KR101474543B1 - Electrostatic capacity type double side touch screen panel - Google Patents

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KR101474543B1
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Abstract

The present invention provides a double-sided touch screen panel in an electrostatic capacity type comprising: a transparent substrate having a screen area and an inactive area; a plurality of first electrode patterns which is extended to be formed in a first direction in one screen area of the transparent substrate and is formed in a mesh structure; and a plurality of second electrode patterns which is formed in transparent conductive material and is formed to be extended in a second direction which crosses the first direction in another screen area of the transparent substrate.

Description

정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널{ELECTROSTATIC CAPACITY TYPE DOUBLE SIDE TOUCH SCREEN PANEL}ELECTROSTATIC CAPACITY TYPE DOUBLE SIDE TOUCH SCREEN PANEL < RTI ID = 0.0 >

본 발명은 정전용량 방식의 터치스크린 패널에 관한 것으로, 대형사이즈의 터치스크린에 적용 가능한 전극패턴을 갖는 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a capacitive touch screen panel, and more particularly, to a capacitive touch screen panel having an electrode pattern applicable to a touch screen of a large size.

터치스크린 패널은 디스플레이에 나타난 지시 내용을 손가락 등으로 선택하여 사용자의 명령을 입력할 수 있도록 한 입력 장치이다. The touch screen panel is an input device that allows a user to input a command by selecting an instruction displayed on the display with a finger or the like.

터치스크린 패널을 구현하는 방식으로는 저항막 방식, 광감지 방식, 정전용량 방식 등이 알려져 있다. 이 중 정전용량 방식은 손가락 등이 접촉될 때 도전성 감지패턴이 주변의 감지패턴 또는 접지전극 등과 형성하는 정전용량 변화를 감지함으로써, 접촉 위치를 전기적 신호로 변환한다. As a method of implementing a touch screen panel, a resistive film type, a light sensing type, and a capacitive type are known. Among them, the electrostatic capacitance type converts a contact position into an electrical signal by sensing a change in electrostatic capacitance formed by a conductive detection pattern with a surrounding sensing pattern or a ground electrode or the like when a finger or the like is contacted.

정전용량 방식의 터치스크린 패널은 접촉면에서의 접촉 위치를 판단할 수 있도록 투명기판의 일측면에서 제1 방향을 따라 형성된 제1 전극패턴들과, 투명기판의 타측면에서 상기 제1 전극패턴들과 교차하는 제2 방향을 따라 형성된 제2 전극패턴들을 포함한다. 제1 및 제2 전극패턴들은 각각 제1 및 제2 외곽전극배선을 통해 외부 구동부에 연결된다. The capacitive touch screen panel includes first electrode patterns formed along a first direction on one side of a transparent substrate so as to determine a contact position on a contact surface, And second electrode patterns formed along the second direction intersecting the second direction. The first and second electrode patterns are connected to the external driver through the first and second outer electrode wires, respectively.

종래에 제1 및 제2 전극패턴은 ITO(Indium Tin Oxide; 인듐-주석 산화물) 등과 같은 투명도전물질을 이용하여 형성하였다. 그러나 대형사이즈(화면기준 10" )의 정전용량 방식의 터치스크린 패널을 구현하는데 있어 통상적으로 면저항이 약 50Ω/sq 이하로 요구되는 데, ITO의 면저항은 150Ω 정도로 대형사이즈의 터치스크린 패널 제작이 어려운 단점이 있다. 더욱이, 20" 이상의 경우 더 낮은 면저항을 요구한다. Conventionally, the first and second electrode patterns are formed using a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide). However, in order to implement a capacitive touch screen panel having a large size (screen reference 10 "), the surface resistance is generally required to be about 50 Ω / sq or less, and the sheet resistance of ITO is about 150 Ω. Moreover, a 20 "or greater " requires a lower sheet resistance.

한편, 근래에는 Ag, Au, Cu, Al, Cr 등의 금속을 이용하여 전극패턴을 형성한 터치스크린 패널이 개발되고 있는바, 금속선을 메쉬(mesh) 구조로 배열하여 제1 및 제2 전극패턴들을 형성한다. 금속선으로 형성된 이러한 메쉬 구조의 전극 패턴들은 ITO에 비해 전기전도도가 우수하여 면저항을 낮출 수 있는 장점이 있다. 그러나 메쉬 구조로 양면 전극 패턴을 형성하는 경우 투과율을 포함하여 터치스크린 패널의 광특성이 악화되는 문제점이 있어 상용화에 대한 장애 요인이 되고 있다.
In recent years, touch screen panels having electrode patterns formed using metals such as Ag, Au, Cu, Al, and Cr have been developed. The metal wires are arranged in a mesh structure to form first and second electrode patterns . The electrode patterns of the mesh structure formed of the metal wire have an advantage of lowering the sheet resistance because of the excellent electric conductivity as compared with ITO. However, when a double-sided electrode pattern is formed with a mesh structure, the optical characteristics of the touch screen panel including the transmittance are deteriorated, which is an obstacle to commercialization.

본 발명은 대형사이즈의 터치스크린 패널에 적용 가능한 전극패턴을 갖는 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다. It is an object of the present invention to provide a capacitive type double-sided touch screen panel having an electrode pattern applicable to a large size touch screen panel.

본 발명은 메쉬 구조의 제1 전극패턴과 투명도전물질로 형성된 제2 전극패턴을 이용하여 터치스크린 패널을 형성함으로써, 대형사이즈의 터치스크린 패널에 적용 가능한 면저항과 광특성을 동시에 확보가능한 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다.
A touch screen panel is formed using a first electrode pattern having a mesh structure and a second electrode pattern made of a transparent conductive material, thereby providing a capacitive touch panel capable of simultaneously achieving surface resistance and optical characteristics applicable to a touch screen panel of a large size And a touch panel.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해, 화면영역과 비활성영역을 갖는 투명기판; 상기 투명기판의 일측면 화면영역에서 제1 방향으로 연장되게 형성되고 메쉬 구조로 형성된 복수의 제1 전극패턴; 및 상기 투명기판의 타측면 화면영역에서 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되게 형성되며 투명도전물질로 형성된 복수의 제2 전극패턴을 포함하는 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널을 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention provides a display device comprising: a transparent substrate having a screen region and an inactive region; A plurality of first electrode patterns formed in a mesh structure and extending in a first direction in a screen area of one side of the transparent substrate; And a plurality of second electrode patterns formed to extend in a second direction intersecting the first direction in a second side surface region of the transparent substrate and formed of a transparent conductive material, .

본 발명에 의하면, 상기 투명기판의 일측면 화면영역에서 상기 제1 전극패턴들 사이에 형성된 메쉬 구조로 형성된 복수의 더미패턴을 포함한다. According to the present invention, the transparent substrate includes a plurality of dummy patterns formed in a mesh structure formed between the first electrode patterns on one side surface area of the transparent substrate.

본 발명에 의하면, 상기 제1 전극패턴과 상기 더미패턴은 동일한 메쉬 패턴으로 형성되고, 상기 제1 전극패턴과 상기 더미패턴을 분리하는 갭에 의해 서로 구획된다. According to the present invention, the first electrode pattern and the dummy pattern are formed in the same mesh pattern, and are separated from each other by a gap separating the first electrode pattern and the dummy pattern.

본 발명에 의하면, 상기 전극패턴 및 상기 더미패턴의 메쉬 구조를 형성하는 도전성의 금속선은 상하부 각각에 메탈 옥사이드층 또는 메탈 나이트라이드층을 구비한다. 이를 위해 상기 투명기판의 일측면에 메탈 옥사이드층 또는 메탈 나이트라이드층, 그 상부의 도전성의 금속층, 그리고 그 상부의 메탈 옥사이드층 또는 메탈 나이트라이드층으로 된 3중층으로 된 금속층을 스터퍼링 또는 프린트 공정을 이용하여 형성하고, 포토리소그래피 공정을 통해 상기 메쉬 구조로 패터닝되도록 전면 식각하여 형성한다. According to the present invention, the conductive metal line forming the mesh pattern of the electrode pattern and the dummy pattern has a metal oxide layer or a metal nitride layer on each of the upper and lower portions. For this purpose, a metal layer composed of a metal oxide layer or a metal nitride layer, a conductive metal layer on the metal oxide layer, and a triple layer of a metal oxide layer or a metal nitride layer on the metal oxide layer or the metal nitride layer is formed on one side of the transparent substrate And is formed by front etching so as to be patterned into the mesh structure through a photolithography process.

본 발명에 의하면, 상기 전극패턴 및 상기 더미패턴의 메쉬 구조를 형성하는 금속선은 커버 윈도우 방향 측 표면에 메탈 옥사이드층 또는 메탈 나이트라이드층을 구비한다. 이를 위해 금속선의 커버 윈도우 방향을 이루는 상기 투명기판의 일측면에 도전성의 금속층, 그리고 그 상부의 메탈 옥사이드층 또는 메탈 나이트라이드층으로 된 중층으로 된 금속층을 스터퍼링 또는 프린트 공정을 이용하여 형성하고, 포토리소그래피 공정을 통해 상기 메쉬 구조로 패터닝되도록 전면 식각하여 형성한다. According to the present invention, the metal line forming the electrode pattern and the mesh structure of the dummy pattern has a metal oxide layer or a metal nitride layer on the side surface in the direction of the cover window. For this purpose, a conductive metal layer is formed on one side of the transparent substrate, which forms a cover window direction of the metal wire, and a metal layer composed of an intermediate metal oxide layer or metal nitride layer thereon is formed by a stuffer or a printing process, And is formed by front etching so as to be patterned into the mesh structure through a photolithography process.

본 발명에 의하면, 상기 제1 방향은 상기 투명기판의 장축 방향이며, 상기 제2 방향은 상기 투명기판의 단축 방향으로 형성된다. According to the present invention, the first direction is the major axis direction of the transparent substrate, and the second direction is the minor axis direction of the transparent substrate.

본 발명에 의하면, 상기 제1 전극패턴 및 상기 제2 전극패턴은 바 형상으로 이루어지며, 상기 제2 전극패턴은 상기 제1 전극패턴 보다 큰 폭을 가지도록 형성된다. According to the present invention, the first electrode pattern and the second electrode pattern are formed in a bar shape, and the second electrode pattern is formed to have a larger width than the first electrode pattern.

본 발명에 의하면, 상기 제1 전극패턴 및 상기 제2 전극패턴은 폭이 좁은 패턴과 폭이 넓은 패턴이 교대로 반복되며 연결되는 형태로 각각 제1 방향 및 제2 방향으로 연장되며, 폭이 좁은 패턴 부분이 서로 교차하게 배치된다. According to the present invention, the first electrode pattern and the second electrode pattern each extend in the first direction and the second direction in a form in which the narrow pattern and the wide pattern are alternately repeated and connected, The pattern portions are arranged to cross each other.

본 발명에 의하면, 상기 투명기판의 타측면 화면영역에서 상기 제2 전극패턴 사이에는 다수의 다각형들이 격자 무늬 형태로 배열된 복수의 투명도전물질 더미패턴을 더 포함한다. According to the present invention, furthermore, a plurality of transparent conductive material dummy patterns are arranged between the second electrode patterns in the other side surface region of the transparent substrate, in which a plurality of polygons are arranged in a lattice pattern.

본 발명에 의하면, 상기 제1 전극패턴 및 상기 더미패턴의 메쉬 구조를 형성하는 금속선들과 투명전도물질로 된 상기 제2 전극패턴 및 상기 투명전도물질 더미패턴의 다각형의 외곽선은 서로 교차하게 배열된다. According to the present invention, the metal lines forming the mesh structure of the first electrode pattern and the dummy pattern, the second electrode pattern made of the transparent conductive material, and the outline of the polygon of the transparent conductive material dummy pattern are arranged so as to cross each other .

본 발명에 의하면, 상기 투명기판의 일측면 및 타측면 비활성영역 각각에 상기 제1 전극패턴 및 상기 제2 전극패턴과 각각 연결되는 제1 및 제2 외곽전극배선이 각각 형성되다. According to the present invention, first and second outer electrode wiring lines respectively connected to the first electrode pattern and the second electrode pattern are respectively formed on one side surface and the other side surface inactive region of the transparent substrate.

본 발명에 의하면, 상기 투명기판의 비활성영역에는 상기 투명기판을 관통하는 비아홀을 구비하고, 상기 투명기판의 타측면에 상기 제1 전극패턴 및 상기 제2 전극패턴과 연결되는 제1 및 제2 외곽전극배선이 형성되되, 상기 제1 외곽전극배선은 상기 비아홀을 통해 상기 제1 전극패턴과 연결된다.
According to another aspect of the present invention, there is provided a plasma display panel comprising: a via hole penetrating the transparent substrate in an inactive region of the transparent substrate; first and second outlines Electrode wiring is formed, and the first outer electrode wiring is connected to the first electrode pattern through the via hole.

본 발명에 의하면, 대형사이즈의 터치스크린 패널에 적용 가능한 면저항과 광특성을 동시에 확보가능한 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널을 제공할 수 있다.
According to the present invention, it is possible to provide a capacitive type double-sided touch screen panel capable of simultaneously securing sheet resistance and optical characteristics applicable to a large size touch screen panel.

도 1a 는 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널의 투명기판의 일측면 평면도이다.
도 1b 는 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널의 투명기판의 타측면 평면도이다.
도 1c 는 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널의 투명기판에서 I-I' 및 II-II' 선에 따른 단면도이다.
도 1d 의 본 발명의 제1 실시예의 변형예로서 Ⅲ-Ⅲ' 및 Ⅳ-Ⅳ' ㅅ헌에 따른 단면도이다.
도 2a 내지 도 2c 는 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널의 제조방법을 설명하기 위한 도면들이다.
도 3a는 본 발명의 제2 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널에서 투명기판의 일측면에 대한 부분 평면도이다.
도 3b는 본 발명의 제2 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널에서 투명기판의 타측면에 대한 부분 평면도이다.
도 3c는 본 발명의 제2 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널에 대한 투명기판을 평면에서 바라보았을 때의 투영도이다.
도 4a 는 본 발명의 제3 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널의 투명기판의 일측면 평면도이다.
도 4b 는 본 발명의 제3 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널의 투명기판의 타측면 평면도이다.
도 4c 는 본 발명의 제3 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널의 투명기판의 단면도이다.1A is a plan view of a transparent substrate of a capacitive type double-sided touch screen panel according to a first embodiment of the present invention.
1B is a plan view of another side surface of a transparent substrate of a capacitive type double-sided touch screen panel according to a first embodiment of the present invention.
1C is a cross-sectional view taken along line II 'and II-II' in a transparent substrate of a capacitive type double-sided touch screen panel according to a first embodiment of the present invention.
Sectional view taken along line III-III 'and IV-IV' of FIG. 1D as a modification of the first embodiment of the present invention.
2A to 2C are views for explaining a manufacturing method of a capacitive type double-sided touch screen panel according to a first embodiment of the present invention.
3A is a partial plan view of one side of a transparent substrate in a capacitive type double-sided touch screen panel according to a second embodiment of the present invention.
3B is a partial plan view of the other side of the transparent substrate in the capacitive type double-sided touch screen panel according to the second embodiment of the present invention.
3C is a plan view of the transparent substrate of the electrostatic capacity type double-sided touch screen panel according to the second embodiment of the present invention.
4A is a plan view of one side of a transparent substrate of a capacitive type double-sided touch screen panel according to a third embodiment of the present invention.
4B is a plan view of another side surface of the transparent substrate of the capacitive type double-sided touch screen panel according to the third embodiment of the present invention.
4C is a cross-sectional view of a transparent substrate of a capacitive type double-sided touch screen panel according to a third embodiment of the present invention.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다. 그러나, 다음에 예시하는 본 발명의 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 상술하는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예는 당업계에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되어지는 것이다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following embodiments of the present invention may be modified into various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. The embodiments of the present invention are provided to enable those skilled in the art to more fully understand the present invention.

(제1 실시예)(Embodiment 1)

도 1a 내지 도 1c 는 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널의 투명기판 일측면 및 타측면의 평면도 및 단면도이다. 도 1c 의 단면도는 투명기판의 일측면의 I-I'의 단면과 투명기판의 타측면의 II-II' 단면을 도시하고 있다. 한편, 도 1d 의 단면도는 투명기판의 일측면 Ⅲ-Ⅲ' 단면과, 투명기판의 타측면 Ⅳ-Ⅳ'단면을 도시한 것으로, 도 1c에 도시된 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널의 변형예를 도시하고 있다. 1A to 1C are a plan view and a cross-sectional view of one side and another side of a transparent substrate of a capacitive type double-sided touch screen panel according to a first embodiment of the present invention. 1C is a cross-sectional view taken along the line I-I 'of one side of the transparent substrate and a cross-sectional view taken along the line II-II' of the other side of the transparent substrate. 1D is a cross-sectional view taken along the line III-III 'of the transparent substrate and a cross-sectional view taken along the line IV-IV' of the transparent substrate. The electrostatic capacitance according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. Type touch screen panel according to the first embodiment of the present invention.

도 1a 내지 도 1c 을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널은 투명기판(10), 제1 전극패턴(20), 더미패턴(25), 제1 외곽전극배선(28), 제2 전극패턴들(30) 및 제2 외곽전극배선(38)을 포함한다. 1A to 1C, a capacitive touch panel according to a first embodiment of the present invention includes a transparent substrate 10, a first electrode pattern 20, a dummy pattern 25, Electrode wirings 28, second electrode patterns 30, and second outer electrode wirings 38, as shown in Fig.

투명기판(10)은 일측면 및 타측면에 화면영역(S)과 비활성영역(X)을 갖는다. 화면영역(S)은 제조된 터치스크린 패널을 볼 때 중앙에 투명한 영역으로 사용자의 터치를 감지해 내는 부분이고, 비활성영역(X)은 화면영역(S) 외부에 각종 배선들이 배치되는 영역을 의미한다. The transparent substrate 10 has a screen area S and a non-active area X on one side and the other side. The screen area S is a part that senses the touch of the user as a transparent area at the center when the manufactured touch screen panel is viewed and the inactive area X is an area where various wires are arranged outside the screen area S do.

투명기판(10)은 투명한 유전필름 형태로 이루어지며, 예컨대, 글라스(Glass), PET(Polyethylene Terephthalate), PEN(Polyethylene Naphthalate), PI(Polyimide), 아크릴(Acryl) 또는 올레핀 수지(COP, COC), PC 중 적어도 어느 하나를 이용하여 형성됨이 바람직하다.The transparent substrate 10 is formed of a transparent dielectric film. For example, the transparent substrate 10 may be formed of glass, polyethylene terephthalate (PET), polyene naphthalate (PEN), polyimide (PI), acrylic, , And a PC.

투명기판(10)의 일측면 화면영역(S) 상에는 메쉬 패턴의 제1 전극패턴(20)들이 형성된다. 제1 전극패턴(20)들은 제1 방향(열 방향)으로 연장되게 형성되는 데, 도 1a에는 제1 전극패턴(20)이 바(bar)형태로 형성된 것을 도시하고 있다. 본 발명에서 제1 방향은 투명기판(10)의 장축 방향(D1)이 되는 것이 바람직하다. First electrode patterns 20 of a mesh pattern are formed on one side surface region S of the transparent substrate 10. The first electrode patterns 20 are formed to extend in a first direction (column direction). In FIG. 1A, the first electrode patterns 20 are formed in a bar shape. In the present invention, the first direction is preferably the long axis direction D1 of the transparent substrate 10.

제1 전극패턴(20)의 메쉬 구조를 이루는 도전성의 금속선들(21, 22)이 서로 교차하게 패터닝되어 메쉬 구조를 형성하는 데, 금속선들(21, 22)은 투명기판(10)의 장축 및 단축 방향(D1, D2)에 각각에 대하여 경사지게 연장하면서 서로 교차한다. 금속선(21, 22)들의 선폭 및 금속선(21, 22) 사이로 정의되는 투과 영역의 크기는 제1 전극패턴(20)에 요구되는 면저항 및 투과도를 고려하여 조정될 수 있다. The conductive lines 21 and 22 are patterned so as to intersect with each other to form a mesh structure. The metal lines 21 and 22 are formed on the long and short sides of the transparent substrate 10, And intersect with each other while extending obliquely with respect to the minor axis directions D1 and D2. The size of the transmission region defined between the line widths of the metal lines 21 and 22 and the metal lines 21 and 22 can be adjusted in consideration of the required sheet resistance and transmittance of the first electrode pattern 20.

제1 전극패턴(20)들 사이 영역에는 메쉬 구조의 더미패턴(25)들이 형성된다. 더미패턴(25)의 메쉬 구조는 제1 전극패턴(20)과 동일한 형태의 메쉬 패턴으로 형성되는 것이 바람직하다. In the region between the first electrode patterns 20, dummy patterns 25 of a mesh structure are formed. The mesh structure of the dummy pattern 25 is preferably formed in the same mesh pattern as that of the first electrode pattern 20.

따라서 투명기판(10)의 일측면 화면영역(X)을 평면에서 보았을 때(도 1a 참조), 화면영역(S) 전체에 규칙적인 배열의 메쉬 구조가 형성되고 제1 전극패턴(20)과 더미패턴(25)을 분리하는 갭(24)에 의해 제1 전극패턴(20)과 더미패턴(25)이 구획되는 것을 알 수 있다. 도면에서는 설명의 편의를 위해 갭(24)을 과장하여 도시하고 있으나, 갭(24)은 금속선들(21, 22)들이 교차하여 형성되는 투과영역의 폭 보다 작게 형성될 수 있으며, 대략적으로 30um의 폭을 가질 수 있다. Therefore, when a screen area X on one side of the transparent substrate 10 is viewed in a plane (see FIG. 1A), a regular arrangement of mesh structures is formed on the entire screen area S and the first electrode pattern 20 and the dummy It can be seen that the first electrode pattern 20 and the dummy pattern 25 are partitioned by the gap 24 separating the pattern 25 from each other. Although the gap 24 is exaggerated for ease of explanation, the gap 24 may be formed to be smaller than the width of the transmission region formed by crossing the metal wires 21 and 22, Width.

투명기판(10)의 일측면 화면영역(X)에서 제1 전극패턴(20) 영역뿐만 아니라 더미패턴(25) 영역에서 메쉬 구조를 가지므로 투명기판의 일측면 화면영역(X) 전체에서 투과율 등의 광특성을 균일하게 할 수 있다. Since the mesh structure is formed not only in the area of the first electrode pattern 20 but also in the area of the dummy pattern 25 in the one side surface area X of the transparent substrate 10, It is possible to make the optical characteristics of the light guide plate uniform.

본 발명에 있어서, 제1 전극패턴(20) 및 더미 패턴(25)의 더미 구조는 3중층 또는 2중층 구조로 형성될 수 있다. In the present invention, the dummy structure of the first electrode pattern 20 and the dummy pattern 25 may be formed in a triple layer or a double layer structure.

도 1d를 참조하면, 제1 전극패턴(20) 및 더미패턴(25)은 도전성의 금속선(21,22)의 상하부 각각에 메탈 옥사이드 또는 메탈 나이트라이드로 된 층을 더 포함한다. 즉, 도전성의 금속선(21, 22)의 상하부 각각에 상부층(26a) 및 하부층(26b)을 포함하고, 상부층(26a) 및 하부층(26b)은 메탈 옥사이드층 또는 메탈 나이트라이드층으로 이루어진다. Referring to FIG. 1d, the first electrode pattern 20 and the dummy pattern 25 further include a layer of metal oxide or metal nitride on the upper and lower portions of the conductive metal lines 21 and 22, respectively. That is, the upper layer 26a and the lower layer 26b are formed on the upper and lower portions of the conductive metal wires 21 and 22, respectively. The upper layer 26a and the lower layer 26b are composed of a metal oxide layer or a metal nitride layer.

여기서, 도전성의 금속선은 금, 은, 동, 주석, 니켈, 알루미늄, 크롬, 티타늄, 몰리브덴, 아연 또는 철 중 어느 하나의 금속 물질 또는 이를 포함하는 합금 중 적어도 어느 하나의 물질을 이용하여 형성될 수 있으며, 바람직하게는 금, 은, 동 및 이들의 합금이 이용된다. 그리고 메탈 옥사이드층 또는 메탈 나이트라이드층으로는 CuO, CuO2, AgN, Al2O3, AlN 등이 이용된다. Here, the conductive metal wire may be formed using at least any one of metal materials of gold, silver, copper, tin, nickel, aluminum, chromium, titanium, molybdenum, zinc or iron or alloys thereof And gold, silver, copper, and alloys thereof are preferably used. As the metal oxide layer or the metal nitride layer, CuO, CuO 2 , AgN, Al 2 O 3 , AlN or the like is used.

도전성의 금속선(21,22)의 상부층(26a) 또는 하부층(26b)을 형성하는 메탈 옥사이드층 또는 메탈 나이트라이드층은 금속선(21,22)의 산화를 방지하고, 금속선의 광택 및 반사율을 완화시켜 터치스크린 패널의 시인성이 향상되도록 한다. 또한 투명기판(10)과의 사이에서 금속선(21, 22) 층과 투명기판(10) 사이의 접합력을 향상시킨다. The metal oxide layer or the metal nitride layer forming the upper layer 26a or the lower layer 26b of the conductive metal wires 21 and 22 prevents the oxidation of the metal wires 21 and 22 and alleviates the gloss and reflectivity of the metal wires Thereby enhancing the visibility of the touch screen panel. And further improves the bonding force between the metal wires (21, 22) layer and the transparent substrate (10) with the transparent substrate (10).

변형예로서, 투명기판(10)의 일측면이 커버 윈도우 방향 측면이 되는 경우, 메탈 옥사이드층 및 메탈 나이트라이드층은 제1 전극패턴(20) 및 더미패턴(25)과 투명기판(10)의 상부에만 형성될 수 있다. 즉, 메탈 옥사이드층 및 메탈 나이트라이드층으로 된 상부층(26a)만을 포함할 수 있다. 상부층(26a)은 금속선의 광택 및 반사율을 완화시켜 터치스크린 패널의 시인성이 향상시킨다. The metal oxide layer and the metal nitride layer may be formed on the first electrode pattern 20 and the dummy pattern 25 and the transparent substrate 10 It can be formed only on the upper part. That is, it may include only the upper layer 26a made of a metal oxide layer and a metal nitride layer. The upper layer 26a alleviates the gloss and reflectivity of the metal wire to improve the visibility of the touch screen panel.

다시 도 1a 내지 도 1c를 참조하면, 투명기판(10)의 타측면 화면영역(S)에는 제2 전극패턴들(30)이 구비된다. 제2 전극패턴(30)은 인듐-틴-옥사이드(Indium Tin Oxide, ITO), 인듐-징크-옥사이드(Indium Zinc Oxide, IZO), AZO(Al-doped ZnO), 탄소나노튜브(Carbon Nano Tube, CNT) 또는 전도성 고분자(PEDOT; poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), ANW(Ag Nano Wire), 그래핀 등의 투명도전 물질을 이용하여 형성된다. Referring again to FIGS. 1A to 1C, the second electrode patterns 30 are provided on the other side surface area S of the transparent substrate 10. The second electrode pattern 30 may be formed of indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), Al-doped ZnO, carbon nanotube, (CNT), a conductive polymer (PEDOT), poly (3,4-ethylenedioxythiophene), ANW (Ag Nano Wire) and graphene.

제2 전극패턴(30)은 투명기판(10)의 타측면 화면영역(S) 상에서 제1 전극패턴(20)과 교차하는 방향인 제2 방향(행 방향)으로 연장되게 형성되는 데, 도 1b에는 제2 전극패턴(30)이 바(bar)형태로 형성된 것을 도시하고 있다. 본 발명에서 제2 방향은 투명기판(10)의 장축 방향(D2)이 되는 것이 바람직하다. The second electrode pattern 30 is formed to extend in the second direction (row direction) intersecting the first electrode pattern 20 on the other side surface area S of the transparent substrate 10, The second electrode pattern 30 is formed in a bar shape. In the present invention, the second direction is preferably the long axis direction D2 of the transparent substrate 10.

본 발명의 제1 실시예에서, 제2 전극패턴(30)의 폭은 제1 전극패턴(20) 보다 큰 폭을 가지는 것이 바람직하다. In the first embodiment of the present invention, it is preferable that the width of the second electrode pattern 30 is larger than the width of the first electrode pattern 20.

본 발명의 제1 실시예를 보면, 투명기판의 장축방향(D1)으로 연장되는 제1 전극패턴(20)은 메쉬 구조로, 투명기판의 단축방향(D2)으로 연장되는 제2 전극패턴(30)은 투명전도 물질로 형성되며, 메쉬 구조의 제1 전극패턴(20)보다 투명전도물질로 형성된 제2 전극패턴(30)이 더 넓은 폭을 가진다. In the first embodiment of the present invention, the first electrode pattern 20 extending in the major axis direction D1 of the transparent substrate has a mesh structure, and a second electrode pattern 30 (not shown) extending in the minor axis direction D2 of the transparent substrate Is formed of a transparent conductive material, and the second electrode pattern 30 formed of a transparent conductive material has a wider width than the first electrode pattern 20 of the mesh structure.

따라서 대형사이즈의 터치스크린 전극패턴 제작시 투명전도물질로 된 전극패턴의 길이 증가 및 폭이 좁은 패턴으로 인한 면저항 증가를 최소화하는 것이 가능하며. 또한 메쉬 구조가 투명기판(10)의 일측면에서만 적용되므로 양측면에서 메쉬 구조를 사용할 때 발생하는 투과율을 포함한 광특성 저하에 따른 문제점을 최소화할 수 있다. Therefore, it is possible to minimize the increase in the sheet resistance due to the increase in the length of the electrode pattern made of the transparent conductive material and the narrow pattern in the manufacture of the large size touch screen electrode pattern. In addition, since the mesh structure is applied only to one side of the transparent substrate 10, problems caused by deterioration in optical characteristics including transmittance occurring when using the mesh structure on both sides can be minimized.

본 발명의 제1 실시예에 있어서 투명기판(10)의 일측면 및 타측면 각각의 비활성영역(X)에는 제1 외곽전극배선(28) 및 제2 외관전극배선(38)이 형성된다.  The first outer electrode wirings 28 and the second outer electrode wirings 38 are formed in the inactive regions X on one side and the other side of the transparent substrate 10 in the first embodiment of the present invention.

제1 외곽전극배선(28)은 제1 전극패턴(20)들과 전기적으로 연결되도록 형성되고, 제2 외곽전극배선(38)은 제2 전극패턴(30)들과 전기적으로 연결되도록 형성된다. 제1 외곽전극배선(28)은 제1 전극패턴(20) 및 더미패턴(25)과 동일 평면상에 동일한 금속으로 형성될 수 있다. The first outer electrode wiring 28 is formed to be electrically connected to the first electrode patterns 20 and the second outer electrode wiring 38 is electrically connected to the second electrode patterns 30. The first outer electrode wiring 28 may be formed of the same metal on the same plane as the first electrode pattern 20 and the dummy pattern 25. [

각 제1 전극패턴(20)의 단부에 바(bar) 형태의 연결전극(29)을 형성하여 각 제1 전극패턴(20)들의 금속선들(21,22)이 각각의 제1 외곽전극배선들(28)과 직접 연결될 수 있도록 한다.A bar-shaped connecting electrode 29 is formed at the end of each first electrode pattern 20 so that the metal wires 21 and 22 of the first electrode patterns 20 are connected to the first outer electrode wires (28).

그리고 도 2c에서 도시된 바와 같이, 투명기판(10)의 일측면 및 타측면 비활성영역(X) 상에는 터치스크린 패널을 전체적으로 구동 및 제어하기 위하여 제1 및 제2 외곽전극배선(28, 38)과 각각 전기적으로 연결되도록 제어부를 탑재한 외부구동부(예컨대, FPC(Flexible Printed circuit) 또는 COF(Chip On Film) 등)(40)가 양면으로 본딩될 수 있다. As shown in FIG. 2C, first and second outer electrode wirings 28 and 38 are formed on one side of the transparent substrate 10 and on the other side inactive region X to drive and control the touch screen panel as a whole. An external driver (for example, an FPC (Flexible Printed Circuit) or a COF (Chip On Film)) 40 on which a control unit is mounted may be bonded on both sides so as to be electrically connected to each other.

이하에는 도 2a 내지 도 2c를 참조하여 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널의 제조방법을 상세하게 설명하기로 한다. 도 2a 내지 도 2c 는 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널을 제조하기 위한 과정을 설명하기 위한 단면도들이다. Hereinafter, a manufacturing method of the capacitive type double-sided touch screen panel according to the first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 2A to 2C. FIGS. 2A to 2C are cross-sectional views illustrating a process for fabricating a capacitive type double-sided touch screen panel according to a first embodiment of the present invention.

도 2a를 참조하면, 먼저 투명도전물질(30a)이 도포된 투명기판(10)의 양면에 스퍼터링(Sputtering) 또는 프린팅(Printing) 공정 등을 이용하여 제1 및 제2 금속층(20a, 38a)을 소정 두께로 증착한다. 2A, first and second metal layers 20a and 38a are formed on both surfaces of a transparent substrate 10 coated with a transparent conductive material 30a by a sputtering or printing process, And is deposited to a predetermined thickness.

투명기판(10)은 투명도전물질(30a)이 도포된 투명기판(10)을 구매하여 사용하거나, 투명기판(10)의 타측면에 투명도전물질(30a)을 스퍼터링(Sputtering) 또는 프린팅(Printing) 공정 등을 이용하여 증착하여 사용할 수 있다.The transparent substrate 10 may be obtained by purchasing a transparent substrate 10 coated with a transparent conductive material 30a or by sputtering or printing a transparent conductive material 30a on the other side of the transparent substrate 10. [ ) Process or the like.

제1 금속층(20a)은 금, 은, 동, 주석, 니켈, 알루미늄, 크롬, 티타늄, 몰리브덴, 아연 또는 철 중 어느 하나의 금속 물질 또는 이를 포함하는 합금으로 형성될 수 있으며, 금, 은, 동 및 이들의 합금으로 형성되는 것이 바람직하다. The first metal layer 20a may be formed of any one of metal materials of gold, silver, copper, tin, nickel, aluminum, chromium, titanium, molybdenum, zinc or iron, And an alloy thereof.

한편 실시예에 따라, 제1 금속층(20a)은 도전성의 금속층과 메탈 옥사이드층 또는 메탈 나이트라이드층으로 된 하부층과, 도전금속층, 메탈 옥사이드층 또는 메탈 나이트라이드층으로 된 상부층의 3중층으로 형성될 수 있다. 또한, 실시예에 따라 제1 금속층(20a)은 도전선의 금속층의 상부 또는 하부 중 커버 윈도우 측 방향 표면으로 메탈 옥사이드층 또는 메탈 나이트라이드층을 가진 2중층으로 형성될 수 있다. 도전성의 금속층은 금 은, 동, 주석, 니켈, 알루미늄, 크롬, 티타늄, 몰리브덴, 아연 또는 철 중 어느 하나의 금속 물질 또는 이를 포함하는 합금, 바람직하게는 금, 은, 동 및 이들의 합금으로 이루어지며, 메탈 옥사이드층 또는 메탈 나이트라이드층으로는 CuO, CuO2, AgN, Al2O3, AlN 등으로 형성될 수 있다. According to the embodiment, the first metal layer 20a is formed of a conductive metal layer, a lower layer made of a metal oxide layer or a metal nitride layer, and a triple layer of an upper layer made of a conductive metal layer, a metal oxide layer or a metal nitride layer . Also, according to the embodiment, the first metal layer 20a may be formed as a double layer having a metal oxide layer or a metal nitride layer as the side surface of the cover window on the upper or lower side of the metal layer of the conductive line. The conductive metal layer is made of a metal material of any one of gold, silver, copper, tin, nickel, aluminum, chromium, titanium, molybdenum, zinc or iron or an alloy thereof, preferably gold, silver, copper and alloys thereof And the metal oxide layer or the metal nitride layer may be formed of CuO, CuO 2 , AgN, Al 2 O 3 , AlN, or the like.

제2 금속층(38a)은, 금, 은, 동, 주석, 니켈, 알루미늄, 크롬, 티타늄, 몰리브덴, 아연 또는 철 중 어느 하나의 금속 물질 또는 이를 포함하는 합금으로 형성될 수 있다. The second metal layer 38a may be formed of any one of gold, silver, copper, tin, nickel, aluminum, chromium, titanium, molybdenum, zinc or iron or an alloy thereof.

도 2b 는 제1 및 제2 금속층(20a, 38a)의 표면에 통상의 포토리소그래피 공정을 이용하여 투명기판(10)의 일측면의 제1 금속층(20a)과, 타측면의 투명도전물질(30a) 및 제2 금속층(38a)을 전면 식각 상태를 도시하고 있다. 2B shows a first metal layer 20a on one side of the transparent substrate 10 and a transparent conductive material 30a on the other side of the first and second metal layers 20a and 38a using a conventional photolithography process. And the second metal layer 38a are etched at the front side.

이를 위해 제1 및 제2 금속층(20a, 30a)의 표면에 포토레지스트층(미도시)를 형성하고 마스크(mask)를 사용하여 노광하고 현상한 후 식각을 하는 통상의 포토리소그래피 공정이 수행된다. To this end, a conventional photolithography process is performed in which a photoresist layer (not shown) is formed on the surfaces of the first and second metal layers 20a and 30a and exposed and developed using a mask and then etched.

이러한 공정을 통해 투명기판(10) 일측면에는 활성영역(S)에서 메쉬 구조의 제1 전극패턴(20) 및 더미패턴(25) 그리고 비활성영역(X)에서 제1 외곽전극배선(28)이 동시에 형성된다. 도 1c 에서는 제1 외곽전극배선(28)을 제1 전극패턴(20)과 구별하기 위하여 상이한 단면으로 표시하고 있으나, 제1 전극패턴(20) 및 더미패턴(25)과 동일 금속으로 형성된다. Through this process, the first electrode pattern 20 and the dummy pattern 25 of the mesh structure in the active region S and the first outer electrode wiring 28 in the inactive region X are formed on one side of the transparent substrate 10 Respectively. 1C, the first outer electrode wiring line 28 is formed of the same metal as that of the first electrode pattern 20 and the dummy pattern 25, although the first outer electrode wiring line 28 is shown as a different section in order to distinguish it from the first electrode pattern 20.

한편, 투명기판(10) 타측면에는 활성영역(S)에서 표면에 패터닝된 제2 금속층(38a)을 갖는 제2 전극패턴(30)이 형성되고, 비활성영역(X)에서는 제2 외곽전극배선(38)이 동시에 형성된다. On the other hand, a second electrode pattern 30 having a second metal layer 38a patterned on its surface in the active region S is formed on the other side of the transparent substrate 10, and in the inactive region X, (38) are simultaneously formed.

이후 투명기판(10)의 타측면의 활성영역(S)에서 제2 전극패턴(30) 표면의 제2 금속층(30a)을 선택적으로 식각하여 제2 전극패턴(30)만을 남김 후(도 1c 의 단면도 참조), 도 2c에서 도시된 바와 같이, 투명기판(10)의 일측면 및 타측면 비활성영역(X) 상에는 터치스크린 패널을 전체적으로 구동 및 제어하기 위하여 제1 및 제2 외곽전극배선(28, 38)과 각각 전기적으로 연결되도록 제어부를 탑재한 외부구동부(예컨대, FPC(Flexible Printed circuit) 또는 COF(Chip On Film) 등)(40)가 양면으로 본딩된다.
The second metal layer 30a on the surface of the second electrode pattern 30 is selectively etched in the active region S on the other side of the transparent substrate 10 to leave only the second electrode pattern 30 The first and second outer electrode wirings 28 and 28 are formed on one side surface and the other side non-active area X of the transparent substrate 10 to drive and control the touch screen panel as a whole, (Such as a flexible printed circuit (FPC) or a chip on film (COF)) 40 having a control unit mounted thereon are electrically connected to both sides of the printed circuit board 38.

(제2 실시예)(Second Embodiment)

도 3a는 본 발명의 제2 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널에서 투명기판의 일측면에 대한 부분 평면도이고, 도 3b는 본 발명의 제2 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널에서 투명기판의 타측면에 대한 부분 평면도이고, 도 3c는 본 발명의 제2 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널에 대한 투명기판을 평면에서 바라보았을 때의 투영도이다. FIG. 3A is a partial plan view of one side of a transparent substrate in a capacitive type double-sided touch screen panel according to a second embodiment of the present invention, FIG. 3B is a partial plan view of a capacitive double-sided touch screen panel according to the second embodiment of the present invention, FIG. 3C is a plan view of a transparent substrate of a capacitive type double-sided touch screen panel according to a second embodiment of the present invention when viewed from the top; FIG.

본 발명의 제2 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널을 제1 실시예과 비교하면, 제1 및 제2 전극패턴(200, 300)의 형상에서 차이가 있다. Comparing the electrostatic capacity type double-sided touch screen panel according to the second embodiment of the present invention with the first embodiment, the shapes of the first and second electrode patterns 200 and 300 are different.

메쉬 구조의 제1 전극패턴(200)은 폭이 좁은 부분과 폭이 넓은 부분이 교대로 반복되며 연결되는 형태로 제1 방향(열 방향)으로 연장된다. 제1 방향은 투명기판(10)의 장축 방향(D1)이 되는 것이 바람직하다. 제1 전극패턴(200)에서 폭이 넓은 부분을 센싱패드(Sensing Pad)로 언급하면, 센싱패드의 형상은 예컨대, 삼각형, 사각형 또는 마름모형으로 형성됨이 바람직하지만, 이에 국한하지 않으며, 예컨대, 원형, 타원형 또는 다각형 등 다양한 모양으로 형성될 수도 있다.The first electrode pattern 200 of the mesh structure extends in the first direction (column direction) in a form in which the narrow portion and the wide portion are alternately repeated and connected. It is preferable that the first direction is the long axis direction D1 of the transparent substrate 10. In the first electrode pattern 200, if a wide portion is referred to as a sensing pad, the shape of the sensing pad is preferably, for example, a triangular, square, or rhombic shape. However, , An elliptical shape, a polygonal shape, or the like.

제1 전극패턴(200) 사이에는 메쉬 구조의 더미패턴(250)이 형성된다. 제1 전극패턴(200)의 형상에 의해 메쉬 구조의 더미패턴(250) 역시 폭이 넓은 부분과 폭이 좁은 부분이 반복되어 연결되면서 제1 방향으로 연장된다. 제1 전극패턴(200)들 사이의 더미패턴(25)은 제1 전극패턴(200)과 동일한 패턴의 메쉬 구조로 형성되는 것이 바람직하다. A dummy pattern 250 having a mesh structure is formed between the first electrode patterns 200. The dummy pattern 250 of the mesh structure is also extended in the first direction by repeatedly connecting the wide portion and the narrow portion due to the shape of the first electrode pattern 200. [ The dummy patterns 25 between the first electrode patterns 200 are preferably formed in a mesh structure having the same pattern as that of the first electrode patterns 200.

따라서, 투명기판(10)의 일측면 화면영역(X)을 평면에서 보았을 때, 화면영역(S) 전체에 금속선들(210, 220)의 규칙적인 배열의 메쉬 구조가 형성되고 제1 전극패턴(200)과 더미패턴(250)을 분리하는 갭(240)에 의해 제1 전극패턴(200)과 더미패턴(250)이 구획되는 형태로 형성된다. 도 3c에서 보이는 바와 같이, 제1 전극패턴(200) 및 더미패턴(250)의 메쉬 구조를 형성하는 금속선들(210, 220)과 투명전도물질로 된 제2 전극패턴(300) 및 투명전도물질 더미패턴(350)의 다각형의 외곽선은 서로 교차하게 형성된다. Therefore, when a screen area X on one side of the transparent substrate 10 is viewed in a plane, a mesh structure of regular arrangements of the metal lines 210 and 220 is formed on the entire screen area S, The first electrode pattern 200 and the dummy pattern 250 are defined by the gap 240 separating the dummy patterns 250 and 200 from the dummy patterns 250. As shown in FIG. 3C, the metal lines 210 and 220 forming the mesh structure of the first electrode pattern 200 and the dummy pattern 250, the second electrode pattern 300 of the transparent conductive material, The outlines of the polygons of the dummy pattern 350 are formed to cross each other.

투명기판(10)의 타측면 화면영역(X)에 형성되는 투명전도물질로 형성된 제2 전극패턴(300) 역시 폭이 좁은 패턴과 폭이 넓은 패턴이 교대로 반복되며 연결되는 형태로 제2 방향(행 방향)으로 연장된다. 제2 방향은 투명기판(10)의 단축 방향(D2)이 되는 것이 바람직하다. 제2 전극패턴(300)에서 폭이 넓은 패턴 부분을 센싱패드(Sensing Pad)로 언급하면, 센싱패드의 형상은 예컨대, 삼각형, 사각형 또는 마름모형으로 형성됨이 바람직하지만, 이에 국한하지 않으며, 예컨대, 원형, 타원형 또는 다각형 등 다양한 모양으로 형성될 수도 있다.The second electrode pattern 300 formed of the transparent conductive material formed on the other side surface region X of the transparent substrate 10 may also be formed in a manner that a narrow width pattern and a wide width pattern are alternately repeated, (Row direction). It is preferable that the second direction is the minor axis direction D2 of the transparent substrate 10. In the second electrode pattern 300, when a wide pattern portion is referred to as a sensing pad, the shape of the sensing pad is preferably, for example, a triangle, a square, or a rhombus shape. However, Circular, oval or polygonal.

본 발명의 제2 실시예에서, 제2 전극패턴(300) 사이에는 다수의 다각형들이 격자 무늬 형태로 배열된 투명도전물질 더미패턴(350)을 더 포함한다. 이러한 투명전도물질 더미패턴(350)은 투명기판(10)의 타측면 영역에서 제2 전극패턴(300) 영역과 그 사이 영역에서의 빛 반사율 차이를 일정하게 하는 기능을 한다. In the second embodiment of the present invention, a transparent conductive material dummy pattern 350 in which a plurality of polygons are arranged in a lattice pattern is further included between the second electrode patterns 300. This transparent conductive material dummy pattern 350 functions to make the difference in light reflectance between the second electrode pattern 300 region and the region between the second electrode pattern 300 and the other side region of the transparent substrate 10 constant.

본 발명의 제2 실시예에 의하면, 메쉬 구조의 제1 전극패턴(20)의 센싱패드 위치 아래로 격자 무늬 형태의 투명도전물질 더미패턴(35)이 위치하며, 제2 전극패턴(30)의 센싱패드 위치 상부로 메쉬 구조의 더미 패턴(25)이 위치하면서 제1 및 제2 전극패턴(200)(300)의 폭이 좁은 패턴들이 서로 교차하게 배열되는 데, 이로 인해 화면 전체에서 투과율, 빛 반사율 등의 광특성이 균일하게 되어 시인성이 더욱 향상되는 효과가 있다. 즉, 모눈종이와 같이 등간격의 조밀한 패턴으로 육안으로 특성패턴이 드러나지 않게 하는 효과와 같다.According to the second embodiment of the present invention, the transparent conductive material dummy pattern 35 in the form of a lattice pattern is located below the sensing pad position of the first electrode pattern 20 of the mesh structure, As the dummy pattern 25 of the mesh structure is positioned above the sensing pad position, the narrow patterns of the first and second electrode patterns 200 and 300 are arranged so as to cross each other. As a result, The optical characteristics such as the reflectance are uniformed and the visibility is further improved. That is, it is like an effect that the characteristic pattern is not exposed to the naked eye with a dense pattern of equally spaced like a grid paper.

본 발명의 제2 실시예에서 투명도전물질 더미패턴(350)은 실시예에 따라 생략될 수 있다.
In the second embodiment of the present invention, the transparent conductive material dummy pattern 350 may be omitted according to the embodiment.

(제 3실시예))(Third Embodiment)

도 4a 내지 도 4c 는 본 발명의 제3 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널의 투명기판 일측면 및 타측면의 평면도 및 단면도이다.4A to 4C are a plan view and a cross-sectional view of one side and another side of a transparent substrate of a capacitive type double-sided touch screen panel according to a third embodiment of the present invention.

도 4a 내지 도 4c 를 참조하여, 본 발명의 제3 실시예에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널은 제1 실시예와 대비할 때, 외부구동부를 본동하기 위한 구조에서 차이점이 있다. 4A to 4C, the electrostatic capacity type double-sided touch screen panel according to the third embodiment of the present invention is different from the first embodiment in the structure for driving the external driving unit.

본 발명의 제3 실시예에 의하면, 투명기판(10)의 일측면 비활성영역(X)에서 제1 전극패턴(20)의 단부에 형성된 제1 연결전극(29a)과 제1 연결전극(29a)와 대면하는 투명기판의 타측면 비활성영역(X)에 형성된 제2 연결전극(29b)을 연결하는 적어도 하나의 비아홀(Via Hole, VH)을 형성하고, 투명기판의 타측면 비활성영역(X)상에 비아홀(VH)을 통해 제1 전극패턴(20)과 연결되는 제1 외곽전극배선(28')를 형성한다. 제1 외곽전극배선(28')의 일단은 제2 연결전극(29b)과 접촉한다. The first connection electrode 29a and the first connection electrode 29a formed at the end of the first electrode pattern 20 in the one side inactive region X of the transparent substrate 10, At least one via hole (VH) for connecting the second connection electrode 29b formed on the other side inactive region X of the transparent substrate facing the transparent electrode The first outer electrode wiring 28 'is connected to the first electrode pattern 20 via the via hole VH. One end of the first outer electrode wiring 28 'is in contact with the second connection electrode 29b.

제2 외곽전극배선(38)은 투명기판(200)의 타측면 비활성영역(X) 상에서 각 제2 전극패턴(30)과 전기적으로 연결되도록 형성되어 있다.The second outer electrode wirings 38 are formed to be electrically connected to the second electrode patterns 30 on the other side inactive region X of the transparent substrate 200.

그리고, 투명기판(10)의 타측면 비활성영역(X) 상에는 터치스크린 패널을 전체적으로 구동 및 제어하기 위하여 제1 및 제2 외곽전극배선(28' 38)과 각각 전기적으로 연결되도록 제어부를 탑재한 외부구동부(40')가 단면으로 본딩되어 있다.On the other side non-active area X of the transparent substrate 10, there is provided an external part (not shown) on which a control part is mounted so as to be electrically connected to the first and second outer electrode wirings 28 ' And the driving portion 40 'is bonded to one end surface thereof.

도 4c에서 외부구동부(40')는 외부로 돌출되어 본딩되어 있지만, 이에 국한하지 않으며, 외부로 돌출되지 않고 투명기판(10)의 타측면 비활성영역(X) 상부에 단면으로 본딩될 수도 있다.4C, the external driving unit 40 'is protruded and bonded to the outside, but the present invention is not limited thereto. The external driving unit 40' may be bonded to the upper surface of the other side inactive region X of the transparent substrate 10 in a cross section without protruding to the outside.

본 발명의 제3 실시예에 의한 정전용량방식의 터치스크린 패널의 제작 방법을 제1 실시예에 따른 정전용량방식의 터치스크린 패널의 제작방법과의 차이점을 중심으로 설명하면, 먼저 타측면에 투명도전물질이 도포된 투명기판을 마련하고, 투명기판의 비활성영역 상에 비아홀 형성을 위한 관통홀을 형성한다. 이후 도 2a를 참조하여 본 발명의 제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 양면에 스퍼터링(Sputtering) 또는 프린팅(Printing) 공정 등을 이용하여 제1 및 제2 금속층을 소정 두께로 증착한다. 제1 금속층 증착 전에 비아홀 형성용 관통홀이 형성되어 있으므로, 증착 시에 관통홀 내부에 금속이 증착되어 도전성의 비아홀이 형성된다.The manufacturing method of the capacitive touch screen panel according to the third embodiment of the present invention will be described with reference to a difference from the manufacturing method of the capacitive touch screen panel according to the first embodiment. A transparent substrate coated with a conductive material is provided and a through hole for forming a via hole is formed on the inactive region of the transparent substrate. As described in the first embodiment of the present invention, the first and second metal layers are deposited to a predetermined thickness using a sputtering or printing process on both sides with reference to FIG. 2A. Since a via hole for forming a via hole is formed before the first metal layer is deposited, metal is deposited inside the through hole at the time of deposition to form a conductive via hole.

이후 도 2b 및 도 2c를 참조하여 본 발명의 제1 실시예에서 설명된 바와 같이, 통상의 포토리소그래피 공정을 이용하여 제1 전극패턴(20)과 더미패턴(25), 제2전극패턴(30), 제1 및 제2 외곽전극배선(28', 38)을 형성하는 데, 본 발명의 제1 실시예와 달리, 제1 및 제2 외곽전극배선(28', 38)은 모두 투명기판(10)의 타측면 비활성 영역에 형성된다. 제1 외곽전극배선(28')은 비아홀(VH)을 통해 투명기판(10)의 일측면에 형성된 제1 전극패턴(20)들과 전기적으로 연결되고 제2 외곽전극배선(38)은 제2 전극패턴(30)들과 전기적으로 연결된다. 2B and 2C, the first electrode pattern 20, the dummy pattern 25, and the second electrode pattern 30 (not shown) are formed using a conventional photolithography process, as described in the first embodiment of the present invention. The first and second outer electrode wirings 28 'and 38 are all formed on the transparent substrate (not shown), and the first and second outer electrode wirings 28' and 38 are formed. 10 in the other side inactive region. The first outer electrode wiring line 28 'is electrically connected to the first electrode patterns 20 formed on one side of the transparent substrate 10 via the via hole VH and the second outer electrode wiring line 38' And is electrically connected to the electrode patterns 30.

이후, 투명기판(10)의 타측면 비활성영역(X) 상에는 터치스크린 패널을 전체적으로 구동 및 제어하기 위하여 제1 및 제2 외곽전극배선(28' 및 38)과 각각 전기적으로 연결되도록 제어부(260)를 탑재한 외부구동부(40')가 단면으로 본딩된다.The control unit 260 is electrically connected to the first and second outer electrode wirings 28 'and 38 to drive and control the touch screen panel as a whole on the other side inactive area X of the transparent substrate 10, The external driving part 40 'is bonded to one end surface thereof.

전술한 본 발명에 따른 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널 및 그 제조방법에 대한 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명에 속한다.
Although the preferred embodiments of the electrostatic capacity type double-sided touch screen panel and the method of manufacturing the same according to the present invention have been described, the present invention is not limited thereto, but may be applied to the scope of claims, It is possible to carry out various modifications within the scope of the present invention.

10; 투명기판
20, 200: 제1 전극패턴
25, 250: 더미패턴
30, 300: 제2 전극패턴
350: 투명도전물질 더미패턴
28, 28': 제1 외곽전극배선
38: 제2 외관적극배선
VH: 비아홀10; Transparent substrate
20, 200: first electrode pattern
25, 250: dummy pattern
30, 300: second electrode pattern
350: transparent conductive material dummy pattern
28, 28 ': first outer electrode wiring
38: Second appearance positive wiring
VH: Via hole

Claims (13)

화면영역과 비활성영역을 갖는 투명기판;
상기 투명기판의 일측면 화면영역에서 제1 방향으로 연장되게 형성되고 메쉬 구조로 형성된 복수의 제1 전극패턴; 및
상기 투명기판의 타측면 화면영역에서 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되게 형성되며 투명도전물질로 형성된 복수의 제2 전극패턴을 포함하되,
상기 투명기판의 일측면 화면영역에서 상기 제1 전극패턴들 사이에 형성된 메쉬 구조로 형성된 복수의 더미패턴을 포함하며,
상기 전극패턴 및 상기 더미패턴의 메쉬 구조를 형성하는 도전성의 금속선은 상하부 각각에 메탈 옥사이드층 또는 메탈 나이트라이드층을 구비하는 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널.A transparent substrate having a screen region and an inactive region;
A plurality of first electrode patterns formed in a mesh structure and extending in a first direction in a screen area of one side of the transparent substrate; And
And a plurality of second electrode patterns formed to extend in a second direction intersecting with the first direction in a screen area of the other side of the transparent substrate and formed of a transparent conductive material,
And a plurality of dummy patterns formed in a mesh structure formed between the first electrode patterns in one side surface area of the transparent substrate,
Wherein the conductive metal line forming the electrode pattern and the dummy pattern mesh structure has a metal oxide layer or a metal nitride layer on each of upper and lower portions thereof. 화면영역과 비활성영역을 갖는 투명기판;
상기 투명기판의 일측면 화면영역에서 제1 방향으로 연장되게 형성되고 메쉬 구조로 형성된 복수의 제1 전극패턴; 및
상기 투명기판의 타측면 화면영역에서 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되게 형성되며 투명도전물질로 형성된 복수의 제2 전극패턴을 포함하되,
상기 투명기판의 일측면 화면영역에서 상기 제1 전극패턴들 사이에 형성된 메쉬 구조로 형성된 복수의 더미패턴을 포함하며,
상기 전극패턴 및 상기 더미패턴의 메쉬 구조를 형성하는 금속선은 커버 윈도우 측 방향 표면에 메탈 옥사이드층 또는 메탈 나이트라이드층을 구비하는 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널.A transparent substrate having a screen region and an inactive region;
A plurality of first electrode patterns formed in a mesh structure and extending in a first direction in a screen area of one side of the transparent substrate; And
And a plurality of second electrode patterns formed to extend in a second direction intersecting with the first direction in a screen area of the other side of the transparent substrate and formed of a transparent conductive material,
And a plurality of dummy patterns formed in a mesh structure formed between the first electrode patterns in one side surface area of the transparent substrate,
Wherein the metal line forming the mesh structure of the electrode pattern and the dummy pattern has a metal oxide layer or a metal nitride layer on the side surface of the cover window. 제1 항 또는 제2 항에 있어서,
상기 제1 전극패턴과 상기 더미패턴은 동일한 메쉬 패턴으로 형성되고, 상기 제1 전극패턴과 상기 더미패턴을 분리하는 갭에 의해 서로 구획되는 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the first electrode pattern and the dummy pattern are formed in the same mesh pattern and are separated from each other by a gap separating the first electrode pattern and the dummy pattern. 삭제delete 제1 항 또는 제2 항에 있어서,
상기 전극패턴 및 상기 더미패턴의 메쉬 구조는 상기 투명기판의 일측면에 메탈 옥사이드층 또는 메탈 나이트라이드층, 그 상부의 도전성의 금속층, 그리고 그 상부의 메탈 옥사이드층 또는 메탈 나이트라이드층으로 된 3중층으로 된 금속층을 스터퍼링 또는 프린트 공정을 이용하여 형성하고, 포토리소그래피 공정을 통해 상기 메쉬 구조로 패터닝되도록 전면 식각하여 형성된 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널.3. The method according to claim 1 or 2,
The electrode pattern and the mesh structure of the dummy pattern may include a metal oxide layer or a metal nitride layer on one side of the transparent substrate, a conductive metal layer on the metal oxide layer or a metal oxide layer on the upper side, Wherein the metal layer is formed by using a stuffer or a printing process, and is formed by front etching so as to be patterned into the mesh structure through a photolithography process. 삭제delete 제1 항 또는 제2 항에 있어서,
상기 제1 방향은 상기 투명기판의 장축 방향이며, 상기 제2 방향은 상기 투명기판의 단축 방향인 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the first direction is a longitudinal axis direction of the transparent substrate, and the second direction is a minor axis direction of the transparent substrate. 제7 항에 있어서,
상기 제1 전극패턴 및 상기 제2 전극패턴은 바 형상으로 이루어지며, 상기 제2 전극패턴은 상기 제1 전극패턴 보다 큰 폭을 갖는 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널. 8. The method of claim 7,
Wherein the first electrode pattern and the second electrode pattern are bar-shaped, and the second electrode pattern has a greater width than the first electrode pattern. 제7 항에 있어서,
상기 제1 전극패턴 및 상기 제2 전극패턴은 폭이 좁은 패턴과 폭이 넓은 패턴이 교대로 반복되며 연결되는 형태로 각각 제1 방향 및 제2 방향으로 연장되며, 폭이 좁은 패턴 부분이 서로 교차하게 배치되는 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널.8. The method of claim 7,
Wherein the first electrode pattern and the second electrode pattern each extend in a first direction and a second direction in a form in which a narrow pattern and a wide pattern are alternately repeated and connected, Wherein the first and second touch panels are disposed on the opposite sides of the touch panel. 제9 항에 있어서,
상기 투명기판의 타측면 화면영역에서 상기 제2 전극패턴 사이에는 다수의 다각형들이 격자 무늬 형태로 배열된 복수의 투명도전물질 더미패턴을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널.10. The method of claim 9,
Further comprising a plurality of transparent conductive material dummy patterns arranged in a plurality of polygons in a lattice pattern between the second electrode patterns in the other side surface area of the transparent substrate. 제 10 항에 있어서,
상기 제1 전극패턴 및 상기 더미패턴의 메쉬 구조를 형성하는 금속선들과 투명전도물질로 된 상기 제2 전극패턴 및 상기 투명전도물질 더미패턴의 다각형의 외곽선은 서로 교차하게 배열된 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널.11. The method of claim 10,
Wherein the metal wires forming the mesh structure of the first electrode pattern and the dummy pattern and the outline of the polygon of the second electrode pattern and the transparent conductive material dummy pattern made of the transparent conductive material are arranged to cross each other. Capacitive double sided touch screen panel. 제1 항 또는 제2 항에 있어서,
상기 투명기판의 일측면 및 타측면 비활성영역 각각에 상기 제1 전극패턴 및 상기 제2 전극패턴과 각각 연결되는 제1 및 제2 외곽전극배선이 각각 형성되는 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the first electrode pattern and the second electrode pattern are connected to the first electrode pattern and the second electrode pattern, respectively, on one side surface and the other surface non-active region of the transparent substrate, respectively. Screen panel. 제1 항 또는 제2 항에 있어서,
상기 투명기판의 비활성영역에는 상기 투명기판을 관통하는 비아홀을 구비하고, 상기 투명기판의 타측면에 상기 제1 전극패턴 및 상기 제2 전극패턴과 연결되는 제1 및 제2 외곽전극배선이 형성되되, 상기 제1 외곽전극배선은 상기 비아홀을 통해 상기 제1 전극패턴과 연결되는 것을 특징으로 하는 정전용량 방식의 양면 터치스크린 패널.3. The method according to claim 1 or 2,
The first electrode pattern and the second electrode pattern are formed on the other side of the transparent substrate, and first and second outer electrode wirings are formed on the other side of the transparent substrate, And the first outer electrode wiring is connected to the first electrode pattern via the via hole.
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