KR101477383B1 - 방향성 전기강판 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

균질화 열처리 이후, 저온 열처리를 실시함으로써 우수한 전자기적 특성을 확보할 수 있는 방향성 전기강판 및 그 제조 방법에 대하여 개시한다.
본 발명에 따른 방향성 전기강판 제조 방법은 탄소(C) : 0 중량% 초과 ~ 0.0017 중량% 이하, 실리콘(Si) : 0 중량% 초과 ~ 2.0 중량% 이하 및 나머지 철(Fe)과 불가피한 불순물로 이루어진 슬라브 판재를 열간압연한 후, 냉각하는 열연 단계; 상기 냉각된 판재를 산세한 후, 상기 판재의 표면에 실리카 직물을 부착하여 냉간압연하는 냉간압연 단계; 상기 냉간압연된 판재를 균질화 열처리하여, 상기 판재의 내부로 실리콘을 확산시켜 상기 실리콘(Si)의 함량을 6.4 ~ 6.6 중량%로 증가시키는 균질화 열처리 단계; 및 상기 균질화 열처리된 판재를 500 ~ 700℃에서 0.5 ~ 2시간 동안 저온 열처리하는 저온 열처리 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

방향성 전기강판 및 그 제조 방법 {ORIENTED ELECTRICAL STEEL SHEET AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 방향성 전기강판 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 균질화 열처리 이후, 저온 열처리를 실시함으로써 우수한 전자기적 특성을 확보할 수 있는 방향성 전기강판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
변압기 및 모터의 철심재료로 사용되는 방향성 전기강판은 실리콘(Si)의 함량을 높여 철손을 획기적으로 줄일 수 있다. 이러한 방향성 전기강판은 강판면의 결정방위가 (110)면이고 압연방향의 결정방위는 [001]축에 평행한 고스 집합조직(Goss Texture)을 갖는 결정립들로 이루어져 압연방향으로 자기특성이 우수한 연자성 재료이다.
이러한 방향성 전기강판에 요구되는 특성은 높은 자속밀도와 낮은 철손이다. 자속밀도는 1축이 압연방향으로 배열되어 있는 정도에 따라 결정되는 것으로서, 자속밀도가 높으면 철심재료를 적게 사용하더라도 같은 성능을 발휘할 수 있으므로 전기기기를 소형화 할 수 있다.
기존의 전기강판은 높은 규소함량 때문에 취성이 증가하여 압연을 이용하여 제작하기 어려운 문제점이 있었다. 그리하여, 기존의 전기강판은 SiCl4를 이용한 화학 증착법으로 제작하거나, SiO2 직물을 이용한 고온 확산법으로 제작되어 왔다.
관련 선행 문헌으로는 대한민국 공개특허공보 제10-2011-0063187호(2011.06.10. 공개)가 있으며, 상기 문헌에는 저철손 고자속밀도 방향성 전기강판이 기재되어 있다.
본 발명의 목적은 실리콘의 함량이 6.4 ~ 6.6 중량%로 첨가되어 우수한 전자기적 특성을 만족시킬 수 있는 방향성 전기강판을 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 방법으로 제조되어, 자속밀도 1.0T 및 주파수 60Hz에서의 철손값(W/Kg)이 0.33 이하를 나타내는 방향성 전기강판을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 방향성 전기강판 제조 방법은 탄소(C) : 0 중량% 초과 ~ 0.0017 중량% 이하, 실리콘(Si) : 0 중량% 초과 ~ 2.0 중량% 이하 및 나머지 철(Fe)과 불가피한 불순물로 이루어진 슬라브 판재를 열간압연한 후, 냉각하는 열연 단계; 상기 냉각된 판재를 산세한 후, 상기 판재의 표면에 실리카 직물을 부착하여 냉간압연하는 냉간압연 단계; 상기 냉간압연된 판재를 균질화 열처리하여, 상기 판재의 내부로 실리콘을 확산시켜 상기 실리콘(Si)의 함량을 6.4 ~ 6.6 중량%로 증가시키는 균질화 열처리 단계; 및 상기 균질화 열처리된 판재를 500 ~ 700℃에서 0.5 ~ 2시간 동안 저온 열처리하는 저온 열처리 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 방향성 전기강판은 탄소(C) : 0 중량% 초과 ~ 0.0017 중량% 이하, 실리콘(Si) : 6.4 ~ 6.6 중량% 및 나머지 철(Fe)과 불가피한 불순물로 이루어지며, 균질화 열처리를 실시한 이후 저온 열처리를 실시하는 것에 의해, FeSi 및 Fe3Si의 규칙상이 제어되어, 자속밀도 1.0T 및 주파수 60Hz에서의 철손값(W/Kg)이 0.33 이하를 나타내는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 방향성 전기강판 및 그 제조 방법은 실리콘의 함량을 6.4 ~ 6.6 중량%로 엄격히 제한함과 더불어, 균질화 열처리를 실시한 이후 저온 열처리를 실시하는 것에 의해, FeSi 및 Fe3Si의 규칙상이 제어되어, 자속밀도 1.0T 및 주파수 60Hz에서의 철손값(W/Kg)이 0.33 이하를 나타낼 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 방향성 전기강판 및 그 제조 방법은 저철손 효과를 가지며, 이 결과 우수한 전자기적 특성을 발휘할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 방향성 전기강판 제조 방법을 나타낸 공정 순서도이다.
도 2는 실시예 1 및 비교예 1에 따른 시편에 대한 철손 실험 결과를 나타낸 그래프이다.
도 3은 비교예 1에 따른 시편에 대한 미세조직을 나타낸 사진이다.
도 4는 실시예 1에 따른 시편에 대한 미세조직을 나타낸 사진이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 방향성 전기강판 및 그 제조 방법에 대하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
전기강판
본 발명에 따른 전기강판은 자속밀도 1.0T 및 주파수 60Hz에서의 철손값(W/Kg)이 0.33 이하를 나타내는 것을 목표로 한다.
이를 위해, 본 발명에 따른 전기강판은 탄소(C) : 0 중량% 초과 ~ 0.0017 중량% 이하, 실리콘(Si) : 6.4 ~ 6.6 중량% 및 나머지 철(Fe)과 불가피한 불순물로 이루어진다.
이때, 상기 전기강판은 균질화 열처리를 실시한 이후 저온 열처리를 실시하는 것에 의해, FeSi 및 Fe3Si의 규칙상이 제어된다.
또한, 상기 강판은 망간(Mn) : 0.01 ~ 0.50 중량%, 인(P) : 0.003 중량% 이하, 황(S) : 0.001 중량% 이하 및 알루미늄(Al) : 0.01 중량% 이하 중 1종 이상을 더 포함할 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 전기강판에 포함되는 각 성분의 역할 및 그 함량에 대하여 설명하면 다음과 같다.
탄소(C)
탄소(C)는 고용 상태로 철(Fe) 원자 격자구조 내에 존재하다가 성형과정에서 이동하여 전위 부분에 자리 잡음으로서 전위의 이동을 방해하여 제품의 성형특성을 악화시키는 요인으로 작용한다.
특히, 자기시효현상은 수요자가 방향성 전기강판을 변압기로 가공 조립하여 사용할 때에 변압기 자체의 온도가 상승하게 되고, 이에 따라 소재 내부에 있던 잔존 탄소성분이 Fe3C 등의 탄화물로 되는 현상을 말한다. 이 탄화물이 결정입계에 석출되어 자구의 이동을 방해하기 때문에 자기적특성이 열화되어서 생기는 것이며, 이는 열처리 전에 탈탄소둔 공정을 수행함으로써 해소될 수 있다.
다만, 탄소(C) 함량이 0.0017 중량% 이하를 초과할 경우에는 균질화 열처리를 실시함에도 불구하고 자기시효 현상이 현저해질 수 있다. 따라서, 탄소(C)는 본 발명에 따른 전기강판 전체 중량의 0 중량% 초과 ~ 0.0017 중량% 이하의 함량비로 제한하는 것이 바람직하다.
실리콘(Si)
실리콘(Si)은 전기강판의 기본 조성으로 소재의 비저항을 증가시켜 철심손실(core loss) 즉, 철손을 낮추는 역할을 한다.
상기 실리콘(Si)은 본 발명에 따른 전기강판 전체 중량의 6.4 ~ 6.6 중량%의 함량비로 첨가하는 것이 바람직하다. 실리콘(Si)의 함량이 6.4 중량% 미만일 경우 비저항이 감소하여 철손특성이 열화되는 문제가 있다. 반대로, 실리콘(Si)의 함량이 6.6 중량%를 초과하여 과잉 첨가될시에는 강의 취성이 커져 냉간압연이 극히 어려워지는 문제가 있다.
망간(Mn)
망간(Mn)은 재가열시 석출물의 고용온도를 낮추며 열간압연시 소재 양 끝 부분에 생성되는 크랙을 방지하는 역할을 하므로 많이 첨가할수록 유리하다.
따라서, 망간(Mn)은 본 발명에 따른 전기강판 전체 중량의 0.01 ~ 0.50 중량%의 함량비로 첨가하는 것이 바람직하다. 망간(Mn)의 함량이 0.01 중량% 미만일 경우에는 열간압연시 크랙에 의한 불량이 발생할 위험이 높아진다. 반대로, 망간(Mn)의 함량이 0.50 중량%를 초과할 경우에는 포스테라이트피막의 밀착성이 악화되는 문제가 있다.
인(P)
인(P)은 탄소와 마찬가지로 원자반경이 작아서 철(Fe) 결정 내에서 이동도가 높으며 이러한 원자크기로 인하여 이 원소가 결정입계의 결함부위에 우선적으로 자리잡는 특성을 발휘한다. 이와 같이 결함부위에 우선적으로 자리잡은 인(P)은 결정입계를 통한 폭발적인 철(Fe)확산을 차단시킴으로써, 초기 합금화 과정에서 감마-합금상 형성을 억제해주는 역할을 한다.
다만, 인(P) 함량이 필요 이상으로 높으면 반대로 철(Fe)의 확산이 억제되어 과도한 합금화 온도를 필요로 하게 되고, 이러한 온도 상승에 따라 감마-합금상 생성이 촉진되어 파우더링 현상을 야기하는 요인이 되기도 한다. 따라서, 인(P)은 본 발명에 따른 전기강판 전체 중량의 0.003 중량% 이하의 함량비로 제한하는 것이 바람직하다.
황(S)
황(S)은 망간(Mn)과 유화물의 석출물을 형성하는 역할을 하나, 황의 함량이 과다하면 열연공정에서 재가열시 중심편석부의 고용 및 확산이 어려워질 수 있다.
따라서, 황(S)은 본 발명에 따른 전기강판 전체 중량의 0.001 중량% 이하의 함량비로 제한하는 것이 바람직하다.
알루미늄(Al)
알루미늄(Al)은 최종적으로 AlN, (Al,Si)N, (Al,Si,Mn)N 형태의 질화물로 되어 억제제로 작용하는 역할을 한다.
다만, 본 발명에서 알루미늄(Al)의 함량이 0.01 중량%를 초과하여 다량 첨가될 경우에는 Al 계열의 질화물이 너무 조대하게 석출, 성장하므로 억제제로의 효과가 부족해진다. 따라서, 본 발명에서는 알루미늄의 함량을 전기강판 전체 중량의 0.01 중량% 이하로 제한하였다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 방향성 전기강판 제조 방법을 나타낸 공정 순서도이다.
도 1을 참조하면, 도시된 본 발명의 실시예에 따른 방향성 전기강판 제조 방법은 열연 단계(S110), 냉간압연 단계(S120), 균질화 열처리 단계(S130) 및 저온 열처리 단계(S130)를 포함한다.
열연
열연 단계(S110)에서는 탄소(C), 실리콘(Si) 및 나머지 철(Fe)과 불가피한 불순물로 이루어진 강을 열간압연한 후, 냉각한다.
구체적으로 설명하면, 열연 공정은 탄소(C) : 0 중량% 초과 ~ 0.0017 중량% 이하, 실리콘(Si) : 0 중량% 초과 ~ 2.0 중량% 이하 및 나머지 철(Fe)과 불가피한 불순물로 이루어지는 슬라브 판재를 1150 ~ 1250℃에서 재가열하고, 900 ~ 1000℃에서 마무리 열간압연한 후, 500 ~ 600℃에서 냉각하는 방식으로 실시될 수 있다.
또한, 상기 슬라브 판재에는 망간(Mn) : 0.01 ~ 0.50 중량%, 인(P) : 0.003 중량% 이하, 황(S) : 0.001 중량% 이하 및 알루미늄(Al) : 0.01 중량% 이하 중 1종 이상이 더 포함되어 있을 수 있다.
이때, 열간압연은 판재 내 조직을 일방향성으로 압연함으로써 스트레인(strain)을 야기시키면 자기적 특성에 관여하는 집합 조직 즉, 고스 조직(Goss structure)의 생성을 활성화시킬 수 있게 된다. 이에 따라, 열간압연을 열간상태에서 실시하기만 하여도 판재에 우수한 자성을 부여할 수 있게 된다. 이러한 마무리 열간압연은 900 ~ 1000℃에서 실시하는 것이 바람직하다. 마무리 열간압연 온도가 900℃ 미만인 경우, 공정 부하로 인해 판재의 표면결함을 유발할 수 있으며, 압연 롤의 파단이 발생할 수 있다. 반대로, 마무리 열간압연 온도가 1000℃를 초과하는 경우에는 압연시 판재의 연성증가로 인해 스트레인을 효과적으로 발휘할 수 있다.
냉간압연
냉간압연 단계(S120)에서는 냉각된 판재를 산세한 후, 판재의 표면에 실리카 직물을 부착하여 냉간압연한다. 이때, 실리콘 직물은 판재의 표면에 10㎛ 이하의 두께로 부착하는 것이 바람직하다.
냉간압연은 60 ~ 80%의 압하율로 수행하는 것이 바람직하다. 냉간압연의 압하율이 60% 미만일 경우는 열연 조직의 변형효과가 작다. 반대로, 압하율이 80%를 초과할 경우에는 더 이상의 효과 상승 없이 과도한 압연으로 인한 공정 비용만을 상승시키는 문제가 있다.
균질화 열처리
균질화 열처리 단계(S130)에서는 냉간압연된 판재를 균질화 열처리하여, 판재의 내부로 실리콘을 확산시킨다. 이때, 냉간압연된 판재의 내부로 실리콘이 확산되어, 최종 제조되는 판재에서 실리콘의 함량을 6.4 ~ 6.6 중량%로 증대시킨다. 이러한 실리콘의 함량 증대에 의하여, 저철손 효과가 향상될 수 있다.
이때, 균질화 열처리는 1100 ~ 1200℃에서 5 ~ 15시간 동안 실시하는 것이 바람직하다. 균질화 열처리 온도가 1100℃ 미만일 경우에는 FeSi 및 Fe3Si의 규칙상이 균일하게 분포시키는데 어려움이 따를 수 있다. 반대로, 균질화 열처리 온도가 1200℃를 초과하는 경우에서는 더 이상의 효과 상승 없이 제조 비용 및 시간만을 상승시키는 요인으로 작용하므로, 경제적이지 못하다.
또한, 균질화 열처리 시간이 5시간 미만인 경우에는 실리콘의 확산이 원활히 이루어지지 못할 우려가 크다. 반대로, 균질화 열처리 시간이 15시간을 초과하는 경우에는 더 이상의 효과 상승 없이 전기강판의 제조 비용만을 상승시키는 용인으로 작용한다.
이러한 균질화 열처리는 고순도의 수소(H2) 분위기에서 실시하는 것이 바람직한데, 이는 강판 표면의 불필요한 산화를 방지하기 위함이다. 이때, 균질화 열처리는 연속소둔 방식 및 상자소둔 방식으로 수행할 수 있으나, 실리콘의 충분한 확산을 고려할 때, 상자소둔 방식을 이용하는 것이 보다 바람직하다.
저온 열처리
저온 열처리 단계(S140)에서는 균질화 열처리된 판재를 500 ~ 700℃에서 0.5 ~ 2시간 동안 저온 열처리한다.
저온 열처리는 FeSi 및 Fe3Si의 규칙상이 큰 폭으로 성장하도록 유도하기 위한 목적으로 실시하게 된다. 특히, 이러한 FeSi 및 Fe3Si의 규칙상의 성장은 자화 과정 중 피닝(pinning) 사이트를 감소시키는 효과를 발휘하여 철손을 저감시켜 전자기적 특성을 향상시키는 역할을 하게 된다.
본 단계에서, 저온 열처리 온도가 500℃ 미만이거나, 또는 저온 열처리 시간이 0.5 시간 미만일 경우에는 FeSi 및 Fe3Si의 규칙상을 큰 폭으로 성장시키는데 어려움이 따를 수 있다. 반대로, 저온 열처리 온도가 700℃를 초과하거나, 또는 저온 열처리 시간이 2시간을 초과할 경우에는 더 이상의 효과 상승 없이 제조 비용 및 시간만을 증가시키는 요인으로 작용할 수 있으므로, 경제적이지 못하다.
이러한 저온 열처리는 고순도의 수소(H2) 분위기에서 실시하는 것이 바람직한데, 이는 강판 표면의 불필요한 산화를 방지하기 위함이다. 이때, 저온 열처리는 연속소둔 방식 및 상자소둔 방식으로 수행할 수 있으나, FeSi 및 Fe3Si의 규칙상의 성장을 고려할 때, 상자소둔 방식을 이용하는 것이 보다 바람직하다.
상기의 과정(S110 ~ S140)으로 제조되는 전기강판은 균질화 열처리를 실시한 이후 500 ~ 700℃에서 0.5 ~ 2시간 동안 저온 열처리를 실시하는 것에 의해, FeSi 및 Fe3Si의 규칙상이 제어되어, 자속밀도 1.0T 및 주파수 60Hz에서의 철손값(W/Kg)이 0.33 이하를 나타낼 수 있다.
이를 통해, 본 발명에 따라 제조되는 전기강판은 저온 열처리를 실시하는 것을 통해, FeSi 및 Fe3Si의 규칙상이 큰 폭으로 성장하도록 유도하여 자화 과정 중 피닝(pinning) 사이트의 감소로 철손을 저감시켜 전자기적 특성을 향상시킬 수 있다.
따라서, 본 발명에 따라 제조되는 전기강판은 전자기적 특성 향상을 통해 전력손실을 억제할 수 있고, 또한 전자기적 수명을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.
실시예
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.
여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.
1. 시편 제조
실시예 1
C : 0.0015 wt%, Si : 3.0 wt%, Mn : 0.1 wt% 및 나머지 Fe와 불가피한 불순물로 이루어진 슬라브 판재를 1180℃에서 재가열하고, 940℃에서 마무리 열간압연한 후, 520℃까지 냉각하였다.
이후, 냉각된 판재를 산세한 후, 판재의 표면에 30㎛의 두께를 갖는 실리카 직물(한솔신소재 제조)을 부착하여 75%의 압하율로 냉간압연하였다.
이후, 1100℃에서 10시간 동안 균질화 열처리를 실시한 후, 600℃에서 1시간 동안 저온 열처리를 실시하였다. 이때, 균질화 열처리 및 저온 열처리는 수소 가스 분위기 하에서 상자소둔 방식으로 실시하였다.
실시예 2
1150℃에서 15시간 동안 균질화 열처리를 실시한 후, 650℃에서 50분 동안 저온 열처리를 실시한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방식으로 시편을 제조하였다.
실시예 3
700℃에서 40분 동안 저온 열처리를 실시한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방식으로 시편을 제조하였다.
비교예 1
C : 0.0014 wt%, Si : 3.0 wt%, Mn : 0.5 wt% 및 나머지 Fe와 불가피한 불순물로 이루어진 슬라브 판재를 1180℃에서 재가열하고, 940℃에서 마무리 열간압연한 후, 520℃까지 냉각하였다.
이후, 냉각된 판재를 산세한 후, 판재의 표면에 30㎛의 두께를 갖는 실리카 직물(한솔신소재 제조)을 부착하여 75%의 압하율로 냉간압연하였다.
이후, 1300℃에서 8시간 동안 균질화 열처리를 실시하였다. 이때, 균질화 열처리는 수소 가스 분위기 하에서 상자소둔 방식으로 실시하였다.
비교예 2
900℃에서 4시간 동안 균질화 열처리를 실시한 것을 제외하고는 비교예 1과 동일한 방식으로 시편을 제조하였다.
2. 철손값 측정
표 1은 실시예 1 ~ 3 및 비교예 1 ~ 2에 따라 제조된 시편들에 대한 철손값 측정 결과를 나타낸 것이고, 도 2는 실시예 1 및 비교예 1에 따른 시편에 대한 철손값 측정 결과를 나타낸 그래프이다. 이때, 철손값 측정은 자속밀도 1.0T 및 주파수 60Hz의 조건으로 실시하였다.
[표 1]
Figure 112013027245604-pat00001
표 1 및 도 2를 참조하면, 균질화 열처리 이후 저온 열처리를 실시한 실시예 1 ~ 3의 경우, 자속밀도 1.0T 및 주파수 60Hz에서의 철손값(W/Kg)이 0.33 이하를 나타내는 것을 확인할 수 있다.
반면, 저온 열처리를 실시하는 것 없이 균질화 열처리만을 실시한 비교예 1 ~ 2에 따라 제조된 시편들의 경우, 자속밀도 1.0T 및 주파수 60Hz에서의 철손값(W/Kg)이 0.366W/Kg 및 0.351W/Kg으로 각각 측정된 것을 알 수 있다.
도 3은 비교예 1에 따른 시편에 대한 미세조직을 나타낸 사진이고, 도 4는 실시예 1에 따른 시편에 대한 미세조직을 나타낸 사진이다.
도 3의 (a) 및 (b)에 도시된 바와 같이, 비교예 1에 따라 제조된 시편의 경우, FeSi 및 Fe3Si의 규칙상들의 성장이 제대로 이루어지지 못한 것을 확인할 수 있다. 이에 반해, 도 4의 (a) 및 (b)에 도시된 바와 같이, 실시예 1에 따라 제조된 시편의 경우, 저온 열처리에 의해 FeSi 및 Fe3Si의 규칙상들이 큰 폭으로 성장하였고, 이러한 FeSi 및 Fe3Si의 규칙상들의 성장으로 자화 과정 중 피닝 사이트가 감소한 것으로 파악된다.
이상 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
S110 : 열연 단계
S120 : 냉간압연 단계
S130 : 균질화 열처리 단계
S140 : 저온 열처리 단계

Claims (5)

  1. 탄소(C) : 0 중량% 초과 ~ 0.0017 중량% 이하, 실리콘(Si) : 0 중량% 초과 ~ 2.0 중량% 이하 및 나머지 철(Fe)과 불가피한 불순물로 이루어진 슬라브 판재를 열간압연한 후, 냉각하는 열연 단계;
    상기 냉각된 판재를 산세한 후, 상기 판재의 표면에 실리카 직물을 부착하여 냉간압연하는 냉간압연 단계;
    상기 냉간압연된 판재를 균질화 열처리하여, 상기 판재의 내부로 실리콘을 확산시켜 상기 실리콘(Si)의 함량을 6.4 ~ 6.6 중량%로 증가시키는 균질화 열처리 단계; 및
    상기 균질화 열처리된 판재를 500 ~ 700℃에서 0.5 ~ 2시간 동안 저온 열처리하는 저온 열처리 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 방향성 전기강판 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 균질화 열처리는
    1100 ~ 1200℃에서 5 ~ 15시간 동안 실시하는 것을 특징으로 하는 방향성 전기강판 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 균질화 열처리 및 저온 열처리 각각은
    상자소둔 방식으로 실시하는 것을 특징으로 하는 방향성 전기강판 제조 방법.
  4. 탄소(C) : 0 중량% 초과 ~ 0.0017 중량% 이하, 실리콘(Si) : 6.4 ~ 6.6 중량% 및 나머지 철(Fe)과 불가피한 불순물로 이루어지며,
    균질화 열처리를 실시한 이후 저온 열처리를 실시하는 것에 의해, FeSi 및 Fe3Si의 규칙상이 제어되어, 자속밀도 1.0T 및 주파수 60Hz에서의 철손값(W/Kg)이 0.33 이하를 나타내는 것을 특징으로 하는 방향성 전기강판.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 강판은
    망간(Mn) : 0.01 ~ 0.50 중량%, 인(P) : 0.003 중량% 이하, 황(S) : 0.001 중량% 이하 및 알루미늄(Al) : 0.01 중량% 이하 중 1종 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방향성 전기강판.
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