KR101505787B1 - 중간 기재 필름 및 터치 패널 센서 - Google Patents

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고지로 오카와
다카시 구로다
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다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 과제는, 여러 각도에서 시인한 경우에 있어서의 색미의 편차를 억제할 수 있는 중간 기재 필름 및 터치 패널 센서를 제공하는 것이다.
그의 해결 수단으로서, 패터닝된 도전층을 지지하기 위한 중간 기재 필름(10)이며, 투명 기재(11)와, 투명 기재(11)의 한쪽 면(11A) 상에 형성되고 굴절률이 1.47 이상 1.57 이하이며 또한 막 두께가 1㎛ 이상인 제1 투명층(12)과, 제1 투명층(12) 상에 형성되고 굴절률이 1.62 이상 1.72 이하이며 또한 막 두께가 20㎚ 이상 80㎚ 이하인 제1 고굴절률층(13)과, 제1 고굴절률층(13) 상에 형성되고 굴절률이 1.44 이상 1.54 이하이며 또한 막 두께가 3㎚ 이상 45㎚ 이하인 제1 저굴절률층(14)을 구비하고, 중간 기재 필름(10)의 표면의 법선 방향을 0°로 하고, 0° 이상 75° 이하의 범위 내에서 입사 각도를 5도마다 바꾸면서 상기 제1 저굴절률층(14) 측으로부터 중간 기재 필름(10)에 광을 조사하고, 각각의 정반사 방향으로의 반사광으로부터 L*a*b* 표색계의 a*값 및 b*값을 구했을 때, a*값의 편차가 1.0 이내이며 또한 b*값의 편차가 1.6 이내인 중간 기재 필름(10)이 제공된다.

Description

중간 기재 필름 및 터치 패널 센서 {INTERMEDIATE SUBSTRATE FILM AND TOUCH PANEL SENSOR}
본 발명은 중간 기재 필름 및 터치 패널 센서에 관한 것이다.
현재, 입력 수단으로서, 터치 패널 장치가 널리 사용되고 있다. 터치 패널 장치는, 터치 패널 센서, 터치 패널 센서 상에의 접촉 위치를 검출하는 제어 회로, 배선 및 FPC(플렉시블 프린트 기재)를 구비하고 있다. 터치 패널 장치는, 대부분의 경우, 액정 디스플레이나 플라즈마 디스플레이 등의 표시 장치가 내장된 다양한 장치 등(예를 들어, 매표기, ATM 장치, 휴대 전화, 게임기)에 대한 입력 수단으로서 표시 장치와 함께 사용되고 있다. 이러한 장치에 있어서는, 터치 패널 센서가 표시 장치의 표시 면 상에 배치되어 있고, 이것에 의해, 표시 장치에 대한 매우 직접적인 입력이 가능하게 되어 있다.
터치 패널 장치는, 터치 패널 센서 상에의 접촉 위치(접근 위치)를 검출하는 원리에 기초하여, 다양한 형식으로 구별된다. 요즘에는, 광학적으로 밝은 것, 의장성이 있는 것, 구조가 용이한 것, 기능적으로도 우수한 것 등의 이유에서, 정전 용량 방식의 터치 패널 장치가 주목받고 있다. 정전 용량 방식에는 표면형과 투영형이 있지만, 멀티 터치의 인식(다점 인식)에의 대응에 적합하기 때문에, 투영형이 주목을 받고 있다.
투영형 정전 용량 방식의 터치 패널에 사용되는 터치 패널 센서로는, 중간 기재 필름과, 중간 기재 필름 상에 형성된 투명 도전층을 구비하고 있는 것이 있다(예를 들어, 일본 특허 공개 제2011-98563호 공보 참조)
일본 특허 공개 제2011-98563호 공보
현재, 터치 패널 장치의 대면적화가 진행되고 있지만, 터치 패널 장치의 대면적화가 진행됨에 따라서 화면 사이즈가 커지므로, 터치 패널 장치를 시인하는 장소에 따라 시인 각도가 크게 상이한 경향이 있다. 터치 패널 장치에 사용되는 터치 패널 센서의 중간 기재 필름은, 정면에서 시인하는 것을 전제로 하여 설계되어 있지만, 이러한 정면에서 시인하는 것을 전제로 한 설계 사상에서는, 시인하는 각도에 따라 색미가 변동되어 버리므로, 터치 패널 장치의 대면적화에 대응하지 못할 우려가 있다.
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위하여 이루어진 것이다. 즉, 여러 각도에서 시인한 경우에 있어서의 색미의 편차를 억제할 수 있는 중간 기재 필름 및 터치 패널 센서를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 형태에 따르면, 패터닝된 도전층을 지지하기 위한 중간 기재 필름이며, 투명 기재와, 상기 투명 기재의 한쪽 면 상에 적층되고 굴절률이 1.47 이상 1.57 이하이며 또한 막 두께가 1㎛ 이상인 제1 투명층과, 상기 제1 투명층 상에 적층되고 굴절률이 1.62 이상 1.72 이하이며 또한 막 두께가 20㎚ 이상 80㎚ 이하인 제1 고굴절률층과, 상기 제1 고굴절률층 상에 적층되고 굴절률이 1.44 이상 1.54 이하이며 또한 막 두께가 3㎚ 이상 45㎚ 이하인 제1 저굴절률층을 구비하고, 상기 중간 기재 필름의 표면의 법선 방향을 0°로 하고, 0° 이상 75° 이하의 범위 내에서 입사 각도를 5도마다 바꾸면서 상기 제1 저굴절률층 측으로부터 상기 중간 기재 필름에 광을 조사하고, 각각의 정반사 방향으로의 반사광으로부터 L*a*b* 표색계의 a*값 및 b*값을 구했을 때, a*값의 편차가 1.0 이내이며 또한 b*값의 편차가 1.6 이내인 중간 기재 필름이 제공된다.
상기 중간 기재 필름은, 상기 투명 기재에 있어서의 상기 한쪽 면과는 반대측의 면 상에 적층되고 굴절률이 1.47 이상 1.57 이하이며 또한 막 두께가 1㎛ 이상인 제2 투명층과, 상기 제2 투명층 상에 적층되고 굴절률이 1·62 이상 1.72 이하이며 또한 막 두께가 20㎚ 이상 80㎚ 이하인 제2 고굴절률층과, 상기 제2 고굴절률층 상에 적층되고 굴절률이 1.44 이상 1.54 이하이며 또한 막 두께가 3㎚ 이상 45㎚ 이하인 제2 저굴절률층을 더 구비하고 있어도 된다.
본 발명의 다른 형태에 따르면, 상기 중간 기재 필름과, 상기 중간 기재 필름의 상기 제1 저굴절률층 상에 적층되고 또한 패터닝된 제1 도전층을 구비하는 터치 패널 센서가 제공된다.
본 발명의 다른 형태에 따르면, 상기 중간 기재 필름과, 상기 중간 기재 필름의 상기 제1 저굴절률층 상에 적층되고 또한 패터닝된 제1 도전층과, 상기 중간 기재 필름의 상기 제2 저굴절률층 상에 적층되고 또한 패터닝된 제2 도전층을 구비하는 터치 패널 센서가 제공된다.
본 발명의 일 형태인 중간 기재 필름 및 터치 패널 센서에 의하면, 여러 각도에서 시인한 경우에 있어서의 색미의 편차를 억제할 수 있다.
도 1은 제1 실시 형태에 따른 중간 기재 필름의 개략적인 구성도.
도 2는 분광 광도계를 사용하여, 중간 기재 필름에 있어서의 a* 및 b*을 측정하는 모습을 도시한 모식도.
도 3은 제1 실시 형태에 따른 터치 패널 센서의 개략적인 구성도.
도 4는 도 3에 도시되는 제1 도전층의 일부 평면도.
도 5는 도 3에 도시되는 제2 도전층의 일부 평면도.
도 6은 제1 실시 형태에 따른 다른 터치 패널 센서의 개략적인 구성도.
도 7은 제2 실시 형태에 따른 중간 기재 필름의 개략적인 구성도.
도 8은 제2 실시 형태에 따른 터치 패널 센서의 개략적인 구성도.
(제1 실시 형태)
이하, 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 중간 기재 필름 및 터치 패널 센서에 대해서, 도면을 참조하면서 설명한다. 도 1은 본 실시 형태에 따른 중간 기재 필름의 개략적인 구성도이며, 도 2는 중간 기재 필름에 있어서의 분광 반사율을 분광 반사율 측정기로 측정하는 모습을 도시한 모식도이다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「필름」, 「시트」, 「판」 등의 용어는, 호칭의 차이에만 기초하고 서로 구별되는 것이 아니다. 따라서, 예를 들어 「필름」은 시트나 판이라고도 불릴 수 있는 부재도 포함하는 개념이다. 일 구체예로서, 「중간 기재 필름」에는, 「중간 기재 시트」 등이라고 불리는 부재도 포함된다.
《중간 기재 필름》
중간 기재 필름은, 패터닝된 도전층을 지지하기 위한 것이다. 「중간 기재 필름」이란, 예를 들어 터치 패널 등의 장치에 내장하여 사용되는 경우에, 터치 패널 등의 장치의 최표면에 사용되는 것이 아니고, 터치 패널 등의 장치의 내부에 사용되는 기재 필름을 의미한다.
도 1에 도시되는 중간 기재 필름(10)은, 투명 기재(11)와, 투명 기재(11)의 한쪽 면(11A) 상에 형성된 제1 투명층(12)과, 제1 투명층(12) 상에 형성된 제1 고굴절률층(13)과, 고굴절률층(13) 상에 형성된 제1 저굴절률층(14)과, 투명 기재(11)에 있어서의 한쪽 면(11A)과는 반대측의 면(11B) 상에 형성된 제2 투명층(15)을 구비하고 있다.
중간 기재 필름(10)은, 제2 투명층(15)을 구비하고 있지만, 제2 투명층(15)을 구비하고 있지 않아도 된다. 또한, 중간 기재 필름은, 제2 투명층 상에 제2 고굴절률층이나 제2 저굴절률층을 구비하고 있어도 된다. 구체적으로는, 중간 기재 필름으로서는, 도 1에 도시되는 중간 기재 필름(10) 외에, 투명 기재의 한쪽 면 상에 제1 투명층, 제1 고굴절률층 및 제1 저굴절률층이 이 순서로 형성되고, 또한 투명 기재의 다른 쪽 면 상에 제2 투명층이 형성되어 있지 않은 중간 기재 필름, 투명 기재의 한쪽 면 상에 제1 투명층, 제1 고굴절률층 및 제1 저굴절률층이 이 순서로 형성되고, 또한 투명 기재의 다른 쪽 면 상에 제2 투명층 및 제2 고굴절률층이 이 순서로 형성된 중간 기재 필름 및 투명 기재의 한쪽 면 상에 제1 투명층, 제1 고굴절률층 및 제1 저굴절률층이 이 순서로 형성되고, 또한 투명 기재의 다른 쪽 면 상에 제2 투명층, 제2 고굴절률층 및 제2 저굴절률층이 이 순서로 형성된 중간 기재 필름 중 어느 것이어도 된다.
중간 기재 필름(10)에 있어서는, 중간 기재 필름(10)의 표면의 법선 방향을 0°로 하고, 0° 이상 75° 이하의 범위 내에서 입사 각도를 5도마다 바꾸면서 제1 저굴절률층(14) 측으로부터 중간 기재 필름(10)에 가시광을 조사하고, 각각의 정반사 방향으로의 반사광으로부터 L*ａ*b* 표색계의 a*값 및 b*값을 구했을 때, a*값의 편차가 1.0 이내로 되고 또한 b*값의 편차가 1.6 이내로 되어 있다. 「L*a*b* 표색계」, 「a*」 및 「b*」은, JIS Z8729에 준거하는 것이다.
a*값 및 b*값은, JIS Z8722에 준거하여 측정되는 것이며, 구체적으로는, 예를 들어 공지된 분광 광도계를 사용하여 구할 수 있다. 도 3에 도시되는 분광 광도계(100)는, 0° 이상 75° 이하의 범위 내에서 이동 가능한 광원(101)과, 정반사 방향의 반사광을 수광 가능하도록 광원의 이동과 동기하여 이동하는 검출기(102)를 구비하고 있다. 광원(101)의 이동 각도는 중간 기재 필름(10)의 법선 방향(N)을 0°로 하고 있다. 광원(101)으로부터 중간 기재 필름(10)에 광을 조사하고, 정반사 방향의 반사광을 검출기(102)로 수광하고, 이 검출기(102)에 의해 수광된 반사광으로부터 a*값 및 b*값을 구할 수 있다. 또한, 분광 광도계에 의해, 입사 각도 0°일 때의 a*값 및 b*값을 구하기 어려운 경우에는, 시뮬레이션에 의해 입사 각도 0°일 때의 a*값 및 b*값을 구해도 된다. 분광 광도계로서는, 닛본 분꼬우 가부시끼가이샤 제조의 절대 반사율 측정 장치 VAR-7010이나 자외 가시 근적외 분광 광도계 V-7100 등을 들 수 있다. 광원으로서는, 텅스텐 할로겐(WI) 램프 단체 또는 중수소(D2) 램프와 텅스텐 할로겐(WI) 램프의 병용을 들 수 있다. 또한, 이 측정에 있어서는, 입사각이 커짐에 따라, s 편광과 p편광의 반사율차가 커지기 때문에, 정확한 측정을 행하기 위하여 투과축이 45° 기운 편광자를 사용하는 것이 바람직하다.
a*값 및 b*값의 편차는, 상기 분광 광도계에 의해, 각 입사 각도에 있어서의 a*값 및 b*값을 구하고, 그 최댓값과 최솟값의 차분 절댓값을 산출함으로써 구할 수 있다. a*값의 편차는 0.4 이내로 되어 있는 것이 바람직하고, 또한 b*값의 편차는 1.55 이내로 되어 있는 것이 바람직하다.
상기 a*값 및 b*값을 구한 임의의 각도의 반사광과, 상기 a*값 및 b*값을 구한 다른 각도의 반사광의 색차 △E*ab는, 5 이하인 것이 바람직하다. 「△E*ab」는, JIS Z8730에 준거하는 것이다.
<투명 기재>
투명 기재(11)로서는, 광투과성을 갖고 있으면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 폴리올레핀 기재, 폴리카르보네이트 기재, 폴리아크릴레이트 기재, 폴리에스테르 기재, 방향족 폴리에테르케톤 기재, 폴리에테르술폰 기재 또는 폴리아미드 기재를 들 수 있다.
폴리올레핀 기재로서는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 환상 폴리올레핀 기재 등 중 적어도 1종을 구성 성분으로 하는 기재를 들 수 있다. 환상 폴리올레핀 기재로서는, 예를 들어 노르보르넨 골격을 갖는 것을 들 수 있다.
폴리카르보네이트 기재로서는, 예를 들어 비스페놀류(비스페놀 A 등)를 베이스로 하는 방향족 폴리카르보네이트 기재, 디에틸렌글리콜비스아릴카보네이트 등의 지방족 폴리카르보네이트 기재 등을 들 수 있다.
폴리아크릴레이트 기재로서는, 예를 들어 폴리(메트)아크릴산 메틸 기재, 폴리(메트)아크릴산 에틸 기재, (메트)아크릴산 메틸-(메트)아크릴산 부틸 공중합체 기재 등을 들 수 있다.
폴리에스테르 기재로서는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리프로필렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 중 적어도 1종을 구성 성분으로 하는 기재를 들 수 있다.
방향족 폴리에테르케톤 기재로서는, 예를 들어 폴리에테르에테르케톤(PEEK) 기재 등을 들 수 있다.
투명 기재(11)의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 5㎛ 이상 300㎛ 이하로 하는 것이 가능하고, 투명 기재(11)의 두께 하한은 취급성 등의 관점에서 25㎛ 이상이 바람직하고, 50㎛ 이상이 보다 바람직하다. 투명 기재(11)의 두께 상한은 박막화의 관점에서 250m 이하인 것이 바람직하다.
투명 기재(11)의 표면에는, 접착성 향상을 위해 코로나 방전 처리, 산화 처리 등의 물리적인 처리 외에, 앵커제나 프라이머라고 불리는 도료의 도포를 미리 행해도 된다. 앵커제나 프라이머제로서는, 예를 들어 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리아세트산 비닐계 수지, 염화비닐-아세트산 비닐 공중합체, 아크릴 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리비닐아세탈 수지, 에틸렌과 아세트산 비닐 또는 아크릴산 등과의 공중합체, 에틸렌과 스티렌 및/또는 부타디엔 등과의 공중합체, 올레핀 수지 등의 열가소성 수지 및/또는 그의 변성 수지, 광중합성 화합물의 중합체 및 에폭시 수지 등의 열경화성 수지 등의 적어도 어느 한쪽을 사용하는 것이 가능하다.
<제1 투명층 및 제2 투명층>
본 실시 형태에 있어서의 제1 투명층(12) 및 제2 투명층(15)은, 하드코팅성을 갖는 것이 바람직하다. 제1 투명층(12) 및 제2 투명층(15)이 하드코팅성을 갖는 경우, 제1 투명층(12) 및 제2 투명층(15)은 JIS K5600-5-4(1999)에서 규정되는 연필 경도 시험(4.9N 하중)에서 「H」 이상의 경도를 갖는다. 연필 경도를 「H」 이상으로 함으로써, 제1 투명층(12)의 경도를 제1 저굴절률층(14)의 표면에 충분히 반영시킬 수 있어, 내구성을 향상시킬 수 있다. 또한, 제1 투명층(12) 상에 형성하는 제1 고굴절률층(13)과의 밀착성, 인성 및 컬의 방지의 관점에서, 제1 투명층(12)의 표면 연필 경도의 상한은 4H 정도로 하는 것이 바람직하다. 터치 패널 센서는, 반복해서 가압되어 고도의 밀착성 및 인성이 요구된다는 점에서, 제1 투명층(12)의 연필 경도의 상한을 4H로 함으로써, 중간 기재 필름(10)을 터치 패널 센서에 내장해서 사용하는 경우에 현저한 효과를 발휘할 수 있다. 또한, 제1 저굴절률층(14) 상에 도전층을 형성할 때에는 중간 기재 필름에의 가열이 수반되고, 이 가열에 의해 투명 기재로부터 올리고머가 석출되어 중간 기재 필름의 헤이즈를 상승시키는 과제가 발생하는 경우가 있지만, 제1 투명층(12) 및 제2 투명층(15)이 올리고머의 석출을 억제하는 층으로서 기능할 수 있다.
제1 투명층(12)의 굴절률은 1.47 이상 1.57 이하로 되어 있다. 제1 투명층(12)의 굴절률 하한은 1.50 이상인 것이 바람직하고, 제1 투명층(12)의 굴절률 상한은 1.54 이하인 것이 바람직하다. 또한, 제2 투명층(15)의 굴절률도 제1 투명층(12)과 마찬가지의 범위로 되어 있는 것이 바람직하다. 단, 제2 투명층(15)의 굴절률은 반드시 제1 투명층(12)의 굴절률과 일치할 필요는 없다.
제1 투명층(12) 및 제2 굴절률층(15)의 굴절률은, 단독의 층을 형성한 후, 아베 굴절률계(아타고사제 NAR-4T)나 엘립소미터에 의해 측정할 수 있다. 또한, 중간 기재 필름(10)로 된 후에 굴절률을 측정하는 방법으로서는, 제1 투명층(12) 및 제2 굴절률층(15)을 각각 커터 등으로 깎아내고, 분말 상태의 샘플을 제작하고, JIS K7142(2008)B법(분체 또는 입상의 투명 재료용)에 따른 벡케법(굴절률이 기지인 카길 시약을 사용하고, 상기 분말 상태의 샘플을 슬라이드 글래스 등에 두고, 그 샘플 위에 시약을 적하하고, 시약으로 샘플을 침지한다. 그 모습을 현미경 관찰에 의해 관찰하고, 샘플과 시약의 굴절률이 상이한 것에 의해 샘플 윤곽에 발생하는 휘선; 벡케선을 육안으로 관찰할 수 없게 되는 시약의 굴절률을, 샘플의 굴절률로 하는 방법)을 사용할 수 있다.
제1 투명층(12)의 막 두께는 1.0㎛ 이상으로 되어 있다. 제1 투명층(12)의 두께가 1.0㎛ 이상이면, 원하는 경도를 얻을 수 있다. 제1 투명층(12)의 막 두께는, 단면 현미경 관찰에 의해 측정할 수 있다. 제1 투명층의 두께의 하한은 1.5㎛ 이상인 것이 보다 바람직하고, 상한은 7.0㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 제1 투명층(12)의 두께는 2.0㎛ 이상 5.0㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 제2 투명층(15)의 막 두께는 제1 투명층(12)의 막 두께와 마찬가지의 범위인 것이 바람직하다. 단, 제2 투명층(15)의 막 두께는, 반드시 제1 투명층(15)의 막 두께와 일치할 필요는 없다.
제1 투명층(12) 및 제2 투명층(15)은, 예를 들어 수지로 구성할 수 있다. 수지는, 광중합성 화합물의 중합물(가교물)을 포함하는 것이다. 수지는, 광중합성 화합물의 중합물(가교물) 외에, 용제 건조형 수지나 열경화성 수지를 포함하고 있어도 된다. 광중합성 화합물은, 광중합성 관능기를 적어도 1개 갖는 것이다. 본 명세서에 있어서의, 「광중합성 관능기」란, 광조사에 의해 중합 반응할 수 있는 관능기이다. 광중합성 관능기로서는, 예를 들어 (메트)아크릴로일기, 비닐기, 알릴기 등의 에틸렌성 이중 결합을 들 수 있다. 또한, 「(메트)아크릴로일기」란, 「아크릴로일기」 및 「메타크릴로일기」의 양쪽을 포함하는 의미이다. 또한, 광중합성 화합물을 중합할 때에 조사되는 광으로서는, 가시광선, 및 자외선, X선, 전자선, α선, β선 및 γ선과 같은 전리 방사선을 들 수 있다.
광중합성 화합물로서는, 광중합성 모노머, 광중합성 올리고머 또는 광중합성 폴리머를 들 수 있고, 이들을 적절히 조정하여 사용할 수 있다. 광중합성 화합물로서는, 광중합성 모노머와, 광중합성 올리고머 또는 광중합성 폴리머의 조합이 바람직하다.
광중합성 모노머
광중합성 모노머는, 중량 평균 분자량이 1000 미만인 것이다. 광중합성 모노머로서는, 광중합성 관능기를 2개(즉, 2관능) 이상 갖는 다관능 모노머가 바람직하다. 본 명세서에 있어서, 「중량 평균 분자량」은, 테트라히드로푸란(THF) 등의 용매에 용해하여, 종래 공지된 겔 투과 크로마토그래피(GPC)법에 의한 폴리스티렌 환산에 의해 얻어지는 값이다.
2관능 이상의 모노머로서는, 예를 들어 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨 옥타(메트)아크릴레이트, 테트라펜타에리트리톨 데카(메트)아크릴레이트, 이소시아누르산 트리(메트)아크릴레이트, 이소시아누르산 디(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르 트리(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르 디(메트)아크릴레이트, 비스페놀 디(메트)아크릴레이트, 디글리세린 테트라(메트)아크릴레이트, 아다만틸 디(메트)아크릴레이트, 이소보로닐 디(메트)아크릴레이트, 디시클로펜탄 디(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸 디(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라(메트)아크릴레이트나, 이들을 PO, EO 등으로 변성한 것을 들 수 있다.
이들 중에서도 경도가 높은 하드코팅층을 얻는다는 관점에서, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트(PETA), 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(DPHA), 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트(PETTA), 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트(DPPA) 등이 바람직하다.
광중합성 올리고머
광중합성 올리고머는, 중량 평균 분자량이 1000 이상 10000 미만인 것이다. 광중합성 올리고머로서는, 2관능 이상의 다관능 올리고머가 바람직하다. 다관능 올리고머로서는, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르우레탄(메트)아크릴레이트, 폴리에테르(메트)아크릴레이트, 폴리올(메트)아크릴레이트, 멜라민(메트)아크릴레이트, 이소시아누레이트(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
광중합성 폴리머
광중합성 폴리머는, 중량 평균 분자량이 10000 이상인 것이며, 중량 평균 분자량으로서는 10000 이상 80000 이하가 바람직하고, 10000 이상 40000 이하가 보다 바람직하다. 중량 평균 분자량이 80000을 초과하는 경우에는, 점도가 높기 때문에 도포 시공 적합성이 저하되어 버려, 얻어지는 광학 필름의 외관이 악화될 우려가 있다. 상기 다관능 중합체로서는, 우레탄(메트)아크릴레이트, 이소시아누레이트(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르우레탄(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
광중합성 화합물을 중합(가교)시킬 때는, 중합 개시제 등을 사용해도 된다. 중합 개시제는, 광조사에 의해 분해되어, 라디칼을 발생하여 광중합성 화합물의 중합(가교)을 개시 또는 진행시키는 성분이다.
중합 개시제는, 광조사에 의해 라디칼 중합을 개시시키는 물질을 방출하는 것이 가능하면 특별히 한정되지 않는다. 중합 개시제로서는, 특별히 한정되지 않고 공지된 것을 사용할 수 있고, 구체예에는, 예를 들어 아세토페논류, 벤조페논류, 미힐러벤조일벤조에이트, α-아밀옥심에스테르, 티오크산톤류, 프로피오페논류, 벤질류, 벤조인류, 아실포스핀옥시드류를 들 수 있다. 또한, 광증감제를 혼합하여 사용하는 것이 바람직하고, 그의 구체예로서는, 예를 들어 n-부틸아민, 트리에틸아민, 폴리-n-부틸포스핀 등을 들 수 있다.
상기 중합 개시제로서는, 상기 결합제 수지가 라디칼 중합성 불포화기를 갖는 수지계의 경우에는, 아세토페논류, 벤조페논류, 티오크산톤류, 벤조인, 벤조인메틸에테르 등을 단독 또는 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.
용제 건조형 수지는, 열가소성 수지 등, 도포 시공 시에 고형분을 조정하기 위하여 첨가한 용제를 건조시키기만 하면 피막으로 되는 수지이다. 용제 건조형 수지를 첨가한 경우, 방현층(12)을 형성할 때에, 도액의 도포면의 피막 결함을 유효하게 방지할 수 있다. 용제 건조형 수지로서는 특별히 한정되지 않고, 일반적으로 열가소성 수지를 사용할 수 있다.
열가소성 수지로서는, 예를 들어 스티렌계 수지, (메트)아크릴계 수지, 아세트산 비닐계 수지, 비닐에테르계 수지, 할로겐 함유 수지, 지환식 올레핀계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 셀룰로오스 유도체, 실리콘계 수지 및 고무 또는 엘라스토머 등을 들 수 있다.
열가소성 수지는, 비결정성이고, 또한 유기 용매(특히 복수의 중합체나 경화성 화합물을 용해 가능한 공통 용매)에 가용인 것이 바람직하다. 특히, 투명성이나 내후성이라고 하는 관점에서, 스티렌계 수지, (메트)아크릴계 수지, 지약식 올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 셀룰로오스 유도체(셀룰로오스에스테르류 등) 등이 바람직하다.
열경화성 수지로서는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 페놀 수지, 요소 수지, 디알릴프탈레이트 수지, 멜라민 수지, 구아나민 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아미노알키드 수지, 멜라민-요소 공축합 수지, 규소 수지, 폴리실록산 수지 등을 들 수 있다.
제1 투명층(12) 및 제2 투명층(15)은, 상기 광중합성 화합물을 포함하는 투명층용 조성물을, 투명 기재(11)의 표면에 도포하고, 건조시킨 후, 도막 형상의 투명층용 조성물에 자외선 등의 광을 조사하여, 광중합성 화합물을 중합(가교)시킴으로써 형성할 수 있다.
투명층용 조성물에는, 상기 광중합성 화합물 외에, 필요에 따라, 용제, 중합 개시제를 첨가해도 된다. 또한, 투명층용 조성물에는, 제1 투명층의 경도를 높게 하고, 경화 수축을 억제하고, 굴절률을 제어하는 등의 목적에 따라, 종래 공지된 분산제, 계면 활성제, 대전 방지제, 실란 커플링제, 증점제, 착색 방지제, 착색제(안료, 염료), 소포제, 레벨링제, 난연제, 자외선 흡수제, 접착 부여제, 중합 금지제, 산화 방지제, 표면 개질제, 이활제 등을 첨가하고 있어도 된다.
투명층용 조성물을 도포하는 방법으로서는, 스핀 코팅, 침지법, 스프레이법, 슬라이드 코팅법, 바 코팅법, 롤 코팅법, 그라비아 코팅법, 다이 코팅법 등의 공지된 도포 방법을 들 수 있다.
투명층용 조성물을 경화시킬 때의 광으로서, 자외선을 사용하는 경우에는, 초고압 수은등, 고압 수은등, 저압 수은등, 카본 아크, 크세논 아크, 메탈 할라이드 램프 등으로부터 발해지는 자외선 등을 이용할 수 있다. 또한, 자외선의 파장으로서는, 190 내지 380㎚의 파장 영역을 사용할 수 있다. 전자선원의 구체예로서는, 코크로프트 월턴형, 반데그라프트형, 공진 변압기형, 절연 코어 변압기형, 또는 직선형, 다이나미트론형, 고주파형 등의 각종 전자선 가속기를 들 수 있다.
<제1 고굴절률층>
제1 고굴절률층(13)은, 제1 투명층(12)의 굴절률보다 높은 굴절률을 갖는 층이다. 구체적으로는, 제1 고굴절률층(13)의 굴절률은 1.62 이상 1.72 이하로 되어 있다. 제1 고굴절률층(13)의 굴절률 하한은 1.65 이상인 것이 바람직하고, 제1 고굴절률층(13)의 굴절률 상한은 1.69 이하인 것이 바람직하다. 제1 고굴절률층(13)의 굴절률은, 상기 제1 투명층(12)의 굴절률과 마찬가지의 방법에 의해 측정할 수 있다. 제1 투명층(12)과 제1 고굴절률층(13)의 굴절률차는, 색미의 편차를 보다 억제하는 관점에서, 0.05 이상 0.15 이하인 것이 바람직하다.
제1 고굴절률층(13)의 막 두께는 20㎚ 이상 80㎚ 이하로 되어 있다. 제1 고굴절률층(13)의 막 두께 하한은 40㎚ 이상인 것이 바람직하고, 제1 고굴절률층(13)의 굴절률 상한은 60㎚ 이하인 것이 바람직하다.
제1 고굴절률층(13) 및 제1 저굴절률층(14)은, 도전층이 형성되어 있는 영역과 도전층이 형성되어 있지 않은 영역 사이의 광투과율 및 반사율의 차를 작게 하기 위한 인덱스 매칭층으로서 기능할 수 있다.
제1 고굴절률층(13)으로서는, 상기 굴절률 및 상기 막 두께를 갖는 것이라면, 특별히 한정되지 않지만, 제1 고굴절률층(13)은, 예를 들어 고굴절률 입자와 결합제 수지로 구성할 수 있다.
상기 고굴절률 입자로서는, 금속 산화물 미립자를 들 수 있다. 금속 산화물 미립자로서는, 구체적으로는, 예를 들어 산화티타늄(TiO2, 굴절률: 2.3 내지 2.7), 산화니오븀(Nb205, 굴절률: 2.33), 산화지르코늄(ZrO2, 굴절률: 2.10), 산화안티몬(Sb205, 굴절률: 2.04), 산화주석(SnO2, 굴절률: 2.00), 주석 도프 산화인듐(ITO, 굴절률: 1.95 내지 2.00), 산화세륨(CeO2, 굴절률: 1.95), 알루미늄 도프 산화아연(AZO, 굴절률: 1.90 내지 2.00), 갈륨 도프 산화아연(GZO, 굴절률: 1.90 내지 2.00), 안티몬산 아연(ZnSb206, 굴절률: 1.90 내지 2.00), 산화아연(ZnO, 굴절률: 1.90), 산화이트륨(Y203, 굴절률: 1.87), 안티몬 도프 산화주석(ATO, 굴절률: 1.75 내지 1.85), 인 도프 산화주석(PTO, 굴절률: 1.75 내지 1.85) 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 고굴절률화 및 비용의 관점에서, 산화지르코늄이 바람직하다.
제1 고굴절률층(13)에 포함되는 결합제 수지는 특별히 제한되지 않고, 열가소성 수지를 사용할 수도 있지만, 표면 경도를 높게 한다는 관점에서, 열경화성 수지 또는 광중합성 화합물 등의 중합물(가교물)인 것이 바람직하고, 그 중에서도 광중합성 화합물의 중합물인 것이 보다 바람직하다.
열경화성 수지로서는, 아크릴 수지, 우레탄 수지, 페놀 수지, 요소 멜라민 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 실리콘 수지 등의 수지 등을 들 수 있다. 열경화성 수지를 경화시킬 때에는, 경화제를 사용해도 된다.
광중합성 화합물로서는, 특별히 한정되지 않지만, 광중합성 모노머, 올리고머, 중합체를 사용할 수 있다. 1관능의 광중합성 모노머로서는, 에틸(메트)아크릴레이트, 에틸헥실(메트)아크릴레이트, 스티렌, 메틸스티렌, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다. 또한, 2관능 이상의 광중합성 모노머로서는, 예를 들어 폴리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 헥산디올 (메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 이들 화합물을 에틸렌옥시드, 폴리에틸렌옥시드 등으로 변성한 화합물 등을 들 수 있다.
또한, 이들 화합물은, 방향족환, 불소 이외의 할로겐 원자, 황, 질소, 인 원자 등을 도입하여, 굴절률을 높게 조정한 것이어도 된다. 또한, 상기 화합물 외에, 불포화 이중 결합을 갖는 비교적 저분자량의 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지 등도 사용할 수 있다. 광중합성 화합물을 중합(가교)시킬 때는, 제1 투명층 및 제2 투명층의 란에서 설명한 중합 개시제를 사용해도 된다.
제1 고굴절률층(13)은, 예를 들어 제1 투명층(12)의 형성 방법과 마찬가지의 방법에 의해 형성하는 것이 가능하다. 구체적으로는, 먼저, 제1 투명층(12)의 표면에, 적어도 고굴절률 미립자와 광중합성 화합물을 포함하는 제1 고굴절률층용 조성물을 도포한다. 계속해서, 도막 형상의 제1 고굴절률층용 조성물을 건조시킨다. 그 후, 도막 형상의 투명층용 조성물에 자외선 등의 광을 조사하여, 광중합성 화합물을 중합(가교)시킴으로써 제1 고굴절률층(13)을 형성할 수 있다.
<제1 저굴절률층>
제1 저굴절률층(14)은, 제1 고굴절률층(13)의 굴절률보다 낮은 굴절률을 갖는 층이다. 제1 저굴절률층은, 제1 고굴절률층의 굴절률보다 낮은 굴절률을 갖고 있으면 되고, 반드시 제1 투명층의 굴절률보다 낮은 굴절률을 갖고 있지 않아도 된다. 구체적으로는, 제1 저굴절률층(14)의 굴절률은 1.44 이상 1.54 이하로 되어 있다. 제1 저굴절률층(14)의 굴절률 하한은 1.47 이상인 것이 바람직하고, 제1 저굴절률층(14)의 굴절률 상한은 1.51 이하인 것이 바람직하다. 제1 저굴절률층(14)의 굴절률은, 상기 제1 투명층(12)의 굴절률과 마찬가지의 방법에 의해 측정할 수 있다. 제1 고굴절률층(13)과 제1 저굴절률층(14)의 굴절률차는, 색미의 편차를 보다 억제하는 관점에서, 0.10 이상 0.22 이하인 것이 바람직하다.
제1 저굴절률층(14)의 막 두께는 3㎚ 이상 45㎚ 이하로 되어 있다. 제1 저굴절률층(14)의 막 두께 하한은 5㎚ 이상인 것이 바람직하고, 제1 저굴절률층(14)의 막 두께 상한은 25㎚ 이하인 것이 바람직하다.
제1 저굴절률층(14)으로서는, 상기 굴절률 및 상기 막 두께를 갖는 것이면, 특별히 한정되지 않지만, 제1 저굴절률층(14)은, 예를 들어 저굴절률 입자와, 결합제 수지로 또는 저굴절률 수지로 구성할 수 있다.
저굴절률 입자로서는, 예를 들어 실리카 또는 불화마그네슘을 포함하는 중실 또는 중공 입자 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 중공 실리카 입자가 바람직하고, 이러한 중공 실리카 입자는, 예를 들어 일본 특허 공개 제2005-099778호 공보의 실시예에 기재된 제조 방법으로 제작할 수 있다.
저굴절률 미립자로서는, 실리카 표면에 반응성 관능기를 갖는 반응성 실리카 미립자를 사용하는 것이 바람직하다. 반응성 관능기로서는, 광중합성 관능기가 바람직하다. 이러한 반응성 실리카 미립자는, 실란 커플링제 등에 의해 실리카 미립자를 표면처리함으로써 제작할 수 있다. 실리카 미립자의 표면을 실란 커플링제로 처리하는 방법으로서는, 실리카 미립자에 실란 커플링제를 스프레이하는 건식법이나, 실리카 미립자를 용제에 분산시키고 나서 실란 커플링제를 첨가하여 반응시키는 습식법 등을 들 수 있다.
제1 저굴절률층(14)을 구성하는 바인더 수지로서는, 제1 고굴절률층(13)을 구성하는 결합제 수지와 마찬가지의 것을 들 수 있다. 단, 결합제 수지에, 불소 원자를 도입한 수지나, 오르가노폴리실록산 등의 굴절률이 낮은 재료를 혼합해도 된다.
저굴절률 수지로서는, 불소 원자를 도입한 수지나, 오르가노폴리실록산 등의 굴절률이 낮은 수지를 들 수 있다.
제1 저굴절률층(14)은, 예를 들어 제1 투명층(12)의 형성 방법과 마찬가지의 방법에 의해 형성하는 것이 가능하다. 구체적으로는, 먼저, 제1 고굴절률층(13)의 표면에, 적어도 저굴절률 미립자와 광중합성 화합물을 포함하는 제1 저굴절률층용 조성물을 도포한다. 계속해서, 도막 형상의 제1 저굴절률층용 조성물을 건조시킨다. 그 후, 도막 형상의 제1 저굴절률층용 조성물에 자외선 등의 광을 조사하고, 광중합성 화합물을 중합(가교)시킴으로써 제1 저굴절률층(14)을 형성할 수 있다.
종래, 중간 기재 필름의 저굴절률층 등의 굴절률이나 막 두께는, 주로, 중간 기재 필름의 반사율과 중간 기재 필름 상에 적층되는 도전층의 반사율의 차(반사율차)를 작게 한다는 관점에서 결정되어 있고, 여러 각도에서 중간 기재 필름을 시인했을 때의 색미편차에 대해서는 전혀 주목받지 못했다. 한편, 사람의 눈은, 상기 반사율차보다 색미의 변화를 느끼기 쉽고, 또한 중간 기재 필름과 도전층의 반사율차를 작게 하기 위하여 고굴절률층과 저굴절률층의 굴절률차를 크게 하면, 색미의 편차는 커져버리는 경향이 있다. 본 발명자들이 예의 연구를 거듭한바, 중간 기재 필름의 a*값 및 b*값을 조정하면, 색미의 편차가 억제된다는 것을 알아내었다. 구체적으로는, 중간 기재 필름의 표면의 법선 방향을 0°로 하고, 0° 이상 75° 이하의 범위 내에서 입사 각도를 5도마다 바꾸면서 제1 저굴절률층 측으로부터 중간 기재 필름에 광을 조사하고, 각각의 정반사 방향으로의 반사광으로부터 L*a*b* 표색계의 a*값 및 b*값을 구했을 때, a*값의 편차가 1.0 이내이며 또한 b*값의 편차가 1.6 이내이면, 관찰자가 여러 방향에서 중간 기재 필름을 시인한 경우에도, 색미가 변동되어 있다고는 인식되지 않은 것을 실험으로부터 알아내었다. 또한, 투명 기재 상에, 굴절률이 1.47 이상 1.57 이하이며 또한 막 두께가 1㎛ 이상인 제1 투명층과, 굴절률이 1.62 이상 1.72 이하이며 또한 막 두께가 20㎚ 이상 80㎚ 이하인 제1 고굴절률층과, 굴절률이 1.44 이상 1.54 이하이며 또한 막 두께가 3㎚ 이상 45㎚ 이하인 제1 저굴절률층을 이 순서대로 적층한 경우에, 상기 중간 기재 필름에 있어서의 a*값의 편차를 1.0 이내로 하고 또한 b*값의 편차를 1.6 이내로 할 수 있다는 것을 알아내었다. 본 실시 형태에 따르면, 중간 기재 필름(10)의 표면의 법선 방향을 0°로 하고, 0° 이상 75° 이하의 범위 내에서 입사 각도를 5도마다 바꾸면서 제1 저굴절률층(14) 측으로부터 중간 기재 필름(10)에 광을 조사하고, 각각의 정반사 방향으로의 반사광으로부터 L*a*b* 표색계의 a*값 및 b*값을 구했을 때, a*값의 편차가 1.0 이내이며 또한 b*값의 편차가 1.6 이내로 되어 있으므로, 여러 각도에서 기재 필름(10)을 시인한 경우에 있어서의 색미의 편차를 억제할 수 있다. 상기 굴절률 및 막 두께를 갖는 제1 투명층(12)과, 상기 굴절률 및 막 두께를 갖는 제1 고굴절률층(13)과, 상기 굴절률 및 막 두께를 갖는 제1 저굴절률층(14)을 갖는 중간 기재 필름(10)에 있어서는, 도전층과의 반사율차가 허용 범위 내로 되지만, 종래의 중간 기재 필름보다 도전층과의 반사율차가 커지므로, 종래와 같이, 중간 기재 필름과 도전층과의 반사율차를 작게 한다는 관점에서는, 결코 채용할 수 없는 것이다. 따라서, 제1 투명층(12), 제1 고굴절률층(13) 및 제1 저굴절률층(14)의 굴절률 및 막 두께를 상기 범위 내로 하고, a*값 및 b*값을 상기 범위 내로 함으로써 발휘되는 상기 효과는, 종래의 중간 기재 필름의 기술 수준에 비추어, 예측될 수 있는 범위를 초과한 현저한 효과라고 할 수 있다. 또한, 상기에 있어서는, 입사 각도의 범위로서 0° 이상 75° 이하의 범위를 사용하고 있지만, 5° 이상 75° 이하의 범위이어도 상기 효과는 확인할 수 있다. 즉, 5° 이상 75° 이하의 범위 내에서 입사 각도를 5도마다 바꾸면서 제1 저굴절률층(14) 측으로부터 중간 기재 필름(10)에 광을 조사하고, 각각의 정반사 방향으로의 반사광으로부터 L*a*b* 표색계의 a*값 및 b*값을 구했을 때, a*값의 편차가 1.0 이내이며 또한 b*값의 편차가 1.6 이내로 되어 있으면, 여러 각도에서 기재 필름(10)을 시인한 경우에 있어서의 색미의 편차가 억제되어 있는 것을 확인할 수 있다.
《터치 패널 센서》
중간 기재 필름(10)은, 예를 들어 터치 패널 센서에 내장하여 사용할 수 있다. 도 3은 본 실시 형태에 따른 중간 기재 필름을 내장한 터치 패널 센서의 개략적인 구성도이며, 도 4는 도 3에 도시되는 제1 도전층의 일부 평면도이며, 도 5는 도 3에 도시되는 제2 도전층의 일부 평면도이다. 도 6은 본 실시 형태에 따른 중간 기재 필름을 내장한 다른 터치 패널 센서의 개략적인 구성도이다.
도 3에 도시되는 터치 패널 센서(20)는, 제1 도전성 필름(30)과 제2 도전성 필름(40)을 적층한 구조를 갖고 있다. 제1 도전성 필름(30)은, 중간 기재 필름(10)과, 중간 기재 필름(10)에 지지되고 패터닝된 제1 도전층(31)과, 중간 기재 필름(10) 및 제1 도전층(31) 상에 형성된 제1 투명 점착층(32)을 구비하고 있다. 제2 도전성 필름(40)은, 중간 기재 필름(10)과, 중간 기재 필름(10)에 지지되고 패터닝된 제2 도전층(41)과, 중간 기재 필름(10) 및 제2 도전층(41) 상에 형성된 제2 투명 점착층(42)을 구비하고 있다.
제1 도전층(31) 및 제2 도전층(41)은, 원하는 형상으로 패터닝되어 있고 또한 도전성을 갖는 것이라면, 특별히 한정되지 않는다. 제1 도전층(31) 및 제2 도전층(41)은, 취출 패턴(도시하지 않음)을 개재하여 단자부(도시하지 않음)에 접속되어 있다. 제1 도전층(31) 및 제2 도전층(41)의 형상으로서는, 특별히 한정되지 않지만, 정사각 형상, 마름모 형상 또는 스트라이프 형상을 들 수 있다. 제1 도전층(31) 및 제2 도전층(41)은 도 4 및 도 5에 도시되는 바와 같이 정사각 형상으로 되어 있다.
제1 도전층(31)은 터치 패널 센서(20)에 있어서의 X 방향의 전극으로서 기능하는 것이므로, 도 4에 도시되는 바와 같이 제1 도전층(31)을 구성하는 패턴 형상은 가로 방향으로 전기적으로 접속되어 있다. 제1 도전층(31)은, 제1 도전성 필름(30)을 구성하는 중간 기재 필름(10)의 제1 저굴절률층(14) 상에 형성되어 있다.
제2 도전층(41)은, 터치 패널 센서(20)에 있어서의 Y 방향의 전극으로서 기능하는 것이므로, 도 5에 도시되는 바와 같이 제2 도전층(41)을 구성하는 패턴 형상은 세로 방향으로 전기적으로 접속되어 있다. 제2 도전층(41)은, 제2 도전성 필름(40)을 구성하는 중간 기재 필름(10)의 제1 저굴절률층(14) 상에 형성되어 있다.
제1 도전층(31)은 제1 도전성 필름(30)을 구성하는 중간 기재 필름(10)보다 관찰자측에 배치되어 있고, 제2 도전층(41)은 제2 도전성 필름(40)을 구성하는 중간 기재 필름(10)보다 관찰자측에 배치되어 있다. 즉, 제2 도전층(41)은 제1 도전성 필름(30)을 구성하는 중간 기재 필름(10)과 제2 도전성 필름(40)을 구성하는 중간 기재 필름(10) 사이에 배치되어 있다. 제1 도전성 필름(30)과 제2 도전성 필름(40)은 제2 투명 점착층(42)에 의해 부착되어 있다.
중간 기재 필름(10)은, 다른 형태의 터치 패널 센서에 내장되어도 된다. 도 6에 도시되는 터치 패널 센서(50)는, 중간 기재 필름(10)과, 중간 기재 필름(10)에 지지되고, 패터닝된 제1 도전층(51) 및 제2 도전층(52)과, 제1 도전층(51)과 제2 도전층(52)을 고정하는 투명 점착층(53)을 구비하고 있다. 제2 도전층(51)은 유리판(54)의 한쪽 면에 형성된 것이며, 제2 도전층(51)과 유리판(54)은 일체화되어 있다.
제1 도전층(51)은, 터치 패널 센서(30)에 있어서의 X 방향의 전극으로서 기능하는 것이며, 제1 도전층(31)과 마찬가지인 패턴 형상을 포함하고 있다. 제2 도전층(52)은 터치 패널 센서(30)에 있어서의 Y 방향의 전극으로서 기능하는 것이며, 제2 도전층(41)과 마찬가지인 패턴 형상을 포함하고 있다. 제1 도전층(51) 및 제2 도전층(52)은 모두 중간 기재 필름(10)의 제1 저굴절률층(14) 상에 형성되어 있다.
<제1 도전층 및 제2 도전층>
제1 도전층(31, 51) 및 제2 도전층(41, 52)은, 예를 들어 투명 도전 재료로 구성된 투명 도전층인 것이 바람직하다. 투명 도전 재료로서는, 주석 도프 산화인듐(ITO), 안티몬 도프 산화주석(ATO), 산화아연, 산화인듐(In203), 알루미늄 도프 산화아연(AZO), 갈륨 도프 산화아연(GZO), 산화주석, 산화아연-산화주석계, 산화인듐-산화주석계, 산화아연-산화인듐-산화마그네슘계 등의 금속 산화물 등을 들 수 있다. 또한, 제1 도전층(31, 51) 및 제2 도전층(41, 52)은, 투명 도전층에 한하지 않고, 예를 들어 패터닝된 금속 메쉬층이어도 된다. 금속 메쉬층은, 니켈이나 산화구리에 의해 흑색 피복되어 있는 것이 바람직하다. 이 흑색 피복에 의해, 금속 메쉬층의 금속 반사를 억제할 수 있다.
제1 도전층(31, 51) 및 제2 도전층(41, 52)의 형성 방법은, 특별히 한정되지 않고, 스퍼터링법, 진공 증착법, 이온 플레이팅법, CVD법, 도공법, 인쇄법 등을 사용할 수 있다. 제1 도전층(31, 51) 및 제2 도전층(41, 52)을 패터닝하는 방법으로서는, 예를 들어 포토리소그래피법을 들 수 있다.
<투명 점착층>
제1 투명 점착층(32), 제2 투명 점착층(42) 및 점착층(53)으로서는, 공지된 감압 접착층이나 점착 시트를 들 수 있다.
(제2 실시 형태)
이하, 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 중간 기재 필름 및 터치 패널 센서에 대해서, 도면을 참조하면서 설명한다. 도 7은 본 실시 형태에 따른 중간 기재 필름의 개략적인 구성도이다. 또한, 본 실시 형태에 있어서, 제1 실시 형태에서 설명한 부재와 동일 부호가 부여되어 있는 부재는, 제1 실시 형태에서 설명한 부재와 동일한 부재인 것을 의미하는 것이며, 또한 제1 실시 형태와 중복되는 내용에 대해서는 특기하지 않는 한 생략하는 것으로 한다.
도 7에 도시되는 중간 기재 필름(60)은, 투명 기재(11)와, 투명 기재(11)의 한쪽 면(11A) 상에 형성된 제1 투명층(12)과, 제1 투명층(12) 상에 형성된 제1 고굴절률층(13)과, 제1 고굴절률층(13) 상에 형성된 제1 저굴절률층(14)과, 투명 기재(11)의 한쪽 면(11A)과는 반대측의 면(11B) 상에 형성된 제2 투명층(15)과, 제2 투명층(15) 상에 형성된 제2 고굴절률층(61)과, 제2 고굴절률층(61) 상에 형성된 제2 저굴절률층(62)을 구비하고 있다. 즉, 중간 기재 필름(60)은, 중간 기재 필름(10)의 제2 투명층(15) 상에 제2 고굴절률층(61) 및 제2 저굴절률층(62)을 형성한 것이다.
제2 고굴절률층(61)은, 제1 고굴절률층(13)과 마찬가지인 굴절률 및 막 두께 등을 갖고 있는 것이 바람직하다. 즉, 제2 고굴절률층(61)은, 굴절률이 1.62 이상 1.72 이하이며 또한 막 두께가 20㎚ 이상 80㎚ 이하로 되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 제2 고굴절률층(61)은, 제1 고굴절률층(13)과 마찬가지인 재료로 구성하는 것이 가능하다.
제2 저굴절률층(62)은, 제1 저굴절률층(14)과 마찬가지인 굴절률 및 막 두께 등을 갖고 있는 것이 바람직하다. 즉, 제2 저굴절률층(62)은, 굴절률이 1.44 이상 1.54 이하이며 또한 막 두께가 3㎚ 이상 45㎚ 이하로 되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 제2 저굴절률층(62)은, 제1 저굴절률층(13)과 마찬가지인 재료로 구성하는 것이 가능하다.
중간 기재 필름(60)에 있어서는, 중간 기재 필름(60)의 표면의 법선 방향을 0°로 하고, 0° 이상 75° 이하의 범위 내에서 입사 각도를 5도마다 바꾸면서 제1 저굴절률층(14) 측으로부터 중간 기재 필름(60)에 가시광을 조사하고, 각각의 정반사 방향으로의 반사광으로부터 L*a*b* 표색계의 a*값 및 b*값을 구했을 때, a*값의 편차가 1.0 이내로 되고 또한 b*값의 편차가 1.6 이내로 되어 있다. a*값의 편차는 0.4 이내로 되어 있는 것이 바람직하고, 또한 b*값의 편차는 1.55 이내로 되어 있는 것이 바람직하다.
본 실시 형태에 따르면, 투명 기재(11) 상에 굴절률이 1.47 이상 1.57 이하이며 또한 막 두께가 1㎛ 이상인 제1 투명층(12)과, 굴절률이 1.62 이상 1·72 이하이며 또한 막 두께가 20㎚ 이상 80㎚ 이하인 제1 고굴절률층(13)과, 굴절률이 1.44 이상 1.54 이하이며 또한 막 두께가 3㎚ 이상 45㎚ 이하인 제1 저굴절률층(14)을 이 순서대로 적층하고 있으므로, 중간 기재 필름(60)의 표면의 법선 방향을 0°로 하고, 0° 이상 75° 이하의 범위 내에서 입사 각도를 5도마다 바꾸면서 제1 저굴절률층(14) 측으로부터 중간 기재 필름(60)에 광을 조사하고, 각각의 정반사 방향으로의 반사광으로부터 L*a*b* 표색계의 a*값 및 b*값을 구했을 때, 중간 기재 필름(60)에 있어서의 a*값의 편차를 1.0 이내로 하고 또한 b*값의 편차를 1.6 이내로 할 수 있다. 이에 의해, 여러 각도에서 시인한 경우에 있어서의 색미의 편차를 억제할 수 있다.
중간 기재 필름(60)에 있어서는, 중간 기재 필름(60)의 표면의 법선 방향을 O°로 하고, 0° 이상 75° 이하의 범위 내에서 입사 각도를 5도마다 바꾸면서 제2 저굴절률층(62) 측으로부터 중간 기재 필름(60)에 가시광을 조사하고, 각각의 정반사 방향으로의 반사광으로부터 L*a*b* 표색계의 a*값 및 b*값을 구했을 때, a*값의 편차가 1.0 이내로 되고 또한 b*값의 편차가 1.6 이내로 되어 있는 것이 바람직하다. a*값의 편차는 0.4 이내로 되어 있는 것이 바람직하고, 또한 b*값의 편차는 1.55 이내로 되어 있는 것이 바람직하다. 이 경우, 기재 필름(60)의 양면에 있어서, a*값의 편차가 1.0 이내로 되고 또한 b*값의 편차가 1.6 이내로 되어 있으므로, 기재 필름(60)의 양면에 있어서, 여러 각도에서 시인한 경우에 있어서의 색미의 편차를 억제할 수 있다.
《터치 패널 센서》
중간 기재 필름(60)은, 예를 들어 터치 패널 센서에 내장하여 사용할 수 있다. 도 8은 본 실시 형태에 따른 중간 기재 필름을 내장한 터치 패널 센서의 개략적인 구성도이다.
도 8에 도시되는 터치 패널 센서(70)는, 중간 기재 필름(60)과, 중간 기재 필름(60)에 지지되고 패터닝된 제1 도전층(71) 및 제2 도전층(72)과, 중간 기재 필름(60) 및 제1 도전층(71) 상에 형성된 제1 투명 점착층(73)과, 중간 기재 필름(60) 및 제1 도전층(72) 상에 형성된 제2 투명 점착층(74)을 구비하고 있다.
제1 도전층(71)은, 터치 패널 센서(70)에 있어서의 X 방향의 전극으로서 기능하는 것이며, 제1 도전층(31)과 마찬가지인 패턴 형상을 포함하고 있다. 제1 도전층(71)은, 중간 기재 필름(60)의 제1 저굴절률층(14) 상에 형성되어 있다. 제2 도전층(72)은, 터치 패널 센서(70)에 있어서의 Y 방향의 전극으로서 기능하는 것이며, 제2 도전층(41)과 마찬가지인 패턴 형상을 포함하고 있다. 제2 도전층(72)은, 중간 기재 필름(60)의 제2 저굴절률층(62) 상에 형성되어 있다.
제1 도전층(71)은, 중간 기재 필름(10)보다 관찰자측에 배치되어 있고, 제2 도전층(72)은 중간 기재 필름(10)보다 광원측에 배치되어 있다.
제1 도전층(71) 및 제2 도전층(72)은, 제1 도전층(31, 51) 및 제2 도전층(41, 52)과 마찬가지인 구성을 포함하고 있는 것이 바람직하다. 또한 제1 도전층(71) 및 제2 도전층(72)은 제1 도전층(31, 51) 및 제2 도전층(41, 52)과 마찬가지인 재료로 구성하는 것이 가능하다.
제1 도전층(71) 및 제2 도전층(72)은, 중간 기재 필름(60)의 양면에 형성되어 있으므로, 포토리소그래피법에 의해 패터닝할 수 있고, 이 경우에는, 제1 도전층(71) 및 제2 도전층(72)의 위치 정밀도를 높일 수 있다.
[실시예]
본 발명을 상세하게 설명하기 위해서, 이하에 실시예를 들어서 설명하겠지만, 본 발명은 이 기재에 한정되지 않는다.
<투명층용 조성물의 제조>
먼저, 하기에 나타내는 조성을 포함하도록 각 성분을 배합하여, 투명층용 조성물을 얻었다.
(투명층용 조성물 1)
·펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PETA): 30질량부
·중합 개시제(제품명 「이르가큐어184」, BASF 재팬사제): 1.5질량부
·메틸이소부틸케톤: 70질량부
(투명층용 조성물 2)
·펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PETA): 18질량부
·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA): 12질량부
·중합 개시제(제품명 「이르가큐어184」, BASF 재팬사제): 1.5질량부
·메틸이소부틸케톤: 70질량부
<고굴절률층용 조성물의 제조>
하기에 나타내는 조성을 포함하도록 각 성분을 배합하여, 고굴절률층용 조성물을 얻었다.
(고굴절률층용 조성물 1)
·고굴절률 미립자 분산액(ZrO2 미립자의 메틸에틸케톤 분산액(고형분: 30질량％), 제품명 「MZ-230X」, 스미토모 오사카시멘트사제): 58.8질량부
·펜타에리트리톨트리아크릴레이트(제품명 「KAYARAD PET-30」, 닛본 가야꾸사제): 11.8질량부
·중합 개시제(제품명 「이르가큐어184」, BASF 재팬사제): 0.6질량부
·메틸이소부틸케톤(MIBK): 28.8질량부
(고굴절률층용 조성물 2)
·고굴절률 미립자 분산액(ZrO2 미립자의 메틸에틸케톤 분산액(고형분: 30질량％), 제품명 「MZ-230X」, 스미토모 오사카시멘트사제): 59.5질량부
·펜타에리트리톨트리아크릴레이트(제품명 「KAYARAD PET-30」, 닛본 가야꾸사제): 11.1질량부
·중합 개시제(제품명 「이르가큐어184」, BASF 재팬사제): 0.6질량부
·메틸이소부틸케톤(MIBK): 28.8질량부
(고굴절률층용 조성물 3)
·고굴절률 미립자 분산액(ZrO2 미립자의 메틸에틸케톤 분산액(고형분: 30질량％), 제품명 「MZ-230X」, 스미토모 오사카시멘트사제): 59.9질량부
·펜타에리트리톨트리아크릴레이트(제품명 「KAYARAD PET-30」, 닛본 가야꾸사제): 10.7질량부
·중합 개시제(제품명 「이르가큐어184」, BASF 재팬사제): 0.6질량부
·메틸이소부틸케톤(MIBK): 28.8질량부
(고굴절률층용 조성물 4)
·고굴절률 미립자 분산액(ZrO2 미립자의 메틸에틸케톤 분산액(고형분: 30질량％), 제품명 「MZ-230X」, 스미토모 오사카시멘트사제): 62.0질량부
·펜타에리트리톨트리아크릴레이트(제품명 「KAYARAD PET-30」, 닛본 가야꾸사제): 8.6질량부
·중합 개시제(제품명 「이르가큐어184」, BASF 재팬사제): 0.6질량부
·메틸이소부틸케톤(MIBK): 28.8질량부
<저굴절률층용 조성물의 제조>
하기에 나타내는 조성을 포함하도록 각 성분을 배합하여, 저굴절률층용 조성물을 얻었다.
(저굴절률층용 조성물 1)
·중공 실리카 미립자(중공 실리카 미립자의 메틸이소부틸케톤 분산액(고형분: 20질량％)): 40질량부
·펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PETA)(제품명 「PETIA」, 다이셀·사이텍사제): 10질량부
·중합 개시제(제품명 「이르가큐어127」, BASF 재팬사제): 0.35질량부
·변성 실리콘 오일(제품명 「X22164E」, 신에쯔 가가꾸 고교사제): 0.5질량부
·메틸이소부틸케톤(MIBK): 320질량부
·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA): 161질량부
(저굴절률층용 조성물 2)
·중공 실리카 미립자(중공 실리카 미립자의 메틸이소부틸케톤 분산액(고형분: 20질량％)): 40.5질량부
·펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PETA)(제품명 「PETIA」, 다이셀·사이텍사제): 9.5질량부
·중합 개시제(제품명 「이르가큐어127」, BASF 재팬사제): 0.35질량부
·변성 실리콘 오일(제품명 「X22164E」, 신에쯔 가가꾸 고교사제): 0.5질량부
·메틸이소부틸케톤(MIBK): 320질량부
·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA): 161질량부
(저굴절률층용 조성물 3)
·중공 실리카 미립자(중공 실리카 미립자의 메틸이소부틸케톤 분산액(고형분: 20질량％)): 41질량부
·펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PETA)(제품명 「PETIA」, 다이셀·사이텍사제): 9질량부
·중합 개시제(제품명 「이르가큐어127」, BASF 재팬사제): 0.35질량부
·변성 실리콘 오일(제품명 「X22164E」, 신에쯔 가가꾸 고교사제): 0.5질량부
·메틸이소부틸케톤(MIBK): 320질량부
·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA): 161질량부
(저굴절률층용 조성물 4)
·중공 실리카 미립자(중공 실리카 미립자의 메틸이소부틸케톤 분산액(고형분: 20질량％)): 38.4질량부
·펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PETA)(제품명 「PETIA」, 다이셀·사이텍사제): 8.4질량부
·중합 개시제(제품명 「이르가큐어127」, BASF 재팬사제): 0.35질량부
·변성 실리콘 오일(제품명 「X22164E」, 신에쯔 가가꾸 고교사제): 0.5질량부
·메틸이소부틸케톤(MIBK): 320질량부
·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA): 161질량부
(저굴절률층용 조성물 5)
·중공 실리카 미립자(중공 실리카 미립자의 메틸이소부틸케톤 분산액(고형분: 20질량％)): 35.7질량부
·펜타에리트리톨트리아크릴레이트(PETA)(제품명 「PETIA」, 다이셀·사이텍사제): 5.7질량부
·중합 개시제(제품명 「이르가큐어127」, BASF 재팬사제): 0.35질량부
·변성 실리콘 오일(제품명 「X22164E」, 신에쯔 가가꾸 고교사제): 0.5질량부
·메틸이소부틸케톤(MIBK): 320질량부
·프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA): 161질량부
<실시예 1>
투명 기재로서 굴절률이 1.62 및 두께가 125㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 기재(제품명 「코스모 샤인」, 도요 보세끼사제)를 준비하고, 폴리에틸렌테레프탈레이트 기재의 양면에, 투명층용 조성물 1을 도포하고, 도막을 형성하였다. 계속해서, 형성한 도막에 대하여 0.2m/s의 유속으로 50℃의 건조 공기를 15초간 유통시킨 후, 또한 10m/s의 유속으로 70℃의 건조 공기를 30초간 유통시켜서 건조시킴으로써 도막 내의 용제를 증발시키고, 자외선을 질소 분위기(산소 농도 200ppm 이하) 하에서 적산 광량이 100mJ/㎠가 되도록 조사하여 도막을 경화시킴으로써, 굴절률이 1.52 및 막 두께가 4.5㎛인 투명층을 형성하였다. 계속해서, 각 투명층 상에 고굴절률층용 조성물 1을 도포하고, 도막을 형성하였다. 그리고, 형성한 도막을, 40℃에서 1분간 건조시킨 후, 질소 분위기(산소 농도 200ppm 이하) 하에서, 적산 광량 100mJ/㎠로 자외선 조사를 행하여 경화시켜서, 굴절률이 1.67 및 막 두께가 50㎚인 고굴절률층을 형성하였다. 계속해서, 각 고굴절률층 상에 저굴절률층용 조성물 1을 도포하고, 도막을 형성하였다. 그리고, 형성한 도막을, 40℃에서 1분간 건조시킨 후, 질소 분위기(산소 농도 200PPm 이하) 하에서, 적산 광량 100mJ/㎠로 자외선 조사를 행하여 경화시켜서, 굴절률이 1.49 및 막 두께가 20㎚인 저굴절률층을 형성하고, 실시예 1에 따른 중간 기재 필름을 제작하였다.
<실시예 2>
실시예 2에 있어서는, 고굴절률층용 조성물 1, 저굴절률층용 조성물 1 대신 고굴절률층용 조성물 2, 저굴절률층용 조성물 2를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 중간 기재 필름을 제작하였다. 실시예 2에 따른 기재 필름의 고굴절률층의 굴절률은 1.69이며, 저굴절률층의 굴절률은 1.51이었다.
<실시예 3>
실시예 3에 있어서는, 투명층용 조성물 1, 고굴절률층용 조성물 1, 저굴절률층용 조성물 1 대신 투명층용 조성물 2, 고굴절률층용 조성물 3, 저굴절률층용 조성물 3을 사용하고, 또한 고굴절률층의 막 두께를 60㎚로 한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 중간 기재 필름을 제작하였다. 실시예 3에 따른 기재 필름의 투명층의 굴절률은 1.53이며, 고굴절률층의 굴절률은 1.70이며, 저굴절률층의 굴절률은 1.53이었다.
<비교예 1>
비교예 1에 있어서는, 투명층용 조성물 1, 고굴절률층용 조성물 1, 저굴절률층용 조성물 1 대신 투명층용 조성물 2, 고굴절률층용 조성물 4, 저굴절률층용 조성물 3을 사용하고, 또한 고굴절률층의 막 두께를 60㎚로 한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 중간 기재 필름을 제작하였다. 비교예 1에 따른 기재 필름의 투명층의 굴절률은 1.53이며, 고굴절률층의 굴절률은 1.76이며, 저굴절률층의 굴절률은 1.53이었다.
<비교예 2>
비교예 2에 있어서는, 투명층용 조성물 1, 고굴절률층용 조성물 1, 저굴절률층용 조성물 1 대신 투명층용 조성물 2, 고굴절률층용 조성물 4, 저굴절률층용 조성물 4를 사용하고, 고굴절률층의 막 두께를 65㎚로 하고, 또한 저굴절률층의 막 두께를 30㎚로 한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 중간 기재 필름을 제작하였다. 비교예 2에 따른 기재 필름의 투명층의 굴절률은 1.53이며, 고굴절률층의 굴절률은 1.76이며, 저굴절률층의 굴절률은 1.43이었다.
<비교예 3>
비교예 3에 있어서는, 고굴절률층용 조성물 1, 저굴절률층용 조성물 1 대신 고굴절률층용 조성물 2, 저굴절률층용 조성물 5를 사용하고, 고굴절률층의 막 두께를 65㎚로 하고, 또한 저굴절률층의 막 두께를 30㎚로 한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 중간 기재 필름을 제작하였다. 비교예 3에 관한 기재 필름의 고굴절률층의 굴절률은 1.76이며, 저굴절률층의 굴절률은 1.33이었다.
<a* 및 b*의 편차>
실시예 및 비교예에서 얻어진 각 중간 기재 필름에 있어서, 이하와 같이 하여, a* 및 b*의 편차를 구하였다. 구체적으로는, 닛본 분꼬우 가부시끼가이샤제의 VAR-7010을 사용하여, 5° 내지 75°의 범위 내에서 입사 각도를 5도마다 바꾸면서 저굴절률층 측으로부터 각 중간 기재 필름에 광을 조사하고, 각각의 정반사 방향으로의 반사광으로부터 a*값 및 ｂ*값을 얻었다. 측정 조건은 이하와 같이 하였다. 광원으로서, 중수소(D2) 램프와 텅스텐 할로겐(WI) 램프를 사용하고, 또한 투과축이 45° 기운 편광자를 사용하고, 측정 범위를 380㎚ 내지 780㎚로 하고, 데이터 도입 간격을 1㎚로 하고, 입사 각도와 검출기의 위치를 동기시켜, 정반사광을 도입하도록 측정을 행하였다. 또한, 저굴절률층 측으로부터 각 중간 기재 필름에 입사 각도 0°로 광을 조사하고, 각각의 정반사 방향으로의 반사광으로부터 a*값 및 b*값을, 시뮬레이션에 의해 구하였다. 구체적으로는, 시뮬레이션에 의한 입사 각도 0°일 때의 a*값 및 b*값은, CIE1931에 규정되는 2도 시야 등색 함수를 사용하여, 각 층의 굴절률층과 막 두께로부터 구하였다. 그리고, 얻어진 각 입사 각도에 있어서의 a*값 및 b*값으로부터, 그 최댓값과 최솟값의 차분 절댓값을 산출하고, a*값의 편차 및 b*값의 편차를 구하였다.
<색미의 편차>
실시예 및 비교예에서 얻어진 각 중간 기재 필름을 여러 방향에서 시인했을 때 각 중간 기재 필름의 색미가 변동되었는지 여부를 평가하였다. 평가 기준은 이하와 같았다.
○: 색미의 편차를 확인할 수 없었다.
×: 색미의 편차를 확인할 수 있었다.
이하, 결과를 표 1 내지 표 3에 나타낸다.
Figure 112014101305650-pat00001
Figure 112014101305650-pat00002
Figure 112014101305650-pat00003
표 3에 도시되는 바와 같이, 비교예 1 내지 3의 중간 기재 필름은, a*값의 편차가 1.0 이내이며 또한 b*값의 편차가 1.6 이내라고 하는 요건을 충족시키지 않았으므로, 색미의 편차를 억제할 수 없었다.
이에 비해, 실시예 1 내지 3의 중간 기재 필름은, a*값의 편차가 1.0 이내이며 또한 b*값의 편차가 1.6 이내라는 요건을 충족시켰으므로, 색미의 변화를 억제할 수 있었다.
10, 60: 중간 기재 필름
11: 투명 기재
11A, 11B: 면
12: 제1 투명층
13: 제1 고굴절률층
14: 제1 저굴절률층
15: 제2 투명층
20, 50, 80: 터치 패널 센서
31, 51, 71: 제1 도전층
41, 52, 72: 제2 도전층
61: 제2 고굴절률층
62: 제2 저굴절률층

Claims (7)

  1. 패터닝된 도전층을 지지하기 위한 중간 기재 필름이며,
    투명 기재와,
    상기 투명 기재의 한쪽 면 상에 적층되고 굴절률이 1.47 이상 1.57 이하이며 또한 막 두께가 1㎛ 이상인 제1 투명층과,
    상기 제1 투명층 상에 적층되고 굴절률이 1.62 이상 1.72 이하이며 또한 막 두께가 20㎚ 이상 80㎚ 이하인 제1 고굴절률층과,
    상기 제1 고굴절률층 상에 적층되고 굴절률이 1.44 이상 1.54 이하이며 또한 막 두께가 3㎚ 이상 45㎚ 이하인 제1 저굴절률층을 구비하고,
    상기 중간 기재 필름의 표면의 법선 방향을 0°로 하고, 0° 이상 75° 이하의 범위 내에서 입사 각도를 5도마다 바꾸면서 상기 제1 저굴절률층 측으로부터 상기 중간 기재 필름에 광을 조사하고, 각각의 정반사 방향으로의 반사광으로부터 L*a*b* 표색계의 a*값 및 b*값을 구했을 때, a*값의 편차가 1.0 이내이며 또한 b*값의 편차가 1.6 이내인 중간 기재 필름.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 고굴절률층과 상기 제1 저굴절률층의 굴절률차가 0.10 이상 0.22 이하인 중간 기재 필름.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1 투명층과 상기 제1 고굴절률층의 굴절률차가 0.05 이상 0.15 이하인 중간 기재 필름.
  4. 제1항에 있어서, 상기 투명 기재가 폴리에스테르 기재인 중간 기재 필름.
  5. 제1항에 있어서, 상기 투명 기재에 있어서의 상기 한쪽 면과는 반대측의 면 상에 적층되고 굴절률이 1.47 이상 1.57 이하이며 또한 막 두께가 1㎛ 이상인 제2 투명층과,
    상기 제2 투명층 상에 적층되고 굴절률이 1.62 이상 1.72 이하이며 또한 막 두께가 20㎚ 이상 80㎚ 이하인 제2 고굴절률층과,
    상기 제2 고굴절률층 상에 적층되고 굴절률이 1.44 이상 1.54 이하이며 또한 막 두께가 3㎚ 이상 45㎚ 이하인 제2 저굴절률층을 더 구비하는 중간 기재 필름.
  6. 제1항에 기재된 중간 기재 필름과,
    상기 중간 기재 필름의 상기 제1 저굴절률층 상에 적층되고 또한 패터닝된 제1 도전층
    을 구비하는 터치 패널 센서.
  7. 제5항에 기재된 중간 기재 필름과,
    상기 중간 기재 필름의 상기 제1 저굴절률층 상에 적층되고 또한 패터닝된 제1 도전층과,
    상기 중간 기재 필름의 상기 제2 저굴절률층 상에 적층되고 또한 패터닝된 제2 도전층
    을 구비하는 터치 패널 센서.
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