의 하부에 구비되어 링 형상의 성형체를 지지하는 하부 지지부와, 상기 발열 본체부의 상부에 구비되어 발열 본체부에 관통 적재되는 성형체를 지지하는 상부 지지부를 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명은 밀도화시킬 성형체의 개수가 많을 경우 착탈형 히터를 분리한 상태에서 반응 챔버 내부에 많은 수의 성형체를 적재한 후 고정형 히터를 작동시켜 밀도화시키고, 밀도화시킬 성형체의 개수가 적을 경우 착탈형 히터에 성형체를 적재하여 반응 챔버에 장착한 후 착탈형 히터를 작동시켜 성형체를 밀도화시키게 된다. 이로 인하여, 많은 양의 성형체와 적은 양의 성형체를 한 개의 장비에서 밀도화시킬 수 있으며, 적은 개수의 성형체를 밀도화시킬 때 착탈형 히터만을 작동시켜 성형체를 밀도화시키게 되므로 적은 전력 에너지의 사용으로 성형체를 밀도화시키게 되어 에너지 소모를 최소화하게 된다.
또한, 본 발명은 착탈형 히터에 성형체들을 적재하여 착탈형 히터를 작동시킴에 의해 성형체들을 밀도화시킬 때 착탈형 히터에서 발생되는 열이 바로 성형체에 전달되어 성형체의 내측부터 외측으로 가열되면서 가스가 성형체의 내측에서부터 외측으로 내부에 증착되므로 밀도화가 균일하게 이루어지게 될 뿐만 아니라 성형체를 밀도화시키는 시간이 감소된다.
도 1은 본 발명에 따른 밀도화 장비의 일실시예를 도시한 정면도,
도 2는 본 발명에 따른 밀도화 장비의 일실시예를 도시한 평면도,
도 3은 본 발명에 따른 밀도화 장비의 일실시예를 구성하는 밀폐 도어를 도시한 정단면도,
도 4는 본 발명에 따른 밀도화 장비에서 착탈형 히터를 분리한 상태에서 성형체들이 반응 챔버에 적재된 상태를 도시한 정단면도,
도 5는 본 발명에 따른 밀도화 장비를 구성하는 착탈형 히터에 성형체를 적재한 상태를 도시한 정면도,
도 6은 본 발명에 따른 밀도화 장비를 구성하는 착탈형 히터에 성형체를 적재한 상태에서 반응 챔버에 장착한 상태를 도시한 정단면도.
이하, 본 발명에 따른 밀도화 장비의 실시예를 첨부도면을 참조하여 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 밀도화 장비의 일실시예를 도시한 정면도이다. 도 2는 본 발명에 따른 밀도화 장비의 일실시예를 도시한 평면도이다.
도 1, 2에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 밀도화 장비의 일실시예는 반응 챔버(100), 고정형 히터(200), 착탈형 히터(300), 가스공급유닛(400)을 포함한다.
반응 챔버(100)는 내부 공간을 갖는 상하 단부가 막힌 원통 형상으로 형성됨이 바람직하다. 반응 챔버(100)의 일예로, 반응 챔버(100)는 반경 방향으로 세 개의 부분으로 분리된다. 즉, 가운데 부분인 중심 몸통부(110)와, 중심 몸통부(110)의 양측에 위치하는 좌,후측 개폐부(120)(130)로 이루어진다. 중심 몸통부(110)의 양쪽은 개구된다. 좌측 개폐부(120)는 중심 몸통부(110)의 한쪽에 힌지 결합되어 중심 몸통부(110)의 한쪽 개구를 개폐한다. 우측 개폐부(130)는 중심 몸통부(110)의 다른 한쪽에 힌지 결합되어 중심 몸통부(110)의 다른 한쪽 개구를 개폐한다. 중심 몸통부(110)와 좌측 개폐부(120)의 상부와 하부에 각각 힌지 결합부(C1)(C2)가 구비되고, 중심 몸통부(110)와 우측 개폐부(130)의 상부와 하부에 각각 힌지 결합부(C3)(C4)가 구비된다. 중심 몸통부(110)의 양쪽 개구 테두리 외측으로 균일한 폭과 두께를 갖는 접촉판부(111)(112)가 구비됨이 바람직하다. 그리고 좌측 개폐부(120)의 테두리 외측으로 중심 몸통부(110)의 접촉판부(111)와 대면되는 접촉판부(121)가 구비되고, 우측 개폐부(130)의 테두리 외측으로 중심 몸통부(110)의 접촉판부(112)와 대면되는 접촉판부(131)가 구비되는 것이 바람직하다. 중심 몸통부(110)의 접촉판부(111)와 좌측 개폐부(120)의 접촉판부(121)에 잠금유닛(R1)들이 구비되며, 잠금유닛(R1)들에 의해 중심 몸통부(110)의 접촉판부(111)와 좌측 개폐부(120)의 접촉판부(121)가 서로 접촉된 상태에서 밀착 고정되거나 그 밀착 고정이 해제된다. 또한, 중심 몸통부(110)의 접촉판부(112)와 우측 개폐부(130)의 접촉판부(131)에 잠금유닛(R2)들이 구비되며, 잠금유닛(R2)들에 의해 중심 몸통부(110)의 접촉판부(112)와 우측 개폐부(130)의 접촉판부(131)가 서로 접촉된 상태에서 밀착 고정되거나 그 밀착 고정이 해제된다. 중심 몸통부(110)의 접촉판부들(111)(112)과 좌,우측 개폐부(130)의 접촉판부(121)(131)가 면접촉됨에 의해 실링 효과가 크게 된다.
반응 챔버(100)의 하부에 지지프레임(140)이 구비됨이 바람직하다. 즉, 지지프레임(140)에 반응 챔버(100)의 하부가 지지된다.
고정형 히터(200)는 반응 챔버(100)의 내벽에 인접하게 위치하며, 인가되는 전원에 의해 열을 발생시킨다. 고정형 히터(200)의 일예로, 고정형 히터(200)는 고정형 히터(200)는 반응 챔버(100)의 내부에 구비되는 원통형 발열부(210)와, 원통형 발열부(210)의 상단에 구비되며 가운데가 관통된 원판 형상의 상부 환형 발열부(220)와, 원통형 발열부(210)의 하단에 구비되며 가운데가 관통된 원판 형상의 하부 환형 발열부(230)를 포함한다. 반응 챔버(100)가 세 개의 부분으로 구성된 경우 고정형 히터(200)도 반응 챔버(100)와 상응하게 세 개의 부분으로 분리된다.
착탈형 히터(300)는 반응 챔버(100)에 착탈 가능하게 결합되며, 인가되는 전원에 의해 열을 발생시킨다. 착탈형 히터(300)는 반응 챔버(100)의 길이 방향 상하로 착탈되는 것이 바람직하다. 착탈형 히터(300)의 일예로, 착탈형 히터(300)는 환봉 형상으로 형성되는 발열 본체부(310)와, 발열 본체부(310)의 하부에 구비되는 하부 단자부(320)와, 발열 본체부(310)의 상부에 구비되는 상부 단자부(330)를 포함한다. 그리고 발열 본체부(310)의 하단부와 상단부에 각각 반응 챔버(100)의 하면과 상면에 착탈되는 하부 착탈부(340)와 상부 착탈부(350)가 구비된다. 발열 본체부(310)는 균일한 외경을 갖는 것이 바람직하다. 상기 발열 본체부(310)는 흑연 재질인 것이 바람직하다.
하부 착탈부(340)의 일예로, 하부 착탈부(340)는 발열 본체부(310)의 외경보다 크고 소정의 두께를 갖는 원판 형태로 형성되며, 하부 착탈부(340)가 구비되는 반응 챔버(100)의 하면은 발열 본체부(310)의 외경보다 크고 하부 착탈부(340)의 외경보다 작은 착탈구멍(H1)이 구비된다. 상부 착탈부(350)의 일예로, 상부 착탈부(350)는 발열 본체부(310)의 외경보다 크고 소정의 두께를 갖는 원판 형태로 형성되며, 상부 착탈부(350)가 구비되는 반응 챔버(100)의 상면은 발열 본체부(310)의 외경보다 크고 상부 착탈부(350)의 외경보다 작은 착탈구멍(H2)이 구비된다.
반응 챔버(100)의 상면과 하면에 각각, 도 3에 도시한 바와 같이, 착탈형 히터(300)를 분리시 착탈형 히터(300)가 착탈되는 부분, 즉 착탈구멍(H1)(H2)을 복개하는 밀폐 도어(D)가 각각 구비된다.
착탈형 히터(300)는 수평 방향으로 착탈 가능하도록 구성할 수도 있다. 그에 대한 하부 착탈부(340)와 상부 착탈부(350)는 다양한 형태로 구현될 수 있다.
발열 본체부(310)의 하부에 성형체들을 지지하는 하부 지지부(360)가 구비되고, 발열 본체부(310)의 상부에 발열 본체부(310)에 적재되는 성형체들을 지지하는 상부 지지부(370)가 구비된다. 하부 지지부(360)와 상부 지지부(370)는 각각 균일한 폭과 높이를 갖는 링 형상으로 형성되는 것이 바람직하다. 발열 본체부(310)에 적재되는 성형체는 내부에 관통구멍이 구비된 링 형상으로 형성되며, 성형체의 관통구멍에 발열 본체부(310)가 관통 삽입되도록 성형체가 발열 본체부(310)에 적재된다.
고정형 히터(200)와 착탈형 히터(300)에 선택적으로 또는 동시에 전원을 공급하는 전원공급유닛(미도시)이 구비된다.
가스공급유닛(400)은 반응 챔버(100)의 내부에 가스를 공급한다. 가스공급유닛(400)은 반응 챔버(100)의 내부와 연통되도록 반응 챔버(100)에 연결되는 가스유입관(410)과, 가스 유입관(410)에 연결되는 배관시스템(미도시)과, 배관시스템에 연결되는 복수 개의 가스 저장통(미도시)들과, 배관시스템에 연결되는 가스 혼합통(미도시)과, 배관시스템에 구비되는 유량조절유닛(미도시)들을 포함한다. 가스 유입관(410)은 복수 개이며, 복수 개의 가스유입관(410)은 반응 챔버(100)의 상부에 일정 간격을 두고 구비됨이 바람직하다. 배관시스템에 가스를 예열시키는 가스예열유닛(미도시)이 구비될 수 있다.
반응 챔버(100)의 하면에 가스가 배출되는 가스배출관(510)이 연결된다.
이하, 본 발명에 따른 밀도화 장비의 작용과 효과를 설명하면 다음과 같다.
먼저, 브레이크 디스크와 같이 두께가 얇은 원판 형상의 성형체를 밀도화시키되 다량의 성형체들을 한 번에 밀도화시키는 경우, 도 4에 도시한 바와 같이, 반응 챔버(100)로부터 착탈형 히터(300)를 분리한 상태에서 반응 챔버(100)의 내부에 성형체(10)들을 수직 방향으로 적재한다. 성형체(10)들을 적재할 때 성형체(10)와 성형체(10) 사이로 가스의 흐름이 원활하도록 성형체(10)와 성형체(10) 사이에 스페이서(11)를 위치시킨다. 또한, 성형체(10)들을 적재할 때 복수 개의 적재 기둥들을 이루도록 적재한다. 성형체(10)들을 적재할 때 반응 챔버(100)의 좌측 개폐부(120)나 우측 개폐부(130)를 열어 반응 챔버(100)를 오픈시킨 상태에서 반응 챔버(100)의 내부에 성형체들을 적재시킨다.
반응 챔버(100) 내부에 다량의 성형체(10)들이 적재된 후 좌측 개폐부(120)(또는 우측 개폐부)를 닫아 반응 챔버(100)의 내부를 밀폐시킨 상태에서 고정형 히터(200)에 전원을 공급하게 된다. 고정형 히터(200)에 전원이 공급됨에 따라 고정형 히터(200)에서 열을 발생시켜 반응 챔버(100)의 내부를 설정 온도까지 가열시킨다. 그리고 가스공급유닛(40)을 통해 반응 챔버(100)의 내부에 가스를 주입하게 된다. 일반적으로, 밀도화는 성형체를 불활성 분위기하에서 약 1000℃로 열처리하여, 탄소 이외의 원소(질소, 수소, 산소)를 열분해시켜 탄소의 함량을 높인 뒤, 상압, 900-1000℃ 온도에서 반응기체를 투입하여 성형체를 밀도화시킨다.
한편, 소량의 성형체들을 한 번에 밀도화시키는 경우 반응 챔버(100)에서 착탈형 히터(300)를 분리시킨 상태에서, 도 5에 도시한 바와 같이, 착탈형 히터(300)의 상부 단자부(330)와 상부 착탈부(350)와 상부 지지부(370)를 분리시키고 발열 본체부(310)에 성형체(10)들 삽입시켜 발열 본체부(310)에 성형체(10)들을 적재시킨다. 그리고 상부 지지부(370)를 발열 본체부(310)에 결합하여 적재된 성형체(10)들을 위쪽에서 지지하고 상부 단자부(330)와 상부 착탈부(350)를 발열 본체부(310)의 상단에 결합시킨다. 성형체(10)들이 적재된 착탈형 히터(300)를, 도 6에 도시한 바와 같이, 반응 챔버(100)에 결합시킨다. 이때, 착탈형 히터(300)의 발열 본체부(310)에 적재된 성형체(10)들은 반응 챔버(100)의 내부에 위치하고 하부 착탈부(340)는 반응 챔버(100)의 하면에 결합되고, 상부 착탈부(350)는 반응 챔버(100)의 상면에 결합된다. 반응 챔버(100)의 내부를 밀폐시킨 상태에서 착탈형 히터(300)에 전원을 공급하게 된다. 착탈형 히터(300)에 전원이 공급됨에 따라 발열 본체부(310)에서 열을 발생시키게 되며, 발열 본체부(310)가 설정된 온도에 이르게 되면 가스공급유닛(400)을 통해 반응 챔버(100)의 내부에 가스를 주입하게 된다. 발열 본체부(310)에서 열이 발생되어 발열 본체부(310)의 표면 온도가 증착 온도 이상이 되며 그 열이 성형체(10)에 전달되어 성형체(10)의 내측부터 외측으로 가열되며 반응 챔버(100)에 주입된 가스가 성형체(10)의 내측에서부터 분해되어 성형체(10)의 내측에서부터 외측으로 내부에 증착된다.
소량의 성형체가 두께가 두꺼울 경우, 착탈형 히터(300)의 발열 본체부(310)에서 발생되는 열이 바로 성형체에 전달되어 성형체의 내측부터 외측으로 가열되며 반응 챔버(100)에 주입된 가스가 성형체의 내측에서부터 분해되어 성형체의 내측에서부터 외측으로 내부에 증착되므로 밀도화가 균일하게 이루어지게 된다.
성형체(10)들에서 반응하고 남은 잔류 가스는 가스 배출관(510)을 통해 반응 챔버(100) 외부로 배출된다.
위에서 설명한 바와 같이, 본 발명은 밀도화시킬 성형체의 개수가 많을 경우 착탈형 히터(300)를 분리한 상태에서 반응 챔버(100) 내부에 많은 수의 성형체를 적재한 후 고정형 히터(200)를 작동시켜 밀도화시키고, 밀도화시킬 성형체의 개수가 적을 경우 착탈형 히터(300)에 성형체를 적재하여 반응 챔버에 장착한 후 착탈형 히터(300)를 작동시켜 성형체를 밀도화시키게 된다. 이로 인하여, 많은 양의 성형체와 적은 양의 성형체를 한 개의 장비에서 밀도화시킬 수 있으며, 적은 개수의 성형체를 밀도화시킬 때 착탈형 히터(300)만을 작동시켜 성형체를 밀도화시키게 되므로 적은 전력 에너지의 사용으로 성형체를 밀도화시키게 되어 에너지 소모를 최소화하게 된다.
또한, 본 발명은 착탈형 히터(300)에 성형체들을 적재하여 착탈형 히터(300)를 작동시킴에 의해 성형체들을 밀도화시킬 때 착탈형 히터(300)에서 발생되는 열이 바로 성형체에 전달되어 성형체의 내측부터 외측으로 가열되면서 가스가 성형체의 내측에서부터 외측으로 내부에 증착되므로 밀도화가 균일하게 이루어지게 될 뿐만 아니라 성형체를 밀도화시키는 시간이 감소된다.
100; 반응 챔버 200; 고정형 히터
300; 착탈형 히터 400; 가스공급유닛

Claims (9)

  1. 반응 챔버;
    상기 반응 챔버의 내벽에 인접하게 위치하며, 열을 발생시키는 고정형 히터;
    상기 반응 챔버에 착탈 가능하게 결합되며, 열을 발생시키는 착탈형 히터; 및
    상기 반응 챔버의 내부에 가스를 공급하는 가스공급유닛;을 포함하며,
    상기 고정형 히터는 반응 챔버의 내부에 구비되는 원통형 발열부와, 상기 원통형 발열부의 상단에 구비되며 가운데가 관통된 원판 형상의 상부 환형 발열부와, 상기 원통형 발열부의 하단에 구비되며 가운데가 관통된 원판 형상의 하부 환형 발열부를 포함하며,
    상기 착탈형 히터는 환봉 형상으로 형성되며 열을 발생시키는 발열 본체부와, 상기 발열 본체부의 하부에 구비되어 상기 발열 본체부가 내부를 관통하도록 적층되는 성형체들을 지지하는 하부 지지부와, 상기 발열 본체부의 상부에 구비되는 상부 지지부와, 상기 발열 본체부의 하단부에 구비되어 상기 반응 챔버의 하면에 착탈되는 하부 착탈부와, 상기 발열 본체부의 상단부에 구비되어 상기 반응 챔버의 상면에 착탈되는 상부 착탈부를 포함하는 밀도화 장비.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 반응 챔버는 내부 공간을 가지며 상하 단부가 막힌 원통 형상으로 형성되되, 반경 방향으로 세 개의 부분으로 구성되며, 세 개의 부분은, 가운데 부분인 중심 몸통부와, 상기 중심 몸통부의 한쪽에 힌지 결합되어 중심 몸통부의 한쪽을 개폐하는 좌측 개폐부와, 상기 중심 몸통부의 다른 한쪽에 힌지 결합되어 중심 몸통부의 다른 한쪽을 개폐하는 우측 개폐부를 포함하는 것을 특징으로 하는 밀도화 장비.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 중심 몸통부의 양쪽 개구 테두리 외측으로 균일한 폭과 두께를 갖는 접촉판부가 구비되고, 상기 좌측 개폐부의 테두리 외측으로 상기 중심 몸통부의 접촉판부와 대면되는 접촉판부가 구비되고, 상기 우측 개폐부의 테두리 외측으로 상기 중심 몸통부의 접촉판부와 대면되는 접촉판부가 구비되는 것을 특징으로 하는 밀도화 장비.
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 착탈형 히터는 상기 반응 챔버의 길이 방향 상하로 착탈되는 것을 특징으로 하는 밀도화 장비.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 하부 지지부와 상부 지지부는 각각 균일한 폭과 높이를 갖는 링 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 밀도화 장비.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 반응 챔버의 상면과 하면에 각각 상기 착탈형 히터를 분리시 착탈형 히터가 착탈되는 부분을 복개하는 밀폐 도어가 구비되는 것을 특징으로 하는 밀도화 장비.
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