KR101477069B1 - Dust removing device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 제진 대상의 한쪽만을 제진하는 제진 장치에서, 제진 헤드에 대향하는 간단한 구성의 받이부를 추가하고, 인접하는 제진 대상 사이의 간극을 통과하는 분사실로부터의 세정 가스의 흐르는 방향을 바꾼 후에 흡인실에서 흡인하도록 하여, 불필요한 먼지의 비산을 저감하는 제진 장치를 제공한다. 본 발명은, 제진 헤드(100)에 대향하도록 배치되고, 분사실(111)의 분사구(111a)로부터 분사된 세정 가스를 받아서 방향을 전환시키는 받이부(200)를 포함하고, 인접하는 2개의 제진 대상(10) 사이의 간극을 향해 분사실(111)의 분사구(111a)로부터 세정 가스를 분사하고, 받이부(200)에서 방향을 전환시킨 세정 가스를 상류측 흡인실(112)의 흡인구(112a) 및 하류측 흡인실(113)의 흡인구(113a)로부터 흡인하는 제진 장치(1)를 제공한다.The present invention relates to a vibration damping device for damping only one side of a vibration damping object, in which a receiving portion having a simple structure opposed to the vibration damping head is added and the direction of flow of the cleaning gas passing through the gap between adjacent vibration damping objects is changed, The present invention provides a vibration damping device capable of sucking in a yarn to reduce scattering of unnecessary dust. The present invention includes a receiving unit (200) arranged to face a vibration deadening head (100) and adapted to receive a cleaning gas injected from a jetting port (111a) of a jet mill (111) The cleaning gas is injected from the injection port 111a of the branch pipe 111 toward the gap between the objects 10 and the cleaning gas whose direction is switched by the receiving unit 200 is supplied to the suction port of the upstream suction chamber 112 112a of the downstream suction chamber 113 and the suction port 113a of the downstream suction chamber 113 are provided.
Description
본 발명은, 제진 대상에 대하여, 공기나 희가스 등의 단순한 청정 가스, 초음파 주파수로 진동하는 초음파를 포함하는 가스, 양 이온 및 음 이온을 포함하는 가스, 또는 초음파와 이온을 함께 포함하는 가스(이하, 이들을 총칭하여 "세정 가스"라고 한다)를 분사하여 제진을 행하는 제진 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a method for controlling a vibration damping object, which comprises applying a simple clean gas such as air or noble gas, a gas containing ultrasonic waves vibrating at an ultrasonic frequency, a gas containing a positive ion and a negative ion, , Hereinafter referred to as "cleaning gas").
TFT(박막 트랜지스터) 액정 패널, PDP(플라즈마 디스플레이 패널), LCD(액정 디스플레이) 등에 사용되는 유리 기판, 태양 전지 패널, 또는 긴 종이, 필름 등의 시트 등의 제진 대상(이하, 간단하게 "제진 대상"이라고 한다)에 대하여, 제진 장치에 의해 제진이 행해지고 있다.(Hereinafter simply referred to as "object to be damped ") such as a glass substrate used for a TFT (thin film transistor) liquid crystal panel, a PDP (Plasma Display Panel) Quot;) is subjected to vibration suppression by a vibration suppression device.
이와 같은 제진 장치에 관한 종래 기술로서, 예를 들면, 특허 문헌 1(일본 특허출원 공개번호 2004-41851호 공보, 발명의 명칭 "제진 헤드")에 기재된 발명이 알려져 있다.As a conventional technique related to such a vibration suppression device, for example, there is known an invention disclosed in Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-41851, entitled " vibration suppression head ").
상기 특허 문헌 1에 기재된 종래 기술에서는, 중앙의 분사실과 이 분사실의 양쪽에 흡인실을 가지는 제진 헤드에 관한 것이다.In the prior art described in the above Patent Document 1, a vibration damping head having a suction chamber on both the central minute axis and the minute axis is concerned.
[특허 문헌 1] 일본 특허출원 공개번호 2004-41851호 공보(단락 번호 [0003], 도 5) [Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-41851 (paragraph No. [0003], Fig. 5)
통상적인 제진 장치에서는 제진 헤드가 상하로 배치된다. 이와 같은 제진 장치에서는, 컨베이어 상으로 반송되는 복수의 유리 기판을 연속적으로 제진하는 경우, 인접하는 유리 기판 등 제진 대상 사이의 간극을 세정 가스로 분사해도, 상하의 제진 헤드에 세정 가스가 분사되어, 제진 헤드 이외의 개소에 세정 가스가 분사되어 먼지 등이 감겨올라갈 우려는 극히 적다.In a conventional vibration damping device, the vibration damping head is arranged vertically. In such a vibration damping apparatus, even when a plurality of glass substrates conveyed on a conveyor are continuously damped, even if a gap between the vibration damping objects such as an adjacent glass substrate is jetted by the cleaning gas, the cleaning gas is sprayed to the upper and lower damping heads, It is very unlikely that the cleaning gas will be sprayed to a portion other than the head and the dust or the like will be wound up.
그러나, 특허 문헌 1의 도 5의 (b)에 나타낸 바와 같이, 아래쪽에 제진 헤드가 없는 경우도 있다. 이와 같은 제진 장치가 인접하는 유리 기판 등 제진 대상 사이의 간극에 세정 가스를 분사했을 때, 아래쪽까지(극단적인 경우 장치 탑재 바닥까지) 세정 가스가 도달한다. 제진 장치는 클린룸에 설치되어 있지만, 약간의 먼지를 불어 올리게 되어 제진 환경을 나쁘게 할 우려가 있다.However, as shown in Fig. 5 (b) of Patent Document 1, the vibration deadening head may not be provided on the lower side. When such a vibration damping device sprays a cleaning gas to a gap between objects to be damped such as an adjacent glass substrate, the cleaning gas reaches downward (in the extreme case, to the bottom of the device). Although the vibration suppression device is installed in a clean room, it may cause some dust to be blown up, thereby deteriorating the vibration control environment.
또한, 인접하는 유리 기판 등 제진 대상의 간극과 분사 구멍이 대향하고 있는 동안 세정 가스의 분사를 정지하는 것도 고려할 수 있지만, 이 경우 세정 가스의 유로에 전환 밸브를 설치할 필요가 있다. 전환 밸브의 전환 시에는 밀봉용 패킹으로부터 이탈한 미소한 이물질 등이 세정 가스에 혼입되는 경우가 있어서, 제진 능력을 저하시킬 우려가 있다.In addition, it is also possible to consider stopping the injection of the cleaning gas while the gap between the object to be damped and the injection hole face each other, such as an adjacent glass substrate, but in this case, it is necessary to provide a switching valve in the flow path of the cleaning gas. Minute foreign matters separated from the sealing packing may be mixed into the cleaning gas at the time of switching the switching valve, which may lower the vibration damping ability.
그래서, 본 발명은 전술한 과제를 해결하기 위해 이루어진 것이며, 그 목적은, 제진 대상의 한쪽 만을 제진하는 제진 장치에서, 제진 헤드에 대향하는 간단한 구성의 받이부를 추가하고, 인접하는 제진 대상 사이의 간극을 통과하는 분사실로 부터의 세정 가스의 흐르는 방향을 바꾼 후에 흡인실에서 흡인하도록 하여, 불필요한 먼지의 비산을 저감하는 제진 장치를 제공하는 것에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a vibration damping device for vibration damping of only one side of a vibration damping object, And a suction device for sucking the cleaning gas in the suction chamber after changing the flow direction of the cleaning gas from the dust chamber passing through the dust chamber passing through the dust chamber, thereby reducing scattering of unnecessary dust.
본 발명의 청구항 1에 따른 제진 장치는,According to Claim 1 of the present invention,
흡인구를 포함하는 흡인실 및 분사구를 포함하는 분사실을 각각 하나 이상 포함하는 제진 헤드와,A vibration damping head including at least one or more discharge chambers each including a suction chamber including a suction port and an injection port,
제진 헤드 내로 복수의 제진 대상을 차례로 반송하는 반송부와,A conveying section for sequentially conveying a plurality of objects to be damped into a vibration damping head,
제진 헤드에 대향하도록 배치되고, 분사실의 분사구로부터 분사된 세정 가스를 받아서 방향을 전환시키는 받이부A receiving portion which is disposed so as to face the vibration deadening head and which receives the cleaning gas injected from the jetting port of the branching portion to switch the direction,
를 포함하고,Lt; / RTI >
제진 대상을 향해 분사실의 분사구로부터 세정 가스를 분사할 때의 흡인실은, 제진 대상으로부터 튀어서 되돌아오는 세정 가스를 상기 흡인구로부터 흡인하고, 또한,The suction chamber at the time of jetting the cleaning gas from the jet port of the branch pipe towards the object to be damped sucks the cleaning gas which is springing back from the object to be damped from the suction port,
인접하는 2개의 제진 대상 사이의 간극을 향해 분사실의 분사구로부터 세정 가스를 분사할 때의 흡인실은, 받이부에서 방향을 전환시킨 세정 가스를 상기 흡인구로부터 흡인하는 것을 특징으로 한다.Characterized in that the suction chamber for blowing the cleaning gas from the jet port of the branch pipe toward the gap between two adjacent vibration control objects sucks the cleaning gas whose direction has been switched from the suction port from the suction port.
또한, 본 발명의 청구항 2에 따른 제진 장치는, 청구항 1에 기재된 제진 장치에 있어서,According to a second aspect of the present invention, in the vibration damping device of the first aspect,
상기 받이부는, 세정 가스가 통과하는 통과 구멍과, 평면과 곡면에 의해 형성되어 통과 구멍과 연통되는 단면이 활모양 공간으로서 곡면이 흡인구나 분사구와 대향하고, 또한 평면이 제진 대상의 반송 방향과 실질적으로 평행하게 위치하는 받이 공간을 포함하고,The receiving portion has a through hole through which the cleaning gas passes, and a curved surface formed by a flat surface and a curved surface and communicating with the through hole. The curved surface is opposed to the suction port or the jetting port. And a receiving space disposed parallel to the first receiving surface,
분사실의 분사구로부터 분사되어 통과 구멍을 통과한 세정 가스를 받이 공간의 곡면에서 받은 후 받이 공간의 평면에서 방향을 전환시켜, 흡인실의 흡인구로부터 흡인하는 것을 특징으로 한다.Wherein the cleaning gas is injected from the injection port of the branch chamber and is swept in the plane of the receiving space after receiving the cleaning gas passing through the passage hole from the curved surface of the receiving space to suck it from the suction port of the suction chamber.
또한, 본 발명의 청구항 3에 따른 제진 장치는, 청구항 1에 기재된 제진 장치에 있어서,According to a third aspect of the present invention, in the vibration damping device of the first aspect,
제진 대상의 반송 방향과 실질적으로 평행한 표면을 가지는 대향판과,An opposing plate having a surface substantially parallel to the conveying direction of the object to be damped,
대향판에 형성되고, 분사구와 흡인구가 면하는 통과 구멍과,A through hole formed in the opposite plate and facing the inlet port and the suction port,
대향판에 고정되는 반원통체와,A semicircular cylinder fixed to the opposite plate,
대향판의 평면과 반원통체의 곡면에 의해 형성되고, 반원통체의 곡면이 흡인구나 분사구와 대향하고, 또한 대향판의 평면이 제진 대상의 반송 방향과 실질적으로 평행하게 위치하는 단면이 활모양의 공간으로서 통과 구멍과 연통되는 받이 공간A cross section in which the curved surface of the semicircular cylinder is opposed to the suction port or the injection port and the plane of the opposite plate is positioned substantially parallel to the conveying direction of the object to be damped is formed in an arcuate space And a receiving space
을 포함하고,/ RTI >
분사실의 분사구로부터 분사되어 통과 구멍을 통과한 세정 가스를 받이 공간의 곡면에서 받은 후 받이 공간의 평면에서 방향을 전환시켜, 흡인실의 흡인구로부터 흡인하는 것을 특징으로 한다.Wherein the cleaning gas is injected from the injection port of the branch chamber and is swept in the plane of the receiving space after receiving the cleaning gas passing through the passage hole from the curved surface of the receiving space to suck it from the suction port of the suction chamber.
또한, 본 발명의 청구항 4에 따른 제진 장치는, 청구항 1에 기재된 제진 장치에 있어서,According to a fourth aspect of the present invention, in the vibration damping device of the first aspect,
상기 받이부는,The receiving portion,
분사구와 흡인구가 면하는 곡면 모양의 받이면을 가지는 원호체를 포함하고, 원호체의 받이면에서 방향을 전환시킨 세정 가스를 흡인실의 흡인구로부터 흡인하는 것을 특징으로 한다.And an arc body having a curved surface receiving surface facing the suction port, and suctioning the cleaning gas, the direction of which is changed from the receiving surface of the arc body, from the suction port of the suction chamber.
또한, 본 발명의 청구항 5에 따른 제진 장치는,According to a fifth aspect of the present invention,
청구항 1에 기재된 제진 장치에 있어서,In the vibration isolation device according to claim 1,
상기 받이부는,The receiving portion,
분사구와 흡인구가 면하는 평면형의 받이면을 가지는 상자체를 포함하고, 상자체의 받이면에서 방향을 전환시킨 세정 가스를 흡인실의 흡인구로부터 흡인하는 것을 특징으로 한다.And a suction port of the suction chamber, wherein the suction port of the suction chamber has a flat receiving surface facing the suction port and the suction port of the suction port.
또한, 본 발명의 청구항 6에 따른 제진 장치는,According to a sixth aspect of the present invention,
청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 기재된 제진 장치에 있어서,The vibration suppression apparatus according to any one of claims 1 to 5,
상기 제진 헤드는, 분사실과, 상기 분사실을 사이에 둔 상류의 흡인실 및 하류의 흡인실이 제진 대상의 반송 방향을 따라 배치되는 것을 특징으로 한다.The damping head is characterized in that the suction chamber upstream and the suction chamber downstream between the minute dust chamber and the minute dust chamber are arranged along the conveying direction of the object to be damped.
또한, 본 발명의 청구항 7에 따른 제진 장치는,According to a seventh aspect of the present invention,
상기 제진 헤드는, 흡인실과, 상기 흡인실을 사이에 둔 상류의 분사실 및 하류의 분사실이 제진 대상의 반송 방향을 따라 배치되는 것을 특징으로 한다.The vibration damping head is disposed along the conveying direction of the object to be damped, the upstream and downstream of the dust chamber being disposed between the suction chamber and the suction chamber.
또한, 본 발명의 청구항 8에 따른 제진 장치는,According to Claim 8 of the present invention,
청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 기재된 제진 장치에 있어서,The vibration suppression apparatus according to any one of claims 1 to 5,
상기 제진 헤드는, 상류의 분사실과 하류의 흡인실이 제진 대상의 반송 방향 을 따라 배치되는 것을 특징으로 한다.The vibration damping head is characterized in that upstream and downstream suction chambers are disposed along the conveying direction of the object to be damped.
또한, 본 발명의 청구항 9에 따른 제진 장치는,According to a ninth aspect of the present invention,
청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 기재된 제진 장치에 있어서,The vibration suppression apparatus according to any one of claims 1 to 5,
상기 제진 헤드는, 상류의 흡인실과 하류의 분사실이 제진 대상의 반송 방향을 따라 배치되는 것을 특징으로 한다.The vibration damping head is characterized in that the upstream suction chamber and downstream portion are disposed along the conveying direction of the object to be damped.
또한, 본 발명의 청구항 10에 따른 제진 장치는,According to a tenth aspect of the present invention,
청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 기재된 제진 장치에 있어서,The vibration suppression apparatus according to any one of claims 1 to 9,
분사실 내에 배치되어 있고, 고전압이 인가된 이미터 근방에서 이온을 생성하는 이오나이저를 포함하고, 분사실의 분사구로부터 이온을 포함하는 세정 가스를 분사하는 것을 특징으로 한다.And an ionizer disposed in the vicinity of the emitter and generating ions in the vicinity of the emitter to which the high voltage is applied, characterized in that a cleaning gas containing ions is jetted from the jet port of the minute particle.
또한, 본 발명의 청구항 11에 따른 제진 장치는,According to
청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 기재된 제진 장치에 있어서,The vibration suppression apparatus according to any one of claims 1 to 10,
상기 받이부를 제진 헤드에 대하여 이격 또는 접촉시키는 이동부를 포함하는 것을 특징으로 한다.And a moving unit that separates or brings the receiving unit into or out of contact with the vibration-damping head.
또한, 본 발명의 청구항 12에 따른 제진 장치는, 청구항 11에 기재된 제진 장치에 있어서,According to Claim 12 of the present invention, in the vibration damping device of
상기 받이부 및 상기 이동부를 한 세트로 하고, 복수의 분사부와 같은 수의 세트의 상기 받이부 및 상기 이동부를 설치하는 것을 특징으로 한다.The receiver and the moving unit are set as one set, and the receiving unit and the moving unit are provided in the same number of sets as the plurality of jetting units.
이상과 같은 본 발명에 의하면, 제진 대상의 한쪽만 제진하는 제진 장치에 서, 제진 헤드에 대향하는 간단한 구성의 받이부를 추가하고, 인접하는 제진 대상 사이의 간극을 통과하는 분사실로부터의 세정 가스의 흐르는 방향을 바꾼 후에 흡인실에서 흡인하도록 하여, 불필요한 먼지의 비산을 저감하는 제진 장치를 제공할 수 있다.According to the present invention described above, in the vibration damping apparatus for vibration damping only one side of the vibration damping object, a receiving unit having a simple structure opposed to the vibration damping head is added, and a cleaning gas It is possible to provide a vibration damping device capable of sucking in a suction chamber after changing a flowing direction, thereby reducing scattering of unnecessary dust.
이어서, 본 발명을 실시하기 위한 바람직한 실시예에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 도 1은 본 실시예의 제진 장치의 측면도, 도 2는 본 실시예의 제진 장치의 단면도, 도 3은 본 실시예의 제진 장치의 사시 외관도이다. 그리고, 도 3에서는 측벽부를 제거하여 도시하고 있다. 제진 장치(1)는, 제진 헤드(100), 받이부(200), 반송부(300) 및 이동부(400)를 포함한다. 제진 장치(1)는 제진 대상(10)에 대하여 제진을 행한다.Next, preferred embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. Fig. 1 is a side view of the vibration suppression apparatus of the present embodiment, Fig. 2 is a cross-sectional view of the vibration suppression apparatus of this embodiment, and Fig. 3 is a perspective external view of the vibration suppression apparatus of this embodiment. In Fig. 3, the side walls are removed. The vibration isolation device 1 includes a vibration isolation head 100, a receiving portion 200, a carrying portion 300, and a moving portion 400. The vibration damping device (1) performs vibration damping on the vibration damping object (10).
제진 헤드(100)는, 상세하게 설명하면 도 2 및 도 3에 나타낸 바와 같은 제진 헤드 본체(110)의 내부에 이오나이저(120)가 배치되고, 또한 제진 헤드 본체(110)의 양쪽 면에 도 1에 나타낸 바와 같은 측벽부(130)가 고정된 것이다.The vibration damping head 100 includes an ionizer 120 disposed inside the vibration damping head body 110 as shown in Figs. 2 and 3 in detail, and on both sides of the vibration damping head body 110 The side wall part 130 as shown in Fig.
제진 헤드(100)에 대하여 도면을 참조하면서 더 설명한다. 도 4는 제진 헤드의 내외 구조를 나타낸 도면으로서 도 4의 (a)는 A 방향으로 보았을 때의 도면, 도 4의 (b)는 B-B선을 따라 절단한 단면도, 도 4의 (c)는 C-C선을 따라 절단한 단면도이다. 도 5는 C-C선을 따라 절단한 단면의 사시도이다. 도 6은 제진 헤드의 내부 구조를 나타낸 도면으로서, 도 6의 (a)는 D-D선을 따라 절단한 단면도, 도 6의 (b)는 E-E선을 따라 절단한 단면도이다. 도 7은 받이부의 구성도이다.The vibration deadening head 100 will be further described with reference to the drawings. 4 (b) is a sectional view taken along the line BB, and Fig. 4 (c) is a sectional view taken along the line CC in Fig. 4. Fig. Sectional view taken along a line. 5 is a perspective view of a section cut along the line C-C. 6 (a) is a sectional view taken along the line D-D, and FIG. 6 (b) is a sectional view taken along the line E-E. 7 is a configuration diagram of the receiving portion.
제진 헤드 본체(110)는, 도 4의 (a)에 나타낸 바와 같이, 분사실(111), 위쪽 흡인실(112), 아래쪽 흡인실(113), 천장판(114), 측벽(115a, 115b), 내벽(116a, 116b), 분사실 바닥부(111c), 흡인실 바닥부(112c, 113c)를 포함하고 있다.4A, the dust-removing head main body 110 includes a dust chamber 111, an upper suction chamber 112, a lower suction chamber 113, a
분사실(111)은, 도 2∼도 6에서 나타낸 바와 같이, 천장판(114), 내벽(116a, 116b), 분사실 바닥부(111c)에 의해 형성되는 공간으로서, 내벽(116a, 116b)에는 격벽(116c)이 걸쳐져서 기계적으로 보강되어 있다. 이 분사실(111)은, 도 4의 (c)에서 나타낸 바와 같이, 유입구(111b), 통과 구멍(116e), 분사구(111a)에 의해 공간이 내외로 연통되어 있다. 그리고, 이오나이저(120)의 돌출부(121)와 홈부(116d) 사이에 도 6의 (a)에서 나타낸 바와 같은 통과 구멍(124)이 형성되어 있고, 이오나이저(120)의 조립 시에서는 이 통과 구멍(124)을 통해서도 공간이 연통된다.As shown in Figs. 2 to 6, the partition wall 111 is a space formed by the
분사구(111a)는, 도 5에서도 명백하게 알 수 있는 바와 같이 같이 긴 슬릿이다. 도 5에서 나타낸 분사구(111a)의 길이 방향에 대하여 실질적으로 수직 방향으로부터 제진 대상(10)이 진입해 오기 때문에, 제진 대상(10)의 전체 영역에 세정 가스를 분사할 수 있다.The injection port 111a is also a long slit as can be clearly seen in Fig. The object to be damped 10 enters from the substantially vertical direction with respect to the longitudinal direction of the injection port 111a shown in Fig. 5, so that the cleaning gas can be injected into the entire region of the object 10 to be damped.
격벽(116c)은, 도 4의 (c)에서 나타낸 바와 같이, 분사구(111a)와 유입구(111b) 사이에 설치되고, 바람직하게는 분사구(111a) 측에 근접하여 배치된다. 이것은, 격벽(116c)의 배치가 분사구(111a) 측에 가까워짐에 따라, 세정 가스가 분사구(111a)를 통과하는 데 따른 분사구(111a)가 넓어지기 곤란하기 때문이다.The partition wall 116c is provided between the injection port 111a and the inlet port 111b and is preferably arranged close to the injection port 111a as shown in Fig. This is because as the arrangement of the partition 116c approaches the jetting port 111a side, the jetting port 111a due to the cleaning gas passing through the jetting port 111a becomes difficult to widen.
통과 구멍(116e)은, 도 4의 (c) 및 도 6의 (b)에서 나타낸 바와 같이, 격 벽(116c)에 복수개 형성되고, 유입구(111b)로부터 유입되는 세정 가스를 분사구(111a)까지 통과시킨다.As shown in Figs. 4C and 6B, a plurality of through
홈부(116d)는, 도 4의 (a)의 a부 확대도에서 나타낸 바와 같이 분사실(111)에 형성되고, 이 홈부(116d)에 이오나이저(120)의 돌출부(121)를 슬라이드 이동시키면서 삽입하여 분사실(111) 내에 장착하게 된다.The groove portion 116d is formed in the minute cellar 111 as shown in an enlarged view of a portion in Fig. 4 (a), and the protruding portion 121 of the ionizer 120 is slidably moved in the groove portion 116d And is mounted in the minute diffuser 111.
통과 구멍(124)은 이오나이저(120)의 배치와 동시에 형성된다. 도 6의 (a)에서 나타낸 바와 같이 이오나이저(120)의 돌출부(121)에 절결부(123)가 형성되어 있고, 도 4의 (a)의 a부 확대도에서 나타낸 바와 같이 돌출부(121)를 홈부(116d)에 슬라이드 이동시키면서 이오나이저(120)를 삽입하여 분사실(111) 내에 장착한 경우, 도 6의 (a)에서 나타낸 바와 같이, 절결부(123)가 홈부(116d)로 덮혀서 통과 구멍(124)이 된다.The through-
유입구(111b)는, 도 3, 도 4의 (c) 및 도 5에서 나타낸 바와 같이, 제진 헤드(100)의 상면의 천장판(114)에 형성된다.The inlet 111b is formed in the
이오나이저(120)는, 도 4의 (b) 및 (c)에서 나타낸 바와 같이 분사실(111) 내이면서 격벽(116c)보다 상류측에 배치되고, 세정 가스에 양이온 및 음이온을 방출하는 기능을 가지고 있다.The ionizer 120 is disposed on the upstream side of the partition wall 116c while being in the partition wall 111 as shown in Figs. 4B and 4C, and functions to discharge positive ions and negative ions to the cleaning gas Have.
이 이오나이저(120)에는 이미터(122)가 장착되어 있고, 이미터(122)는 직류 전류 또는 교류 전류가 인가되어 양이온 및 음이온을 코로나 방전에 의해 방출한다.In the ionizer 120, an emitter 122 is mounted, and a direct current or an alternating current is applied to the emitter 122 to emit positive and negative ions by a corona discharge.
상류측 흡인실(112)은, 도 3∼도 6에서 나타낸 바와 같이, 천장판(114), 측 벽(115a), 내벽(116a) 및 흡인실 바닥부(112c)에 의해 형성되는 공간이다. 이 상류측 흡인실(112)은, 도 4의 (c)에 나타낸 바와 같이, 배기구(112b) 및 흡인구(112a)에 의해 공간이 연통되어 있다.The upstream-side suction chamber 112 is a space formed by the
흡인구(112a)는, 도 5 및 도 6에서 나타낸 바와 같이 긴 슬릿이며, 분사구(111a)로부터 분사된 세정 가스에 의해 비산된 먼지를 주변 공기와 함께 흡인한다.The suction port 112a is a long slit as shown in Figs. 5 and 6, and sucks the dust scattered by the cleaning gas injected from the injection port 111a together with ambient air.
배기구(112b)는, 도 3, 도 4의 (c) 및 도 5에서 나타낸 바와 같이, 흡인구(112a)로부터 흡인된 기체를 배기하기 위한 개구이다.The exhaust port 112b is an opening for exhausting the gas sucked from the suction port 112a, as shown in Figs. 3, 4C and 5.
하류측 흡인실(113)은, 도 3∼도 6에서 나타낸 바와 같이, 천장판(114), 측벽(115b), 내벽(116b) 및 흡인실 바닥부(113c)에 의해 형성되는 공간이다. 이 하류측 흡인실(113)은, 도 4의 (c)에서 나타낸 바와 같이, 배기구(113b) 및 흡인구(113a)에 의해 공간이 연통되어 있다.The downstream side suction chamber 113 is a space formed by the
흡인구(113a)는, 도 5 및 도 6에서 나타낸 바와 같이 긴 슬릿이며, 분사구(111a)로부터 분사된 세정 가스에 의해 비산된 먼지를 주변 공기와 함께 흡인한다.The suction port 113a is a long slit as shown in Figs. 5 and 6, and sucks the dust scattered by the cleaning gas injected from the injection port 111a together with ambient air.
배기구(113b)는, 도 3, 도 4의 (c) 및 도 5에서 나타낸 바와 같이, 흡인구(113a)로부터 흡인된 기체를 배기하기 위한 개구이다.The exhaust port 113b is an opening for exhausting the gas sucked from the suction port 113a, as shown in Figs. 3, 4C and 5.
제진 헤드(100)는 전술한 바와 같이 구성되어 있다.The vibration isolation head 100 is constructed as described above.
여기서 제진 헤드 본체(110)의 제조 방법에 대하여 설명한다.Here, a method of manufacturing the vibration deadening head body 110 will be described.
이 제진 헤드 본체(110)는 압출 성형에 의해 제조된다. 예를 들면, 알루미 늄 등의 금속 재료를 형에 밀어넣어, 분사실(111), 상류측 흡인실(112), 하류측 흡인실(113), 측벽(115a, 115b), 내벽(116a, 116b), 격벽(116c), 분사실 바닥부(111c), 흡인실 바닥부(112c, 113c) 및 천장판(114)이 일체로 된 제진 헤드 본체(110)를 성형하고, 단부 등의 말단 처리를 행하여 완성한다. 그리고, 압출 성형 종료 직후에는, 유입구(111b), 배기구(112b, 113b)[도 3, 도 4의 (c) 및 도 5를 참조], 격벽(116c)의 통과 구멍(116e)[도 4의 (c) 및 도 6의 (b)를 참조], 분사구(111a) 및 흡인구(112a, 113a)는 아직 형성되지 않고 있다.The vibration deadening head body 110 is manufactured by extrusion molding. For example, a metallic material such as aluminum is pushed into the mold and the powder material is injected into the mold 111, the upstream side suction chamber 112, the downstream side suction chamber 113, the side walls 115a and 115b, the inner walls 116a and 116b The partitioning wall 116c, the partition bottom portion 111c, the suction chamber bottom portions 112c and 113c and the
이와 같이 압출 성형된 제진 헤드(100)에 대하여 화살표 F 방향(도 3을 참조)으로부터 드릴을 진입시켜, 유입구(111b)·통과구(116e)의 구멍뚫기를 한 번에 행한다. 유입구(111b)·통과구(116e)는 동일한 직경이 된다. 이와 같은 구멍뚫기를 다른 개소에서 여러번 행하고, 도 3 및 도 6의 (b)와 같이 다수의 유입구(111b)·통과구(116e)를 형성한다.The boring of the inlet 111b and the through
마찬가지로, 제진 헤드(100)에 대하여 화살표 F 방향으로부터 드릴을 진입시켜, 배기구(112b, 113b)의 구멍뚫기를 행한다. 이와 같은 구멍뚫기를 다른 개소에서 여러번 행하여, 도 3과 같이 다수의 배기구(112b, 113b)를 형성한다.Similarly, a drill is introduced into the dust-removing head 100 from the direction of the arrow F to drill holes of the exhaust ports 112b and 113b. Such drilling is performed several times at other positions to form a plurality of exhaust ports 112b and 113b as shown in Fig.
그 후에 긴 슬릿인 분사구(111a) 및 흡인구(112a, 113a)를 밀링머신 등으로 절삭 가공하여 도 3∼도 6에서 나타낸 제진 헤드 본체(110)를 완성시키고, 또한 분사실(111)의 측부 개구로부터 이오나이저(120)를 삽입하고, 측벽부(130)로 양쪽을 막아 제진 헤드(100)를 완성시킨다. 이 제진 헤드(100)에서는, 분사실(111), 상류측 흡인실(112) 및 하류측 흡인실(113)이 일체적인 구조로 형성되어 있다.Thereafter, the injection port 111a and the suction ports 112a and 113a, which are long slits, are cut by a milling machine or the like to complete the vibration deadening head main body 110 shown in Figs. 3 to 6, The ionizer 120 is inserted from the opening and both sides are covered with the side wall part 130 to complete the vibration deadening head 100. In this vibration damping head 100, the split chamber 111, the upstream-side suction chamber 112, and the downstream-side suction chamber 113 are integrally formed.
이와 같은 제진 헤드(100)는, 도 8에서 나타낸 바와 같이, 제진 대상의 반송 방향(본 실시예에서는 예시적으로 도면 우측으로부터 좌측으로 향하는 화살표 방향)으로, 상류측 흡인실(112)(V1), 분사실(111)(P), 하류측 흡인실(113)(V2)이 되도록 배열되어 구성되어 있고, 반송부(300)의 위쪽에 배치되어 있다. 분사실(111)(P)은 도시하지 않은 송풍 펌프에, 또한, 상류측 흡인실(112)(V1) 및 하류측 흡인실(113)(V2)은 도시하지 않은 흡기 펌프에 접속된다고 가정한다. 분사실(111)의 분사구(111a)로부터 분사된 세정 가스나 불어올려진 먼지는 주위의 공기와 함께 흡인구(112a, 113a)를 통해서 상류측 흡인실(112)과 하류측 흡인실(113)에 흡인된다. 이 먼지를 포함하는 공기는, 제진 헤드(100)의 배기구(112b, 113b)(도 3을 참조), 배기 유로 및 배기 배관을 통하여 외부로 배기된다. 제진 헤드(100)는 이와 같은 것이다.8, the vibration damping head 100 is provided with an upstream suction chamber 112 (V1) in the conveying direction of the object to be damped (in this embodiment, the arrow direction from the right to the left in the drawing) The upstream side suction chamber 113, and the downstream side suction chamber 113 (V2), and is arranged above the carry section 300. [0064] It is assumed that the branch pipe 111 (P) is connected to a blowing pump (not shown), and the upstream suction chamber 112 (V1) and the downstream suction chamber 113 (V2) are connected to an intake pump . The cleaning gas or the blown dust injected from the injection port 111a of the branch chamber 111 is introduced into the upstream suction chamber 112 and the downstream suction chamber 113 through the suction ports 112a and 113a together with the ambient air, As shown in Fig. The air containing this dust is exhausted to the outside through the exhaust ports 112b and 113b (see Fig. 3) of the vibration isolation head 100, the exhaust passage and the exhaust pipe. The vibration deadening head 100 is the same.
다음에, 받이부(200)는, 도 2 및 도 7에서 나타낸 바와 같이, 반원통체(210), 대향판(220), 받이 공간(230), 통과 구멍(240), 지지부(250) 및 측벽(260)을 포함하고 있다. 받이부(200)는 도 1∼도 3에서 나타낸 바와 같이 배치된다.2 and 7, the receiving unit 200 includes a semicircular cylinder 210, an opposite plate 220, a receiving space 230, a through hole 240, a supporting unit 250, (260). The receiving portion 200 is arranged as shown in Figs.
반원통체(210)는, 도 7에 나타낸 바와 같이 양쪽이 측벽(260)으로 막힌 원통체를 축 방향으로 반으로 절단한 형상이다. 내측은 반원형의 곡면을 가지게 된다.As shown in Fig. 7, the semicircular cylinder 210 has a shape in which a cylindrical body clogged with side walls 260 is cut in half in the axial direction. The inside has a semicircular curved surface.
대향판(220)은 통상적인 판체이며 그 중앙에 통과 구멍(240)이 형성된다. 이 대향판(220)은, 제진 대상(10)의 반송 방향과 실질적으로 평행이며 평면형의 표면·배면을 가진다.The opposite plate 220 is a conventional plate, and a through hole 240 is formed at the center thereof. The opposite plate 220 has a planar surface / back surface substantially parallel to the conveying direction of the object 10 to be damped.
받이 공간(230)은, 대향판(220)의 배면과 반원통체(210)의 곡면에 의해 형성되고, 반원통체(210)의 곡면이 통과 구멍(240)을 통하여, 분사구(111a) 및 흡인구(112a, 113a)에 대향하는 동시에 대향판(220)의 배면·표면 양쪽다 제진 대상(10)의 반송 방향과 실질적으로 평행하게 위치하는 단면이 활모양 공간이다. 이 받이 공간(230)은 통과 구멍(240)과 연통된다.The receiving space 230 is formed by the back surface of the opposing plate 220 and the curved surface of the semicircular cylinder 210. The curved surface of the semicircular cylinder 210 passes through the through hole 240, And the opposite surfaces of the opposite plate 220 and the surfaces thereof are placed in an arcuate space substantially parallel to the conveying direction of the object 10 to be vibration-damped. The receiving space (230) communicates with the through hole (240).
통과 구멍(240)은, 대향판(220)의 중앙에 설치되고, 적어도 제진 헤드(100)의 분사구(111a)와 흡인구(112a, 113a)보다 가로 세로의 길이가 크게 되어 있다. 이에 따라, 분사구(111a)로부터 분사된 모든 세정 가스는, 대향판(220)에 분사되지 않고 통과 구멍(240)을 통과한다.The through hole 240 is provided at the center of the opposing plate 220 and has at least a larger length than the jetting port 111a and the suction ports 112a and 113a of the vibration damping head 100. [ Thus, all the cleaning gas injected from the injection port 111a passes through the through hole 240 without being sprayed on the opposite plate 220. [
지지부(250)는 반원통체(210)의 아래쪽에 고정된다. 측벽(260)은 반원통체(210)의 양쪽 면에 고정된다. 받이부(200)는 전술한 바와 같이 형성된다.The support portion 250 is fixed to the lower side of the semicircular cylinder 210. The side walls 260 are fixed to both sides of the semicircular cylinder 210. The receiving portion 200 is formed as described above.
반송부(300)는, 예를 들면, 제진 대상(10)을 지지·반송하는 긴 봉 모양의 롤러이다. 반송부(300)는, 제진 대상(10)을 반송하는 구동력을 부여하도록 구성되거나, 또는 다른 구동원에 의해 반송되는 제진 대상(10)에 종동하도록 회동 가능하게 구성되어 있다.The carry section 300 is, for example, a long rod-shaped roller for supporting and conveying the object 10 to be damped. The carry section 300 is configured to impart a driving force for carrying the object 10 to be dumped or to be rotatable to follow the object 10 to be dumped by another driving source.
이동부(400)는, 도 1에서 나타낸 바와 같이, 지지부(250)를 화살표 a 방향(상하 방향)으로 제진 헤드(100)에 대하여 받이부(200)를 근접시키거나, 또는 이격하도록 이동시키는 장치, 예를 들면, 승강 스테이지와 같은 장치이다. 사전에 이동부(400)에 의해 상하 위치를 조정하여, 받이부(200)를 이동시켜서 세정 가스가 확실하게 완충되는 위치에 설정 고정된다.As shown in Fig. 1, the moving part 400 is a device for moving the support part 250 in the direction of arrow a (vertical direction) to move the receiving part 200 close to or away from the vibration deadening head 100 For example, an elevating stage. The upper and lower positions are adjusted by the moving part 400 in advance and the receiving part 200 is moved and set and fixed at a position where the cleaning gas is surely buffered.
이와 같은 제진 장치(1)의 제진 대상(10)은, 예를 들면, TFT(박막 트랜지스터)액정 패널, PDP(플라즈마 디스플레이 패널) 및 LCD(액정 디스플레이) 등에 사용되는 유리 기판, 태양 전지 패널, 또는 긴 종이, 필름 등의 시트 등이다. 제진 장치(1)는 이와 같은 것이다.The vibration damping object 10 of the vibration damping apparatus 1 may be a glass substrate used for a TFT (thin film transistor) liquid crystal panel, a PDP (plasma display panel), an LCD Sheets of long paper, films, and the like. The vibration isolation device 1 is the same as above.
이어서, 제진 장치(1)에 의한 제진 동작에 대하여 도면을 참조하면서 설명한다. 도 8은 본 실시예의 제진 장치의 제진 시의 동작 설명도, 도 9는 본 실시예의 제진 장치의 제진 대상 사이의 분사 시의 동작 설명도이다.Next, a vibration damping operation by the vibration damping apparatus 1 will be described with reference to the drawings. Fig. 8 is an explanatory view of the operation of the vibration suppression apparatus of the present embodiment during vibration suppression, and Fig. 9 is an explanatory diagram of the operation of the vibration suppression apparatus of this embodiment during injection between vibration suppression targets.
유입구(111b)로부터 세정 가스를 유입시키면, 이오나이저(120)의 통과 구멍(124)을 통과한다. 이 세정 가스에는 이오나이저(120)로부터 방출된 양이온·음이온이 혼입된다. 또한, 이와 같은 세정 가스가 격벽(116c)의 통과 구멍(116e)을 통과하고, 분사구(111a)까지 도달하고, 세정 가스가 분사구(111a)로부터 분사된다. 이 경우, 분사실(111) 내는 고압이 되지만, 도 4의 (c)에서 나타낸 바와 같이 격벽(116c)이 분사실(111) 내에서 일체로 팽팽하게 걸쳐져서 보강되어 있으므로, 분사구(111a)가 넓어지는 것을 억제한다. 또한, 격벽(116c)을 분사구(111a) 측에 근접한 위치에 배치하였으므로, 분사구(111a)가 넓어지는 것을 더욱 억제하고 있다.When the cleaning gas is introduced from the inlet port 111b, the cleaning gas passes through the through
복수의 제진 대상(10)이, 소정 간격을 두고 반송부(300) 상을 차례로 반송되고, 순서대로 제진이 행해진다고 가정한다. 이 경우 제진 헤드(100)는, 분사실(111)(P)에 의한 세정 가스의 분사, 및 상류측 흡인실(112) 및 하류측 흡인실(113)에 의한 먼지의 흡인을 항상 행하고 있다고 가정한다.It is assumed that a plurality of objects to be damped 10 are successively conveyed on the conveying unit 300 at predetermined intervals, and vibration damping is performed in order. In this case, the vibration deadening head 100 assumes that the cleaning gas is injected by the branch pipe 111 (P), and the upstream side suction chamber 112 and the downstream side suction chamber 113 are always sucking dust do.
먼저, 도 8에 나타낸 바와 같이, 제진되는 제진 대상(10)이 제진 헤드(100) 의 바로 아래에서 반송 방향으로 반송된다. 이 경우, 제진 대상(10)의 상면이 제진 대상면으로 된다. 제진 헤드(100)에서는, 분사실(111)(P)로부터 세정 가스가 제진 대상(10)의 제진 대상면에 분사되어 비산된 먼지가 상류측 흡인실(112)(V1) 및 하류측 흡인실(113)(V2)에 의해 흡인됨으로써, 제진 대상(10)의 제진 대상면의 제진 이 행해지게 된다.First, as shown in Fig. 8, the object to be damped 10 to be damped is conveyed in the direction of conveyance just below the damping head 100. In this case, the upper surface of the vibration damping object 10 becomes the vibration damping surface. In the vibration damping head 100, the cleaning gas is jetted from the dust chamber 111 (P) onto the vibration damping object side of the vibration damping object 10, and the dust scattered therefrom passes through the upstream side suction chamber 112 (V1) The dust removal target surface of the object to be damped 10 is subjected to vibration damping.
그리고, 그대로 반입이 계속되어, 도 9에 나타낸 바와 같이, 인접하는 2개의 제진 대상(10) 사이의 간극이 제진 헤드(100)의 바로 아래에 도달했을 때, 제진 헤드(100)의 분사실(111)(P)로부터의 세정 가스가 통과 구멍(240)을 통과하여, 받이부(200)의 받이 공간(230)의 곡면[반원통체(210)의 내측의 반원형의 곡면]에서 받는다. 이와 같은 세정 가스는 곡면을 따라 이동하여 대향판(220)의 배면에 도달하여 방향을 전환시켜 통과 구멍(240)을 향하여 이동한다. 이 대향판(220)의 배면을 따라 이동하는 세정 가스는 반송 방향과 평행하므로, 받이 공간(230) 내를 이동하며, 통과 구멍(240)을 넘어 위쪽에 쉽게 도달할 수 없다. 그러면 상류측 흡인실(112)(V1) 및 하류측 흡인실(113)(V2)에 의해 세정 가스가 위쪽으로 흡인된다. 분사량보다 흡인량을 많이 함으로써, 제진 대상 방향으로 불어져서 누출될 우려를 저감할 수 있다. 이에 따라, 인접하는 2개의 제진 대상(10) 사이의 간극을 통과한 세정 가스가 불필요한 먼지를 비산시키지 않게 되어, 제진 환경을 양호하게 유지한다. 또한, 세정 가스를 분출시킨 상태에서의 연속 제진을 가능하게 하고, 설비의 간소화나 불필요한 이물질 혼입의 우려의 저감도 실현하고 있다. 본 실시예의 제진 장치(1)는 이와 같은 것이다.9, when the gap between the adjacent two vibration damping objects 10 reaches directly below the vibration damping head 100, the vibration of the vibration damping head 100 (as shown in Fig. 9) 111) P is received by the curved surface of the receiving space 230 of the receiving portion 200 (the semicircular curved surface on the inner side of the semicircular cylindrical body 210) through the through hole 240. The cleaning gas moves along the curved surface to reach the rear surface of the opposite plate 220, and the cleaning gas moves toward the passage hole 240 by changing the direction. Since the cleaning gas moving along the back surface of the opposite plate 220 is parallel to the carrying direction, it moves in the receiving space 230 and can not easily reach the upper side beyond the through hole 240. Then, the cleaning gas is sucked upward by the upstream-side suction chamber 112 (V1) and the downstream-side suction chamber 113 (V2). By increasing the suction amount more than the injection amount, it is possible to reduce the risk of leaking due to blowing toward the object to be damped. As a result, the cleaning gas that has passed through the gap between the adjacent two vibration damping objects 10 does not scatter unnecessary dust, thereby maintaining a good vibration damping environment. In addition, continuous dust removal can be performed in a state in which the cleaning gas is blown, and the simplification of the facility and the reduction of the possibility of unnecessary mixing of foreign matter are also realized. The vibration isolation device 1 of this embodiment is the same.
이어서, 본 발명의 다른 실시예에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 도 10은 다른 실시예의 제진 장치의 측면도, 도 11은 다른 실시예의 제진 장치의 단면도, 도 12는 원호체의 제조를 설명하는 설명도, 도 13은 다른 실시예의 제진 장치의 동작 설명도이다. 그리고, 도 10에서는 측벽부를 제거하여 도시하고 있다. 제진 장치(2)는, 제진 헤드(100), 받이부(500), 반송부(300) 및 이동부(400)를 포함한다. 제진 장치(2)는 제진 대상(10)에 대하여 제진을 행한다. 먼저 도 1∼도 9를 사용하여 설명한 제진 장치(1)와 비교하면, 본 실시예의 제진 장치(2)는, 받이부(500)의 구성만이 상이한 점 외는 다른 구성은 동일하며, 동일한 구성에 대하여는 동일한 부호를 부여하여 중복되는 설명을 생략하고, 받이부(500)에 대해서만 설명한다.Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 10 is a side view of a vibration suppression device according to another embodiment, FIG. 11 is a cross-sectional view of a vibration suppression device according to another embodiment, FIG. 12 is an explanatory diagram illustrating the manufacture of an arc body, and FIG. In Fig. 10, the side walls are removed. The vibration isolation device 2 includes a vibration isolation head 100, a receiving portion 500, a carrying portion 300, and a moving portion 400. The vibration damping device (2) performs vibration damping on the vibration damping object (10). Compared with the vibration isolation device 1 described with reference to Figs. 1 to 9, the vibration isolation device 2 of the present embodiment has the same configuration except for the configuration of the reception portion 500, The same reference numerals will be used to omit the overlapping description and only the receiving unit 500 will be described.
받이부(500)는, 도 10 및 도 11에서 나타낸 바와 같이, 원호체(510) 및 지지부(520)를 포함하고 있다.The receiving portion 500 includes an arc member 510 and a supporting portion 520, as shown in Figs. 10 and 11.
원호체(510)는 원호형의 부재이며 곡면의 받이면을 가진다. 그리고, 도시하지 않지만 양쪽 면(도 10에서 정면인 면과 배면측의 면)에 측벽부를 장착하여 양 측부에서 세정 가스가 흐르지 않게 해도 된다. 원호체(510)는, 도면의 수직 방향으로 길게 형성되고, 특히 분사구(111a) 및 흡인구(112a, 113a)보다 길어지도록 배려되어, 세정 가스를 확실하게 받도록 되어 있다. 원호체(510)는 도 12에 나타낸 바와 같이 원통체를 3개로 분할하여 형성되다.The arc member 510 is an arcuate member and has a receiving surface on a curved surface. Although not shown, the side walls may be mounted on both surfaces (the front surface and the back surface in Fig. 10) to prevent the cleaning gas from flowing on both sides. The arc body 510 is formed to be long in the vertical direction in the drawing and is particularly designed to be longer than the jetting port 111a and the suction ports 112a and 113a to surely receive the cleaning gas. The arc body 510 is formed by dividing the cylindrical body into three as shown in Fig.
지지부(520)는, 도 10에 나타낸 바와 같이, 원호체(510)의 아래쪽에 고정되어, 이동부(40O)에 의해 화살표 a 방향[제진 헤드 본체(11O)에 가까워지거나 또는, 멀어지는 방향]으로 원호체(510)를 이동시킨다. 받이부(500)은 이와 같은 것이다.10, the support portion 520 is fixed to the lower side of the arcuate body 510 and is moved in the direction of the arrow a (toward or away from the vibration suppression head main body 110) by the moving portion 40O Thereby moving the arc member 510. The receptacle 500 is like this.
이어서, 제진 장치(2)에 의한 제진 동작에 대하여 설명한다.Next, the vibration damping operation by the vibration damping apparatus 2 will be described.
이오나이저(120)로부터 방출된 양이온·음이온을 포함하는 세정 가스가, 제진 헤드 본체(110)로부터 제진 대상(10)으로 분사된다. 제진 대상(10)의 제진은 도 8을 사용하여 설명한 것과 동일한 처리이며, 중복되는 설명을 생략한다.A cleaning gas containing positive ions and negative ions emitted from the ionizer 120 is injected from the vibration isolation head main body 110 to the vibration damping object 10. The vibration damping of the vibration damping object 10 is the same as that described with reference to Fig. 8, and redundant description is omitted.
그리고, 도 13에 나타낸 바와 같이, 인접하는 2개의 제진 대상(10) 사이의 간극이 제진 헤드(100)의 바로 아래에 도달했을 때, 제진 헤드(100)의 분사실(111)(P)로부터의 세정 가스를, 받이부(500)의 원호체(510)의 받이면[원호체(510)의 내측의 호 모양의 곡면]에서 받는다. 이와 같은 세정 가스는 곡면 모양의 받이면을 따라 이동하고, 상류측 흡인실(112)(V1) 및 하류측 흡인실(113)(V2)에 의해 세정 가스가 위쪽으로 흡인된다. 분사량보다 흡인량을 많이 함으로써, 제진 대상 방향으로 불어져서 누출될 우려를 저감할 수 있다. 이에 따라, 인접하는 2개의 제진 대상(10) 사이의 간극을 통과한 세정 가스가 불필요한 먼지를 비산시키지 않게되어, 제진 환경을 양호하게 유지한다. 또한, 세정 가스를 분출시킨 상태에서의 연속 제진을 가능하게 하고, 설비의 간소화나 불필요한 이물질이 혼입될 우려를 저감할 수 있다. 본 실시예의 제진 장치(2)는 이와 같은 것이다.13, when the gap between two adjacent vibration damping objects 10 reaches directly below the vibration damping head 100, the distance from the minute damping body 111 (P) of the vibration damping head 100 (Arc-shaped curved surface on the inner side of the arc body 510) of the arc body 510 of the receiving portion 500. [ The cleaning gas moves along the curved back surface, and the cleaning gas is sucked upward by the upstream-side suction chamber 112 (V1) and the downstream-side suction chamber 113 (V2). By increasing the suction amount more than the injection amount, it is possible to reduce the risk of leaking due to blowing toward the object to be damped. As a result, the cleaning gas that has passed through the gap between the adjacent two vibration damping objects 10 does not scatter unnecessary dust, thereby maintaining a good vibration damping environment. In addition, it is possible to perform continuous vibration reduction in a state in which the cleaning gas is blown out, and it is possible to reduce the possibility of simplification of the facility or the incorporation of unnecessary foreign matter. The vibration isolation device 2 of this embodiment is the same.
이어서, 본 발명의 다른 실시예에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 도 14는 다른 실시예의 제진 장치의 측면도, 도 15는 다른 실시예의 제진 장치의 동작 설명도이다. 제진 장치(3)는, 제진 헤드(100), 받이부(600), 반송부(300) 및 이동부(400)를 포함한다. 제진 장치(3)는 제진 대상(10)에 대하여 제진을 행한다. 먼 저 도 1∼도 9를 사용하여 설명한 제진 장치(1)와 비교하면, 본 실시예의 제진 장치(3)는, 받이부(600)의 구성만이 상이한 점 외에는 다른 구성은 동일하며, 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 부여하여 중복되는 설명을 생략하고, 받이부(600)에 대해서만 설명한다.Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 14 is a side view of a vibration suppression apparatus of another embodiment, and FIG. 15 is an explanatory diagram of the operation of a vibration suppression apparatus of another embodiment. The vibration isolation device 3 includes a vibration isolation head 100, a receiving portion 600, a carrying portion 300, and a moving portion 400. The vibration damping device (3) performs vibration damping on the vibration damping object (10). Compared with the vibration isolation device 1 described with reference to Figs. 1 to 9, the vibration isolation device 3 of the present embodiment has the same configuration except for the configuration of the receiving portion 600, Will be denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted, and only the receiving section 600 will be described.
받이부(600)는, 도 14 및 도 15에서 나타낸 바와 같이, 상자체(610) 및 지지부(620)를 포함하고 있다.The receiving portion 600 includes a box 610 and a supporting portion 620 as shown in Figs. 14 and 15.
상자체(610)는, 상자 모양의 부재이며, 평면형의 받이면을 가진다. 상자체(610)는 측벽부가 설치되어 가로측으로부터 세정 가스가 흐르지 않게 되어 있다. 상자체(610)는, 도면의 수직 방향으로 길게 형성되고, 특히 분사구(111a) 및 흡인구(112a, 113a)보다 길어지도록 배려되어 세정 가스를 확실하게 받도록 되어 있다.The box 610 is a box-shaped member and has a flat receiving surface. The side walls of the box 610 are provided so that the cleaning gas does not flow from the lateral side. The casing 610 is elongated in the vertical direction in the drawing and is designed to be longer than the jetting port 111a and the suction ports 112a and 113a to reliably receive the cleaning gas.
지지부(620)는, 상자체(610)의 아래쪽에 고정되어, 이동부(400)에 의해 화살표 a 방향[제진 헤드 본체(110)에 가까워지거나, 또는 멀어지는 방향]으로 상자체(610)를 이동시킨다. 받이부(600)은 이와 같은 것이다.The supporting portion 620 is fixed to the lower portion of the casing 610 and moves the casing 610 in the direction of the arrow a (approaching or away from the vibration isolation head main body 110) by the moving portion 400 . The receptacle 600 is like this.
이어서, 제진 장치(3)에 의한 제진 동작에 대하여 설명한다.Next, the vibration damping operation by the vibration damping device 3 will be described.
이오나이저(120)으로부터 방출된 양이온·음이온을 포함하는 세정 가스가 제진 헤드 본체(110)로부터 제진 대상(10)에 분사된다. 제진 대상(10)의 제진은 도 8을 사용하여 설명한 것과 동일한 처리이며, 중복되는 설명을 생략한다.A cleaning gas containing positive ions and negative ions emitted from the ionizer 120 is injected from the vibration deadening head body 110 to the vibration damping object 10. The vibration damping of the vibration damping object 10 is the same as that described with reference to Fig. 8, and redundant description is omitted.
그리고, 도 15에 나타낸 바와 같이, 인접하는 2개의 제진 대상(10) 사이의 간극이 제진 헤드(100)의 바로 아래에 도달했을 때, 제진 헤드(100)의 분사실(111)(P)로부터의 세정 가스를, 받이부(600)의 상자체(610)의 받이면에서 받는 다. 이와 같은 세정 가스는 받이면을 따라 이동하고, 마지막에는 측벽을 따라 위쪽으로 이동하고, 상류측 흡인실(112)(V1) 및 하류측 흡인실(113)(V2)에 의해 세정 가스가 위쪽으로 흡인된다. 분사량보다 흡인량을 많이 함으로써, 제진 대상 방향으로 불어져서 누출될 우려를 저감할 수 있다. 이에 따라, 인접하는 2개의 제진 대상(10) 사이의 간극을 통과한 세정 가스가 불필요한 먼지를 비산시키지 않게 되어, 제진 환경을 양호하게 유지한다. 또한, 세정 가스를 분출시킨 상태에서의 연속 제진을 가능하게 하고, 설비의 간소화나 불필요한 이물질 혼입될 우려도 저감할 수 있다. 본 실시예의 제진 장치(3)는 이와 같은 것이다.15, when the gap between the adjacent two vibration damping objects 10 reaches directly below the vibration damping head 100, the distance from the minute damping body 111 (P) of the vibration damping head 100 The cleaning gas is received at the receiving surface of the casing 610 of the receiving unit 600. [ Such a cleaning gas moves along the back surface of the support and finally moves upward along the side wall and the cleaning gas is moved upward by the upstream suction chamber 112 (V1) and the downstream suction chamber 113 (V2) And is sucked. By increasing the suction amount more than the injection amount, it is possible to reduce the risk of leaking due to blowing toward the object to be damped. As a result, the cleaning gas that has passed through the gap between the adjacent two vibration damping objects 10 does not scatter unnecessary dust, thereby maintaining a good vibration damping environment. In addition, it is possible to perform continuous dust removal in a state in which the cleaning gas is blown out, and it is possible to reduce the facility and the possibility that unnecessary foreign matter is mixed. The vibration isolation device 3 of this embodiment is the same.
이어서, 본 발명의 다른 실시예에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 도 16은 다른 실시예의 제진 장치의 제진 시의 동작 설명도, 도 17은 다른 실시예의 제진 장치의 제진 대상 사이의 분사 시의 동작 설명도이다. 그리고, 도 16 및 도 17에서는 단면도로 도시하고, 측벽부는 도시하지 않고 있다. 제진 장치(4)는, 제진 헤드(140), 받이부(200), 반송부(300) 및 이동부(400)를 포함한다. 제진 장치(4)는 제진 대상(10)에 대하여 제진을 행한다. 먼저 도 1∼도 9를 사용하여 설명한 제진 장치(1)와 비교하면, 본 실시예의 제진 장치(4)는, 제진 헤드(140)의 구성만이 상이한 점 외에는 다른 구성은 동일하며, 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 부여하여 중복되는 설명을 생략하고, 제진 헤드(14O)에 대해서만 설명한다.Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Fig. 16 is an explanatory view of operation of the vibration suppression apparatus of another embodiment in vibration suppression; and Fig. 17 is an explanatory diagram of the operation of the vibration suppression apparatus of another embodiment at the time of injection between vibration suppression targets. 16 and 17 are shown in sectional views, and the side wall portions are not shown. The vibration damping apparatus 4 includes a vibration damping head 140, a receiving unit 200, a carrying unit 300, and a moving unit 400. The vibration damping device (4) performs vibration damping on the vibration damping object (10). Compared with the vibration damping apparatus 1 described with reference to Figs. 1 to 9, the vibration damping apparatus 4 of the present embodiment has the same configuration except for the difference of the configuration of the vibration damping head 140, The same reference numerals are given to duplicate description, and only the vibration damping head 140 will be described.
이와 같은 제진 헤드 본체(140)는, 도 16에서 나타낸 바와 같이, 제진 대상의 반송 방향(본 실시예에서는 예시적으로 도면 우측으로부터 좌측으로 향하는 화살표 방향)으로, 상류측 분사실(142)(P1), 흡인실(141)(V) 및 하류측 분사 실(143)(P2)이 되도록 배열되어 구성되어 있고, 반송부(300)의 위쪽에 배치되어 있다. 흡인실(141)(V)은 도시하지 않은 흡기 펌프에, 또한, 상류측 분사실(142)(P1) 및 하류측 분사실(143)(P2)은 도시하지 않은 송풍 펌프에 접속된다고 가정한다. 상류측 분사실(142) 및 하류측 분사실(143)의 분사구(142a, 143a)로부터 분사된 세정 가스나 불어져서 올려진 먼지는 주위의 공기와 함께 흡인구(141a)를 통해서 흡인실(141)에 흡인된다. 이 먼지를 포함한 공기는, 제진 헤드(140)의 배기구, 배기 유로 및 배기 배관을 통하여 외부로 배기된다. 제진 헤드(140)는 이와 같은 것이다.16, the vibration deadening head main body 140 is provided with an upstream side branching portion 142 (P1 (see Fig. 16)) in the conveying direction of the object to be damped The suction chamber 141 (V), and the downstream side injection chamber 143 (P2), and is disposed above the carry section 300. It is assumed that the suction chamber 141 (V) is connected to an intake pump (not shown), and the upstream-side branch 142 (P1) and the downstream-side branch 143 (P2) . The cleaning gas or blown up dust jetted from the jetting ports 142a and 143a of the upstream side branch 142 and the downstream side branch 143 flows into the suction chamber 141 through the suction port 141a together with the ambient air . The air containing this dust is exhausted to the outside through the exhaust port of the vibration isolation head 140, the exhaust passage, and the exhaust pipe. The vibration deadening head 140 is the same as this.
이어서, 제진 장치(4)에 의한 제진 동작에 대하여 설명한다.Next, the vibration damping operation by the vibration damping device 4 will be described.
상류측 분사실(142)에서 유입구로부터 세정 가스를 유입시키고, 이오나이저(120)으로부터 방출된 양이온·음이온을 세정 가스에 첨가하여, 분사구(142a)로부터 분사시킨다. 마찬가지로 하류측 분사실(143)에서 유입구로부터 세정 가스를 유입시키고, 이오나이저(120)로부터 방출된 양이온·음이온을 세정 가스에 첨가하여, 분사구(143a)로부터 분사시킨다.The cleaning gas is introduced from the inlet at the upstream side branching part 142 and the cation and anion discharged from the ionizer 120 are added to the cleaning gas and injected from the injection port 142a. Likewise, the cleaning gas flows in from the inlet port in the downstream side branch flow channel 143, and the positive and negative ions emitted from the ionizer 120 are added to the cleaning gas and injected from the jetting port 143a.
복수의 제진 대상(10)이 소정 간격을 두고 반송부(300) 상으로 차례로 반송되고, 순서대로 제진이 행해진다. 이 경우 제진 헤드(140)는, 상류측 분사실(142)(P1) 및 하류측 분사실(143)(P2)에 의한 세정 가스의 분사, 및 흡인실(141)(V)에 의한 먼지의 흡인을 항상 행하고 있게 된다.A plurality of objects to be damped 10 are successively conveyed onto the conveying unit 300 at predetermined intervals, and the vibration damping is performed in order. In this case, the vibration deadening head 140 is configured to inject the cleaning gas by the upstream-side branch 142 (P1) and the downstream-side branch 143 (P2), and the dust by the suction chamber 141 The suction is always performed.
먼저, 제진되는 제진 대상(10)이, 도 16에서 나타낸 바와 같이, 제진 헤드(140)의 바로 아래에서 반송 방향으로 반송된다. 이 경우, 제진 대상(10)의 상 면이 제진 대상면으로 된다. 제진 헤드(140)에서는, 상류측 분사실(142)(P1) 및 하류측 분사실(143)(P2)로부터 세정 가스가 제진 대상(10)의 제진 대상면에 분사되어 비산된 먼지가 흡인실(141)(V)에 의해 흡인됨으로써, 제진 대상(10)의 제진 대상면의 제진이 행해지게 된다.First, as shown in Fig. 16, the object to be damped 10 to be damped is conveyed in the direction of conveyance just below the damping head 140. In this case, the upper surface of the vibration damping object 10 becomes the vibration damping surface. In the vibration deadening head 140, the cleaning gas is jetted from the upstream-side branch 142 (P1) and the downstream-side branch 143 (P2) onto the surface to be damped of the damping object 10, (V), the vibration damping of the vibration damping target surface of the vibration damping target 10 is performed.
그리고, 그대로 반입이 계속되어, 도 17에서 나타낸 바와 같이, 인접하는 2개의 제진 대상(10) 사이의 간극이 제진 헤드(140)의 바로 아래에 도달했을 때, 제진 헤드(140)의 상류측 분사실(142)(P1) 및 하류측 분사실(143)(P2)로부터의 세정 가스가 통과 구멍(240)을 통과하고, 받이부(200)의 받이 공간(230)의 곡면[반원통체(210)의 내측의 반원형의 곡면]에서 받는다. 이와 같은 세정 가스는 곡면을 따라 이동하거나, 대향판(220)의 배면에 도달하여 방향을 전환시켜 통과 구멍(240)으로 이동한다. 그러나, 상류측 분사실(142)(P1) 및 하류측 분사실(143)(P2)로부터의 분사류에 의해 유로는 일단 하강한 후에 중앙으로부터 상승하는 경로를 취하여, 흡인실(141)(V)에 의해 세정 가스가 위쪽으로 흡인된다. 분사량보다 흡인량을 많이 함으로써, 제진 대상 방향으로 불어져서 누출될 우려를 저감할 수 있다. 또한, 양쪽의 분사류도 제진 대상 방향으로 불어져서 누출될 우려를 저감한다. 이에 따라, 인접하는 2개의 제진 대상(10) 사이의 간극을 통과한 세정 가스가 불필요한 먼지를 비산시키지 않게 되어, 제진 환경을 양호하게 유지한다. 또한, 세정 가스를 분출시킨 상태에서의 연속 제진을 가능하게 하고, 설비의 간소화나 불필요한 이물질이 혼입될 우려도 저감할 수 있다. 본 실시예의 제진 장치(4)는 이와 같은 것이다.17, when the gap between two adjacent vibration damping objects 10 reaches directly below the vibration damping head 140, the upstream side portion of the vibration damping head 140 The cleaning gas from the fact 142 and the downstream side branch 143 passes through the passage hole 240 and the curved surface of the receiving space 230 of the receiving unit 200 ) On the inner side of the semicircular shape). Such a cleaning gas moves along the curved surface, or reaches the back surface of the opposite plate 220, and changes its direction to move to the through hole 240. However, due to the injection flow from the upstream-side branch 142 (P1) and the downstream-side branch 143 (P2), the flow path first ascends from the center after descending, The cleaning gas is sucked upward. By increasing the suction amount more than the injection amount, it is possible to reduce the risk of leaking due to blowing toward the object to be damped. In addition, both injected streams are blown toward the object to be damped, thereby reducing the risk of leakage. As a result, the cleaning gas that has passed through the gap between the adjacent two vibration damping objects 10 does not scatter unnecessary dust, thereby maintaining a good vibration damping environment. Further, it is possible to perform continuous vibration reduction in a state in which the cleaning gas is blown out, and it is also possible to reduce the possibility of simplification of the installation and contamination of unnecessary foreign matter. The vibration isolation device 4 of this embodiment is the same.
이어서, 본 발명의 다른 실시예에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 도 18은 다른 실시예의 제진 장치의 제진 시의 동작 설명도, 도 19는 다른 실시예의 제진 장치의 제진 대상 사이의 분사 시의 동작 설명도이다. 그리고, 도 18 및 도 19에서는 단면도로 도시하고, 측벽부는 도시하지 않고 있다. 제진 장치(5)는, 제진 헤드(150), 받이부(200), 반송부(300) 및 이동부(400)를 포함한다. 제진 장치(5)는 제진 대상(10)에 대하여 제진을 행한다. 먼저 도 1∼도 9를 사용하여 설명한 제진 장치(1)와 비교하면, 본 실시예의 제진 장치(5)는, 제진 헤드(150)의 구성만 상이한 점 외에는 다른 구성은 동일하며, 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 부여하여 중복되는 설명을 생략하고, 제진 헤드(150)에 대해서만 설명한다.Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Fig. 18 is an explanatory view of the operation of the vibration suppression apparatus of another embodiment in vibration suppression, and Fig. 19 is an explanatory diagram of the operation of the vibration suppression apparatus of another embodiment at the time of ejection between vibration suppression targets. 18 and 19 are shown in cross-sectional views, and the side wall portions are not shown. The vibration damping apparatus 5 includes a vibration damping head 150, a receiving unit 200, a carrying unit 300, and a moving unit 400. The vibration damping device (5) performs vibration damping on the vibration damping object (10). Compared to the vibration suppression apparatus 1 described with reference to Figs. 1 to 9, the vibration suppression apparatus 5 of the present embodiment is the same as the vibration suppression head 150 except that the configuration thereof is the same, The same reference numerals will be used to omit redundant description, and only the vibration damping head 150 will be described.
이와 같은 제진 헤드(150)는, 도 18에서 나타낸 바와 같이, 제진 대상의 반송 방향(본 실시예에서는 예시적으로 도면 우측으로부터 좌측으로 향하는 화살표 방향)으로, 상류측 분사실(151)(P) 및 하류측 흡인실(152)(V)이 되도록 배열하여 구성되어 있고, 반송부(300)의 위쪽에 배치되어 있다. 상류측 분사실(151)(P)은 도시하지 않은 송풍 펌프에, 또한, 하류측 흡인실(152)(V)는 도시하지 않은 흡기 펌프에 접속된다고 가정한다. 분사구(151a)로부터 분사된 세정 가스나 불어져서 올려진 먼지는 주위의 공기와 함께, 흡인구(152a)를 통해서 하류측 흡인실(152)에 흡인된다. 이 먼지를 포함한 공기는, 제진 헤드(150)의 배기구, 배기 유로 및 배기 배관을 통하여 외부로 배기된다. 제진 헤드(150)은 이와 같은 것이다.As shown in Fig. 18, such a vibration deadening head 150 is provided with an upstream side branch 151 (P) in the conveying direction of the object to be damped (illustratively in the direction of the arrow from the right to the left in the drawing) And a downstream-side suction chamber 152 (V), and is arranged above the carry section 300. It is assumed that the upstream-side branch 151 (P) is connected to a blowing pump (not shown) and the downstream-side suction chamber 152 (V) is connected to an intake pump not shown. The cleaning gas injected from the injection port 151a and the blown dust are sucked into the downstream suction chamber 152 through the suction port 152a together with the surrounding air. The air containing this dust is exhausted to the outside through the exhaust port of the vibration isolation head 150, the exhaust passage, and the exhaust pipe. The vibration deadening head 150 is the same.
이어서, 제진 장치(5)에 의한 제진 동작에 대하여 설명한다.Next, the vibration damping operation by the vibration damping device 5 will be described.
상류측 분사실(151)에서 유입구로부터 세정 가스를 유입시키고, 이오나이 저(120)로부터 방출된 양이온·음이온을 세정 가스에 첨가하여, 분사구(151a)로부터 분사시킨다.The cleaning gas is introduced from the inlet at the upstream side branch 151 and the cation and anions discharged from the ionizer 120 are added to the cleaning gas and injected from the injection port 151a.
복수의 제진 대상(10)이, 소정 간격을 두고 반송부(300) 상을 차례로 반송되고, 순서대로 제진이 행해지게 된다. 이 경우 제진 헤드(150)는, 상류측 분사실(151)(P)에 의한 세정 가스의 분사, 및 하류측 흡인실(152)(V)에 의한 먼지의 흡인을 항상 행하고 있다고 가정한다.A plurality of objects to be damped 10 are successively conveyed on the carry section 300 at predetermined intervals, and the vibration damping is performed in order. In this case, it is assumed that the dust-removing head 150 always performs the spraying of the cleaning gas by the upstream-side distributor 151 (P) and the dust suction by the downstream-side suction chamber 152 (V).
먼저, 도 18에서 나타낸 바와 같이, 제진되는 제진 대상(10)이 제진 헤드(150)의 바로 아래에서 반송 방향으로 반송된다. 이 경우, 제진 대상(10)의 상면이 제진 대상면으로 된다. 제진 헤드(150)에서는, 상류측 분사실(151)(P)로부터 세정 가스가 제진 대상(10)의 제진 대상면에 분사되어 비산된 먼지가 하류측 흡인실(152)(V)에 의해 흡인됨으로써, 제진 대상(10)의 제진 대상면의 제진이 행해지게 된다.First, as shown in Fig. 18, the object to be damped 10 to be damped is transported in the transport direction immediately below the damping head 150. In this case, the upper surface of the vibration damping object 10 becomes the vibration damping surface. In the vibration damping head 150, the cleaning gas is jetted from the upstream side branch 151 (P) onto the vibration damping object side of the vibration damping object 10 and the scattered dust is sucked by the downstream side suction chamber 152 (V) The vibration damping of the vibration damping object 10 is performed.
그리고, 그대로 반입이 계속되어, 도 19에서 나타낸 바와 같이, 인접하는 2개의 제진 대상(10) 사이의 간극이 제진 헤드(150)의 바로 아래에 도달했을 때, 제진 헤드(150)의 상류측 분사실(151)(P)로부터의 세정 가스가 통과 구멍(240)을 통과하고, 받이부(200)의 받이 공간(230)의 곡면[반원통체(210)의 내측의 반원형의 곡면]에서 받는다. 이와 같은 세정 가스는 곡면을 따라 이동하거나, 대향판(220)의 배면에 도달하여 방향을 전환시켜 통과 구멍(240)으로 이동하고, 하류측 흡인실(152)(V)에 의해 세정 가스가 위쪽으로 흡인된다. 분사량보다 흡인량을 많이 함으로써, 제진 대상 방향으로 불어져서 누출될 우려를 저감할 수 있다. 인접하는 2 개의 제진 대상(10) 사이의 간극을 통과한 세정 가스가 불필요한 먼지를 비산시키지 않게 되어, 제진 환경을 양호하게 유지한다. 또한, 세정 가스를 분출시킨 상태에서의 연속 제진을 가능하게 하고, 설비의 간소화나 불필요한 이물질이 혼입될 우려를 저감할 수 있다. 본 실시예의 제진 장치(5)는 이와 같은 것이다.19, when the gap between the adjacent two vibration damping objects 10 reaches directly below the vibration damping head 150, the upstream side portion of the vibration damping head 150 The cleaning gas from the facts 151 (P) passes through the through hole 240 and is received by the curved surface of the receiving space 230 of the receiving part 200 (the semicircular curved surface inside the semicircular cylinder 210). Such a cleaning gas moves along the curved surface or reaches the rear surface of the opposite plate 220 to change its direction to move to the through hole 240. The downstream side suction chamber 152 (V) . By increasing the suction amount more than the injection amount, it is possible to reduce the risk of leaking due to blowing toward the object to be damped. The cleaning gas that has passed through the gap between the adjacent two vibration damping objects 10 does not scatter unnecessary dust and maintains the damping environment well. In addition, it is possible to perform continuous vibration reduction in a state in which the cleaning gas is blown out, and it is possible to reduce the possibility of simplification of the facility or the incorporation of unnecessary foreign matter. The vibration isolation device 5 of this embodiment is the same as this.
이어서, 본 발명의 다른 실시예에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 도 20은 다른 실시예의 제진 장치의 제진 시의 동작 설명도, 도 21은 다른 실시예의 제진 장치의 제진 대상 사이의 분사 시의 동작 설명도이다. 그리고, 도 20 및 도 21에서는 단면도로 도시하고, 측벽부는 도시하지 않고 있다. 제진 장치(6)는, 제진 헤드(160), 받이부(200), 반송부(300) 및 이동부(400)를 포함한다. 제진 장치(6)는 제진 대상(10)에 대하여 제진을 행한다. 먼저 도 1∼도 9를 사용하여 설명한 제진 장치(1)와 비교하면, 본 실시예의 제진 장치(6)는, 제진 헤드(160)의 구성만이 상이한 점 외에는 다른 구성은 동일하며, 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 부여하여 중복되는 설명을 생략하고, 제진 헤드(160)에 대해서만 설명한다.Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Fig. 20 is an explanatory view of the operation of the vibration suppression apparatus of another embodiment in vibration suppression; and Fig. 21 is an explanatory diagram of the operation of the vibration suppression apparatus of another embodiment at the time of injection between vibration suppression targets. 20 and 21 are shown in the sectional view, and the side wall portion is not shown. The vibration damping device 6 includes a vibration damping head 160, a receiving part 200, a carrying part 300 and a moving part 400. The vibration damping device (6) performs vibration damping on the vibration damping object (10). Compared with the vibration damping apparatus 1 described with reference to Figs. 1 to 9, the vibration damping apparatus 6 of the present embodiment has the same configuration except for the difference in the structure of the vibration damping head 160, The same reference numerals are assigned to the vibration damping head 160, and redundant description will be omitted and only the vibration damping head 160 will be described.
이와 같은 제진 헤드(160)는, 도 20에서 나타낸 바와 같이, 제진 대상의 반송 방향(본 실시예에서는 예시적으로 도면 우측으로부터 좌측으로 향하는 화살표 방향)으로, 상류측 흡인실(161)(V) 및 하류측 분사실(162)(P)이 되도록 배열하여 구성되어 있고, 반송부(300)의 위쪽에 배치되어 있다. 상류측 흡인실(161)(V)은 도시하지 않은 흡기 펌프에, 또한, 하류측 분사실(162)(P)은 도시하지 않은 송풍 펌프에 접속된다고 가정한다. 분사구(162a)로부터 분사된 세정 가스나 불어져서 올려진 먼지는 주위의 공기와 함께, 흡인구(161a)를 통해서 상류측 흡인실(161)에 흡인된다. 이 먼지를 포함한 공기는, 제진 헤드(160)의 배기구, 배기 유로 및 배기 배관을 통하여 외부로 배기된다. 제진 헤드(160)는 이와 같은 것이다.20, the vibration damping head 160 includes an upstream suction chamber 161 (V) in the conveyance direction of the object to be damped (in the present embodiment, the arrow direction from the right to the left in the drawing) And a downstream-side branch 162 (P), and is disposed above the carry section 300. [0064] It is assumed that the upstream-side suction chamber 161 (V) is connected to an intake pump (not shown) and the downstream-side branch 162 (P) is connected to a blow pump not shown. The cleaning gas injected from the injection port 162a and the blown dust are attracted to the upstream suction chamber 161 through the suction port 161a together with the ambient air. The air containing this dust is exhausted to the outside through the exhaust port of the vibration isolation head 160, the exhaust passage, and the exhaust pipe. The vibration deadening head 160 is the same as this.
이어서, 제진 장치(6)에 의한 제진 동작에 대하여 설명한다.Next, the vibration damping operation by the vibration damping device 6 will be described.
하류측 분사실(162)에서 유입구로부터 세정 가스를 유입시키고, 이오나이저(120)로부터 방출된 양이온·음이온을 세정 가스에 첨가하여, 분사구(162a)로부터 분사시킨다.The cleaning gas is introduced from the inlet port at the downstream side branch port 162 and the cation and anion discharged from the ionizer 120 are added to the cleaning gas and injected from the injection port 162a.
복수의 제진 대상(10)이 소정 간격을 두고 반송부(300) 상을 차례로 반송되고, 순서대로 제진이 행해진다. 이 경우 제진 헤드(160)는, 하류측 분사실(162)(P)에 의한 세정 가스의 분사, 및 상류측 흡인실(161)(V)에 의한 먼지의 흡인을 항상 행하고 있다고 가정한다.A plurality of objects to be damped 10 are successively conveyed on the conveying unit 300 at predetermined intervals, and the vibration damping is performed in order. In this case, it is assumed that the dust-removing head 160 always performs the spraying of the cleaning gas by the downstream-side dust collector 162 (P) and the dust suction by the upstream suction chamber 161 (V).
먼저, 도 20에서 나타낸 바와 같이, 제진되는 제진 대상(10)이 제진 헤드(160)의 바로 아래에서 반송 방향으로 반송된다. 이 경우, 제진 대상(10)의 상면이 제진 대상면으로 된다. 제진 헤드(160)에서는, 하류측 분사실(162)(P)로부터 세정 가스가 제진 대상(10)의 제진 대상면으로 분사되어 비산된 먼지가 상류측 흡인실(161)(V)에 의해 흡인됨으로써, 제진 대상(10)의 제진 대상면의 제진이 행해지게 된다.First, as shown in Fig. 20, the object to be damped 10 to be damped is transported in the transport direction immediately below the damping head 160. In this case, the upper surface of the vibration damping object 10 becomes the vibration damping surface. In the vibration damping head 160, the cleaning gas is jetted from the downstream side branch pipe 162 (P) onto the vibration damping object side of the vibration damping object 10 and the scattered dust is sucked by the upstream side suction chamber 161 (V) The vibration damping of the vibration damping object 10 is performed.
그리고, 그대로 반입이 계속되어, 도 21에서 나타낸 바와 같이, 인접하는 2개의 제진 대상(10) 사이의 간극이 제진 헤드(160)의 바로 아래에 도달했을 때, 제진 헤드(160)의 하류측 분사실(162)(P)로부터 세정 가스가 통과 구멍(240)을 통과하고, 받이부(200)의 받이 공간(230)의 곡면[반원통체(210)의 내측의 반원형의 곡 면]에서 받는다. 이와 같은 세정 가스는 곡면(230)을 따라 이동하거나, 대향판(220)의 배면에 도달하여 방향을 전환시켜 통과 구멍(240)을 향하여 이동하고, 상류측 흡인실(161)(V)에 의해 세정 가스가 위쪽으로 흡인된다. 분사량보다 흡인량을 많이 함으로써, 제진 대상 방향으로 불어져서 누출될 우려를 저감할 수 있다. 인접하는 2개의 제진 대상(10) 사이의 간극을 통과한 세정 가스가 불필요한 먼지를 비산시키지 않게 되어, 제진 환경을 양호하게 유지한다. 또한, 세정 가스를 분출시킨 상태에서의 연속 제진을 가능하게 하고, 설비의 간소화나 불필요한 이물질을 혼입할 우려를 저감시킬 수 있다. 본 실시예의 제진 장치(6)은 이와 같은 것이다.21, when the gap between the adjacent two vibration damping objects 10 reaches directly below the vibration damping head 160, the downstream side of the vibration damping head 160 The cleaning gas passes through the through hole 240 from the fact 162 (P) and is received at the curved surface of the receiving space 230 of the receiving portion 200 (the semicircular curved surface inside the semicircular cylinder 210). Such a cleaning gas moves along the curved surface 230 or reaches the rear surface of the opposite plate 220 to change its direction and move toward the through hole 240. The upstream side suction chamber 161 The cleaning gas is sucked upwards. By increasing the suction amount more than the injection amount, it is possible to reduce the risk of leaking due to blowing toward the object to be damped. The cleaning gas that has passed through the gap between the adjacent two vibration damping objects 10 does not scatter unnecessary dust and maintains the damping environment well. In addition, it is possible to perform continuous vibration reduction in a state in which the cleaning gas is blown out, and it is possible to reduce the possibility of simplification of facilities and incorporation of unnecessary foreign matter. The vibration isolation device 6 of this embodiment is the same.
또한, 더 변형시킨 변형예에서는, 예를 들면, 도 16 및 도 17에서 설명한 제진 헤드(140), 도 18 및 도 19에서 설명한 제진 헤드(150), 도 20 및 도 21에서 설명한 제진 헤드(160)에 대하여, 도 10 및 도 11을 사용하여 설명한 받이부(500)를 대향시킨 제진 장치를 만들어도 된다. 일례로서, 도 16 및 도 17에서 설명한 제진 헤드(140)에 대하여, 도 10 및 도 11을 사용하여 설명한 받이부(500)를 대향시킨 제진 장치에 대하여 도면을 참조하면서 설명한다. 도 22는 변형예의 제진 장치의 설명도이다. 이와 같이 원호체(510)에 분사구(142a, 143a)로부터 세정 가스를 분사해도 세정 가스를 받아서 흡인구(141a)로부터 흡인시킬 수 있고, 본 발명의 제진 장치(7)로서 기능한다.16 and 17, the vibration damping head 150 described with reference to Figs. 18 and 19, the vibration damping head 160 described with reference to Figs. 20 and 21 10A and 10B and 11A and 11B may be made to oppose the receiving unit 500 described with reference to FIGS. As an example, a vibration damper having the receiving section 500 facing the vibration damping head 140 described with reference to Figs. 10 and 11 will be described with reference to the drawings. 22 is an explanatory diagram of a vibration suppression apparatus according to a modification. Even if the cleaning gas is jetted from the jetting ports 142a and 143a to the arc body 510 in this way, the cleaning gas can be received and sucked from the suction port 141a, thereby functioning as the vibration suppression device 7 of the present invention.
또한, 도 18 및 도 19에서 설명한 제진 헤드(150)에 대하여, 도 10 및 도 11을 사용하여 설명한 받이부(500)를 대향시킨 제진 장치나, 도 20 및 도 21에서 설명한 제진 헤드(160)에 대하여, 도 10 및 도 11을 사용하여 설명한 받이부(500)을 대향시킨 제진 장치도 마찬가지로 기능한다. 이와 같은 제진 장치로 만들어도 된다.The vibration deadening apparatus described with reference to Figs. 10 and 11 or the vibration deadening apparatus 160 described with reference to Figs. 20 and 21 may be applied to the vibration deadening head 150 described with reference to Figs. 18 and 19, The vibration damper having the receiving portion 500 facing the case described with reference to Figs. 10 and 11 also functions similarly. Such a vibration damping device may be used.
또한, 한층 더 변형시킨 변형예로서는, 예를 들면, 도 16 및 도 17에서 설명한 2개의 분사구(142a, 143a)를 포함하는 제진 헤드(140)에 대하여, 2개의 원호체에 의한 받이부를 대향시킨 제진 장치로 만들어도 된다. 도 23은 변형예의 제진 장치의 설명도이다. 제1 지지부(530) 및 제1 원호체(540)로 이루어지는 받이부가 제1 이동부(410)에 의해 화살표 b 방향으로 이동 가능하게 구성되어 있고, 제1 원호체(540)는 분사구(142a)의 아래쪽에 배치된다. 마찬가지로, 제2 지지부(550) 및 제2 원호체(560)로 이루어지는 받이부가 제2 이동부(420)에 의해 화살표 c 방향으로 이동 가능하게 구성되어 있고, 제2 원호체(560)는 분사구(143a)의 아래쪽에 배치된다. 이와 같은 제1 원호체(540) 및 제2 원호체(560)에 분사구(142a, 143a)로부터 세정 가스를 분사해도 세정 가스를 받아서 흡인구(141a)로부터 흡인시킬 수 있고, 본 발명의 제진 장치(8)로서 기능한다. 이와 같은 제진 장치(8)로 만들어도 된다.Further, as a further modified example, for example, the vibration deadening head 140 including the two jetting ports 142a and 143a described with reference to Figs. 16 and 17, Device. Fig. 23 is an explanatory diagram of a vibration isolation device according to a modification. Fig. The first arc member 540 is configured to be movable in the direction of the arrow b by the first moving unit 410. The first arc member 540 has a jet opening 142a, As shown in FIG. Similarly, the receiving portion composed of the second support portion 550 and the second arc body 560 is configured to be movable in the direction of arrow c by the second moving portion 420, and the second arc body 560 is configured to be movable in the direction of the arrow c 143a. Even if the cleaning gas is jetted from the jetting ports 142a and 143a to the first arc body 540 and the second arc body 560, the cleaning gas can be received and sucked from the suction port 141a, (8). The vibration damping device 8 may also be used.
이상 설명한 본 발명의 실시예에 따른 제진 장치(1∼8)는, 더욱 변형시킬 수 있으며, 예를 들면, 받이부(200, 500, 600)의 아래쪽에 흡인 호스를 연통시키고, 받이 공간에 흘러드는 세정 가스를 흡인 호스를 통해서 배기 펌프로 다른 개소에 배기하거나, 또는 제진에 영향이 없는 개소에 흡인 호스의 타단을 배치하여 그대로 방출 배기하도록 해도 된다.The vibration damping devices 1 to 8 according to the embodiment of the present invention described above can be further deformed. For example, the suction hose is communicated below the receiving portions 200, 500 and 600, And the other end of the suction hose may be disposed at a position where there is no influence on the vibration damping, so that the clean gas may be discharged and exhausted as it is.
또한, 제진 헤드(110, 140, 150, 160)의 이오나이저(120)를 제거한 형태, 제 진 헤드(110, 140, 150, 160)의 이오나이저 대신 초음파 발진자를 탑재한 형태, 제진 헤드(110, 140, 150, 160)의 이오나이저(120)에 초음파 발진자를 부가한 형태를 취할 수도 있다. 이와 같은 형태로도 본 발명은 실시 가능하다. In addition, a configuration in which the ionizer 120 of the vibration isolation heads 110, 140, 150 and 160 is removed, a configuration in which an ultrasonic vibration generator is mounted in place of the ionizers of the vibration removal heads 110, 140, 150 and 160, , 140, 150, and 160 may include an ultrasonic oscillator. The present invention is also applicable in such a form.
도 1은 본 발명을 실시하기 위한 실시예의 제진 장치의 측면도이다.1 is a side view of a vibration suppression apparatus of an embodiment for carrying out the present invention.
도 2는 본 발명을 실시하기 위한 실시예의 제진 장치의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a vibration suppression device in an embodiment for carrying out the present invention.
도 3은 본 발명을 실시하기 위한 실시예의 제진 장치의 사시 외관도이다.3 is a perspective view of a vibration damping device according to an embodiment of the present invention.
도 4는 제진 헤드의 내외 구조를 나타낸 도면으로서, 도 4의 (a)는 A 방향으로 바라본 도면, 도 4의 (b)는 B-B선을 따라 절단한 단면도, 도 4의 (c)는 C-C선을 따라 절단한 단면도이다.4A is a sectional view taken along the line BB in FIG. 4A, FIG. 4B is a sectional view taken along line BB in FIG. 4A, and FIG. Fig.
도 5는 C-C선을 따라 절단한 단면의 사시도이다.5 is a perspective view of a section cut along the line C-C.
도 6은 제진 헤드의 내부 구조를 나타낸 도면으로서, 도 6의 (a)는 D-D선을 따라 절단한 단면도, 도 6의 (b)는 E-E선을 따라 절단한 단면도이다.6 (a) is a sectional view taken along the line D-D, and FIG. 6 (b) is a sectional view taken along the line E-E.
도 7은 받이부의 구성도이다.7 is a configuration diagram of the receiving portion.
도 8은 본 발명을 실시하기 위한 실시예의 제진 시의 동작 설명도이다.Fig. 8 is an explanatory view of the operation of the embodiment for carrying out the present invention.
도 9는 본 발명을 실시하기 위한 실시예의 제진 장치의 제진 대상 사이의 분사 시의 동작 설명도이다.Fig. 9 is an explanatory view of the operation of the vibration suppression apparatus of the embodiment for carrying out the present invention at the time of injection between the vibration suppression targets. Fig.
도 10은 다른 실시예의 제진 장치의 측면도이다.10 is a side view of a vibration suppression apparatus of another embodiment.
도 11은 다른 실시예의 제진 장치의 단면도이다.11 is a sectional view of a vibration suppression apparatus of another embodiment.
도 12는 원호체의 제조를 설명하는 설명도이다.Fig. 12 is an explanatory view for explaining the production of an arc body.
도 13은 다른 실시예의 제진 장치의 동작 설명도이다.Fig. 13 is an explanatory view of the operation of a vibration suppression apparatus according to another embodiment.
도 14는 다른 실시예의 제진 장치의 측면도이다.14 is a side view of a vibration suppression apparatus of another embodiment.
도 15는 다른 실시예의 제진 장치의 동작 설명도이다.FIG. 15 is an explanatory view of the operation of a vibration suppression apparatus of another embodiment. FIG.
도 16은 다른 실시예의 제진 장치의 제진 시의 동작 설명도이다.FIG. 16 is an explanatory diagram of the operation of the vibration suppression apparatus of another embodiment at the time of vibration suppression.
도 17은 다른 실시예의 제진 장치의 제진 대상 사이의 분사 시의 동작 설명도이다.FIG. 17 is an explanatory view of the operation of the vibration damping device of another embodiment at the time of injection between objects to be damped;
도 18은 다른 실시예의 제진 장치의 제진 시의 동작 설명도이다.FIG. 18 is an explanatory diagram of the operation of the vibration isolation device of another embodiment at the time of vibration reduction. FIG.
도 19는 다른 실시예의 제진 장치의 제진 대상 사이의 분사 시의 동작 설명도이다.Fig. 19 is an explanatory diagram of the operation of the vibration damping device of another embodiment at the time of injection between the vibration damping objects. Fig.
도 20은 다른 실시예의 제진 장치의 제진 시의 동작 설명도이다.FIG. 20 is an explanatory view of the operation of the vibration isolation device of another embodiment at the time of vibration reduction.
도 21은 다른 실시예의 제진 장치의 제진 대상 사이의 분사 시의 동작 설명도이다.FIG. 21 is an explanatory view of the operation of the vibration damper of another embodiment at the time of injection between objects to be vibration damped.
도 22는 변형예의 제진 장치의 설명도이다.22 is an explanatory diagram of a vibration suppression apparatus according to a modification.
도 23은 변형예의 제진 장치의 설명도이다.Fig. 23 is an explanatory diagram of a vibration isolation device according to a modification. Fig.
[도면의 주요부분에 대한 부호의 설명]DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS
1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8: 제진 장치 10: 제진 대상1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8: Vibration isolation device 10:
100: 제진 헤드 110: 제진 헤드 본체100: vibration damping head 110: vibration damping head body
111: 분사실 111a: 분사구111: minute facts 111a: nozzle
111b: 유입구 111c: 분사실 바닥부111b: Inlet port 111c: Outlet bottom part
112: 상류측 흡인실 112a: 흡인구112: upstream-side aspiration chamber 112a: suction port
112b: 배기구 112c: 흡인실 바닥부112b: exhaust port 112c: suction chamber bottom
113: 하류측 흡인실 113a: 흡인구113: downstream-side aspiration chamber 113a: suction port
113b: 배기구 113c: 흡인실 바닥부113b: Air outlet 113c: Suction chamber bottom
114: 천장판 115a, 115b: 측벽114: ceiling board 115a, 115b: side wall
116a, 116b: 내벽 116c: 격벽116a, 116b: inner wall 116c: partition wall
116d: 홈부 116e: 통과 구멍116d:
120: 이오나이저 121: 돌출부120: ionizer 121: protrusion
122: 이미터 123: 절결부122: Emitter 123:
124: 통과 구멍 130: 측벽부124: through hole 130:
140: 제진 헤드 141: 흡인실140: vibration damping head 141: suction chamber
141: 흡인구 142: 상류측 분사실141: suction port 142: upstream side branch fact
142a: 분사구 143: 하류측 분사실142a: jet nozzle 143: downstream jet nozzle
143a: 분사구 150: 제진 헤드143a: jetting port 150: damping head
151: 상류측 분사실 151a: 분사구151: upstream side branching point 151a: jetting port
152: 하류측 흡인실 152a: 흡인구152: downstream side suction chamber 152a: suction port
160: 제진 헤드 161: 상류측 흡인실160: vibration damping head 161: upstream suction chamber
161a: 흡인구 162: 하류측 분사실161a: suction port 162: downstream side
162a: 분사구 200: 받이부162a: jetting port 200:
210: 반원통체 220: 대향판210: Semicircular cylinder 220: Opposed plate
230: 받이 공간 240: 통과 구멍230: receiving space 240: through hole
250: 지지부 260: 측벽250: support part 260: side wall
300: 반송부 400: 이동부300: Carrier 400: Moving part
410: 제1 이동부 420: 제2 이동부410: first moving part 420: second moving part
500: 받이부 510: 원호체500: receiver 510:
520: 지지부 530: 제1 지지부520: Support part 530: First support part
540: 제1 원호체 550: 제2 지지부540: first arc member 550: second support portion
560: 제2 원호체 600: 받이부560: second oscillator 600: receiving part
610: 상자체 620: 지지부610: Phase body 620: Support
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| CN103801184B (en) * | 2014-03-04 | 2015-06-17 | 南京工业职业技术学院 | Synchronous planet-tracking liquid spraying and negative-pressure gas absorption device |
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| CN105195907B (en) * | 2015-07-20 | 2017-03-15 | 广东正业科技股份有限公司 | A kind of dust arrester and the laser process equipment using the dust arrester and method |
| CN105268696A (en) * | 2015-11-16 | 2016-01-27 | 无锡华光锅炉股份有限公司 | Reverse spraying dust remover |
| KR101900283B1 (en) * | 2016-03-03 | 2018-11-05 | 에이피시스템 주식회사 | Dust Remove Equipment for Laser Lift Off Process |
| CN106842646B (en) * | 2017-03-03 | 2019-11-29 | 惠科股份有限公司 | A kind of display panel cleaning machine |
| JP6963784B2 (en) * | 2017-05-22 | 2021-11-10 | ヒューグル開発株式会社 | Cleaning head |
| US11318509B2 (en) * | 2017-11-06 | 2022-05-03 | Air Systems Design, Inc. | Dust hood |
| CN107962003A (en) * | 2017-11-29 | 2018-04-27 | 四川珩必鑫电子科技有限公司 | A kind of LCD panel dust-extraction unit |
| JP7048287B2 (en) * | 2017-12-07 | 2022-04-05 | 株式会社エンビジョンＡｅｓｃジャパン | Dust remover |
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| CN109530335A (en) * | 2018-12-28 | 2019-03-29 | 湖南科伦制药有限公司 | A kind of included sealing function nozzle particle cleaning plant |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07181467A (en) * | 1993-12-22 | 1995-07-21 | Toshiba Corp | Cleaning method of substrate and device therefor |
| JP2000210630A (en) * | 1999-01-26 | 2000-08-02 | Hugle Electronics Inc | Substrate conveying and dust removing device |
| KR20010038334A (en) * | 1999-10-25 | 2001-05-15 | 휴글엘렉트로닉스가부시키가이샤 | Dust cleaning process and dust cleaning apparatus |
| JP2004041851A (en) * | 2002-07-09 | 2004-02-12 | Hugle Electronics Inc | Dust extractor head |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4205412A (en) * | 1978-12-04 | 1980-06-03 | Weber Ronald W | Automotive brake dust recovery unit |
| GB9102381D0 (en) * | 1991-02-04 | 1991-03-20 | Smith Alexander | Bristle cleaner for carpet cutters |
| JPH05138136A (en) * | 1991-11-12 | 1993-06-01 | Toray Ind Inc | Dust collector for sheet material |
| JP2820599B2 (en) * | 1993-08-31 | 1998-11-05 | 株式会社伸興 | Dust removal device |
| JPH10209097A (en) * | 1997-01-21 | 1998-08-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Substrate cleaning method and apparatus |
| JP2000084510A (en) * | 1998-09-10 | 2000-03-28 | Huegle Electronics Kk | Conveying and dust removing device for substrate |
| JP2002316110A (en) * | 2001-04-19 | 2002-10-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Electronic part washing method and washing apparatus used therein |
| JP2003053939A (en) * | 2001-08-14 | 2003-02-26 | Nec Kagoshima Ltd | Base plate cleaning mechanism for printer |
| JP2003332401A (en) * | 2002-05-09 | 2003-11-21 | Hugle Electronics Inc | Substrate conveying and dust cleaning device |
| ES2300673T3 (en) * | 2003-06-13 | 2008-06-16 | Cft Gmbh Compact Filter Technic | DUST VACUUM CLEANER WITH MULTIPLE JET NOZZLES. |
| TWI232492B (en) * | 2004-06-04 | 2005-05-11 | Au Optronics Corp | A process chamber equipped with a cleaning function |
| JP4948787B2 (en) * | 2005-06-13 | 2012-06-06 | 東洋熱工業株式会社 | Dust remover |
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07181467A (en) * | 1993-12-22 | 1995-07-21 | Toshiba Corp | Cleaning method of substrate and device therefor |
| JP2000210630A (en) * | 1999-01-26 | 2000-08-02 | Hugle Electronics Inc | Substrate conveying and dust removing device |
| KR20010038334A (en) * | 1999-10-25 | 2001-05-15 | 휴글엘렉트로닉스가부시키가이샤 | Dust cleaning process and dust cleaning apparatus |
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