KR101269827B1 - Gate valve for atmosphere of fabricating semiconductor and a display - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반도체 및 디스플레이 제조공정의 대기용 게이트밸브에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 대기용 게이트밸브의 승하강시 유격을 방지하면서도 작동부에 이물질 발생을 방지하도록 하는 반도체 및 디스플레이 제조공정의 대기용 게이트밸브에 관한 것이다.
The present invention relates to a gate valve for the atmosphere of the semiconductor and display manufacturing process, and more particularly, to the atmosphere of the semiconductor and display manufacturing process to prevent the generation of foreign matter in the operating part while preventing the clearance during the lifting and lowering of the standby gate valve. It relates to a gate valve.
일반적으로, 대기용 게이트 밸브는, 반도체 및 디스플레이를 제조하기 위해 사용되는 장치에 대기측과 진공측을 구분하도록 하는 부위에 설치되는 것이다.
In general, the atmospheric gate valve is provided at a portion that separates the atmospheric side from the vacuum side in a device used for manufacturing a semiconductor and a display.
도 1은 일반적인 반도체 및 디스플레이를 제조하기 위한 장치의 개요도이다.1 is a schematic diagram of a device for manufacturing a general semiconductor and display.
도 1을 참고하면, 반도체 및 디스플레이 제조공정에서, 웨이퍼(글라스) 표면에 가공하기 위해 사용되는 대부분의 장비는 대기측과 진공측으로 구분된다.Referring to FIG. 1, in the semiconductor and display manufacturing process, most of the equipment used to process the wafer (glass) surface is divided into an atmosphere side and a vacuum side.
상기 대기측에는 가공하기 전에 웨이퍼(글라스)를 공급하는 카셋트(1) 및 상기 카셋트(1)에서 공급받은 웨이퍼(글라스)를 파지하여 진공측의 로드락 챔버(4)로 이송시키는 대기측 로봇(2)으로 구성된다.The
상기 진공측에는 진공상태로 웨이퍼(글라스)가공 공정이 수행되는 복수의 프로세스 챔버(3), 가공을 위한 웨이퍼(글라스)를 로드 또는 언로드 하는 로드락 챔버(4), 프로세스 챔버(3)와 로드락 챔버(4) 사이에 설치되어 웨이퍼(글라스)를 이송시키는 트랜스퍼 챔버(5) 및 상기 트랜스퍼 챔버(5)에 설치되어 로드락 챔버(4)에 공급되는 웨이퍼(글라스)를 파지하여 프로세스 챔버(3)로 출입시키는 진공측 로봇(6)으로 구성되어 있다.The vacuum side includes a plurality of
또한, 상기 대기측과 진공측의 경계부위에는 대기용 게이트밸브(7)가 설치되고, 프로세스 챔버(3)와 트랜스퍼 챔버(5) 사이에는 진공용 게이트밸브(8)가 설치되어진다.
In addition, an
도 2는 종래에 따른 대기용 게이트밸브를 나타낸 도면이다.2 is a view showing a conventional gate valve according to the prior art.
도 2를 참고하면, 대기용 게이트밸브(7)는, 진공측과 대기측의 경계부위의 로드락 챔버(4)의 챔버 측벽에 설치된 밸브몸체(7a)와, 상기 밸브몸체(7a)의 내부에 설치되고, 로드(7b-1)가 승하강하는 승하강실린더(7b)와, 상기 승하강실린더(7b)의 로드(7b-1) 단부에 고정되어 상기 로드락 챔버(4)의 측벽에 형성된 기판의 반입 및 반출되는 개방구(4a)를 개폐시키는 도어(7c)와, 상기 밸브몸체(7a)의 상부에 설치되어 상기 승하강실린더(7b)를 지지함과 아울러 양측에 힌지축(7d-1)이 연결되어진 스윙플레이트(7d)와, 상기 승하강실린더(7b)가 상승되어 상기 개방구(4a)를 폐쇄하는 경우 상기 스윙플레이트(7d)의 힌지축(7d-1)을 중심으로 원호운동시켜 상기 개방구(4a)를 밀폐시키도록 상기 승하강실린더(7b)의 하부에 설치되어진 로드(7e-1)가 전후진되는 잠금실린더(7e)와, 상기 승하강실린더(7b)의 양측에 설치됨과 아울러 상기 스윙플레이트(7d)에 관통되어 상기 도어(7c)의 하단부에 결합되어진 지지봉(7f)을 포함한다.
Referring to FIG. 2, the
상기와 같이 구성된 종래의 대기용 게이트밸브(7)는, 로드락 챔버(4)의 챔버 측벽에 설치되고, 상기 챔버 측벽에 형성된 기판의 반입 및 반출되는 개방구(4a)를 승하강실린더(7b)의 승하강으로 도어(7c)를 이용하여 상기 개방구(4a)를 개방 또는 폐쇄하는 것이다.The conventional
이때 상기 승하강실린더(7b)가 상승되어 도어(7c)가 챔버 측면에 형성된 개방구(4a)를 폐쇄한 후 잠금실린더(7e)의 로드(7e-1)를 전진시켜 승하강실린더(7b)의 상부에 결합되어진 스윙플레이트(7d)를 힌지축(7d-1)을 중심으로 회동시켜 개방구(4a)에 도어(7c)를 완전밀착시키게 되는 것이다.At this time, the elevating cylinder (7b) is raised to close the opening (4a) formed on the side of the chamber (7c) and then advance the rod (7e-1) of the lock cylinder (7e) to raise and lower the cylinder (7b) The
그러나, 종래에 대기용 게이트 밸브는, 승하강실린더(7b)의 승하강시 스윙플레이트(7d)에 관통됨과 아울러 상기 도어(7c)의 하단에 결합되어진 지지봉(7f)의 의해서 좌,우 및 전,후의 유격이 방지하게 되는데, 지지봉(7f)과 스윙플레이트(7d)의 사이의 면접촉에 의해 이물질이 발생되는 문제점이 있다.However, in the related art, the gate valve for waiting is left, right, front, front, and bottom by a
또한, 승하강실린더(7b)의 패킹 등의 마모로 인한 에어 리크 발생시에 외부로부터 이물질이 비산되고, 이에 의해 지지봉(7f)의 표면에 도포된 윤활유에 이물질에 혼합되면 원활히 동작이 이루어지지 않고 마모 등이 발생되는 문제점이 있다.
In addition, foreign matters are scattered from the outside when air leakage occurs due to wear of the packing and the like of the lifting and lowering
본 발명의 목적은 이와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은, 대기용 게이트밸브의 승하강시 유격을 방지하면서도 작동부에 이물질 발생을 방지하도록 하는 반도체 및 디스플레이 제조공정의 대기용 게이트밸브를 제공함에 있다.
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve such a problem, and an object thereof is to provide a standby gate valve for a semiconductor and display manufacturing process that prevents foreign matters from being generated in the operating part while preventing a clearance when the atmospheric gate valve descends. Is in.
본 발명을 달성하기 위한 기술적 사상으로 본 발명에 따른 반도체 및 디스플레이 제조공정의 대기용 게이트밸브는, 진공측과 대기측의 경계부위의 로드락 챔버의 챔버 측벽에 설치된 밸브몸체와; 상기 밸브몸체의 하부에 설치되고, 로드가 승하강되는 승하강실린더와; 상기 승하강실린더의 로드 단부에 설치되고, 상부 양측에 지지봉이 결합되어진 축지지부와; 상기 지지봉의 단부에 결합되어 상기 승하강실린더의 승하강에 따라 상기 로드락 챔버의 측벽에 형성된 기판의 반입 및 반출되는 개방구를 개폐시키는 도어와; 상기 밸브몸체의 상부에 양측이 힌지축으로 연결되고, 상기 지지봉보다 직경이 크게 이루어진 관통공이 형성된 스윙플레이트, 상기 승하강실린더의 상부 일측에 설치되고, 전,후진되는 로드가 형성된 잠금실린더, 상기 잠금실린더의 로드에 연결되어 상기 로드의 전,후진에 의해 수평이동하는 락킹브라켓트 및 상기 스윙플레이트의 힌지축에 일측이 고정되고, 타측은 상기 락킹브라켓트에 의해 동작되는 회동바를 포함하는 도어잠금수단과; 상기 스윙플레이트와 락킹브라켓트의 사이에 설치되어지고, 상기 승하강실린더의 로드가 연결된 축지지부의 승하강시 좌,우 유격을 방지하도록 하는 좌,우 유격방지수단과; 상기 회동바 상에 결합되어 상기 승하강실린더의 승하강시 전,후 유격을 방지하도록 하는 전,후 유격방지수단; 을 포함하는 것이다.According to the spirit of the present invention, a gate valve for a semiconductor and display manufacturing process according to the present invention includes: a valve body installed at a chamber sidewall of a load lock chamber at a boundary between a vacuum side and an atmosphere side; A lifting cylinder which is installed at a lower portion of the valve body and whose rod is lifted; An axial support part installed at the rod end of the elevating cylinder and having support rods coupled to both upper sides thereof; A door coupled to an end of the support rod to open and close the opening and exit opening and exiting of the substrate formed on the sidewall of the load lock chamber according to the lifting and lowering of the lifting cylinder; Both sides are connected to the hinge shaft on the upper portion of the valve body, the swing plate is formed with a through hole made larger in diameter than the support rod, installed on the upper one side of the elevating cylinder, lock cylinder formed with a rod forward, backward, the lock A door locking means connected to a rod of a cylinder and fixed to one side of a locking bracket that moves horizontally by the forward and backward of the rod and a hinge shaft of the swing plate, and the other side of which comprises a pivoting bar operated by the locking bracket; Left and right clearance prevention means installed between the swing plate and the locking bracket and preventing left and right clearances during the ascent and descend of the shaft support portion to which the rod of the elevating cylinder is connected; Before and after play prevention means coupled to the rotating bar to prevent the play before and after the lifting of the lifting cylinder; .
또한, 상기 좌,우 유격방지수단은, 한쌍의 가이드봉으로 이루어져 상기 승하강 실린더의 좌,우측에 각각 설치되어진 것이다.In addition, the left and right play prevention means is made of a pair of guide rods are respectively installed on the left and right sides of the lifting cylinder.
또한, 상기 전,후 유격방지수단은, 상기 회동바의 길이방향에 형성된 가이드홈에 구름운동하도록 하는 캠플로워이며, 상기 캠플로워는 상기 축지지부의 하측에 연장되어진 연장부에 설치되어진 것이다.
In addition, the front and rear clearance prevention means is a cam follower for rolling movement in the guide groove formed in the longitudinal direction of the pivoting bar, the cam follower is provided in the extension portion extended to the lower side of the shaft support.
본 발명에 따른 반도체 및 디스플레이 제조공정의 대기용 게이트밸브는, 로드락 챔버의 개방구를 개폐시키는 도어를 승하강시키는 승하강실린더를 밸브몸체의 하측에 배치하고, 승하강실린더의 로드의 단부에 지지봉이 결합되는 축지지부를 결합하며, 도어를 밀폐시키는 도어잠금수단의 스윙플레이트에 형성된 관통공을 지지봉보다 직경이 크게 이루어지도록 함으로서, 대기용 게이트밸브의 승하강시 유격을 방지하면서도 작동부에 이물질 발생을 방지하도록 할 수 있다.
The atmospheric gate valve of the semiconductor and display manufacturing process according to the present invention, the elevating cylinder for raising and lowering the door for opening and closing the opening of the load lock chamber in the lower side of the valve body, and at the end of the rod of the elevating cylinder The support rod is coupled to the shaft support portion coupled to the through-hole formed in the swing plate of the door locking means for sealing the door to have a larger diameter than the support rod, foreign matter generated in the operating part while preventing the clearance during the lifting and lowering of the atmospheric gate valve Can be prevented.
도 1은 일반적인 반도체 및 디스플레이를 제조하기 위한 장치의 개요도.
도 2a는 종래에 따른 대기용 게이트밸브의 사시도.
도 2b는 종래에 따른 대기용 게이트밸브의 정면도.
도 2c는 종래에 따른 대기용 게이트밸브의 측단면도로서, 승하강실린더가 승강된 상태의 도면.
도 2d는 종래에 따른 대기용 게이트밸브의 측단면도로서, 잠금실린더가 전진되어 로드락 챔버의 개방구가 밀폐된 상태의 도면.
도 3은 본 발명에 따른 대기용 게이트밸브의 정면사시도.
도 4는 본 발명에 따른 대기용 게이트밸브의 배면사시도.
도 5는 본 발명에 따른 대기용 게이트 밸브의 정면도로서, 승강실린더가 하강된 상태의 도면.
도 6은 본 발명에 따른 대기용 게이트 밸브의 정면도로서, 승강실린더가 상승된 상태의 도면.
도 7은 본 발명에 따른 대기용 게이트 밸브의 측단면도로서, 승강실린더가 하강된 상태의 도면.
도 8은 본 발명에 따른 대기용 게이트 밸브의 측단면도로서, 승강실린더가 상승된 상태의 도면.
도 9는 본 발명에 따른 대기용 게이트 밸브의 측단면도로서, 잠금실린더가 전진된 상태의 도면.
도 10은 본 발명에 따른 대기용 게이트 밸브의 축지지부와 회동바의 관계를 설명하기 위한 사시도.1 is a schematic diagram of a device for manufacturing a general semiconductor and display.
Figure 2a is a perspective view of a conventional gate valve.
Figure 2b is a front view of the conventional gate valve.
Figure 2c is a side cross-sectional view of a conventional gate valve, the lifting cylinder is a view of the lifted state.
Figure 2d is a side cross-sectional view of the conventional gate valve, the state in which the lock cylinder is advanced, the opening of the load lock chamber is closed.
Figure 3 is a front perspective view of the gate valve for waiting according to the present invention.
Figure 4 is a rear perspective view of the gate valve for standby according to the present invention.
5 is a front view of the gate valve for waiting according to the present invention, the lifting cylinder lowered.
6 is a front view of the gate valve for waiting according to the present invention, the lift cylinder is raised.
Figure 7 is a side cross-sectional view of the gate valve for waiting according to the present invention, the lifting cylinder lowered.
8 is a side cross-sectional view of the gate valve for waiting according to the present invention, the lifting cylinder is raised.
9 is a side cross-sectional view of the gate valve for waiting according to the present invention, the lock cylinder is advanced.
10 is a perspective view for explaining the relationship between the shaft support portion and the rotation bar of the gate valve for waiting according to the present invention.
이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.
도 3은 본 발명에 따른 대기용 게이트밸브의 정면사시도이고, 도 4는 본 발명에 따른 대기용 게이트밸브의 배면사시도이며, 도 5는 본 발명에 따른 대기용 게이트 밸브의 정면도로서, 승강실린더가 하강된 상태의 도면이고, 도 6은 본 발명에 따른 대기용 게이트 밸브의 정면도로서, 승강실린더가 상승된 상태의 도면이며, 도 7은 본 발명에 따른 대기용 게이트 밸브의 측단면도로서, 승강실린더가 하강된 상태의 도면이고, 도 8은 본 발명에 따른 대기용 게이트 밸브의 측단면도로서, 승강실린더가 상승된 상태의 도면이며, 도 9는 본 발명에 따른 대기용 게이트 밸브의 측단면도로서, 잠금실린더가 전진된 상태의 도면이고, 도 10은 본 발명에 따른 대기용 게이트 밸브의 축지지부와 회동바의 관계를 설명하기 위한 사시도이다.Figure 3 is a front perspective view of the standby gate valve according to the present invention, Figure 4 is a rear perspective view of the standby gate valve according to the present invention, Figure 5 is a front view of the standby gate valve according to the present invention, the lifting cylinder Figure 6 is a view of the lowered state, Figure 6 is a front view of the standby gate valve according to the present invention, the lifting cylinder is a view of the elevated state, Figure 7 is a side cross-sectional view of the waiting gate valve according to the present invention, the lifting cylinder Is a view of the lowered state, Figure 8 is a side cross-sectional view of the standby gate valve according to the present invention, the lifting cylinder is a view of the elevated state, Figure 9 is a side cross-sectional view of the standby gate valve according to the present invention, 10 is a view of a state in which the lock cylinder is advanced, and FIG. 10 is a perspective view for explaining a relationship between the shaft support portion and the rotation bar of the standby gate valve according to the present invention.
도 3 내지 도 10을 참고하면, 본 발명의 반도체 및 디스플레이 제조공정의 대기용 게이트밸브(100)는, 밸브몸체(10), 승하강실린더(20), 축지지부(30), 도어(40), 잠금수단(50), 좌,우 유격방지수단(60) 및 전,후 유격방지수단(70)을 포함한다.3 to 10, the
상기 밸브몸체(10)는, 진공측과 대기측의 경계부위의 로드락 챔버(200)의 챔버 측벽에 설치된다.The
또한, 상기 밸브몸체(10)는, 양측에 측면커버(11)가 설치되고, 상부에 측면커버(11)를 연결하는 보닛(12)이 설치되며, 하부에 후술하는 잠금실린더(52)를 설치하는 실린더 블럭(13)이 설치되는 것이다.In addition, the
상기 승하강실린더(20)는, 상기 밸브몸체(10)의 하부에 설치되고, 로드(21)가 승하강된다.The
또한, 상기 승하강실린더(20)를 밸브몸체(10)의 하부에 설치함으로서, 패킹 등의 마모로 인한 에어 리크인 경우 이물질 비산을 방지할 수 있게 되는 것이다.In addition, by installing the
상기 축지지부(30)는, 상기 승하강실린더(20)의 로드(21) 단부에 설치되고, 상부 양측에 지지봉(31)이 결합되어진다.The
상기 도어(40)는, 상기 지지봉(31)의 단부에 결합되어 상기 승하강실린더(20)의 승하강에 따라 상기 로드락 챔버(200)의 측벽에 형성된 기판의 반입 및 반출되는 개방구(210)를 개폐시키는 것이다.The
상기 도어잠금수단(50)은, 승하강실린더(20)에 의해 상승된 도어(40)를 로드락 챔버(200)의 개방구(210)에 밀착되도록 하는 것으로, 스윙플레이트(51), 잠금실린더(52), 락킹브라켓트(53) 및 회동바(54)를 포함한다.The door locking means 50, the
상기 스윙플레이트(51)는, 상기 밸브몸체(10)의 상부에 양측이 힌지축(51a)으로 연결되고, 상기 지지봉(31)보다 직경이 크게 이루어진 관통공(51b)이 형성된 것이다.The
즉, 상기 스윙플레이트(51)는, 힌지축(51a)을 기준으로 하여 회동되어 도어(40)를 개방구(210)에 밀폐시키는 것이고, 상기 스윙플레이트(51)의 형성된 관통공(51b)은 지지봉(31)보다 직경이 더 크게 이루어져 마찰이 이루어지지 않게 되어 종래와 같이 이물질이 발생되지 않는 것이다.That is, the
상기 잠금실린더(52)는, 상기 승하강실린더(20)의 상부 일측에 설치되고, 전,후진되는 로드(52a)가 형성된다.The
즉, 상기 밸브몸체(10)의 실린더 블럭(13)에 잠금실린더(52)가 설치되는 것이다.That is, the
상기 락킹브라켓트(53)는, 상기 잠금실린더(52)의 로드(52a)에 연결되어 상기 로드(52a)의 전,후진에 의해 수평이동하는 것이다.The
상기 회동바(54)는, 상기 스윙플레이트(51)의 힌지축(51a)에 일측이 고정되고, 타측은 상기 락킹브라켓트(53)에 의해 동작되는 것이다.
The
즉, 상기 잠금실린더(52)가 전진됨에 따라 이에 연결된 락킹브라켓트(53)가 전진되어 회동바(54)를 가압하게 되면 회동바(54)의 상부의 결합된 스윙플레이트(51)가 힌지축(51a)을 중심으로 회전되어 도어(40)를 개방구(210)에 밀폐시키게 되는 것이다.
That is, when the
상기 좌,우 유격방지수단(60)은, 상기 스윙플레이트(51)와 락킹브라켓트(53)의 사이에 설치되어지고, 상기 승하강실린더(20)의 로드(21)가 연결된 축지지부(30)의 승하강시 좌,우 유격을 방지하도록 것으로, 한쌍의 가이드봉(61)으로 이루어져 상기 승하강실린더(20)의 좌,우측에 각각 설치되어진 것이다.The left and right
상기 전,후 유격방지수단(70)은, 상기 회동바(54) 상에 결합되어 상기 승하강실린더(20)의 승하강시 전,후 유격을 방지하도록 하는 것으로, 상기 회동바(54)의 길이방향에 형성된 가이드홈(54a)에 구름운동하도록 하는 캠플로워(71)이며, 상기 캠플로워(71)는 상기 축지지부(30)의 하측에 연장되어진 연장부(32)에 설치되어진 것이다.
The front and rear
상기와 같이 구성된 반도체 및 디스플레이 제조공정의 대기용 게이트밸브(100)는, 반도체 및 디스플레이를 제조하기 위한 진공장비의 로드락 챔버(200)의 챔버 측벽에 설치되고, 상기 챔버 측벽에 형성된 기판의 반입 및 반출되는 개방구(210)를 승하강실린더(20)의 승하강으로 도어(40)를 이용하여 상기 개방구(210)를 개방 또는 폐쇄하는 것이다.The
이를 좀더 살펴보면, 밸브몸체(10)의 하부에 설치되어진 승하강실린더(20)의 로드(21)가 상승하게 되면 로드(21) 단부에 설치되어진 축지지부(30) 및 지지봉(31)이 도어(40)를 상승시키게 되고, 상기 도어(40)는 개방구(210)를 폐쇄하게 된다.Looking in more detail, when the
이때 스윙플레이트(51)와 락킹브라켓트(53)의 사이에 설치되어진 좌,우 유격방지수단(60)인 한쌍의 가이드봉(61)에 의해 도어(40)의 좌,우 방향의 유격을 방지하게 되고, 축지지부(30)의 하측에 연장된 연장부(32)에 설치된 캠플로워(71)가 회동바(54)의 길이방향에 형성된 가이드홈(54a)에서 구름운동하면서 전,후 방향의 유격을 방지하게 된다.At this time, by the pair of
여기서 상기 스윙플레이트(51)의 형성된 관통공(51b)은 지지봉(31)의 직경보다 크게 이루어져 마찰이 발생되지 않아 이물질 방지를 방지할 수 있으며, 승하강실린더(20)를 밸브몸체(10)의 하부에 설치하여 패킹 등의 마모로 인한 에어 리크인 경우 이물질 비산을 방지할 수 있게 되는 것이다.
Here, the through
또한, 개방구(210)가 폐쇄된 상태에서 잠금실린더(52)가 전진됨에 따라 락킹브라켓트(53)가 회동바(54)를 가압하여 회동바(54)가 연결되어진 스윙플레이트(51)를 힌지축(51a)을 중심으로 회동시키게 되면 도어(40)가 개방구(210)에 밀폐되는 것이다.
In addition, as the locking
한편, 도어(40)를 개방구(210)에서 개방시키기 위해서는 잠금실린더(52)가 후진되고, 이에 따라 스윙플레이트(51)가 탄성부재 등에 의해 원상복귀되면서 회동바(54)도 원위치되어지고, 승하강실린더(20)가 하강하게 된다.
On the other hand, in order to open the
본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명한 것이나, 당해 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자들에게는 다양한 변형 및 다른 실시예가 가능하다는 점이 이해될 것이다.Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the accompanying drawings, it will be understood that various modifications and other embodiments are possible to those skilled in the art.
100: 반도체 및 디스플레이 제조공정의 대기용 게이트밸브
10: 밸브몸체 11: 측면커버
12: 보닛 13: 실린더 블럭
20: 승하강실린더 21: 로드
30: 축지지부 31: 지지봉
32: 연장부 40: 도어
50: 도어잠금수단 51: 스윙플레이트
51a: 힌지축 51b: 관통공
52: 잠금실린더 52a: 로드
53: 락킹브라켓트 54: 회동바
54a: 가이드홈 60: 좌,우 유격방지수단
61: 가이드봉 70: 전,후 유격방지수단
71: 캠플로워 200: 로드락 챔버
210: 개방구100: atmospheric gate valve for semiconductor and display manufacturing process
10: valve body 11: side cover
12: bonnet 13: cylinder block
20: lifting cylinder 21: rod
30: shaft support 31: support rod
32: extension part 40: door
50: door locking means 51: swing plate
51a: hinge
52:
53: locking bracket 54: rotation bar
54a: guide groove 60: left and right play prevention means
61: guide rod 70: before and after play prevention means
71: Cam Follower 200: Load Lock Chamber
210: opening
Claims (3)
상기 밸브몸체(10)의 하부에 설치되고, 로드(21)가 승하강되는 승하강실린더(20)와;
상기 승하강실린더(20)의 로드(21) 단부에 설치되고, 상부 양측에 지지봉(31)이 결합되어진 축지지부(30)와;
상기 지지봉(31)의 단부에 결합되어 상기 승하강실린더(20)의 승하강에 따라 상기 로드락 챔버(200)의 측벽에 형성된 기판의 반입 및 반출되는 개방구(210)를 개폐시키는 도어(40)와;
상기 밸브몸체(10)의 상부에 양측이 힌지축(51a)으로 연결되고, 상기 지지봉(31)보다 직경이 크게 이루어진 관통공(51b)이 형성된 스윙플레이트(51), 상기 승하강실린더(20)의 상부 일측에 설치되고, 전,후진되는 로드(52a)가 형성된 잠금실린더(52), 상기 잠금실린더(52)의 로드(52a)에 연결되어 상기 로드(52a)의 전,후진에 의해 수평이동하는 락킹브라켓트(53) 및 상기 스윙플레이트(51)의 힌지축(51a)에 일측이 고정되고, 타측은 상기 락킹브라켓트(53)에 의해 동작되는 회동바(54)를 포함하는 도어잠금수단(50)과;
상기 스윙플레이트(51)와 락킹브라켓트(53)의 사이에 설치되어지고, 상기 승하강실린더(20)의 로드(21)가 연결된 축지지부(30)의 승하강시 좌,우 유격을 방지하도록 하는 좌,우 유격방지수단(60)과;
상기 회동바(54) 상에 결합되어 상기 승하강실린더(20)의 승하강시 전,후 유격을 방지하도록 하는 전,후 유격방지수단(70); 을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 및 디스플레이 제조공정의 대기용 게이트밸브.
A valve body 10 provided on the chamber sidewall of the load lock chamber 200 at the boundary between the vacuum side and the atmosphere side,
A lifting cylinder 20 installed at a lower portion of the valve body 10 and having a rod 21 lowered;
An axial support part 30 installed at an end of the rod 21 of the elevating cylinder 20 and having support bars 31 coupled to both upper sides thereof;
The door 40 is coupled to the end of the support rod 31 to open and close the opening and closing opening 210 of the substrate formed on the side wall of the load lock chamber 200 in accordance with the lifting and lowering of the lifting cylinder 20 )Wow;
Both sides of the valve body 10 is connected to the hinge shaft (51a), the swing plate 51 formed with a through hole (51b) having a larger diameter than the support rod 31, the elevating cylinder (20) It is installed on the upper side of the lock cylinder 52, the rod 52a is formed to move forward, backward, connected to the rod 52a of the lock cylinder 52 is moved horizontally by the forward and backward of the rod (52a) One side is fixed to the hinge bracket (51a) of the locking bracket 53 and the swing plate 51, the other side is a door locking means (50) comprising a rotation bar 54 is operated by the locking bracket (53) )and;
Left and right installed between the swing plate 51 and the locking bracket 53, the left and right to prevent the left and right play when the lifting and lowering of the shaft support portion 30 to which the rod 21 of the elevating cylinder 20 is connected , Right clearance means 60 and;
Before and after play prevention means 70 is coupled to the rotation bar 54 to prevent the play before and after the lifting of the lifting cylinder (20); Gate valve for the atmosphere of the semiconductor and display manufacturing process comprising a.
상기 좌,우 유격방지수단(60)은,
한쌍의 가이드봉(61)으로 이루어져 상기 승하강 실린더(20)의 좌,우측에 각각 설치되어진 것을 특징으로 하는 반도체 및 디스플레이 제조공정의 대기용 게이트밸브.
The method of claim 1,
The left and right play prevention means 60,
Gate valve for the atmosphere of the semiconductor and display manufacturing process, characterized in that the pair of guide rods 61 are installed on the left and right sides of the lifting cylinder 20, respectively.
상기 전,후 유격방지수단(70)은,
상기 회동바(54)의 길이방향에 형성된 가이드홈(54a)에 구름운동하도록 하는 캠플로워(71)이며, 상기 캠플로워(71)는 상기 축지지부(30)의 하측에 연장되어진 연장부(32)에 설치되어진 것을 특징으로 하는 반도체 및 디스플레이 제조공정의 대기용 게이트밸브.
The method of claim 1,
The before and after play prevention means 70,
Cam follower 71 for rolling in the guide groove (54a) formed in the longitudinal direction of the rotation bar 54, the cam follower 71 is an extension portion 32 extended to the lower side of the shaft support portion (30) The gate valve for the atmosphere of the semiconductor and display manufacturing process characterized in that installed in the).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110130349A KR101269827B1 (en) | 2011-12-07 | 2011-12-07 | Gate valve for atmosphere of fabricating semiconductor and a display |
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KR101269827B1 true KR101269827B1 (en) | 2013-05-31 |
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KR (1) | KR101269827B1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR102000443B1 (en) | 2019-03-05 | 2019-10-01 | 안현구 | Gate valve |
CN117847248A (en) * | 2024-03-07 | 2024-04-09 | 沈阳富创精密设备股份有限公司 | Rectangular valve with adjustable valve plate |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR200380587Y1 (en) | 2004-12-28 | 2005-03-31 | 아이시스(주) | Gate valve |
-
2011
- 2011-12-07 KR KR1020110130349A patent/KR101269827B1/en active IP Right Grant
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