KR101264937B1 - Cleaning mechanism of rotation roller and cleaning method of rotation roller - Google Patents
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Abstract
본 발명은 회전홀의 세정 기구 및 회전로의 세정방법에 관한 것으로서, 회전 롤 (90)의 최상부의 기점 (P)로부터 회전 방향 (F)로 270˚에서 300˚회전한 위치에 제1의 블럭 (110)이 설치되고 그 후방측에 제 2의 블럭 (130)이 설치된다. 제1의 블럭 (110)에 의해 회전 롤 (90)과의 사이에 협소의 간격 (D)가 형성되어 그 표면 (110a)에 세정액토출구 (111)과 흡인구 (112)가 형성된다. 제2의 블럭 (130)에는 배기구 (131)이 형성된다. 회전 롤 (90)의 하부 측에는 체류부 (141)과 세정액유도부 (142)가 형성된 제3의 블럭 (140)이 설치된다. 세정시에는 회전 롤 (90)을 회전시킨 상태로 세정액토출구 (111)으로부터 간격 (D)에 세정액 (H)가 토출되어 세정액 (H)가 회전 롤 (90)의 표면을 타고 흘러 체류부 (141)로 일단 체류된 후, 세정액유도부 (142)를 통하여 배출되는 회전 롤을 세정하기 위한 세정액의 소비량을 저감하는 기술을 제공한다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning mechanism of a rotary hole and a cleaning method of a rotary furnace, wherein the first block (1) is rotated at a position rotated from 270 to 300 degrees in the rotation direction (F) from the uppermost point (P) of the rotary roll (90). 110 is installed and the second block 130 is installed on the rear side. The first block 110 forms a narrow gap D between the rotary roll 90 and the cleaning liquid discharge port 111 and the suction port 112 on the surface 110a. The exhaust block 131 is formed in the second block 130. On the lower side of the rotary roll 90, a third block 140 in which the retention portion 141 and the cleaning liquid guide portion 142 are formed is provided. At the time of washing | cleaning, the washing | cleaning liquid H is discharged in the space | interval D from the washing | cleaning liquid discharge port 111 in the state which rotated the rotating roll 90, and the washing | cleaning liquid H flows through the surface of the rotating roll 90, and is a retention part 141. After the staying in the ()), it provides a technique for reducing the consumption amount of the cleaning liquid for cleaning the rotary roll discharged through the cleaning liquid guide portion 142.
Description
도 1은 본 실시의 형태에 있어서의 도포 현상 처리 장치의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다.1 is a plan view showing an outline of a configuration of a coating and developing treatment apparatus according to the present embodiment.
도 2는 레지스트 도포 처리 유니트의 구성의 개략을 나타내는 종단면의 설명도이다.2 is an explanatory view of a longitudinal section showing an outline of the configuration of a resist coating processing unit.
도 3은 레지스트 도포 처리 유니트의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다. 3 is a plan view schematically illustrating the configuration of a resist coating processing unit.
도 4는 노즐의 설명도이다.4 is an explanatory diagram of a nozzle.
도 5는 회전 롤의 세정기구의 구성의 개략을 나타내는 종단면의 설명도이다. It is explanatory drawing of the longitudinal cross section which shows the outline of the structure of the washing | cleaning mechanism of a rotating roll.
도 6은 회전 롤의 Y방향 정방향측의 측면도이다.It is a side view of the rotating direction of the Y-direction positive side.
도 7은 제1의 블럭의 사시도이다. 7 is a perspective view of the first block.
도 8은 제2의 블럭의 사시도이다.8 is a perspective view of a second block.
도 9는 세정 공정시의 세정액의 흐름을 나타내는 회전 롤의 세정기구의 종단면의 설명도이다.It is explanatory drawing of the longitudinal cross section of the washing | cleaning mechanism of the rotating roll which shows the flow of the washing | cleaning liquid at the time of a washing | cleaning process.
도 10은 건조 공정시의 세정액의 흐름을 나타내는 회전 롤의 세정기구의 종단면의 설명도이다.It is explanatory drawing of the longitudinal cross section of the washing | cleaning mechanism of the rotating roll which shows the flow of the washing | cleaning liquid at the time of a drying process.
도 11은 세정액토출구를 지그재그 형상으로 배치한 경우의 제1의 블럭의 사 시도이다.Fig. 11 is a trial of the first block when the cleaning liquid discharge port is arranged in a zigzag shape.
도 12는 세정액토출구를 슬릿 형상으로 한 경우의 제1의 블럭의 사시도이다.12 is a perspective view of the first block in the case where the cleaning liquid discharge port is slit-shaped;
도 13은 배기구를 2열로 한 경우의 제2의 블럭의 사시도이다.Fig. 13 is a perspective view of a second block in the case of two exhaust ports.
도 14는 회전 롤의 세정기구의 다른 구성예를 나타내는 종단면의 설명도이다.It is explanatory drawing of the longitudinal cross section which shows the other structural example of the washing | cleaning mechanism of a rotating roll.
도 15는 제1의 블럭과 제2의 블럭을 구비한 세정기구의 구성예를 나타내는 종단면의 설명도이다. 15 is an explanatory view of a longitudinal section showing an example of the configuration of a cleaning mechanism including a first block and a second block.
도 16은 제1의 블럭에 흡인구를 추가하고 체류부를 설치한 세정기구의 구성예를 나타내는 종단면의 설명도이다.It is explanatory drawing of the longitudinal cross section which shows the structural example of the washing | cleaning mechanism which added the suction port to the 1st block and provided the retention part.
도 17은 회전 롤 표면을 세정할 때에 세정액의 토출, 흡인 및 배기의 타이밍을 나타낸 설명도이다.It is explanatory drawing which showed the timing of discharge, suction, and exhaust of a cleaning liquid, when cleaning a rotating roll surface.
**주요부위를 나타내는 도면부호의 설명**** Description of reference numerals indicating main parts **
1 : 도포 현상 처리 장치1: coating and developing apparatus
24 : 레지스트 도포 처리 유니트 24: resist coating processing unit
90 : 회전 롤90: rotating roll
110 : 제1의 블럭 110: first block
111 : 세정액토출구 111: cleaning liquid discharge outlet
112 : 흡인구112: suction port
130 : 제2의 블럭 130: second block
131 : 배기구131: exhaust port
140 : 제3의 블럭 140: third block
141 : 체류부141: Residency Department
142 : 세정액유도부142: cleaning liquid induction part
160 : 배출구160: outlet
H ; 세정액 H; Cleaning solution
G : 유리 기판G: glass substrate
본 발명은, 노즐로부터 기판에 도포액이 토출되기 전에, 노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 세정기구와 그 회전 롤의 세정 방법에 관한다.This invention relates to the washing | cleaning mechanism of the rotating roll to which the coating liquid is supplied from a nozzle, and the cleaning method of the rotating roll before a coating liquid is discharged from a nozzle to a board | substrate.
예를 들면 액정 디스플레이의 제조 프로세스의 포트리소그래피공정에서는, 유리 기판상으로 레지스트액을 도포해 레지스트막을 형성하는 레지스트 도포 처리를 하고 있다.For example, in the photolithography step of the manufacturing process of the liquid crystal display, a resist coating process for applying a resist liquid onto a glass substrate to form a resist film is performed.
이 레지스트 도포 처리는 레지스트 도포 처리 유니트로 행해지고 예를 들면 스테이지에 유리 기판이 재치되어 그 유리 기판의 상면을 노즐이 이동하면서 레지스트액을 토출하는 것으로 행해지고 있다. 또, 레지스트 도포 처리 유니트에서는 도포시의 노즐의 토출 상태를 안정시키기 위하여 도포전에 노즐의 선단부를 회전하고 있는 회전 롤의 상부 표면에 접근해 노즐로부터 회전 롤에 레지스트액을 시출하는 처리를 하고 있다.This resist coating process is performed by the resist coating process unit, for example, by placing a glass substrate on a stage, and discharging a resist liquid, moving a nozzle on the upper surface of the glass substrate. Moreover, in the resist coating processing unit, in order to stabilize the discharge state of the nozzle at the time of application | coating, the process of approaching the upper surface of the rotating roll which rotates the front-end | tip part of a nozzle before application | coating and applying a resist liquid from a nozzle to a rotating roll is performed. .
또한 레지스트액으로 더러워진 회전 롤을 그대로 두면 다음의 시출시에 노즐이 더러워지므로, 시출의 종료후에 회전 롤을 세정하는 처리를 하고 있다. 종래부터 이 회전 롤의 세정은 탱크에 저장된 세정액내에 회전 롤의 하부를 침전하고, 회전 롤을 회전시키는 것에 의해 행해지고 있었다(특허 문헌 1 참조).In addition, if the rotary roll soiled with the resist liquid is left as it is, the nozzle becomes dirty at the next start-up, so that the rotary roll is cleaned after the end of the start-up. Conventionally, cleaning of this rotating roll was performed by depositing the lower part of a rotating roll in the washing | cleaning liquid stored in the tank, and rotating a rotating roll (refer patent document 1).
[특허 문헌 1] 일본국 특개평10-76205호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-76205
그렇지만, 상술한 바와 같이 탱크에 세정액을 저장해 회전 롤을 세정하는 경우 용적이 큰 탱크에 세정시에 매회 세정액을 바꿔 넣을 필요가 있으므로 다량의 세정액이 필요하게 되어 있었다. 이 때문에, 레지스트 도포 처리 유니트의 런닝코스트가 높아지고 있었다.However, when the cleaning liquid is stored in the tank and the rotary roll is washed as described above, a large amount of the cleaning liquid is required because the cleaning liquid needs to be changed every time the cleaning is performed in the large volume tank. For this reason, the running cost of the resist coating process unit was high.
본 발명은 관련된 점에 비추어 이루어진 것이고, 회전 롤을 세정하기 위한 세정액의 소비량을 저감해 레지스트 도포 처리 유니트등의 도포 처리 유니트의 런닝 코스트를 저감 하는 것을 그 목적으로 한다.This invention is made | formed in view of the related point, Comprising: It aims at reducing the running cost of coating processing units, such as a resist coating processing unit, by reducing the consumption amount of the cleaning liquid for cleaning a rotating roll.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 노즐로부터 기판에 도포액이 토출되기 전에 노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 세정기구로서, 회전 롤의 표면의 일부를 그 표면을 따라 덮고 상기 회전 롤의 표면과의 사이에 간격를 형성하는 커버체와 상기 커버체와 상기 회전 롤의 표면과의 간격에 세정액을 토출하는 세정액토출구를 가지는 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object is a cleaning mechanism of a rotary roll to which the coating liquid is supplied from the nozzle before the coating liquid is discharged from the nozzle to the substrate, covering a part of the surface of the rotating roll along the surface and the surface of the rotating roll And a cleaning liquid discharge port for discharging the cleaning liquid in a space between the cover body and the cover body and the surface of the rotary roll.
본 발명에 커버체에 의해 회전 롤의 표면에 간격를 형성해 그 간격에 세정액을 토출하므로 더러움이 부착한 회전 롤의 표면에 효율적으로 세정액을 공급할 수 가 있다. 이 결과, 세정액의 소비량을 저감 할 수 있어 도포 처리 유니트의 런닝 코스트도 저감 할 수 있다.In the present invention, since the gap is formed on the surface of the rotating roll by the cover body and the cleaning liquid is discharged at the interval, the cleaning liquid can be efficiently supplied to the surface of the rotating roll with dirt. As a result, the consumption amount of the cleaning liquid can be reduced, and the running cost of the coating processing unit can also be reduced.
상기 세정액 토출구는 상기 커버체에 형성되고 있어도 괜찮다.The cleaning liquid discharge port may be formed in the cover body.
노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 최상부를 회전의 기점으로 하여 회전 롤이 회전 방향으로 3/4 회전한 위치로부터 1회전 하는 위치까지의 사이에, 상기 세정액토출구가 설치되고 있어도 괜찮다.The cleaning liquid discharge port may be provided between the top of the rotating roll supplied with the coating liquid from the nozzle as the starting point of rotation from the position where the rotating roll is rotated 3/4 to one rotation.
상기 회전 롤이 1/2 회전한 위치로부터 3/4 회전하는 위치까지의 사이에는 상기 세정액 토출구로부터 회전 롤의 표면을 따라 떨어지는 세정액을 상기 회전 롤의 표면에 있어서 체류시키는 체류 부재가 설치되고 있어도 괜찮다.Between the position where the said rotation roll rotates 1/2 to the position which rotates 3/4, the retention member which stays in the surface of the said rotation roll which wash liquid which falls along the surface of the rotation roll from the said cleaning liquid discharge port may be provided. .
상기 체류 부재는 윗쪽으로부터의 세정액을 받아 체류시키는 체류부와 상기 체류부의 세정액을 회전 롤의 표면을 따라 하부에 흘리는 세정액유도부를 구비하고 있어도 괜찮다.The retention member may include a retention portion for receiving and retaining the cleaning liquid from above and a cleaning liquid guide portion for flowing the cleaning liquid in the retention portion downward along the surface of the rotary roll.
상기 체류부는 체류 부재의 회전롤의 표면측의 상부에 오목형상으로 형성되고 상기 세정액유도부는 상기 회전 롤의 표면을 그 표면을 따라 덮고 그 회전 롤의 표면의 사이에 간격를 형성하고 있어도 괜찮다.The said retention part may be formed in concave shape in the upper part of the surface side of the rotation roll of a retention member, and the said washing | cleaning liquid guide part may cover the surface of the said rotation roll along the surface, and may form the space | interval between the surfaces of the rotation roll.
상기 세정액유도부는 상기 회전 롤의 최하부까지 형성되어 상기 회전 롤의 최하부의 위치에는 세정액의 배출구가 설치되고 있어도 괜찮다.The said washing | cleaning liquid guide part is formed to the lowest part of the said rotary roll, and the discharge port of a washing | cleaning liquid may be provided in the lowest position of the said rotary roll.
상기 배출구에는 세정액을 흡인하기 위한 흡인 장치가 접속되고 있어도 괜찮다.A suction device for sucking the cleaning liquid may be connected to the discharge port.
상기 세정액토출구에서 상기 회전 롤의 회전 방향 측에는 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인해 제거하는 흡인구가 설치되고 있어도 괜찮다.A suction port for sucking and removing the cleaning liquid on the surface of the rotating roll may be provided on the rotation direction side of the rotating roll at the cleaning liquid discharge port.
노즐로부터 도포액이 공급되는 회전 롤의 최상부를 회전의 기점으로 해, 회전 롤이 1/4 회전한 위치로부터 1/2 회전하는 위치까지의 사이와 회전 롤이 1/2 회전한 위치로부터 3/4 회전하는 위치까지의 사이에 상기 세정액토출구가 설치되고 있어도 괜찮다.The top of the rotary roll supplied with the coating liquid from the nozzle is the starting point of rotation, and the position from the position where the rotary roll is rotated 1/4 to half the rotation and from the position at which the rotary roll is rotated 1/2 The said cleaning liquid discharge port may be provided between the four rotation positions.
상기 세정액토출구는 2 곳에 설치되고 상기 커버체는 상기 회전 롤의 하부측의 적어도 상기 2 곳의 세정액토출구의 사이의 회전 롤의 표면을 덮도록 형성되고 있어도 괜찮다.The said cleaning liquid discharge port may be provided in two places, and the said cover body may be formed so that the surface of the rotating roll between at least two said cleaning liquid discharge ports of the lower side of the said rotary roll may be covered.
상기 2 곳의 세정액토출구의 사이의 커버체에는 세정액의 배출구가 형성되고 있어도 괜찮다.The cleaning body discharge port may be formed in the cover body between the two cleaning liquid discharge ports.
상기 배출구는 상기 회전 롤의 최하부에 대향하는 위치에 형성되고 있어도 좋다.The said discharge port may be formed in the position which opposes the lowest part of the said rotary roll.
상기 배출구에는 세정액을 흡인하기 위한 흡인 장치가 접속되고 있어도 괜찮다.A suction device for sucking the cleaning liquid may be connected to the discharge port.
상기 회전 롤의 1/2 회전으로부터 3/4 회전까지의 사이에 위치하는 상기 세정액토출구의 다른 회전 방향 측에는 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인해 제거하는 흡인구가 설치되고 있어도 괜찮다.A suction port for sucking and removing the cleaning liquid on the surface of the rotating roll may be provided on the other rotational direction side of the cleaning liquid discharge port positioned between one half rotation and three quarter rotation of the rotating roll.
상기 흡인구의 다른 회전 방향 측에는 회전 롤의 표면을 건조시키기 위한 배기구가 설치되고 있어도 괜찮다.The exhaust port for drying the surface of a rotating roll may be provided in the other rotation direction side of the said suction port.
상기 세정액토출구는 회전 롤의 긴 방향을 따라 상하 2열로 나열하여 형성되 고 상기 2열의 세정액토출구는 서로 지그재그 형상으로 배치되고 있어도 괜찮다.The cleaning liquid ejection openings may be formed in two rows in the vertical direction along the long direction of the rotary roll, and the cleaning liquid ejection openings in the two rows may be arranged in a zigzag shape with each other.
다른 관점에 의한 본 발명은 청구항 9, 15 또는 16중 어느 것의 회전 롤의 세정기구를 이용한 회전 롤의 세정 방법으로서 세정액토출구로부터 세정액을 공급하면서 회전 롤을 회전시키는 세정 공정과 상기 세정액토출구로부터의 세정액의 공급을 정지하고 상기 세정 공정보다 빠른 속도로 상기 회전 롤을 회전시켜 상기 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인구에 의해 흡인해 제거하는 건조 공정을 가지는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a cleaning method of a rotary roll using the cleaning mechanism of any of the rotating rolls according to any one of claims 9, 15 or 16. And a drying step of stopping the supply of and rotating the rotating roll at a speed faster than the cleaning step to suck and remove the cleaning liquid on the surface of the rotating roll by a suction port.
한층 더 다른 관점에 의한 본 발명은 청구항 9, 15 또는 16의 어느 쪽인가에 기재의 회전 롤의 세정기구를 이용한 회전 롤의 세정 방법으로서 회전 롤을 회전시키면서, 세정액토출구로부터 세정액을 토출하는 토출 공정과 상기 토출 공정과 같은 속도로 상기 회전 롤을 회전시키면서 상기 회전 롤의 표면의 세정액을 흡인구에 의해 흡인해 제거하는 흡인 공정을 갖고, 상기 토출 공정과 흡인 공정은 교대로 행해지고 상기 토출 공정에 있어서는 상기 흡인구로부터의 세정액의 흡인은 정지하고, 상기 흡인 공정에 있어서는 상기 세정액토출구로부터의 세정액의 공급은 정지하고 있는 것을 특징으로 한다.According to still another aspect of the present invention, a discharge step of discharging the cleaning liquid from the cleaning liquid discharge port while rotating the rotating roll as a cleaning method of the rotating roll using the cleaning mechanism of the rotating roll according to any one of claims 9, 15 or 16. And a suction step of sucking and removing the cleaning liquid on the surface of the rotary roll by a suction port while rotating the rotary roll at the same speed as the discharge step, wherein the discharge step and the suction step are performed alternately and in the discharge step The suction of the cleaning liquid from the suction port is stopped, and the supply of the cleaning liquid from the cleaning liquid discharge port is stopped in the suction step.
이하, 본 발명의 바람직한 실시의 형태에 대해서 설명한다. 도 1은, 본 실시의 형태에 관련되는 회전 롤의 세정기구가 탑재된 도포 현상 처리 장치 (1)의 구성의 개략을 나타내는 평면도이다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. FIG. 1: is a top view which shows the outline of the structure of the application |
도포 현상 처리 장치 (1)은 도 1에 나타나는 바와 같이 예를 들면 복수의 유 리 기판 (G)를 카셋트 단위로 외부에 대해서 반입출하기 위한 카셋트 스테이션 (2)와 포트리소그래피공정 중에서 매엽식으로 소정의 처리를 가하는 각종 처리 유니트가 배치된 처리 스테이션 (3)과 처리 스테이션 (3)에 인접해 설치되고 처리 스테이션 (3)과 노광 장치 (4)의 사이에 유리 기판 (G)의 수수를 실시하는 인터페이스 스테이션 (5)를 일체로 접속한 구성을 가지고 있다.As shown in Fig. 1, the coating and developing
카셋트 스테이션 (2)에는 카셋트 재치대 (10)이 설치되고 상기 카셋트 재치대 (10)은 복수의 카셋트 (C)를 X방향(도 1안의 상하 방향)으로 일렬로 재치 자유롭게 되어 있다. 카셋트 스테이션 (2)에는 반송로 (11)상을 X방향을 향해 이동 가능한 기판 반송체 (12)가 설치되고 있다. 기판 반송체 (12)는 카셋트 (C)에 수용된 유리 기판 (G)의 배열 방향(Z방향;수직 방향)으로도 이동 자유롭고, X방향으로 배열된 각 카셋트 (C)내의 유리 기판 (G)에 대해서 선택적으로 액세스 할 수 있다.The
기판 반송체 (12)는 Z축 주위의 θ방향으로 회전 가능하고, 후술하는 처리 스테이션 (3)측의 엑시머 UV조사 유니트 (20)이나 제6의 열처리 유니트군 (34)의 각 유니트에 대해서도 액세스 할 수 있다.The
처리 스테이션 (3)은 예를 들면 Y방향(도 1의 좌우 방향)으로 연장하는 2열의 반송 라인 (A, B)를 구비하고 있다. 이 반송 라인 (A, B)에 있어서는 회전자 반송이나 아암에 의한 반송 등에 의해 유리 기판 (G)를 반송할 수 있다. 처리 스테이션 (3)의 정면측인 X방향 부방향측(도 1의 아래 쪽)의 반송 라인 (A)에는 카셋트 스테이션 (2)측으로부터 인터페이스 스테이션 (5) 측에 향하여 차례로 예를 들면 유리 기판 (G)상의 유기물을 제거하는 엑시머 UV조사 유니트 (20), 유리 기판 (G)를 세정하는 스크러버 세정 유니트 (21), 제1의 열처리 유니트군 (22), 제2의 열처리 유니트군 (23), 유리 기판 (G)에 레지스트액을 도포하는 레지스트 도포 처리 유니트 (24), 유리 기판 (G)를 감압 건조하는 감압 건조 유니트 (25) 및 제3의 열처리 유니트군 (26)이 직선적으로 일렬로 배치되고 있다.The processing station 3 is provided with the conveyance lines A and B of 2 rows extended, for example in the Y direction (left-right direction of FIG. 1). In this conveyance line (A, B), glass substrate G can be conveyed by rotor conveyance, conveyance by an arm, etc. In the conveyance line A of the X-direction negative direction side (lower side of FIG. 1) which is the front side of the processing station 3, for example, a glass substrate (from a
제 1 및 제2의 열처리 유니트군 (22, 23)에는 유리 기판 (G)를 가열하는 복수의 가열 처리 유니트와 유리 기판 (G)를 냉각하는 냉각 처리 유니트가 다단으로 적층되고 있다. 제1의 열처리 유니트군 (22)와 제2의 열처리 유니트군 (23)의 사이에는 이 유니트군 (22, 23)간의 유리 기판 (G)의 반송을 실시하는 반송체 (27)이 설치되고 있다. 제3의 열처리 유니트군 (26)에도 동일하게 가열 처리 유니트와 냉각 처리 유니트가 다단으로 적층되고 있다.In the first and second heat
처리 스테이션 (3)의 배후측인 X방향 정방향측(도 1의 윗쪽측)의 반송 라인 (B)에는 인터페이스 스테이션 (5)측으로부터 카셋트 스테이션 (2) 측에 향하여 차례로 예를 들면 제4의 열처리 유니트군 (30), 유리 기판 (G)를 현상 처리하는 현상 처리 유니트 (31), 유리 기판 (G)의 탈색 처리를 실시하는 i선 UV조사 유니트 (32), 제5의 열처리 유니트군 (33) 및 제6의 열처리 유니트군 (34)가 직선 형상으로 일렬로 배치되고 있다.In the conveyance line B of the X direction forward side (upper side of FIG. 1) which is the back side of the processing station 3, for example, 4th heat processing in order from the
제4~ 제6의 열처리 유니트군 (30, 33, 34)에는 각각 가열 처리 유니트와 냉각 처리 유니트가 다단으로 적층되고 있다. 또, 제5의 열처리 유니트군 (33)과 제6의 열처리 유니트군 (34)의 사이에는, 이 유니트군 (33, 34)간의 유리 기판 (G)의 반송을 실시하는 반송체 (40)이 설치되고 있다.In the fourth to sixth heat
반송 라인 (A)의 제3의 열처리 유니트군 (26)과 반송 라인 (B)의 제4의 열처리 유니트군 (30)의 사이에는 이 유니트군 (26, 30)간의 유리 기판 (G)의 반송을 실시하는 반송체 (41)이 설치되고 있다. 이 반송체 (41)은 후술 하는 인터페이스 스테이션 (5)의 익스텐션·쿨링 유니트 (60)에 대해서도 유리 기판 (G)를 반송할 수 있다.Transfer of the glass substrate G between these
반송 라인 (A)와 반송 라인 (B)의 사이에는 Y방향을 따른 직선적인 공간 (50)이 형성되고 있다. 공간 (50)에는 유리 기판 (G)를 재치해 반송 가능한 셔틀 (51)이 설치되고 있다. 셔틀 (51)은 처리 스테이션 (3)의 카셋트 스테이션 (2)측의 단부로부터 인터페이스 스테이션 (5)측의 단부까지 이동 자유롭고, 처리 스테이션 (3)내의 각 반송체 (27, 40, 41)에 대해서 유리 기판 (G)를 주고 받을 수가 있다.Between the conveyance line A and the conveyance line B, the
인터페이스 스테이션 (5)에는 예를 들면 냉각 기능을 갖고 유리 기판 (G)의 수수를 실시하는 익스텐션·쿨링 유니트 (60)과 유리 기판 (G)를 일시적으로 수용하는 버퍼 카셋트 (61)과 외부 장치 블럭 (62)가 설치되고 있다. 외부 장치 블럭 (62)에는 유리 기판 (G)에 생산관리용의 코드를 노광하는 타이틀러와 유리 기판 (G)의 주변부를 노광하는 주변 노광 장치가 설치되고 있다. 인터페이스 스테이션 (5)에는 상기 익스텐션·쿨링유니트 (60), 버퍼 카셋트 (61), 외부 장치 블럭 (62)및 노광 장치 (4)에 대해서 유리 기판 (G)를 반송 가능한 기판 반송체 (63)이 설치되고 있다.The
이 도포 현상 처리 장치 (1)에 있어서는 카셋트 스테이션 (2)로부터 반입된 유리 기판 (G)가 세정 처리, 열처리, 레지스트 도포 처리, 건조 처리등을 차례로 실시하면서 반송 라인 (A)를 통하여 인터페이스 스테이션 (5)에 반송된다. 그리고, 유리 기판 (G)가 인터페이스 스테이션 (5)로부터 노광 장치 (4)에 반송되어 노광 장치 (4)로 노광 처리가 종료한 유리 기판 (G)가 열처리, 현상 처리, 열처리등을 실시하면서, 반송 라인 (B)를 통하여 카셋트 스테이션 (2)에 되돌려진다.In this coating and developing
다음에, 회전 롤의 세정기구를 가지는 레지스트 도포 처리 유니트 (24)에 대해서 설명한다.Next, the resist
레지스트 도포 처리 유니트 (24)에는 예를 들면 도 2 및 도 3에 나타나는 바와 같이 반송 라인 (A)를 따른 Y방향으로 긴 스테이지 (70)이 설치되고 있다. 스테이지 (70)의 상면에는 도 3에 나타나는 바와 같이 다수의 가스 분출구 (71)이 형성되고 있다. 스테이지 (70)의 폭방향(X방향)의 양측에는 Y방향으로 연장하는 한 쌍의 제1의 가이드 레일 (72)가 설치되고 있다. 제1의 가이드 레일 (72)에는 유리 기판 (G)의 폭방향의 단부를 보지해 제1의 가이드 레일 (72)상을 이동하는 한 쌍의 보지 아암 (73)이 각각 설치되고 있다. 가스 분출구 (71)로부터 가스를 분출함으로써, 유리 기판 (G)를 부상시켜, 보지 아암 (73)에 의해 그 부상한 유리 기판 (G)의 양단부를 보지해, 유리 기판 (G)를 반송 라인 (A)를 따라 이동시킬 수가 있다.The resist
레지스트 도포 처리 유니트 (24)의 스테이지 (70)상으로는 유리 기판 (G)에 레지스트액을 토출하는 노즐 (80)이 설치되고 있다. 노즐 (80)은 예를 들면 도 3 및 도 4에 나타나는 바와 같이 X방향을 향해 긴 대략 직방체 형상으로 형성되고 있다. 노즐 (80)은 예를 들면 유리 기판 (G)의 X방향의 폭보다 길게 형성되고 있다. 노즐 (80)의 하단부에는, 도 4에 나타나는 바와 같이 슬릿 형상의 토출구 (80 a)가 형성되고 있다. 노즐 (80)의 상부에는, 레지스트액 공급원 (81)에 통하는 레지스트액공급관 (82)가 접속되고 있다.On the
도 3에 나타나는 바와 같이 노즐 (80)의 양측에는 Y방향으로 연장하는 제2의 가이드 레일 (83)이 형성되고 있다. 노즐 (80)은 제2의 가이드 레일 (83)상을 이동하는 노즐 아암 (84)에 의해 보지되고 있다. 노즐 (80)은 노즐 아암 (84)의 구동 기구에 의해 제2의 가이드 레일 (83)을 따라 Y방향으로 이동할 수 있다. 또, 예를 들면 노즐 아암 (84)에는 승강기구가 설치되고 있고 노즐 (80)은 소정의 높이로 승강할 수 있다. 이것에 의해, 노즐 (80)은 유리 기판 (G)에 레지스트액을 토출하는 토출 위치 (E)와 후술하는 회전 롤 (90) 및 대기부 (91)의 사이를 이동할 수 있다.As shown in FIG. 3, the
도 2 및 도 3에 나타나는 바와 같이 노즐 (80)의 토출 위치 (E)보다 상류측, 즉 노즐 (80)의 토출 위치 (E)의 Y방향 부방향 측에는 노즐 (80)의 시출이 행해지는 회전 롤 (90)이 설치되고 있다. 이 회전 롤 (90)의 최상부에 노즐 (80)의 토출구 (80a)를 근접시켜 회전 롤 (90)을 회전시키면서 레지스트액을 토출하는 것으로, 노즐 (80)의 토출구 (80a)에 있어서의 레지스트액의 부착 상태를 정리하여 레지스트액의 토출 상태를 안정시킬 수가 있다.As shown in FIGS. 2 and 3, a rotation in which the
회전 롤 (90)의 상류 측에는 노즐 (80)의 대기부 (91)이 설치되고 있다. 이 대기부 (91)에는 예를 들면 노즐 (80)을 세정하는 기능이나 노즐 (80)의 건조를 방지하는 기능이 설치되고 있다.The
회전 롤 (90)에는 회전 롤 (90)을 세정하는 세정기구 (100)이 설치되고 있다. 이하, 이 회전 롤 (90)의 세정기구 (100)에 대해서 설명한다.The
회전 롤 (90)은 도 5에 나타나는 바와 같이 반송 라인 (A)의 반송 방향(Y방향 정방향)을 향해 후방주위 (도 5안의 회전 방향 (F))에 회전한다. 회전 롤 (90)의 최상부를 회전의 기점 (P)로 해 회전 롤 (90)이 회전 방향 (F)에 예를 들면 3/4회전한 위치로부터 1회전하는 위치까지의 사이에는 커버체로서의 제1의 블럭 (110)이 설치되고 있다. 제1의 블럭 (110)은 기점 (P)에 대해서 회전 롤 (90)의 예를 들면 270˚~300˚의 구간에 걸쳐서 회전 롤 (90)의 표면을 가리고 있다. 제1의 블럭 (110)은 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 긴 대략 직방체 형상으로 형성되어 도 6에 나타나는 바와 같이 회전 롤 (90)의 긴 방향의 양단부간에 걸쳐서 형성되고 있다. 도 5에 나타나는 바와 같이 제1의 블럭 (110)의 회전 롤 (90)측의 표면 (110 a)는 회전 롤 (90)의 표면을 따라 원호 형상으로 굴곡해 형성되고 있다. 제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)와 회전 롤 (90)의 표면의 사이에는 100 μm~300 μm, 보다 바람직하게는 100μm의 간격 (D)가 형성되고 있다.As shown in FIG. 5, the
제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)에는 레지스트액의 용제등의 세정액을 토출하는 세정액토출구 (111)과 세정액을 흡인하는 흡인구 (112)가 형성되고 있다. 흡인구 (112)는 세정액토출구 (111)에서 회전 방향 (F)측 즉 윗쪽 측에 형성되고 있다. 세정액토출구 (111)은 예를 들면 도 7에 나타나는 바와 같이 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 일렬로 복수 나열하여 형성되고 있다. 흡인구 (112)는 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 슬릿 형상으로 형성되고 있다.On the
세정액토출구 (111)은 도 5에 나타나는 바와 같이 제1의 블럭 (110)내에 형성된 유로 (120)과 그 유로 (120)에 접속된 배관 (121)에 의해 세정액공급 장치 (122)에 접속되고 있다. 이 세정액공급 장치 (122)로부터의 세정액의 공급에 의해, 세정액토출구 (111)로부터 회전 롤 (90)과 제1의 블럭 (110)의 사이의 간격 (D)에 세정액을 토출할 수 있다.As shown in FIG. 5, the cleaning
흡인구 (112)는 제1의 블럭 (110)내에 형성된 유로 (123)과 그 유로 (123)에 접속된 배관 (124)에 의해, 진공 펌프등의 흡인 장치 (125)에 접속되고 있다. 흡인 장치 (125)에 의한 진공흡인에 의해, 흡인구 (112)로부터 회전 롤 (90)의 표면의 세정액을 흡인해 제거할 수 있다.The
제1의 블럭 (110)과 회전 롤 (90)의 최상부의 사이에는, 제2의 블럭 (130)이 설치되고 있다. 제2의 블럭 (130)은 제1의 블럭 (110)과 동일하게 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 긴 대략 직방체 형상을 갖고, 도 6에 나타나는 바와 같이 회전 롤 (90)의 긴 방향의 양단부 사이에 걸쳐서 형성되고 있다. 도 5에 나타나는 바와 같이 제2의 블럭 (130)의 회전 롤 (90)측의 표면 (130a)는 회전 롤 (90)의 표면을 따라 원호형상으로 굴곡해 형성되고 있다. 예를 들면 제2의 블럭 (130)의 표면 (130a)와 회전 롤 (90)의 표면의 사이에는 1 mm 이하, 더욱 바람직하게는 300μm의 간격 (D)가 형성되고 있다.The
제2의 블럭 (130)의 표면 (130a)에는 회전 롤 (90)의 표면을 건조시키기 위한 배기구 (131)이 형성되고 있다. 배기구 (131)은 도 8에 나타나는 바와 같이 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 슬릿 형상으로 형성되고 있다.The
배기구 (131)은 도 5에 나타나는 바와 같이 예를 들면 제2의 블럭 (130)내에 형성된 유로 (132)와 그 유로 (132)에 접속된 배기관 (133)에 의해 진공 펌프등의 부압발생 장치 (134)에 접속되고 있다. 부압발생 장치 (134)에 의해 배기구 (131)로부터 회전 롤 (90)의 표면의 환경을 강제적으로 배기해 회전 롤 (90)의 표면을 건조시킬 수가 있다.As illustrated in FIG. 5, the
기점 (P)로부터 회전 롤 (90)이 회전 방향 (F)에 예를 들면 1/2 회전한 위치로부터 3/4 회전하는 위치까지의 사이에는 체류 부재로서의 제3의 블럭 (140)이 설치되고 있다. 제3의 블럭 (140)은 회전 롤 (90)의 예를 들면 180˚~240˚의 구간에 걸쳐서 회전 롤 (90)의 Y방향 정방향측의 하부를 가리도록 형성되고 있다. 제3의 블럭 (140)은 예를 들면 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 긴 길고 가는형상으로 형성되어 도 6에 나타난 바와 같이 회전롤 (90)의 양단부간에 걸쳐 형성되고 있다.A
도 5에 나타나는 바와 같이 제3의 블럭 (140)의 회전 롤 (90)측의 표면 (140 a)에는 회전 롤 (90)의 표면을 따라 떨어지는 세정액을 체류시키는 체류부 (141)과 그 체류부 (141)의 세정액을 회전 롤 (90)의 최하부에 유도하는 세정액유도부 (142)가 형성되고 있다. 체류부 (141)은 표면 (140a)의 상부에 형성되어 아래에 볼록한 굴곡 형상으로 형성되고 있다. 세정액유도부 (142)는 회전 롤 (90)의 표면을 따라 체류부 (141)로부터 회전 롤 (90)의 최하부까지의 회전 롤 (90)의 표면을 가리도록 원호 형상으로 굴곡하고 있다. 세정액유도부 (142)와 회전 롤의 표면의 사이에는 예를 들면 제1의 블럭 (110)과 동일하게 100μm~300μm, 더욱 바람직하게는 100μm의 간격 (D)가 형성되고 있다.As shown in FIG. 5, the
예를 들면 회전 롤 (90)의 최하부를 끼운 제3의 블럭 (140)의 반대측의 위치에는 제4의 블럭 (150)이 설치되고 있다. 제4의 블럭 (150)은 회전 롤 (90)의 Y방 향 부방향측의 하부 부근을 덮도록 형성되고 있다. 제4의 블럭 (150)의 표면 (150a)는 제3의 블럭 (140)의 세정액유도부 (142)와 동일하게 회전 롤 (90)과의 사이에 일정한 간격 (D)가 생기도록 원호 형상으로 형성되고 있다. 또한 제4의 블럭 (150)과 제3의 블럭 (140)은 일체적으로 형성되고 있어도 괜찮다.For example, the
제3의 블럭 (140)과 제4의 블럭 (150)의 사이에는 세정액의 배출구 (160)이 슬릿 형상으로 형성되고 있다. 이 배출구 (160)은 배관 (161)를 통해서 진공 펌프등의 흡인 장치 (162)에 접속되고 있다. 이 흡인 장치 (162)에 의한 진공 흡인에 의해, 회전 롤 (90)과 제3의 블럭 (140)의 사이 혹은 회전 롤 (90)과 제4의 블럭 (150)의 사이의 세정액을 배출구 (160)으로부터 흡인해 배출할 수 있다.Between the
예를 들면 제3의 블럭 (140)과 제4의 블럭 (150)의 아래쪽에는 드레인 팬 (170)이 설치되고 있다. 이 드레인 팬 (170)에 의해, 예를 들면 제3의 블럭 (140)이나 제4의 블럭 (150)으로부터 샌 세정액을 받아 회수할 수가 있다. 드레인 팬 (170)에는, 배액관 (171)이 접속되고 있어 드레인 팬 (170)에 모인 세정액을 배출할 수 있다.For example, the
또한 세정액공급 장치 (122), 흡인 장치 (125, 162), 부압발생 장치 (134)등의 동작의 제어는 제어부 (180)에 의해 행해지고 있고 세정액토출구 (111)으로부터의 세정액의 토출의 타이밍이나 토출압, 흡인구 (112)나 배출구 (160)으로부터의 흡인의 타이밍이나 흡인압, 배기구 (131)으로부터의 배기의 타이밍이나 배기압 등은 제어부 (180)에 의해 제어되고 있다.In addition, the control of the operations of the cleaning
다음에, 이상과 같이 구성된 회전 롤 (90)의 세정기구 (100)의 동작을 유리 기판 (G)의 레지스트 도포 처리의 프로세스와 함께 설명한다.Next, the operation | movement of the washing |
먼저, 도 2에 나타나는 바와 같이 노즐 (80)이 대기부 (91)으로부터 회전 롤 (90)상으로 이동해, 노즐 (80)의 토출구 (80a)가 회전 롤 (90)의 최상부에 근접된다. 회전 롤 (90)은 예를 들면 표면 속도가 30~50 mm/s정도의 제1의 속도로 회전 방향 (F)로 회전되어 노즐 (80)의 토출구 (80a)로부터 회전 롤 (90)의 표면에 레지스트액이 토출되어 레지스트액의 시출이 행해진다. 이렇게 해, 토출구 (80a)에 있어서의 레지스트액의 부착 상태가 정돈되어 노즐 (80)의 토출 상태가 안정된다. 또한 이 시출시에는, 세정액토출구 (111)으로부터의 세정액의 토출, 흡인구 (112), 배출구 (160)으로부터의 흡인, 배기구 (131)으로부터의 배기가 어느쪽도 정지되고 있다.First, as shown in FIG. 2, the
노즐 (80)의 토출구 (80a)에 있어서의 레지스트액의 부착 상태가 정돈된 후, 노즐 (80)의 토출이 정지되어 노즐 (80)이 소정의 토출 위치 (E)로 이동한다. 노즐 (80)이 토출 위치 (E)로 이동한 후, 유리 기판 (G)가 레지스트 도포 처리 유니트 (24)의 스테이지 (70)상을 반송 라인 (A)를 따라 이동된다. 유리 기판 (G)가 노즐 (80)의 하부를 통과할 때에, 노즐 (80)으로부터 레지스트액이 토출되어 유리 기판 (G)의 표면의 전면에 레지스트액이 도포된다.After the adhesion state of the resist liquid in the
한편, 노즐 (80)이 회전 롤 (90)의 최상부로부터 토출 위치 (E) 로 이동한 후, 회전 롤 (90)의 세정이 개시된다. 먼저, 회전 롤 (90)이 시출시의 제1의 속도보다 늦은, 예를 들면 표면 속도가 10~30 mm/s정도( 제1의 속도의 약 0.5배 정도)의 제2의 속도로 회전된다. 이 때, 도 9에 나타나는 바와 같이 세정액토출구 (111) 으로부터 회전 롤 (90)과 제1의 블럭 (110)의 간격 (D)에 레지스트액의 용제인 세정가 토출된다. 토출된 세정액 (H)는 가까운 거리에 있는 회전 롤 (90)의 표면에 고압으로 충돌해 협소의 간격 (D)내에서 높은 압력을 유지한 채로 회전 롤 (90)의 표면을 따라 흐른다. 이 세정액 (H)의 흐름에 의해 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 제거된다. 그리고, 세정액 (H)는 회전 롤 (90)이 더러움을 제거하면서, 회전 롤 (90)의 표면을 타고 더 낙하해, 제3의 블럭 (140)의 체류부 (141)으로 일시적으로 체류된다. 이 체류부 (141)에서는 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 세정액 (H)에 용해해 여기에서도 회전 롤 (90)의 표면의 더러움이 제거된다. 체류부 (141)의 세정액 (H)는 이어서 제3의 블럭 (140)의 세정액유도부 (142)에 유입하고 회전 롤 (90)의 표면과 제3의 블럭 (140)의 간격 (D)를 통하여 배출구 (160)으로부터 배출된다.On the other hand, after the
이 세정액 (H)를 토출하는 세정 공정에서는 회전 롤 (90)이 예를 들면 2회 정도 회전된다. 그 후, 세정액토출구 (111)에 의한 세정액 (H)의 토출이 정지되어 흡인구 (112) 및 배출구 (160)으로부터의 흡인과 배기구 (131)으로부터의 배기를 한다. 이 때, 회전 롤 (90)의 회전은 시출시의 제1의 속도와 세정액 토출시의 제2의 속도보다 빠르다, 예를 들면 표면 속도가 40~60 mm/s정도( 제1의 속도의 약 1. 25배 정도)의 제3의 속도로 행해진다. 회전 롤 (90)의 표면에 부착한 세정액 (H)는 도 10에 나타나는바와 같이 세정액토출구 (111)의 회전 방향 (F)측에 있는 흡인구 (112)에 의해 흡인되고 제거된다. 또, 한층 더 회전 방향 (F)측에 있는 배기구 (131)에 의해 회전 롤 (90)의 표면의 환경이 강제 배기되어 회전 롤 (90)의 표면이 건조된다. 또, 회전 롤 (90)의 최하부에 있어서도, 배출구 (160)에 의해 흡인되어 회전 롤 (90)에 표면에 부착하고 있는 세정액 (H)가 제거된다. 이렇게 해, 회전 롤 (90)의 표면이 완전하게 건조되면, 흡인구 (112), 배출구 (160)으로부터의 흡인과 배기구 (131)으로부터의 배기가 정지되어 회전 롤 (90)의 건조 공정이 종료한다.In the washing | cleaning process which discharges this washing | cleaning liquid H, the
이상의 실시의 형태에 의하면, 제1의 블럭 (110)에 의해 회전 롤 (90)의 표면과의 사이에 협소한 간격 (D)를 형성해, 그 간격 (D)에 세정액토출구 (111)으로부터 세정액 (H)를 토출하도록 했으므로, 세정액 (H)가 가까운 거리로부터 회전 롤 (H)의 표면에 충돌해 그 세정액 (H)가 간격 (D)내를 고압의 상태로 회전 롤 (90)의 표면을 따라 흐르므로 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 효과적으로 세정된다. 세정액 (H)가 회전 롤 (90)의 표면에만 공급될 뿐이므로, 종래와 같이 탱크에 세정액을 저장하는 경우에 비해 세정액 (H)의 소비량을 비약적으로 저감 할 수 있다.According to the above embodiment, the
회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)의 3/4회전~1회전까지의 사이에 세정액토출구 (111)을 설치했으므로, 세정액토출구 (111)으로부터 토출된 세정액 (H)는 회전 롤 (90)의 표면을 회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)와 역방향으로 흘러 떨어진다. 이 결과, 회전 롤 (90)의 표면에 대한 세정액 (H)의 상대속도가 증가하여 세정액 (H)에 의한 세정 능력을 향상할 수가 있다.Since the washing | cleaning
또, 제3의 블럭 (140)에 의해 체류부 (141)을 형성했으므로, 체류부 (141)의 세정액 (H)를 일단 체류시켜 그 체류부 (141)에 있어서 레지스트액을 세정액 (H)로용해시킬 수가 있다. 이것에 의해, 회전 롤 (90)의 세정을 한층 더 효과적으로 실시할 수가 있다.Moreover, since the
제3의 블럭 (140)의 체류부 (141)의 하부에 세정액유도부 (142)를 형성했으므로 회전 롤 (90)의 표면의 협소한 간격 (D)에 세정액 (H)를 흘려 여기에서도 세정액 (H)에 의해 회전 롤 (90)의 표면의 세정을 실시할 수가 있다.Since the cleaning
세정액유도부 (142)가 회전 롤 (90)의 최하부까지 형성되어 그 회전 롤 (90)의 최하부에 배출구 (160)이 형성되고 있으므로, 회전 롤 (90)의 표면을 세정한 세정액 (H)를 적정하게 배출할 수 있다.Since the cleaning
세정액토출구 (111)의 윗쪽 측에는 흡인구 (112)가 설치되었으므로 건조시에는 회전 롤 (90)의 표면의 세정액 (H)를 흡인 제거할 수 있다. 또, 흡인구 (112)의 한층 더 윗쪽 측에는 배기구 (131)이 설치되었으므로 세정액 (H)가 제거된 후에 회전 롤 (90)의 표면의 환경을 배기해 회전 롤 (90)의 표면을 건조시킬 수가 있다.Since the
또, 배출구 (160)에 흡인 장치 (162)가 접속되고 있으므로 세정액유도부 (142) 등에 남는 세정액 (H)를 확실히 배출할 수가 있다.In addition, since the
이상의 실시의 형태에 있어서 세정 공정의 회전 롤 (90)의 회전 속도보다 건조 공정의 회전 롤 (90)의 회전 속도쪽이 높아지도록 했으므로 세정 공정시에는, 회전 롤 (90)의 표면에 충분한 양의 세정액 (H)를 공급하고 건조 공정시에는 회전 롤 (90)의 표면에 부착한 세정액 (H)를 윗쪽의 흡인구 (112)까지 확실히 운반하여 배출할 수가 있다.In the above embodiment, since the rotational speed of the
이상의 실시의 형태로 기재한 세정액토출구 (111)은 제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)에 일렬로 형성되고 있지만, 도 11에 나타나는바와 같이 상하 2열로 형성되어 긴 방향을 향해 각 열의 세정액토출구 (111)이 서로 지그재그 형상으로 배치 되어도 괜찮다. 이렇게 하는 것으로, 회전 롤 (90)의 표면에 세정액 (H)가 얼룩 없이 토출되어 회전 롤 (90)의 세정의 보다 효과적으로 행해진다.Although the cleaning
또, 세정액토출구 (111)은 도 12에 나타나는 바와 같이 제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)에 예를 들면 회전 롤 (90)보다 긴 슬릿 형상으로 형성되고 있어도 괜찮다. 이 경우, 예를 들면 세정액토출구 (111)의 폭은, O.1mm 정도로 설정된다.Moreover, the cleaning
이상의 실시의 형태로 기재한 세정액토출구 (111)과 흡인구 (112)는 동일한제1의 블럭 (110)에 설치되고 있지만, 다른 블럭에 설치되고 있어도 괜찮다. 또, 세정액토출구 (111), 흡인구 (112) 및 배기구 (131)이 동일한 블럭에 설치되고 있어도 괜찮다.Although the cleaning
또, 도 13에 나타나는 바와 같이 제2의 블럭 (130)의 표면 (130a)에는 평행하게 나열하는 2열의 슬릿 형상의 배기구 (131)이 형성되고 있어도 괜찮다. 이 경우, 예를 들면 배기구 (131)의 폭은 1 mm 정도로 설정된다. 2열의 배기구 (131)의 각각의 스타일로 (132)는 제2의 블럭 (130)의 내부에서 합류해 같은 배기관 (133)에 접속되고 있다.As shown in FIG. 13, two rows of slit-shaped
이상의 실시의 형태로 기재한 배출구 (160)은 흡인에 의해 세정액 (H)를 제거하고 있지만 흡인하지 않고 자연 낙하에 의해 세정액 (H)를 배출해도 괜찮다.·The
이상의 실시의 형태에서는 세정액토출구 (111)을 회전 롤 (90)이 3/4 회전한 위치로부터 1회 회전하는 위치까지의 사이에 설치하고 있지만, 회전 롤 (90)이 1/4회전한 위치로부터 1/2회전하는 위치까지의 사이와 회전 롤 (90)이 1/2 회전한 위치로부터 3/4 회전하는 위치까지의 사이에 설치해도 좋다. 이하, 관련된 경우의 일 례를 도 14를 이용해 설명한다.In the above embodiment, the cleaning
회전 롤 (90)의 하부 측에는 그 회전 롤 (90)의 하부측의 표면을 덮는 커버체로서의 플레이트 (200)이 설치된다. 플레이트 (200)은 최상부를 기점 (P)로서 회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)의 120˚정도에서 240˚정도까지의 구간을 덮도록 형성되고 있다. 플레이트 (200)은 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 길고 가늘게 형성되어 회전 롤 (90)의 긴 방향의 양단부 사이에 걸쳐서 형성되고 있다. 플레이트 (200)은 회전 롤 (90)의 표면 형상을 따라 원호 형상으로 형성되고 있다. 플레이트 (200)과 회전 롤 (90)의 표면의 사이에는 상기 실시의 형태와 동일하게 100μm~300μm, 더욱 바람직하게는 100μm의 간격 (D)가 형성되고 있다.On the lower side of the
플레이트 (200)의 중앙부 으로서, 회전 롤 (90)의 최하부에 대향하는 위치에는 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따른 슬릿 형상의 배출구 (201)이 형성되고 있다. 플레이트 (200)의 배출구 (201)의 양측에는, 각각 세정액토출구 (202,203)이 형성되고 있다. 세정액토출구 (202,203)은, 배출구 (201)으로부터 예를 들면 30˚정도 떨어진 동일거리의 위치에 형성되고 있다. 세정액토출구 (202,203)은 예를 들면 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따른 슬릿 형상으로 형성되고 있다.As a center part of the
세정액토출구(202,203)은 각 공급관 (210)에 의해 세정액공급 장치 (211)에 접속되고 있다. 이 세정액공급 장치 (211)로부터의 세정액의 공급에 의해 세정액토출구 (202,203)으로부터 회전 롤 (90)과 플레이트 (200) 사이의 간격 (D)에 세정액을 토출할 수 있다.The cleaning
배출구 (201)은 배관 (220)에 의해 진공 펌프등의 흡인 장치 (221)에 접속되 고 있다. 흡인 장치 (221)에 의한 진공 흡인에 의해 흡인구 (201)으로부터 회전 롤 (90)의 표면의 세정액을 흡인해 제거할 수 있다.The
플레이트 (200)의 하부에는, 상기 실시의 형태와 동일하게 배액관 (230)을 가지는 드레인 관 (231)이 설치되고 있다.In the lower part of the
그리고, 회전 롤 (90)을 세정할 때에는 회전 롤 (90)이 상술의 제2의 속도로 회전된 상태로 세정액토출구(202,203)으로부터 회전 롤 (90)의 표면으로 향해 세정액 (H)가 토출되어 플레이트 (200)과 회전 롤 (90)의 간격 (D)에 세정액 (H)가 공급된다. 이 때, 예를 들면 배출구 (201)으로부터 흡인을 해 간격 (D)에 공급된 세정액 (H)는 회전 롤 (90)의 최하부에 위치하는 배출구 (201)으로부터 배출된다. 이 상태로 예를 들면 회전 롤 (90)이 2 회전 정도된 후, 세정액토출구(202,203)으로부터의 세정액 (H)의 토출이 정지된다. 그 후, 예를 들면 회전 롤 (90)의 회전 속도가 제2의 속도로부터 상술의 제3의 속도에 거론되어 배출구 (201)으로부터의 흡인에 의해, 플레이트 (200)과 회전 롤 (90)과의 간격 (D)의 세정액 (H)가 흡인 제거되어 회전 롤 (90)의 표면이 건조된다.When the
이 실시의 형태에 있어서도 협소한 간격 (D)에 세정액 (H)가 토출되어 고압의 수류에 의해 회전 롤 (90)의 더러움이 제거되므로, 회전 롤 (90)의 세정이 효과적으로 행해진다. 또, 협소한 간격 (D)에 세정액 (H)를 공급할 뿐이므로, 세정액 (H)의 소비량을 비약적으로 저감 할 수 있다.Also in this embodiment, since the washing | cleaning liquid H is discharged in the narrow space | interval D, and the dirt of the
또, 배출구 (201)을 사이에 둔 양측으로 세정액토출구(202,203)이 설치되었으므로, 회전 방향 (F)에 대해서 뒤측의 세정액토출구 (202)로부터 배출구 (201)을 향해 회전 롤 (90)의 회전 방향 (F)와 동일한 방향으로 세정액 (H)가 흐른다. 이 동안 회전 롤 (90)의 표면에 부착한 레지스트액을 세정액 (H)로 용해시킬 수가 있다. 또, 회전 방향 (F)에 대해서 전방측의 세정액토출구 (203)으로부터 배출구 (201)을 향해 회전 롤 (90)과 역회전의 방향으로 세정액 (H)가 흐르므로, 세정액 (H)와 회전 롤 (90)의 상대속도가 증대해 세정액 (H)가 회전 롤 (90)의 레지스트액을 강제적으로 제거할 수가 있다.In addition, since the cleaning
배출구 (201)에는 흡인 장치 (221)이 접속되고 있으므로, 플레이트 (200)에 남는 세정액 (H)를 확실히 배출할 수가 있다.Since the
또, 배출구 (201)을 회전 롤 (90)의 최하부의 위치에 설치했으므로 플레이트 (200)상의 세정액 (H)를 배출하기 쉽다. 또한 상기 실시의 형태에서는 배출구 (201)이 진공 흡인되고 있었지만 자연 낙하에 의해 세정액 (H)를 배출해도 괜찮다.Moreover, since the
이상의 실시의 형태에 있어서 플레이트 (200)의 회전 방향 (F)측에, 회전 롤 (90)의 표면의 세정액을 흡인 제거하는 흡인구를 설치해도 좋다. 예를 들면 도 15에 나타나는 바와 같이 예를 들면 플레이트 (200)의 회전 방향 (F)측에, 상술의 실시의 형태와 같은 제1의 블럭 (110)가 설치된다. 이 제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)에 흡인구 (240)이 형성된다. 흡인구 (240)은 제1의 블럭 (110)내에 형성된 유로 (241)과 그 유로 (241)에 접속된 배관 (242)에 의해, 진공 펌프등의 흡인 장치 (243)에 접속되고 있다. 그리고, 회전 롤 (90)의 건조시에는 상술한 배출구 (201)으로부터의 배출에 아울러 흡인구 (240)으로부터의 흡인에 의해도 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 제거된다. 이렇게 하는 것으로, 회전 롤 (90)의 회전 에 의해 플레이트 (200)의 외측으로 운반되어진 세정액 (H)도 적정하게 제거할 수 있다.In the above embodiment, you may provide the suction port which suction-removes the washing | cleaning liquid of the surface of the
또, 플레이트 (200)을 구비한 상술의 실시의 형태에 있어서, 회전 롤 (90)의 표면을 건조시키는 배기구를 설치해도 좋다. 예를 들면, 도 15에 나타내는 상기예 에 있어서, 흡인구 (240)의 한층 더 회전 방향 (F)측에 상술한 실시의 형태와 동일한 제2의 블럭 (130)이 설치된다. 제2의 블럭 (130)의 표면 (130a)에 배기구 (250)이 형성된다. 배기구 (250)은 제2의 블럭 (130)내에 형성된 유로 (251)과 유로 (251)에 접속된 배관 (252)에 의해 부압발생 장치 (253)에 접속되고 있다. 그리고, 세정 후의 건조시에는 배기구 (250)으로부터 회전 롤 (90)의 표면의 환경을 배기하는 것으로써 회전 롤 (90)의 표면의 건조를 촉진할 수 있다. 이것에 의해 회전 롤 (90)의 건조를 보다 확실히 실시할 수가 있다.Moreover, in the above-mentioned embodiment provided with the
이상의 실시의 형태에서는 제1의 블럭 (110)의 표면 (110a)에는 흡인구 (112)가 형성되고 있지만 도 16에 나타나는 바와 같이 한층 더 동일한 표면 (110a)에 세정액을 흡인하는 흡인구 (301)을 형성해도 좋다.In the above embodiment, although the
흡인구 (301)은 흡인구 (112)의 회전 방향 (F)측 즉 윗쪽측의 표면 (110a)에 형성되고 있다. 흡인구 (301)의 형상은 흡인구 (112)와 동일하게 회전 롤 (90)의 긴 방향을 따라 슬릿 형상이 되고 있다.The
흡인구 (301)은 제1의 블럭(110) 내에 형성된 유로 (302)와 그 유로 (302)에 접속된 배관 (303)에 의해, 흡인 장치 (304)에 접속되고 있다. 흡인 장치 (304)에 의한 진공 흡인에 의해 흡인구 (301)으로부터 회전 롤 (90)의 표면의 세정액을 흡인해 제거할 수 있다. 따라서 흡인 장치 (304)와 흡인 장치 (125)를 동시에 가동시키는 것에 의해, 흡인구 (301)과 흡인구 (112)의 2 곳으로부터 한 번에 다량의 세정액을 흡인할 수가 있다.The
또 흡인구 (301)의 회전 방향 (F)측의 표면 (110a)에 선단 (305a)를 기울기 아래쪽으로 향해 성형하고, 세정액 (H)를 일시적으로 체류시키는 체류부 (305)를 형성해도 좋다. 이 체류부 (305)에서는 세정액토출구 (111)으로부터 토출된 세정액 (H)의 일부가, 회전 롤 (90)의 표면을 따라 올라 일시적으로 체류된다. 그리고, 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 세정액 (H)에 용해해, 체류부 (305)에서도 회전 롤 (90)의 표면의 더러움이 제거된다.Further, the
이상과 같이 구성되는 세정기구 (100)을 이용해 다음에 설명하는 방법으로 회전 롤 (90)을 세정해도 괜찮다. 도 17은 회전 롤 (90)의 원주상의 동점 (S)의 수직 방향 위치의 경시 변화와 동점 (S)의 수직 방향 위치에 대응해 세정액토출구 (111)으로부터 세정액 (H)를 토출하는 타이밍, 흡인구 (301), 흡인구 (112) 및 배출구 (160)으로부터 세정액 (H)를 흡인하는 타이밍 및 배기구 (131)으로부터 배기하는 타이밍을 나타낸 설명도이다.You may wash the
노즐 (80)이 회전 롤 (90)상으로 이동한 후, 회전 롤 (90)은 예를 들면 표면 속도가 30~50 mm/s의 속도로 회전 방향 (F)로 회전된다. 그리고 회전 롤 (90)이 예를 들면 반주 회전하는 동안, 즉 회전 롤 (90)의 표면상의 동점 (S)가 회전 롤 (90)의 최상부로부터 최하부로 이동하는 동안(도 17의 R공정), 노즐 (80)으로부터 회전 롤 (90)의 표면에 레지스트액의 시출이 행해진다. 이 레지스트액의 시출이 종 료하면 회전 롤 (90)의 세정이 개시된다.After the
먼저 동점 (S)가 회전 롤 (90)의 최하부에 이른 후, 세정액토출구 (111)으로부터 회전 롤 (90)과 제1의 블럭 (110)의 간격 (D)에 세정액 (H)가 토출된다. 이 때 회전 롤 (90)이 레지스트액의 시출시의 속도보다 늦고, 예를 들면 표면 속도 1 0~30 mm/s로 회전된다. 토출된 세정액 (H)는 회전 롤 (90)의 표면을 따라 흐른다. 이 세정액 (H)의 흐름에 의해 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액이 제거된다. 그리고 동점 (S)가 흡인구 (301)을 통과했을 때 세정액토출구 (111)으로부터의 세정액 (H)의 토출을 멈춘다(도 17의 T1공정).First, the tie point S reaches the lowermost part of the
동점 (S)가 흡인구 (301)을 통과하면 흡인구 (301), 흡인구 (112) 및 배출구 (160)으로부터 세정액 (H)가 흡인된다. 그리고 동점 (S)가 다시 회전 롤 (90)의 최하부에 이르렀을 때에 이 세정액 (H)의 흡인을 멈춘다 (도 17의 T2공정).When the tie point S passes through the
그 후, T1 공정에 있어서의 세정액 (H)의 토출과 T2 공정에 있어서의 세정액 (H)의 흡인과 같은 공정으로 세정액 (H)의 토출(도 17의 T3공정)과 세정액 (H)의 흡인(도 17의 T4공정)을 한다.Subsequently, the discharge of the cleaning liquid H (step T3 in FIG. 17) and the cleaning liquid H are performed in the same process as the discharge of the cleaning liquid H in the T1 process and the suction of the cleaning liquid H in the T2 process. (T4 process in FIG. 17) is performed.
이와 같이 T1~T4공정을 해 동점 (S)가 회전 롤 (90)의 최하부에 이르렀을 때 세정액토출구 (111)으로부터 세정액 (H)가 토출된다. 그리고 동점 (S)가 일주 해 다시 회전 롤 (90)의 최하부에 이르렀을 때에 세정액 (H)의 토출을 멈춘다 (도 17의 T5공정).In this way, the cleaning liquid H is discharged from the cleaning
이상의 T1~T5공정의 종료하면 흡인구 (301), 흡인구 (112) 및 배출구 (160)으로부터의 세정액 (H)의 흡인과 배기구 (131)으로부터의 배기가 동시에 행해진다. 이 때, 회전 롤 (90)의 회전은 시출시(R공정)의 속도와 세정액 (H)의 토출·흡인시(T1~T5공정)의 속도보다 빠르다, 예를 들면 표면 속도가 40~60 mm/s의 속도로 행해진다. 회전 롤 (90)의 표면에 부착한 세정액 (H)는 흡인구 (301), 흡인구 (112) 및 배출구 (160)에 의해 제거되어 한층 더 배기구 (131)에 의해 회전 롤 (90)의 표면의 환경이 강제 배기되어 회전 롤 (90)의 표면이 건조된다(도 17의 E공정).When the above steps T1 to T5 are completed, suction of the cleaning liquid H from the
발명자들의 지견에 의하면 이상의 회전 롤 (90)의 세정 방법으로 나타나는 바와 같이 세정액 (H)의 토출과 흡인이 교대로 행해지고(T1~T5공정) 간헐적으로 세정액 (H)를 토출한 경우에서도 회전 롤 (90)의 표면에 부착한 레지스트액을 충분히 세정할 수가 있다. 그리고 세정액 (H)의 토출이 간헐적이므로, 회전 롤 (90)의 표면의 레지스트액을 효율적으로 세정할 수가 있어 회전 롤 (90)의 세정에 사용되는 세정액 (H)의 소비량을 비약적으로 저감 할 수가 있다. 예를 들면, 세정액 (H)를 연속해 토출하는 회전 롤 (90)을 세정하는 경우, 1회의 세정에 사용하는 세정액 (H)의 소비량은 300 ml이었지만 본 세정 방법과 같이 세정액 (H)를 간헐적으로 토출하는 것에 의해 세정액 (H)의 소비량을 67 ml에 억제할 수가 있었다.According to the findings of the inventors, even when the cleaning liquid H is discharged and sucked alternately (T1 to T5 processes) and the cleaning liquid H is discharged intermittently, as shown by the above cleaning method of the
이상, 첨부 도면을 참조하면서 본 발명의 매우 적합한 실시의 형태에 대해서 설명했지만, 본 발명에 관련되는 예로 한정되지 않는다. 당업자라면 특허 청구의 범위에 기재된 사상의 범주내 에 있어서, 각종의 변경예 또는 수정예에 상도할 수 있는 것은 분명하고, 그들에 대해서도 당연히 본 발명의 기술적 범위에 속하는 것으로 이해된다. 예를 들면 이상의 실시의 형태로 기재한 세정액토출구 (111)과 제1의 블럭 (110)이나, 세정액토출구 (202,203)과 플레이트 (200)은 회전 롤 (90)의 표면상의 다른 위치에 설치해도 좋다. 또, 제1~ 제4의 블럭 (110, 130, 140, 150)이나, 플레이트 (200)등의 형상은 다른 형상으로서도 좋다. 상기 실시의 형태에서는 본 발명을 레지스트액의 시출이 행해지는 회전 롤의 세정에 대해서 적용하고 있었지만 현상액등의 다른 도포액의 시출이 행해지는 회전 롤의 세정에 적용해도 괜찮다. 또, 세정액 (H)도 용제에 한정되지 않고 순수한 물 등 다른 액체로서도 좋다. 본 발명은 유리 기판 (G) 이외의 FPD(플랫 패널 디스플레이)나 포토마스크용의 마스크에틸클, 반도체 웨이퍼 등의 다른 기판에 도포액을 도포하는 경우에도 적용할 수 있다.As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, it is not limited to the example which concerns on this invention. It is apparent to those skilled in the art that various changes or modifications can be conceived within the scope of the idea described in the claims, and that they naturally belong to the technical scope of the present invention. For example, the cleaning
본 발명은 회전 롤을 세정하는 세정액의 소비량을 저감 할 때에 유용하다. This invention is useful when reducing the consumption amount of the washing | cleaning liquid which wash | cleans a rotary roll.
본 발명에 세정액의 소비량을 저감 하고 도포 처리 유니트의 런닝 코스트를 저감 할 수 있다.In the present invention, the consumption of the cleaning liquid can be reduced, and the running cost of the coating processing unit can be reduced.
Claims (22)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2005-00332111 | 2005-11-16 | ||
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160016114A (en) * | 2014-08-04 | 2016-02-15 | 주식회사 포스코 | Apparatus for cleaning roller and looper utility having the same |
Citations (1)
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| JP2004167476A (en) * | 2002-11-07 | 2004-06-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Spare discharge device of slit coater |
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2006
- 2006-11-16 KR KR1020060113115A patent/KR101264937B1/en not_active IP Right Cessation
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|---|---|---|---|---|
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| KR20160016114A (en) * | 2014-08-04 | 2016-02-15 | 주식회사 포스코 | Apparatus for cleaning roller and looper utility having the same |
| KR101602851B1 (en) * | 2014-08-04 | 2016-03-11 | 주식회사 포스코 | Apparatus for cleaning roller and looper utility having the same |
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