KR101573377B1 - Touch panel with mesh typed ground electrode and method the same - Google Patents

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Abstract

메쉬 형태의 그라운드 전극을 갖는 터치패널 및 그 제조방법이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널은 액티브 영역과 상기 액티브 영역을 둘러싸는 베젤 영역으로 구분되는 투명기판; 투명기판 일면에 투명 전도성 물질로 형성되는 것으로, 제1 방향으로 위치한 복수의 제1 센싱전극이 서로 이격되어 배치되는 제1 센싱전극부와, 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 위치한 복수의 제2 센싱전극이 서로 연결되어 배치되는 제2 센싱전극부를 구비하는 센싱패턴부; 센싱패턴부 상부에 절연특성을 갖는 물질로 형성되는 것으로, 액티브 영역은 메쉬(mesh) 패턴으로 형성되고 베젤 영역은 띠(strip) 형태로 형성되되, 제1 센싱전극의 상측 단부 및 하측 단부와 상응하는 부분에 제1 관통공이 형성되고 제2 센싱전극에는 상기 액티브 영역과 베젤 영역의 경계부와 소정 간격 이격되는 부분에 제2 관통공이 형성되는 절연막; 및 액티브 영역에서 절연막 상부에 중첩되도록 금속 물질로 형성되고, 제1 센싱전극들을 상기 제1 관통공을 통해 서로 전기적으로 연결시키는 브릿지 전극과, 브릿지 전극과 접촉하지 않도록 메쉬 모양으로 형성되는 그라운드 전극을 포함하는 금속패턴부를 포함한다.A touch panel having a mesh-shaped ground electrode and a manufacturing method thereof are disclosed. A touch panel according to an embodiment of the present invention includes a transparent substrate divided into an active region and a bezel region surrounding the active region; A first sensing electrode portion formed on the transparent substrate at one side thereof and having a plurality of first sensing electrodes disposed in a first direction spaced apart from each other and a plurality of second sensing electrodes disposed in a second direction crossing the first direction, A sensing pattern portion having a second sensing electrode portion in which two sensing electrodes are connected to each other; The sensing region is formed of a material having an insulating property on the sensing pattern portion. The active region is formed in a mesh pattern and the bezel region is formed in a strip shape. The upper and lower ends of the first sensing electrode And a second through hole is formed in a portion of the second sensing electrode which is spaced apart from a boundary portion between the active region and the bezel region by a predetermined distance. And a ground electrode formed of a metal material so as to overlap the upper surface of the insulating film in the active area and formed in a mesh shape so as not to contact the bridge electrode, the bridge electrode electrically connecting the first sensing electrodes to each other through the first through hole, And a metal pattern portion including the metal pattern portion.

Description

메쉬 형태의 그라운드 전극을 갖는 터치패널 및 그 제조방법{TOUCH PANEL WITH MESH TYPED GROUND ELECTRODE AND METHOD THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a touch panel having a ground electrode and a method of manufacturing the touch panel,

본 발명은 터치패널 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 디스플레이와의 관계에서 발생하는 노이즈를 최소화 하기 위하여 메쉬 형태의 그라운드 전극을 갖는 터치패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a touch panel and a manufacturing method thereof, and more particularly, to a touch panel having a ground electrode in the form of a mesh in order to minimize noise generated in relation to a display, and a method of manufacturing the same.

터치패널(Touch Panel)은 디스플레이 표면에 장착되어 사용자의 손가락 등의 물리적 접촉을 전기적 신호로 변환하여 제품을 작동시키는 입력장치로서, 각종 디스플레이 장치에 폭넓게 응용될 수 있으며, 근래에 와서는 직관적인 인터페이스를 추구하는 트렌드에 따라 평판 디스플레이 장치, 각종 모바일 기기, 스마트폰, 태블릿 PC 등에서 많이 사용되고 있다. BACKGROUND ART [0002] A touch panel is an input device mounted on a surface of a display to convert a physical contact of a user's finger into an electrical signal to operate the product. The touch panel can be widely applied to various display devices. In recent years, Are widely used in flat panel display devices, various mobile devices, smart phones, and tablet PCs.

이러한 터치패널은 동작원리에 따라 저항막 방식, 정전용량 방식, 초음파 방식, 적외선 방식 등으로 구분될 수 있으며, 신호 증폭에 문제, 해상도의 차이, 설계 및 가공 기술의 차이, 광학적 특성, 전기적 특성, 기계적 특성, 내환경 특성, 입력 특성, 내구성 및 경제성을 고려하여 전자기기에 채용되고 있다. Such a touch panel can be classified into a resistance film type, a capacitive type, an ultrasonic type, an infrared type, and the like depending on the operation principle, and it is possible to solve problems in signal amplification, difference in resolution, difference in design and processing technology, Mechanical characteristics, environmental characteristics, input characteristics, durability, and economy.

특히, 정전용량 방식 터치패널은 APPLE社의 iPhone이 출시되면서 급격히 확대된 터치패널 방식으로, 인체에서 발생하는 정전기와 기판의 상호 작용으로 X와 Y의 위치를 감지하며(정전용량층 형성), 이를 위해 기판 위에 복수개의 센싱전극을 필요로 한다. 저항막 방식에 비하여 가격이 높다는 문제가 있으나 멀티터치 구현이 용이하고 높은 내구성 및 우수한 터치감을 가지고 있어 그 관심도가 더욱 높아지고 있는 추세이다.In particular, the capacitance type touch panel is a touch panel method that is rapidly expanded as APPLE's iPhone is released. It senses the position of X and Y (formation of a capacitance layer) by the interaction of the static electricity and the substrate generated in the human body, A plurality of sensing electrodes are required on the substrate. Although it has a problem that the price is higher than that of the resistive film type, it is easy to implement multi-touch, has high durability and excellent touch feeling, and thus the interest is getting higher.

이러한 정전용량 방식 터치패널은 모바일 디스플레이(스마트폰, 패블릿, 태블릿PC 등)에 합착되어 입력장치로 사용되는 것이 일반적이다. 그런데 최근 모바일 기기가 보다 슬립해지고 가벼워짐에 따라 디스플레이와 터치패널 사이의 거리는 점점 가까워지고 있으며, 디스플레이 구동 회로가 터치패널에 대해 전기적 간섭을 일으키는 현상, 즉 소위 노이즈 현상이 발생하게 되는 것이 문제점으로 지적되고 있다.Such a capacitive touch panel is commonly used as an input device by being attached to a mobile display (a smart phone, a tablet, a tablet PC, etc.). However, recently, the distance between the display and the touch panel is becoming closer as the mobile device becomes slimmer and lighter, and a problem that the display driving circuit causes electrical interference to the touch panel, that is, a so- .

본 발명의 실시예들에서는 비교적 간단한 공정으로 터치패널과 근접하게 배치되는 디스플레이로부터 발생하는 노이즈 현상을 최소화 할 수 있는 터치패널 및 그 제조방법을 제공하고자 한다.Embodiments of the present invention provide a touch panel capable of minimizing a noise phenomenon generated from a display disposed in proximity to a touch panel in a relatively simple process, and a method of manufacturing the same.

본 발명의 일 측면에 따르면, 액티브 영역과 상기 액티브 영역을 둘러싸는 베젤 영역으로 구분되는 투명기판; 상기 투명기판 일면에 투명 전도성 물질로 형성되는 것으로, 제1 방향으로 위치한 복수의 제1 센싱전극이 서로 이격되어 배치되는 제1 센싱전극부와, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 위치한 복수의 제2 센싱전극이 서로 연결되어 배치되는 제2 센싱전극부를 구비하는 센싱패턴부; 상기 센싱패턴부 상부에 절연특성을 갖는 물질로 형성되는 것으로, 상기 액티브 영역은 메쉬(mesh) 패턴으로 형성되고 상기 베젤 영역은 띠(strip) 형태로 형성되되, 상기 제1 센싱전극의 상측 단부 및 하측 단부와 상응하는 부분에 제1 관통공이 형성되고 상기 제2 센싱전극에는 상기 액티브 영역과 베젤 영역의 경계부와 소정 간격 이격되는 부분에 제2 관통공이 형성되는 절연막; 및 메쉬 패턴을 구비하여 상기 액티브 영역에서 상기 절연막 상부에 중첩되도록 금속 물질로 형성되고, 상기 제1 센싱전극들을 상기 제1 관통공을 통해 서로 전기적으로 연결시키는 브릿지 전극과, 상기 브릿지 전극과 접촉하지 않도록 메쉬 모양으로 형성되는 그라운드 전극을 포함하는 금속패턴부를 포함하는 터치패널이 제공될 수 있다. According to an aspect of the present invention, there is provided a display device comprising: a transparent substrate divided into an active region and a bezel region surrounding the active region; A first sensing electrode portion formed on the one surface of the transparent substrate and formed of a transparent conductive material and having a plurality of first sensing electrodes spaced apart from each other in a first direction; A sensing pattern portion having a second sensing electrode portion in which second sensing electrodes of the second sensing electrode are connected to each other; Wherein the active region is formed in a mesh pattern and the bezel region is formed in a strip shape, and the upper end of the first sensing electrode and the upper end of the first sensing electrode And a second through hole is formed in a portion of the second sensing electrode that is spaced apart from a boundary portion between the active region and the bezel region. And a bridge electrode electrically connected to the first sensing electrodes through the first through hole, the bridge electrode being formed of a metal material so as to overlap the upper surface of the insulating layer in the active region, The touch panel may include a metal pattern portion including a ground electrode formed in a mesh shape.

또한, 상기 금속패턴부는 상기 베젤 영역에 배치되는 것으로, 상기 액티브 영역과 배젤 영역의 경계부에 위치하는 상기 제1 관통공을 통해 상기 제1 센싱전극들과 전기적으로 접속하고, 상기 제2 관통공을 통해 상기 제2 센싱전극들과 전기적으로 접속하는 배선 전극을 더 포함할 수 있다. The metal pattern portion is disposed in the bezel region and is electrically connected to the first sensing electrodes through the first through hole located at the boundary portion between the active region and the bevel region, And a wiring electrode electrically connected to the second sensing electrodes through the first and second sensing electrodes.

이 때, 상기 브릿지 전극, 그라운드 전극 및 배선 전극은 동일한 금속 물질로 형성될 수 있다. At this time, the bridge electrode, the ground electrode, and the wiring electrode may be formed of the same metal material.

한편, 상기 금속패턴부는 은(Ag), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 몰리브덴(Mo) 및 이들의 합금 중에서 1 이상 선택되는 물질로 1층 이상 형성될 수 있다. The metal pattern portion may be formed of a material selected from one or more of silver (Ag), aluminum (Al), copper (Cu), chrome (Cr), nickel (Ni), titanium (Ti), molybdenum Or more.

또한, 상기 금속패턴부 상부에 굴절율이 1.4 이하 또는 1.6 이상인 투명 절연물질로 형성되는 보호막을 더 포함할 수 있다. The protective layer may be formed of a transparent insulating material having a refractive index of 1.4 or less or 1.6 or more on the metal pattern portion.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 액티브 영역과 상기 액티브 영역을 둘러싸는 베젤 영역으로 구획되는 투명기판 일면에 투명 전도막을 전면 코팅하고 패터닝하여, 제1 방향으로 위치한 복수의 제1 센싱전극이 서로 이격되어 배치되는 제1 센싱전극부와, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 위치한 복수의 제2 센싱전극이 서로 연결되어 배치되는 제2 센싱전극부를 구비하는 센싱패턴부를 형성하는 단계; 상기 센싱패턴부 상부에 절연특성을 갖는 물질을 전면 코팅하고 패터닝하여, 상기 액티브 영역은 메쉬(mesh) 패턴으로 형성되고 상기 베젤 영역은 띠 모양으로 형성되되, 상기 제1 센싱전극의 상측 단부 및 하측 단부와 상응하는 부분에 제1 관통공이 형성되고 상기 제2 센싱전극에는 상기 액티브 영역과 베젤 영역의 경계부와 소정 간격 이격되는 부분에 제2 관통공이 형성되는 절연막을 형성하는 단계; 및 상기 절연막 상부에 금속박막을 전면 코팅하고 매쉬 패턴을 갖도록 패터닝하여, 상기 액티브 영역에는 상기 절연막 상부에 중첩되도록 그라운드 전극, 및 상기 그라운드 전극과 소정 간격 이격되고 상기 제1 관통공을 통해 상기 제1 센싱전극들을 서로 전기적으로 연결시키는 브릿지 전극을 형성하고, 상기 베젤 영역에는 상기 제1,2 센싱전극부와 전기적으로 접속하는 배선 전극을 각각 형성하는 단계를 포함하는 터치패널 제조방법이 제공될 수 있다. According to another aspect of the present invention, a transparent conductive film is entirely coated on one surface of a transparent substrate, which is divided into an active region and a bezel region surrounding the active region, and patterned so that a plurality of first sensing electrodes positioned in the first direction are spaced apart from each other Forming a sensing pattern portion having a first sensing electrode portion to be disposed and a second sensing electrode portion to which a plurality of second sensing electrodes disposed in a second direction intersecting with the first direction are connected to each other; Wherein the active region is formed in a mesh pattern and the bezel region is formed in a band shape, and the upper end portion and the lower end portion of the first sensing electrode Forming an insulating layer having a first through hole in a portion corresponding to the end portion and a second through hole formed in a portion of the second sensing electrode spaced apart from a boundary portion between the active region and the bezel region; And forming a metal pattern on the insulating film and patterning the metal film so as to have a mesh pattern. The active area is provided with a ground electrode to be superimposed on the insulating film. The ground electrode is spaced apart from the ground electrode by a predetermined distance, Forming a bridge electrode electrically connecting the sensing electrodes to each other and forming wiring electrodes electrically connected to the first and second sensing electrode units in the bezel region, .

이 때, 상기 금속박막은 은(Ag), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 몰리브덴(Mo) 및 이들의 합금 중에서 1 이상 선택되는 물질로 1층 이상일 수 있다. At this time, the metal thin film is selected from at least one of Ag, Al, Cu, Cr, Ni, Ti, Mo, It may be more than one layer of material.

또한, 패터닝된 상기 금속박막 상부에 굴절율이 1.4 이하 또는 1.6 이상인 투명 절연물질로 형성되는 보호막을 코팅하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include coating a protective film formed of a transparent insulating material having a refractive index of 1.4 or less or 1.6 or more on the top of the patterned metal thin film.

본 발명의 실시예들에 따른 터치패널은 메쉬 패턴의 절연막을 사용하고 상기 절연막 일면에 매쉬 패턴의 그라운드 전극을 형성케 함으로써, 터치패널과 근접하게 배치되는 디스플레이로부터 발생하는 노이즈 현상을 최소화 할 수 있다.The touch panel according to embodiments of the present invention uses a mesh pattern insulating film and forms a ground electrode of a mesh pattern on one surface of the insulating film, thereby minimizing a noise phenomenon generated from a display arranged close to the touch panel .

본 발명의 실시예들에 따른 터치패널 제조방법은 그라운드 전극, 브릿지 전극 및 배선 전극을 단일 금속박막을 패터닝하여 동시에 형성함으로써, 상대적으로 단순한 제조공정을 통해 디스플레이로부터 발생하는 노이즈를 최소화 할 수 있다.In the method of manufacturing a touch panel according to embodiments of the present invention, the ground electrode, the bridge electrode, and the wiring electrode are formed by patterning a single metal thin film at the same time, thereby minimizing the noise generated from the display through a relatively simple manufacturing process.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 센싱패턴부를 도시한 정면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 절연막을 도시한 정면도이다.
도 3은 액티브 영역에서 도 1의 센싱패턴부 상부에 도 2의 절연막이 형성된 모습을 확대하여 도시한 도면이다.
도 4는 도 3에서 금속패턴부를 추가하여 도시한 도면이다.
도 5는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ를 기준으로 도시한 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널을 도시한 정면도이고, 도 7은 도 6에 표시된 Ⅶ을 확대하여 도시한 도면이다.
도 8은 도 6에서 금속패턴부만을 도시한 정면도이다.1 is a front view showing a sensing pattern part of a touch panel according to an embodiment of the present invention.
2 is a front view showing an insulating film of a touch panel according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is an enlarged view showing a state where the insulating film of FIG. 2 is formed on the sensing pattern portion of FIG. 1 in the active region.
FIG. 4 is a view showing the metal pattern portion in FIG. 3 additionally.
5 is a cross-sectional view taken on line V-V in Fig.
FIG. 6 is a front view showing a touch panel according to an embodiment of the present invention, and FIG. 7 is an enlarged view of VII shown in FIG.
8 is a front view showing only the metal pattern portion in FIG.

이하, 본 발명의 실시예들에 대하여 구체적으로 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널(이하, 터치패널)은 투명기판의 일면에 센싱패턴부, 절연막 및 금속패턴부가 순차적으로 적층되어 형성될 수 있다. A touch panel (hereinafter referred to as a touch panel) according to an exemplary embodiment of the present invention may be formed by sequentially laminating a sensing pattern portion, an insulating layer, and a metal pattern portion on one surface of a transparent substrate.

투명기판은 터치패널의 기재(substrate) 역할을 하는 것으로, 사용자를 기준으로 할 때에 센싱패턴부, 절연막 및 금속패턴부는 투명기판의 저면에 형성되는 것이다. 그러나 본 명세서에서는 설명의 편의를 위하여 도시된 도면을 기준으로(사용자가 위치하는 방향과 반대되는 방향을 기준으로 함) 각 구성을 설명하도록 한다. 즉, 본 명세서에서 센싱패턴부, 절연막 및 금속패턴부는 도시된 도면을 기준으로 하여 터치패널의 상부면에 순차적으로 적층되어 형성된다. The transparent substrate functions as a substrate of the touch panel, and the sensing pattern portion, the insulating film, and the metal pattern portion are formed on the bottom surface of the transparent substrate with reference to the user. However, in the present specification, for convenience of description, each configuration will be described with reference to the drawing (based on the direction opposite to the direction in which the user is located). That is, in this specification, the sensing pattern portion, the insulating film, and the metal pattern portion are sequentially formed on the upper surface of the touch panel with reference to the drawing.

이하, 터치패널의 각 구성에 대하여 설명한다. Hereinafter, each configuration of the touch panel will be described.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 센싱패턴부(120)를 도시한 정면도이다. 1 is a front view showing a sensing pattern unit 120 of a touch panel according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 투명기판(110)의 상부면에는 센싱패턴부(120)가 형성된다. 투명기판(110)은 센싱패턴부(120)등의 구성들을 지지할 수 있는 지지력과 투명성을 갖는 기판 재료면 되고, 특정 재료로 한정되지 않는다. 투명기판(110)은 여기에 더하여 플렉시블(flexible)한 특성을 갖는 소재도 이용 가능하다. Referring to FIG. 1, a sensing pattern unit 120 is formed on the upper surface of the transparent substrate 110. The transparent substrate 110 is a substrate material having a supporting force and transparency capable of supporting structures such as the sensing pattern portion 120, and is not limited to a specific material. In addition to the transparent substrate 110, a material having a flexible characteristic is also usable.

투명기판(110)의 예로는 유리, 강화 유리, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르술폰(PES), 고리형 올레핀 고분자(COC), TAC(Triacetylcellulose) 필름, 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol; PVA) 필름, 폴리이미드(Polyimide; PI) 필름, 폴리스틸렌(Polystyrene; PS) 또는 이축연신폴리스틸렌(biaxially oriented PS; BOPS) 등이 있다. Examples of the transparent substrate 110 include glass, tempered glass, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethylmethacrylate (PMMA), polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone (PES) Polyimide (PI) film, polystyrene (PS), or biaxially oriented PS (BOPS) film, a polyvinyl alcohol (PVA) .

투명기판(110)은 액티브 영역(AA)과 베젤 영역(BA)로 구분될 수 있다. 액티브 영역(AA, active area)은 사용자가 터치 동작을 통해 입력이 가능한 영역이다. 베젤 영역(BA, bezel area)은 액티브 영역(AA)을 제외한 영역으로 주로 액티브 영역(AA)에서 감지한 접속 신호를 컨트롤러 IC(집적회로) 등에 전달하는 영역이다. 베젤 영역(BA)은 화상이 표시되지 않는 영역이자, 사용자의 터치 동작이 이루어지는 경우에도 활성화되지 않아 입력이 이루어지지 않는 영역이다.The transparent substrate 110 may be divided into an active area AA and a bezel area BA. The active area (AA) is an area where the user can input through the touch operation. The bezel area BA is an area excluding the active area AA and is an area for mainly transmitting connection signals sensed by the active area AA to a controller IC (integrated circuit) or the like. The bezel area BA is an area in which an image is not displayed, and is not activated even when a user touches the touch panel, so that an input is not performed.

센싱패턴부(120)는 투명기판(110) 상부에 패터닝되어 형성된다. 센싱패턴부(120)는 투명 전도성 물질로 형성될 수 있다. 상기 투명 전도성 물질의 예로는 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), AZO(Al-doped Zinc Oxide), GZO(Ga-doped Zinc Oxide), 프로필렌디옥시티오펜, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜), 카본나노튜브(carbon nano tube), 은 나노와이어 또는 그래핀(graphene) 등이 있으며 이에 한정되지 않는다. The sensing pattern unit 120 is formed on the transparent substrate 110 by patterning. The sensing pattern portion 120 may be formed of a transparent conductive material. Examples of the transparent conductive material include ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), AZO (Al-doped Zinc Oxide), GZO (Ga-doped Zinc Oxide), propylene dioxythiophene, Ethylene dioxythiophene), carbon nano tube, silver nanowire, graphene, and the like.

센싱패턴부(120)는 제1 센싱전극부(121)와 제2 센싱전극부(122)를 포함한다. 제1 센싱전극부(121) 및 제2 센싱전극부(122)는 투명기판(110)의 액티브 영역(AA)에 해당하는 부분에만 형성될 수도 있고, 투명기판(110)의 전면에 형성될 수도 있다. 다만 설명의 편의를 위해서 도 1에서는 제1,2 센싱전극부(121,122)가 액티브 영역(AA)에 해당하는 부분에만 형성된 경우를 도시하였다. 이 경우 베젤 영역(AB)에 해당하는 부분에는 별도의 패턴이 없는 박막 형태로 투명 전도성 물질이 형성될 수 있다. The sensing pattern unit 120 includes a first sensing electrode unit 121 and a second sensing electrode unit 122. The first sensing electrode unit 121 and the second sensing electrode unit 122 may be formed only on a portion corresponding to the active area AA of the transparent substrate 110 or may be formed on the entire surface of the transparent substrate 110 have. For convenience of explanation, FIG. 1 shows a case where the first and second sensing electrode portions 121 and 122 are formed only in a portion corresponding to the active region AA. In this case, a transparent conductive material may be formed in the form of a thin film without a separate pattern in a portion corresponding to the bezel region AB.

제1 센싱전극부(121)는 제1 방향으로 위치한 복수의 제1 센싱전극(121a)이 서로 이격되어 배치된다. 여기에서 제1 방향은 임의의 방향을 의미하는 것이나, 본 명세서에서는 열(row) 방향을 의미하고 있음을 밝혀둔다. 본 명세서에서 제1 센싱전극부(121)는 Tx 전극으로 기능한다. The first sensing electrode unit 121 includes a plurality of first sensing electrodes 121a spaced apart from each other. Here, the first direction means an arbitrary direction, but it is noted that the term " row direction " In this specification, the first sensing electrode unit 121 functions as a T x electrode.

제2 센싱전극부(122)는 제2 방향으로 위치한 복수의 제2 센싱전극(122a)이 서로 일체형으로 연결되어 배치된다. 상기 제2 방향은 상기 제1 방향과 교차하는 방향이며, 본 명세서에서는 행(column) 방향을 의미하고 있음을 밝혀둔다. 본 명세서에서 제2 센싱전극부(122)는 Rx 전극으로 기능한다. The second sensing electrode unit 122 is disposed such that a plurality of second sensing electrodes 122a located in the second direction are integrally connected to each other. It is to be noted that the second direction is a direction intersecting with the first direction and means a column direction in this specification. In this specification, the second sensing electrode unit 122 functions as an R x electrode.

제1 센싱전극(121a) 및 제2 센싱전극(122a)은 도 1에 도시된 바와 같이 서로 교번하는 패턴 형태로 배치될 수 있고, 그 이외에도 다양한 형태의 패턴으로 배치될 수 있다. 도 2에서는 제1,2 센싱전극(121a,122a)을 다이아몬드 형태로 도시하고 있으나, 그 이외에도 삼각형, 사각형 등의 다각형 형태, 원형, 타원형 등 다양한 형태로 형성될 수 있다. The first sensing electrode 121a and the second sensing electrode 122a may be arranged in an alternating pattern as shown in FIG. 1, or may be arranged in various patterns. In FIG. 2, the first and second sensing electrodes 121a and 122a are formed in a diamond shape. However, the first and second sensing electrodes 121a and 122a may be formed in various shapes such as a polygonal shape such as a triangular shape and a quadrilateral shape.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널의 절연막(130)을 도시한 정면도이다. 설명의 편의를 위해 도 1의 센싱패턴부(120)는 도시하지 않았음을 밝혀둔다. 2 is a front view showing an insulating layer 130 of a touch panel according to an embodiment of the present invention. It is noted that the sensing pattern unit 120 of FIG. 1 is not shown for convenience of explanation.

절연막(130)은 터치패널의 절연층으로 기능하는 것으로 절연특성을 갖는 물질로 형성된다. 이러한 물질은 절연특성을 갖는 유기물질, 무기물질, 유무기 복합물질 등 한정되지 않는다. 예컨대 절연막(130)은 절연특성을 갖는 Cr/CrOx 이중충, 카본 안료를 포함하는 수지, 블랙염료 등과 같은 흑색 물질로 형성될 수 있다. The insulating layer 130 functions as an insulating layer of the touch panel and is formed of a material having an insulating property. Such materials are not limited to organic materials having insulating properties, inorganic materials, organic-inorganic composite materials, and the like. For example, the insulating layer 130 may be formed of a black material such as a Cr / CrO x double layer having insulating properties, a resin containing a carbon pigment, a black dye, or the like.

절연막(130)은 액티브 영역(AA)은 메쉬(mesh) 패턴으로 형성되고, 베젤 영역(BA)은 띠(strip) 형태로 형성된다. 상기 메쉬 패턴에 있어서 선폭은 수㎛(예컨대 10㎛), 선 간격은 수백㎛(예컨대 300㎛)일 수 있다. 즉, 절연막(130)은 도 2에 도시된 것과 선폭과 선 간격이 다양한 형태로 형성될 수 있다(예컨대, 도 2에 도시된 형태보다 좁은 선 간격을 가지는 메쉬 형태로 형성될 수 있음).The insulating layer 130 is formed in a mesh pattern in the active area AA and the bezel area BA is formed in a strip shape. In the mesh pattern, the line width may be several 占 퐉 (for example, 10 占 퐉) and the line spacing may be several hundred 占 퐉 (for example, 300 占 퐉). That is, the insulating film 130 may be formed in various shapes such as those shown in FIG. 2 (for example, it may be formed into a mesh shape having a line spacing narrower than the shape shown in FIG. 2).

이와 같은 메쉬 패턴을 통해 그라운드 전극(ground electrode)이 액티브 영역(AA)의 전면에 형성될 수 있으므로, 터치패널과 근접하게 배치되는 디스플레이로부터 발생하는 노이즈 현상을 최소화 할 수 있다. 이와 관련된 내용은 다른 도면을 참조하여 설명하도록 한다. Since the ground electrode can be formed on the entire surface of the active area AA through the mesh pattern, the noise phenomenon generated from the display arranged close to the touch panel can be minimized. The related contents will be described with reference to the other drawings.

한편, 절연막(130)에는 제1 관통공(131) 및 제2 관통공(132)이 형성된다. 제1 관통공(131)은 절연막(130)이 센싱패턴부(120, 도 1 참조) 상부에 배치되었을 때에, 센싱패턴부(120)의 제1 센싱전극(121a, 도 1 참조)의 상측 단부 및 하측 단부와 상응하는 부분에 형성된다. 제2 관통공(132)은 마찬가지로 절연막(130)이 센싱패턴부(120) 상부에 배치되었을 때에, 액티브 영역(AA)과 베젤 영역(AB)의 경계부와 소정 간격 이격되는 부분에 형성된다. 즉, 제2 관통공(132)은 제2 센싱전극부(122)의 양측 단부에 각각 형성된다. 도 1을 참고하여 설명하면 제2 관통공(132)은 제2 센싱전극부(122)를 이루는 제2 센싱전극(122a)들 중에서 가장 좌측에 위치한 제2 센싱전극(122a)의 좌측 단부와, 가장 우측에 위치한 제2 센싱전극(122a)의 우측 단부와 상응하는 부분에 형성된다(제2 관통공(132)은 센싱전극에 형성되는 것이 아니라 절연막(130)에 형성되는 것임). 제1,2 관통공(131,132)의 형태 및 크기는 특정되지 않는다. 예컨대, 제1,2 관통공(131,132)은 본 명세서에 첨부된 도면에 도시된 폐쇄형의 비아홀(via hole) 형태가 아니라 절연막(130)의 해당 부분을 생략함으로써(해당 부분을 절단하는 형태) 형성될 수도 있다. 다만, 설명의 편의를 위해서 이하에서는 제1,2 관통공(131,132)이 비아홀 형태로 형성된 경우를 중심으로 설명하도록 한다. The first through hole 131 and the second through hole 132 are formed in the insulating layer 130. 1) of the sensing pattern portion 120 when the insulating layer 130 is disposed on the sensing pattern portion 120 (see FIG. 1) And the lower end. The second through hole 132 is formed at a portion spaced apart from a boundary portion between the active region AA and the bezel region AB when the insulating layer 130 is disposed on the sensing pattern portion 120. That is, the second through holes 132 are formed at both side ends of the second sensing electrode unit 122, respectively. 1, the second through hole 132 includes a left end of the second sensing electrode 122a located at the leftmost of the second sensing electrodes 122a forming the second sensing electrode 122, (The second through hole 132 is not formed in the sensing electrode but is formed in the insulating film 130). The second through-hole 132 is formed in the insulating film 130 in correspondence with the right end of the second sensing electrode 122a located at the rightmost position. The shape and size of the first and second through holes 131 and 132 are not specified. For example, the first and second through holes 131 and 132 are not formed in a closed via hole shape shown in the drawings attached to the present specification, but may be formed by omitting a corresponding portion of the insulating film 130 . However, for convenience of explanation, the case where the first and second through holes 131 and 132 are formed in the form of a via hole will be mainly described.

관련하여, 도 3은 액티브 영역에서 도 1의 센싱패턴부(120) 상부에 도 2의 절연막(130)이 형성된 모습을 확대하여 도시한 도면이다. 3 is an enlarged view showing a state where the insulating layer 130 of FIG. 2 is formed on the sensing pattern portion 120 of FIG. 1 in the active region.

도 3을 참조하면, 절연막(130)은 액티브 영역에서 메쉬 패턴을 갖는데, 상기 메쉬 패턴에는 복수개의 제1 관통공(131)이 형성되어 있음을 확인할 수 있다. Referring to FIG. 3, the insulating layer 130 has a mesh pattern in an active region. It can be seen that a plurality of first through holes 131 are formed in the mesh pattern.

제1 관통공(131)은 제1 센싱전극(121a)의 상하측 단부와 상응하는 위치에 마련된다. 제1 관통공(131)은 이웃하는 제1 센싱전극(121a)을 전기적으로 연결시키기 위하여 형성되는 것이다. 상술하였듯이 제1 센싱전극(121a)은 제2 센싱전극(122a)과는 달리 서로 이격되어 배치되기 때문이다. 제1 관통공(131)을 통한 제1 센싱전극(121a)의 연결에 대해서는 다른 도면을 참조하여 후술하기로 한다. The first through hole 131 is provided at a position corresponding to the upper and lower ends of the first sensing electrode 121a. The first through hole 131 is formed to electrically connect the neighboring first sensing electrode 121a. As described above, the first sensing electrodes 121a are spaced apart from the second sensing electrodes 122a. Connection of the first sensing electrode 121a through the first through hole 131 will be described later with reference to other drawings.

도 4는 도 3에서 금속패턴부(140)를 추가하여 도시한 도면이고, 도 5는 도 4의 ?-?를 기준으로 도시한 단면도이다.FIG. 4 is a view illustrating the metal pattern unit 140 in FIG. 3, and FIG. 5 is a cross-sectional view of the metal pattern unit 140 shown in FIG.

도 4 및 도 5를 참조하면, 금속패턴부(140)는 절연막(130)의 상부에 형성되는 것으로 그라운드 전극(141)과 브릿지 전극(142)을 포함한다. 4 and 5, the metal pattern 140 is formed on the insulating layer 130 and includes a ground electrode 141 and a bridge electrode 142.

금속패턴부(140)는 금속 물질로 형성되고, 상기 금속 물질은 은(Ag), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 몰리브덴(Mo) 및 이들의 합금 중에서 선택되는 물질일 수 있다. 또한, 금속패턴부(140)는 복수개의 상기 금속 물질들이 적층 구조를 이루어 형성될 수 있다. The metal pattern part 140 is formed of a metal material such as Ag, Al, Cu, Cr, Ni, Ti, Mo, ), And alloys thereof. In addition, the metal pattern part 140 may have a plurality of the metal materials stacked.

금속패턴부(140)는 메쉬 패턴을 구비하여 액티브 영역(AA)에서 절연막(130) 상부에 중첩되도록 형성된다. 금속패턴부(140)가 액티브 영역(AA)에서 절연막(130) 상부에 중첩되도록 형성된다 함은 도 4 및 도 5에 도시된 것과 같이 사용자의 위치를 기준으로 터치패널을 바라보았을 때에 금속패턴부(140)가 절연막(130)에 의해 사용자에게 보이지 않도록 중첩됨을 의미한다. 이를 위해 금속패턴부(140)의 메쉬 패턴에 있어 선폭은 절연막(130)의 메쉬 패턴에서의 선폭보다 작을 수 있다(이 경우 메쉬 패턴의 선 간격은 금속패턴부(140)가 절연막(130)에서보다 크게 됨). The metal pattern part 140 has a mesh pattern and is formed to overlap the insulating film 130 in the active area AA. The metal pattern part 140 is formed to overlap the insulating film 130 in the active area AA. As shown in FIGS. 4 and 5, when the touch panel is viewed from the user's position, (140) are overlapped so as not to be visible to the user by the insulating film (130). The line width of the mesh pattern of the metal pattern part 140 may be smaller than the line width of the metal pattern part 140 of the insulating film 130 ≪ / RTI >

구체적으로 액티브 영역(AA)에 배치되는 금속패턴부(140)는 절연막(130)과 중첩되는 메쉬 패턴을 가지고 있어 사용자의 위치를 기준으로 할 때에는 절연막(130)에 가려져 보이지 않는다. 베젤 영역(BA)에 배치되는 금속패턴부(140) 역시 마찬가지이다. Specifically, the metal pattern part 140 disposed in the active area AA has a mesh pattern overlapping the insulating film 130, and is hidden by the insulating film 130 when viewed from the user's position. The same applies to the metal pattern portion 140 disposed in the bezel region BA.

액티브 영역(AA)에서 금속패턴부(140)는 전체적으로는 절연막(130) 상부에 중첩되도록 형성되지만, 일부 구간에서는 형성되지 않음으로써 그라운드 전극(141)과 브릿지 전극(142)으로 구분될 수 있다. 즉, 그라운드 전극(141)과 브릿지 전극(142)은 동일한 금속 물질로 동일한 평면 상에 형성되지만, 형성 위치 및 기능에 따라 구분된다. 이는 공정을 보다 간소화 할 수 있는 요인이다. In the active area AA, the metal pattern part 140 is formed so as to be overlapped on the insulating film 130 as a whole, but it may be divided into the ground electrode 141 and the bridge electrode 142 because it is not formed in a certain section. That is, although the ground electrode 141 and the bridge electrode 142 are formed on the same plane with the same metal material, they are classified according to the forming position and function. This is a factor that can simplify the process.

브릿지 전극(142)은 이웃하는 제1 센싱전극들(121a)를 서로 전기적으로 연결시키는 기능을 한다. 제1 센싱전극부(121)를 이루는 제1 센싱전극들(121a)은 제2 센싱전극들(122a)과는 달리 서로 이격되어 배치되어 있으며(도 1 참조), 이들의 전기적 연결을 위해 브릿지 전극(142)이 필요하다. The bridge electrode 142 functions to electrically connect neighboring first sensing electrodes 121a to each other. The first sensing electrodes 121a of the first sensing electrode unit 121 are spaced apart from the second sensing electrodes 122a (see FIG. 1). For electrical connection of the first sensing electrodes 121a, (142) is required.

따라서 브릿지 전극(142)은 하나의 제1 센싱전극(121a)의 하단부와 제1 방향(도 1 참조)으로 이웃하는 다른 하나의 제1 센싱전극(121a)의 상단부에 걸쳐지도록 형성된다. 구체적으로 브릿지 전극(142)은 하나의 제1 센싱전극(121a)의 하단부에 위치한 제1 관통공(131)과, 이웃하는 다른 하나의 제1 센싱전극(121a)의 상단부에 위치한 제1 관통공(131)을 전기적으로 연결하도록 형성된다. 예컨대 도 5에 도시된 것처럼, 브릿지 전극(142)은 양단부가 제1 관통공(131)을 각각 채우는 형태를 가질 수 있으며, 몸통 부분은 이웃하는 제1 관통공(131) 사이를 잇는 막대 형태를 가지도록 형성될 수 있다. 따라서 하나의 제1 센싱전극(121a)의 하단부와 이웃하는 다른 하나의 제1 센싱전극(121a)의 상단부가 브릿지 전극(142)을 통해 전기적으로 연결될 수 있다. 한편, 이 경우에 있어서 브릿지 전극(142)이 제1 관통공(131)을 채우는 형태가 아니더라도, 제1 센싱전극(121a)으로부터의 전류는 절연막(130)의 벽면을 따라 흐름으로써 브릿지 전극(142)과 전기적으로 연통될 수 있다. 절연막(130)의 두께가 매우 얇은 바, 제1 센싱전극(121a)과 브릿지 전극(142)의 수직거리가 매우 짧기 때문이다. Therefore, the bridge electrode 142 is formed to extend over the lower end of one first sensing electrode 121a and the upper end of the first sensing electrode 121a adjacent to the first sensing electrode 121a in the first direction (see FIG. 1). Specifically, the bridge electrode 142 includes a first through hole 131 located at the lower end of one first sensing electrode 121a and a second through hole 131 located at the upper end of the other neighboring first sensing electrode 121a. (131). For example, as shown in FIG. 5, the bridge electrode 142 may have a shape in which both end portions thereof fill the first through hole 131, and the body portion may have a rod shape connecting between neighboring first through holes 131 As shown in Fig. Therefore, the lower end of one of the first sensing electrodes 121a and the upper end of the adjacent one of the first sensing electrodes 121a may be electrically connected through the bridge electrode 142. In this case, even if the bridge electrode 142 does not fill the first through hole 131, the current from the first sensing electrode 121a flows along the wall surface of the insulating film 130, As shown in Fig. This is because the thickness of the insulating layer 130 is very thin and the vertical distance between the first sensing electrode 121a and the bridge electrode 142 is very short.

그라운드 전극(141)은 활성 영역(AA)에 대하여 금속패턴부(140)에서 브릿지 전극(142)을 제외한 부분으로 전체적으로는 메쉬 모양을 갖는다. 상술한 것과 같이 제1 센싱전극(121a)들 사이에는 브릿지 전극(142)이 각각 위치하며, 그라운드 전극(141)은 브릿지 전극(142)과 접촉하지 않도록 브릿지 전극(142)과는 소정 간격 이격되도록 형성된다. 예컨대 도 4를 참고하면, 브릿지 전극(142)의 상하 및 좌우와 소정 간격 이격된 형태로 그라운드 전극(141)이 마련된다. 또한 절연막(130)이 활성 영역(AA) 전면에 형성되므로, 그라운드 전극(141)과 브릿지 전극(142)이 이격된 형태를 가지고 있어도, 다른 경로를 통해 절연막(130)에 형성되어 있는 모든 그라운드 전극(141)은 통전될 수 있다(도 8 참조).The ground electrode 141 has a mesh shape as a whole except for the bridge electrode 142 in the metal pattern portion 140 with respect to the active region AA. The bridge electrode 142 is positioned between the first sensing electrodes 121a and the ground electrode 141 is spaced apart from the bridge electrode 142 by a predetermined distance so as not to contact the bridge electrode 142 . For example, referring to FIG. 4, a ground electrode 141 is provided in a form spaced apart from upper, lower, right, and left sides of the bridge electrode 142 by a predetermined distance. Since the insulating film 130 is formed on the entire surface of the active region AA, even if the ground electrode 141 and the bridge electrode 142 are spaced apart from each other, (See Fig. 8).

이와 같은 그라운드 전극(141)은 절연막(130)에 의해 센싱전극(121a,122a)들과 전기적으로 연결되지 않고 접지축과 연결되어 그라운드 전위를 띄움으로써 터치패널과 근접하게 배치되는 디스플레이로부터 발생하는 노이즈 현상을 최소화 시키는 기능을 한다. 그라운드 전극 자체는 터치패널에서 잘 알려진 구성으로, 본 실시예에서는 그라운드 전극의 형태 및 배치가 주된 요지이므로 그 외의 다른 설명은 생략하도록 한다. The ground electrode 141 is not electrically connected to the sensing electrodes 121a and 122a by the insulating film 130 and is connected to the ground shaft to emit ground potential so that the noise generated from the display disposed close to the touch panel And minimizes the phenomenon. The ground electrode itself is well known in the touch panel, and in this embodiment, the shape and arrangement of the ground electrode are the main points, so other description will be omitted.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널을 도시한 정면도이고, 도 7은 도 6에 표시된 Ⅶ을 확대하여 도시한 도면이다. FIG. 6 is a front view showing a touch panel according to an embodiment of the present invention, and FIG. 7 is an enlarged view of VII shown in FIG.

도 6 및 도 7을 참조하면, 금속패턴부(140)는 배선 전극(143)을 더 포함할 수 있다. 즉, 그라운드 전극(141), 브릿지 전극(142) 및 배선 전극(143)은 동일한 금속 물질로 동일한 평면 상에 형성되지만, 형성 위치 및 기능에 따라 구분된다. 이는 공정을 보다 간소화 할 수 있는 요인이다.6 and 7, the metal pattern portion 140 may further include a wiring electrode 143. That is, although the ground electrode 141, the bridge electrode 142, and the wiring electrode 143 are formed on the same plane with the same metal material, they are classified according to the formation position and function. This is a factor that can simplify the process.

배선 전극(143)은 센싱전극(121a, 122a)과 전기적으로 접속되어 센싱전극(121a, 122a)들로부터 발생하는 신호를 터치패널의 FPCB(연성인쇄회로기판, 미도시)에 전달하는 기능을 한다. 이러한 배선 전극(143)은 베젤 영역(BA)에 형성된다. The wiring electrode 143 is electrically connected to the sensing electrodes 121a and 122a and functions to transmit a signal generated from the sensing electrodes 121a and 122a to an FPCB (a flexible printed circuit board, not shown) of the touch panel . This wiring electrode 143 is formed in the bezel area BA.

구체적으로 도 6에 도시된 바와 같이 제1 센싱전극부(121)는 액티브 영역(AA)과 베젤 영역(BA)의 경계부에 위치하는 제1 관통공(131)으로부터 FPCB까지 배선 전극(143)이 형성될 수 있다. 이 때, 배선 전극(143)은 제1 센싱전극부(121)의 최하단에 위치한 제1 관통공(131)을 채우는 형태를 가짐으로써, 제1 센싱전극부(121)와 FPCB를 전기적으로 연결한다. 6, the first sensing electrode unit 121 is electrically connected to the wiring electrode 143 from the first through hole 131 located at the boundary between the active area AA and the bezel area BA to the FPCB, . In this case, the wiring electrode 143 has a shape that fills the first through hole 131 located at the lowermost end of the first sensing electrode unit 121, thereby electrically connecting the first sensing electrode unit 121 and the FPCB .

그리고 제2 센싱전극부(122)는 액티브 영역(AA)과 베젤 영역(BA)의 경계부에 위치하는 제2 관통공(132)으로부터 FPCB까지 배선 전극(143)이 형성될 수 있다. 이 때, 배선 전극(143)은 제2 관통공(132)을 채우는 형태를 가짐으로써, 제2 센싱전극부(122)와 FPCB를 전기적으로 연결한다(도 7 참조). 또한, 이 경우에 있어서 배선 전극(143)이 제1 관통공(131) 또는 제2 관통공(132)을 채우는 형태가 아니더라도, 센싱전극(121a,122a)으로부터의 전류는 절연막(130)의 벽면을 따라 흐름으로써 배선 전극(143)과 전기적으로 연통될 수 있다.The second sensing electrode part 122 may be formed with the wiring electrode 143 from the second through hole 132 located at the boundary between the active area AA and the bezel area BA to the FPCB. At this time, the wiring electrode 143 has a shape to fill the second through hole 132, thereby electrically connecting the second sensing electrode unit 122 and the FPCB (see FIG. 7). In this case, even if the wiring electrode 143 does not fill the first through hole 131 or the second through hole 132, the current from the sensing electrodes 121a and 122a flows through the wall surface of the insulating film 130 So that it can be electrically connected to the wiring electrode 143. [

도 8은 도 6에서 금속패턴부만을 도시한 정면도이다. 도 8은 금속패턴부(140)의 모양을 보다 명확하게 하기 위해 제공된다. 도 8을 참조하면 금속패턴부(140)는 액티브 영역(AA)에 형성되는 그라운드 전극(141) 및 브릿지 전극(142)과, 베젤 영역(BA)에 형성되는 배선 전극(143)을 포함한다. 8 is a front view showing only the metal pattern portion in FIG. 8 is provided to clarify the shape of the metal pattern portion 140. As shown in Fig. Referring to FIG. 8, the metal pattern 140 includes a ground electrode 141 and a bridge electrode 142 formed in the active area AA, and a wiring electrode 143 formed in the bezel area BA.

그라운드 전극(141)은 전체적으로 메쉬 모양을 갖되, 부분적으로 브릿지 전극(142)과 겹치지 않도록 브릿지 전극(142)과 소정 간격 이격된다. 그러나 전체적으로 메쉬 모양을 가지므로 브릿지 전극(142)이 존재하는 부분 이외의 경로를 통해 그라운드 전극(141)이 전체적으로 통전 가능하다. The ground electrode 141 has a mesh shape as a whole and is spaced apart from the bridge electrode 142 by a predetermined distance so as not to overlap with the bridge electrode 142 partially. However, since the mesh electrode has a mesh shape as a whole, the ground electrode 141 can be entirely energized through a path other than the portion where the bridge electrode 142 exists.

한편, 도면에 도시되지는 않았으나 터치패널은 금속패턴부(140) 상부에 형성되는 보호막(미도시)을 더 포함할 수 있다. 상기 보호막은 금속패턴부(140)의 전면에 형성되어 터치패널을 보호하는 기능과 더불어 터치패널의 저면을 평평하게 만들어주는 기능을 한다(오버코팅층으로 기능함). 상기 보호막은 터치패널의 시인성 향상을 위해 굴절율이 1.4 이하 또는 1.6 이상인 투명 절연물질로 형성될 수 있다. Although not shown in the drawing, the touch panel may further include a protective layer (not shown) formed on the metal pattern portion 140. The protective layer is formed on the front surface of the metal pattern part 140 to protect the touch panel and to make the bottom surface of the touch panel flat (functioning as an overcoat layer). The passivation layer may be formed of a transparent insulating material having a refractive index of 1.4 or less or 1.6 or more to improve the visibility of the touch panel.

이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널 제조방법에 대하여 설명하도록 한다. 설명의 편의를 위해서 앞서 설명한 구성에 대해서는 앞서 병기한 것과 동일한 도면부호를 병기하였음을 밝혀둔다. Hereinafter, a method of manufacturing a touch panel according to an embodiment of the present invention will be described. For the sake of convenience of explanation, it is noted that the same reference numerals are given to the configurations described above, which are the same as those described above.

본 발명의 일 실시예에 따른 터치패널 제조방법은 투명기판(110) 일면에 센싱패턴부(120)를 형성하는 단계와, 센싱패턴부(120) 상부에 절연막(130)을 형성하는 단계와, 절연막(130) 상부에 그라운드 전극(141), 브릿지 전극(142) 및 배선 전극(143)을 동시에 형성하는 단계를 포함할 수 있다. A method of fabricating a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention includes forming a sensing pattern 120 on a surface of a transparent substrate 110, forming an insulating layer 130 on the sensing pattern 120, Forming a ground electrode 141, a bridge electrode 142, and a wiring electrode 143 on the insulating film 130 at the same time.

우선 준비된 투명기판(110) 상부에 투명 전도막(예컨대 ITO 박막)을 전면 코팅한다. 코팅 방법은 한정되지 않으며 스핀 코팅, 슬립코팅, 스퍼터링(sputtering), 증착(열증착 또는 전자빔 증착) 등의 공정을 사용할 수 있다. First, a transparent conductive film (for example, ITO thin film) is coated on the entire surface of the prepared transparent substrate 110. The coating method is not limited, and processes such as spin coating, slip coating, sputtering, evaporation (thermal evaporation or electron beam evaporation) can be used.

다음으로 상기 투명 전도막을 패터닝하여 센싱패턴부(120)를 형성한다. 센싱패턴부(120)는 제1 센싱전극부(121)와 제2 센싱전극부(122)를 포함하며, 패터닝된 형태의 일 예시는 도 1에 도시되어 있다. 패터닝 방법은 한정되지 않으며 통상의 포토 공정(포토레지스트 코팅 및 노광), 스크린 인쇄, 그라비아 인쇄, 잉크젯 인쇄 등의 공정을 이용할 수 있다. 예컨대 센싱패턴부(120)는 패턴된 단일 마스크를 사용하여 패터닝될 수 있다. Next, the sensing pattern part 120 is formed by patterning the transparent conductive film. The sensing pattern part 120 includes a first sensing electrode part 121 and a second sensing electrode part 122. An example of the patterned shape is shown in FIG. The patterning method is not limited, and processes such as a normal photolithography (photoresist coating and exposure), screen printing, gravure printing, and inkjet printing can be used. For example, the sensing pattern portion 120 may be patterned using a patterned single mask.

다음으로 센싱패턴부(120) 상부에 절연특성을 갖는 물질(예컨대 블랙 염료)을 전면(全面) 코팅한다. 코팅 방법은 상기 나열한 것과 같다. Next, a material having an insulating property (for example, a black dye) is coated on the entire surface of the sensing pattern portion 120. The coating methods are the same as those listed above.

다음으로 상기 절연 물질을 패터닝하여 절연막(130)을 형성한다. 절연막(130)은 액티브 영역(AA)에는 메쉬 패턴을 갖고, 베젤 영역(AB)에는 띠 형태를 갖는다. 그리고 상기 메쉬 패턴에는 복수개의 관통공(131,132)이 마련된다. 이와 같이 패터닝된 형태의 일 예시는 도 2에 도시되어 있다. 패터닝 방법은 상기 나열한 것과 같으며, 예컨대 절연막(130)은 패턴된 단일 마스크를 사용하여 패터닝될 수 있다. Next, an insulating layer 130 is formed by patterning the insulating material. The insulating film 130 has a mesh pattern in the active area AA and a band shape in the bezel area AB. The mesh pattern is provided with a plurality of through holes (131, 132). An example of such a patterned form is shown in Fig. The patterning method is the same as that described above, and for example, the insulating film 130 can be patterned using a patterned single mask.

다음으로 절연막(130) 상부에 금속박막(예컨대 구리박막)을 전면(全面) 코팅한다. 코팅 방법은 상기 나열한 것과 같다. 한편, 금속박막의 전면 코팅 이전에, 브릿지 전극(142) 및 배선 전극(143)이 형성되는 부분에 위치하는 관통홀(131,132)에 금속 물질이 충전 또는 코팅될 수 있다. Next, a metal thin film (for example, a copper thin film) is coated on the entire surface of the insulating film 130. The coating methods are the same as those listed above. Meanwhile, the metal material may be filled or coated in the through holes 131 and 132 located at the portions where the bridge electrode 142 and the wiring electrode 143 are formed, before the front surface coating of the metal thin film.

다음으로 상기 금속박막을 패터닝하여 그라운드 전극(141), 브릿지 전극(142) 및 배선 전극(143)을 동시에 형성한다. 그라운드 전극(141)과 브릿지 전극(142)은 액티브 영역(AA)에 형성되고, 배선 전극(143)은 베젤 영역(BA)에 형성된다. 이와 같이 패터닝된 형태의 일 예시는 도 6에 도시되어 있다. 패터닝 방법은 상기 나열한 것과 같으며, 패턴된 단일 마스크를 사용할 수 있다. 본 실시예에서 그라운드 전극(141), 브릿지 전극(142) 및 배선 전극(143)은 상술한 것과 같이 단일 금속박막으로부터 동시에 형성되므로, 제조공정을 크게 줄일 수 있다. Next, the metal thin film is patterned to form the ground electrode 141, the bridge electrode 142, and the wiring electrode 143 at the same time. The ground electrode 141 and the bridge electrode 142 are formed in the active region AA and the wiring electrode 143 is formed in the bezel region BA. An example of such a patterned form is shown in Fig. The patterning method is as described above, and a patterned single mask can be used. Since the ground electrode 141, the bridge electrode 142, and the wiring electrode 143 are formed simultaneously from the single metal thin film in the present embodiment, the manufacturing process can be greatly reduced.

다음으로 필요에 따라 패터닝된 상기 금속박막 상부에 보호막을 전면 코팅함으로써 터치패널의 제조가 마무리될 수 있다. Next, the manufacturing of the touch panel can be completed by coating the protective film on the upper part of the metal thin film patterned as necessary.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명의 실시예들에 따른 터치패널은 매쉬 패턴의 절연막을 사용하고 상기 절연막 일면에 매쉬 패턴의 그라운드 전극을 형성케 함으로써, 터치패널과 근접하게 배치되는 디스플레이로부터 발생하는 노이즈 현상을 최소화 할 수 있다.As described above, in the touch panel according to the embodiments of the present invention, a mesh pattern insulating film is used and a ground electrode of a mesh pattern is formed on one surface of the insulating film. Thus, a noise phenomenon Can be minimized.

본 발명의 실시예들에 따른 터치패널 제조방법은 그라운드 전극, 브릿지 전극 및 배선 전극을 단일 금속박막을 패터닝하여 동시에 형성함으로써 상대적으로 단순한 제조공정을 통해 디스플레이로부터 발생하는 노이즈를 최소화 할 수 있다. In the touch panel manufacturing method according to embodiments of the present invention, the ground electrode, the bridge electrode, and the wiring electrode are formed by patterning a single metal thin film at the same time, thereby minimizing the noise generated from the display through a relatively simple manufacturing process.

이상, 본 발명의 실시예들에 대하여 설명하였으나, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 구성 요소의 부가, 변경, 삭제 또는 추가 등에 의해 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이며, 이 또한 본 발명의 권리범위 내에 포함된다고 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, many modifications and changes may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims. The present invention can be variously modified and changed by those skilled in the art, and it is also within the scope of the present invention.

110: 투명기판 120: 센싱패턴부
121: 제1 센싱전극부 122: 제2 센싱전극부
121a: 제1 센싱전극 122a: 제2 센싱전극
130: 절연막 131: 제1 관통공
132: 제2 관통공 140: 금속패턴부
141: 그라운드 전극 142: 브릿지 전극
143: 배선 전극110: transparent substrate 120: sensing pattern part
121: first sensing electrode part 122: second sensing electrode part
121a: first sensing electrode 122a: second sensing electrode
130: insulating film 131: first through hole
132: second through hole 140: metal pattern part
141: ground electrode 142: bridge electrode
143: wiring electrode

Claims (8)

액티브 영역과 상기 액티브 영역을 둘러싸는 베젤 영역으로 구분되는 투명기판;
상기 투명기판 일면에 투명 전도성 물질로 형성되는 것으로, 제1 방향으로 위치한 복수의 제1 센싱전극이 서로 이격되어 배치되는 제1 센싱전극부와, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 위치한 복수의 제2 센싱전극이 서로 연결되어 배치되는 제2 센싱전극부를 구비하는 센싱패턴부;
상기 센싱패턴부 상부에 절연특성을 갖는 물질로 형성되는 것으로, 상기 액티브 영역은 메쉬(mesh) 패턴으로 형성되고 상기 베젤 영역은 띠(strip) 형태로 형성되되, 상기 제1 센싱전극의 상측 단부 및 하측 단부와 상응하는 부분에 제1 관통공이 형성되고 상기 제2 센싱전극에는 상기 액티브 영역과 베젤 영역의 경계부와 소정 간격 이격되는 부분에 제2 관통공이 형성되는 절연막; 및
상기 액티브 영역에서 상기 절연막 상부에 중첩되도록 금속 물질로 형성되고, 상기 제1 센싱전극들을 상기 제1 관통공을 통해 서로 전기적으로 연결시키는 브릿지 전극과, 상기 브릿지 전극과 접촉하지 않도록 메쉬 모양으로 형성되는 그라운드 전극을 포함하는 금속패턴부를 포함하는 터치패널.A transparent substrate divided into an active region and a bezel region surrounding the active region;
A first sensing electrode portion formed on the one surface of the transparent substrate and formed of a transparent conductive material and having a plurality of first sensing electrodes spaced apart from each other in a first direction; A sensing pattern portion having a second sensing electrode portion in which second sensing electrodes of the second sensing electrode are connected to each other;
Wherein the active region is formed in a mesh pattern and the bezel region is formed in a strip shape, and the upper end of the first sensing electrode and the upper end of the first sensing electrode And a second through hole is formed in a portion of the second sensing electrode that is spaced apart from a boundary portion between the active region and the bezel region. And
A bridge electrode formed of a metal material so as to overlap the upper surface of the insulating layer in the active region and electrically connecting the first sensing electrodes to each other through the first through hole; And a metal pattern portion including a ground electrode. 청구항 1에 있어서,
상기 금속패턴부는 상기 베젤 영역에 배치되는 것으로, 상기 액티브 영역과 배젤 영역의 경계부에 위치하는 상기 제1 관통공을 통해 상기 제1 센싱전극들과 전기적으로 접속하고, 상기 제2 관통공을 통해 상기 제2 센싱전극들과 전기적으로 접속하는 배선 전극을 더 포함하는 터치패널.The method according to claim 1,
Wherein the metal pattern portion is disposed in the bezel region and is electrically connected to the first sensing electrodes through the first through hole located at a boundary portion between the active region and the bevel region, And a wiring electrode electrically connected to the second sensing electrodes. 청구항 2에 있어서,
상기 브릿지 전극, 그라운드 전극 및 배선 전극은 동일한 금속 물질로 형성되는 터치패널.The method of claim 2,
Wherein the bridge electrode, the ground electrode, and the wiring electrode are formed of the same metal material. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 금속패턴부는 은(Ag), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 몰리브덴(Mo) 및 이들의 합금 중에서 1 이상 선택되는 물질로 1층 이상 형성되는 터치패널.The method according to any one of claims 1 to 3,
The metal pattern part is a material selected from one or more of silver (Ag), aluminum (Al), copper (Cu), chromium (Cr), nickel (Ni), titanium (Ti), molybdenum A touch panel formed over the layer. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 금속패턴부 상부에 굴절율이 1.4 이하 또는 1.6 이상인 투명 절연물질로 형성되는 보호막을 더 포함하는 터치패널.The method according to any one of claims 1 to 3,
And a protective film formed on the upper portion of the metal pattern portion and formed of a transparent insulating material having a refractive index of 1.4 or less or 1.6 or more. 액티브 영역과 상기 액티브 영역을 둘러싸는 베젤 영역으로 구획되는 투명기판 일면에 투명 전도막을 전면 코팅하고 패터닝하여, 제1 방향으로 위치한 복수의 제1 센싱전극이 서로 이격되어 배치되는 제1 센싱전극부와, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 위치한 복수의 제2 센싱전극이 서로 연결되어 배치되는 제2 센싱전극부를 구비하는 센싱패턴부를 형성하는 단계;
상기 센싱패턴부 상부에 절연특성을 갖는 물질을 전면 코팅하고 패터닝하여, 상기 액티브 영역은 메쉬(mesh) 패턴으로 형성되고 상기 베젤 영역은 띠 모양으로 형성되되, 상기 제1 센싱전극의 상측 단부 및 하측 단부와 상응하는 부분에 제1 관통공이 형성되고 상기 제2 센싱전극에는 상기 액티브 영역과 베젤 영역의 경계부와 소정 간격 이격되는 부분에 제2 관통공이 형성되는 절연막을 형성하는 단계; 및
상기 절연막 상부에 금속박막을 전면 코팅하고 매쉬 패턴을 갖도록 패터닝하여, 상기 액티브 영역에는 상기 절연막 상부에 중첩되도록 그라운드 전극, 및 상기 그라운드 전극과 소정 간격 이격되고 상기 제1 관통공을 통해 상기 제1 센싱전극들을 서로 전기적으로 연결시키는 브릿지 전극을 형성하고, 상기 베젤 영역에는 상기 제1,2 센싱전극부와 전기적으로 접속하는 배선 전극을 각각 형성하는 단계를 포함하는 터치패널 제조방법.A first sensing electrode unit in which a plurality of first sensing electrodes disposed in a first direction are spaced apart from each other, and a second sensing electrode unit disposed in the second direction, Forming a sensing pattern portion having a second sensing electrode portion in which a plurality of second sensing electrodes are arranged in a second direction intersecting with the first direction and are connected to each other;
Wherein the active region is formed in a mesh pattern and the bezel region is formed in a band shape, and the upper end portion and the lower end portion of the first sensing electrode Forming an insulating layer having a first through hole in a portion corresponding to the end portion and a second through hole formed in a portion of the second sensing electrode spaced apart from a boundary portion between the active region and the bezel region; And
Wherein the active region includes a ground electrode that is overlaid on the insulating film, and a second electrode that is spaced apart from the ground electrode by a predetermined distance and that is electrically connected to the first sensing electrode through the first through hole, Forming a bridge electrode electrically connecting the electrodes to each other, and forming wiring electrodes electrically connected to the first and second sensing electrode units in the bezel region, respectively. 청구항 6에 있어서,
상기 금속박막은 은(Ag), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 몰리브덴(Mo) 및 이들의 합금 중에서 1 이상 선택되는 물질로 1층 이상 형성되는 터치패널 제조방법.The method of claim 6,
The metal thin film is a material selected from one or more of silver (Ag), aluminum (Al), copper (Cu), chromium (Cr), nickel (Ni), titanium (Ti), molybdenum Layer or more. 청구항 6 또는 청구항 7에 있어서,
패터닝된 상기 금속박막 상부에 굴절율이 1.4 이하 또는 1.6 이상인 투명 절연물질로 형성되는 보호막을 코팅하는 단계를 더 포함하는 터치패널 제조방법.The method according to claim 6 or 7,
And coating a protective film formed of a transparent insulating material having a refractive index of 1.4 or less or 1.6 or more on the top of the patterned metal thin film.
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