KR101264937B1 - 회전 롤의 세정 기구 및 회전 롤의 세정 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 회전홀의 세정 기구 및 회전로의 세정방법에 관한 것으로서, 회전 롤 (90)의 최상부의 기점 (P)로부터 회전 방향 (F)로 270˚에서 300˚회전한 위치에 제1의 블럭 (110)이 설치되고 그 후방측에 제 2의 블럭 (130)이 설치된다. 제1의 블럭 (110)에 의해 회전 롤 (90)과의 사이에 협소의 간격 (D)가 형성되어 그 표면 (110a)에 세정액토출구 (111)과 흡인구 (112)가 형성된다. 제2의 블럭 (130)에는 배기구 (131)이 형성된다. 회전 롤 (90)의 하부 측에는 체류부 (141)과 세정액유도부 (142)가 형성된 제3의 블럭 (140)이 설치된다. 세정시에는 회전 롤 (90)을 회전시킨 상태로 세정액토출구 (111)으로부터 간격 (D)에 세정액 (H)가 토출되어 세정액 (H)가 회전 롤 (90)의 표면을 타고 흘러 체류부 (141)로 일단 체류된 후, 세정액유도부 (142)를 통하여 배출되는 회전 롤을 세정하기 위한 세정액의 소비량을 저감하는 기술을 제공한다.

Description

회전 롤의 세정 기구 및 회전 롤의 세정 방법{CLEANING MECHANISM OF ROTATION ROLLER AND CLEANING METHOD OF ROTATION ROLLER}

도 1은 본 실시의 형태에 있어서의 도포 현상 처리 장치의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다.

도 2는 레지스트 도포 처리 유니트의 구성의 개략을 나타내는 종단면의 설명도이다.

도 3은 레지스트 도포 처리 유니트의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다.

도 4는 노즐의 설명도이다.

도 5는 회전 롤의 세정기구의 구성의 개략을 나타내는 종단면의 설명도이다.

도 6은 회전 롤의 Y방향 정방향측의 측면도이다.

도 7은 제1의 블럭의 사시도이다.

도 8은 제2의 블럭의 사시도이다.

도 9는 세정 공정시의 세정액의 흐름을 나타내는 회전 롤의 세정기구의 종단면의 설명도이다.

도 10은 건조 공정시의 세정액의 흐름을 나타내는 회전 롤의 세정기구의 종단면의 설명도이다.

도 11은 세정액토출구를 지그재그 형상으로 배치한 경우의 제1의 블럭의 사 시도이다.

도 12는 세정액토출구를 슬릿 형상으로 한 경우의 제1의 블럭의 사시도이다.

도 13은 배기구를 2열로 한 경우의 제2의 블럭의 사시도이다.

도 14는 회전 롤의 세정기구의 다른 구성예를 나타내는 종단면의 설명도이다.

도 15는 제1의 블럭과 제2의 블럭을 구비한 세정기구의 구성예를 나타내는 종단면의 설명도이다.

도 16은 제1의 블럭에 흡인구를 추가하고 체류부를 설치한 세정기구의 구성예를 나타내는 종단면의 설명도이다.

도 17은 회전 롤 표면을 세정할 때에 세정액의 토출, 흡인 및 배기의 타이밍을 나타낸 설명도이다.

**주요부위를 나타내는 도면부호의 설명**

1 : 도포 현상 처리 장치

24 : 레지스트 도포 처리 유니트

90 : 회전 롤

110 : 제1의 블럭

111 : 세정액토출구

112 : 흡인구

130 : 제2의 블럭

131 : 배기구

140 : 제3의 블럭

141 : 체류부

142 : 세정액유도부

160 : 배출구

H ; 세정액

G : 유리 기판

본 발명은, 노즐로부터 기판에 도포액이 토출되기 전에, 노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 세정기구와 그 회전 롤의 세정 방법에 관한다.

예를 들면 액정 디스플레이의 제조 프로세스의 포트리소그래피공정에서는, 유리 기판상으로 레지스트액을 도포해 레지스트막을 형성하는 레지스트 도포 처리를 하고 있다.

이 레지스트 도포 처리는 레지스트 도포 처리 유니트로 행해지고 예를 들면 스테이지에 유리 기판이 재치되어 그 유리 기판의 상면을 노즐이 이동하면서 레지스트액을 토출하는 것으로 행해지고 있다. 또, 레지스트 도포 처리 유니트에서는 도포시의 노즐의 토출 상태를 안정시키기 위하여 도포전에 노즐의 선단부를 회전하고 있는 회전 롤의 상부 표면에 접근해 노즐로부터 회전 롤에 레지스트액을 시출하는 처리를 하고 있다.

또한 레지스트액으로 더러워진 회전 롤을 그대로 두면 다음의 시출시에 노즐이 더러워지므로, 시출의 종료후에 회전 롤을 세정하는 처리를 하고 있다. 종래부터 이 회전 롤의 세정은 탱크에 저장된 세정액내에 회전 롤의 하부를 침전하고, 회전 롤을 회전시키는 것에 의해 행해지고 있었다(특허 문헌 1 참조).

[특허 문헌 1] 일본국 특개평10-76205호 공보

그렇지만, 상술한 바와 같이 탱크에 세정액을 저장해 회전 롤을 세정하는 경우 용적이 큰 탱크에 세정시에 매회 세정액을 바꿔 넣을 필요가 있으므로 다량의 세정액이 필요하게 되어 있었다. 이 때문에, 레지스트 도포 처리 유니트의 런닝코스트가 높아지고 있었다.

본 발명은 관련된 점에 비추어 이루어진 것이고, 회전 롤을 세정하기 위한 세정액의 소비량을 저감해 레지스트 도포 처리 유니트등의 도포 처리 유니트의 런닝 코스트를 저감 하는 것을 그 목적으로 한다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 노즐로부터 기판에 도포액이 토출되기 전에 노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 세정기구로서, 회전 롤의 표면의 일부를 그 표면을 따라 덮고 상기 회전 롤의 표면과의 사이에 간격를 형성하는 커버체와 상기 커버체와 상기 회전 롤의 표면과의 간격에 세정액을 토출하는 세정액토출구를 가지는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 커버체에 의해 회전 롤의 표면에 간격를 형성해 그 간격에 세정액을 토출하므로 더러움이 부착한 회전 롤의 표면에 효율적으로 세정액을 공급할 수 가 있다. 이 결과, 세정액의 소비량을 저감 할 수 있어 도포 처리 유니트의 런닝 코스트도 저감 할 수 있다.

상기 세정액 토출구는 상기 커버체에 형성되고 있어도 괜찮다.

노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 최상부를 회전의 기점으로 하여 회전 롤이 회전 방향으로 3/4 회전한 위치로부터 1회전 하는 위치까지의 사이에, 상기 세정액토출구가 설치되고 있어도 괜찮다.

상기 회전 롤이 1/2 회전한 위치로부터 3/4 회전하는 위치까지의 사이에는 상기 세정액 토출구로부터 회전 롤의 표면을 따라 떨어지는 세정액을 상기 회전 롤의 표면에 있어서 체류시키는 체류 부재가 설치되고 있어도 괜찮다.

상기 체류 부재는 윗쪽으로부터의 세정액을 받아 체류시키는 체류부와 상기 체류부의 세정액을 회전 롤의 표면을 따라 하부에 흘리는 세정액유도부를 구비하고 있어도 괜찮다.

상기 체류부는 체류 부재의 회전롤의 표면측의 상부에 오목형상으로 형성되고 상기 세정액유도부는 상기 회전 롤의 표면을 그 표면을 따라 덮고 그 회전 롤의 표면의 사이에 간격를 형성하고 있어도 괜찮다.

상기 세정액유도부는 상기 회전 롤의 최하부까지 형성되어 상기 회전 롤의 최하부의 위치에는 세정액의 배출구가 설치되고 있어도 괜찮다.

상기 배출구에는 세정액을 흡인하기 위한 흡인 장치가 접속되고 있어도 괜찮다.

상기 세정액토출구에서 상기 회전 롤의 회전 방향 측에는 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인해 제거하는 흡인구가 설치되고 있어도 괜찮다.

노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 최상부를 회전의 기점으로 해, 회전 롤이 1/4 회전한 위치로부터 1/2 회전하는 위치까지의 사이와 회전 롤이 1/2 회전한 위치로부터 3/4 회전하는 위치까지의 사이에 상기 세정액토출구가 설치되고 있어도 괜찮다.

상기 세정액토출구는 2 곳에 설치되고 상기 커버체는 상기 회전 롤의 하부측의 적어도 상기 2 곳의 세정액토출구의 사이의 회전 롤의 표면을 덮도록 형성되고 있어도 괜찮다.

상기 2 곳의 세정액토출구의 사이의 커버체에는 세정액의 배출구가 형성되고 있어도 괜찮다.

상기 배출구는 상기 회전 롤의 최하부에 대향하는 위치에 형성되고 있어도 좋다.

상기 배출구에는 세정액을 흡인하기 위한 흡인 장치가 접속되고 있어도 괜찮다.

상기 회전 롤의 1/2 회전으로부터 3/4 회전까지의 사이에 위치하는 상기 세정액토출구의 다른 회전 방향 측에는 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인해 제거하는 흡인구가 설치되고 있어도 괜찮다.

상기 흡인구의 다른 회전 방향 측에는 회전 롤의 표면을 건조시키기 위한 배기구가 설치되고 있어도 괜찮다.

상기 세정액토출구는 회전 롤의 긴 방향을 따라 상하 2열로 나열하여 형성되 고 상기 2열의 세정액토출구는 서로 지그재그 형상으로 배치되고 있어도 괜찮다.

다른 관점에 의한 본 발명은 청구항 9, 15 또는 16중 어느 것의 회전 롤의 세정기구를 이용한 회전 롤의 세정 방법으로서 세정액토출구로부터 세정액을 공급하면서 회전 롤을 회전시키는 세정 공정과 상기 세정액토출구로부터의 세정액의 공급을 정지하고 상기 세정 공정보다 빠른 속도로 상기 회전 롤을 회전시켜 상기 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인구에 의해 흡인해 제거하는 건조 공정을 가지는 것을 특징으로 한다.

한층 더 다른 관점에 의한 본 발명은 청구항 9, 15 또는 16의 어느 쪽인가에 기재의 회전 롤의 세정기구를 이용한 회전 롤의 세정 방법으로서 회전 롤을 회전시키면서, 세정액토출구로부터 세정액을 토출하는 토출 공정과 상기 토출 공정과 같은 속도로 상기 회전 롤을 회전시키면서 상기 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인구에 의해 흡인해 제거하는 흡인 공정을 갖고, 상기 토출 공정과 흡인 공정은 교대로 행해지고 상기 토출 공정에 있어서는 상기 흡인구로부터의 세정액의 흡인은 정지하고, 상기 흡인 공정에 있어서는 상기 세정액토출구로부터의 세정액의 공급은 정지하고 있는 것을 특징으로 한다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시의 형태에 대해서 설명한다. 도 1은, 본 실시의 형태에 관련되는 회전 롤의 세정기구가 탑재된 도포 현상 처리 장치 (1)의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다.

도포 현상 처리 장치 (1)은 도 1에 나타나는 바와 같이 예를 들면 복수의 유 리 기판 (G)를 카셋트 단위로 외부에 대해서 반입출하기 위한 카셋트 스테이션 (2)와 포트리소그래피공정 중에서 매엽식으로 소정의 처리를 가하는 각종 처리 유니트가 배치된 처리 스테이션 (3)과 처리 스테이션 (3)에 인접해 설치되고 처리 스테이션 (3)과 노광 장치 (4)의 사이에 유리 기판 (G)의 수수를 실시하는 인터페이스 스테이션 (5)를 일체로 접속한 구성을 가지고 있다.

카셋트 스테이션 (2)에는 카셋트 재치대 (10)이 설치되고 상기 카셋트 재치대 (10)은 복수의 카셋트 (C)를 X방향(도 1안의 상하 방향)으로 일렬로 재치 자유롭게 되어 있다. 카셋트 스테이션 (2)에는 반송로 (11)상을 X방향을 향해 이동 가능한 기판 반송체 (12)가 설치되고 있다. 기판 반송체 (12)는 카셋트 (C)에 수용된 유리 기판 (G)의 배열 방향(Z방향;수직 방향)으로도 이동 자유롭고, X방향으로 배열된 각 카셋트 (C)내의 유리 기판 (G)에 대해서 선택적으로 액세스 할 수 있다.

기판 반송체 (12)는 Z축 주위의 θ방향으로 회전 가능하고, 후술하는 처리 스테이션 (3)측의 엑시머 UV조사 유니트 (20)이나 제6의 열처리 유니트군 (34)의 각 유니트에 대해서도 액세스 할 수 있다.

처리 스테이션 (3)은 예를 들면 Y방향(도 1의 좌우 방향)으로 연장하는 2열의 반송 라인 (A, B)를 구비하고 있다. 이 반송 라인 (A, B)에 있어서는 회전자 반송이나 아암에 의한 반송 등에 의해 유리 기판 (G)를 반송할 수 있다. 처리 스테이션 (3)의 정면측인 X방향 부방향측(도 1의 아래 쪽)의 반송 라인 (A)에는 카셋트 스테이션 (2)측으로부터 인터페이스 스테이션 (5) 측에 향하여 차례로 예를 들면 유리 기판 (G)상의 유기물을 제거하는 엑시머 UV조사 유니트 (20), 유리 기판 (G)를 세정하는 스크러버 세정 유니트 (21), 제1의 열처리 유니트군 (22), 제2의 열처리 유니트군 (23), 유리 기판 (G)에 레지스트액을 도포하는 레지스트 도포 처리 유니트 (24), 유리 기판 (G)를 감압 건조하는 감압 건조 유니트 (25) 및 제3의 열처리 유니트군 (26)이 직선적으로 일렬로 배치되고 있다.

제 1 및 제2의 열처리 유니트군 (22, 23)에는 유리 기판 (G)를 가열하는 복수의 가열 처리 유니트와 유리 기판 (G)를 냉각하는 냉각 처리 유니트가 다단으로 적층되고 있다. 제1의 열처리 유니트군 (22)와 제2의 열처리 유니트군 (23)의 사이에는 이 유니트군 (22, 23)간의 유리 기판 (G)의 반송을 실시하는 반송체 (27)이 설치되고 있다. 제3의 열처리 유니트군 (26)에도 동일하게 가열 처리 유니트와 냉각 처리 유니트가 다단으로 적층되고 있다.

처리 스테이션 (3)의 배후측인 X방향 정방향측(도 1의 윗쪽측)의 반송 라인 (B)에는 인터페이스 스테이션 (5)측으로부터 카셋트 스테이션 (2) 측에 향하여 차례로 예를 들면 제4의 열처리 유니트군 (30), 유리 기판 (G)를 현상 처리하는 현상 처리 유니트 (31), 유리 기판 (G)의 탈색 처리를 실시하는 i선 UV조사 유니트 (32), 제5의 열처리 유니트군 (33) 및 제6의 열처리 유니트군 (34)가 직선 형상으로 일렬로 배치되고 있다.

제4~ 제6의 열처리 유니트군 (30, 33, 34)에는 각각 가열 처리 유니트와 냉각 처리 유니트가 다단으로 적층되고 있다. 또, 제5의 열처리 유니트군 (33)과 제6의 열처리 유니트군 (34)의 사이에는, 이 유니트군 (33, 34)간의 유리 기판 (G)의 반송을 실시하는 반송체 (40)이 설치되고 있다.

반송 라인 (A)의 제3의 열처리 유니트군 (26)과 반송 라인 (B)의 제4의 열처리 유니트군 (30)의 사이에는 이 유니트군 (26, 30)간의 유리 기판 (G)의 반송을 실시하는 반송체 (41)이 설치되고 있다. 이 반송체 (41)은 후술 하는 인터페이스 스테이션 (5)의 익스텐션·쿨링 유니트 (60)에 대해서도 유리 기판 (G)를 반송할 수 있다.

반송 라인 (A)와 반송 라인 (B)의 사이에는 Y방향을 따른 직선적인 공간 (50)이 형성되고 있다. 공간 (50)에는 유리 기판 (G)를 재치해 반송 가능한 셔틀 (51)이 설치되고 있다. 셔틀 (51)은 처리 스테이션 (3)의 카셋트 스테이션 (2)측의 단부로부터 인터페이스 스테이션 (5)측의 단부까지 이동 자유롭고, 처리 스테이션 (3)내의 각 반송체 (27, 40, 41)에 대해서 유리 기판 (G)를 주고 받을 수가 있다.

인터페이스 스테이션 (5)에는 예를 들면 냉각 기능을 갖고 유리 기판 (G)의 수수를 실시하는 익스텐션·쿨링 유니트 (60)과 유리 기판 (G)를 일시적으로 수용하는 버퍼 카셋트 (61)과 외부 장치 블럭 (62)가 설치되고 있다. 외부 장치 블럭 (62)에는 유리 기판 (G)에 생산관리용의 코드를 노광하는 타이틀러와 유리 기판 (G)의 주변부를 노광하는 주변 노광 장치가 설치되고 있다. 인터페이스 스테이션 (5)에는 상기 익스텐션·쿨링유니트 (60), 버퍼 카셋트 (61), 외부 장치 블럭 (62)및 노광 장치 (4)에 대해서 유리 기판 (G)를 반송 가능한 기판 반송체 (63)이 설치되고 있다.

이 도포 현상 처리 장치 (1)에 있어서는 카셋트 스테이션 (2)로부터 반입된 유리 기판 (G)가 세정 처리, 열처리, 레지스트 도포 처리, 건조 처리등을 차례로 실시하면서 반송 라인 (A)를 통하여 인터페이스 스테이션 (5)에 반송된다. 그리고, 유리 기판 (G)가 인터페이스 스테이션 (5)로부터 노광 장치 (4)에 반송되어 노광 장치 (4)로 노광 처리가 종료한 유리 기판 (G)가 열처리, 현상 처리, 열처리등을 실시하면서, 반송 라인 (B)를 통하여 카셋트 스테이션 (2)에 되돌려진다.

다음에, 회전 롤의 세정기구를 가지는 레지스트 도포 처리 유니트 (24)에 대해서 설명한다.

레지스트 도포 처리 유니트 (24)에는 예를 들면 도 2 및 도 3에 나타나는 바와 같이 반송 라인 (A)를 따른 Y방향으로 긴 스테이지 (70)이 설치되고 있다. 스테이지 (70)의 상면에는 도 3에 나타나는 바와 같이 다수의 가스 분출구 (71)이 형성되고 있다. 스테이지 (70)의 폭방향(X방향)의 양측에는 Y방향으로 연장하는 한 쌍의 제1의 가이드 레일 (72)가 설치되고 있다. 제1의 가이드 레일 (72)에는 유리 기판 (G)의 폭방향의 단부를 보지해 제1의 가이드 레일 (72)상을 이동하는 한 쌍의 보지 아암 (73)이 각각 설치되고 있다. 가스 분출구 (71)로부터 가스를 분출함으로써, 유리 기판 (G)를 부상시켜, 보지 아암 (73)에 의해 그 부상한 유리 기판 (G)의 양단부를 보지해, 유리 기판 (G)를 반송 라인 (A)를 따라 이동시킬 수가 있다.

레지스트 도포 처리 유니트 (24)의 스테이지 (70)상으로는 유리 기판 (G)에 레지스트액을 토출하는 노즐 (80)이 설치되고 있다. 노즐 (80)은 예를 들면 도 3 및 도 4에 나타나는 바와 같이 X방향을 향해 긴 대략 직방체 형상으로 형성되고 있다. 노즐 (80)은 예를 들면 유리 기판 (G)의 X방향의 폭보다 길게 형성되고 있다. 노즐 (80)의 하단부에는, 도 4에 나타나는 바와 같이 슬릿 형상의 토출구 (80 a)가 형성되고 있다. 노즐 (80)의 상부에는, 레지스트액 공급원 (81)에 통하는 레지스트액공급관 (82)가 접속되고 있다.

도 3에 나타나는 바와 같이 노즐 (80)의 양측에는 Y방향으로 연장하는 제2의 가이드 레일 (83)이 형성되고 있다. 노즐 (80)은 제2의 가이드 레일 (83)상을 이동하는 노즐 아암 (84)에 의해 보지되고 있다. 노즐 (80)은 노즐 아암 (84)의 구동 기구에 의해 제2의 가이드 레일 (83)을 따라 Y방향으로 이동할 수 있다. 또, 예를 들면 노즐 아암 (84)에는 승강기구가 설치되고 있고 노즐 (80)은 소정의 높이로 승강할 수 있다. 이것에 의해, 노즐 (80)은 유리 기판 (G)에 레지스트액을 토출하는 토출 위치 (E)와 후술하는 회전 롤 (90) 및 대기부 (91)의 사이를 이동할 수 있다.

도 2 및 도 3에 나타나는 바와 같이 노즐 (80)의 토출 위치 (E)보다 상류측, 즉 노즐 (80)의 토출 위치 (E)의 Y방향 부방향 측에는 노즐 (80)의 시출이 행해지는 회전 롤 (90)이 설치되고 있다. 이 회전 롤 (90)의 최상부에 노즐 (80)의 토출구 (80a)를 근접시켜 회전 롤 (90)을 회전시키면서 레지스트액을 토출하는 것으로, 노즐 (80)의 토출구 (80a)에 있어서의 레지스트액의 부착 상태를 정리하여 레지스트액의 토출 상태를 안정시킬 수가 있다.

회전 롤 (90)의 상류 측에는 노즐 (80)의 대기부 (91)이 설치되고 있다. 이 대기부 (91)에는 예를 들면 노즐 (80)을 세정하는 기능이나 노즐 (80)의 건조를 방지하는 기능이 설치되고 있다.

회전 롤 (90)에는 회전 롤 (90)을 세정하는 세정기구 (100)이 설치되고 있다. 이하, 이 회전 롤 (90)의 세정기구 (100)에 대해서 설명한다.

회전 롤 (90)은 도 5에 나타나는 바와 같이 반송 라인 (A)의 반송 방향(Y방향 정방향)을 향해 후방주위 (도 5안의 회전 방향 (F))에 회전한다. 회전 롤 (90)의 최상부를 회전의 기점 (P)로 해 회전 롤 (90)이 회전 방향 (F)에 예를 들면 3/4회전한 위치로부터 1회전하는 위치까지의 사이에는 커버체로서의 제1의 블럭 (110)이 설치되고 있다. 제1의 블럭 (110)은 기점 (P)에 대해서 회전 롤 (90)의 예를 들면 270˚~300˚의 구간에 걸쳐서 회전 롤 (90)의 표면을 가리고 있다. 제1의 블럭 (110)은 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 긴 대략 직방체 형상으로 형성되어 도 6에 나타나는 바와 같이 회전 롤 (90)의 긴 방향의 양단부간에 걸쳐서 형성되고 있다. 도 5에 나타나는 바와 같이 제1의 블럭 (110)의 회전 롤 (90)측의 표면 (110 a)는 회전 롤 (90)의 표면을 따라 원호 형상으로 굴곡해 형성되고 있다. 제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)와 회전 롤 (90)의 표면의 사이에는 100 μm~300 μm, 보다 바람직하게는 100μm의 간격 (D)가 형성되고 있다.

제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)에는 레지스트액의 용제등의 세정액을 토출하는 세정액토출구 (111)과 세정액을 흡인하는 흡인구 (112)가 형성되고 있다. 흡인구 (112)는 세정액토출구 (111)에서 회전 방향 (F)측 즉 윗쪽 측에 형성되고 있다. 세정액토출구 (111)은 예를 들면 도 7에 나타나는 바와 같이 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 일렬로 복수 나열하여 형성되고 있다. 흡인구 (112)는 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 슬릿 형상으로 형성되고 있다.

세정액토출구 (111)은 도 5에 나타나는 바와 같이 제1의 블럭 (110)내에 형성된 유로 (120)과 그 유로 (120)에 접속된 배관 (121)에 의해 세정액공급 장치 (122)에 접속되고 있다. 이 세정액공급 장치 (122)로부터의 세정액의 공급에 의해, 세정액토출구 (111)로부터 회전 롤 (90)과 제1의 블럭 (110)의 사이의 간격 (D)에 세정액을 토출할 수 있다.

흡인구 (112)는 제1의 블럭 (110)내에 형성된 유로 (123)과 그 유로 (123)에 접속된 배관 (124)에 의해, 진공 펌프등의 흡인 장치 (125)에 접속되고 있다. 흡인 장치 (125)에 의한 진공흡인에 의해, 흡인구 (112)로부터 회전 롤 (90)의 표면의 세정액을 흡인해 제거할 수 있다.

제1의 블럭 (110)과 회전 롤 (90)의 최상부의 사이에는, 제2의 블럭 (130)이 설치되고 있다. 제2의 블럭 (130)은 제1의 블럭 (110)과 동일하게 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 긴 대략 직방체 형상을 갖고, 도 6에 나타나는 바와 같이 회전 롤 (90)의 긴 방향의 양단부 사이에 걸쳐서 형성되고 있다. 도 5에 나타나는 바와 같이 제2의 블럭 (130)의 회전 롤 (90)측의 표면 (130a)는 회전 롤 (90)의 표면을 따라 원호형상으로 굴곡해 형성되고 있다. 예를 들면 제2의 블럭 (130)의 표면 (130a)와 회전 롤 (90)의 표면의 사이에는 1 mm 이하, 더욱 바람직하게는 300μm의 간격 (D)가 형성되고 있다.

제2의 블럭 (130)의 표면 (130a)에는 회전 롤 (90)의 표면을 건조시키기 위한 배기구 (131)이 형성되고 있다. 배기구 (131)은 도 8에 나타나는 바와 같이 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 슬릿 형상으로 형성되고 있다.

배기구 (131)은 도 5에 나타나는 바와 같이 예를 들면 제2의 블럭 (130)내에 형성된 유로 (132)와 그 유로 (132)에 접속된 배기관 (133)에 의해 진공 펌프등의 부압발생 장치 (134)에 접속되고 있다. 부압발생 장치 (134)에 의해 배기구 (131)로부터 회전 롤 (90)의 표면의 환경을 강제적으로 배기해 회전 롤 (90)의 표면을 건조시킬 수가 있다.

기점 (P)로부터 회전 롤 (90)이 회전 방향 (F)에 예를 들면 1/2 회전한 위치로부터 3/4 회전하는 위치까지의 사이에는 체류 부재로서의 제3의 블럭 (140)이 설치되고 있다. 제3의 블럭 (140)은 회전 롤 (90)의 예를 들면 180˚~240˚의 구간에 걸쳐서 회전 롤 (90)의 Y방향 정방향측의 하부를 가리도록 형성되고 있다. 제3의 블럭 (140)은 예를 들면 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 긴 길고 가는형상으로 형성되어 도 6에 나타난 바와 같이 회전롤 (90)의 양단부간에 걸쳐 형성되고 있다.

도 5에 나타나는 바와 같이 제3의 블럭 (140)의 회전 롤 (90)측의 표면 (140 a)에는 회전 롤 (90)의 표면을 따라 떨어지는 세정액을 체류시키는 체류부 (141)과 그 체류부 (141)의 세정액을 회전 롤 (90)의 최하부에 유도하는 세정액유도부 (142)가 형성되고 있다. 체류부 (141)은 표면 (140a)의 상부에 형성되어 아래에 볼록한 굴곡 형상으로 형성되고 있다. 세정액유도부 (142)는 회전 롤 (90)의 표면을 따라 체류부 (141)로부터 회전 롤 (90)의 최하부까지의 회전 롤 (90)의 표면을 가리도록 원호 형상으로 굴곡하고 있다. 세정액유도부 (142)와 회전 롤의 표면의 사이에는 예를 들면 제1의 블럭 (110)과 동일하게 100μm~300μm, 더욱 바람직하게는 100μm의 간격 (D)가 형성되고 있다.

예를 들면 회전 롤 (90)의 최하부를 끼운 제3의 블럭 (140)의 반대측의 위치에는 제4의 블럭 (150)이 설치되고 있다. 제4의 블럭 (150)은 회전 롤 (90)의 Y방 향 부방향측의 하부 부근을 덮도록 형성되고 있다. 제4의 블럭 (150)의 표면 (150a)는 제3의 블럭 (140)의 세정액유도부 (142)와 동일하게 회전 롤 (90)과의 사이에 일정한 간격 (D)가 생기도록 원호 형상으로 형성되고 있다. 또한 제4의 블럭 (150)과 제3의 블럭 (140)은 일체적으로 형성되고 있어도 괜찮다.

제3의 블럭 (140)과 제4의 블럭 (150)의 사이에는 세정액의 배출구 (160)이 슬릿 형상으로 형성되고 있다. 이 배출구 (160)은 배관 (161)를 통해서 진공 펌프등의 흡인 장치 (162)에 접속되고 있다. 이 흡인 장치 (162)에 의한 진공 흡인에 의해, 회전 롤 (90)과 제3의 블럭 (140)의 사이 혹은 회전 롤 (90)과 제4의 블럭 (150)의 사이의 세정액을 배출구 (160)으로부터 흡인해 배출할 수 있다.

예를 들면 제3의 블럭 (140)과 제4의 블럭 (150)의 아래쪽에는 드레인 팬 (170)이 설치되고 있다. 이 드레인 팬 (170)에 의해, 예를 들면 제3의 블럭 (140)이나 제4의 블럭 (150)으로부터 샌 세정액을 받아 회수할 수가 있다. 드레인 팬 (170)에는, 배액관 (171)이 접속되고 있어 드레인 팬 (170)에 모인 세정액을 배출할 수 있다.

또한 세정액공급 장치 (122), 흡인 장치 (125, 162), 부압발생 장치 (134)등의 동작의 제어는 제어부 (180)에 의해 행해지고 있고 세정액토출구 (111)으로부터의 세정액의 토출의 타이밍이나 토출압, 흡인구 (112)나 배출구 (160)으로부터의 흡인의 타이밍이나 흡인압, 배기구 (131)으로부터의 배기의 타이밍이나 배기압 등은 제어부 (180)에 의해 제어되고 있다.

다음에, 이상과 같이 구성된 회전 롤 (90)의 세정기구 (100)의 동작을 유리 기판 (G)의 레지스트 도포 처리의 프로세스와 함께 설명한다.

먼저, 도 2에 나타나는 바와 같이 노즐 (80)이 대기부 (91)으로부터 회전 롤 (90)상으로 이동해, 노즐 (80)의 토출구 (80a)가 회전 롤 (90)의 최상부에 근접된다. 회전 롤 (90)은 예를 들면 표면 속도가 30~50 mm/s정도의 제1의 속도로 회전 방향 (F)로 회전되어 노즐 (80)의 토출구 (80a)로부터 회전 롤 (90)의 표면에 레지스트액이 토출되어 레지스트액의 시출이 행해진다. 이렇게 해, 토출구 (80a)에 있어서의 레지스트액의 부착 상태가 정돈되어 노즐 (80)의 토출 상태가 안정된다. 또한 이 시출시에는, 세정액토출구 (111)으로부터의 세정액의 토출, 흡인구 (112), 배출구 (160)으로부터의 흡인, 배기구 (131)으로부터의 배기가 어느쪽도 정지되고 있다.

노즐 (80)의 토출구 (80a)에 있어서의 레지스트액의 부착 상태가 정돈된 후, 노즐 (80)의 토출이 정지되어 노즐 (80)이 소정의 토출 위치 (E)로 이동한다. 노즐 (80)이 토출 위치 (E)로 이동한 후, 유리 기판 (G)가 레지스트 도포 처리 유니트 (24)의 스테이지 (70)상을 반송 라인 (A)를 따라 이동된다. 유리 기판 (G)가 노즐 (80)의 하부를 통과할 때에, 노즐 (80)으로부터 레지스트액이 토출되어 유리 기판 (G)의 표면의 전면에 레지스트액이 도포된다.

한편, 노즐 (80)이 회전 롤 (90)의 최상부로부터 토출 위치 (E) 로 이동한 후, 회전 롤 (90)의 세정이 개시된다. 먼저, 회전 롤 (90)이 시출시의 제1의 속도보다 늦은, 예를 들면 표면 속도가 10~30 mm/s정도( 제1의 속도의 약 0.5배 정도)의 제2의 속도로 회전된다. 이 때, 도 9에 나타나는 바와 같이 세정액토출구 (111) 으로부터 회전 롤 (90)과 제1의 블럭 (110)의 간격 (D)에 레지스트액의 용제인 세정가 토출된다. 토출된 세정액 (H)는 가까운 거리에 있는 회전 롤 (90)의 표면에 고압으로 충돌해 협소의 간격 (D)내에서 높은 압력을 유지한 채로 회전 롤 (90)의 표면을 따라 흐른다. 이 세정액 (H)의 흐름에 의해 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 제거된다. 그리고, 세정액 (H)는 회전 롤 (90)이 더러움을 제거하면서, 회전 롤 (90)의 표면을 타고 더 낙하해, 제3의 블럭 (140)의 체류부 (141)으로 일시적으로 체류된다. 이 체류부 (141)에서는 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 세정액 (H)에 용해해 여기에서도 회전 롤 (90)의 표면의 더러움이 제거된다. 체류부 (141)의 세정액 (H)는 이어서 제3의 블럭 (140)의 세정액유도부 (142)에 유입하고 회전 롤 (90)의 표면과 제3의 블럭 (140)의 간격 (D)를 통하여 배출구 (160)으로부터 배출된다.

이 세정액 (H)를 토출하는 세정 공정에서는 회전 롤 (90)이 예를 들면 2회 정도 회전된다. 그 후, 세정액토출구 (111)에 의한 세정액 (H)의 토출이 정지되어 흡인구 (112) 및 배출구 (160)으로부터의 흡인과 배기구 (131)으로부터의 배기를 한다. 이 때, 회전 롤 (90)의 회전은 시출시의 제1의 속도와 세정액 토출시의 제2의 속도보다 빠르다, 예를 들면 표면 속도가 40~60 mm/s정도( 제1의 속도의 약 1. 25배 정도)의 제3의 속도로 행해진다. 회전 롤 (90)의 표면에 부착한 세정액 (H)는 도 10에 나타나는바와 같이 세정액토출구 (111)의 회전 방향 (F)측에 있는 흡인구 (112)에 의해 흡인되고 제거된다. 또, 한층 더 회전 방향 (F)측에 있는 배기구 (131)에 의해 회전 롤 (90)의 표면의 환경이 강제 배기되어 회전 롤 (90)의 표면이 건조된다. 또, 회전 롤 (90)의 최하부에 있어서도, 배출구 (160)에 의해 흡인되어 회전 롤 (90)에 표면에 부착하고 있는 세정액 (H)가 제거된다. 이렇게 해, 회전 롤 (90)의 표면이 완전하게 건조되면, 흡인구 (112), 배출구 (160)으로부터의 흡인과 배기구 (131)으로부터의 배기가 정지되어 회전 롤 (90)의 건조 공정이 종료한다.

이상의 실시의 형태에 의하면, 제1의 블럭 (110)에 의해 회전 롤 (90)의 표면과의 사이에 협소한 간격 (D)를 형성해, 그 간격 (D)에 세정액토출구 (111)으로부터 세정액 (H)를 토출하도록 했으므로, 세정액 (H)가 가까운 거리로부터 회전 롤 (H)의 표면에 충돌해 그 세정액 (H)가 간격 (D)내를 고압의 상태로 회전 롤 (90)의 표면을 따라 흐르므로 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 효과적으로 세정된다. 세정액 (H)가 회전 롤 (90)의 표면에만 공급될 뿐이므로, 종래와 같이 탱크에 세정액을 저장하는 경우에 비해 세정액 (H)의 소비량을 비약적으로 저감 할 수 있다.

회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)의 3/4회전~1회전까지의 사이에 세정액토출구 (111)을 설치했으므로, 세정액토출구 (111)으로부터 토출된 세정액 (H)는 회전 롤 (90)의 표면을 회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)와 역방향으로 흘러 떨어진다. 이 결과, 회전 롤 (90)의 표면에 대한 세정액 (H)의 상대속도가 증가하여 세정액 (H)에 의한 세정 능력을 향상할 수가 있다.

또, 제3의 블럭 (140)에 의해 체류부 (141)을 형성했으므로, 체류부 (141)의 세정액 (H)를 일단 체류시켜 그 체류부 (141)에 있어서 레지스트액을 세정액 (H)로용해시킬 수가 있다. 이것에 의해, 회전 롤 (90)의 세정을 한층 더 효과적으로 실시할 수가 있다.

제3의 블럭 (140)의 체류부 (141)의 하부에 세정액유도부 (142)를 형성했으므로 회전 롤 (90)의 표면의 협소한 간격 (D)에 세정액 (H)를 흘려 여기에서도 세정액 (H)에 의해 회전 롤 (90)의 표면의 세정을 실시할 수가 있다.

세정액유도부 (142)가 회전 롤 (90)의 최하부까지 형성되어 그 회전 롤 (90)의 최하부에 배출구 (160)이 형성되고 있으므로, 회전 롤 (90)의 표면을 세정한 세정액 (H)를 적정하게 배출할 수 있다.

세정액토출구 (111)의 윗쪽 측에는 흡인구 (112)가 설치되었으므로 건조시에는 회전 롤 (90)의 표면의 세정액 (H)를 흡인 제거할 수 있다. 또, 흡인구 (112)의 한층 더 윗쪽 측에는 배기구 (131)이 설치되었으므로 세정액 (H)가 제거된 후에 회전 롤 (90)의 표면의 환경을 배기해 회전 롤 (90)의 표면을 건조시킬 수가 있다.

또, 배출구 (160)에 흡인 장치 (162)가 접속되고 있으므로 세정액유도부 (142) 등에 남는 세정액 (H)를 확실히 배출할 수가 있다.

이상의 실시의 형태에 있어서 세정 공정의 회전 롤 (90)의 회전 속도보다 건조 공정의 회전 롤 (90)의 회전 속도쪽이 높아지도록 했으므로 세정 공정시에는, 회전 롤 (90)의 표면에 충분한 양의 세정액 (H)를 공급하고 건조 공정시에는 회전 롤 (90)의 표면에 부착한 세정액 (H)를 윗쪽의 흡인구 (112)까지 확실히 운반하여 배출할 수가 있다.

이상의 실시의 형태로 기재한 세정액토출구 (111)은 제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)에 일렬로 형성되고 있지만, 도 11에 나타나는바와 같이 상하 2열로 형성되어 긴 방향을 향해 각 열의 세정액토출구 (111)이 서로 지그재그 형상으로 배치 되어도 괜찮다. 이렇게 하는 것으로, 회전 롤 (90)의 표면에 세정액 (H)가 얼룩 없이 토출되어 회전 롤 (90)의 세정의 보다 효과적으로 행해진다.

또, 세정액토출구 (111)은 도 12에 나타나는 바와 같이 제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)에 예를 들면 회전 롤 (90)보다 긴 슬릿 형상으로 형성되고 있어도 괜찮다. 이 경우, 예를 들면 세정액토출구 (111)의 폭은, O.1mm 정도로 설정된다.

이상의 실시의 형태로 기재한 세정액토출구 (111)과 흡인구 (112)는 동일한제1의 블럭 (110)에 설치되고 있지만, 다른 블럭에 설치되고 있어도 괜찮다. 또, 세정액토출구 (111), 흡인구 (112) 및 배기구 (131)이 동일한 블럭에 설치되고 있어도 괜찮다.

또, 도 13에 나타나는 바와 같이 제2의 블럭 (130)의 표면 (130a)에는 평행하게 나열하는 2열의 슬릿 형상의 배기구 (131)이 형성되고 있어도 괜찮다. 이 경우, 예를 들면 배기구 (131)의 폭은 1 mm 정도로 설정된다. 2열의 배기구 (131)의 각각의 스타일로 (132)는 제2의 블럭 (130)의 내부에서 합류해 같은 배기관 (133)에 접속되고 있다.

이상의 실시의 형태로 기재한 배출구 (160)은 흡인에 의해 세정액 (H)를 제거하고 있지만 흡인하지 않고 자연 낙하에 의해 세정액 (H)를 배출해도 괜찮다.·

이상의 실시의 형태에서는 세정액토출구 (111)을 회전 롤 (90)이 3/4 회전한 위치로부터 1회 회전하는 위치까지의 사이에 설치하고 있지만, 회전 롤 (90)이 1/4회전한 위치로부터 1/2회전하는 위치까지의 사이와 회전 롤 (90)이 1/2 회전한 위치로부터 3/4 회전하는 위치까지의 사이에 설치해도 좋다. 이하, 관련된 경우의 일 례를 도 14를 이용해 설명한다.

회전 롤 (90)의 하부 측에는 그 회전 롤 (90)의 하부측의 표면을 덮는 커버체로서의 플레이트 (200)이 설치된다. 플레이트 (200)은 최상부를 기점 (P)로서 회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)의 120˚정도에서 240˚정도까지의 구간을 덮도록 형성되고 있다. 플레이트 (200)은 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 길고 가늘게 형성되어 회전 롤 (90)의 긴 방향의 양단부 사이에 걸쳐서 형성되고 있다. 플레이트 (200)은 회전 롤 (90)의 표면 형상을 따라 원호 형상으로 형성되고 있다. 플레이트 (200)과 회전 롤 (90)의 표면의 사이에는 상기 실시의 형태와 동일하게 100μm~300μm, 더욱 바람직하게는 100μm의 간격 (D)가 형성되고 있다.

플레이트 (200)의 중앙부 으로서, 회전 롤 (90)의 최하부에 대향하는 위치에는 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따른 슬릿 형상의 배출구 (201)이 형성되고 있다. 플레이트 (200)의 배출구 (201)의 양측에는, 각각 세정액토출구 (202,203)이 형성되고 있다. 세정액토출구 (202,203)은, 배출구 (201)으로부터 예를 들면 30˚정도 떨어진 동일거리의 위치에 형성되고 있다. 세정액토출구 (202,203)은 예를 들면 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따른 슬릿 형상으로 형성되고 있다.

세정액토출구(202,203)은 각 공급관 (210)에 의해 세정액공급 장치 (211)에 접속되고 있다. 이 세정액공급 장치 (211)로부터의 세정액의 공급에 의해 세정액토출구 (202,203)으로부터 회전 롤 (90)과 플레이트 (200) 사이의 간격 (D)에 세정액을 토출할 수 있다.

배출구 (201)은 배관 (220)에 의해 진공 펌프등의 흡인 장치 (221)에 접속되 고 있다. 흡인 장치 (221)에 의한 진공 흡인에 의해 흡인구 (201)으로부터 회전 롤 (90)의 표면의 세정액을 흡인해 제거할 수 있다.

플레이트 (200)의 하부에는, 상기 실시의 형태와 동일하게 배액관 (230)을 가지는 드레인 관 (231)이 설치되고 있다.

그리고, 회전 롤 (90)을 세정할 때에는 회전 롤 (90)이 상술의 제2의 속도로 회전된 상태로 세정액토출구(202,203)으로부터 회전 롤 (90)의 표면으로 향해 세정액 (H)가 토출되어 플레이트 (200)과 회전 롤 (90)의 간격 (D)에 세정액 (H)가 공급된다. 이 때, 예를 들면 배출구 (201)으로부터 흡인을 해 간격 (D)에 공급된 세정액 (H)는 회전 롤 (90)의 최하부에 위치하는 배출구 (201)으로부터 배출된다. 이 상태로 예를 들면 회전 롤 (90)이 2 회전 정도된 후, 세정액토출구(202,203)으로부터의 세정액 (H)의 토출이 정지된다. 그 후, 예를 들면 회전 롤 (90)의 회전 속도가 제2의 속도로부터 상술의 제3의 속도에 거론되어 배출구 (201)으로부터의 흡인에 의해, 플레이트 (200)과 회전 롤 (90)과의 간격 (D)의 세정액 (H)가 흡인 제거되어 회전 롤 (90)의 표면이 건조된다.

이 실시의 형태에 있어서도 협소한 간격 (D)에 세정액 (H)가 토출되어 고압의 수류에 의해 회전 롤 (90)의 더러움이 제거되므로, 회전 롤 (90)의 세정이 효과적으로 행해진다. 또, 협소한 간격 (D)에 세정액 (H)를 공급할 뿐이므로, 세정액 (H)의 소비량을 비약적으로 저감 할 수 있다.

또, 배출구 (201)을 사이에 둔 양측으로 세정액토출구(202,203)이 설치되었으므로, 회전 방향 (F)에 대해서 뒤측의 세정액토출구 (202)로부터 배출구 (201)을 향해 회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)와 동일한 방향으로 세정액 (H)가 흐른다. 이 동안 회전 롤 (90)의 표면에 부착한 레지스트액을 세정액 (H)로 용해시킬 수가 있다. 또, 회전 방향 (F)에 대해서 전방측의 세정액토출구 (203)으로부터 배출구 (201)을 향해 회전 롤 (90)과 역회전의 방향으로 세정액 (H)가 흐르므로, 세정액 (H)와 회전 롤 (90)의 상대속도가 증대해 세정액 (H)가 회전 롤 (90)의 레지스트액을 강제적으로 제거할 수가 있다.

배출구 (201)에는 흡인 장치 (221)이 접속되고 있으므로, 플레이트 (200)에 남는 세정액 (H)를 확실히 배출할 수가 있다.

또, 배출구 (201)을 회전 롤 (90)의 최하부의 위치에 설치했으므로 플레이트 (200)상의 세정액 (H)를 배출하기 쉽다. 또한 상기 실시의 형태에서는 배출구 (201)이 진공 흡인되고 있었지만 자연 낙하에 의해 세정액 (H)를 배출해도 괜찮다.

이상의 실시의 형태에 있어서 플레이트 (200)의 회전 방향 (F)측에, 회전 롤 (90)의 표면의 세정액을 흡인 제거하는 흡인구를 설치해도 좋다. 예를 들면 도 15에 나타나는 바와 같이 예를 들면 플레이트 (200)의 회전 방향 (F)측에, 상술의 실시의 형태와 같은 제1의 블럭 (110)가 설치된다. 이 제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)에 흡인구 (240)이 형성된다. 흡인구 (240)은 제1의 블럭 (110)내에 형성된 유로 (241)과 그 유로 (241)에 접속된 배관 (242)에 의해, 진공 펌프등의 흡인 장치 (243)에 접속되고 있다. 그리고, 회전 롤 (90)의 건조시에는 상술한 배출구 (201)으로부터의 배출에 아울러 흡인구 (240)으로부터의 흡인에 의해도 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 제거된다. 이렇게 하는 것으로, 회전 롤 (90)의 회전 에 의해 플레이트 (200)의 외측으로 운반되어진 세정액 (H)도 적정하게 제거할 수 있다.

또, 플레이트 (200)을 구비한 상술의 실시의 형태에 있어서, 회전 롤 (90)의 표면을 건조시키는 배기구를 설치해도 좋다. 예를 들면, 도 15에 나타내는 상기예 에 있어서, 흡인구 (240)의 한층 더 회전 방향 (F)측에 상술한 실시의 형태와 동일한 제2의 블럭 (130)이 설치된다. 제2의 블럭 (130)의 표면 (130a)에 배기구 (250)이 형성된다. 배기구 (250)은 제2의 블럭 (130)내에 형성된 유로 (251)과 유로 (251)에 접속된 배관 (252)에 의해 부압발생 장치 (253)에 접속되고 있다. 그리고, 세정 후의 건조시에는 배기구 (250)으로부터 회전 롤 (90)의 표면의 환경을 배기하는 것으로써 회전 롤 (90)의 표면의 건조를 촉진할 수 있다. 이것에 의해 회전 롤 (90)의 건조를 보다 확실히 실시할 수가 있다.

이상의 실시의 형태에서는 제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)에는 흡인구 (112)가 형성되고 있지만 도 16에 나타나는 바와 같이 한층 더 동일한 표면 (110a)에 세정액을 흡인하는 흡인구 (301)을 형성해도 좋다.

흡인구 (301)은 흡인구 (112)의 회전 방향 (F)측 즉 윗쪽측의 표면 (110a)에 형성되고 있다. 흡인구 (301)의 형상은 흡인구 (112)와 동일하게 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 슬릿 형상이 되고 있다.

흡인구 (301)은 제1의 블럭(110) 내에 형성된 유로 (302)와 그 유로 (302)에 접속된 배관 (303)에 의해, 흡인 장치 (304)에 접속되고 있다. 흡인 장치 (304)에 의한 진공 흡인에 의해 흡인구 (301)으로부터 회전 롤 (90)의 표면의 세정액을 흡인해 제거할 수 있다. 따라서 흡인 장치 (304)와 흡인 장치 (125)를 동시에 가동시키는 것에 의해, 흡인구 (301)과 흡인구 (112)의 2 곳으로부터 한 번에 다량의 세정액을 흡인할 수가 있다.

또 흡인구 (301)의 회전 방향 (F)측의 표면 (110a)에 선단 (305a)를 기울기 아래쪽으로 향해 성형하고, 세정액 (H)를 일시적으로 체류시키는 체류부 (305)를 형성해도 좋다. 이 체류부 (305)에서는 세정액토출구 (111)으로부터 토출된 세정액 (H)의 일부가, 회전 롤 (90)의 표면을 따라 올라 일시적으로 체류된다. 그리고, 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 세정액 (H)에 용해해, 체류부 (305)에서도 회전 롤 (90)의 표면의 더러움이 제거된다.

이상과 같이 구성되는 세정기구 (100)을 이용해 다음에 설명하는 방법으로 회전 롤 (90)을 세정해도 괜찮다. 도 17은 회전 롤 (90)의 원주상의 동점 (S)의 수직 방향 위치의 경시 변화와 동점 (S)의 수직 방향 위치에 대응해 세정액토출구 (111)으로부터 세정액 (H)를 토출하는 타이밍, 흡인구 (301), 흡인구 (112) 및 배출구 (160)으로부터 세정액 (H)를 흡인하는 타이밍 및 배기구 (131)으로부터 배기하는 타이밍을 나타낸 설명도이다.

노즐 (80)이 회전 롤 (90)상으로 이동한 후, 회전 롤 (90)은 예를 들면 표면 속도가 30~50 mm/s의 속도로 회전 방향 (F)로 회전된다. 그리고 회전 롤 (90)이 예를 들면 반주 회전하는 동안, 즉 회전 롤 (90)의 표면상의 동점 (S)가 회전 롤 (90)의 최상부로부터 최하부로 이동하는 동안(도 17의 R공정), 노즐 (80)으로부터 회전 롤 (90)의 표면에 레지스트액의 시출이 행해진다. 이 레지스트액의 시출이 종 료하면 회전 롤 (90)의 세정이 개시된다.

먼저 동점 (S)가 회전 롤 (90)의 최하부에 이른 후, 세정액토출구 (111)으로부터 회전 롤 (90)과 제1의 블럭 (110)의 간격 (D)에 세정액 (H)가 토출된다. 이 때 회전 롤 (90)이 레지스트액의 시출시의 속도보다 늦고, 예를 들면 표면 속도 1 0~30 mm/s로 회전된다. 토출된 세정액 (H)는 회전 롤 (90)의 표면을 따라 흐른다. 이 세정액 (H)의 흐름에 의해 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 제거된다. 그리고 동점 (S)가 흡인구 (301)을 통과했을 때 세정액토출구 (111)으로부터의 세정액 (H)의 토출을 멈춘다(도 17의 T1공정).

동점 (S)가 흡인구 (301)을 통과하면 흡인구 (301), 흡인구 (112) 및 배출구 (160)으로부터 세정액 (H)가 흡인된다. 그리고 동점 (S)가 다시 회전 롤 (90)의 최하부에 이르렀을 때에 이 세정액 (H)의 흡인을 멈춘다 (도 17의 T2공정).

그 후, T1 공정에 있어서의 세정액 (H)의 토출과 T2 공정에 있어서의 세정액 (H)의 흡인과 같은 공정으로 세정액 (H)의 토출(도 17의 T3공정)과 세정액 (H)의 흡인(도 17의 T4공정)을 한다.

이와 같이 T1~T4공정을 해 동점 (S)가 회전 롤 (90)의 최하부에 이르렀을 때 세정액토출구 (111)으로부터 세정액 (H)가 토출된다. 그리고 동점 (S)가 일주 해 다시 회전 롤 (90)의 최하부에 이르렀을 때에 세정액 (H)의 토출을 멈춘다 (도 17의 T5공정).

이상의 T1~T5공정의 종료하면 흡인구 (301), 흡인구 (112) 및 배출구 (160)으로부터의 세정액 (H)의 흡인과 배기구 (131)으로부터의 배기가 동시에 행해진다. 이 때, 회전 롤 (90)의 회전은 시출시(R공정)의 속도와 세정액 (H)의 토출·흡인시(T1~T5공정)의 속도보다 빠르다, 예를 들면 표면 속도가 40~60 mm/s의 속도로 행해진다. 회전 롤 (90)의 표면에 부착한 세정액 (H)는 흡인구 (301), 흡인구 (112) 및 배출구 (160)에 의해 제거되어 한층 더 배기구 (131)에 의해 회전 롤 (90)의 표면의 환경이 강제 배기되어 회전 롤 (90)의 표면이 건조된다(도 17의 E공정).

발명자들의 지견에 의하면 이상의 회전 롤 (90)의 세정 방법으로 나타나는 바와 같이 세정액 (H)의 토출과 흡인이 교대로 행해지고(T1~T5공정) 간헐적으로 세정액 (H)를 토출한 경우에서도 회전 롤 (90)의 표면에 부착한 레지스트액을 충분히 세정할 수가 있다. 그리고 세정액 (H)의 토출이 간헐적이므로, 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액을 효율적으로 세정할 수가 있어 회전 롤 (90)의 세정에 사용되는 세정액 (H)의 소비량을 비약적으로 저감 할 수가 있다. 예를 들면, 세정액 (H)를 연속해 토출하는 회전 롤 (90)을 세정하는 경우, 1회의 세정에 사용하는 세정액 (H)의 소비량은 300 ml이었지만 본 세정 방법과 같이 세정액 (H)를 간헐적으로 토출하는 것에 의해 세정액 (H)의 소비량을 67 ml에 억제할 수가 있었다.

이상, 첨부 도면을 참조하면서 본 발명의 매우 적합한 실시의 형태에 대해서 설명했지만, 본 발명에 관련되는 예로 한정되지 않는다. 당업자라면 특허 청구의 범위에 기재된 사상의 범주내 에 있어서, 각종의 변경예 또는 수정예에 상도할 수 있는 것은 분명하고, 그들에 대해서도 당연히 본 발명의 기술적 범위에 속하는 것으로 이해된다. 예를 들면 이상의 실시의 형태로 기재한 세정액토출구 (111)과 제1의 블럭 (110)이나, 세정액토출구 (202,203)과 플레이트 (200)은 회전 롤 (90)의 표면상의 다른 위치에 설치해도 좋다. 또, 제1~ 제4의 블럭 (110, 130, 140, 150)이나, 플레이트 (200)등의 형상은 다른 형상으로서도 좋다. 상기 실시의 형태에서는 본 발명을 레지스트액의 시출이 행해지는 회전 롤의 세정에 대해서 적용하고 있었지만 현상액등의 다른 도포액의 시출이 행해지는 회전 롤의 세정에 적용해도 괜찮다. 또, 세정액 (H)도 용제에 한정되지 않고 순수한 물 등 다른 액체로서도 좋다. 본 발명은 유리 기판 (G) 이외의 FPD(플랫 패널 디스플레이)나 포토마스크용의 마스크에틸클, 반도체 웨이퍼 등의 다른 기판에 도포액을 도포하는 경우에도 적용할 수 있다.

본 발명은 회전 롤을 세정하는 세정액의 소비량을 저감 할 때에 유용하다.

본 발명에 세정액의 소비량을 저감 하고 도포 처리 유니트의 런닝 코스트를 저감 할 수 있다.

Claims (22)

1. 노즐로부터 기판에 도포액이 토출되기 전에, 상기 노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 세정기구이며,

   회전 롤의 표면의 일부를 그 표면을 따라 덮고, 상기 회전 롤의 표면과의 사이에 원호 형상으로 협소한 간격를 형성하는 커버체와,

   상기 커버체와 상기 회전 롤의 표면과의 사이의 원호 형상으로 협소한 간격에 정압으로 세정액을 토출하는 세정액 토출구를 가지고,

   상기 간격은, 상기 세정액이 정압을 유지한 채로 흐르도록 형성되어 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정 기구.
2. 제1항에 있어서,

   상기 세정액토출구는, 상기 커버체에 형성되고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정기구.
3. 제1항에 있어서,

   노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 최상부를 회전의 기점으로 하여 회전 롤이 회전 방향으로 3/4 회전한 위치로부터 1회 회전하는 위치까지의 사이에, 상기 세정액 토출구가 설치되고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정기구.
4. 제3항에 있어서,

   상기 회전 롤이 1/2 회전한 위치로부터 3/4 회전하는 위치까지의 사이에는 상기 세정액토출구로부터 회전 롤의 표면을 따라 떨어지는 세정액을 상기 회전 롤의 표면에 있어서 체류시키는 체류 부재가 설치되고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정기구.
5. 제4항에 있어서,

   상기 체류 부재는 윗쪽으로부터의 세정액을 받아 체류시키는 체류부와 상기 체류부의 세정액을 회전 롤의 표면을 따라 아래쪽으로 흘리는 세정액유도부를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정기구.
6. 제5항에 있어서,

   상기 체류부는 체류 부재의 회전 롤의 표면측의 상부에 오목형상으로 형성되고,

   상기 세정액유도부는 상기 회전 롤의 표면을 그 표면을 따라 덮고, 그 회전 롤의 표면과의 사이에 간격을 형성하고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정기구.
7. 제5항에 있어서,

   상기 세정액유도부는 상기 회전 롤의 최하부까지 형성되고,

   상기 회전 롤의 최하부의 위치에는 세정액의 배출구가 설치되고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정기구.
8. 제7항에 있어서,

   상기 배출구에는 세정액을 흡인하기 위한 흡인 장치가 접속되고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정기구.
9. 제3항에 있어서,

   상기 세정액토출구보다도 상기 회전 롤의 회전 방향 측에는 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인해 제거하는 흡인구가 설치되고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정기구.
10. 제1항에 있어서,

    노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 최상부를 회전의 기점으로 하여 회전 롤이 1/4 회전한 위치로부터 1/2 회전하는 위치까지의 사이와 회전 롤이 1/2 회전한 위치로부터 3/4 회전하는 위치까지의 사이에 상기 세정액토출구가 설치되고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정기구.
11. 제10항에 있어서,

    상기 세정액토출구는 2 곳에 설치되고,

    상기 커버체는 상기 회전 롤의 하부측의 적어도 상기 2 곳의 세정액토출구 사이의 회전 롤의 표면을 덮도록 형성되고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정기구.
12. 제11항에 있어서,

    상기 2 곳의 세정액토출구의 사이의 커버체에는 세정액의 배출구가 형성되고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정기구.
13. 제12항에 있어서,

    상기 배출구는 상기 회전 롤의 최하부에 대향하는 위치에 형성되고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정기구.
14. 제12항에 있어서,

    상기 배출구에는 세정액을 흡인하기 위한 흡인 장치가 접속되고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정기구.
15. 제10항에 있어서,

    상기 회전 롤의 1/2 회전으로부터 3/4 회전까지의 사이에 위치하는 상기 세정액토출구보다 더 회전 방향 측에는 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인해 제거하는 흡인구가 설치되고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정기구.
16. 제9항 또는 제15항에 있어서,

    상기 흡인구의 다른 회전 방향 측에는 회전 롤의 표면을 건조시키기 위한 배기구가 설치되고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정기구.
17. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,

    상기 세정액토출구는 회전 롤의 긴 방향을 따라 상하 2열로 나열되어 형성되고 상기 2열의 세정액토출구는 서로 지그재그 형상으로 배치되고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정기구.
18. 제9항 또는 제15항에 기재된 회전 롤의 세정기구를 이용한 회전 롤의 세정 방법이며,

    세정액토출구로부터 세정액을 공급하면서 회전 롤을 회전시키는 세정 공정과,

    상기 세정액토출구로부터의 세정액의 공급을 정지하고, 상기 세정 공정보다 빠른 속도로 상기 회전 롤을 회전시켜, 상기 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인구에 의해 흡인해 제거하는 건조 공정을 가지는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정 방법.
19. 제9항 또는 제15항에 기재된 회전 롤의 세정기구를 이용한 회전 롤의 세정 방법이며,

    회전 롤을 회전시키면서 세정액토출구로부터 세정액을 토출하는 토출 공정과,

    상기 토출 공정과 같은 속도로 상기 회전 롤을 회전시키면서 상기 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인구에 의해 흡인해 제거하는 흡인 공정을 갖고,

    상기 토출 공정과 흡인 공정은 교대로 행해지고,

    상기 토출 공정에서는 상기 흡인구로부터의 세정액의 흡인은 정지하고,

    상기 흡인 공정에서는 상기 세정액토출구로부터의 세정액의 공급은 정지하고 있는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정 방법.
20. 회전 롤의 표면의 일부를 그 표면을 따라 덮고, 상기 회전 롤의 표면과의 사이에 원호 형상의 간격를 형성하는 커버체와,

    상기 커버체와 상기 회전 롤의 표면과의 사이의 원호 형상의 간격에 세정액을 토출하는 세정액 토출구와,

    상기 세정액 토출구보다도 상기 회전 롤의 회전 방향 측에 설치되어, 상기 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인해 제거하는 흡인구를 가지며,

    노즐로부터 기판에 도포액이 토출되기 전에, 상기 노즐로부터 도포액이 공급되는 상기 회전 롤을 세정하는 세정 기구를 이용한 회전 롤의 세정 방법이며,

    상기 세정액 토출구로부터 세정액을 공급하면서, 상기 회전 롤을 회전시키는 세정 공정과,

    상기 세정액 토출구로부터의 세정액의 공급을 정지하고, 상기 세정 공정보다도 빠른 속도로 상기 회전 롤을 회전시켜, 상기 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인구에 의해 흡인해 제거하는 건조 공정을 가지는 것을 특징으로 하는, 회전 롤의 세정 방법.
21. 회전 롤의 표면의 일부를 그 표면을 따라 덮고, 상기 회전 롤의 표면과의 사이에 원호 형상의 간격를 형성하는 커버체와,

    상기 커버체와 상기 회전 롤의 표면과의 사이의 원호 형상의 간격에 세정액을 토출하는 세정액 토출구와,

    상기 세정액 토출구보다도 상기 회전 롤의 회전 방향 측에 설치되어, 상기 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인해 제거하는 흡인구를 가지며,

    노즐로부터 기판에 도포액이 토출되기 전에, 상기 노즐로부터 도포액이 공급되는 상기 회전 롤을 세정하는 세정 기구를 이용한 회전 롤의 세정 방법이며,

    회전 롤을 회전시키면서 세정액 토출구로부터 세정액을 토출하는 토출 공정과,

    상기 토출 공정과 같은 속도로 상기 회전 롤을 회전시키면서, 상기 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인구에 의해 흡인해 제거하는 흡인 공정을 갖고,

    상기 토출 공정과 흡인 공정은 교대로 행해지고,

    상기 토출 공정에서는 상기 흡인구로부터의 세정액의 흡인은 정지하고,

    상기 흡인 공정에서는 상기 세정액 토출구로부터의 세정액의 공급은 정지하고 있는 것을 특징으로 하는. 회전 롤의 세정 방법.
22. 삭제

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