KR101377052B1 - Semiconductor process monitoring system and semiconductor process monitoring method thereof - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 공정 모니터링 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 공정 내부 온도를 측정하는 온도 측정부와, 반도체 공정 내부 습도를 측정하는 습도 측정부로 구성되는 온습도 측정부; 반도체 공정 내부 가스농도를 측정하는 가스농도 측정부; 상기 온습도 측정부 및 가스농도 측정부로부터 얻은 온도값, 습도값 또는 가스농도값을 무선송신이 가능한 데이터로 변환하는 데이터 변환부와, 상기 데이터 변환부에서 변환된 데이터를 모바일 단말에 무선 전송하는 통신부와, 상기 온습도 측정부 및 가스농도 측정부로부터 얻은 데이터를 기준데이터와 비교 판단하는 프로그램이 내장된 제어부 및 상기 데이터 변환부에서 변환된 데이터를 저장하는 저장부;를 포함하는 중앙서버; 온습도 측정부 및 가스농도 측정부로부터 측정된 데이터를 상기 중앙서버로부터 수신하고, 수신한 측정 데이터를 구비된 디스플레이에 표시하는 모바일 단말;을 포함하여 구성되고, 상기 제어부에 내장된 프로그램의 기준데이터는 반도체 공정 과정에 영향을 끼치지 않는 온도, 습도 및 가스농도 수치이며, 상기 모바일 단말은 상기 중앙서버로부터 무선통신을 이용하여 데이터를 수신하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정 모니터링 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor process monitoring apparatus, and more particularly, a temperature and humidity measuring unit including a temperature measuring unit measuring a semiconductor process internal temperature and a humidity measuring unit measuring a semiconductor process internal humidity; A gas concentration measuring unit measuring a gas concentration in the semiconductor process; A data conversion unit for converting the temperature value, humidity value or gas concentration value obtained from the temperature and humidity measurement unit and the gas concentration measurement unit into data capable of wireless transmission, and a communication unit wirelessly transmitting the data converted by the data conversion unit to the mobile terminal. And a central server including a control unit having a program for comparing data obtained from the temperature and humidity measuring unit and the gas concentration measuring unit with reference data, and a storage unit storing the data converted by the data conversion unit. And a mobile terminal for receiving data measured from a temperature and humidity measuring unit and a gas concentration measuring unit from the central server and displaying the received measurement data on a display provided with the reference data of the program embedded in the controller. Temperature, humidity and gas concentration values that do not affect the semiconductor process process, the mobile terminal relates to a semiconductor process monitoring device, characterized in that for receiving data from the central server using wireless communication.
Description
본 발명은 반도체 공정 모니터링 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 제조 공정의 동작 상태뿐만 아니라, 제조 공정의 온도 또는 가스 누출 여부 등의 주변환경 정보를 실시간으로 모바일 단말을 이용하여 모니터링 가능한 반도체 공정 모니터링 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor process monitoring apparatus, and more particularly, semiconductor process monitoring capable of monitoring not only an operating state of a semiconductor manufacturing process but also surrounding environment information such as temperature or gas leakage of a manufacturing process using a mobile terminal in real time. Relates to a device.
일반적으로 반도체 제품의 생산 공정에서는 염소, 염화수소, 브롬수소 등의 인체에 유해한 가스들이 사용되고, 반도체 제조 공정에 참여하는 작업자들은 유해 환경에 노출될 가능성을 항상 가지고 있다.In general, in the production process of semiconductor products, gases harmful to the human body such as chlorine, hydrogen chloride, and bromine hydrogen are used, and workers participating in the semiconductor manufacturing process always have a possibility of being exposed to harmful environment.
그리고, 반도체 제품의 생산 공정에서의 온도 또는 습도의 변화가 반도체 생산 공정에 영향을 미칠 수 있으므로, 온도 및 습도의 상태 변화를 항상 관찰해야 했다.In addition, since a change in temperature or humidity in the production process of the semiconductor product may affect the semiconductor production process, the state change of temperature and humidity should always be observed.
상기와 같이 반도체 제품 생산 공정의 온도, 습도 및 가스노출여부와 같은 반도체 생산 공정 환경 정보는 관리실의 관리자에게 전달되었다. 관리자는 가스노출여부(농도), 온습도 변화에 대한 상태정보를 모니터링 함으로써 반도체 생산 공정 환경을 일정하게 유지하도록 관리하였다.As described above, the semiconductor production process environment information such as temperature, humidity, and gas exposure of the semiconductor product production process was transferred to the manager of the management room. The manager managed to keep the semiconductor production process environment constant by monitoring gas exposure (concentration) and status information on changes in temperature and humidity.
또한, 반도체 제품 생산 공정에서 발생할 수 있는 이상 상황 들을 영상으로 관리실에 전송함으로써, 이상 상황 발생 시 관리자가 신속하게 대응할 수 있도록 하였다.In addition, by sending anomalies that may occur in the semiconductor product production process to the management room, the manager can quickly respond to any anomalies.
그러나, 상기와 같은 종래의 반도체 제품 생산 공정 모니터링 시스템은 관리실에서만 가스누출여부, 온습도 변화 및 영상을 모니터링 할 수 있었기 때문에 해당 관리자가 자리를 잠시 비우게 되는 경우, 반도체 제품 생산 공정에 발생하는 상황을 모니터링 하여 대응하기 힘들다는 단점이 있었다.However, since the conventional semiconductor product production process monitoring system as described above could monitor gas leakage, temperature and humidity changes, and images only in the control room, if the manager is temporarily away from the office, the situation occurring in the semiconductor product production process is monitored. It was difficult to cope with.
또한, 일부 발암 가스의 경우에는 역치가 존재하지 않으므로 가스 발생량을 상시 모니터링하여 저장하고 시간별로 발생량을 누적하여 기록해야 할 필요가 있었다. In addition, for some carcinogenic gases, there is no threshold value, so it was necessary to constantly monitor and store the amount of gas generated and accumulate the amount generated over time.
본 발명은 상기 기술한 단점을 보완하기 위하여 반도체 생산 공정의 온도, 습도 및 가스누출여부와 같은 주변환경 정보를 모바일 단말에서 모니터링 및 즉각적인 상황 대응이 가능한 반도체 공정 모니터링 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a semiconductor process monitoring device capable of monitoring the immediate environment information, such as the temperature, humidity and gas leakage of the semiconductor production process in the mobile terminal and immediately respond to the above-mentioned disadvantages.
그리고, 반도체 생산 공정 내부의 영상을 모바일 단말에서 모니터링 가능하고 공정에서 이상 상황 발생 시 모바일 단말에 경고음을 송출함으로써, 관리자가 즉각적으로 대응 가능한 반도체 공정 모니터링 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Further, an object of the present invention is to provide a semiconductor process monitoring apparatus capable of monitoring an image of a semiconductor production process in a mobile terminal and sending an alert sound to the mobile terminal when an abnormal situation occurs in the process.
또한, 반도체 생산 공정 주변환경 변수 이상 상황 발생 내역을 서버의 저장장치에 기록하여 유해 상황 발생시의 책임 소재를 명확히 하고, 관리자가 공정 관리를 용이하도록 하는 반도체 공정 모니터링 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is also an object of the present invention to provide a semiconductor process monitoring device that records the occurrence of abnormal situation of environmental variables around the semiconductor production process in the storage device of the server to clarify the responsibility for occurrence of a hazardous situation and to facilitate the process management by the manager.
상기한 종래 문제점을 해결하고 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 공정 모니터링 장치는,The semiconductor process monitoring apparatus of the present invention for solving the above-mentioned conventional problems and achieving the above object,
반도체 공정 내부 온도를 측정하는 온도 측정부와, 반도체 공정 내부 습도를 측정하는 습도 측정부로 구성되는 온습도 측정부; 반도체 공정 내부 가스농도를 측정하는 가스농도 측정부; 상기 온습도 측정부 및 가스농도 측정부로부터 얻은 온도값, 습도값 또는 가스 농도값을 무선송신이 가능한 데이터로 변환하는 데이터 변환부와, 상기 데이터 변환부에서 변환된 데이터를 모바일 단말에 무선 전송하는 통신부와, 상기 온습도 측정부 및 가스농도 측정부로부터 얻은 데이터를 기준데이터와 비교 판단하는 프로그램이 내장된 제어부 및, 상기 데이터 변환부에서 변환된 데이터를 저장하는 저장부를 포함하는 중앙서버; 온습도 측정부 및 가스농도 측정부로부터 측정된 데이터를 상기 중앙서버로부터 수신하고, 수신한 측정 데이터를 구비된 디스플레이에 표시하는 모바일 단말;을 포함하여 구성되고, 상기 제어부에 내장된 프로그램의 기준데이터는 반도체 공정 과정에 영향을 끼치지 않는 온도, 습도 및 가스농도 수치이며, 상기 모바일 단말은 상기 중앙서버로부터 무선통신을 이용하여 데이터를 수신하는 것을 특징으로 한다.A temperature and humidity measurement unit including a temperature measuring unit measuring a semiconductor process internal temperature and a humidity measuring unit measuring a semiconductor process internal humidity; A gas concentration measuring unit measuring a gas concentration in the semiconductor process; Data conversion unit for converting the temperature value, humidity value or gas concentration value obtained from the temperature and humidity measuring unit and the gas concentration measuring unit into data capable of wireless transmission, and a communication unit for wirelessly transmitting the data converted by the data conversion unit to the mobile terminal And a central server including a control unit in which a program for comparing and determining data obtained from the temperature and humidity measuring unit and the gas concentration measuring unit with reference data, and a storage unit storing the data converted by the data conversion unit; And a mobile terminal for receiving data measured from a temperature and humidity measuring unit and a gas concentration measuring unit from the central server and displaying the received measurement data on a display provided with the reference data of the program embedded in the controller. Temperature, humidity and gas concentration values that do not affect the semiconductor process, the mobile terminal is characterized in that for receiving data from the central server using wireless communication.
본 발명에 있어서, 상기 제어부에 내장된 프로그램의 기준 데이터는 온도 상한값, 온도 하한값을 포함함으로써, 제어부의 프로그램에서 상기 온도 측정부로부터 수신한 온도값과 기준 데이터를 각각 비교하고, 상기 온도 측정부로부터 수신한 온도값이 상기 온도 상한값을 초과하거나, 상기 온도 하한값보다 미만인 경우 경고신호를 상기 모바일 단말에 전송하며, 제어부에서 발생한 경고신호는 상기 통신부를 통하여 모바일 단말에 전송되고, 모바일 단말에서 경고음을 출력하는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the reference data of the program built into the control unit includes a temperature upper limit value and a temperature lower limit value, thereby comparing the temperature value received from the temperature measurement unit with the reference data in the program of the control unit, respectively, and from the temperature measuring unit If the received temperature value exceeds the upper temperature limit or less than the lower temperature limit, a warning signal is transmitted to the mobile terminal, and a warning signal generated from the control unit is transmitted to the mobile terminal through the communication unit, and a warning sound is output from the mobile terminal. Characterized in that.
또한, 본 발명에 있어서, 상기 제어부에 내장된 프로그램의 기준 데이터는 습도 상한값, 습도 하한값을 포함함으로써, 제어부의 프로그램에서 상기 습도 측정부로부터 수신한 습도값과 기준 데이터를 각각 비교하고, 상기 습도 측정부로부터 수신한 습도값이 상기 습도 상한값을 초과하거나, 상기 습도 하한값보다 미만인 경우 경고신호를 상기 모바일 단말에 전송하며, 제어부에서 발생한 경고신호는 상기 통신부를 통하여 모바일 단말에 전송되고, 모바일 단말에서 경고음을 출력하는 것을 특징으로 한다.In addition, in the present invention, the reference data of the program built into the control unit includes a humidity upper limit value and a humidity lower limit value, thereby comparing the humidity value received from the humidity measurement unit with the reference data in the program of the control unit, respectively, and measuring the humidity. When the humidity value received from the unit exceeds the humidity upper limit value, or less than the humidity lower limit value, and transmits a warning signal to the mobile terminal, the warning signal generated in the control unit is transmitted to the mobile terminal through the communication unit, a warning sound in the mobile terminal It characterized in that the output.
그리고, 본 발명에 있어서, 상기 제어부에 내장된 프로그램의 기준 데이터는 가스농도 상한값, 가스농도 하한값을 포함하으로써, 제어부의 프로그램에서 상기 가스농도 측정부로부터 수신한 가스농도값과 기준데이터를 각각 비교하고, 상기 가스농도 측정부로부터 수신한 가스농도값이 상기 가스농도 상한값을 초과하는 경우 경고신호를 상기 모바일 단말에 전송하며, 제어부에서 발생한 경고신호는 상기 통신부를 통하여 모바일 단말에 전송되고, 모바일 단말에서 경고음을 출력하는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the reference data of the program built into the control unit includes a gas concentration upper limit value and a gas concentration lower limit value, so that the gas concentration value received from the gas concentration measurement unit in the program of the control unit is compared with the reference data, respectively. And, if the gas concentration value received from the gas concentration measuring unit exceeds the gas concentration upper limit value, and sends a warning signal to the mobile terminal, the warning signal generated in the control unit is transmitted to the mobile terminal through the communication unit, the mobile terminal It is characterized by outputting a warning sound.
여기서, 온도 제어부를 더 포함하여 구성함으로써, 상기 온도 측정부로부터 수신한 온도값이 상기 온도 상한값을 초과하는 경우, 반도체 공정 내부 온도를 자동으로 하향 조정하고, 상기 온도 측정부로부터 수신한 온도값이 상기 온도 하한값보다 미만인 경우, 반도체 공정 내부 온도를 자동으로 상향 조정하는 것을 특징으로 한다.Here, by further comprising a temperature control unit, when the temperature value received from the temperature measuring unit exceeds the upper temperature limit, the internal temperature of the semiconductor process is automatically adjusted downward, and the temperature value received from the temperature measuring unit is When the temperature is less than the lower limit, the semiconductor process internal temperature is automatically adjusted upward.
또한, 습도 제어부를 더 포함하여 구성함으로써, 상기 습도 측정부로부터 수신한 습도값이 상기 습도 상한값을 초과하는 경우, 반도체 공정 내부 습도를 자동으로 하향 조정하고, 상기 습도 측정부로부터 수신한 습도값이 상기 습도 하한값보다 미만인 경우, 반도체 공정 내부 습도를 자동으로 상향 조정하는 것을 특징으로 한다.
In addition, by further comprising a humidity control unit, when the humidity value received from the humidity measuring unit exceeds the upper limit of the humidity, the internal humidity of the semiconductor process is automatically adjusted downward, and the humidity value received from the humidity measuring unit is When the humidity is less than the lower limit, it is characterized in that the internal humidity of the semiconductor process is automatically adjusted upward.
반도체 공정 모니터링 장치를 이용한 반도체 공정 모니터링 방법은, 온습도 측정부에서 반도체 공정 내부의 온도 및 습도를 측정하는 온도 및 습도 측정 단계; 가스농도 측정부에서 반도체 공정 내부의 가스농도를 측정하는 가스농도 측정 단계; 데이터 변환부에서 온도정보, 습도정보 및 가스농도 정보를 무선송신 가능한 데이터로 변환하는 데이터 변환단계; 측정된 온도값을 제어부에 미리 입력된 온도 상한값 및 온도 하한값과 비교하고, 측정된 습도값을 제어부에 미리 입력된 습도 상한값 및 습도 하한값과 비교하는 온도 및 습도 비교단계; 측정된 가스농도값을 제어부에 미리 입력된 가스농도 상한값과 비교하는 가스농도 비교단계; 온도 및 습도 비교단계로부터 온도값과 습도값이 각각 그것의 기준치를 벗어나거나 가스농도 비교단계로부터 가스농도값이 기준치를 벗어나는 경우 경고신호를 발생하는 단계; 변환된 온도정보, 습도정보 및 가스농도정보를 저장부에 저장하는 저장단계; 변환된 온도정보, 습도정보, 가스농도 정보 및 경고신호를 통신부에 전달하고, 통신부에서는 무선통신을 이용하여 모바일 단말로 정보를 전송하는 정보 전송단계; 모바일 단말에서 수신한 온도정보, 습도정보, 가스농도정보를 모니터링하는 정보 모니터링 단계; 모바일 단말에서 수신한 경고신호를 통해 경고음을 송출하는 경고음 송출단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.A semiconductor process monitoring method using a semiconductor process monitoring apparatus includes: a temperature and humidity measuring step of measuring a temperature and humidity inside a semiconductor process by a temperature and humidity measuring unit; A gas concentration measuring step of measuring a gas concentration in the semiconductor process by the gas concentration measuring unit; A data conversion step of converting temperature information, humidity information, and gas concentration information into wirelessly transmittable data by the data conversion unit; A temperature and humidity comparison step of comparing the measured temperature value with a temperature upper limit value and a temperature lower limit value previously input to the controller, and comparing the measured humidity value with a humidity upper limit value and a humidity lower limit value previously input to the controller; A gas concentration comparing step of comparing the measured gas concentration value with a gas concentration upper limit value previously input to the controller; Generating a warning signal when the temperature value and the humidity value are respectively out of its reference value from the temperature and humidity comparison step or the gas concentration value is out of the reference value from the gas concentration comparison step; A storage step of storing the converted temperature information, humidity information, and gas concentration information in a storage unit; An information transmission step of transmitting the converted temperature information, humidity information, gas concentration information, and warning signal to the communication unit, and the communication unit transmitting information to the mobile terminal using wireless communication; An information monitoring step of monitoring temperature information, humidity information, and gas concentration information received from the mobile terminal; And a warning sound transmitting step of transmitting a warning sound through the warning signal received from the mobile terminal.
본 발명의 반도체 공정 모니터링 장치를 이용한 반도체 공정 모니터링 방법에 있어서, 상기 온도 및 습도 비교단계에서 온도가 제어부에 미리 입력된 온도 상한값을 초과하거나 온도 하한값 미만인 경우, 온도 제어부에서 반도체 공정 내부 온도를 자동으로 하향 조정 또는 상향 조정하는 온도조정단계와; 상기 온도 및 습도 비교단계에서 습도가 제어부에 미리 입력된 습도 상한값을 초과하거나 습도 하한값 미만인 경우, 습도 제어부에서 반도체 공정 내부 습도를 자동으로 하향 조정 또는 상향 조정하는 습도조정단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In the semiconductor process monitoring method using the semiconductor process monitoring apparatus of the present invention, in the temperature and humidity comparison step, when the temperature exceeds the temperature upper limit value previously input or less than the temperature lower limit value, the temperature controller automatically adjusts the internal temperature of the semiconductor process. A temperature adjusting step of adjusting downward or upward; And a humidity adjusting step of automatically adjusting or lowering the internal humidity of the semiconductor process by the humidity control unit when the humidity exceeds the humidity upper limit value or less than the humidity lower limit value previously input to the controller in the temperature and humidity comparison step. It is done.
이러한 본 발명의 특징에 따르면, 본 발명의 반도체 공정 모니터링 장치는 관리자가 반도체 공정 장치에 상주하며 모니터링 하는 것이 아니라 원거리에서도 모바일 단말을 사용함으로써 관리자가 반도체 공정 내부의 온도, 습도 또는 가스누출 여부 등을 실시간으로 모니터링 할 수 있다는 효과가 있다.According to the characteristics of the present invention, the semiconductor process monitoring apparatus of the present invention, by using the mobile terminal at a remote location, instead of the manager resides in the semiconductor process apparatus for monitoring, whether the manager can check the temperature, humidity or gas leakage inside the semiconductor process, etc. The effect is that you can monitor in real time.
또한, 반도체 공정 내부의 온도 습도 또는 가스누출 여부와 같은 관측 대상 데이터를 미리 입력된 기준치와 비교하고, 관측대상 데이터가 해당 기준치를 벗어나는 경우 중앙서버의 저장부에 해당 데이터 및 상황 발생시간을 저장함으로써, 유해 상황 발생 시의 책임 소재를 명확히 하고, 관리자의 공정 관리 용이성을 증대시킬 수 있다는 효과가 있다.In addition, by comparing the observed data such as temperature humidity or gas leakage inside the semiconductor process with a pre-input reference value, and storing the data and the time of occurrence of the situation in the storage of the central server if the observed data is out of the reference value This has the effect of clarifying accountability in the event of a hazardous situation and increasing the manager's ease of process control.
도 1은 본 발명에 따른 반도체 공정 모니터링 장치의 구성을 나타낸 도면,
도 2는 본 발명의 반도체 공정 모니터링 방법의 단계들을 나타낸 흐름도.1 is a view showing the configuration of a semiconductor process monitoring apparatus according to the present invention;
2 is a flow chart showing the steps of the semiconductor process monitoring method of the present invention.
이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부한 도면을 참고로 하여 상세하게 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명에 따른 반도체 공정 모니터링 장치의 구성을 나타낸 도면이다.1 is a view showing the configuration of a semiconductor process monitoring apparatus according to the present invention.
먼저, 본 발명은 반도체 생산 공정 내부의 온도, 습도 또는 가스농도 및 비상상황을 확인하고 이를 유선으로 연결된 관리실이 아닌 무선으로 연결된 원격의 모바일 단말에서 모니터링하는 장치에 관한 것이다. 따라서, 기본적으로 반도체 공정 환경을 모니터링 하는 것임을 도시하기 위하여 도 1과 같이 반도체 공정 장비를 도시하였다.First, the present invention relates to an apparatus for checking a temperature, humidity or gas concentration and an emergency situation in a semiconductor production process and monitoring the same in a mobile terminal remotely connected to a wireless rather than a management room connected by wire. Therefore, the semiconductor process equipment is illustrated as shown in FIG. 1 to show that the semiconductor process environment is basically monitored.
온도 측정부는 반도체 공정 내부 온도를 측정하고, 습도 측정부는 반도체 공정 내부 습도를 측정한다. 온도 측정부 및 습도 측정부에서 측정된 온도값 또는 습도값은 데이터 변환부로 전달된다. 온도 측정부와 습도 측정부를 통합하여 온습도 측정부로 병행하여 기재할 수 있으며, 이로 인하여 본 명세서가 오해되지 않아야 할 것이다.The temperature measuring unit measures the temperature inside the semiconductor process, and the humidity measuring unit measures the humidity inside the semiconductor process. The temperature value or humidity value measured by the temperature measuring unit and the humidity measuring unit is transferred to the data converter. Integrating the temperature measuring unit and the humidity measuring unit may be described in parallel with the temperature and humidity measuring unit, and thus the present specification should not be misunderstood.
가스농도 측정부는 반도체 공정 내부의 가스농도를 측정한다. 본 명세서에서의 바람직한 실시 예에서는 염소, 염화수소, 브롬수소와 같은 인체에 유해한 가스농도를 측정한다.
The gas concentration measuring unit measures the gas concentration inside the semiconductor process. In a preferred embodiment herein, gas concentrations harmful to the human body such as chlorine, hydrogen chloride, and bromine hydrogen are measured.
반도체 공정 모니터링 장치의 중앙서버는 데이터 변환부, 통신부, 제어부 및 저장부를 포함하여 구성되며, 각 구성들을 이하에서 자세하게 설명한다.The central server of the semiconductor process monitoring apparatus includes a data converting unit, a communication unit, a control unit, and a storage unit, which will be described in detail below.
데이터 변환부는 상기 온도 측정부, 습도 측정부 및, 가스농도 측정부로부터 수신한 온도값, 습도값 또는 가스농도값을 무선송신이 가능한 데이터로 변환한다. 데이터 변환부에서 무선송신 가능하도록 변환된 온도값, 습도값 및 가스농도값은 모바일 단말에 전송됨으로써, 관리자가 반도체 제조 공정에서 직접 반도체 공정을 모니터링 하지 않고도 원격의 모바일 단말에서 반도체 공정을 모니터링 가능하다는 효과가 있다.The data converter converts the temperature value, humidity value, or gas concentration value received from the temperature measuring part, the humidity measuring part, and the gas concentration measuring part into data capable of wireless transmission. The temperature, humidity, and gas concentration values, which are converted for wireless transmission by the data conversion unit, are transmitted to the mobile terminal, so that the manager can monitor the semiconductor process at a remote mobile terminal without directly monitoring the semiconductor process at the semiconductor manufacturing process. It works.
여기서, 데이터 변환부에서 모바일 단말로의 데이터 전달은 통신부를 통하여 이루어진다. 통신부는 무선통신 모듈을 포함하고 있어야 함은 자명하다.Here, the data transfer from the data conversion unit to the mobile terminal is made through the communication unit. It is obvious that the communication unit should include a wireless communication module.
이 때, 원격에서 반도체 공정을 모니터링 가능한 모바일 단말은 무선통신으로 데이터를 수신 할 수 있는 단말(예를 들어 스마트폰, 노트북 등일 수 있고, 반도체 공정 모니터링 전용으로 제작된 단말일 수도 있으며 이를 한정하지는 아니한다.)이어야 한다. 또한, 모바일 단말 내에는 수신한 온도값, 습도값 및 가스농도값을 표시하기 위한 프로그램이 구비되어 있어야 한다.
In this case, the mobile terminal capable of remotely monitoring the semiconductor process may be a terminal (eg, a smartphone, a laptop, etc.) capable of receiving data through wireless communication, or may be a terminal manufactured exclusively for semiconductor process monitoring, but is not limited thereto. Should be.) In addition, the mobile terminal should be provided with a program for displaying the received temperature value, humidity value and gas concentration value.
그리고, 제어부에는 온습도 측정부로부터 얻은 데이터(온도값 또는 습도값)와 가스농도 측정부로부터 얻은 데이터(가스농도 값)를 판단하는 프로그램을 내장한다. 이 프로그램에는 미리 온도 상한값, 온도 하한값, 습도 상한값, 습도 하한값 및 가스농도 상한값에 대한 기준치가 입력되어 있어야 한다. 이 기준치, 즉 기준데이터는 반도체 공정에 영향을 미치지 않는 온도, 습도 및 가스농도 값에 대한 상한값 또는 하한값들이다. 상기 기준치들은 관리자가 미리 제어부의 프로그램에 입력 해야 하고, 이는 반도체 제조 공정 환경에 따라 관리자가 값을 조정할 수 있어야 한다.The control unit includes a program for determining data (temperature value or humidity value) obtained from the temperature and humidity measuring unit and data (gas concentration value) obtained from the gas concentration measuring unit. In this program, the reference values for the upper temperature limit, the lower temperature limit, the upper humidity limit, the lower humidity limit, and the upper gas concentration limit should be entered. This reference value, or reference data, is the upper or lower limit for temperature, humidity and gas concentration values that do not affect the semiconductor process. The reference values should be input in advance by the manager into the program of the controller, which should be able to be adjusted by the manager according to the semiconductor manufacturing process environment.
제어부의 프로그램에서는 온습도 측정부로부터 입력 받은 온도값 및 습도값을 미리 입력된 기준치와 비교한다. 온도 측정부로부터 수신한 온도값이 온도 상한값을 초과하거나 온도 하한값보다 미만인 경우 경고신호를 모바일 단말에 전송한다. 그리고, 습도 측정부로부터 수신한 습도값이 습도 상한값을 초과하거나 습도 하한값보다 미만인 경우 경고신호를 모바일 단말에 전송한다.The program of the controller compares the temperature value and humidity value inputted from the temperature and humidity measuring unit with a reference value input in advance. If the temperature value received from the temperature measuring unit exceeds the upper temperature limit or less than the lower temperature limit, and transmits a warning signal to the mobile terminal. And, if the humidity value received from the humidity measuring unit exceeds the humidity upper limit value or less than the humidity lower limit value transmits a warning signal to the mobile terminal.
제어부의 프로그램에서는 또한, 가스농도 측정부로부터 입력받은 가스농도값을 미리 입력된 기준치와 비교한다. 가스농도 측정부로부터 수신한 가스농도값이 가스농도 상한값을 초과하는 경우 경고신호를 모바일 단말에 전송한다. The program of the controller also compares the gas concentration value received from the gas concentration measurement unit with a reference value input in advance. If the gas concentration value received from the gas concentration measurement unit exceeds the gas concentration upper limit value, and transmits a warning signal to the mobile terminal.
이 때, 제어부의 프로그램에서 기준치와 데이터를 비교함으로써 발생한 경고 신호가 통신부를 통하여 모바일 단말에 전송되고, 모바일 단말에서는 경고 신호를 경고음으로 출력한다.
At this time, the warning signal generated by comparing the reference value and data in the program of the control unit is transmitted to the mobile terminal through the communication unit, the mobile terminal outputs the warning signal as a warning sound.
그리고, 온도제어부는 반도체 공정 내부의 온도를 조절한다. 예를 들어, 온도 측정부로부터 수신한 온도값이 온도 상한값을 초과하는 경우에는 반도체 공정 내부 온도를 자동으로 하향 조정하고, 온도 측정부로부터 수신한 온도값이 온도 하한값보다 미만인 경우에는 반도체 공정 내부 온도를 자동으로 상향 조정한다.The temperature controller adjusts the temperature inside the semiconductor process. For example, if the temperature value received from the temperature measuring part exceeds the upper temperature limit, the semiconductor process internal temperature is automatically adjusted downward. If the temperature value received from the temperature measuring part is less than the lower temperature limit, the semiconductor process internal temperature is automatically adjusted. Is automatically adjusted.
또한, 습도제어부는 반도체 공정 내부의 습도를 조절한다. 예를 들어, 습도 측정부로부터 수신한 습도값이 습도 상한값을 초과하는 경우에는 반도체 공정 내부 습도를 자동으로 하향 조정하고, 습도 측정부로부터 수신한 습도값이 습도 하한값보다 미만인 경우에는 반도체 공정 내부 습도를 자동으로 상향 조정한다.In addition, the humidity control unit controls the humidity inside the semiconductor process. For example, if the humidity value received from the humidity measuring unit exceeds the upper limit of humidity, the semiconductor process internal humidity is automatically adjusted downward. If the humidity value received from the humidity measuring unit is less than the lower limit of humidity, the semiconductor process internal humidity is automatically adjusted. Is automatically adjusted.
상기 온도제어부 및 습도제어부는 각각 온도측정부 및 습도측정부에 연결되어 구성되고, 제어부로부터 온도값과 기준치를 비교 판단한 결과를 수신함으로써 온도 및 습도 제어를 수행한다.
The temperature control unit and the humidity control unit are connected to the temperature measuring unit and the humidity measuring unit, respectively, and perform temperature and humidity control by receiving a result of comparing and determining the temperature value and the reference value from the control unit.
저장부는 온도 측정부, 습도 측정부 및 가스농도 측정부로부터 발생되어 데이터 변환부에서 변환된 온도값, 습도값 및 가스농도값을 저장한다. 이 때, 제어부에 미리 입력된 데이터 수신 주기(예를 들어 30초에 1회 데이터 수신)에 따라, 상기 데이터들을 수신하고, 수신한 데이터를 주기마다 저장부에 저장한다.The storage unit stores the temperature value, humidity value, and gas concentration value generated from the temperature measuring unit, the humidity measuring unit, and the gas concentration measuring unit and converted in the data converter. At this time, the data is received according to a data reception cycle (for example, once every 30 seconds) received in advance by the controller, and the received data is stored in the storage unit at each cycle.
예를 들어, 2012년 1월 1일 오후 2시 2분에 가스농도 측정부로부터 측정된 염소 가스의 농도값(기준치보다 높은)은 데이터변환부에서 변환되어 저장부에 저장된다. 염소 가스의 농도값이 데이터변환부에 전달됨과 동시에 제어부의 프로그램에서는 염소 가스의 농도값을 미리 입력된 염소 가스 상한값과 비교한다. 이 때, 염소 가스의 농도값이 염소 가스 상한값을 초과하는 경우, 경고신호를 모바일 단말에 전달한다. 또한, 저장부에 염소 가스 농도값과, 해당 염소 가스 농도값이 측정된 시각(2012년 1월 1일 오후 2시 2분)을 저장한다. 또한, 지정된 시간 주기(예 ; 30초)마다 주기적으로 측정된 가스 농도값을 수신하고, 측정 데이터를 저장부에 저장함으로써 데이터베이스화 한다.For example, at 2:02 pm on January 1, 2012, the concentration value (higher than the reference value) of the chlorine gas measured from the gas concentration measurement unit is converted in the data conversion unit and stored in the storage unit. At the same time as the concentration value of the chlorine gas is transmitted to the data conversion unit, the program of the controller compares the concentration value of the chlorine gas with the input upper limit of the chlorine gas. At this time, when the concentration value of the chlorine gas exceeds the upper limit of the chlorine gas, a warning signal is transmitted to the mobile terminal. The storage unit also stores the chlorine gas concentration value and the time when the chlorine gas concentration value was measured (January 1, 2012 2:02 pm). In addition, by periodically receiving the measured gas concentration value every specified time period (e.g. 30 seconds), and to store the measurement data in the storage to a database.
전술한 바와 같이, 측정된 가스농도가 기준치를 초과 하는 경우, 이 때 발생한 데이터 및 사건 발생 시간을 저장부에 저장함으로써, 유해 상황 발생 시 책임 소재를 명확히 하고, 관리자의 공정 관리 용이성을 향상할 수 있다는 효과가 있다.As described above, when the measured gas concentration exceeds the reference value, the data and event occurrence time generated at this time can be stored in the storage unit to clarify the accountability in case of a hazardous situation and improve the manager's ease of process management. There is an effect.
그리고, 일부 발암유발 가스과 같이 역치가 존재하지 않아 가스농도 상한값 초과 여부를 확인할 수 없는 경우, 발암유발 가스 농도 확인을 위해 지정된 시간 주기마다 주기적으로 가스 농도값을 측정함으로써, 작업자의 안전을 도모할 수 있다는 효과가 있다.And, if there is no threshold value such as some carcinogenic gas and it is impossible to check whether the gas concentration upper limit is exceeded, it is possible to improve the safety of the operator by measuring the gas concentration value periodically at a designated time period to check the carcinogenic gas concentration. There is an effect.
그리고, 온습도 측정부에서 측정된 온도값 및 습도값이 기준치를 벗어나는 경우 상기 전술한 바와 같이, 해당 데이터와 상황 발생 시각을 저장부에 저장하는 것은 자명하므로, 더 설명하지 아니한다.
When the temperature value and the humidity value measured by the temperature and humidity measuring unit deviate from the reference value, as described above, it is obvious that the corresponding data and the time of occurrence of the situation are stored in the storage unit, which will not be further described.
도 2는 본 발명의 반도체 공정 모니터링 장치를 이용하여 반도체 공정을 모니터링 방법의 단계들을 나타낸 흐름도이다. 도 2에 도시한 바와 같이, 반도체 공정 모니터링 방법은 온도 및 습도 측정단계; 가스농도 측정 단계; 데이터 변환단계; 온도 및 습도 비교단계; 가스농도 비교단계; 온도조정단계; 습도조정단계; 경고신호 발생단계; 저장단계; 정보 전송단계; 정보 모니터링 단계; 및 경고음 송출단계;를 포함하여 이루어진다.2 is a flowchart illustrating steps of a method for monitoring a semiconductor process using the semiconductor process monitoring apparatus of the present invention. As shown in Figure 2, the semiconductor process monitoring method comprises the steps of measuring the temperature and humidity; Gas concentration measuring step; Data conversion step; Temperature and humidity comparison step; Gas concentration comparison step; Temperature adjustment step; Humidity adjustment step; Warning signal generating step; A storage step; Information transmission step; Information monitoring step; And a warning sound sending step.
온도 및 습도 측정 단계(S101)는 온습도 측정부에서 반도체 공정 내부의 온도 및 습도를 측정하는 단계이다. 가스농도 측정단계(S102)는 가스농도 측정부에서 반도체 공정 내부의 가스농도를 측정하는 단계이다. 데이터 변환단계(S103)에서는 상기 온습도 측정부로부터 얻은 온도정보, 습도정보와, 상기 가스농도 측정부로부터 얻은 가스농도 정보를 무선송신 가능한 데이터로 변환한다.
Temperature and humidity measurement step (S101) is a step of measuring the temperature and humidity inside the semiconductor process in the temperature and humidity measuring unit. Gas concentration measurement step (S102) is a step of measuring the gas concentration in the semiconductor process in the gas concentration measurement unit. In the data conversion step (S103), the temperature information and humidity information obtained from the temperature and humidity measuring unit and the gas concentration information obtained from the gas concentration measuring unit are converted into wirelessly transmittable data.
다음으로, 온도 및 습도 비교단계(S101)에서는 측정된 온도값을 제어부에 미리 입력된 온도 상한값 및 온도 하한값과 비교하고, 측정된 습도값을 제어부에 미리 입력된 습도 상한값 및 습도 하한값과 비교한다. Next, in the temperature and humidity comparison step (S101), the measured temperature value is compared with a temperature upper limit value and a temperature lower limit value previously input to the controller, and the measured humidity value is compared with a humidity upper limit value and a humidity lower limit value previously input to the controller.
그리고, 가스농도 비교단계(S105)는 측정된 가스농도값을 제어부에 미리 입력된 가스농도 상한값과 비교한다. 여기서, 제어부에는 온도 상한값, 온도 하한값, 습도 상한값, 습도 하한값 및 가스농도 상한값이 미리 입력되어 있어야 함은 자명하다. 또한, 상기 기준치들은 관리자가 조절할 수 있어야 한다.In addition, the gas concentration comparison step (S105) compares the measured gas concentration value with the gas concentration upper limit value previously input to the controller. Here, it is obvious that the control unit should be previously inputted the temperature upper limit value, the temperature lower limit value, the humidity upper limit value, the humidity lower limit value and the gas concentration upper limit value. In addition, the reference values should be adjustable by the administrator.
온도조정단계(S106)는 상기 온도 및 습도 비교단계(S104)에서, 온도가 제어부에 미리 입력된 온도 상한값을 초과하거나 온도 하한값 미만인 경우 온도 제어부에서 반도체 공정 내부 온도를 자동으로 하향 조정 또는 상향 조정하는 단계이다.In the temperature adjusting step S106, when the temperature is higher than the temperature upper limit or less than the temperature lower limit input in advance in the temperature and humidity comparison step S104, the temperature controller automatically lowers or adjusts the internal temperature of the semiconductor process. Step.
습도조정단계(S107)는 상기 온도 및 습도 비교단계(S104)에서, 습도가 제어부에 미리 입력된 습도 상한값을 초과하거나 습도 하한값 미만인 경우 습도 제어부에서 반도체 공정 내부 습도를 자동으로 하향 조정 또는 상향 조정하는 단계이다.
Humidity adjustment step (S107) in the temperature and humidity comparison step (S104), when the humidity exceeds the humidity upper limit value previously input or less than the humidity lower limit value, the humidity control unit to automatically adjust or downgrade the internal process humidity of the semiconductor process Step.
경고신호 발생단계(S108)에서는 온도 및 습도 비교단계(S106)로부터 온도값과 습도값이 각각 그것의 기준치를 벗어나거나, 가스농도 비교단계(S105)로부터 가스농도값이 기준치를 벗어나는 경우 경고신호를 발생한다. In the warning signal generation step S108, when the temperature value and the humidity value are respectively out of its reference value from the temperature and humidity comparison step S106, or the gas concentration value is out of the reference value from the gas concentration comparison step S105, a warning signal is output. Occurs.
저장단계(S109)는 변환된 온도정보, 습도정보, 가스농도정보를 저장부에 저장하는 단계이다. 이 때, 온도 및 습도 비교단계(S104) 및 가스농도 비교단계(S105)에서 제어부로부터, 온도, 습도 또는 가스농도 중에 어느 하나 이상이 기준치를 벗어났다고 판단 되는 경우에는, 기준치를 벗어난 해당 데이터와 해당 상황 발생 시각을 저장부에 저장한다. 또한, 지정된 시간 주기(예; 30초)마다 측정된 데이터들을 저장부에 저장한다.
The storage step S109 is a step of storing the converted temperature information, humidity information, and gas concentration information in the storage unit. At this time, when it is determined from the control unit in the temperature and humidity comparison step (S104) and the gas concentration comparison step (S105) that any one or more of the temperature, humidity or gas concentration is out of the reference value, the data and the situation out of the reference value and the situation The occurrence time is stored in the storage unit. In addition, the measured data are stored in the storage unit every designated time period (eg, 30 seconds).
또한, 정보 전송단계(S110)에서는 변환된 온도정보, 습도정보, 가스농도 정보 및 경고신호를 통신부에 전달하고, 통신부에서는 무선통신을 이용하여 모바일 단말에 상기 정보들을 전송한다.In addition, the information transmission step (S110) transmits the converted temperature information, humidity information, gas concentration information and the warning signal to the communication unit, the communication unit transmits the information to the mobile terminal using wireless communication.
정보 모니터링 단계(S111)에서는 모바일 단말에서 수신한 온도정보, 습도정보, 가스농도정보를 모니터링 할 수 있다.In the information monitoring step (S111), temperature information, humidity information, and gas concentration information received from the mobile terminal may be monitored.
마지막으로, 경고음 송출단계(S112)에서는 모바일 단말에서 수신한 경고신호를 통해 경고음을 송출한다.
Finally, in the warning sound sending step (S112) transmits the warning sound through the warning signal received from the mobile terminal.
전술한 바와 같이, 반도체 공정 모니터링 방법에서 기술된 각 단계들은 도 1을 참조하여 설명된 반도체 공정 모니터링 장치에서 설명된 것과 같은 맥락에서 이해되어야 할 것이다.
As described above, each of the steps described in the semiconductor process monitoring method should be understood in the same context as described in the semiconductor process monitoring apparatus described with reference to FIG. 1.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시 예에 관하여 설명하였으나, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 따라서 본 발명의 권리 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 안되며, 후술하는 청구범위뿐만 아니라, 이와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, Of course, this is possible. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments, but should be defined by the equivalents as well as the claims that follow.
100 : 중앙서버 101 : 제어부
102 : 저장부 103 : 데이터변환부
104 : 통신부 200 : 온도제어부
201 : 온도측정부 300 : 가스농도측정부
400 : 습도제어부 401 : 습도측정부
500 : 반도체 장비 600 : 모바일 단말100: central server 101: control unit
102: storage unit 103: data conversion unit
104: communication unit 200: temperature control unit
201: temperature measuring unit 300: gas concentration measuring unit
400: humidity control unit 401: humidity measurement unit
500: semiconductor equipment 600: mobile terminal
Claims (8)
반도체 공정 내부 가스농도를 측정하는 가스농도 측정부;
상기 온습도 측정부 및 가스농도 측정부로부터 얻은 온도값, 습도값 또는 가스 농도값을 무선송신이 가능한 데이터로 변환하는 데이터 변환부와, 상기 데이터 변환부에서 변환된 데이터를 모바일 단말에 무선 전송하는 통신부와, 상기 온습도 측정부 및 가스농도 측정부로부터 얻은 데이터를 기준데이터와 비교 판단하는 프로그램이 내장된 제어부 및 상기 데이터 변환부에서 변환된 데이터를 저장하는 저장부를 포함하는 중앙서버;
온습도 측정부 및 가스농도 측정부로부터 측정된 데이터를 상기 중앙서버로부터 수신하고, 수신한 측정 데이터를 구비된 디스플레이에 표시하는 모바일 단말;을 포함하여 구성되고,
상기 제어부에 내장된 프로그램의 기준데이터는 반도체 공정 과정에 영향을 끼치지 않는 온도, 습도 및 가스농도 수치이며,
상기 모바일 단말은 상기 중앙서버로부터 무선통신을 이용하여 데이터를 수신하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정 모니터링 장치.A temperature and humidity measurement unit including a temperature measuring unit measuring a semiconductor process internal temperature and a humidity measuring unit measuring a semiconductor process internal humidity;
A gas concentration measuring unit measuring a gas concentration in the semiconductor process;
Data conversion unit for converting the temperature value, humidity value or gas concentration value obtained from the temperature and humidity measuring unit and the gas concentration measuring unit into data capable of wireless transmission, and a communication unit for wirelessly transmitting the data converted by the data conversion unit to the mobile terminal And a central server including a control unit in which a program for comparing and determining data obtained from the temperature and humidity measuring unit and the gas concentration measuring unit with reference data, and a storage unit storing the data converted by the data conversion unit;
And a mobile terminal for receiving data measured from a temperature and humidity measuring unit and a gas concentration measuring unit from the central server and displaying the received measured data on a display provided with the present invention.
The reference data of the program embedded in the controller are temperature, humidity, and gas concentration values that do not affect the semiconductor process.
And the mobile terminal receives data from the central server using wireless communication.
상기 제어부에 내장된 프로그램의 기준 데이터는 온도 상한값, 온도 하한값을 포함함으로써,
제어부의 프로그램에서 상기 온도 측정부로부터 수신한 온도값과 기준 데이터를 각각 비교하고,
상기 온도 측정부로부터 수신한 온도값이 상기 온도 상한값을 초과하거나, 상기 온도 하한값보다 미만인 경우 경고신호를 상기 모바일 단말에 전송하며,
제어부에서 발생한 경고신호는 상기 통신부를 통하여 모바일 단말에 전송되고, 모바일 단말에서 경고음을 출력하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정 모니터링 장치.The method according to claim 1,
The reference data of the program embedded in the controller includes a temperature upper limit value and a temperature lower limit value,
In the program of the controller, the temperature values received from the temperature measuring unit are compared with the reference data, respectively.
When the temperature value received from the temperature measuring unit exceeds the upper temperature limit, or less than the lower temperature limit, and sends a warning signal to the mobile terminal,
And a warning signal generated from the control unit is transmitted to the mobile terminal through the communication unit, and outputs a warning sound from the mobile terminal.
상기 제어부에 내장된 프로그램의 기준 데이터는 습도 상한값, 습도 하한값을 포함함으로써,
제어부의 프로그램에서 상기 습도 측정부로부터 수신한 습도값과 기준 데이터를 각각 비교하고,
상기 습도 측정부로부터 수신한 습도값이 상기 습도 상한값을 초과하거나, 상기 습도 하한값보다 미만인 경우 경고신호를 상기 모바일 단말에 전송하며,
제어부에서 발생한 경고신호는 상기 통신부를 통하여 모바일 단말에 전송되고, 모바일 단말에서 경고음을 출력하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정 모니터링 장치.The method according to claim 1,
The reference data of the program embedded in the control unit includes a humidity upper limit value and a humidity lower limit value,
Comparing the humidity value and the reference data received from the humidity measuring unit in the program of the control unit, respectively,
When the humidity value received from the humidity measuring unit exceeds the upper limit of the humidity or less than the lower limit of the humidity, and sends a warning signal to the mobile terminal,
And a warning signal generated from the control unit is transmitted to the mobile terminal through the communication unit, and outputs a warning sound from the mobile terminal.
상기 제어부에 내장된 프로그램의 기준 데이터는 가스농도 상한값, 가스농도 하한값을 포함하으로써,
제어부의 프로그램에서 상기 가스농도 측정부로부터 수신한 가스농도값과 기준데이터를 각각 비교하고,
상기 가스농도 측정부로부터 수신한 가스농도값이 상기 가스농도 상한값을 초과하는 경우 경고신호를 상기 모바일 단말에 전송하며,
제어부에서 발생한 경고신호는 상기 통신부를 통하여 모바일 단말에 전송되고, 모바일 단말에서 경고음을 출력하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정 모니터링 장치.The method according to claim 1,
The reference data of the program embedded in the control unit includes a gas concentration upper limit value and a gas concentration lower limit value,
Compare the gas concentration value and the reference data received from the gas concentration measurement unit in the program of the control unit, respectively,
When the gas concentration value received from the gas concentration measuring unit exceeds the gas concentration upper limit value, and sends a warning signal to the mobile terminal,
And a warning signal generated from the control unit is transmitted to the mobile terminal through the communication unit, and outputs a warning sound from the mobile terminal.
온도 제어부를 더 포함하여 구성함으로써,
상기 온도 측정부로부터 수신한 온도값이 상기 온도 상한값을 초과하는 경우, 반도체 공정 내부 온도를 자동으로 하향 조정하고,
상기 온도 측정부로부터 수신한 온도값이 상기 온도 하한값보다 미만인 경우, 반도체 공정 내부 온도를 자동으로 상향 조정하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정 모니터링 장치.3. The method of claim 2,
By further comprising a temperature control unit,
When the temperature value received from the temperature measuring unit exceeds the temperature upper limit value, the semiconductor process internal temperature is automatically adjusted downward,
And when the temperature value received from the temperature measuring unit is less than the lower temperature limit, automatically adjusting the internal temperature of the semiconductor process.
습도 제어부를 더 포함하여 구성함으로써,
상기 습도 측정부로부터 수신한 습도값이 상기 습도 상한값을 초과하는 경우, 반도체 공정 내부 습도를 자동으로 하향 조정하고,
상기 습도 측정부로부터 수신한 습도값이 상기 습도 하한값보다 미만인 경우, 반도체 공정 내부 습도를 자동으로 상향 조정하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정 모니터링 장치.The method of claim 3,
By further comprising a humidity control unit,
If the humidity value received from the humidity measuring unit exceeds the humidity upper limit value, the semiconductor process internal humidity is automatically adjusted downward,
And when the humidity value received from the humidity measuring unit is less than the lower limit of humidity, automatically adjusting the internal humidity of the semiconductor process.
온습도 측정부에서 반도체 공정 내부의 온도 및 습도를 측정하는 온도 및 습도 측정 단계;
가스농도 측정부에서 반도체 공정 내부의 가스농도를 측정하는 가스농도 측정 단계;
데이터 변환부에서 온도정보, 습도정보 및 가스농도 정보를 무선송신 가능한 데이터로 변환하는 데이터 변환단계;
측정된 온도값을 제어부에 미리 입력된 온도 상한값 및 온도 하한값과 비교하고, 측정된 습도값을 제어부에 미리 입력된 습도 상한값 및 습도 하한값과 비교하는 온도 및 습도 비교단계;
측정된 가스농도값을 제어부에 미리 입력된 가스농도 상한값과 비교하는 가스농도 비교단계;
온도 및 습도 비교단계로부터 온도값과 습도값이 각각 그것의 기준치를 벗어나거나 가스농도 비교단계로부터 가스농도값이 기준치를 벗어나는 경우 경고신호를 발생하는 단계;
변환된 온도정보, 습도정보 및 가스농도정보를 저장부에 저장하는 저장단계;
변환된 온도정보, 습도정보, 가스농도 정보 및 경고신호를 통신부에 전달하고, 통신부에서는 무선통신을 이용하여 모바일 단말로 정보를 전송하는 정보 전송단계;
모바일 단말에서 수신한 온도정보, 습도정보, 가스농도정보를 모니터링하는 정보 모니터링 단계;
모바일 단말에서 수신한 경고신호를 통해 경고음을 송출하는 경고음 송출단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 공정 모니터링 방법.Semiconductor process monitoring method using a semiconductor process monitoring device,
A temperature and humidity measurement step of measuring a temperature and humidity in a semiconductor process in a temperature and humidity measuring unit;
A gas concentration measuring step of measuring a gas concentration in the semiconductor process by the gas concentration measuring unit;
A data conversion step of converting temperature information, humidity information, and gas concentration information into wirelessly transmittable data by the data conversion unit;
A temperature and humidity comparison step of comparing the measured temperature value with a temperature upper limit value and a temperature lower limit value previously input to the controller, and comparing the measured humidity value with a humidity upper limit value and a humidity lower limit value previously input to the controller;
A gas concentration comparing step of comparing the measured gas concentration value with a gas concentration upper limit value previously input to the controller;
Generating a warning signal when the temperature value and the humidity value are respectively out of its reference value from the temperature and humidity comparison step or the gas concentration value is out of the reference value from the gas concentration comparison step;
A storage step of storing the converted temperature information, humidity information, and gas concentration information in a storage unit;
An information transmission step of transmitting the converted temperature information, humidity information, gas concentration information, and warning signal to the communication unit, and the communication unit transmitting information to the mobile terminal using wireless communication;
An information monitoring step of monitoring temperature information, humidity information, and gas concentration information received from the mobile terminal;
And a warning sound transmission step of transmitting a warning sound through the warning signal received from the mobile terminal.
상기 온도 및 습도 비교단계에서 온도가 제어부에 미리 입력된 온도 상한값을 초과하거나 온도 하한값 미만인 경우, 온도 제어부에서 반도체 공정 내부 온도를 자동으로 하향 조정 또는 상향 조정하는 온도조정단계;와,
상기 온도 및 습도 비교단계에서 습도가 제어부에 미리 입력된 습도 상한값을 초과하거나 습도 하한값 미만인 경우, 습도 제어부에서 반도체 공정 내부 습도를 자동으로 하향 조정 또는 상향 조정하는 습도조정단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 공정 모니터링 방법.
8. The method of claim 7,
A temperature adjusting step of automatically adjusting or lowering an internal temperature of the semiconductor process by the temperature controller when the temperature exceeds the temperature upper limit or less than the temperature lower limit input in advance in the temperature and humidity comparison step;
And a humidity adjusting step of automatically adjusting or lowering the internal humidity of the semiconductor process by the humidity control unit when the humidity exceeds the humidity upper limit value or less than the humidity lower limit value previously input to the controller in the temperature and humidity comparison step. A semiconductor process monitoring method.
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