KR20110079241A - Device manufacturing flat display device with substrate align apparatus - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An apparatus for manufacturing a flat display device having a substrate aligning unit is provided to make it easy to input the substrate into a lower electrode by using aligning lift pins and to prevent the substrate from moving after or before the processes. CONSTITUTION: A chamber(50) has a gate for inputting or discharging the substrate. A mounting stand(51) is prepared within the chamber and mounts the substrate. A plurality of aligning lift pins(100), arranged on the mounting stand, can move up and down, and performs an alignment function while being contacted to a circumference of the substrate when the substrate is inputted to the mounting stand.

Description

기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치{Device manufacturing flat display device with substrate align apparatus}Device manufacturing flat display device with substrate align apparatus

본 발명은 LCD와 같은 평판표시소자 제조장치에 관한 것으로서, 특히 챔버 내에 투입된 기판의 위치를 정렬하는 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat panel display device manufacturing apparatus such as an LCD, and more particularly, to a flat panel display device manufacturing apparatus having a substrate alignment device for aligning a position of a substrate placed in a chamber.

평판표시소자(Flat Panel Display)는 액정 표시소자(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이 소자(Plasma Display Panel), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diodes) 등이 있다.Flat panel displays include liquid crystal displays, plasma display panels, and organic light emitting diodes.

이러한 평판표시소자를 제조하기 위한 평판표시소자 제조장치는, 기판의 표면 처리 등을 위해 진공 처리용 장치를 이용하게 되는데, 일반적으로 로드락(Load lock) 챔버, 반송 챔버, 공정 챔버 등이 이용되고 있다.In the flat panel display device manufacturing apparatus for manufacturing such a flat panel display device, a vacuum processing apparatus is used for surface treatment of a substrate, etc. In general, a load lock chamber, a transfer chamber, a process chamber, and the like are used. have.

이 중에서 공정 챔버는, 도 1을 참조하면, 일측에 게이트(11)가 구비되고 진공 상태로의 전환이 가능하도록 이루어져 내부에서 공정 처리가 수행되는 챔버(10)와, 이 챔버(10) 내부의 상부 영역에 위치되는 상부 전극(12)과, 이 상부 전극(12)의 하부에 위치되어 그 상부에 기판(S)이 탑재되는 하부 전극(14)로 구성된다.Among these, the process chamber, with reference to FIG. 1, is provided with a gate 11 at one side and is capable of switching to a vacuum state, in which a process 10 is performed and process chambers are performed inside the chamber 10. An upper electrode 12 positioned in the upper region and a lower electrode 14 positioned below the upper electrode 12 and mounted on the substrate S are provided.

여기서 상부 전극(12)은 기판(S)에 공정 가스를 분사하는 샤워 헤드(Shower head)가 포함되고, 하부 전극(14)은 상기 기판(S)을 로딩/언로딩할 때 기판을 상승 및 하강시킬 수 있도록 다수 개의 리프트 핀(20)들이 구비된다. Here, the upper electrode 12 includes a shower head (Shower head) for injecting a process gas to the substrate (S), the lower electrode 14 raises and lowers the substrate when loading / unloading the substrate (S) A plurality of lift pins 20 are provided for the purpose.

참조 번호 16은 리프트 핀(20)이 통과하도록 하부 전극(14)에 형성된 다수개의 핀 홀(16)이고, 참조 번호 30은 리프트 핀(20)들을 승강 작동시키는 리프트 핀 구동장치를 나타낸다.Reference numeral 16 denotes a plurality of pin holes 16 formed in the lower electrode 14 through which the lift pin 20 passes, and reference numeral 30 denotes a lift pin driving device for lifting and lowering the lift pins 20.

이와 같은 공정 챔버(10)는 리프트 핀(20)이 상승하고, 게이트(11)가 개방된 상태에서 반송 챔버(미도시)의 로봇 암에 의해 기판(S)이 챔버(10) 내로 투입된 후에, 하부 전극(14) 위에 올려진다. 이후 리프트 핀(20)이 하강하여 기판이 하부 전극(14)에 안착된 상태에서 챔버 내에 플라즈마를 발생시켜 기판의 표면을 처리하게 된다.In the process chamber 10, after the lift pin 20 is lifted up and the substrate S is introduced into the chamber 10 by a robot arm of a transfer chamber (not shown) in a state in which the gate 11 is opened, It is mounted on the lower electrode 14. Thereafter, the lift pin 20 is lowered to generate plasma in the chamber while the substrate is seated on the lower electrode 14 to treat the surface of the substrate.

그러나, 상기한 바와 같은 종래 기술의 공정 챔버에는 기판(S)이 하부 전극(14) 위에 로딩될 때, 정렬(align)할 수 있는 기능이 없기 때문에 기판(S)을 이송하는 로봇 등에 반드시 얼라인 센서(align sensor) 기능을 추가하여야 하는 문제점이 있다.However, since the process chamber of the prior art as described above does not have a function to align when the substrate S is loaded on the lower electrode 14, it is always necessary to align the robot or the like for transferring the substrate S. There is a problem of adding a sensor function (align sensor).

또한, 종래에는 기판(S)이 챔버(10) 내에 투입된 후에, 기판의 표면 처리를 위해 진공 형성 과정에서 기판(S)의 위치가 변경되는 경우가 발생하기 때문에 이를 방지하기 위한 하부 전극(14)에 기판의 슬라이딩을 방지하기 위한 패드 등의 보조 기구를 설치하여야 하는 문제점도 있다.In addition, conventionally, after the substrate S is introduced into the chamber 10, since the position of the substrate S is changed during the vacuum forming process for surface treatment of the substrate, the lower electrode 14 for preventing this may occur. There is also a problem in that an auxiliary mechanism such as a pad must be provided to prevent sliding of the substrate.

결국, 종래 공정 챔버는, 기판(S)을 정렬하고, 기판(S)의 위치가 변경되지 않도록 별도의 센서 구조물 및 슬라이딩 방지용 보조 기구 등을 설치하여야 하기 때문에 전체적으로 구조가 복잡해지는 문제점이 발생되고 있다.As a result, in the conventional process chamber, since a separate sensor structure, an auxiliary mechanism for preventing sliding, and the like must be provided so that the substrate S is aligned and the position of the substrate S is not changed, the structure is complicated. .

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 기판 탑재대의 상부에 기판의 위치를 정렬하는 기판 정렬 장치를 설치함으로써 간단한 구조로 기판을 보다 용이하게 정렬하고, 공정 수행 중에 기판이 흔들리지 않도록 하여, 효과적인 공정 수행이 가능하도록 하는 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치를 제공하는 데 목적이 있다. The present invention has been made to solve the above problems, by providing a substrate alignment device for aligning the position of the substrate on the upper portion of the substrate mount to more easily align the substrate with a simple structure, so as not to shake the substrate during the process It is an object of the present invention to provide a flat panel display device manufacturing apparatus having a substrate alignment device capable of performing an effective process.

상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명에 따른 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치는, 일측에 기판을 투입하거나 배출할 수 있도록 게이트가 구비된 챔버와; 상기 챔버 내에 구비되어 기판이 탑재되는 탑재대와; 상기 탑재대에 상하 이동 가능하게 구비되어 탑재대에 기판이 투입될 때 기판의 둘레 부분에 접촉되면서 정렬 기능을 수행하는 복수의 정렬용 리프트 핀을 포함한 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a flat panel display device manufacturing apparatus including a substrate alignment apparatus, including: a chamber having a gate configured to input or discharge a substrate to one side; A mounting table provided in the chamber and on which a substrate is mounted; It is characterized in that it comprises a plurality of alignment lift pins which are provided to be movable up and down on the mount and perform an alignment function while contacting the peripheral portion of the substrate when the substrate is put into the mount.

상기 정렬용 리프트 핀은, 상기 탑재대에서 상기 게이트의 반대쪽 위치에 설치되는 것이 바람직하다.Preferably, the alignment lift pins are provided at positions opposite to the gates on the mount table.

상기 정렬용 리프트 핀은, 상기 게이트를 통해 투입된 기판에서 게이트에서 가장 먼 쪽의 양쪽 모서리 부분이 접촉되면서 정렬될 수 있도록 구성되는 것이 바람직하다.The alignment lift pins are preferably configured to be aligned while contacting both edge portions of the substrate farthest from the gate from the substrate inserted through the gate.

상기 정렬용 리프트 핀은, 기판에서 하나의 모서리 양쪽 부분이 접촉되면서 정렬될 수 있도록 배치되는 것이 바람직하다.Preferably, the alignment lift pins are arranged to be aligned while contacting both edges of one corner of the substrate.

상기 정렬용 리프트 핀은, 상기 탑재대를 관통하여 상하 이동하는 핀부와, 상기 핀부의 상부에서 회전 가능하게 장착되어 기판이 접촉될 때 구름 운동하는 롤러부를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.Preferably, the alignment lift pin includes a pin part that vertically moves through the mounting table, and a roller part that is rotatably mounted on the upper part of the pin part and that moves in rolling motion when the substrate is in contact.

상기 정렬용 리프트 핀은, 챔버의 내측 또는 외측에 구비된 핀 승강기구에 의해 상하 이동될 수 있도록 구성될 수 있다.The alignment lift pin may be configured to be moved up and down by a pin lift mechanism provided inside or outside the chamber.

상기 탑재대에는 기판이 탑재된 상태에서 기판을 상하 이동시키는 복수의 승강용 리프트 핀이 구비될 때, 상기 정렬용 리프트 핀 및 승강용 리프트 핀은 하나의 핀 승강기구에 의해 동시에 상하 이동될 수 있도록 구성되되, 상기 정렬용 리프트 핀이 승강용 리프트 핀 보다 일정 정도 더 높게 구성되는 것이 바람직하다.When the mounting table is provided with a plurality of lift pins for moving the substrate up and down while the substrate is mounted, the alignment lift pins and the lift lift pins may be simultaneously moved up and down by a single pin lift mechanism. It is preferable that the alignment lift pin is configured to be higher than a lift pin for a certain degree.

이와는 달리, 상기 정렬용 리프트 핀 및 승강용 리프트 핀은 각각의 핀 승강기구에 의해 독립적으로 상하 이동될 수 있도록 구성되는 것도 가능하다.Alternatively, the alignment lift pin and the lift lift pin may be configured to be moved up and down independently by the respective pin lift mechanisms.

또한, 상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명에 따른 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치는, 일측에 기판을 투입하거나 배출할 수 있도록 게이트가 구비된 챔버와; 상기 챔버 내에 구비되어 기판이 탑재되는 탑재대와; 상기 탑재대에서 상기 게이트의 반대쪽 위치에 설치되어 탑재대에 기판이 투입될 때 기판에서 게이트에서 가장 먼 쪽의 양쪽 모서리 부분이 접촉되면서 기판의 정렬 기능을 수행하는 것으로, 기판이 접촉될 때 구름 운동하는 롤러 구조로 이루어진 정렬용 핀을 포함한 것을 특징으로 한다.In addition, a flat panel display device manufacturing apparatus equipped with a substrate aligning device according to the present invention for realizing the above object, the chamber is provided with a gate so as to put or discharge the substrate on one side; A mounting table provided in the chamber and on which a substrate is mounted; Installed at the opposite side of the gate from the mount to perform the alignment function of the substrate while contacting both edges of the farthest side from the gate when the substrate is put into the mount, rolling motion when the substrate is in contact It characterized in that it comprises an alignment pin made of a roller structure.

상기한 바와 같은 본 발명의 주요한 과제 해결 수단들은, 아래에서 설명될 '발명의 실시를 위한 구체적인 내용', 또는 첨부된 '도면' 등의 예시를 통해 보다 구체적이고 명확하게 설명될 것이며, 이때 상기한 바와 같은 주요한 과제 해결 수단 외에도, 본 발명에 따른 다양한 과제 해결 수단들이 추가로 제시되어 설명될 것이다.The main problem solving means of the present invention as described above, will be described in more detail and clearly through examples such as 'details for the implementation of the invention', or the accompanying 'drawings' to be described below, wherein In addition to the main problem solving means as described above, various problem solving means according to the present invention will be further presented and described.

본 발명에 따른 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치는 다음과 같은 효과를 갖는다.A flat panel display device manufacturing apparatus provided with a substrate alignment apparatus according to the present invention has the following effects.

본 발명은, 기판 탑재대인 하부 전극에 기판 투입시 기판의 위치를 정렬하는 정렬용 리프트 핀들이 구성되기 때문에 간단한 구조로 기판을 보다 용이하게 투입한 후 정렬할 수 있고, 공정 수행 전후에 기판이 흔들리지 않도록 하여, 보다 효과적인 공정 수행이 가능하도록 하는 효과를 제공한다.According to the present invention, since the lift pins for aligning the position of the substrate when the substrate is inserted into the lower electrode serving as the substrate mount are configured, the substrate can be easily inserted after the substrate is aligned with a simple structure, and the substrate is not shaken before or after performing the process. To provide more effective process performance.

또한 본 발명은, 하나의 핀 승강기구를 이용하여 승강용 리프트 핀과 정렬용 리프트 핀을 동시에 승강시킬 수 경우에, 전체적인 구동 구조를 간단히 함과 아울러, 구동 제어의 편의성도 높일 수 있는 효과를 제공한다.In addition, the present invention provides an effect of simplifying the overall driving structure and increasing the convenience of driving control when the lifting lift pin and the alignment lift pin can be simultaneously lifted and lifted by using a single pin lift mechanism. do.

또한 본 발명은, 각각의 핀 승강기구를 이용하여 승강용 리프트 핀과 정렬용 리프트 핀을 승강시킬 경우, 효율적인 개별 제어가 가능한 효과를 제공한다.In addition, the present invention, when using the respective pin lifting mechanism to lift and lift the lifting lift pin and the alignment lift pin, it provides an effect capable of efficient individual control.

또한 본 발명은 게이트의 반대쪽에만 기판 정렬 장치를 설치하기 때문에 기판 투입 및 배출시에 간섭을 최소화하면서도 기판 투입과 함께 신속하게 기판의 위 치 정렬이 가능하도록 하는 효과를 제공한다.In addition, the present invention provides the effect of enabling the alignment of the substrate quickly with the substrate input while minimizing interference during substrate loading and discharge because the substrate alignment device is installed only on the opposite side of the gate.

또한 본 발명은, 기판 정렬 장치에서 기판이 접촉되는 부분이 롤러 접촉 구조를 갖도록 구성되기 때문에 마찰에 의한 파티클 등의 발생을 최소화할 수 있는 효과를 제공한다. In addition, the present invention provides an effect of minimizing the generation of particles and the like due to friction because the portion in which the substrate is in contact with the substrate alignment device is configured to have a roller contact structure.

첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 기판을 탑재하여 기판처리공정을 수행하는 모든 평판표시소자 제조장치에 적용될 수 있으나, 이하 설명되는 본 발명의 바람직한 실시 예들은 평판표시소자 제조장치 중에서 공정 챔버를 예시하여 설명한다.Although the present invention can be applied to all flat panel display device manufacturing apparatuses in which a substrate is mounted to perform a substrate processing process, preferred embodiments of the present invention described below will be described by illustrating a process chamber in the flat panel display device manufacturing apparatus.

먼저, 본 발명의 제1실시예에 대하여 설명한다.First, a first embodiment of the present invention will be described.

도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 기판 정렬 장치가 구비된 챔버의 개략적인 단면 구성도이고, 도 3은 도 2에서 기판 정렬 상태를 보여주는 평면도이며, 도 4는 도 3의 A-A 선 방향의 단면도이다.FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a chamber having a substrate alignment apparatus according to a first embodiment of the present invention, FIG. 3 is a plan view illustrating a substrate alignment state in FIG. 2, and FIG. 4 is a direction along line AA of FIG. 3. It is a cross section of.

이들 도면에 예시된 바와 같이, 진공 분위기 하에서 기판의 표면을 처리할 수 있도록 이루어진 챔버(50)가 구비되고, 이 챔버(50)의 내부에는 상부 전극(52)과 하부 전극(54)이 상하로 배치되어 구성된다.As illustrated in these figures, a chamber 50 is provided which can treat the surface of the substrate in a vacuum atmosphere, and the upper electrode 52 and the lower electrode 54 are disposed up and down inside the chamber 50. Arranged and configured.

상기 챔버(50)는 기판을 투입하거나 배출할 수 있도록 게이트(51)가 구비된다.The chamber 50 is provided with a gate 51 to input or discharge a substrate.

상기 상부 전극(52)은 기판(S)의 표면 처리를 위한 공정 가스가 제공되는 샤워 헤드가 구비된다.The upper electrode 52 is provided with a shower head provided with a process gas for the surface treatment of the substrate (S).

상기 하부 전극(54)은 표면 처리할 기판(S)이 상부에 탑재되어 위치될 수 있는 구성 부분으로서, 본 발명에서 기판이 탑재되는 탑재대를 구성한다.The lower electrode 54 is a component part in which the substrate S to be surface-treated is mounted on the upper portion, and constitutes a mounting table on which the substrate is mounted in the present invention.

탑재대 기능을 갖는 하부 전극(54)은 기판 투입 및 배출 과정에서 기판(S)을 승강시키는 승강용 리프트 핀(60)들이 상하 방향으로 관통되게 설치된다. 이 하부 전극(54)에는 승강용 리프트 핀(60)이 통과하도록 핀 통과부가 구성되는데, 이 핀 통과부는 도면에서 핀 홀(56)들로 구성된다.The lower electrode 54 having a mount function is installed such that lift pins 60 for elevating and lowering the substrate S penetrate in the vertical direction during substrate input and discharge processes. The lower electrode 54 has a pin passing portion configured to pass the lift pin 60 for lifting, which is composed of pin holes 56 in the drawing.

상기 챔버(50)의 하부 공간에는 상기 승강용 리프트 핀(60)들을 승강시키는 핀 승강기구(70)가 구비된다. 여기서 상기 핀 승강기구(70)에 의해 상기 승강용 리프트 핀(60)을 승강시킬 수 있도록 푸시 바(77)가 구비되고, 상기 챔버(50)에는 상기 푸시 바(77)가 통과하도록 핀 홀(57)이 구비된다.The lower space of the chamber 50 is provided with a pin lifting mechanism 70 for lifting the lift pins 60 for lifting. Here, the push bar 77 is provided to elevate the lift pin 60 for lifting by the pin lifting mechanism 70, and the pin 50 may pass through the chamber 50 through the push bar 77. 57).

핀 승강기구(70)는 복수의 승강용 리프트 핀(60) 및 푸시 바(77)들을 동시에 승강시킬 수 있도록 구성된다.The pin lift mechanism 70 is configured to simultaneously lift a plurality of lift pins 60 and push bars 77 for lifting.

이를 위해 핀 승강기구(70)는 상기 챔버(50)의 하부에 복수의 푸시 바(77)들이 고정되어 있는 핀 플레이트(75)가 구비되고, 이 핀 플레이트(75)를 볼 스크류 구동 방식에 의해 승강시킬 수 있도록 구동 모터(72) 및 볼 스크류(73)로 구성된다.To this end, the pin elevating mechanism 70 is provided with a pin plate 75 having a plurality of push bars 77 fixed to the lower portion of the chamber 50, and the pin plate 75 is driven by a ball screw driving method. It consists of a drive motor 72 and a ball screw 73 so that it can be elevated.

상기 챔버(50)의 하부와 상기 핀 플레이트(75) 사이에는 상기 푸시 바(77)가 통과하는 핀 홀(57)을 밀봉할 수 있도록 벨로우즈(78)가 구비된다. 이때, 벨로우 즈(57)는 챔버(50)를 밀봉하면서 신장 및 수축 작동이 가능한 구조로 형성된다.A bellows 78 is provided between the lower portion of the chamber 50 and the pin plate 75 to seal the pin hole 57 through which the push bar 77 passes. At this time, the bellows 57 is formed in a structure capable of extending and contracting operation while sealing the chamber 50.

상기 하부 전극(54)에는 챔버(50) 내에 기판(S)이 투입될 때 기판의 둘레 부분에 접촉하면서 정렬 기능을 수행하는 정렬용 리프트 핀(100)들이 구비된다.The lower electrode 54 is provided with alignment lift pins 100 for performing an alignment function while contacting the peripheral portion of the substrate when the substrate S is introduced into the chamber 50.

정렬용 리프트 핀(100)은 상기 하부 전극(54)에서 상기 게이트(51)의 반대쪽 위치에 설치되는 것이 바람직하다. 이는 게이트(51)를 통해 챔버(50) 내부로 기판(S)이 투입될 때, 하부 전극(54) 상에서 기판(S)을 정렬하고자 하는 위치인 최종 투입 위치에 정렬용 리프트 핀(100)을 설치함으로써 기판(S)이 투입될 때 기판(S)의 한쪽 끝단부가 정렬용 리프트 핀(100)에 접촉되어 멈추게 되고, 이렇게 멈춘 위치가 기판 정렬 위치가 되면서 기판(S)의 투입 및 위치 정렬이 완료됨으로써 기판 처리 공정을 보다 신속하게 진행할 수 있게 되는 것이다.The alignment lift pin 100 may be installed at a position opposite to the gate 51 at the lower electrode 54. This is because when the substrate S is introduced into the chamber 50 through the gate 51, the alignment lift pin 100 is placed at the final feeding position, which is the position where the substrate S is to be aligned on the lower electrode 54. When the substrate S is inserted, one end of the substrate S comes into contact with the alignment lift pin 100 and stops. The stopped position becomes the substrate alignment position, and the insertion and position alignment of the substrate S is performed. By being completed, the substrate processing process can be performed more quickly.

이를 위해, 정렬용 리프트 핀(100)은 도 3을 참고하면, 상기 게이트(51)를 통해 투입된 기판(S)에서 게이트(51)에서 가장 먼 쪽의 양쪽 모서리 부분이 접촉되면서 정렬될 수 있도록 구성될 수 있다. 바람직하게는 정렬용 리프트 핀(100)이 기판(S)에서 하나의 모서리 양쪽 부분에 각각 접촉되면서 정렬될 수 있도록 배치되는 것이 좋다.To this end, the alignment lift pin 100 is configured to be aligned while contacting both corner portions of the farthest side from the gate 51 in the substrate (S) injected through the gate 51, referring to FIG. Can be. Preferably, the alignment lift pins 100 may be arranged to be aligned while being in contact with both sides of one corner of the substrate S, respectively.

정렬용 리프트 핀(100)은 상기 하부 전극(54)에 상하 이동 가능하게 구성될 수 있는데, 정렬용 리프트 핀(100)의 상하 이동 구조에 대하여 설명한다.The alignment lift pin 100 may be configured to be movable up and down on the lower electrode 54, and the vertical movement structure of the alignment lift pin 100 will be described.

정렬용 리프트 핀(100)도 승강용 리프트 핀(80)과 같이 챔버(50) 및 하부 전극(54)을 관통하여 상하 이동되게 설치되는 것이 바람직하다.Alignment lift pin 100 is also installed to move up and down through the chamber 50 and the lower electrode 54, like the lift pin 80 for lifting.

이러한 정렬용 리프트 핀(100)은 상기 승강용 리프트 핀(80)을 승강시키는 핀 승강기구(70)에 의해 상하 이동할 수 있도록 구성할 수 있다. 따라서 정렬용 리프트 핀(100)도 승강용 리프트 핀(80)과 같이 구동 모터(72)에 의해 상하 이동하는 핀 플레이트(75) 및 이 핀 플레이트(75)에 의해 상하 이동하는 푸시 바(107)를 통해 상하 이동할 수 있도록 구성될 수 있다. The alignment lift pin 100 may be configured to be moved up and down by the pin lift mechanism 70 for lifting the lift pin 80 for lifting. Accordingly, the alignment lift pin 100 also moves up and down by the driving motor 72 like the lifting lift pin 80, and the push bar 107 moves up and down by the pin plate 75. It may be configured to move up and down through.

또한, 정렬용 리프트 핀(100)의 승강을 위해 챔버(50)와 하부 전극(54)에는 상기 승강용 리프트 핀(80)의 설치 구조와 같이 각각 핀 홀(56)(57)들이 형성된다.In addition, the pin holes 56 and 57 are formed in the chamber 50 and the lower electrode 54 to lift the alignment lift pin 100, as in the installation structure of the lift pin 80.

이와 같이 정렬용 리프트 핀(100)도 승강용 리프트 핀(80)과 동일한 구조로 구성될 수 있으나, 기판(S)의 위치 정렬을 위해서 정렬용 리프트 핀(100)이 승강용 리프트 핀(80) 보다 일정 정도 더 높게 구성되는 것이 바람직하다. 이는 핀 승강기구(70)에 의해 정렬용 리프트 핀(100)과 승강용 리프트 핀(80)이 동시에 상승한 상태에서도 정렬용 리프트 핀(100)이 승강용 리프트 핀(80) 보다 높게 위치됨으로써 기판(S)이 투입될 때 정렬용 리프트 핀(100)에 의해 위치 정렬이 이루어질 수 있기 때문이다. 또한, 핀 승강기구(70)가 하강하여 기판(S)이 하부 전극(54)에 안착된 상태에서도 정렬용 리프트 핀(100)은 그대로 하부 전극(54) 상부로 돌출된 상태를 유지함으로써 공정 수행 중에 기판(S)이 흔들리거나 위치가 변동되는 문제를 방지할 수 있게 된다. 물론, 기판이 하부 전극(54)의 정전척에 의한 척킹 작업이 완료되면 정렬용 리프트 핀(100)도 하부 전극(54) 내부로 완전히 하강시킨 후에 챔버(50) 내에 플라즈마를 발생시켜 기판 처리 공정을 본격 수행하는 것도 가능하다.As such, the alignment lift pin 100 may also be configured in the same structure as the lift pin 80 for lifting, but the alignment lift pin 100 for lifting the position of the substrate S is lift pin 80 for lifting. It is preferred to be configured higher than some degree. This is because the alignment lift pin 100 is positioned higher than the lift pin 80 for lifting even when the alignment lift pin 100 and the lift lift pin 80 are simultaneously raised by the pin lift mechanism 70. This is because the alignment can be made by the alignment lift pin 100 when S) is input. In addition, even when the pin elevating mechanism 70 is lowered and the substrate S is seated on the lower electrode 54, the alignment lift pin 100 is maintained as it is while protruding to the upper portion of the lower electrode 54. It is possible to prevent the problem that the substrate S is shaken or the position is changed during the operation. Of course, when the chucking operation by the electrostatic chuck of the lower electrode 54 is completed, the alignment lift pin 100 is also completely lowered into the lower electrode 54 and then plasma is generated in the chamber 50 to process the substrate. It is also possible to carry out in earnest.

한편, 정렬용 리프트 핀(100)은, 도 4를 참조하면, 기판(S)과 접촉되는 부분이 저항 없이 원활하게 접촉될 수 있도록 롤러형 접촉 구조를 갖도록 구성되는 것 이 바람직하다. 이를 위해 정렬용 리프트 핀(100)은 하부 전극(54)을 관통하여 푸시 바(107)에 의해 상하 이동하는 핀부(102)와, 이 핀부(102)의 상부의 둘레에 회전 가능하게 장착되어 기판(S)이 접촉될 때 구름 운동하는 롤러부(105)로 구성될 수 있다.Meanwhile, referring to FIG. 4, the alignment lift pin 100 may be configured to have a roller-type contact structure such that a portion contacting the substrate S may be smoothly contacted without resistance. To this end, the alignment lift pins 100 are rotatably mounted around the upper portion of the pin portion 102 and the upper portion of the pin portion 102 which is vertically moved by the push bar 107 through the lower electrode 54. It may be constituted by a roller portion 105 that rolls when (S) is in contact.

이때 롤러부(105)는 상기 핀부(102)에서 자유 회전할 수 있도록 구성되는 것이 바람직하고, 소재로는 기판 접촉시에 기판의 손상을 최소화하면서도 챔버(50) 내부의 플라즈마 발생 환경에 견딜 수 있는 소재로 구성되어야 하는데, 예들 들면 PEEK, McNylon, Al-Anodizing 등의 소재를 이용하여 구성할 수 있다. At this time, the roller portion 105 is preferably configured to be free to rotate in the pin portion 102, the material is capable of withstanding the plasma generation environment inside the chamber 50 while minimizing damage to the substrate during contact with the substrate The material should be composed of, for example, PEEK, McNylon, Al-Anodizing and the like can be configured using a material.

이하, 상기한 본 발명의 다른 실시예들을 설명한다. 참고로 위에서 설명한 제1실시예의 구성과 동일 유사한 구성 부분에 대해서는 동일한 참조 번호를 부여하고 가능하면 반복 설명은 생략한다.Hereinafter, other embodiments of the present invention described above will be described. For reference, the same reference numerals are given to the same or similar components as those of the first embodiment described above, and the repeated description thereof will be omitted if possible.

도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 기판 정렬 장치가 구비된 챔버의 개략적인 단면 구성도이다.5 is a schematic cross-sectional view of a chamber with a substrate alignment device according to a second embodiment of the present invention.

위에서 설명한 본 발명의 제1실시예에서는 정렬용 리프트 핀(100)과 승강용 리프트 핀(80)이 하나의 핀 승강기구(70)에 의해 동시에 승강될 수 있도록 구성되었으나, 도 5에 예시된 제2실시예에서는 정렬용 리프트 핀(100)과 승강용 리프트 핀(80)이 각각의 핀 승강기구(70)(170)에 의해 독립적으로 상하 이동될 수 있도록 구성된다.In the first embodiment of the present invention described above, although the alignment lift pin 100 and the lift lift pin 80 are configured to be simultaneously lifted by one pin lift mechanism 70, the first illustrated in FIG. In the second embodiment, the alignment lift pin 100 and the lift lift pin 80 are configured to be independently moved up and down by the respective pin lift mechanisms 70 and 170.

각각의 핀 승강기구(70)(170)의 구성은 제1실시예서 예시한 핀 승강기구를 이용하여 용이하게 구성할 수 있으므로 이에 대한 구체적인 설명은 생략한다.Each of the pin lifting mechanisms 70 and 170 can be easily configured using the pin lifting mechanism illustrated in the first embodiment, and thus a detailed description thereof will be omitted.

도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 기판 정렬 장치가 구비된 챔버의 개략적인 단면 구성도이다.6 is a schematic cross-sectional view of a chamber with a substrate alignment device according to a third embodiment of the present invention.

상기한 본 발명의 제1실시예 및 제2실시예에서는, 기판 정렬 장치가 승강 가능한 리프트 핀으로 구성된 실시예이나, 도 6에 도시된 본 발명의 제3실시예의 기판 정렬 장치는 탑재대인 하부 전극(54)의 상부에 고정된 상태로 돌출된 구조로 이루어진다.In the first and second embodiments of the present invention described above, the substrate aligning device is an embodiment in which the lift pins are liftable, but the substrate aligning device of the third embodiment of the present invention shown in FIG. It is made of a structure projecting in a fixed state on the upper portion (54).

즉, 본 실시예에서의 기판 정렬 장치는, 하부 전극(54)에서 게이트(51)의 반대쪽 위치에 정렬용 핀(100')들이 설치되는데, 이 정렬용 핀(100')들은 하부 전극(54)에 고정된 상태에서 기판(S)이 접촉될 때 핀부(102')를 중심으로 구름 운동하는 롤러부(105')가 구비되어 기판(S)의 정렬 기능을 수행할 수 있도록 구성되는 것이다.That is, in the substrate aligning apparatus of the present embodiment, the alignment pins 100 'are installed at positions opposite to the gate 51 in the lower electrode 54, and the alignment pins 100' are arranged in the lower electrode 54. When the substrate (S) in contact with the fixed state) is provided with a roller portion 105 'for rolling around the pin portion (102') is configured to perform the alignment function of the substrate (S).

정렬용 핀(100')의 위치는 전술한 제1실시예에서 설명한 위치에 동일하게 구성할 수 있다.The position of the alignment pin 100 'may be configured in the same manner as described in the first embodiment.

상기한 바와 같은, 본 발명의 실시예들에서 설명한 기술적 사상들은 각각 독립적으로 실시될 수 있으며, 서로 조합되어 실시될 수 있다. 또한, 본 발명은 도면 및 발명의 상세한 설명에 기재된 실시예를 통하여 설명되었으나 이는 예시적인 것 에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다. 따라서, 본 발명의 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.As described above, the technical ideas described in the embodiments of the present invention can be performed independently of each other, and can be implemented in combination with each other. In addition, the present invention has been described through the embodiments described in the drawings and detailed description of the invention, which is merely exemplary, and those skilled in the art to which the present invention pertains various modifications and other equivalent embodiments therefrom. Yes it is possible. Accordingly, the technical scope of the present invention should be determined by the appended claims.

도 1은 종래 기술의 공정 챔버를 보여주는 개략적인 단면 구성도,1 is a schematic cross-sectional view showing a process chamber of the prior art,

도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 기판 정렬 장치가 구비된 챔버의 개략적인 단면 구성도,2 is a schematic cross-sectional configuration diagram of a chamber having a substrate alignment device according to a first embodiment of the present invention;

도 3은 도 2에서 기판 정렬 상태를 보여주는 평면도,3 is a plan view illustrating a substrate alignment state in FIG. 2;

도 4는 도 3의 A-A 선 방향의 단면도,4 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG. 3;

도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 기판 정렬 장치가 구비된 챔버의 개략적인 단면 구성도,5 is a schematic cross-sectional view of a chamber with a substrate alignment device according to a second embodiment of the present invention;

도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 기판 정렬 장치가 구비된 챔버의 개략적인 단면 구성도이다.6 is a schematic cross-sectional view of a chamber with a substrate alignment device according to a third embodiment of the present invention.

Claims (10)

일측에 기판을 투입하거나 배출할 수 있도록 게이트가 구비된 챔버와;A chamber provided with a gate to input or discharge a substrate to one side; 상기 챔버 내에 구비되어 기판이 탑재되는 탑재대와;A mounting table provided in the chamber and on which a substrate is mounted; 상기 탑재대에 상하 이동 가능하게 구비되어 탑재대에 기판이 투입될 때 기판의 둘레 부분에 접촉되면서 정렬 기능을 수행하는 복수의 정렬용 리프트 핀을 포함한 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치.A flat panel display provided with a substrate aligning device including a plurality of alignment lift pins which are provided to be movable upward and downward on the mount to perform an alignment function when the substrate is inserted into the mount. Device manufacturing apparatus. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 정렬용 리프트 핀은, 상기 탑재대에서 상기 게이트의 반대쪽 위치에 설치된 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치.And the alignment lift pins are installed at opposite positions of the gate from the mounting table. 청구항 2에 있어서,The method according to claim 2, 상기 정렬용 리프트 핀은, 상기 게이트를 통해 투입된 기판에서 게이트에서 가장 먼 쪽의 양쪽 모서리 부분이 접촉되면서 정렬될 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치.And the alignment lift pins are arranged to be aligned while contacting both edge portions of the substrate farthest from the gate from the substrate inserted through the gate. 청구항 3에 있어서,The method of claim 3, 상기 정렬용 리프트 핀은, 기판에서 하나의 모서리 양쪽 부분이 접촉되면서 정렬될 수 있도록 배치된 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치.The alignment lift pin is a flat panel display device manufacturing apparatus having a substrate alignment device, characterized in that arranged to be aligned while contacting both sides of one corner of the substrate. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 정렬용 리프트 핀은, 상기 탑재대를 관통하여 상하 이동하는 핀부와, 상기 핀부의 상부에서 회전 가능하게 장착되어 기판이 접촉될 때 구름 운동하는 롤러부를 포함한 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치.The alignment lift pin is provided with a substrate aligning device, characterized in that it comprises a pin portion for moving up and down through the mount, and a roller portion rotatably mounted on the upper portion of the pin portion to move the rolling when the substrate is in contact Flat panel display device manufacturing apparatus. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 정렬용 리프트 핀은, 챔버의 내측 또는 외측에 구비된 핀 승강기구에 의해 상하 이동될 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치.The alignment lift pin is a flat panel display device manufacturing apparatus having a substrate alignment device, characterized in that configured to be moved up and down by the pin lifting mechanism provided in the inner or outer side of the chamber. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 6, 상기 탑재대에는 기판이 탑재된 상태에서 기판을 상하 이동시키는 복수의 승강용 리프트 핀이 구비된 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치.And a plurality of lifting lift pins for moving the substrate up and down in the state where the substrate is mounted. 청구항 7에 있어서,The method of claim 7, 상기 정렬용 리프트 핀 및 승강용 리프트 핀은 하나의 핀 승강기구에 의해 동시에 상하 이동될 수 있도록 구성되되,The alignment lift pin and the lift lift pin is configured to be moved up and down at the same time by one pin lifting mechanism, 상기 정렬용 리프트 핀이 승강용 리프트 핀 보다 일정 정도 더 높게 구성된 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치.Flat alignment device according to claim 1, wherein the alignment lift pin is configured to be higher than a lift pin. 청구항 7에 있어서,The method of claim 7, 상기 정렬용 리프트 핀 및 승강용 리프트 핀은 각각의 핀 승강기구에 의해 독립적으로 상하 이동될 수 있도록 구성된 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치.And the alignment lift pins and the lift lift pins are configured to be moved up and down independently by the respective pin lift mechanisms. 일측에 기판을 투입하거나 배출할 수 있도록 게이트가 구비된 챔버와;A chamber provided with a gate to input or discharge a substrate to one side; 상기 챔버 내에 구비되어 기판이 탑재되는 탑재대와;A mounting table provided in the chamber and on which a substrate is mounted; 상기 탑재대에서 상기 게이트의 반대쪽 위치에 설치되어 탑재대에 기판이 투입될 때 기판에서 게이트에서 가장 먼 쪽의 양쪽 모서리 부분이 접촉되면서 기판의 정렬 기능을 수행하는 것으로, 기판이 접촉될 때 구름 운동하는 롤러 구조로 이루어진 정렬용 핀을 포함한 것을 특징으로 하는 기판 정렬 장치가 구비된 평판표시소자 제조장치.Installed at the opposite side of the gate from the mount to perform the alignment function of the substrate while contacting both edges of the farthest side from the gate when the substrate is put into the mount, rolling motion when the substrate is in contact Flat panel display device manufacturing apparatus provided with a substrate alignment device characterized in that it comprises an alignment pin made of a roller structure.
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KR20160142456A (en) * 2015-06-02 2016-12-13 삼성디스플레이 주식회사 Apparatus of alligning substrate and method of allining substrate
JP2019102721A (en) * 2017-12-06 2019-06-24 エスペック株式会社 Substrate positioning device

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