KR101395882B1 - 복수 개의 용기 등으로 이루어진 층을 들어올리는 리프팅장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 복수 개의 용기(2) 등으로 이루어진 층, 특히 바람직하게는 서로 옆에 평행하게 배열된 복수 열의 용기(2) 등으로 이루어진 층을 들어올리며, 베이스(1)와 리프팅 기구(3)를 포함하는 장치를 개시하는 데, 상기 리프팅 기구(3)는 특히 블라인드로서 구현되어 베이스(1)에 대해 평행하게 변위할 수 있는 수송 표면(4)을 구비하는 한편, 바람직하게는 프레임(5)을 더 구비한다. 이 프레임(5)은 프레임을 용기(2)의 층의 둘레에 끼우거나 용기(2)를 프레임(5) 내에 주입함으로써 용기의 둘레 둘러지도록 되어 있으며, 상기 층을 들어올리기 전에 그 층을 향해 리프팅 기구(3)가 이동함으로써, 아직 리프팅 위치로 연장되지 않았던 수송 표면(4)은 그 전방 에지(12)가 상기 층의 제1 열(A)의 전방에 위치하도록 배치되고, 이어서 그 층 아래에서 이동하여, 베이스(1) 상에 세워진 용기(2)들의 아래에서 그 용기(2)들에 대해 상대 이동함으로써 리프팅 위치로 이동하게 된다. 그러한 장치는, 베이스(1)의 부분 영역이 매 순간에 각 용기(2)의 아래에 위치하며, 다음에 수송 표면(4)이 아래에 배치될 용기(2)의 열(A)에서 적어도 수송 표면(4)을 향한 쪽에, 베이스(1)가 아래쪽으로 안내되기 전에 열(A)의 용기(2)의 바닥과 베이스(1) 사이에 클리어런스(15)가 제공, 특히 생성되어 있어, 수송 표면(4)이 상기 열(A)의 용기(2)의 아래에서 안내될 수 있도록 구성된다.
베이스, 용기의 열, 병, 리프팅 장치, 수송 표면, 적재 테이블
Description
본 발명은, 복수 개의 용기 등으로 이루어진 층, 특히 바람직하게는 서로 옆에 평행하게 배열된 복수 열의 용기 등으로 이루어진 층을 들어올리는 리프팅 장치로서, 베이스와 리프팅 기구를 포함하며, 이 리프팅 기구는 특히 블라인드로서 구현되어 베이스에 대해 평행하게 변위할 수 있는 수송 표면을 구비하는 한편, 바람직하게는 프레임을 더 구비하며, 이 프레임은 프레임을 용기의 층의 둘레에 끼우거나 용기를 프레임 내에 주입함으로써 용기의 둘레 둘러지도록 되어 있으며, 상기 층을 들어올리기 전에, 그 층을 향해 리프팅 기구가 이동함으로써, 아직 리프팅 위치로 연장되지 않은 수송 표면은 그 전방 에지가 상기 층의 제1 열의 전방에 위치하도록 배치되고, 이어서 그 층 아래에서 이동하여, 베이스 상에 세워진 용기들의 아래에서 그 용기들에 대해 상대 이동함으로써 리프팅 위치로 이동하게 되는 것인 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 장치에 관한 것이다. 용기에는 아래쪽에서 받침대를 갖고 있고 이 받침대에 의해 베이스 상에 세워놓을 수 있는, 예를 들면 캔, 병과 같은 개별 포장된 상품, 속이 빈 유리, 식기 유리(container glass) 또는 버킷도 포함된다.
글라스 산업 또는 용기 산업과 같은 산업 분야에서, 병과 같은 생산된 제품은 베이스에서 펠릿으로 옮겨져야 한다. 이 때, 펠릿 상에는 나중에 필름 튜브가 씌워짐으로써 그 필름 튜브에 의해 고정될 복수 층의 용기들이 쌓여지게 된다. 통상, 베이스는 용기를 운반하는 선회 컨베이어 벨트이다. 이 경우, 용기는 멈춤 기구에 의해 펠릿 크기에 상응하는 플랫폼 상에 적재된다. 이러한 구역은 또한 적재 구역으로 불린다. 한 층의 용기가 완료되자마자, 그 용기는 리프팅 장치에 의해 들어올려져 펠릿 상에 놓여지거나, 이미 용기들이 놓여진 펠릿의 스택의 최상층에 놓여지게 된다.
공지의 장치에서, 전술한 바와 같은 용도를 위해 높이 조절이 가능한 변위 테이블이 적재 구역에 인접하여 배치된다. 용기 등의 개별적으로 패키징된 상품의 층은 변위 테이블 상으로 수평으로 밀어지게 된다. 이어서, 변위 테이블은 원하는 높이까지 변위하여 펠릿에 인접함으로써, 최종 단계에서 용기와 같은 개별적으로 패키징된 상품의 층이 펠릿으로 밀어 질 수 있게 하거나, 펠릿 상에 복수 개의 층들이 이미 쌓여 있는 경우, 최종적으로 놓여진 층의 상측에 배치된 중간 바닥 상으로 밀어지게 된다.
따라서, 추가적으로 높이 조절을 해야하는 변위 테이블로 인해, 그러한 장치는 공간의 크기가 커야 한다는 단점이 있다. 또한, 적재 구역 및 적하 구역의 배치에 대한 실현성이 이들 사이에 배치되는 변위 테이블로 인해 제한된다. 게다가, 그러한 장치는 한편으로는 적재 구역과 변위 테이블 간에 다른 한편으로는 변위 테 이블과 적하 구역 간의 인계로 인해 예를 들면 매우 작은 직경을 갖는 용기용으로만 매우 제한적으로 사용될 수 있다.
본 발명의 목적은 전술한 문제점을 피하고, 예를 들면 용기 또는 캔과 같은 개별적으로 포장된 상품을 층 테이블 및 적재 구역 각각에서부터 적하 구역, 즉 펠릿 상으로 이동시키는 것을, 층 테이블 상에 생성된 용기 층의 패턴을 현저히 변화시키지 않으면서 작은 공간적 요구 조건을 갖고 가능하게 하는 장치를 개시하는 데에 있다. 이와 동시에, 그러한 장치가 개조를 요하지 않고도 다양한 직경 및/또는 형상의 용기를 이동시킬 수 있게 하는 데에 있다.
전술한 목적은, 그러한 장치를, 베이스의 일부분이 매 순간에 각 용기의 아래에 위치하며, 다음에 수송 표면이 아래에 배치될 용기의 열에서는 이 열의 용기의 바닥과 베이스 사이에서 적어도 수송 표면을 향한 쪽에 클리어런스가 제공되고, 특히 클리어런스는 바람직하게는 수송 표면이 상기 열의 용기의 아래로 안내될 수 있도록 단지 일시적으로만 생성되도록 구성함으로써 해결된다. 상기 열의 용기의 바닥과 베이스 사이에서 수송 표면을 향한 베이스 쪽에 제공 또는 생성되는 클리어런스에 의해, 수송 표면을 아래쪽에서 이동시키는 동안에 측면에서 용기를 건들어 손상을 초래하는 일 없이 베이스를 아래로 안내할 수 있다.
상기 장치의 가능한 실시예에서 있어서, 상기 열의 용기는, 예를 들면 클리어런스가 생성되고 이에 따라 베이스가 아래에서 통과할 수 있도록 태핑(tapping)에 의해 수직 방향으로 변위될 수 있는 멈춤 기구에 의해 위쪽에서 기울어질 수 있 다. 클리어런스를 생성하기 위한 다른 구성의 수단도 가능하다.
따라서, 본 발명에 따른 장치는 적재 테이블 및 적재 구역 각각에서부터 용기의 직접 인계를 가능하게 하여, 종래의 경우에서와 같이 추가적인 공간을 요하는 변위 테이블이 더 이상 필요하지 않게 된다. 이와 동시에, 본 발명에 따른 장치는 층 테이블 및 적재 테이블 상에 각각 생성된 용기 층의 패턴에서 인계로 인한 현저한 변화를 초래하지 않으면서 인계할 수 있게 한다. 또한, 다양한 직경 및 형상을 각각 갖는 용기가, 예를 들면 인계될 물체에 관한 기타 파지 도구 또는 흡착판 등의 특별한 개조 없이 본 발명에 따른 장치에 의해 인계될 수 있다.
인접한 열의 용기들은 체스판 형태로 서로 배치될 수 있다. 그러나, 인접한 열을 용기 직경의 절반만큼 서로 오프셋되게 배열하는 것도 전적으로 가능하다. 층의 외부 윤곽도 임의적일 수 있다. 다른 층 패턴 또한 가능하다는 것은 말할 필요 없을 것이다.
한편으로는 다음에 수송 표면이 아래에 배치될 용기의 열에 인접하고 다른 한편으로는 아래를 아직 통과하지는 수송 표면을 향하는 영역에서의 수송 표면 향한 베이스의 표면상에는 적어도 하나의 오목부가 마련되고, 수송 표면에는 그 전방 에지에 하부 통과 방향(underpass direction)으로 적어도 하나의 전방 에지 영역이 마련되며, 이 전방 에지 영역은 수송 표면이 리프팅 위치로 이동함에 따라 대응 오목부 안에 삽입될 수 있으며, 이에 따라 용기의 열의 아래를 통과할 수 있도록 구성된다. 전방 에지의 각 전방 에지 영역이 해당 오목부로 삽입됨으로써, 용기의 열이 측벽 영역에서 접촉되지 않기 때문에 수송 표면은 용기의 열의 아래를 용이하 게게 통과할 수 있다.
바람직하게는, 하부 통과 방향과 평행하게 배향되고 홈 형상으로 구성된 복수 개의 오목부가 마련될 수 있다. 베이스가 정지식인 경우, 오목부는 용기 층의 전체 길이에 걸쳐 연장해야 한다. 그러나, 예를 들면 수송 표면이 아래를 통과할 때에 베이스가 수송 표면과 함께 하부 통과 방향으로 이동한다면 그러할 필요는 없다.
적어도 하나의 오목부가 하부 통과 방향에 대해 직교하는 홈으로서 구성될 수 있다. 아래를 통과할 때에 전방 에지가 오목부 내에 위치하기 때문에, 베이스는 수송 표면을 하부 통과 방향으로 아래에서 통과시키는 때에 수송 표면과 동기식으로 이동하여야 한다. 오목부가 베이스 또는 용기의 열의 전체 폭에 걸쳐 연속적으로 연장할 필요는 없다는 것은 명백하다. 용기의 열을 따라 용기에 대해 적어도 동일한 거리에 부분 오목부 영역을 마련하고, 이에 대응하게 구성된 전방 에지 영역을 갖는 전방 에지가 해당 부분 오목부 영역에 삽입될 수 있도록 하는 것도 전적으로 가능하다. 부분 오목부 영역의 폭 및 부분 오목부 영역의 길이는 각각 용기의 직경 및 치수에 좌우된다.
바람직하게는, 베이스는 적어도 변위 방향으로 굴곡될 수 있게 구성될 수 있다. 베이스가 변위 방향에 대해 직각으로 굴곡되도록 구성될 수 있다는 점은 말할 필요 없을 것이다. 그러한 실시예에서, 베이스는 예를 들면 컨베이어 벨트로서 이루어진다.
베이스는 변위 방향으로 이동할 수 있는 반송 표면으로서 구성될 수 있으며, 이 반송 표면은 변위 방향에 대해 직각으로 배향된 축에 의해 소정 부재를 매개로 관절형으로 서로 연결된 복수 개의 세그먼트로 이루어지는 것이 바람직하다. 이 세그먼트가 베이스의 전체 폭에 걸쳐 연장하는 경우, 예를 들면 오목부로서 연속적인 홈이 마련될 수 있다.
오목부가 하부 통과 방향에 대해 평행하게 연장할 수도 있다는 것은 말할 필요 없을 것이다. 이 경우, 베이스는 정지식일 수도 있다. 수송 표면은 그 전방 에지 영역이 해당 오목부 안으로 연장하여 용기의 열의 아래를 통과할 수 있게 된다. 하부 통과 방향으로 평행하게 배향된 오목부의 간격은 용기의 크기에 좌우된다.
대안적으로, 베이스를 들어올리는 베이스 리프팅 기구가 마련될 수 있으며, 이 베이스 리프팅 기구는 하부 통과 방향에서 한편으로는 다음에 수송 표면이 아래에 배치될 용기의 열에 인접하고 다른 한편으로는 아직 아래를 통과하지 않은 수송 표면을 향하게 되는 영역에 위치함과 아울러, 수송 표면의 전방 에지로부터 약간 거리를 두고 위치하여, 리프팅 위치에서 변위될 수 있는 수송 표면과 동기식으로 변위될 수 있도록 배치된다. 다음에 수송 표면이 아래에 배치될 용기의 열에 대한 베이스 리프팅 기구의 거리는 들어올려질 용기의 직경의 절반 또는 들어올려질 개별적으로 포장된 상품의 깊이의 절반보다 작다. 이러한 베이스 리프팅 기구에 의해 초기에 클리어런스가 생성되어, 수송 표면이 아래를 통과할 수 있게 된다.
베이스 리프팅 기구는 일정한 간격을 생성하는 연결 부재에 의해 수송 표면에 연결될 수 있다.
대안적으로, 베이스 리프팅 기구는 별도의 구동 장치에 의해 변위될 수 있다.
베이스 리프팅 기구가 수송 표면에 도달한 후에 간단한 방식으로 초기 위치로 되돌아올 수 있도록 하기 위해, 베이스 리프팅 기구 자체는 하강할 수 있도록 배치된다. 이러한 하강으로 인해 베이스 리프팅 기구가 되돌아 갈 때에 베이스는 더 이상 들어올려져 있지 않게 된다.
베이스 리프팅 기구는 측방향으로 평탄, 바람직하게는 적어도 하부 통과 방향으로의 단면에서 평탄하고 용기의 열의 전체 폭에 걸쳐 연장하는 승강부로서 구성될 수 있다. 베이스 리프팅 기구는 용기의 열의 전체 폭에 걸쳐 동일한 높이를 가질 필요는 없다.
바람직하게는, 베이스 리프팅 기구는 하나의 평면 내에 위치하는 2개의 표면 부재로 이루어지며, 이들 표면 부재는 한편으로는 서로의 내에 끼워 맞춰질 수 있는 위치로 다른 한편으로는 서로 인접하는 위치로 상기 평면 내에서 서로에 대해 이동할 수 있고, 각 표면 부재의 서로를 향하고 있는 각각의 에지는 빗살 형상으로 구성되는 한편, 서로 오프셋되게 배치되어 평면에서 돌출한 부분 표면 영역을 갖고 있을 수 있다. 리프팅 기구를 수용될 용기의 층을 향해 이동시킬 시에, 표면 부재는 서로 인접한 위치에 위치한다. 이어서, 인접한 표면 부재들과 함께 수송 표면이 동기식으로 변위된다. 이러한 상대 이동에 따라, 2개의 빗살 형 표면 부재는 서로의 안으로 이동한다. 수송 표면이 리프팅 위치에 도달하게 되면, 표면 부재는 서로에 끼워 맞춰진 위치에 있게 된다. 각 표면 부재의 에지가 빗살 형상을 갖는 실시예 대신에, 다른 실시예에서는 예를 들면 가위(scissor) 기구도 물론 가능하다. 이들은 마찬가지로 표면 부재가 서로 인접하는 위치에 용기가 유지되게 하는 형태로 구성된다.
바람직하게는, 수송 표면의 반송 에지는 경사진 전방 에지로 인해 훨씬더 간단하게 아래를 통과할 수 있도록 자유단까지 아래쪽으로 연장하여 베이스까지 아래쪽으로 경사진 형태로 연장하는 표면을 구비할 수 있다.
이에 의해, 상기 열의 용기는 수송 표면을 향한 쪽의 영역에서 들어올려질 수 있다. 상기 열의 용기 전체가 들어올려질 수도 있다는 것은 명백하다.
대안적으로, 베이스는 한편으로는 다음에 수송 표면이 아래에 배치될 용기의 열의 아래에 인접하고 다른 한편으로는 아직 아래를 통과하지는 수송 표면을 향한 영역에서 아래쪽으로 낮춰질 수 있다. 이렇게 베이스를 아래쪽으로 낮추는 것이 상기 열의 용기를 들어올리는 것과 조합되어, 수송 표면을 향하는 쪽의 베이스의 영역에서 이루어질 수 있다는 것은 말할 필요 없다.
상기 열의 용기에 있어서, 클리어런스는 초기에는 단지 수송 표면을 향한 쪽에서만 생성되어, 수송 표면이 아래를 통과함에 따라 수송 표면의 전방 에지와 용기 하부의 적어도 일부 영역의 접촉으로 인해 용기의 배향이 변할 수 있다. 첫 번째 단계에서 클리어런스의 생성은 용기의 배향을 변화시키거나 그 배향을 변화시키지 않으면서 생성될 수 있다. 예를 들면, 상기 열의 용기는 초기에 수송 표면을 향한 쪽에서만 약간 들어올려지고, 이에 의해 상기 열의 용기의 배향이 변하게 되면, 이러한 용기의 배향은 수송 표면을 아래쪽에서 안내함으로써 수송 표면의 전방 에지와 용기 하부의 적어도 일부 영역의 접촉으로 인해 한번 더 변하게 된다.
대안적으로, 상기 열의 용기의 바닥과 베이스 사이의 클리어런스는 다음에 수송 표면이 아래에 배치될 용기의 열에 대해 생성되어, 수송 표면이 아래를 통과할 때에 용기의 배향은 실질적으로 변하지 않은 상태로 유지된다. 이러한 과정에 있어서, 생성된 클리어런스는 수송 표면이 아래를 통과함에 따라 그 클리어런스에 의해 용기들이 수송 표면에 대해 간격을 두고 떨어지게 되어 용기들의 배향을 유지하기에는 충분하다.
다음에 수송 표면이 아래에 배치될 용기의 열은 수송 표면의 평면에서 하부 통과 방향에 대해 대략 지각으로 위치할 수 있다. 수송 표면의 전방 에지가 하부 통과 방향에 대해 90°가 아닌 소정 각도로 배향되어, 다음에 수송 표면이 아래로 안내될 열의 용기가 용기의 층을 고려할 때에 상이한 열에 위치하게 되도록 할 수도 있다는 것은 말할 필요 없다. 또한, 상응하는 구조의 실시예에서, 다음에 수송 표면이 아래에 배치될 용기의 열이 예를 들면 지그재그 형태와 같은 다른 형태로 구성될 수 있다는 것은 명백하다.
베이스로서 컨베이어 벨트가 제공될 수 있으며, 이 컨베이어 벨트 상에는 적재 또는 다른 기구에 의해 용기의 층들이 원하는 층의 패턴으로 생성될 수 있다. 예를 들면, 용기들은 특히 컨베이어 장치에 직각으로 배향된 멈춤 기구의 앞에 적재되거나, 그 장치에 의해 압력이 가해지지 않은 상태로 자유롭게 모아 정리될 수 있다. 그러한 실시예에서, 단지 컨베이어 벨트의 일부분만이 임의의 주어진 시점에 용기의 층의 아래에 위치하게 된다는 것은 말할 필요 없다. 컨베이어 벨트의 이동에 따라, 용기는 완전한 층이 생성될 때까지 멈춤 기구 전방에 축적된다. 그 때, 리프팅 기구가 용기의 층을 향해 이동함으로써, 아직 리프팅 위치로 연장되지 않은 수송 표면는 그 전방 에지가 상기 층의 제1 열의 전방에 위치하도록 배치되고, 이어서 그 층 아래에서 이동하여, 베이스 상에 세워진 용기들의 아래에서 그 용기들에 대해 상대 이동함으로써 리프팅 위치로 이동하게 된다.
이하에서 본 발명의 예시적인 실시예를 도면을 참조하여 설명한다.
본 발명에 따른 장치는 적재 테이블 및 적재 구역 각각에서부터 용기의 직접 인계를 가능하게 하여, 종래의 경우에서와 같이 추가적인 공간을 요하는 변위 테이블이 더 이상 필요하지 않게 된다. 이와 동시에, 본 발명에 따른 장치는 층 테이블 및 적재 테이블 상에 각각 생성된 층의 패턴에서 인계로 인한 현저한 변화를 초래하지 않으면서 인계할 수 있게 한다. 또한, 다양한 직경 및 형상을 각각 갖는 용기가, 예를 들면 인계될 물체에 관한 기타 파지 도구 또는 흡착판 등의 특별한 개조 없이 본 발명에 따른 장치에 의해 인계될 수 있다.
도 1에는 적재 장치(pelletizer)의 평면도가 도시되어 있다. 지지체(1)로서 구현된 컨베이어 벨트는 도 1의 좌측편에 위치한다. 도 2 내지 도 21에서와 같이, 컨베이어 벨트는 선회하며, 도시하지 않은 2개의 편향 롤러 사이에서 편향된다. 동시에, 도 1에 도시한 컨베이어의 부분은 적재 구역을 나타낸다. 용기(2)의 층은 적재 구역의 도시하지 않은 멈춤 기구의 전방에서 쌓이게 된다.
또한, 리프팅 기구(3)가 제공되며, 이 리프팅 기구(3)는 블라인드로서 구현되어 베이스(1)에 대해 평행하게 이동할 수 있는 수송 표면(4)을 포함하며, 바람직하게는 프레임(5)도 갖고 있다. 도시한 예시적인 실시예에서, 프레임(5)은 차후에 용기의 층의 중심 방향으로 용기(2)들을 집중시키도록 이동될 수 있는 4개의 플랜지(6)를 구비하고 있다.
리프팅 기구(3)는 지지 구조(7)에 의해 변위 캐리지(8)에 고정된다. 지지 구조(7)는 리프팅 기구(3)가 수직 방향으로 상승하는 것을 가능하게 한다. 수평 변위의 경우, 변위 캐리지(8)는 변위 가능하도록 변위 구조(9) 상에 배치된다. 용기의 층들을 펠릿(10) 상에 내려놓게 되는 적하 구역은 적재 구역에 대해 평행하게 거리를 두고 위치한다.
서로 쌓여지는 용기(2)의 층들이 서로 직접 접촉하지 않도록, 공지된 중간 바닥 부착 장치(11)에 의해 다음 층이 놓이기 전에 이미 놓여진 층의 상측에 중간 바닥이 각각 배치된다.
용기의 층을 내려놓은 후에, 리프팅 기구(3)는 다시 적재 테이블로 되돌아오게 된다. 용기의 층을 들어올리기 전에, 리프팅 기구(3)가 들어올려질 용기의 층을 향해 이동함으로써, 아직 리프팅 위치로 연장되지 않았던 수송 표면(4)은 그 전방 에지(12)가 층의 제1 열의 전방에 있도록 배치되고, 이어서 용기의 층 아래에서 이동하여, 베이스(1) 상에 세워진 용기(2)들의 아래에서 그 용기(2)들에 대해 상대 이동함으로써 리프팅 위치로 이동하게 된다. 새로운 용기의 층이 들어올려진 후에, 리프팅 기구(3)는 다시 적하 구역으로 이동하여 그 층을 중간 바닥에 내려놓는다. 이러한 과정은 원하는 수의 층이 놓여질 때까지 반복된다. 이어서, 그러한 용기의 층들을 갖고 있는 펠릿(10)은 멀리 운반되고, 새로운 펠릿(10)이 적하 구역에 배치된다.
도 2 내지 도 7에는 베이스(1) 아래에 베이스 리프팅 기구(13)가 마련된 실시예가 도시되어 있다. 이 베이스 리프팅 기구(13)는 측방향으로 평탄, 바람직하게는 적어도 하부 통과 방향(underpass direction)(14)으로의 단면에서 평탄하고 용기의 열의 전체 폭에 걸쳐 연장하는 승강부로서 구성된다. 베이스 리프팅 기구(14)는 베이스(1)를 구성하는 컨베이어 벨트의 아래에 배치된다.
특히 도 5에 나타낸 바와 같이, 베이스 리프팅 기구(13)는 높이 "a" 만큼 베이스(1)를 국부적으로 들어올리게 된다. 그 결과, 다음에 수송 표면(4)이 아래에 배치될 용기(2)의 열(A)에서는 열(A)의 용기(1)의 바닥과 베이스(1) 사이에서 수송 표면(4)을 향한 쪽에 클리어런스(15)가 생성된다. 이 클리어런스(15)는 열(A)의 용기(2)의 아래를 수송 표면(4)이 용이하게 통과할 수 있게 한다. 이러한 들어올림은 수송 표면(4)이 층의 모든 용기(2) 아래를 지나 리프팅 위치에 이를 때까지 매 열마다 계속된다.
도 2 내지 도 7에 도시한 위치에서, 수송 표면(4)은 용기 층의 열들의 대략 절반의 아래를 통과하였다. 보다 양호하게 아래쪽을 통과하기 위해, 수송 표면(4)의 전방 에지(12)는 자유단까지 아래쪽으로 연장하여 베이스(1)까지 아래쪽으로 경사진 표면을 갖고 있다.
도 2 내지 도 5에 있어서, 베이스 리프팅 기구(13)는 일정한 간격을 생성하 는 연결 부재(16)를 통해 베이스 리프팅 기구(13)의 수송 표면(4)과 연결되어 있다. 수송 표면(4)이 리프팅 위치에 도달한 후에 베이스 리프팅 기구(13)가 간단한 방식으로 그 초기 위치로 돌아갈 수 있도록, 베이스 리프팅 기구(13)는 도시한 화살표 방향으로 하강할 수 있도록 지지되어 있다. 이러한 하강을 통해, 베이스(1)는 베이스 리프팅 기구가 되돌아 갈 때에 더 이상 들어올려져 있지 않게 된다.
도 6 및 도 7에서, 베이스 리프팅 기구(13)는 별도의 구동 장치에 의해 수송 표면(4)과 동기식으로 변위될 수 있다.
도 8 내지 도 13에는 베이스 리프팅 기구(13)의 대안적인 실시예가 도시되어 있다. 이 예시적인 실시예에서, 베이스 리프팅 기구(13)는 하나의 평면 내에 위치하는 2개의 표면 부재(17, 18)로 이루어지며, 이들 두 표면 부재(17, 18)의 서로를 향하고 있는 각각의 에지는 빗살 형상으로 구성되어 있는 한편, 서로 오프셋되게 배치되어 상기 평면에서 돌출한 부분 표면 영역(19, 20)을 갖고 있다.
베이스 리프팅 기구(13)에 의해 실질적으로 단지 하나의 열(A)만을 들어올리는 도 4 내지 도 7에 따른 예시적인 실시예와 달리, 도 8 내지 도 13에 따른 예시적인 실시예에서는 모든 용기(2)를 동일한 높이에 위치시키게 된다.
표면 부재(17, 18)는 아래쪽에 슬라이드 레일(21)에 지지된다. 따라서, 도면에서 좌측에 도시한 표면 부재(17)는 정지되어 있는 한편, 도면에서 우측에 도시한 표면 부재(18)는 수송 표면(4)과 동기하여 이동할 수 있다. 이를 위해, 예를 들면 도시하지 않은 구동 장치가 마련된다.
2개의 표면 부재(17, 18)의 서로에 대한 위치가 도 8 내지 도 11 각각의 좌 측 아래쪽 부분에 평면도로 도시되어 있다. 컨베이어 벨트 아래에 위치하는 표면 부재(17)를 볼 수 있도록 간략화하기 위해 도 8 내지 도 11에서는 수송 표면(4)과는 반대측에 위치하는 용기 층 쪽에는 컨베이어 벨트를 더 이상 도시하지 않고 있다.
도 10에서, 표면 부재(17, 18)는 서로 인접한 위치에 위치하고 있다. 이 때에, 수송 표면(4)은 아직 리프팅 위치에 있지 않다. 부분 표면 영역(19, 20)의 폭은 용기(2)의 직경에 대응한다. 용기(2)의 직경이 작을수록 부분 표면 영역(19, 20)의 폭은 더 작다.
수송 표면(4)이 도 12에 도시한 바와 같이 우측 표면 부재(18)와 함께 좌측 표면 부재(17) 방향으로, 즉 하부 통과 방향(14)으로 이동하는 경우, 베이스(1)가 아래쪽으로 안내되기 전에, 다음에 수송 표면(4)이 아래에 배치될 열(A)의 용기(2)의 바닥과 베이스(1) 사이에서 수송 표면(4)을 향한 쪽에 클리어런스(15)가 생성된다. 따라서, 수송 표면(4)은 열(A)의 용기(2) 아래에서 안내될 수 있다.
클리어런스(15)는 그러한 영역에서 컨베이어 벨트가 표면 부재(18)에 의해 높이 "a"만큼 낮춰지기 때문에 형성된다. 그러한 낮춰짐은 베이스(1)의 사하중(dead load)에 의해 이루질 수 있다. 그러나, 예를 들면 수송 표면(4)과 동기하여 하부 통과 방향(14)으로 변위할 수 있는 구조의 롤러 형태와 같은 도시하지 않은 구조에 의해 베이스(1)를 아래쪽으로 안내하는 것도 전적으로 가능하다.
도시한 예시적인 실시예에서, 높이 "a"는 수송 표면(4)의 높이에 대략 상응하는 것으로서 약 20 ㎜인 데, 수송 표면(4)이 컨베이어 벨트 위에 위치하는 영역 에서 컨베이어 벨트는 슬라이드 레일(21)과 접촉하여, 표면 부재(17, 18), 즉 베이스 리프팅 기구(13)와 접촉하는 영역보다 높이 "a" 만큼 낮아지게 된다. 이는 또한 도 2 내지 도 7에 따른 베이스 리프팅 기구(13)의 실시예에도 적용된다.
도 9 및 도 13에서, 수송 표면(4)은 리프팅 위치에 위치하게 되는 데, 다시 말해, 층의 모든 용기(2)의 아래를 통과한 상태에 있다. 이 때, 표면 부재(17, 18)는 또한 서로에 끼워 맞춰지게 되는 위치에 위치한다. 이어서, 용기의 층은 리프팅 기구(3)에 의해 들어올려질 수 있다.
용기의 층이 리프팅 기구(3)에 의해 들어올려진 후에, 우측 표면 부재(18)는 다시 도 10 및 도 11에 도시한 위치로 이동된다. 이어서, 새로운 용기(2)의 층이 베이스(1) 상에 적재되고, 프레임(5)을 포함하는 리프팅 기구(3)가 용기(2)의 층 주위에 배치되는 데, 이 때 수송 표면(4)은 아직 리프팅 위치에 위치하지 않는다. 우측 표면 부재(18)를 수송 표면(4)과 함께 다시 이동시킴으로써 수송 표면(4)은 용기 층의 아래를 다시 통과할 수 있다.
도 14 내지 도 18에 도시한 하나의 예시적인 실시예뿐만 아니라 도 19 및 도 20에 도시한 다른 예시적인 실시예에서, 다음에 수송 표면(4)이 아래에 배치될 용기(2)의 열(A) 아래에는 이 열(A)의 용기(2)의 바닥과 베이스(1) 사이에서 적어도 수송 표면(4)을 향한 쪽에 클리어런스(15)가 제공되어 있다.
도 14 내지 도 18에 따른 실시예에서, 베이스(1), 즉 컨베이어 벨트는 수송 표면(4)을 향한 표면상에 하부 통과 방향(14)과 평해하게 배향된 홈 형상의 오목부(22)를 갖고 있다. 이와 동시에, 수송 표면(4)은 그 전방 에지(12)에 하부 통과 방향(14)으로 빗살형의 전방 에지 영역(23)을 갖고 있으며, 이 전방 에지 영역(23) 각각에 오목부(22)가 할당된다. 전방 에지 영역(23)은 대응 오목부(22) 내에 삽입되어 그 오목부 내에서 이동할 수 있다. 이는 도 16의 비스듬하게 본 평면도뿐만 아니라 도 17의 측면도를 통해 명확히 확인할 수 있다.
오목부(22)의 간격은 들어올려질 용기(2)의 크기에 대응한다. 도 16에 도시한 예시적인 실시예에서, 각각의 용기(2) 아래에 복수 개의 오목부(22)가 마련된다. 수송 표면(4)을 하부 통과 방향(14)으로 이동시킴으로써, 수송 표면(4)은 오목부(22) 내에서 전방 에지 영역(23)이 안내됨으로 인해 용기 층의 아래를 용이하게 통과할 수 있게 된다. 이러한 예시적인 실시예에서, 베이스(1)는 정지식일 수도 있다. 도 18에서는 다양한 방향에서 본 수송 표면(4)의 전방 에지(12)를 도시하고 있다. 전방 에지(12)는 전방 에지 영역(23)에서 수송 표면(4)으로 가면서 높이가 증가하도록 경사진 형태로 아래쪽으로 연장하도록 구성되어 있음을 명확히 확인할 수 있다.
베이스(1)의 실시 형태는 달리할 수 있다. 베이스(1)는 이 베이스(1)와 수송 표면(4) 간의 상대 이동이 수송 표면(4)의 이동의 따라 존재하도록 정지식으로 될 수 있다.
그러나, 베이스(1)는 수송 표면(4)의 이동시에 베이스(1)가 수송 표면(4)과 동일한 방향 또는 그와 반대 방향으로 이동하도록 변위 가능하게 구성될 수도 있다.
따라서, 도 14 내지 도 18에 따르면, 베이스(1)는 예를 들면 변위 방향에 대 해 직각으로 배향된 축에 의해 소정 부재를 매개로 관절형으로 서로 연결된 복수의 세그먼트로 이루어진 컨베이어 벨트로서 구성될 수 있다.
세그먼트는 베이스(1)의 전체 폭에 걸쳐 연속하도록 구성될 수 있다. 그러나, 그 세그먼트는 베이스(1)의 폭에 걸쳐 고려하였을 때에 서로 연결된 복수개의 부분 세그먼트를 서로 연결하여 구성하는 것도 전적으로 가능하다.
도 19 및 도 20에서, 베이스(1)는 변위 방향(26)으로 이동할 수 있는 반송 표면(conveying surface)으로서 구성되어 있는 데, 이 반송 표면은 변위 방향(26)에 대해 직각으로 배향된 축에 의해 소정 부재(24)를 매개로 관절형으로 서로 연결된 복수의 세그먼트(26)로 이루어진다. 각 세그먼트(25)는 그 위쪽에 하부 통과 방향(14)에 대해 직각으로 형성된 홈으로 이루어진 오목부(22)를 갖고 있다. 수송 표면(4)의 전방 에지(12)는 아래쪽에서 통과하는 중에 오목부(22) 내에 위치하게 되어, 수송 표면(4)은 용기(2)의 열의 아래를 약간 지날 수 있게 된다. 이 실시예에서, 베이스(1)와 수송 표면(4) 간에 상대 이동이 존재하지 않게 될 것이다.
도 21에는 가능한 이동 방향들이 도시되어 있다. 도 2 내지 도 7에 따른 실시예에 대해서는 개략도 A 및 B에 도시되어 있다. 베이스(1)의 변위 방향(26)은 개략도 B에 도시한 바와 같이 수송 표면(4)의 하부 통과 방향(14) 및 베이스 리프팅 기구(13)의 변위 방향(27)과 동일할 수 있다.
베이스(1)의 변위 방향(26)이 수송 표면의 하부 통과 방향(14) 및 베이스 리프팅 기구(13)의 변위 방향(26)과 반대로 될 수 있다는 것은 말할 필요 없을 것이다.
2개의 표면 부재(17, 18)로 이루어진 베이스 리프팅 기구(13)에서의 가능한 이동 방향이 개략도 C 및 D에 도시되어 있다. 개략도 C는 도 8 내지 도 13에 따른 실시예에 관한 것이다. 개략도 D에서, 우측 표면 부재(18)가 정지되어 있도록 배치되어 있는 한편, 좌측 표면 부재(17)가 이동할 수 있다. 이 때, 수송 표면(4)의 하부 통과 방향(14), 베이스(1)의 변위 방향(26) 및 표면 부재(17)의 변위 방향(27)은 동일하다.
도 19 및 도 20에 따른 실시예에서의 이동 방향은 개략도 E에 도시되어 있다.
도 14 내지 도 18에 따른 실시예에서의 이동 방향은 개략도 F 및 G에 도시되어 있다. 이들 개략도에서 확인할 수 있는 바와 같이, 수송 표면(4)의 하부 통과 방향(14)은 베이스(1)의 변위 방향(26)으로 될 수 있고(개략도 F), 또한 그 변위 방향(26)과 반대로도 될 수 있다(개략도 G).
개략도 H 및 I에는, 한편으로는 다음에 수송 표면(4)이 아래에 배치될 용기(2)의 열에 인접하고 다른 한편으로는 아직 아래를 통과하지 않은 수송 표면(4)을 향하는 영역에서 베이스(1)가 국부적으로 아래쪽으로 낮춰지는 실시예들을 나타내고 있다. 그러한 "아래쪽으로 낮춰지는 영역"은 또한 수송 표면(4)과 동기하여 이동할 수 있다. 이 경우, 수송 표면(4)의 하부 통과 방향(14)은 베이스(1)의 변위 방향(26)으로 되거나(개략도 I), 그 변위 방향(26)과 반대로 될 수 있다(개략도 H).
도면에 도시한 예시적인 실시예들에서, 블라인드로서 이루어진 수송 표면(4) 은 서로 거리를 두고 배치되는 한편 리프팅 기구(3)에 고정된 2개의 U자형 레일에서 안내된다. 상기 거리는 용기(2)의 층이 레일에 접촉하지 않도록 선택된다. 특히 공간 절약을 위해, 예를 들면 도 8 내지 도 13에 도시한 바와 같이 레일의 단부는 위쪽 또는 아래쪽을 편향된다.
도 1은 적재 테이블 및 적하 구역을 포함하는 적재 장치의 평면도이며,
도 4 내지 도 7은 본 발명에 따른 장치의 제1 실시예이고,
도 8 내지 도 13은 본 발명에 따른 장치의 제2 실시예이며,
도 14 내지 도 18은 본 발명에 따른 장치의 제3 실시예이고,
도 19 및 도 20은 본 발명에 따른 장치의 제4 실시예이며,
도 21은 가능한 이동 방향을 나타내는 개략도 A 내지 I이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 베이스
2 : 용기
3 : 리프팅 기구
4 : 수송 표면
5 : 프레임
6 : 플랜지
7 : 지지 구조
8 : 변위 캐리지
10 : 펠릿
12 : 전방 에지
13 : 베이스 리프팅 기구
14 : 하부 통과 방향
15 : 클리어런스
16 : 연결 부재
17, 18 : 표면 부재
19, 20 : 부분 표면 영역
21 : 슬라이드 레일
22 : 오목부
23 : 전방 에지 영역
A : 용기의 열
Claims (20)
- 복수 개의 용기(2) 등으로 이루어진 층을 들어올리는 리프팅 장치로서, 베이스(1)와 리프팅 기구(3)를 포함하며, 이 리프팅 기구(3)는 베이스(1)에 대해 평행하게 이동할 수 있는 수송 표면(4)을 구비하며, 상기 리프팅 기구(3)가 상기 층을 들어올리기 전에 그 층을 향해 이동함으로써, 아직 리프팅 위치로 연장되지 않았던 수송 표면(4)은 그 전방 에지(12)가 상기 층의 제1 열(A)의 앞에 있도록 배치되고, 이어서 그 층 아래에서 이동하여 베이스(1) 상에 세워진 용기(2)들의 아래에서 그 용기(2)들에 대해 상대 이동함으로써 리프팅 위치로 이동하게 되는 것인, 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 장치에 있어서,상기 베이스(1)의 일부분이 매 순간에 각 용기(2)의 아래에 위치하며, 다음번에 수송 표면(4)이 아래에 배치될 용기(2)의 열(A)에서 적어도 수송 표면(4)을 향한 쪽에, 베이스(1)가 아래쪽으로 안내되기 전에 상기 열(A)의 용기(2)의 바닥과 베이스(1) 사이에 클리어런스(15)가 제공되어 있어, 수송 표면(4)이 상기 열(A)의 용기(2)의 아래에서 안내될 수 있도록 구성되는 것을 특징으로 하는 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 장치.
- 제1항에 있어서, 한편으로는 다음번에 수송 표면(4)이 아래에 배치될 용기(2)의 열에 인접하고 다른 한편으로는 아래를 아직 통과하지 않은 수송 표면(4)을 향하는 영역에서의 수송 표면(4)을 향한 베이스(1)의 표면상에는 적어도 하나의 오목부(22)가 마련되고, 수송 표면(4)에는 그 전방 에지(12)에 하부 통과 방향(14)으로 적어도 하나의 전방 에지 영역(23)이 마련되며, 이 전방 에지 영역(23)은 수송 표면(4)이 리프팅 위치로 이동함에 따라 대응 오목부(22) 안에 삽입될 수 있으며, 이에 따라 용기(2)의 열(A)의 아래를 통과할 수 있도록 구성되는 것을 특징으로 하는 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 장치.
- 제2항에 있어서, 하부 통과 방향(14)에 대해 평행하게 배향되고 홈 형상으로 이루어진 복수 개의 오목부(22)가 마련되는 것을 특징으로 하는 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 장치.
- 제2항 또는 제3항에 있어서, 적어도 하나의 오목부(22)가 하부 통과 방향(14)에 대해 직각으로 구현된 홈으로서 구성되는 것을 특징으로 하는 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 장치.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 베이스(1)는 적어도 변위 방향(26)으로 굴곡될 수 있도록 구성되는 것을 특징으로 하는 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 장치.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 베이스(1)는 변위 방향(26)으로 이동할 수 있는 반송 표면(conveying surface)으로서 구성되는 것을 특징으로 하는 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 장치.
- 제5항에 있어서, 상기 베이스(1)를 들어올리는 베이스 리프팅 기구(13)가 마련되며, 이 베이스 리프팅 기구(13)는 하부 통과 방향(14)에서 한편에서는 다음번에 수송 표면(4)이 아래에 배치될 용기(2)의 열(A)에 인접하고 다른 한편에서는 아직 아래를 통과하지 않은 수송 표면(4)에 면하게 됨과 아울러, 수송 표면(4)의 전방 에지(12)로부터 약간 거리를 두고 위치하여, 리프팅 위치에서 변위될 수 있는 수송 표면(4)과 동기하여 변위될 수 있도록 배치되는 것을 특징으로 하는 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 장치.
- 제7항에 있어서, 상기 베이스 리프팅 기구(13)는 일정한 간격을 생성하는 연결 부재(16)를 통해 수송 표면(4)에 결합되는 것을 특징으로 하는 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 장치.
- 제7항에 있어서, 상기 베이스 리프팅 기구(13)는 별도의 구동 장치에 의해 변위될 수 있는 것을 특징으로 하는 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 장치.
- 제7항에 있어서, 상기 베이스 리프팅 기구(13)는 하강될 수 있도록 배치되는 것을 특징으로 하는 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 장치.
- 제7항에 있어서, 상기 베이스 리프팅 기구(13)는 측방향으로 평탄하고 용기의 열의 전체 폭에 걸쳐 연장하는 승강부로서 구성되는 것을 특징으로 하는 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 장치.
- 제7항에 있어서, 상기 베이스 리프팅 기구(13)는 하나의 평면 내에 위치하는 2개의 표면 부재(17, 18)로 이루어지며, 이들 표면 부재(17, 18)는 한편으로는 서로의 내에 끼워 맞춰지는 위치로 다른 한편으로는 서로 인접하는 위치로 상기 평면 내에서 서로에 대해 이동할 수 있고, 각 표면 부재(17, 18)의 서로를 향하고 있는 각각의 에지는 빗살 형상으로 이루어지는 한편, 서로 오프셋되게 배치되어 상기 평면 내에서 돌출한 부분 표면 영역(19, 20)을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 장치.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 수송 표면(4)의 전방 에지(12)는 자유단까지 아래쪽으로 연장하여 베이스(1)까지 아래쪽으로 경사진 형태로 연장하는 표면을 갖는 것을 특징으로 하는 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 장치.
- 복수 개의 용기(2) 등으로 이루어진 층을 리프팅 기구(3)에 의해 베이스(1)로부터 들어올리는 리프팅 방법으로서, 상기 리프팅 기구(3)는 베이스(1)에 대해 평행하게 이동할 수 있는 수송 표면(4)을 구비하며, 상기 층을 들어올리기 전에, 리프팅 기구(3)는, 아직 리프팅 위치로 이동하지 않은 수송 표면(4)의 전방 에지(12)가 상기 층의 제1 열(A)의 앞에 있도록 배치되고, 이어서 그 층 아래에서 이동하여 베이스(1) 상에 세워진 용기(2)들의 아래에서 그 용기(2)들에 대해 상대 이동함으로써 리프팅 위치로 이동하게 되도록 상기 층에 대해 위치 설정되는 것인, 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 방법에 있어서,상기 베이스(1)의 일부분이 매 순간에 각 용기(2)의 아래에 위치하며, 이제 막 수송 표면(4)이 아래로 이동하게 될 용기(2)의 열(A)은, 수송 표면(4)이 전진하기 전에 상기 열(A)의 용기(2)의 바닥면과 베이스(1) 사이에 클리어런스(15)를 형성하여, 수송 표면(4)이 상기 열(A)의 용기(2)의 아래에서 안내될 수 있게 하는 것을 특징으로 하는 복수 개의 용기의 층을 들어올리는 리프팅 방법.
- 제14항에 있어서, 상기 열(A)의 용기(2)를 적어도 수송 표면(4)에 근접한 측에서 들어올리는 것을 특징으로 하는 리프팅 방법.
- 제14항 또는 제15항에 있어서, 상기 베이스(1)은, 한편으로는 다음번에 수송 표면(4)이 아래로 이동할 용기(2)의 열(A)에 맞닿고 다른 한편으로는 아직 아래에 있지 않은 수송 표면(4)을 향해 보내지는 영역에서 아래로 내려지는 것을 특징으로 하는 리프팅 방법.
- 제14항 또는 제15항에 있어서, 열(A)의 용기(2)는 초기에는 단지 수송 표면(4)을 향한 표면에서만 클리어런스(15)를 형성하고, 수송 표면(4)의 전방 에지(12)와 용기(2)의 바닥면의 적어도 일부 영역의 접촉으로 인해 용기(2)의 배향이 변하는 것을 특징으로 하는 리프팅 방법.
- 제14항 또는 제15항에 있어서, 상기 수송 표면(4)에 다음번에 옮겨질 열(A)의 용기(2)는 수송 표면(4)이 용기(2)를 향해 이동할 때에 이들 용기가 실질적으로 움직이지 않도록 열(A)의 용기(2)의 바닥면과 베이스(1) 사이에 클리어런스(15)를 형성하도록 배치하는 것을 특징으로 하는 리프팅 방법.
- 제14항 또는 제15항에 있어서, 상기 수송 표면(4)에 다음번에 옮겨질 열(A)의 용기(2)는 하부 통과 방향(14)에 대해 대체로 직각으로 배치되는 것을 특징으로 하는 리프팅 방법.
- 제14항 또는 제15항에 있어서, 상기 베이스(1)는 컨베이어 벨트이고, 이 컨베이어 밸트 상에 용기(2)의 층을 형성하는 것을 특징으로 하는 리프팅 방법.
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