KR101392037B1

KR101392037B1 - 편광 액추에이터

Info

Publication number: KR101392037B1
Application number: KR1020110109191A
Authority: KR
Inventors: 미햐엘 페트라; 마틴 마이어
Original assignee: 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
Priority date: 2010-10-26
Filing date: 2011-10-25
Publication date: 2014-05-07
Also published as: KR20120043650A; DE102010042901B3; US20120099093A1; US8373847B2; JP2012104813A; JP5107456B2

Abstract

본 발명은 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔(4)을 포함하는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치로서, 광 빔에 대해 횡방향으로 이동 가능하고 이에 의해 광 빔은 광 빔이 광학 소자를 통과하는 경우에 영향을 받을 수 있고, 적어도 하나의 광 흡수 영역(9, 19, 29)을 갖는 적어도 하나의 광학 소자(5, 15, 25)가 제공되고, 상기 장치는 광학 소자를 위한 구동 장치, 광 빔의 광을 검출하기 위한 측정 장치, 및 제어 유닛을 포함하고, 제어 유닛은 구동 장치가 광 흡수 영역의 위치에 의존하는 방식으로 제어되도록 설계되는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 다중 미러 어레이를 포함하는 마이크로리소그래피를 위한 투영 노광 장치에 관한 것이고, 대응 장치 또는 투영 노광 장치를 작동시키기 위한 방법에 관한 것이다.

Description

편광 액추에이터 {POLARIZATION ACTUATOR}

본 발명은 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔을 포함하는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치에 관한 것이고, 복수의 광 빔에 의해 조명되는 다중 미러 어레이를 포함하는 마이크로리소그래피를 위한 투영 노광 장치에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔을 포함하는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 방법에 관한 것이고, 더 상세하게는 편광 방향을 변경하는 것에 대해 영향을 미치기 위한 방법에 관한 것이다.

마이크로리소그래피를 위한 투영 노광 장치는 마이크로 전자공학에서 또는 나노기술에서 매우 작은 치수를 갖는 구조물을 제조하는데 사용된다. 따라서, 구조물이 매우 높은 정확도로 결상될 수 있는 것이 필수적이다. 이를 위해, 액추에이터는 특정 구성요소를 정확하게 배치하기 위해 마이크로리소그래피를 위한 투영 노광 장치에 종종 사용되어야 한다.

한가지 예는 대응하는 조명 빔을 형성하기 위해, 2차원으로 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔이 마찬가지로 2차원으로 서로 나란히 배열되는 다중-미러 어레이의 마이크로 미러의 어레이 상으로 지향되는, 조명 유닛의 경우에 있다. 이 유형의 조명 유닛에서, 개별 광 빔의 편광 방향은 변경되도록 의도된다. 이를 위해, 예컨대 편광 회전자 플레이트의 형태인 편광기는 광 빔 배치의 빔 경로 또는 개별 광 빔의 빔 경로에 위치되어야 한다.

상기 기술된 광학 장치의 대응 구성요소의 정확한 위치 설정이 높은 복잡성과 이에 따른 높은 비용을 야기하기 때문에, 이를 위한 단순한 해결책을 모색할 필요가 있다.

따라서, 본 발명에 의해 다뤄지는 문제점은 마이크로리소그래피를 위한 투영 노광 장치의 광학 소자의 위치 설정 및 배열을 위한, 더 상세하게는 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔을 포함하는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 광학 소자의 배열을 위한 단순한 가능성을 제공하는 것이다.

상기 문제점은 제1항의 특징을 포함하는 장치, 제6항의 특징을 포함하는 투영 노광 장치, 및 제8항의 특징을 포함하는 방법에 의하여 해결된다. 종속항은 유용한 구성과 관련된다.

본 발명은 측정 장치가 광학 소자에 배열되는 광 흡수 영역에 의해 강도 변화를 검출한다는 사실에 의해, 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔을 포함하는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 광학 소자의 간단하고 정확한 위치 설정이 달성될 수 있고, 광학 소자의 배열이 이 방법으로 제어될 수 있다는 가정에 기초한다.

따라서, 광 빔에 대하여 횡방향으로 이동 가능하고 적어도 1개의 광 흡수 영역을 갖는 적어도 1개의 광학 소자가 제공되는, 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치가 제안된다. 이 경우에, 광 빔 배치에서의 광 빔의 배열은 1차원으로 서로 나란히, 그리고 2차원으로 서로 나란히 있을 수 있다. 또한, 광은 가시 파장 범위의 광뿐만 아니라 일반적으로 전자기 방사선을 의미하는 것으로 이해된다. 광 빔에 대한 횡방향으로의, 즉 광 빔 배치의 빔 방향에 대하여 횡방향으로의 광학 소자의 이동에 의해, 광학 소자는 광학 소자를 통한 투과 동안에 대응 광 빔에 영향을 미치기 위해 광 빔의 개별 빔 경로 내로, 또는 광 빔 배치의 개별 빔 경로 내로 이동될 수 있다. 광학 소자가 본 발명에 따른 광 -흡수 영역을 갖는다면, 광 흡수 영역은 추가적 빔 경로에서 쉐이딩(shading)을 발생시키고, 이는 측정 장치에 의해 검출될 수 있다. 따라서, 광 흡수 영역의 대응 위치는 결정될 수 있고, 광학 소자의 구동은 제어 유닛에 의하여 대응하여 제어될 수 있다. 광학 소자의 위치의 직접적인 검출은, 광학 소자를 위한 구동 장치를 간단한 형태로 설계하고 따라서 광학 소자를 이동시키고 위치 설정하기 위한 액추에이터에 대한 복잡성을 낮게 유지하는 것을 가능하게 한다.

특히, 또한 복수의 광학 소자는 광 빔의 빔 방향으로 앞뒤로 배열될 수 있고, 이는 개별적으로 또는 함께 이동 가능하다. 복수의 광학 소자의 공통 이동의 경우에는 광학 소자들 중 하나 상의 광 흡수 영역으로 충분한 반면, 광학 소자의 개별 이동의 경우에는 광학 소자 각각은 적어도 1개의 광 흡수 영역을 가져야 한다.

이 경우에, 광 흡수 영역은 개별 광학 소자에서 각 경우에 동일한 위치에 배열될 수 있거나, 광 흡수 영역은 광 빔의 빔 방향으로의 광 흡수 영역의 중첩이 광학 소자들의 어떤 위치에서도 발생되지 않도록, 즉 광 빔의 빔 방향으로의 광 흡수 영역의 중첩이 빔 경로에서의 광학 요소의 배치에 대한 가능성의 어떤 조합 경우에서도 회피되도록, 그들의 위치에서 상이할 수 있다. 그 결과 개별 광학 소자의 위치의 단순 확인이 가능하다.

본 발명에 의해서, 스텝퍼 모터와 같은 단순한 구동 장치는 예컨대 광학 소자의 정확한 위치 설정을 위해 사용될 수 있다.

보다 구체적으로, 광학 소자는 다중-미러 어레이 상으로 안내되는 광 빔의 편광을 설정하기 위해 투영 노광 장치의 조명 유닛에 사용되는, 바람직하게는 극 회전자 플레이트의 형태인 편광기일 수 있다.

따라서, 보다 구체적으로 본 발명에 따른 장치는 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔에 의해 조명되는 다중-미러 어레이를 포함하는 마이크로리소그래피를 위한 투영 노광 장치에 사용될 수 있고, 여기에서 투영 노광 장치의 퓨필(pupil) 평면에서 각 경우에 정확히 하나의 영역이 복수의 광 빔에 할당될 수 있다. 퓨필 평면에서의 대응 영역은 영향을 받도록 의도되는 광 빔에 할당될 수 있다. 결과적으로, 본 발명에 따라 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치에 제공되는 바와 같이, 퓨필 평면에 광 세기를 측정하기 위한 측정 장치가 제공될 수 있다. 보다 구체적으로, 투영 노광 장치의 퓨필 평면의 영역에서 다른 목적에 이미 사용된 측정 장치를 사용하는 것도 또한 가능하다. 이런 방식으로, 투영 노광 장치의 조명 유닛에서의 편광기의 정확한 위치 설정을 위한 비용이 더 감소될 수 있다.

첨부 도면에서, 순수하게 개략적인 방법으로,
도 1은 투영 노광 장치의 조명 유닛의 부분을 도시한다.
도 2는 도 1과 유사한 평면도로 투영 노광 장치의 조명 유닛의 추가 실시예의 예를 도시한다.
도 3은 90°만큼 2회 회전되는 도 2로부터의 장치의 도면(입사 광의 방향으로 90°만큼 회전된 측면도)을 도시한다.
도 4는 광 흡수 영역의 확인에 의한 도 3과 유사한 예를 도시한다.
도 5는 퓨필 평면의 영역 및 빔 경로의 상호 연관된 채널의 확인으로, 도 4에 도시된 조명 유닛과 연관되는 퓨필 평면의 예를 도시한다.
도 6은 광 흡수 영역의 확인으로 도 3 및 도 4에서의 예에 따른 투영 노광 장치의 조명 유닛의 추가 실시예의 예를 도시한다.
도 7은 퓨필 평면의 영역 및 빔 경로의 상호 연관된 채널의 확인으로, 도 6에서 조명 유닛과 연관되는 퓨필 평면의 예를 도시한다.

본 발명의 추가 장점, 특성 및 특징은 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 예시적인 실시예의 이하의 상세한 설명에서 명백해질 것이다.

도 1은 2차원으로 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔(4)으로 구성되는 대응 빔 배치로 변환되도록, 소위 포커싱 어레이(2), 즉 서로 나란히 그리고 앞뒤로 배열되는 포커싱 렌즈(3)의 어레이 상에 입사 광(1)이 충돌하는, 마이크로리소그래피를 위한 투영 노광 장치의 조명 유닛의 부분을 도시한다. 다중-미러 어레이의 미러(8)는 2차원으로 서로 나란히 배열되는 미러(8)의 어레이를 형성한다. 다중-미러 어레이(7)의 미러(8)에 의하여, 광 빔(4)은 이후 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 레티클의 조명을 위해 사용되는 광 빔을 형성하기 위해, 바람직한 방법으로 편향될 수 있다.

이 유형의 배열에서, 편광 회전자 플레이트(5)의 형태인 편광기가 제공되고, 이는 투영 노광 장치의 직선 편광 광이 편광 방향의 회전에 의해 변경될 수 있다는 것을 보장한다. 편광기(5)는 상기 편광기를 통과하는 광 빔(4)에 대한 편광 방향의 회전을 발생시키기 위해, 광 빔(4)에 대한 횡방향으로의 선형 이동에 의해, 또는 피봇 이동 등과 같은 임의의 다른 적절한 이동에 의해, 개별 광 빔(4)의 빔 경로에 유입될 수 있다.

도 2에서 명백한 바와 같이, 더 구체적으로 3개의 편광기(5, 15 및 25)는 광(1)의 빔 방향으로 앞뒤로 배열되고, 편광기들은 빔 경로 내로 이동되고 서로 독립적으로 그리고 개별적으로 다시 제거될 수 있다.

도 3은 입사 광(1)의 시점에서 본 편광기(5, 15 및 25)의 배열을 도시하고, 이 예는 광 입사 방향에 대하여 90°만큼 추가적으로 회전되었다. 따라서, 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔(4)으로 구성되는 빔 경로 내로 절반만이 이동된 편광기(5)는 도 3의 하반부의 영역에서 보일 수 있는 반면, 약간 추가로 이동된 편광기(15)는 편광기(5) 위에 보일 수 있고, 가장 많이 이동된 편광기(25)는 도 3에서 편광기들(15 및 5) 위에서 보일 수 있다. 다중-미러 어레이의 개별 미러(8)에 할당된 광 빔에 있어서, 2차원으로 서로 나란히 배열되고 광 빔이 통과하는 가공 채널(10)을 형성하는 것이 가능하다.

이에 따라, 도 3의 예에 따른 편광기(5, 15, 25)의 위치 설정의 경우에, 다중-미러 어레이(7)의 2개의 상부 채널 열의 채널(10)에서 진행하는 광 빔은 어떤 편광기(5, 15 및 25)도 통과하지 않기 때문에 그의 편광 방향 면에서 영향을 받지 않는다. 채널(10)의 수평 열 번호 3 및 4(상단으로부터 셈)을 통과하는 광 빔은 편광기(25)를 통과하고, 예컨대 편광기(25)의 편광 회전자 플레이트를 통하여 45°만큼의 편광 방향의 회전을 겪는다.

아래에 배열되는 채널 열의 채널(10)을 통과하는 광 빔은 편광기(25)를 통과할 뿐만 아니라 편광기(15)를 통과하여서, 편광기(15)가 편광기(25)와 동일한 방향으로 45°만큼의 회전을 야기하는 극 회전자 플레이트를 포함할지라도 90°만큼의 편광 방향의 회전 전체가 달성된다.

따라서, 도시된 낮은 3개 채널 열에서 채널(10)을 통과하는 광 빔은, 3개 편광기, 즉 편광기(5, 15 및 25)를 연속적으로 통과하는 것의 결과로서 영향을 받고 예컨대 그의 편광 방향으로 3번 회전된다.

편광기(5, 15, 25)의 변위의 결과로서, 이후 다양한 채널(10)을 통과하는 광 빔은 타겟 방법으로 그의 편광 방향으로 영향을 받을 수 있다. 따라서, 편광기(5, 15, 25)가 정확하게 위치 설정될 수 있는 것이 필요하다.

이를 위해, 본 발명은 편광기(5, 15, 25)가 예컨대 크롬 등과 같은 예컨대 용착된 금속 층의 형태인 광-흡수 영역(9, 19, 29)을 포함하도록 제공한다. 도 4에 도시된 예시적인 실시예에서, 광 흡수 영역(9, 19, 29)은 도시된 예시적인 실시예에서 편광기(5, 15, 25)에서, 즉 극 회전자 플레이트의 상단 우측 코너에서 각 경우에 동일한 위치에 제공된다.

도 5로부터 명백한 바와 같이, 특정 영역(11)은 퓨필 평면(12)에서 채널(10) 각각에 할당될 수 있고 대문자 A 내지 H로 동일한 명칭으로 인식된다.

측정 장치는 퓨필 평면(12)에 이제 배열될 수 있고, 상기 측정 장치는 광 세기를 검출한다. 이러한 측정 장치는 투영 노광 장치에서 또한 다른 목적을 위해 이미 제공될 수 있고 본 발명에 부수적으로 사용될 수 있다. 채널(C, E 및 F)의 영역에 배열되는 광 흡수 영역(9, 19, 29)에 의해, C, E 및 F로 인식되는 영역(11)에서 퓨필 평면(12)에서 낮은 방사 강도가 확인될 수 있거나 어떤 방사 강도도 확인될 수 없어서, 특히 프로그래밍시 이에 따라 구성되는 데이터 프로세싱 장치 형태인 대응 제어 및/또는 평가 유닛에 의해, 편광기(5, 15, 25)가 빔 경로에서의 대응 위치에서 그들의 광 흡수 영역(9, 19, 29)과 함께 배치되어야 하는 것을 확인하는 것이 가능하다.

그러나, 퓨필 평면(12)의 광 세기의 측정으로부터, 편광기(5, 15, 25)의 광 흡수 영역(9, 19, 29)이 각 경우에 편광기(5, 15, 25)의 동일한 위치에 제공되기 때문에, 어느 편광기가 퓨필 평면(12)에서의 어느 영역(11)을 커버할 책임이 있는지를 확인하는 것이 직접적으로 가능하지 않다. 그러나, 이는 편광기(5, 15, 25)의 이동의 초기 조정 및 후속 트래킹 동안에 결정될 수 있다.

대안으로, 도 6에서 광 흡수 영역(9', 19', 29')이 도시된 바와 같이, 앞뒤로 배열되는 편광기(5, 15, 25)의 광 흡수 영역(9, 19, 29)은 편광기(5, 15, 25)의 다양한 위치에 제공될 수 있다. 도 4의 예시적인 실시예에서와 같이 편광기(25)의 광 흡수 영역(29)은 극 회전자 플레이트의 상단 우측 코너에 다시 한번 배열되는 한편, 편광기(5)의 광 흡수 영역(9') 및 편광기(15)의 광 흡수 영역(19')은 잔여 편광기의 다른 광 흡수 영역에 대하여 적어도 1개의 채널 폭만큼 오프셋되는 영역에서 특히 정확하도록 다른 위치에 배열된다.

따라서, 내향 및 외향 이동의 경우에, 편광기(5)는 대문자 A 내지 H로 표시된 채널(10)만을 그의 광 -흡수 영역(9')으로 덮을 것이고, 한편 편광기(15)는 A' 내지 H' 표시를 갖는 채널(10)을 그의 광 흡수 영역(19')으로 덮을 수 있고, 편광기(25)는 A" 내지 H"로 표시된 채널(10)을 그의 광 흡수 영역(29)으로 덮을 수 있다. 따라서, 퓨필 평면에서, 예컨대 도 5의 예시적인 실시예에서의 경우와 같이, 어떤 중첩도 발생할 수 없기 때문에, 광 흡수 영역(9', 19', 29)에 의해 발생된 쉐이딩은 서로 정밀하게 분리될 수 있다.

따라서, 개별 편광기(5, 15 및 25)의 위치는 퓨필 평면(12)에서 광 세기의 검출에 의해 결정될 수 있고, 이에 따라 편광기(5, 15 및 25)의 이동이 제어될 수 있다. 예컨대, 도 6에 나타난 바와 같이, 채널(10)의 낮은 3개 열을 통하여 안내되는 빔이 편광기(5)를 통과하도록 의도될 정도로 빔 배치의 빔 경로 내로 편광기(5)가 이동되도록 의도된다면, 광 흡수 영역(9')은 대문자 F로 인식된 채널(10)의 영역에 배열된다. 이를 위해, 어떤 광 세기도 확인될 수 없거나 약간의 광 세기가 확인될 수 있도록, 도 7에서 대문자 F로 인식되는 영역(11)이 광 흡수 영역(9')에 의해 이제 커버되는지를 퓨필 평면(12)에서의 측정 장치가 확인할 때까지 선형 이동을 수행하기 위해, 편광기(5)는 스텝퍼 모터 등과 같은 구동 장치에 의해 구동된다. 따라서, 이후 편광기(5)의 이동은 중단될 수 있고, 편광기(5)는 올바른 위치에 배열된다. 그 결과로서, 편광기(5)의 정확한 위치 설정을 위해 예컨대 스텝퍼 모터와 같은 단순한 설계의 구동 장치를 사용하는 것이 가능하다. 대응하는 편광기(15 및 25)는 유사한 방식으로 제어되고 이동된다.

본 발명이 예시적인 실시예를 기초로 하여 상세히 기술되었을지라도, 본 발명이 이러한 예시적인 실시예로 제한되지 않고 오히려 본 발명이 다른 환경에서 사용될 수도 있고 첨부된 특허청구범위의 보호 범위로부터 벗어나지 않는 한 기술된 개별 특징들이 생략되거나 기술된 특징들의 다양한 조합이 실현되는 방식으로 변형이 이루어질 수 있다는 것이 당해 분야의 숙련자에게 자명하다. 특히, 본 발명은 개별적으로 기술된 모든 특징들의 모든 조합을 포함한다.

Claims

서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔을 포함하는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치에 있어서,
상기 장치는 적어도 하나의 광학 소자(5, 15, 25)를 구비하고,
적어도 하나의 광학 소자(5, 15, 25)가 광 빔(4)에 대해 횡방향으로 이동 가능하고 이에 의해 광 빔(4)은 광 빔이 광학 소자(5, 15, 25)를 통과하는 경우에 영향을 받을 수 있고, 적어도 하나의 광 흡수 영역(9, 19, 29)을 갖고,
상기 장치는 광학 소자를 위한 구동 장치, 광 빔의 광을 검출하기 위한 측정 장치, 및 제어 유닛을 포함하고,
제어 유닛은 구동 장치가 광 흡수 영역의 위치에 의존하는 방식으로 제어되도록 설계되고,
광학 소자는 편광기인
광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치.
제1항에 있어서,
복수의 광학 소자(5, 15, 25)는 광 빔의 빔 방향으로 앞뒤로 배열되고, 개별적으로 또는 함께 이동 가능한 것을 특징으로 하는
광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치.
제2항에 있어서,
복수의 광학 소자의 경우에, 광 흡수 영역(9, 19, 29)은 개별 광학 소자에서 각 경우에 동일한 위치에 배열되거나, 또는 광 빔의 빔 방향으로의 광학 소자의 임의의 위치에서 중첩되지 않도록 배열되는 것을 특징으로 하는
광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
구동 장치는 스텝퍼 모터인 것을 특징으로 하는
광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치.
삭제
투영 노광 장치의 퓨필 평면(12)에서 각 영역(11)이 복수의 광 빔(4)에 할당되도록, 복수의 광 빔(4)에 의해 조명되는 다중 미러 어레이(7)를 포함하는 마이크로리소그래피를 위한 투영 노광 장치에 있어서,
투영 노광 장치는 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔을 포함하는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치를 구비하고,
상기 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치는 적어도 하나의 광학 소자(5, 15, 25)를 구비하고,
적어도 하나의 광학 소자(5, 15, 25)가 광 빔(4)에 대해 횡방향으로 이동 가능하고 이에 의해 광 빔(4)은 광 빔이 광학 소자(5, 15, 25)를 통과하는 경우에 영향을 받을 수 있고, 적어도 하나의 광 흡수 영역(9, 19, 29)을 갖고,
상기 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치는 광학 소자를 위한 구동 장치, 광 빔의 광을 검출하기 위한 측정 장치, 및 제어 유닛을 포함하고,
제어 유닛은 구동 장치가 광 흡수 영역의 위치에 의존하는 방식으로 제어되도록 설계되는 것을 특징으로 하는
투영 노광 장치.
제6항에 있어서,
복수의 광학 소자(5, 15, 25)는 광 빔의 빔 방향으로 앞뒤로 배열되고, 개별적으로 또는 함께 이동 가능한 것을 특징으로 하는
투영 노광 장치.
제7항에 있어서,
복수의 광학 소자의 경우에, 광 흡수 영역(9, 19, 29)은 개별 광학 소자에서 각 경우에 동일한 위치에 배열되거나, 또는 광 빔의 빔 방향으로의 광학 소자의 임의의 위치에서 중첩되지 않도록 배열되는 것을 특징으로 하는
투영 노광 장치.
제6항에 있어서,
구동 장치는 스텝퍼 모터인 것을 특징으로 하는
투영 노광 장치.
제6항에 있어서,
광학 소자는 편광기인 것을 특징으로 하는
투영 노광 장치.
제6항에 있어서,
측정 장치는 퓨필 평면(12)에서 광 세기를 측정하기 위한 장치에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는
투영 노광 장치.
제7항에 있어서,
측정 장치는 퓨필 평면(12)에서 광 세기를 측정하기 위한 장치에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는
투영 노광 장치.
제8항에 있어서,
측정 장치는 퓨필 평면(12)에서 광 세기를 측정하기 위한 장치에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는
투영 노광 장치.
제9항에 있어서,
측정 장치는 퓨필 평면(12)에서 광 세기를 측정하기 위한 장치에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는
투영 노광 장치.
제10항에 있어서,
측정 장치는 퓨필 평면(12)에서 광 세기를 측정하기 위한 장치에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는
투영 노광 장치.
서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔을 포함하는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치, 또는 제6항 내지 제8항 및 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 따른 투영 노광 장치를 이용하여, 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔(4)을 포함하는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 방법에 있어서,
상기 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치는 적어도 하나의 광학 소자(5, 15, 25)를 구비하고, 적어도 하나의 광학 소자(5, 15, 25)가 광 빔(4)에 대해 횡방향으로 이동 가능하고 이에 의해 광 빔(4)은 광 빔이 광학 소자(5, 15, 25)를 통과하는 경우에 영향을 받을 수 있고, 적어도 하나의 광 흡수 영역(9, 19, 29)을 갖고, 상기 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치는 광학 소자를 위한 구동 장치, 광 빔의 광을 검출하기 위한 측정 장치, 및 제어 유닛을 포함하고, 제어 유닛은 구동 장치가 광 흡수 영역의 위치에 의존하는 방식으로 제어되도록 설계되고,
광 빔에 대해 횡방향으로 이동 가능하고 이에 의해 광 빔(4)은 광 빔이 광학 소자를 통과하는 경우에 영향을 받을 수 있고, 적어도 하나의 광 흡수 영역을 갖는, 적어도 하나의 광학 소자(5, 15, 25)를 제공하는 단계와,
광학 소자를 위한 구동 장치를 제공하는 단계와,
광 빔의 광을 검출하기 위한 측정 장치를 제공하는 단계를 포함하고,
광학 소자는 바람직한 광 빔이 영향을 받은 위치를 추정하도록 광 흡수 영역(9, 19, 29)의 위치에 의존하는 방식으로 구동되는 것을 특징으로 하는
광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 방법
서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔을 포함하는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치를 이용하여, 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔(4)을 포함하는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 방법에 있어서,
상기 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치는 적어도 하나의 광학 소자(5, 15, 25)를 구비하고, 적어도 하나의 광학 소자(5, 15, 25)가 광 빔(4)에 대해 횡방향으로 이동 가능하고 이에 의해 광 빔(4)은 광 빔이 광학 소자(5, 15, 25)를 통과하는 경우에 영향을 받을 수 있고, 적어도 하나의 광 흡수 영역(9, 19, 29)을 갖고, 상기 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 장치는 광학 소자를 위한 구동 장치, 광 빔의 광을 검출하기 위한 측정 장치, 및 제어 유닛을 포함하고, 제어 유닛은 구동 장치가 광 흡수 영역의 위치에 의존하는 방식으로 제어되도록 설계되고, 구동 장치는 스텝퍼 모터이고,
광 빔에 대해 횡방향으로 이동 가능하고 이에 의해 광 빔(4)은 광 빔이 광학 소자를 통과하는 경우에 영향을 받을 수 있고, 적어도 하나의 광 흡수 영역을 갖는, 적어도 하나의 광학 소자(5, 15, 25)를 제공하는 단계와,
광학 소자를 위한 구동 장치를 제공하는 단계와,
광 빔의 광을 검출하기 위한 측정 장치를 제공하는 단계를 포함하고,
광학 소자는 바람직한 광 빔이 영향을 받은 위치를 추정하도록 광 흡수 영역(9, 19, 29)의 위치에 의존하는 방식으로 구동되는 것을 특징으로 하는
광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 방법.
제1항에 따른 장치를 이용하여, 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔(4)을 포함하는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 방법에 있어서,
광 빔에 대해 횡방향으로 이동 가능하고 이에 의해 광 빔(4)은 광 빔이 광학 소자를 통과하는 경우에 영향을 받을 수 있고, 적어도 하나의 광 흡수 영역을 갖는, 적어도 하나의 광학 소자(5, 15, 25)를 제공하는 단계와,
광학 소자를 위한 구동 장치를 제공하는 단계와,
광 빔의 광을 검출하기 위한 측정 장치를 제공하는 단계를 포함하고,
광학 소자는 바람직한 광 빔이 영향을 받은 위치를 추정하도록 광 흡수 영역(9, 19, 29)의 위치에 의존하는 방식으로 구동되는 것을 특징으로 하는
광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 방법.
제9항에 따른 투영 노광 장치를 이용하여, 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔(4)을 포함하는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 방법에 있어서,
광 빔에 대해 횡방향으로 이동 가능하고 이에 의해 광 빔(4)은 광 빔이 광학 소자를 통과하는 경우에 영향을 받을 수 있고, 적어도 하나의 광 흡수 영역을 갖는, 적어도 하나의 광학 소자(5, 15, 25)를 제공하는 단계와,
광학 소자를 위한 구동 장치를 제공하는 단계와,
광 빔의 광을 검출하기 위한 측정 장치를 제공하는 단계를 포함하고,
광학 소자는 바람직한 광 빔이 영향을 받은 위치를 추정하도록 광 흡수 영역(9, 19, 29)의 위치에 의존하는 방식으로 구동되는 것을 특징으로 하는
광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 방법.
제10항에 따른 투영 노광 장치를 이용하여, 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔(4)을 포함하는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 방법에 있어서,
광 빔에 대해 횡방향으로 이동 가능하고 이에 의해 광 빔(4)은 광 빔이 광학 소자를 통과하는 경우에 영향을 받을 수 있고, 적어도 하나의 광 흡수 영역을 갖는, 적어도 하나의 광학 소자(5, 15, 25)를 제공하는 단계와,
광학 소자를 위한 구동 장치를 제공하는 단계와,
광 빔의 광을 검출하기 위한 측정 장치를 제공하는 단계를 포함하고,
광학 소자는 바람직한 광 빔이 영향을 받은 위치를 추정하도록 광 흡수 영역(9, 19, 29)의 위치에 의존하는 방식으로 구동되는 것을 특징으로 하는
광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 방법.
제14항에 따른 투영 노광 장치를 이용하여, 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔(4)을 포함하는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 방법에 있어서,
광 빔에 대해 횡방향으로 이동 가능하고 이에 의해 광 빔(4)은 광 빔이 광학 소자를 통과하는 경우에 영향을 받을 수 있고, 적어도 하나의 광 흡수 영역을 갖는, 적어도 하나의 광학 소자(5, 15, 25)를 제공하는 단계와,
광학 소자를 위한 구동 장치를 제공하는 단계와,
광 빔의 광을 검출하기 위한 측정 장치를 제공하는 단계를 포함하고,
광학 소자는 바람직한 광 빔이 영향을 받은 위치를 추정하도록 광 흡수 영역(9, 19, 29)의 위치에 의존하는 방식으로 구동되는 것을 특징으로 하는
광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 방법.
제15항에 따른 투영 노광 장치를 이용하여, 서로 나란히 배열되는 복수의 광 빔(4)을 포함하는 광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 방법에 있어서,
광 빔에 대해 횡방향으로 이동 가능하고 이에 의해 광 빔(4)은 광 빔이 광학 소자를 통과하는 경우에 영향을 받을 수 있고, 적어도 하나의 광 흡수 영역을 갖는, 적어도 하나의 광학 소자(5, 15, 25)를 제공하는 단계와,
광학 소자를 위한 구동 장치를 제공하는 단계와,
광 빔의 광을 검출하기 위한 측정 장치를 제공하는 단계를 포함하고,
광학 소자는 바람직한 광 빔이 영향을 받은 위치를 추정하도록 광 흡수 영역(9, 19, 29)의 위치에 의존하는 방식으로 구동되는 것을 특징으로 하는
광 빔 배치에 영향을 미치기 위한 방법.