KR101146863B1 - 화염 가수분해에 의해 제조된 규소-티탄 혼합 산화물 분말 - Google Patents

화염 가수분해에 의해 제조된 규소-티탄 혼합 산화물 분말 Download PDF

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Abstract

무정형 규소 디옥사이드, 결정성 티탄 디옥사이드 또는 무정형 규소 디옥사이드 분획 및 결정성 티탄 디옥사이드 분획을 갖는 규소-티탄 혼합 산화물로 이루어지는 일차 입자의 응집물로 이루어진(여기서 규소-티탄 혼합 산화물 일차 입자가 우세함) 화염 가수분해에 의해 제조된 규소-티탄 혼합 산화물 분말로서, 분말은 20 내지 200 ㎡/g의 BET 표면적, 10 중량% 초과 70 중량% 미만의 티탄 디옥사이드 분획을 나타내고, X-선 회절사진은 루틸(rutile) 및 아나타제(anatase)의 회절 패턴을 나타내며, 여기서 루틸/아나타제비는 2:98 내지 98:2이다.
이는 규소 할라이드 및 티탄 할라이드를 180℃ 미만의 온도에서 기화시키고, 제2 공기가 공급되며 대기와는 차단된 반응 챔버 중에서 수소 및 제1 공기로 연소를 수행하고, 기체상 물질로부터 고체를 분리하고, 이어서 할라이드 함유 물질을 고체로부터 가능한 많이 250 내지 700℃의 온도에서 증기로 처리하는 것에 의해 제거하는 것에 의해 제조된다.
상기 분말은 토너에 사용될 수 있다.
규소-티탄 혼합 산화물 분말, 화염 가수분해

Description

화염 가수분해에 의해 제조된 규소-티탄 혼합 산화물 분말{Silicon-titanium mixed oxide powder produced by flame hydrolysis}
본 발명은 화염 가수분해에 의해 제조된 규소-티탄 혼합 산화물 분말, 제조방법 및 이의 용도에 관한 것이다.
화염 가수분해에 의해 규소-티탄 혼합 산화물 분말을 제조하는 것은 공지되어 있다. 이는 일반적으로 규소 테트라클로라이드 및 티탄 테트라클로라이드의 혼합물을 화염 중에서 가수분해하는 것을 포함한다. 화염은 예를 들면 클로라이드의 가수분해에 필요한 물을 발생시키는 수소 및 대기 산소의 반응에 의해 생성될 수 있다. 얻어진 반응 생성물은 규소-티탄 혼합 산화물 분말 및 염산이고, 이들 중 일부는 분말에 부착되어 잔류한다.
그러나, 선행 기술에 기술된 방법들은 제한된 TiO2/SiO2 비를 갖는 분말만을 생성한다.
따라서, DE-A-2931810은 0.1 내지 9.9 중량%의 티탄 디옥사이드를 함유하는 규소-티탄 혼합 산화물 분말을 청구한다. 이는 규소 테트라클로라이드를 기화하고, 이를 예열된 공기로 희석하고, 이를 혼합 챔버 중에서 수소 및 티탄 테트라클로라이드와 혼합하고, 혼합물을 반응 챔버 중에서 연소하는 것에 의해 제조된다.
DE-A-4235996은 70 내지 99 중량%의 티탄 디옥사이드를 함유하는 규소-티탄 혼합 산화물 분말을 청구한다. 이는 규소 테트라클로라이드를 기화하고, 이를 불활성 기체에 의하여 혼합 챔버로 전달하고, 여기서 수소, 공기 및 티탄 테트라클로라이드와 혼합되고 혼합물은 반응 챔버 중에서 연소되는 것에 의해 제조된다.
상기 언급한 방법 중 어는 것도 언급한 한계의 티타늄 디옥사이드 외부의 규소-티탄 혼합 산화물 분말을 얻는 것이 불가능함을 발견하였다. 이러한 시도를 한 경우, 어두운 색의 불순물 및 거친 입자가 흔히 얻어졌다.
본 발명의 목적은 선행 기술과 비교하여, 더 큰 분획의 규소 디옥사이드 또는 티탄 디옥사이드를 포함하는, 규소-티탄 혼합 산화물 분말을 제공하는 것이다. 구체적으로, 혼합 산화물 분말은 어두운 색의 불순물을 함유하지 않아야 한다. 본 발명은 또한 상기 규소-티탄 혼합 산화물 분말의 제조 방법을 제공한다.
본 발명은 화염 가수분해에 의해 제조된 규소-티탄 혼합 산화물 분말을 제공하고, 상기 분말은 일차 입자의 응집물로 이루어지고,
- 일차 입자는 무정형 규소 디옥사이드, 결정성 티탄 디옥사이드 또는 무정형 규소 디옥사이드 분획 및 결정성 티탄 디옥사이드 분획을 갖는 규소-티탄 혼합 산화물로 이루어지고, 여기서 규소-티탄 혼합 산화물 일차 입자가 우세하며,
- 상기 분말은 20 내지 200 ㎡/g의 BET 표면적, 10 중량% 초과 70 중량% 미만의 티탄 디옥사이드 분획을 가지고, X-선 회절분석은 루틸(rutile) 및 아나타제(anatase)의 회절 패턴을 나타내고, 여기서 루틸/아나타제비는 2:98 내지 98:2인
것을 특징으로 한다.
일차 입자는 화염 가수분해에서 최초로 형성되는 입자이다. 본 발명에 따른 분말에서, 일차 입자는 무정형 규소 디옥사이드, 결정성 티탄 디옥사이드 및 규소-티탄 혼합 산화물 일차 입자로 존재한다. 무정형 또는 결정성 상태는 예를 들면, 결정성 분획의 격자면이 인식될 수 있는 고해상도 TEM 현미경사진에 의해 측정될 수 있다.
규소-티탄 혼합 산화물 일차 입자는 고해상도 TEM 현미경사진에서 무정형 규소 디옥사이드 및 결정성 티탄 디옥사이드의 영역들을 나타내는 것을 의도하도록 취해져야 한다. 이들은 본 발명에 따른 혼합 산화물 분말에서 우세하고, 이는 TEM 현미경사진으로부터의 일차 입자 계수에 의하면, 80% 이상, 일반적으로 95% 초과의 일차 입자가 규소-티탄 혼합 산화물 일차 입자임을 의미한다. 일차 입자는 함께 소결되는 것에 의해 응집물로 반응 도중에 상호성장한다. 응집물(aggregate)은 후속 반응 과정에 걸쳐서 집괴물(agglomerate)를 형성할 수 있다.
본 발명에 따른 혼합 산화물 분말은 20 내지 200 ㎡/g의 BET 표면적, 10 중량% 초과 70 중량% 미만의 티탄 디옥사이드 분획을 나타낸다. 루틸 및 아나타제의 회절 패턴은 X-선 회절분석에서 나타난다. 결정성 규소 디옥사이드 또는 티탄 실리케이트의 분획은 검출되지 않는다.
본 발명에 따른 분말 중 루틸/아나타제 비는 2:98 내지 98:2이다. 루틸/아나타제 비는 바람직하게는 80:20 내지 95:5일 수 있다.
80 내지 130 ㎡/g의 BET 표면적을 갖는 본 발명에 따른 혼합 산화물 분말이 바람직할 수 있다.
티탄 디옥사이드 분획이 40 내지 60 중량%에 이르는 것이 더욱 바람직할 수 있다.
본 발명에 따른 혼합 산화물 분말은 나아가 20 내지 140 g/ℓ의 다짐(tamped) 밀도를 나타낼 수 있고, 여기서 30 내지 70 g/ℓ의 값이 특히 바람직할 수 있다.
본 발명에 따른 혼합 산화물 분말은 나아가 0.5 중량% 미만의 클로라이드 함량을 나타낼 수 있다. 0.3 중량% 미만의 클로라이드 함량이 특히 바람직할 수 있다.
본 발명은 또한 규소-티탄 혼합 산화물 분말의 제조 방법을 제공하고, 상기 방법은
- 규소 할라이드 및 티탄 할라이드, 바람직하게는 티탄 테트라클로라이드를 상응하는 조성의 규소-티탄 혼합 산화물 분말이 얻어지도록 하는 비로 기화하고, 증기를 혼합 또는 개별적으로 운반 기체에 의해 혼합 챔버로 전달하고,
- 여기서, 기화 온도는 180℃ 미만이고,
- 이와 개별적으로, 수소, 일차 공기 (이는 임의로 산소를 농후하게 하고(하거나) 예열될 수 있음)를 혼합 챔버로 전달하고,
- 이어서, 규소 할라이드 및 티탄 테트라클로라이드 증기, 수소 및 일차 공기로 이루어지는 혼합물을 버너에서 점화시키고, 화염을 대기로부터 차단된 반응 챔버에서 연소시키고,
- 이차 공기를 추가로 반응 챔버로 도입하고, 여기서 일차 공기/이차 공기 비는 10 내지 0.25이고,
- 고체를 이어서 기체상 물질로부터 분리하며,
- 할라이드 함유 물질을 후속하여 고체로부터 250 내지 700℃의 온도의 증기로 처리하는 것에 의해 가능한 많이 제거하는 것을 특징으로 한다.
바람직한 실시양태에서, 기화 온도는 160℃ 미만일 수 있다.
규소 테트라클로라이드, 메틸트리클로로실란 및(또는) 트리클로로실란이 규소 할라이드로 바람직하게 사용될 수 있다.
나아가, 버너로부터 반응 챔버로의 반응 혼합물의 방출 속도가 10 내지 80 m/s인 경우가 유리할 수 있다.
혼합 챔버로 일차 공기 ㎥ 당 25 g 이하의 증기를 추가로 도입하는 것이 마찬가지로 가능하다.
본 발명은 또한 본 발명에 따른 혼합 산화물 분말의 토너 혼합물, 화장품 제제, 특히 선스크린 제제 중에서 및 촉매로서, 촉매 지지체로서 및 광촉매로서의 용 도를 제공한다.
실시예:
분석:
BET 표면적은 DIN 66131에 따라서 측정하였다.
SiO2 및 TiO2의 함량은 X-선 형광 분석에 의해 측정하였다.
다짐 밀도는 DIN ISO 787/XI K 5101/18에 기초하여 측정하였다(스크리닝 않음).
pH 값은 DIN ISO 787/IX, ASTM D 1280, JIS K 5101/24에 기초하여 측정하였다.
클로라이드 함량의 측정: 본 발명에 따른 입자 약 0.3 g을 정확하게 칭량하고, 20 ㎖의 20% 분석 등급 나트륨 히드록시드 용액과 합치고 교반하면서 15 ㎖의 냉각된 HNO3로 옮겼다. 용액 중 클로라이드 분획을 AgNO3 용액으로 적정하였다 (0.1 mol/ℓ 또는 0.01 mol/ℓ).
실시예 1 (본 발명에 따름):
3.24 kg/h의 규소 테트라클로라이드 및 2.70 kg/h의 티탄 테트라클로라이드를 함께 160℃에서 증발기 중에서 기화하였다. 상기 기화물을 운반 기체로 15 N㎥/h의 질소를 이용하여 혼합 챔버로 전달하였다. 이와 개별적으로, 2.97 N㎥/h의 수소 및 13.3 N㎥/h의 일차 공기를 혼합 챔버로 도입하였다. 반응 혼합물을 중앙 튜브 중에서 버너로 도입하고 점화하였다. 여기서 화염은 수-냉각 화염 튜브 중에서 태웠다. 20 N㎥/h의 이차 공기를 추가로 반응 챔버 중에 도입하였다. 얻은 분말은 다운스트림 필터에서 여과되었고, 이어서 520℃에서 증기로 역방향으로 처리하였다.
실시예 2 (본 발명에 따름)는 실시예 1과 동일한 방식으로 수행하였으나, 규소 테트라클로라이드 및 티탄 테트라클로라이드의 양을 변화시켰고, 추가로 개별적으로 기화하였다.
실시예 3 내지 13 (본 발명에 따름)은 실시예 1과 유사한 방식으로 수행하였고, 구체적인 시험 세팅은 하기 표에 명시되어 있다. 실시예 13에서는, 규소 테트라클로라이드 대신에 메틸트리클로실란을 사용하였다.
실시예 14 및 15 (본 발명에 따름)는 실시예 2와 동일한 방식으로 수행하였으나, 추가 증기를 혼합 챔버로 도입하였다.
실시예 16 및 17 (비교예)는 실시예 1과 동일한 방식으로 수행하였으나, 더 높은 기화 온도에서 수행하였다. 분말은 어두운 색의 입자를 나타내었다.
실시예 18 (비교예)는 실시예 1과 동일한 방식으로 수행하였으나, 이차 공기없이 수행하였다. 분말은 거친 입자를 함유하였다.
본 발명에 따른 실시예 빛 비교예의 공정 파라미터 및 재료 파라미터는 하기 표에 요약되어 있다.
Figure 112005000841978-pat00001
본 발명은 화염 가수분해에 의해 제조된 규소-티탄 혼합 산화물 분말, 제조방법 및 이의 용도에 관한 것이다.

Claims (13)

  1. 일차 입자가 무정형 규소 디옥사이드, 결정성 티탄 디옥사이드 또는 무정형 규소 디옥사이드 분획 및 결정성 티탄 디옥사이드 분획을 갖는 규소-티탄 혼합 산화물로 이루어지고, 여기서 규소-티탄 혼합 산화물 일차 입자가 우세하며,
    분말이 20 내지 200 ㎡/g의 BET 표면적, 10 중량% 초과 70 중량% 미만의 티탄 디옥사이드 분획을 가지고, X-선 회절분석은 루틸(rutile) 및 아나타제(anatase)의 회절 패턴을 나타내고, 여기서 루틸/아나타제비는 2:98 내지 98:2인
    것을 특징으로 하는, 일차 입자의 응집물로 이루어진, 화염 가수분해에 의해 제조된 규소-티탄 혼합 산화물 분말.
  2. 제1항에 있어서, BET 표면적이 80 내지 130 ㎡/g인 것을 특징으로 하는, 화염 가수분해에 의해 제조된 규소-티탄 혼합 산화물 분말.
  3. 제1항에 있어서, 티탄 디옥사이드 분획이 40 내지 60 중량%에 이르는 것을 특징으로 하는, 화염 가수분해에 의해 제조된 규소-티탄 혼합 산화물 분말.
  4. 제1항에 있어서, 클로라이드 함량이 0.5 중량% 미만인 것을 특징으로 하는, 화염 가수분해에 의해 제조된 규소-티탄 혼합 산화물 분말.
  5. 제1항에 있어서, 다짐(tamped) 밀도가 20 내지 140 g/ℓ에 이르는 것을 특징으로 하는, 화염 가수분해에 의해 제조된 규소-티탄 혼합 산화물 분말.
  6. 규소 할라이드 및 티탄 할라이드를 상응하는 조성의 규소-티탄 혼합 산화물 분말이 얻어지도록 하는 비로 기화하고, 증기를 혼합 또는 개별적으로 운반 기체에 의해 혼합 챔버로 전달하고 (여기서, 기화 온도는 180℃ 미만이고),
    이와 개별적으로, 수소, 일차 공기 (이는 임의로 산소를 농후하게 하고(하거나) 예열될 수 있음)를 혼합 챔버로 전달하고,
    이어서, 규소 할라이드 및 티탄 테트라클로라이드 증기, 수소 및 일차 공기로 이루어지는 혼합물을 버너에서 점화시키고, 화염을 대기로부터 차단된 반응 챔버에서 연소시키고,
    이차 공기를 추가로 반응 챔버로 도입하고, 여기서 일차 공기/이차 공기 비는 10 내지 0.25이고,
    고체를 이어서 기체상 물질로부터 분리하며,
    할라이드 함유 물질을 후속하여 고체로부터 250 내지 700℃의 온도의 증기로 처리하는 것에 의해 가능한 많이 제거하는 것을 특징으로 하는, 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 규소-티탄 혼합 산화물 분말의 제조 방법.
  7. 제6항에 있어서, 기화 온도가 160℃ 미만인 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제6항에 있어서, 규소 테트라클로라이드, 메틸트리클로로실란 및 트리클로로실란을 포함하는 군으로부터 선택된 하나 이상이 규소 할라이드로 사용되는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제6항에 있어서, 버너로부터 반응 챔버로의 반응 혼합물의 방출 속도가 10 내지 80 m/s인 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제6항에 있어서, 추가로 일차 공기 ㎥ 당 25 g 이하의 증기가 혼합 챔버에 도입되는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 토너 혼합물 또는 화장품 제제 중에서, 촉매로서, 촉매 지지체로서 또는 광촉매로서 사용되는 것을 특징으로 하는, 화염 가수분해에 의해 제조된 규소-티탄 혼합 산화물 분말.
  12. 제6항에 있어서, 티탄 할라이드가 티탄 테트라클로라이드인 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제11항에 있어서, 화장품 제제가 선스크린 제제인 것을 특징으로 하는, 화염 가수분해에 의해 제조된 규소-티탄 혼합 산화물 분말.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10260718A1 (de) * 2002-12-23 2004-07-08 Degussa Ag Mit Siliziumdioxid umhülltes Titandioxid
DE102004024500A1 (de) * 2004-05-18 2005-12-15 Degussa Ag Flammenhydrolytisch hergestelltes Silicium-Titan-Mischoxidpulver
WO2006078827A2 (en) * 2005-01-21 2006-07-27 Cabot Corporation Controlling flame temperature in a flame spray reaction process
EP1752216A1 (de) * 2005-08-09 2007-02-14 Degussa AG Verwendung von Titandioxid-Mischoxid als Photokatalysator
EP1752215A1 (de) * 2005-08-09 2007-02-14 Degussa GmbH Photokatalysator
JP5155865B2 (ja) * 2005-09-16 2013-03-06 トロノックス エルエルシー 塩化プロセスにより生成される二酸化チタンの粒子サイズを制御する方法
CN101365988B (zh) * 2006-01-06 2011-07-13 佳能株式会社 显影剂和图像形成方法
CN1850598B (zh) * 2006-02-28 2011-02-09 华东理工大学 一种核壳式TiO2/SiO2纳米复合颗粒的制备方法和设备
DE102007049743A1 (de) * 2007-10-16 2009-04-23 Evonik Degussa Gmbh Silicium-Titan-Mischoxidpulver, Dispersion hiervon und daraus hergestellter titanhaltiger Zeolith
DE102007049742A1 (de) 2007-10-16 2009-04-23 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Herstellung einer Titan-Silicium-Mischoxid enthaltenden Dispersion
US7662476B2 (en) * 2008-06-13 2010-02-16 The Worthington Group of Tennessee, LLC Metal surface-modified silica-titania composites and methods for forming the same
EP2509920B1 (en) 2009-11-10 2014-02-26 E. I. du Pont de Nemours and Company Process for in-situ formation of chlorides of silicon and aluminum in the preparation of titanium dioxide
US8652725B2 (en) * 2009-12-04 2014-02-18 Canon Kabushiki Kaisha Toner
CN102612494B (zh) * 2010-02-22 2015-05-20 纳幕尔杜邦公司 在二氧化钛的制备中原位形成硅、铝和钛的氯化物的方法
DE102010003652A1 (de) 2010-04-06 2011-10-06 Evonik Degussa Gmbh Siliciumdioxid und Titandioxid enthaltendes Granulat
DE102010030523A1 (de) 2010-06-25 2011-12-29 Evonik Degussa Gmbh Siliciumdioxid und Titandioxid enthaltendes Granulat
AU2010361149B2 (en) 2010-09-21 2015-07-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for in-situ formation of chlorides in the preparation of titanium dioxide
KR20140103517A (ko) 2013-02-18 2014-08-27 삼성전자주식회사 정전 잠상 현상용 토너
CN109867788A (zh) * 2019-03-18 2019-06-11 台州学院 一种有机硅-二氧化钛复合材料的制备方法
US11499930B2 (en) 2019-07-25 2022-11-15 Saudi Arabian Oil Company Measurement of chloride content in catalysts
WO2023139038A1 (en) * 2022-01-18 2023-07-27 Basf Se Uv filter compositions comprising hybrid metal oxide particles

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000514870A (ja) * 1996-07-11 2000-11-07 ザ ユニバーシティー オブ シンシナティ 正確に調節された特性を有するフィルム及び粒子の電気的に補助された合成
JP2005525457A (ja) * 2002-05-17 2005-08-25 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー 自動食器洗浄用組成物及び使用方法
KR100513914B1 (ko) * 2002-02-27 2005-09-13 데구사 아게 규소/티탄 복합 산화물 분말을 포함하는 분산액 및이로부터 제조한 미가공체 및 유리 성형품

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2931810A1 (de) 1979-08-06 1981-02-19 Degussa Temperaturstabilisiertes siliciumdioxid-mischoxid, das verfahren zu seiner herstellung und verwendung
DE3740289A1 (de) * 1987-11-27 1989-06-08 Degussa Katalysator zur selektiven reduktion von stickoxiden mit ammoniak
DE3840196C1 (ko) * 1988-11-29 1990-04-12 Bayer Ag, 5090 Leverkusen, De
DE4235996A1 (de) 1992-10-24 1994-04-28 Degussa Flammenhydrolytisch hergestelltes Titandioxid-Mischoxid, Verfahren zu seiner Herstellung und Verwendung
FR2738813B1 (fr) * 1995-09-15 1997-10-17 Saint Gobain Vitrage Substrat a revetement photo-catalytique
US6572964B2 (en) * 2000-02-04 2003-06-03 Showa Denko K.K. Ultrafine mixed-crystal oxide, production process and use thereof
JP2001316115A (ja) * 2000-03-28 2001-11-13 Degussa Ag ドーピングされた二酸化チタン
ATE496004T1 (de) * 2000-09-26 2011-02-15 Evonik Degussa Gmbh Eisenoxid- und siliciumdioxid-titandioxid- mischung
DE10163938A1 (de) * 2001-12-22 2003-07-10 Degussa Flammenhydrolytisch hergestelltes Silicium-Titan-Mischoxidpulver mit an der Oberfläche angereichertem Siliciumdioxid, dessen Herstellung und Verwendung
DE10163939A1 (de) * 2001-12-22 2003-07-10 Degussa Schicht erhalten aus einer wässerigen Dispersion enthaltend flammenhydrolytisch hergestelltes Silicium-Titan-Mischoxidpulver

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000514870A (ja) * 1996-07-11 2000-11-07 ザ ユニバーシティー オブ シンシナティ 正確に調節された特性を有するフィルム及び粒子の電気的に補助された合成
KR100513914B1 (ko) * 2002-02-27 2005-09-13 데구사 아게 규소/티탄 복합 산화물 분말을 포함하는 분산액 및이로부터 제조한 미가공체 및 유리 성형품
JP2005525457A (ja) * 2002-05-17 2005-08-25 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー 自動食器洗浄用組成物及び使用方法

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