KR101439326B1 - Chuck with nozzle in cvd reactor for producing polysilicon and cvd reactor for producing polysilicon comprising the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 일측면으로서, 슬림 로드(slim rod)가 통과하는 중공부를 포함하는 캡(cap)부; 상기 캡부의 내부에 삽입되며, 상기 슬림 로드를 고정하는 슬림 로드 홀더(holder); 및 상기 슬림 로드 홀더의 하단과 결합되고, 내부에 반응가스 통로가 구비된 척 바디(chuck body)를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 노즐(nozzle) 겸용 척(chuck) 및 이를 포함하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기을 제공함으로써, 상기 반응기의 공간활용을 극대화할 수 있고, 반응가스와 슬림 로드의 접촉율을 향상시킬 수 있고, 이에 따라 저비용으로 더욱 효과적인 폴리실리콘 제조가 가능해져 전자산업의 발전 및 경제성장에 기여할 수 있다.According to one aspect of the present invention, there is provided a cap comprising: a cap portion including a hollow portion through which a slim rod passes; A slim rod holder inserted into the cap portion and fixing the slim rod; And a chuck body coupled to the lower end of the slim rod holder and having a reaction gas passage therein. The nozzle chuck of the CVD reactor for manufacturing a polysilicon and the chuck body It is possible to maximize the space utilization of the reactor and to improve the contact ratio between the reaction gas and the slim rod, thereby making it possible to manufacture more effective polysilicon at a low cost, And contribute to economic growth.

Description

폴리실리콘 제조용 ＣＶＤ 반응기의 노즐 겸용 척 및 이를 포함하는 폴리실리콘 제조용 ＣＶＤ 반응기{CHUCK WITH NOZZLE IN CVD REACTOR FOR PRODUCING POLYSILICON AND CVD REACTOR FOR PRODUCING POLYSILICON COMPRISING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a CVD reactor for producing polysilicon and a CVD reactor for producing polysilicon,

본 발명은 폴리실리콘 제조용 CVD(Chemical Vapor Deposition, 화학기상증착) 반응기의 노즐 겸용 척 및 이를 포함하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 기존에 별도의 반응가스 주입구를 통해 트리클로로실란(TCS) 등의 반응가스를 투입하여 슬림 로드(slim rod)에 실리콘을 석출하던 것과 달리, 상기 슬림 로드를 고정시키는 척에 상기 반응가스를 주입하는 노즐 기능을 동시에 구비시킨 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 노즐 겸용 척 및 이를 포함하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chucking chuck for a CVD (Chemical Vapor Deposition) reactor for producing polysilicon and a CVD reactor for manufacturing polysilicon containing the chuck, and more particularly, A CVD reactor for polysilicon production having a nozzle function simultaneously injecting a reactive gas into a chuck for fixing the slim rod, unlike the case where silicon is deposited on a slim rod by injecting a reaction gas such as silane (TCS) And a CVD reactor for manufacturing polysilicon including the same.

반도체 또는 태양전지의 제조에 있어서 폴리실리콘이 그 원료로 사용되기 때문에, 반도체 또는 태양전지의 원료로 적합한 99.9999999% 내지 99.999999999%의 고순도의 폴리실리콘에 대한 수요가 증가하고 있고, 이는 전자공업의 종합적 발전에 중요한 부분을 차지하고 있다.
Since polysilicon is used as a raw material in the manufacture of semiconductors or solar cells, there is an increasing demand for high purity polysilicon of 99.9999999% to 99.999999999%, which is suitable as a raw material for semiconductors or solar cells, Of the total population.

상기 폴리실리콘의 제조공정을 개괄적으로 살펴보면, 먼저 규사나 규석(SiO2)을 원료로 하여 전기로에서 용융시키고 탄소를 이용하여 환원시킴으로써 금속 실리콘을 얻는다. 그러나, 이때 나오는 금속 실리콘의 순도는 98% 정도로, Re, Al, Ca, Cr,Mn, B, Cu 등 여러 불순물이 포함되어 있어 이를 바로 반도체 또는 태양전지의 원료로 사용하기에는 부적합하다.
The polysilicon production process will be briefly described. First, metal silicon is obtained by melting silica or silica (SiO 2 ) as a raw material in an electric furnace and reducing it using carbon. However, the purity of the metal silicon at this time is about 98%, and it contains various impurities such as Re, Al, Ca, Cr, Mn, B, and Cu and is not suitable for use as a raw material of a semiconductor or a solar cell.

따라서, 상기 환원과정을 통해 얻어진 금속 실리콘을 염화수소 등의 반응가스와 반응시켜 트리클로로실란 등으로 기체화하고, 이를 증류과정을 통해 정제시킴으로써 상기 불순물을 제거하게 된다. 그리고나서, CVD 반응기를 이용하여 상기 불순물이 제거된 트리클로로실란으로부터 실리콘을 석출하는 과정을 거치게 된다.
Accordingly, the metal silicon obtained through the reduction process is reacted with a reaction gas such as hydrogen chloride to be gasified with trichlorosilane or the like, and purified by distillation to remove the impurities. Then, the silicon is subjected to a process of depositing silicon from the impurity-removed trichlorosilane by using a CVD reactor.

본 발명은 상기 공정 중에서도 CVD 반응기를 이용하여 트리클로로실란 등의 실란 반응가스로부터 실리콘을 석출하는 방법에 관한 것으로, 일반적으로 지멘스(Siemens) 공법이 이용된다. 지멘스 공법이란 일반적으로 종형(bell-jar type)의 반응기에 가는 슬림 로드(slim rod)를 설치하고, 상기 슬림 로드를 전극을 통해 전기 가열시킨 후 트리클로로실란 등을 주입하여 열분해시킴으로써 상기 슬림 로드에 실리콘을 석출시키는 방법을 말한다. 물론, 상기 반응기의 형상에는 제한이 없고, 슬림 로드의 가열방식도 전극을 통한 전기 가열 외에도 고온 복사나 고주파 또는 전자기파 가열방식을 이용할 수 있으며, 상기 반응기에 주입되는 반응가스도 트리클로로실란에 한정되는 것이 아니라 모노실란, 이염화실란, 사염화실란 등의 다른 가스를 사용하는 것도 가능하다.
The present invention relates to a method for depositing silicon from a silane reaction gas such as trichlorosilane using a CVD reactor in the above processes, and a Siemens method is generally used. Generally, the Siemens method is a method in which a thin slim rod is installed in a bell-jar type reactor, the slim rod is electrically heated through an electrode, and then trichlorosilane or the like is injected into the slim rod to pyrolyze the slim rod, And a method of precipitating silicon. Of course, there is no limitation to the shape of the reactor, and in addition to the electric heating through the electrode, the heating method of the slim rod can utilize a high-temperature radiation, a high frequency or an electromagnetic wave heating method, and the reaction gas injected into the reactor is limited to trichlorosilane But it is also possible to use other gases such as monosilane, dichlorosilane and tetrachlorosilane.

이하에서, 도 1을 통해 종래의 지멘스 반응기에 대해 구체적으로 살펴보면, 종래의 지멘스 반응기는 슬림 로드를 고정시키는 척(chuck); 및 트리클로로실란 등의 반응가스가 주입되는 반응가스 주입구를 포함한다. 상기 척은 슬림 로드를 고정시킴과 동시에, 그 아래 부분에 연결된 전극으로부터 전기를 통전시켜 슬림 로드를 저항체로 하여 전기 가열하게 된다. 이는 실란 반응가스를 열분해시켜 실리콘을 석출시키기 위해서는 매우 고온의 환경이 필요하기 때문에, 상기 전기 가열을 통해 슬림 로드를 고온으로 유지시키는 것이다.
Hereinafter, the conventional Siemens reactor will be described in detail with reference to FIG. 1. The conventional Siemens reactor includes a chuck for fixing the slim rod. And a reaction gas inlet through which a reaction gas such as trichlorosilane is injected. The chuck fixes the slim rod and electrically conducts electricity from the electrode connected to the lower portion, thereby electrically heating the slim rod as a resistor. This is because, in order to precipitate silicon by thermal decomposition of the silane reaction gas, a very high temperature environment is required, so that the slim rod is maintained at a high temperature through the electric heating.

또한, 상기 반응가스 주입구는 트리클로로실란 등의 실란 가스가 주입되는 곳으로서, 상기 슬림 로드가 충분히 가열된 후 실란 가스가 상기 주입구를 통해 주입되면 상기 실란 가스가 열분해되어 슬림 로드에 실리콘이 석출됨으로써, 슬림 로드가 점점 두꺼워지는 것이다.
When the silane gas is injected through the injection port after the slender rod is sufficiently heated, the silane gas is thermally decomposed and silicon is deposited on the slender rod , The slim rod becomes thicker and thicker.

또한, 도면에는 나타나지 않았지만, 최근에는 하나의 지멘스 반응기에 하나의 슬림 로드만 설치되는 것이 아니라 다수의 슬림 로드를 설치함으로써, 반응기를 효율적으로 사용함으로써 경제적으로 더 많은 실리콘을 석출시키고 있다.
Although not shown in the drawings, in recent years, a single slim rod is installed in one Siemens reactor, and a plurality of slim rods are installed. By using the reactor efficiently, more silicon is economically precipitated.

그러나, 상기 종래의 지멘스 반응기는 상기 양 척 사이의 반응기 바닥부분에 반응가스가 주입되는 반응가스 주입구를 반드시 구비하여야 하기 때문에, 상기 척 사이의 공간을 충분히 확보하여야 하고, 이에 따라 반응기의 공간을 효율적으로 사용하기 어려운 문제가 있었다. 특히, 최근과 같이 하나의 지멘스 반응기에 많은 슬림 로드를 설치할 때에는 매 슬림 로드마다 별도의 반응가스 주입구를 설치하는 것이 공간의 제약으로 인해 한계가 있었다.
However, since the conventional Siemens reactor must have a reaction gas inlet for injecting the reaction gas into the bottom portion of the reactor between the two chucks, it is necessary to secure a sufficient space between the chucks, Which is difficult to use. In particular, when a large number of slim rods are installed in one Siemens reactor as in recent years, it has been limited due to space limitation to provide a separate reaction gas inlet for each slim rod.

뿐만 아니라, 종래와 같이 척부 사이에서 반응가스가 주입될 경우 가스가 주입되는 부분과 슬림 로드 사이의 거리가 멀기 때문에 반응가스와 슬림 로드의 접촉이 원활하지 않아 실리콘의 석출이 용이하지 않는 문제도 있었다.
In addition, when the reaction gas is injected between the chuck portions as in the prior art, the distance between the portion where the gas is injected and the slender rod is too long, so that the contact between the reaction gas and the slender rod is not smooth, .

따라서, 폴리실로콘 제조용 CVD 반응기의 반응가스 주입구로 인한 공간활용의 제약 및 반응가스와 슬림 로드와의 원활하지 못한 접촉을 해결할 수 있는 기술에 대한 요구가 매우 증가하고 있는 실정이다.
Therefore, there is a great demand for a technique for solving the restriction of the space utilization due to the reaction gas inlet of the CVD reactor for manufacturing polysiloxane and the non-smooth contact between the reaction gas and the slim rod.

본 발명은 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기에 있어서 별도의 반응가스 주입구의 설치로 인한 단점을 해결하여, 반응기의 공간활용을 극대화하고, 반응가스와 슬림 로드의 접촉율을 향상시킬 수 있는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 노즐 겸용 척 및 이를 포함하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기을 제공한다.
The present invention relates to a CVD reactor for polysilicon production, which solves the disadvantages caused by the installation of a separate reaction gas inlet in a CVD reactor for producing polysilicon and which can maximize the space utilization of the reactor and improve the contact ratio between the reaction gas and the slim rod And a CVD reactor for manufacturing polysilicon including the same.

본 발명은 슬림 로드(slim rod)가 통과하는 중공부를 포함하는 캡(cap)부; 상기 캡부의 중공부에 삽입되며, 상기 슬림 로드를 고정하는 슬림 로드 홀더(holder); 및 상기 슬림 로드 홀더의 하단과 결합되고, 내부에 반응가스 통로가 구비된 척 바디(chuck body)를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 노즐 겸용 척을 제공한다.
The present invention provides a cap comprising: a cap portion including a hollow portion through which a slim rod passes; A slim rod holder inserted into the hollow portion of the cap portion and fixing the slim rod; And a chuck body coupled to a lower end of the slim rod holder and having a reaction gas passage therein.

이때, 상기 슬림 로드 홀더는 상기 홀더의 외주면을 따라 하단으로부터 상단으로 연결되는 홈이 형성된 것이 바람직하다.
At this time, it is preferable that the slim rod holder has a groove connected from the lower end to the upper end along the outer circumferential surface of the holder.

또한, 상기 슬림 로드 홀더는 상기 슬림 로드를 감싸는 형태로 2개 이상의 부품(part)이 결합된 것이 보다 바람직하다.
In addition, it is preferable that the slim rod holder includes two or more parts coupled to each other so as to surround the slim rod.

또한, 상기 캡부는 상기 캡부의 상면에 상기 반응가스가 통과하는 적어도 하나의 유입홀이 구비된 것이 바람직하다.
In addition, the cap unit may include at least one inlet hole through which the reaction gas passes, on an upper surface of the cap unit.

한편, 본 발명은 슬림 로드(slim rod)가 통과하는 중공부를 포함하는 캡(cap)부; 상기 캡부의 중공부에 삽입되며, 상기 슬림 로드를 고정하는 슬림 로드 홀더(holder); 및 상기 슬림 로드 홀더의 하단과 결합되고, 내부에 반응가스 통로가 구비된 척 바디(chuck body)를 포함하는 노즐 겸용 척을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기를 제공한다.
According to another aspect of the present invention, there is provided a cap comprising: a cap portion including a hollow portion through which a slim rod passes; A slim rod holder inserted into the hollow portion of the cap portion and fixing the slim rod; And a chuck body coupled to a lower end of the slim rod holder and having a reaction gas passage therein. The CVD reactor for producing a polysilicon is characterized in that the chuck body includes a chuck body.

이때, 상기 슬림 로드 홀더는 상기 홀더의 외주면을 따라 하단으로부터 상단으로 연결되는 홈이 형성된 것이 바람직하다.
At this time, it is preferable that the slim rod holder has a groove connected from the lower end to the upper end along the outer circumferential surface of the holder.

또한, 상기 슬림 로드 홀더는 상기 슬림 로드를 감싸는 형태로 2개 이상의 부품(part)이 결합된 것이 보다 바람직하다.
In addition, it is preferable that the slim rod holder includes two or more parts coupled to each other so as to surround the slim rod.

또한, 상기 캡부는 상기 캡부의 상면에 상기 반응가스가 통과하는 적어도 하나의 유입홀이 구비된 것이 바람직하다.
In addition, the cap unit may include at least one inlet hole through which the reaction gas passes, on an upper surface of the cap unit.

본 발명의 일측면에 따르면, 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기에 있어서 별도의 반응가스 주입구를 생략시킴으로써, 상기 반응기의 공간활용을 극대화할 수 있고, 반응가스와 슬림 로드의 접촉율을 높일 수 있고, 이에 따라 저비용으로 더욱 효과적인 폴리실리콘 제조가 가능해져 전자산업의 발전 및 경제성장에 기여할 수 있다.
According to an aspect of the present invention, by omitting a separate reaction gas inlet in the CVD reactor for producing polysilicon, it is possible to maximize the space utilization of the reactor, to increase the contact ratio between the reaction gas and the slim rod, It is possible to manufacture more effective polysilicon at a low cost, thereby contributing to the development of the electronic industry and economic growth.

도 1은 종래의 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 일례를 나타낸 개략도이다.
도 2는 종래의 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 척의 단면도를 일례로 나타낸 개략도이다.
도 3은 본 발명의 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 척이 조립되기 전의 모습을 일례로 나타낸 개략도이다.
도 4는 본 발명의 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 척의 단면도를 일례로 나타낸 개략도이다.1 is a schematic view showing an example of a conventional CVD reactor for producing polysilicon.
2 is a schematic view showing a cross-sectional view of a chuck of a conventional CVD reactor for producing polysilicon as an example.
3 is a schematic view showing an example of a CVD reactor for producing polysilicon of the present invention before a chuck is assembled.
4 is a schematic view showing, by way of example, a cross-sectional view of a chuck of a CVD reactor for producing polysilicon of the present invention.

먼저, 도 2를 통해 종래의 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 척을 개략적으로 살펴보면, 종래 반응기의 척은 슬림 로드(3)를 고정하는 슬림 로드 홀더(2)와 상기 슬림 로드 홀더의 하단과 결합되고, 전극(4)이 설치되어 있는 척 바디(chuck body)(1)를 포함하는 형태로 구성되고, 상기 척 바디(1)와 상기 슬림 로드 홀더(2)는 분리형이 아니라 일체형으로 사용되어 왔다. 상기 전극(4)은 슬림 로드(3)를 가열하기 위한 것으로, 트리클로로실란 등의 반응가스는 상기 가열된 고온의 슬림 로드(3)에서 열분해됨으로써 실리콘을 석출하는 것이다.
2, a conventional chuck of a CVD reactor for producing polysilicon includes a slim rod holder 2 for fixing the slim rod 3 and a lower end of the slim rod holder, The chuck body 1 and the slim rod holder 2 are not separated but have been used as an integral body. The electrode 4 is for heating the slim rod 3, and the reaction gas such as trichlorosilane is pyrolyzed in the heated high-temperature slim rod 3 to precipitate silicon.

이와 같이 종래의 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기는 양 척 사이의 반응기 바닥부에 반응가스 주입구가 별도로 설치되어 있기 때문에, 상기 반응기의 척은 슬림 로드를 고정하고 가열하기 위한 수단으로만 사용되었고, 이러한 종래의 CVD 반응기는 상기 반응가스 주입구의 설치로 인해 반응기 공간 활용 및 반응가스와 슬림 로드의 접촉율이 좋지 못한 문제가 있었던 것이다.
In the conventional CVD reactor for producing polysilicon, since the reaction gas inlet is separately provided at the bottom of the reactor between the two chucks, the chuck of the reactor is used only as means for fixing and heating the slender rod. In the CVD reactor, there was a problem that the contact ratio between the reaction space and the reaction gas and the slim rod was poor due to the installation of the reaction gas inlet.

이에 본 발명자들은 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 공간 활용을 극대화하기 위해서는 반응가스 주입구가 제거되어야 하고, 반응가스와 슬림 로드의 접촉을 원활하게 하기 위해서는 슬림 로드가 고정되는 위치인 척에서 반응가스가 주입되어야 한다는 점에 착안하여, 상기 반응가스 주입구를 생략하는 대신 척(chuck)에 반응가스를 주입하는 노즐(nozzle) 기능을 동시에 구비하도록 함으로써 CVD 반응기의 공간 활용도를 높이고, 동시에 반응가스와 슬림 로드의 접촉율을 향상시키는 발명을 하기에 이른 것이다. Therefore, in order to maximize the space utilization of the CVD reactor for producing polysilicon, the present inventors have to remove the reaction gas inlet, and in order to smoothly contact the reaction gas and the slim rod, the reaction gas is injected from the chuck, It is possible to increase the space utilization of the CVD reactor by simultaneously providing a nozzle function for injecting the reaction gas into the chuck instead of omitting the reactive gas injection port, The present invention has been completed.

즉, 본 발명은 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 척을 개량시킨 것으로서, 이하에서, 도 2 및 3을 통해 본 발명의 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 척을 상세히 설명한다.
That is, the present invention is an improved chuck of a CVD reactor for producing polysilicon. Hereinafter, a chuck of a CVD reactor for producing polysilicon of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 2 and 3.

본 발명은 슬림 로드(slim rod)(3)가 통과하는 중공부를 포함하는 캡(cap)부(5); 상기 캡부(5)의 중공부에 삽입되며, 상기 슬림 로드(3)를 고정하는 슬림 로드 홀더(holder)(2); 및 상기 슬림 로드 홀더(2)의 하단과 결합되고, 내부에 반응가스 통로가 설치된 척 바디(chuck body)(1)를 포함하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 노즐(nozzle) 겸용 척(chuck)을 제공한다.
A cap (5) comprising a hollow portion through which a slim rod (3) passes; A slender rod holder 2 inserted into the hollow portion of the cap portion 5 and fixing the slim rod 3; And a chuck body (1) coupled to the lower end of the slim rod holder (2) and provided with a reaction gas passage therein, a nozzle chuck for a polysilicon CVD reactor do.

상기 척 바디(1)는 내부에 트리클로로실란 등의 반응가스가 통과하는 반응가스 통로(6)를 구비하는데, 이는 종래에 양 척 사이의 반응기 바닥부에 설치되었던 반응가스 주입구를 생략하는 대신 척에 반응가스가 주입되는 노즐을 동시에 구비하기 위한 것으로서, 반응가스가 척으로부터 반응기 내부로 공급되기 위해서는 상기 척 바디(1)에 반응가스가 통과할 수 있는 반응가스 통로(6)가 설치되는 것이다. 또한, 상기 척 바디(1)는 슬림 로드(3)에 통전시키는 역할을 하기 때문에, 종래와 마찬가지로 전극이 연결되어 전기 가열을 통해 슬림 로드를 고온의 상태로 유지시켜 준다.
The chuck body 1 is provided with a reaction gas passage 6 through which a reaction gas such as trichlorosilane passes. This is because the reactive gas injection port, which is provided at the bottom of the reactor between the two chucks, And a reaction gas passage 6 through which the reaction gas can pass is provided in the chuck body 1 in order to supply the reaction gas from the chuck to the inside of the reactor. Also, since the chuck body 1 serves to energize the slider rod 3, the electrodes are connected to maintain the slider rod in a high-temperature state through electric heating.

또한, 상기 슬림 로드 홀더(2)는 도 3에서 보는 바와 같이, 캡부(5)의 중공부에 삽입되며, 슬림 로드(3)를 고정시켜 주는 역할을 하는 것으로서, 상기 척 바디(1)와 일체형으로 사용할 수도 있고, 분리형으로 사용할 수도 있다. 특히, 본 발명의 CVD 반응기의 척은 반응가스가 주입될 수 있는 경로를 형성하는 것이 매우 중요한데, 상기 척 바디(1)의 반응가스 통로(6)를 통과하여 올라온 반응가스를 반응기 내부로 주입시키는 방법은 매우 다양할 수 있다. 상기 슬림 로드 홀더(2)에 특별한 가공을 하지 않고, 상기 캡부(5)에 유입홀을 설치하거나 상기 캡부(5)의 중공부의 틈새로 상기 반응가스가 반응기 내부로 주입될 수도 있고, 상기 척 바디(1)의 반응가스 통로의 상단에 관을 연결하여 상기 관을 통해 반응기 내부로 주입시키는 것도 가능하다.
3, the slim rod holder 2 is inserted into the hollow portion of the cap portion 5 and serves to fix the slim rod 3. The slim rod holder 2 is integrally formed with the chuck body 1, Or as a separate type. Particularly, it is very important for the chuck of the CVD reactor of the present invention to form a path through which the reaction gas can be injected. The reaction gas, which has passed through the reaction gas passage 6 of the chuck body 1, The methods can be very diverse. The reaction gas may be injected into the reactor through a gap formed in the hollow portion of the cap portion 5 by providing an inflow hole in the cap portion 5 without special processing in the slim rod holder 2, It is also possible to connect a tube to the upper end of the reaction gas passage of the reactor 1 and inject it into the reactor through the tube.

보다 바람직한 반응가스 주입의 형태로서는, 상기 슬림 로드 홀더(2)에 외주면을 따라 하단에서 상단으로 이어지는 홈(7)을 형성할 수 있는데, 상기 슬림 로드 홀더(2)의 홈(7)은 상기 척 바디(1)의 반응가스 통로(6)의 상단에 형성하는 것이 바람직하다. 이는 반응가스가 반응가스 통로(6)로 통과하여 슬림 로드 홀더(2)의 하단에 도달하면 상기 슬림 로드 홀더(2)의 외주면을 따라 슬림 로드 홀더(2)의 상단까지 용이하게 타고 올라갈 수 있도록 한 것이다. 상기 홈(7)의 형태에는 제한이 없으나, 반응가스의 이동이 원활한 형태로 제작되는 것이 바람직하다.
The grooves 7 of the slim rod holder 2 may be formed in the form of grooves 7 extending from the lower end to the upper end along the outer circumferential surface of the slim rod holder 2, It is preferable that it is formed at the upper end of the reaction gas passage 6 of the body 1. This is because when the reaction gas passes through the reaction gas passage 6 and reaches the lower end of the slim rod holder 2, the reaction gas can easily ride up to the upper end of the slim rod holder 2 along the outer peripheral surface of the slim rod holder 2 It is. The shape of the groove 7 is not limited, but it is preferable that the reaction gas is smoothly formed.

특히, 상기 슬림 로드 홀더(2)는 상기 슬림 로드(3)를 감싸는 형태로 2개 이상의 부품(part)이 결합된 것이 보다 바람직한데, 이는 상기 슬림 로드 홀더(2)에 홈(7)을 형성하는 바람직한 하나의 형태를 제시한 것이다. 즉, 슬림 로드 홀더(2)는 슬림 로드(3)를 고정하기 위한 것으로, 하나의 부품(part)으로 제작되는 것보다 2개 이상의 부품(part)으로 슬림 로드(3)를 감싸는 형태로 제작되는 것이 슬림 로드(3)의 고정에 더욱 용이할 수 있는데, 이와 같이 슬림 로드 홀더(2)가 2개 이상의 부품으로 결합될 경우 그 결합 부분에 홈(8)이 형성될 수밖에 없고, 이렇게 형성된 홈(8)은 상기 척 바디(1)의 반응가스 통로(6)를 통과하여 나온 반응가스가 슬림 로드 홀더(2)의 외주면을 따라 반응기 내부로 유입되도록 하는 상기 홈(7)과 같은 역할을 할 수 있다.
More preferably, the slim rod holder 2 includes two or more parts coupled to the slim rod 3 so as to surround the slim rod 3. This forms a groove 7 in the slim rod holder 2 The present invention is not limited thereto. That is, the slim rod holder 2 is for fixing the slim rod 3 and is manufactured in such a form that the slim rod 3 is wrapped with two or more parts rather than a single part When the slim rod holder 2 is coupled with two or more parts in this way, the groove 8 can be formed at the joining portion of the slim rod holder 2, 8 may serve as the groove 7 for allowing the reaction gas passing through the reaction gas passage 6 of the chuck body 1 to flow into the reactor along the outer circumferential surface of the slender rod holder 2 have.

따라서, 슬림 로드 홀더(2)를 2개 이상의 부품(part)으로 결합시킴으로써, 슬림 로드 홀더(2)의 제작의 용이성 및 활용에 유리하도록 함과 동시에, 슬림 로드 홀더(2)의 외주면을 인위적으로 가공하여 홈(7)을 생성시키지 않고도 자연적으로 슬림 로드 홀더(2)의 외주면에 하단에서 상단으로 이어지는 홈(8)을 형성시킬 수 있는 것이다. 또한, 주입되는 반응가스의 양을 증가시키기 위해, 도 2와 같이 슬림 로드 홀더(2)를 2개 이상의 부품으로 결합하고, 또한 동시에 슬림 로드 홀더(2)의 외주면에 홈(7)을 별도로 형성시킴으로써, 반응가스가 타고 올라갈 수 있는 홈의 개수를 필요에 따라 늘릴 수도 있다.
Therefore, by joining the slim rod holder 2 with two or more parts, the slim rod holder 2 can be easily manufactured and utilized, and the outer circumferential surface of the slim rod holder 2 can be artificially It is possible to naturally form the groove 8 extending from the lower end to the upper end on the outer peripheral surface of the slim rod holder 2 without forming the groove 7 by processing. 2, the slim rod holder 2 is joined with two or more parts and at the same time, a groove 7 is formed separately on the outer peripheral surface of the slim rod holder 2 to increase the amount of reactive gas to be injected The number of grooves on which the reaction gas rides can be increased as necessary.

한편, 상기 캡부(5)는 상기 캡부(5)의 상면에 상기 반응가스가 통과하는 적어도 하나의 유입홀(4)이 구비된 것이 바람직하다. 상기 유입홀(4)은 상기 척 바디(1)의 반응가스 통로(6)로부터 유출된 반응가스가 상기 캡부(5)를 원활하게 통과하여 반응기 내부로 유입될 수 있도록 하기 위한 것이다. 상기 유입홀(4)의 개수나 형태에는 제한이 없고, 바람직한 일측면으로서, 도 2와 같이 상기 캡부(5)의 상면에 있어서 상기 슬림 로드 홀더(2)의 홈(7, 8)과 접하는 부분에 유입홀(4)을 설치함으로써, 상기 홈(7, 8)을 타고 올라온 반응가스가 더욱 용이하게 반응기 내부로 유입되도록 할 수 있고, 또다른 일측면으로서, 상기 캡부(5) 내부에서 관을 통하여 상기 반응가스를 상기 캡부(5) 밖으로 이동하게 할 수도 있다.
It is preferable that the cap portion 5 has at least one inlet hole 4 through which the reaction gas passes, on the upper surface of the cap portion 5. The inlet hole 4 allows the reaction gas flowing out from the reaction gas passage 6 of the chuck body 1 to flow smoothly through the cap portion 5 and into the reactor. There is no limitation on the number and the shape of the inflow holes 4 and as a preferable aspect there is provided a portion of the upper surface of the cap portion 5 contacting the grooves 7 and 8 of the slim rod holder 2 It is possible to allow the reaction gas raised on the grooves 7 and 8 to flow into the reactor more easily by providing the inlet hole 4 in the cap portion 5. In another aspect, So that the reaction gas can be moved out of the cap portion 5.

또한, 본 발명의 상기 노즐(nozzle) 겸용 척(chuck)을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기를 제공한다. 즉, 본 발명은 상기 척을 통해 슬림 로드를 고정하는 척에 반응가스를 주입하는 노즐 기능을 동시에 구비함으로써, 별도의 반응가스 주입구를 설치하지 않아도 됨에 따라 반응기의 공간 활용을 극대화할 수 있고, 이에 따라 상기 반응기 크기 또는 상기 반응기에 설치되는 슬림 로드의 개수를 필요에 따라 다양하게 제어할 수 있으며, 슬림 로드가 고정되는 부분으로부터 반응가스가 주입되므로, 반응가스와 슬림 로드의 접촉이 더욱 용이해져 실리콘 석출량의 증대에도 기여할 수 있게 한 것이다.
Further, there is provided a CVD reactor for producing polysilicon, which comprises the nozzle-chuck of the present invention. That is, since the present invention simultaneously includes a nozzle function for injecting the reactive gas into the chuck for fixing the slim rod through the chuck, it is possible to maximize the utilization of the space of the reactor, Accordingly, it is possible to control the size of the reactor or the number of the slim rods installed in the reactor as variously as necessary. Since the reaction gas is injected from the portion where the slim rod is fixed, the contact between the reaction gas and the slim rod becomes easier, Thereby contributing to an increase in the precipitation amount.

이하, 실시예를 통해 본 발명을 상세히 설명하지만, 이는 본 발명의 보다 완전한 설명을 위한 것이고, 하기 개별실시예에 의해 본 발명의 권리범위가 제한되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples, which are intended to be more fully understood of the present invention, and the scope of the present invention is not limited by the following specific embodiments.

1: 척 바디(chuck body) 2: 슬림 로드 홀더(holder)
3: 슬림 로드 4: 전극
5: 캡(cap)부 6: 반응가스 통로
7, 8: 홈 9: 유입홀(hole)1: chuck body 2: slender rod holder
3: Slim rod 4: Electrode
5: cap portion 6: reaction gas passage
7, 8: groove 9: inlet hole

Claims (8)

슬림 로드(slim rod)가 통과하는 중공부를 포함하는 캡(cap)부; 상기 캡부의 중공부에 삽입되며, 상기 슬림 로드를 고정하는 슬림 로드 홀더(holder); 및 상기 슬림 로드 홀더의 하단과 결합되고, 내부에 반응가스 통로가 구비된 척 바디(chuck body)를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 노즐 겸용 척.A cap portion including a hollow portion through which the slim rod passes; A slim rod holder inserted into the hollow portion of the cap portion and fixing the slim rod; And a chuck body coupled to a lower end of the slim rod holder, the reaction chamber having a reaction gas passage therein. 청구항 1에 있어서,
상기 슬림 로드 홀더는 상기 홀더의 외주면을 따라 하단으로부터 상단으로 연결되는 홈이 형성된 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 노즐 겸용 척.The method according to claim 1,
Wherein the slim rod holder has grooves formed on the outer circumferential surface of the holder for connecting the lower end to the upper end of the holder. 청구항 2에 있어서,
상기 슬림 로드 홀더는 상기 슬림 로드를 감싸는 형태로 복수개의 부품(part)이 결합된 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 노즐 겸용 척.The method of claim 2,
Wherein the slim rod holder includes a plurality of parts coupled to each other in a manner to surround the slim rod. 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 캡부는 상기 캡부의 상면에 상기 반응가스가 통과하는 유입홀이 구비된 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 노즐 겸용 척.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the cap unit has an inlet hole through which the reaction gas passes, on an upper surface of the cap unit. 슬림 로드(slim rod)가 통과하는 중공부를 포함하는 캡(cap)부; 상기 캡부의 중공부에 삽입되며, 상기 슬림 로드를 고정하는 슬림 로드 홀더(holder); 및 상기 슬림 로드 홀더의 하단과 결합되고, 내부에 반응가스 통로가 구비된 척 바디(chuck body)를 포함하는 노즐 겸용 척을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기.A cap portion including a hollow portion through which the slim rod passes; A slim rod holder inserted into the hollow portion of the cap portion and fixing the slim rod; And a chuck body coupled to a lower end of the slim rod holder, the chuck body having a reaction gas passage therein. 청구항 5에 있어서,
상기 슬림 로드 홀더는 상기 홀더의 외주면을 따라 하단으로부터 상단으로 연결되는 홈이 형성된 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기.The method of claim 5,
Wherein the slim rod holder is formed with a groove connected to the upper end of the slider rod along the outer circumferential surface of the holder. 청구항 6에 있어서,
상기 슬림 로드 홀더는 상기 슬림 로드를 감싸는 형태로 복수개의 부품(part)이 결합된 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기.The method of claim 6,
Wherein the slim rod holder comprises a plurality of parts coupled to each other so as to surround the slim rod. 청구항 5 내지 7 중 어느 한 항에 있어서,
상기 캡부는 상기 캡부의 상면에 상기 반응가스가 통과하는 유입홀이 구비된 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기.The method according to any one of claims 5 to 7,
Wherein the cap unit includes an inlet hole through which the reaction gas passes, on an upper surface of the cap unit.
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