KR101407564B1 - 실장기판 및 전자장치 - Google Patents
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Abstract
전자소자를 실장하는 실장영역과, 전극이 형성되고 상기 실장영역을 둘러싸도록 형성된 전극형성영역, 및 상기 실장영역과 상기 전극형성영역과의 경계부분에 형성되어, 상기 전자소자와 실장기판 사이에 충전되는 충전재가 상기 전극형성영역으로 유출되는 것을 방지하는 댐부재를 포함하고, 상기 댐부재의 외주면에는 상기 전극과 대향하는 오목부를 형성하고, 상기 오목부의 내부에 상기 전극의 일부를 형성한 것을 특징으로 하는 실장기판.
반도체 패키지, 실장기판, 전자장치, 댐부재(dam member)
Description
본 발명은 실장기판 및 전자장치에 관한 것으로, 특히, 언더필 재(underfill material)의 흐름을 억제하는 댐(dam)을 갖는 실장기판 및 전자장치에 관한 것이다.
최근, 반도체칩 등의 전자소자를 실장기판에 설치하는 방법으로서, 플립칩 실장(flip-chip mounting)이 주로 사용된다. 플립칩 실장은 전자소자의 실장면에 범프를 형성한 후에, 실장기판에 형성된 전극에 이 전자소자를 페이스다운(face-down)으로 접합하는 방법이다.
이러한 플립칩 실장에서는, 전자소자 및 실장기판이 범프와 전자소자 사이의 접합력에 의해 접합된다. 따라서, 전자소자와 실장기판 사이에 응력이 발생하면, 이 응력은 범프와 전극 사이의 접합 위치에 모두 인가된다. 따라서, 이러한 플립칩 실장에서는, 전자소자와 실장기판 사이에 보통 언더필수지(주로 에폭시수지를 사용)를 충전해서 응력완화를 도모하고 있다.
한편, 반도체장치 등의 전자장치에서는 고밀도의 패키징이 기대되고 있다. 이러한 고밀도 패키징에 대응한 패키지로서는, 시스템-인-패키지(SiP : system in package)가 주목받고 있다. 이 SiP로서 여러가지 구조가 제안되고 있다. 그 구조의 한 유형으로서 단일 반도체칩을 패키징한 패키지(반도체장치)와 복수의 반도체칩을 적층한 패키지를 적층시킴으로써 SiP 구조를 실현한 패키지-온-패키지(PoP : package on package)가 있다.
이러한 PoP 구조를 갖는 SiP의 경우, 보통 하층이 되는 패키지와 상층이 되는 패키지는 땜납볼(solder ball)을 이용하여 상호 접합된다. 따라서, 하층이 되는 패키지에서는, 반도체칩이 설치되는 실장기판의 상면에 땜납볼과 접합하는 전극을 형성해야만 한다. 즉, 하층이 되는 패키지를 구성하는 실장기판의 상면에는, 반도체칩이 설치되는 칩 실장영역과 전극이 형성되는 전극형성영역이 형성된다. 보통, 전극은 반도체칩을 둘러싸도록 배치되기 때문에, 전극형성영역은 칩 실장영역을 둘러싸도록 배치된다.
여기에서, 하층이 되는 패키지가 반도체칩을 플립칩(flip-chip) 실장한 구조일 경우, 상술한 바와 같이, 반도체칩과 실장기판 사이에 언더필수지를 충전해서 응력완화를 도모해야만 한다. 그러나, 언더필수지는 충전 작업 동안 유동성을 갖기 때문에 이러한 언더필수지가 칩 실장영역으로부터 전극형성영역으로 유출될 우려가 있다.
이런 이유로, 종래부터 칩 실장영역과 전극형성영역 사이에는, 언더필수지가 칩 실장영역으로부터 전극형성영역으로 유출되는 것을 방지하는 댐부재(dam member)를 설치했다(일본국 공개특허공보 제2005-276879호).
도 4(a) 및 4(b)는 종래의 댐부재를 갖는 실장기판의 일례를 나타내고 있다. 도 4(a)는 실장기판(100)의 댐부재(105) 형성 위치 및 그 근방을 확대해서 나타낸 도면이고, 도 4(b)는 그 단면도이다.
댐부재(105)는, 상술한 바와 같이, 전극(101)이 형성된 전극형성영역(103)과 반도체칩(미도시)이 설치되는 칩 실장영역(102) 사이에 형성된다. 전극형성영역(103)에는 솔더레지스트(104)에 형성된 개구로부터 전극(101)이 노출되어 있다. 또한, 반도체칩이 설치된 후에는, 언더필수지가 칩 실장영역(102)에 충전된다.
종래 기술에 따른 댐부재(105)는 프레임 형상(frame shape)과 같이 형성되었다. 또한, 최근보다 고밀도의 패키징이 요구되지 않던 종래에는, 댐부재(105)와 전극(101)을 비교적 거리를 두고서 배치했다.
그러나, 최근에는 고기능화에 따라 반도체칩의 사이즈가 커지는 경향이 있고, 그 단자수도 증가하는 경향이 있다. 한편, 이 반도체칩을 탑재하는 실장기판은 이 실장기판을 탑재하는 전자장치의 소형화 요구를 충족하기 위해 더욱 소면적화될 것이 요구되고 있다.
따라서, 실장기판 상에 형성되는 각각의 칩 실장영역(102)과 전극형성영역(103)에서는, 반도체칩의 사이즈 증가에 대응해서 칩 실장영역(102)을 증대할 필요가 있고, 또한 전극수의 증가에 대응하여 전극형성영역(103)도 증대될 필요가 있다. 또한, 실장기판(100)은, 상술한 바와 같이, 전체 면적을 감소시킬 필요가 있다.
종래의 실장기판(100)은 상기 각 요구를 동시에 충족할 수 없다는 문제점이 있었다. 또한, 이러한 요구를 충족하는 수단으로서 댐부재(105)의 폭을 좁게 하는 것이 고려될 수는 있다. 그러나, 댐부재(105)의 폭을 좁게 했을 경우에는, 기판 본체(100a)에 대한 댐부재(105)의 접합면적이 좁아지고, 이에 따라 기계적강도가 저하된다. 이 때문에, 언더필수지의 충전시에 댐부재(105)가 손상되어서, 언더필수지가 전극형성영역(103)으로 유출되는 것을 유효하게 방지할 수 없다는 우려가 있다.
본 발명은 상기의 문제점을 감안하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 댐부재(dam member)의 강도를 유지하면서, 전극형성영역 및 실장영역의 면적 증대를 달성할 수 있는 실장기판 및 전자장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 제 1 관점에 따른, 실장기판은,
전자소자를 실장하는 실장영역과,
전극이 형성되고 상기 실장영역을 둘러싸도록 형성된 전극형성영역, 및
상기 실장영역과 상기 전극형성영역과의 경계부분에 형성되어, 상기 전자소자와 실장기판 사이에 충전되는 충전재가 상기 전극형성영역으로 유출되는 것을 방지하는 댐부재를 포함하고,
상기 댐부재의 외주면에는 상기 전극과 대향하는 오목부를 형성하고, 상기 오목부의 내부에 상기 전극의 일부를 형성한 것을 특징으로 한다.
본 발명의 제 2 관점에 따르면, 상기 오목부가 형성된 위치 이외의 위치에서의 댐부재의 제 1 폭치수가, 상기 오목부가 형성된 위치에서의 댐부재의 제 2 폭치 수 보다 더 클 수 있다.
본 발명의 제 3 관점에 따르면, 상기 실장기판의 기판 본체에는 솔더레지스트가 형성되고, 상기 댐부재는 상기 솔더레지스트와 동일 재료로 형성될 수 있다.
본 발명의 제 4 관점에 따르면, 상기 오목부와 상기 전극과의 대향 범위에서는, 상기 오목부와 상기 전극 사이의 간격(clearance)이 동일하도록 구성될 수 있다.
본 발명의 제 5 관점에 따르면, 상기 실장영역과 대향하는, 상기 댐부재의 내주면은 직선 형상으로 형성될 수 있다.
본 발명의 제 6 관점에 따르면, 상기 충전재는 언더필수지(underfill resin)일 수 있다.
본 발명의 제 7 관점에 따른, 전자장치는,
전자소자, 실장기판, 및 상기 전자소자와 상기 실장기판 사이에 충전되는 충전재를 포함하는 전자장치로서, 상기 실장기판은,
전자소자를 실장하는 실장영역,
전극이 형성되고 상기 실장영역을 둘러싸도록 형성된 전극형성영역, 및
상기 실장영역과 상기 전극형성영역과의 경계부분에 형성되어, 상기 충전재가 상기 전극형성영역으로 유출되는 것을 방지하는 댐부재를 포함하고,
상기 댐부재의 외주면에는 상기 전극과 대향하는 오목부를 형성하고, 상기 오목부의 내부에 상기 전극의 일부를 형성한 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 댐부재의 외주면 상에 전극과 대향하는 오목부를 형성하고, 이 오목부의 내부에 상기 전극의 일부를 형성한다. 따라서, 댐부재의 일부는 전극형성영역으로 밀고 들어간 구성이 되고, 이에 따라 실장영역의 면적을 증대시킬 수 있다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전자장치인 시스템-인-패키지(10)를 나타낸 도면이다. 도 1에 나타낸 시스템-인-패키지(10)는 크게, 하층 패키지(11)와 상층 패키지(12)로 구성된다.
하층 패키지(11)는 하층 실장기판(14), 땜납볼(16), 하부전극(17), 상부전극(18), 및 반도체칩(20) 등을 포함한다. 하층 실장기판(14)은 다층배선기판이며, 절연성수지로 이루어진 기판 본체(14a)의 상하면에 도금법 등을 이용하여 배선층(예를 들면, Cu배선층), 비아(via) 등이 형성되어 있다.
기판 본체(14a)의 최상층에는 상부전극(18)이 형성되고, 최하층에는 하부전극(17)이 형성된다. 또한, 하부전극(17)과 상부전극(18)은, 내부배선(19)과 비아(29)를 사용하여 접속되어 있다.
또한, 하층 실장기판(14)의 하면에는 하부 솔더레지스트(30)가 형성되고, 하층 실장기판(14)의 상면에는 상부 솔더레지스트(24)가 형성되어 있다. 상부 솔더레지스트(24)에는 상부전극(18)과 대향하는 위치에 개구부가 형성되어 있고, 하부 솔더레지스트(30)에는 하부전극(17)이 형성된 위치에 개구부가 형성되어 있다. 따라 서, 각 전극(17, 18)은 이 개구부를 통해 솔더레지스트(24, 30)로부터 노출하도록 구성된다.
또한, 하층 실장기판(14)의 하면에는 시스템-인-패키지(10)의 외부접속단자로서 기능하는 땜납볼(16)이 형성되어 있다. 땜납볼(16)은 하부 솔더레지스트(30)에 형성된 개구부로부터 노출된 하부전극(17)에 형성되어 있다.
하층 실장기판(14)의 상면에 형성된 상부전극(18)은, 후술하는 바와 같이, 적층용 땜납볼(21)을 접합하기 위한 전극이다. 상부전극(18)은 반도체칩이 설치되는 영역(이하, '칩 실장영역(27)'이라 칭함)을 둘러싸도록 형성되어 있다. 여기서, 하층 실장기판(14) 상에 상부전극(18)이 형성된 영역을 이하 전극형성영역(28)이라고 칭한다.
반도체칩(20)은 예를 들면, 논리 IC(logic IC)이며, 하층 실장기판(14)에 플립칩 접합으로 설치되어 있다. 구체적으로, 반도체칩(20)에는 범프(22)가 설치되고, 이 범프(22)를 하층 실장기판(14)의 상면에 형성된 상부 배선(19)에 플립칩 접합한다. 이에 따라, 반도체칩(20)은 하층 실장기판(14)에 설치된다. 또한, 반도체칩(20)과 하층 실장기판(14) 사이에는, 접합 신뢰성을 높이기 위해서 언더필수지(23)가 설치되어 있다. 이 언더필수지(23)는 칩 실장영역(27) 내에 충전된다.
또한, 하층 실장기판(14)의 상면에는 댐부재(50)가 형성되어 있다. 댐부재(50)는 언더필수지(23)가 칩 실장영역(27)으로부터 전극형성영역(28)으로 유출되는 것을 방지한다. 설명의 편의상, 댐부재(50)는 후술하도록 한다.
한편, 상층 패키지(12)는 상층 실장기판(15), 반도체칩(40, 41), 하부전 극(37), 상부전극(38), 및 밀봉수지(49) 등을 포함한다. 상층 실장기판(15)은 상술한 하층 실장기판(14)과 유사한 다층배선기판이다. 상층 실장기판(15)의 상면에는 상부전극(38)이 형성되고, 하면에는 하부전극(37)이 형성된다. 각 전극(37, 38)은 내부배선(39) 등에 의해 상호 접속되어 있다.
또한, 상층 실장기판(15)의 하면에는 하부 솔더레지스트(60)가 형성되고, 그 상면에는 상부 솔더레지스트(44)가 형성된다. 상부 솔더레지스트(44)에는 상부전극(38)과 대향하는 각 위치에 개구부가 형성되어 있다. 하부 솔더레지스트(60)에는 하부전극(37)이 형성된 각 위치에 개구부가 형성되어 있다. 따라서, 각 전극(37, 38)은 개구부를 통해 각 솔더레지스트(44, 60)로부터 노출되도록 구성된다.
반도체칩(40, 41)은 예를 들면, 메모리 IC 이며, 상층 실장기판(15) 상에 스페이서(48)를 경유하여 적층되어 있다. 또한, 각 반도체칩(40, 41) 및 상층 실장기판(15)에 형성된 상부전극(38)은 와이어(45, 46)에 의해 전기적으로 접속된다.
밀봉수지(49)는 예를 들면, 에폭시 등의 절연성 수지이고, 반도체칩(40, 41) 및 와이어(45, 46)를 밀봉하도록 형성된다. 이 밀봉수지(49)는 예를 들면, 전사 성형법(transfer molding)을 이용하여 형성할 수 있다.
상술한 하층 패키지(11)와 상층 패키지(12)는 적층용 땜납볼(21)을 통해 상호 접합되어 시스템-인-패키지(10)를 구성한다. 적층용 땜납볼(21)은 하층 실장기판(14)의 상부전극(18)에 접합되고, 또한 상층 실장기판(15)의 하부전극(37)에 접합된다. 이에 따라, 하층 패키지(11)와 상층 패키지(12)는 전기적으로 서로 접속되고, 상층 패키지(12)는 하층 패키지(11) 위에 적층되도록 지지된다.
계속해서, 주로 도 3(a) 및 3(b)를 참조하여, 본 발명의 요부를 구성하는 댐부재(50)를 설명한다. 댐부재(50)는 하층 실장기판(14)에 설치된다. 여기서, 하층 실장기판(14)에는 반도체칩(20)이 플립칩 접합되어 있고, 하층 실장기판(14)의 상면에는 적층용 땜납볼(21)이 접합되는 상부전극(18)이 형성되어 있다.
도 3(a)는 하층 실장기판(14) 상의 댐부재(50) 형성 위치와 그 근방을 나타낸 도면이고, 도 3(b)는 그 단면도이다. 다음, 도 2를 참조하여 도 3(a) 및 3(b)에 나타낸 영역을 이하 설명한다.
도 2는 상층 패키지(12)가 적층되기 전의 하층 실장기판(14)을 나타낸 평면도이다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 하층 실장기판(14)의 내측에 위치한 전극형성영역(28)의 중앙부에 반도체칩(20)이 설치되어 있다.
또한, 반도체칩(20) 바깥쪽의 하층 실장기판(14)의 주변 위치에는 복수의 상부전극(18)이 형성되어서 전극형성영역(28)을 형성하고 있다. 칩 실장영역(27)과 전극형성영역(28)과의 경계에는 댐부재(50)가 형성되어 있다.
반도체칩(20)과 하층 실장기판(14) 사이에 발생된 응력을 완화하기 위해, 반도체칩(20)과 하층 실장기판(14) 사이에는 언더필수지(23)가 충전된다. 그러나, 언더필수지(23)는 충전시에 유동성을 갖기 때문에, 언더필수지(23)의 일부는 반도체칩(20)의 외주(outer periphery)로 유출된다.
그러나, 칩 실장영역(27)의 외주 가장자리에는 댐부재(50)가 설치되어, 그 이상의 유출을 방지한다. 따라서, 언더필수지(23)가 전극형성영역(28)에 유입되고 이에 따라 전극형성영역(28)이 언더필수지(23)로 덮여서 접속불량을 초래하는 경우 를 방지할 수 있다. 도 3(a) 및 3(b)는 상기와 같이 구성된 하층 실장기판(14) 중에서, 도 2의 화살표로 가리킨 영역의 확대도를 나타낸다.
댐부재(50)는, 상술한 바와 같이, 칩 실장영역(27)과 전극형성영역(28)과의 경계에 형성된다. 언더필수지(23)가 전극형성영역(28)으로 유출되는 것을 방지하기 위해, 이 댐부재(50)는 칩 실장영역(27)을 둘러싸는 프레임 형상(frame shape)과 같이 형성된다.
이 댐부재(50)는 하층 실장기판(14)의 최상면에 형성되어 있는 상부 솔더레지스트(24)와 일체로 형성되어 있다. 구체적으로, 상부 솔더레지스트(24)의 형성시에, 댐부재(50)를 위해 요구되는 두께(기판 표면으로부터 높이)만큼 솔더레지스트 재를 도포하고, 그 후 댐부재(50)가 형성된 영역을 제외한 영역에서 솔더레지스트 재를 에칭 등을 통해 제거함으로써 댐부재(50)를 형성한다.
이에 따라, 댐부재(50)는 상부 솔더레지스트(24)와 일체적인 구조로 형성되고, 상부 솔더레지스트(24)로부터 돌출된다. 또한, 댐부재(50)는 상부 솔더레지스트(24)를 형성하는 것과 동시에 형성되기 때문에 용이하게 형성될 수 있다.
여기에서, 도 3(a) 및 3(b)에 나타낸 댐부재(50)의 형상을 이하 논의한다. 본 실시예에서는 댐부재(50)의 외주면에 오목부(51)가 형성된다. 오목부(51)는 전극형성영역(28)과 대향하는 댐부재(50)의 외주면에 형성된다. 또한, 오목부(51)는 만곡면(curved surface)(53)을 갖고 있어, 그 내부에 상부전극(18)의 일부가 위치된다.
이런 형태에 따르면, 댐부재(50)의 일부가 전극형성영역(28)의 안쪽으로 들어가도록 구성된다. 따라서, 전극형성영역(28)의 면적을 변화시키지 않고도, 또는 전극형성영역(28)의 면적을 증대시키면서, 칩 실장영역(27)의 면적을 증대시킬 수 있다. 또한, 칩 실장영역(27)과 대향하는 댐부재(50)의 내주면은 직선 형상의 내주면(54)으로 형성된다. 이렇게, 언더필수지(23)가 충전되는 쪽에 대응하는 내주면(54)이 직선 형상으로 형성되기 때문에, 언더필수지(23)의 충전효율을 높일 수 있고, 충전 얼룩(filling unevenenss)이 발생되는 것을 방지할 수 있다.
한편, 상부전극(18)이 격자상으로 배치되기 때문에, 상부전극들(18) 사이의 위치 간격, 예를 들면 인접하는 오목부들(51) 사이의 위치 간격에서, 댐부재(50)의 폭을 크게 할 수 있다. 구체적으로, 오목부(51)가 형성된 위치 이외의 위치에서의 댐부재(50)의 폭치수(이하, '제 1 폭치수(W1)'라 칭함)는, 오목부(51)가 형성된 위치에서의 댐부재(50)의 폭치수(이하, '제 2 폭치수(W2)'라 칭함) 보다 더 크게 형성될 수 있다(W1>W2). 이하의 댐부재(50)에서는, 오목부(51)가 형성된 위치에서의 폭치수 보다 더 넓은 폭치수 부분을 앵커부(anchor portion)(52)라고 칭한다.
제 2 폭치수(W2)는 앵커부(52)의 폭치수 보다 좁기 때문에, 오목부(51)와 상부 솔더레지스트(24) 사이의 결합력이 약하다. 그러나, 앵커부(52)에서는, 제 1 폭치수(W1)를 더 넓게 취할 수 있다. 또한, 인접하는 상부전극(18) 안쪽으로 들어가도록 앵커부(52)를 형성할 수 있으므로, 제 1 폭치수(W1)를 증대시킬 수 있는 여지가 생긴다.
이렇게, 제 1 폭치수(W1)를 증대시키는 것에 의해 앵커부(52)의 면적을 증대시킬 수 있으므로, 상부 솔더레지스트(24)에 대한 접합력을 높일 수 있다. 따라서, 칩 실장영역(27)의 면적을 증대시키고 하층 실장기판(14)의 면적을 감소시키는 댐부재(50)에 오목부(51)를 형성하더라도, 오목부(51)의 양측 부분은 앵커부(52)로서 상부 솔더레지스트(24)와의 접합력을 높일 수 있다. 따라서, 댐부재(50)의 기계적강도를 지속적으로 유지할 수 있다. 이에 따라, 댐부재(50)에 오목부(51)를 형성하더라도, 언더필수지(23)를 충전하는 등에 의해 댐부재(50)가 결코 손상되지 않고, 따라서 하층 실장기판(14)의 신뢰성을 높일 수 있다.
또한, 본 실시예에서 오목부(51)를 구성하는 만곡면(53)의 곡률은 만곡면(53)으로부터 상부전극(18)의 외주까지의 거리(도 3(a) 및 3(b)에서 화살표 L)가 항상 같은 거리가 되도록 설정되어 있다. 이런 형태를 채용함으로써, 상부전극(18)의 형성 위치와 댐부재(50)의 형성 위치에 오차가 발생하더라도, 댐부재(50)가 상부전극(18) 위에 형성되는 경우를 유효하게 방지할 수 있다.
상기 실시예에서는, 오목부(51)가 만곡면(53)을 갖도록 형성되었지만, 오목부(51)의 형상은 상기 형상만으로 한정되는 것이 아니며, 상부전극(18)의 형상에 따라 적절하게 변경될 수 있다.
또한, 본 실시예에서는 반도체칩(20)을 하층 실장기판(14)에 설치하는 실시예로서 본원 발명을 적용하였지만, 본원 발명의 적용은 상기 실시예만으로 한정되는 것이 아니며, 다양한 적용들이 채용될 수 있다.
또한, 본 실시예에서는 충전재의 일례로서 언더필수지(23)가 사용되었지만, 본 발명은 고밀도 패키징이 요구되는 기판에 필요한 다른 충전재(예를 들면, 땜납 충전 등)에 대해서도 적용이 가능하다.
이상, 본 발명의 예시적인 실시예에 대해 설명하였지만, 본 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게는 본 발명으로부터 일탈되지 않는 범위 내에서 다양한 변경 및 수정을 가할 수 있다는 것은 명백하다. 따라서, 첨부된 청구범위는 본 발명의 취지 및 목적 범위 내의 변경 및 수정 사항들을 모두 포괄하는 것으로 해석되어야만 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 전자장치인 시스템-인-패키지를 나타낸 단면도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 실장기판의 평면도.
도 3(a) 및 3(b)는 본 발명의 일 실시예에 따른 실장기판의 요부 확대도.
도 4(a) 및 4(b)는 종래 기술에 따른 실장기판을 설명하기 위한 도면.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
10: 시스템-인-패키지 11: 하층 패키지
12: 상층 패키지 14: 하층 실장기판
14a, 15a: 기판 본체 15: 상층 실장기판
16: 땜납볼(solder ball) 17, 37: 하부전극
18, 38: 상부전극 20, 40, 41: 반도체칩
21: 적층용 땜납볼 23: 언더필수지(underfill resin)
24, 44: 상부 솔더레지스트 27: 칩 실장영역
28: 전극형성영역 30, 60: 하부 솔더레지스트
50: 댐부재(dam member) 51: 오목부
52: 앵커부(anchor portion) 53: 만곡면(curved surface)
54: 직선 형상 내주면
Claims (7)
- 기판 본체 상에,전자소자를 실장하는 실장영역과,전극이 형성되어 있고 상기 실장영역을 둘러싸서 형성된 전극형성영역과,상기 실장영역과 상기 전극형성영역의 경계부분에 형성되어, 상기 실장영역에서 상기 전자소자와 상기 기판 본체 사이에 충전되는 충전재의 상기 전극형성영역으로의 유출을 방지하는 댐부재를 가진 실장 기판으로서,상기 댐부재의 상기 전극과 대향하는 위치에 만곡면을 갖는 오목부를 형성하고, 상기 오목부의 내부에 상기 전극의 일부가 위치되고, 또한 상기 댐부재의 일부가 상기 전극 사이에 안쪽으로 들어가도록 구성한 것을 특징으로 하는 실장기판.
- 제 1 항에 있어서,상기 오목부는 상기 댐부재의 외주면에 형성되어 있고,상기 댐부재는 상기 오목부 형성 위치 이외의 위치에서의 폭치수인 제 1 폭치수가, 상기 오목부 형성 위치에서의 폭치수인 제 2 폭치수보다 큰 것을 특징으로 하는 실장기판.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 기판 본체 상면에는 솔더레지스트가 형성되어 있고, 상기 댐부재는 상기 솔더레지스트와 동일 재료에 의해 일체로 형성되며, 상기 실장영역과 상기 전극 형성영역의 경계 부분에서 상기 솔더레지스트로부터 돌출되는 것을 특징으로 하는 실장기판.
- 제 1 항에 있어서,상기 오목부와 상기 전극의 대향 범위에서는, 상기 오목부와 상기 전극의 이간 거리가 동일해지도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 실장기판.
- 제 1 항에 있어서,상기 댐부재의 상기 실장영역측은 직선 형상인 것을 특징으로 하는 실장기판.
- 제 1 항에 있어서,상기 충전재는 언더필수지(underfill resin)인 것을 특징으로 하는 실장기판.
- 전자소자와, 제 1 항에 기재된 실장기판을 갖고 있고, 상기 댐부재 내의 상기 전자소자와 상기 기판 본체 사이에 충전재를 충전해서 이루어지는 구성인 것을 특징으로 하는 전자장치.
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