KR100916479B1 - 금속제품 전해가공용 전해액 - Google Patents

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Abstract

전해가공제품의 불량이 감소하고, 전해액과 전극 수명이 연장되며, 가공효율이 향상되는 금속제품 전해가공용 전해액이 제안된다. 본 발명의 금속제품 전해가공용 전해액은 용매에 무기염을 포함하고, 착화제 및 환원제 중 적어도 하나를 포함한다.
착화제, 환원제, 전해가공

Description

금속제품 전해가공용 전해액{Electrolyte for electro-chemical machining of metal product}
본 발명은 금속제품 전해가공용 전해액에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 전해가공제품의 불량이 감소하고, 전해액과 전극 수명이 연장되며, 가공효율이 향상되는 금속제품 전해가공용 전해액에 관한 것이다.
전해가공은 전도성 물질의 전기화학적 반응을 이용한 가공법이다. 전해가공에서는 가공하고자 하는 제품인 가공물과 특정 형상을 갖는 전극을 전해액에 담그고, 가공물을 양극으로 하고, 전극을 음극으로 하여 일정 간극을 유지한 상태에서 전류를 흘려 주면 전극의 형상대로 가공물이 가공된다.
전해가공법을 이용하면, 가공물의 경도에 관계없이 가공이 가능하고, 곡면이나 홀 내부 가공 등의 복잡한 형상으로 가공할 수 있는 장점이 있다. 최근에는 전해가공시 초단 펄스를 이용하여 미세 형상가공이 가능해 졌는데, 그 예로 유체동압베어링(Fluid dynamic bearing)의 미세 홈 가공을 들 수 있다.
전해가공 시 금속 가공물은 양극으로 작용하기 때문에 금속성분이 용출된다. 용출된 금속성분은 금속수산화물을 형성하여 슬러지 형태로 침전될 수 있다. 이러한 침전은 가공물의 표면 및 전극의 표면 또는 전해가공조에 침전되어 미세 전해가공의 주요 불량 발생원인이 된다.
전해액의 조성은 전기를 통전하기 위한 전해질로 단일 혹은 복합 무기염만을 포함하고 있다. 따라서, 가공물의 금속성분이 전해가공시 용출되면 전해액 중에서 수산화물 형태의 침전을 발생시킨다. 예를 들어, 가공물의 주성분이 철인 경우 전해가공이 진행되면 Fe(OH)3 또는 Fe(OH)2와 같은 수산화철 침전이 다량 발생하게 된다.
슬러지 형태의 침전은 가공물의 형상을 왜곡시키거나 전기공급을 방해하여 가공불량의 주요원인이 되고 있다. 종래에는 필터 프레스(filter press)나 원심분리를 이용하여 물리적으로 침전을 제거하는 방법이 사용되어 왔으나, 침전물이 일정 수준 이상 증가하면 전해액을 교체해 주어야만 하는 문제점이 있다.
따라서, 금속제품의 전해가공시, 전해액에 침전되는 금속 침전물을 감소시켜 가공물의 품질을 향상시키고, 가공공정의 효율성을 높일 수 있는 전해액의 개발이 요청되었다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 전해가공제품의 불량이 감소하고, 전해액과 전극 수명이 연장되며, 가공효율이 향상되는 금속제품 전해가공용 전해액을 제공하는데 있다.
이상과 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따른 금속제품 전해가공용 전해액은 용매에 무기염을 포함하고, 착화제 및 환원제 중 적어도 하나를 포함한다. 금속은 철, 구리, 니켈, 알루미늄, 주석, 크롬, 아연 및 이들의 합금 중 어느 하나일 수 있다. 용매는 물, 그 중에서 순수일 수 있어서 전해액은 수용액일 수 있다.
무기염은 NaNO3, NaCl, NaClO4, Na2SO4, KNO3, KCl, KClO4, K2SO4, LiNO3, LiCl, LiClO4, 및 Li2SO4로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것이 바람직하다. 이러한 무기염의 농도는 전체 전해액의 부피를 기준으로 하여 100g/L 내지 500g/L인 것이 전해가공에 적합한 농도일 수 있다.
착화제로는 시트르산(Citric acid), 아세트산(Acetic acid), 옥살산(Oxalic acid), 풀브산(Fulvic acid), 숙신산(Succinic acid), 타르타르산(Tartaric acid), 락트산(Lactic acid), 글루콘산(Gluconic acid), 말레산(Maleic acid), 말산(Malic acid) 및 이들의 염 중 적어도 하나를 사용할 수 있다.
특히, 착화제는 이 중, 아세트산일 수 있는데, 상세하게는 에틸렌디아민테트라아세트산(Ethylenediaminetetraacetic acid), 히드록시에틸에틸렌디아민트리아세트산(Hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid), 및 니트릴로트리아세트산(Nitrilotriacetic acid)으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 하나일 수 있다.
착화제의 농도는 전체 전해액의 부피를 기준으로 하여 0.5 g/L 내지 20 g/L인 것이 바람직하다.
환원제는 L-아스코르브산(L-ascorbic acid), D-이소아스코르브산(D-isoascorbic acid) 및 이들의 염 중 적어도 하나를 사용할 수 있는데, 그 농도는 전체 전해액의 부피를 기준으로 하여 0.5 g/L 내지 20 g/L인 것이 바람직하다.
본 발명의 일실시예에 따른 금속제품 전해가공용 전해액은 물성향상을 위하여 부식억제제, 계면활성제, 점도조절제, pH조절제 중 적어도 하나를 더 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명의 일실시예에 따른 금속제품 전해가공용 전해액은 pH 범위가 pH 2 내지 pH 7일 수 있다.
본 발명에 따른 금속제품 전해가공용 전해액에서 전해가공시에는 금속침전물의 발생을 억제할 수 있다. 따라서, 전해가공시 전극 또는 가공물에 침전물의 침착 등을 억제할 수 있어서, 그로 인한 가공불량을 방지하고 가공효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 사용하는 전해가공용 전해액의 수명이 증가하여 전해가공공정의 비용이 절감되고, 추가적인 금속침전물 제거공정을 생략할 수 있어서 시간적 손실이 발생되지 않아 생산성이 향상되는 효과가 있다.
이하, 본 발명의 실시형태를 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시형태는 여러가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시형태로 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시형태는 당업계에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따른 금속제품 전해가공용 전해액은 용매에 무기염을 포함하고, 착화제 및 환원제 중 적어도 하나를 포함한다.
전해액은 무기염을 물에 용해시켜 제조한다. 전해액에 사용될 수 있는 무기염은 NaNO3, NaCl, NaClO4, Na2SO4, KNO3, KCl, KClO4, K2SO4, LiNO3, LiCl, LiClO4, 및 Li2SO4로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것이 바람직하다. 이러한 무기염의 농도는 전체 전해액의 부피를 기준으로 하여 100g/L 내지 500g/L인 것이 전해가공에 적합한 농도일 수 있다.
본 발명의 전해액에 사용되는 용매로서, 물을 사용할 수 있다. 전해액은 수용액이 된다. 물은 염을 제거한 순수를 사용하는 것이 바람직하다.
금속제품은 전해가공을 통하여 가공될 수 있는 금속제품은 어떤 것이든 사용될 수 있다. 금속은 예를 들면, 철, 구리, 니켈, 알루미늄, 주석, 크롬, 아연 및 이들의 합금 중 어느 하나일 수 있다.
이하에서는, 철을 예로 들어 금속제품의 전해가공시 용출된 금속의 침전을 설명하기로 한다. 철을 포함하는 제품은 전해가공시 제품표면에서 용출되어 전해액으로 유입된다. 전해액에서 철은 다음과 같이 수산화물로 변환된다.
Fe -> Fe++ + 2e-
Fe++ + 2OH- -> Fe(OH)2
4Fe(OH)2 + 2H2O + O2 -> 4Fe(OH)3
반응식 1에서 금속제품 속의 철은 2가의 이온으로 용출된다. 전해액에 존재하는 철은 반응식 2에서와 같이 전해액에 존재하는 수산화 이온과 반응하여 Fe(OH)2가 형성되고, Fe(OH)2는 다시 Fe(OH)3 형태의 수산화물로 변환된다. 변환된 수산화물은 슬러지 형태로 침전된다. 따라서, 슬러지 형태로 침전된 금속 수산화물을 억제 또는 제거하기 위하여 본 발명의 일실시예에 따른 전해가공용 전해액은 착화제 및 환원제 중 적어도 하나를 포함한다.
착화제는 금속과 화학적으로 안정한 킬레이트 화합물을 형성한다. 따라서, 전해액에 금속을 이온상태의 안정한 형태로 존재하게 되어 침전 발생을 억제한다.
착화제로는 금속을 착화시킬 수 있고, 전해가공에 유의한 영향을 미치지 않 는 착화제라면 어떤 것이든 사용될 수 있다. 예를 들어, 착화제로는 시트르산(Citric acid), 아세트산(Acetic acid), 옥살산(Oxalic acid), 풀브산(Fulvic acid), 숙신산(Succinic acid), 타르타르산(Tartaric acid), 락트산(Lactic acid), 글루콘산(Gluconic acid), 말레산(Maleic acid), 말산(Malic acid) 및 이들의 염 중 적어도 하나를 사용할 수 있다.
특히, 착화제는 아세트산일 수 있는데, 상세하게는 에틸렌디아민테트라아세트산(Ethylenediaminetetraacetic acid), 히드록시에틸에틸렌디아민트리아세트산(Hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid), 및 니트릴로트리아세트산(Nitrilotriacetic acid)으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 하나일 수 있다.
착화제의 농도는 전해가공시 전해액 내에서의 금속이온의 농도에 따라 달라진다. 일반적으로 착화제의 농도는 전해액에서 기능을 충분히 발현시키기 위하여 0.5 g/L이상 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 전해액의 물성에 유의한 영향을 미치지 않게 하기 위하여 20g/L 이하로 포함되는 것이 바람직하다. 즉, 착화제는 전체 전해액의 부피를 기준으로 하여 0.5 g/L 내지 20 g/L인 것이 바람직하다.
본 발명의 전해액은 환원제를 포함할 수 있다. 환원제는 금속수산화물에서 금속을 환원시켜 용해도가 보다 큰 형태의 금속수산화물을 생성한다. 따라서, 금속침전이 전해액 내에 용해된 상태를 유지할 수 있게 한다.
철수산화물을 예로 들면, Fe(OH)3의 경우, pH 2 이상에서 생성되어 광범위한 pH 범위에서 생성되나, Fe(OH)2는 pH 7 내지 pH 9의 범위에서 생성된다. 즉, Fe(OH)3보다 Fe(OH)2가 전해액 내에 생성되어 있는 것이 더 바람직하고, 따라서, Fe(OH)3-Fe3+를 상대적으로 용해도가 큰 Fe(OH)2-Fe2 +로 환원시키면 침전 발생을 억제할 수 있다.
본 발명에 사용될 수 있는 환원제로는 금속을 환원시킬 수 있고 전해가공에 유의한 영향을 미치지 않는 환원제라면 어떤 것이든 사용될 수 있다. 예를 들면, 환원제는 L-아스코르브산(L-ascorbic acid), D-이소아스코르브산(D-isoascorbic acid) 및 이들의 염 중 적어도 하나를 사용할 수 있다.
환원제의 농도 또한, 전해가공시 전해액 내에서의 금속이온의 농도에 따라 달라진다. 일반적으로 환원제의 농도는 전해액에서 기능을 충분히 발현시키기 위하여 0.5 g/L이상 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 환원제는 전해액의 물성에 유의한 영향을 미치지 않게 하기 위하여 20g/L 이하로 포함되는 것이 바람직하다. 즉, 환원제는 전체 전해액의 부피를 기준으로 하여 0.5 g/L 내지 20 g/L인 것이 바람직하다.
본 발명의 일실시예에 따른 금속제품 전해가공용 전해액은 물성향상을 위하여 부식억제제, 계면활성제, 점도조절제, pH조절제 중 적어도 하나를 더 포함하는 것이 바람직하다. 부식억제제는 전극의 부식을 억제하기 위한 첨가제이다. 계면활성제, 점도조절제, pH 조절제는 전해액의 가공 특성을 향상시키기 위한 물성조절 첨가제이다.
본 발명의 일실시예에 따른 금속제품 전해가공용 전해액은 pH 범위가 pH 2 내지 pH 7일 수 있다. 전술한 바와 같이, 철수산화물을 예로 들면, 산화수가 더 큰 Fe(OH)3의 경우 pH 2 이상에서 생성되고, 산화수가 더 작도록 환원된 Fe(OH)2는 pH 7 내지 pH 9의 범위에서 생성된다. 따라서, 환원제에 의하여 환원된 Fe(OH)2는 pH 7 내지 pH 9의 범위에서 생성되므로 전해액의 pH 범위를 pH 2 내지 pH 7로 조절하면, Fe(OH)2의 침전을 더 억제할 수 있다.
[실시예]
이하의 실시예에서는, 본 발명의 일실시예에 따라 전해가공 전해액을 제조하고, 이들 전해액의 금속침전물 제거효과를 확인하기 위하여 금속이온(철이온)을 첨가하여 그 제거율을 산출하였다.
먼저, 전해액을 제조하기 위하여, 용매로서 순수에 무기염으로서 질산나트 륨(NaNO3)을 용해시켜 150g/L 질산나트륨수용액을 제조하였다. 금속제품을 가공하지 않고, 일정량의 질산제2철(Fe(NO3)3.12H2O)을 첨가하여 전해액 내에 일정농도의 철이온을 포함시킨다. 전해액은 0.1M 수산화나트륨(NaOH)용액을 이용하여 pH를 중성으로 조절한다. 그 결과 육안으로 확인할 수 있는 황토색 침전물이 확인되었다.
전해액에 착화제와 환원제 역할을 할 수 있는 첨가제를 일정량씩 첨가하면서 침전물이 제거되는지를 관찰하고, ICP-AES(유도결합플라즈마 원자발광분석기)를 이용하여 철 농도 변화를 측정하였다. 실험에 사용한 착화제는 EDTA, NTA, 시트르산 및 HEDTA이 사용되었고, 환원제로는 L-아스코르브산, D-아스코르브산이 사용되었다.
침전물 제거율은 최초 기준 전해액에 첨가한 철 농도와 침전이 아닌 전해액에 용해되어 있는 철 농도를 비교하는 방법으로 계산하였다. 즉 초기 침전물이 생성된 기준 전해액을 원심 분리시켜 침전과 분리된 상등액의 철 농도를 측정하면 대부분의 철은 수화물 형태로 침전되어 있어 침전물과 분리된 전해액 상등액에서는 철이 거의 검출이 되지 않는다.
반면 침전물 제거를 위한 착화제나 환원제를 기준 전해액에 첨가하게 되면, 침전물에 포함되어 있는 철 성분이 전해액에 용해되어 침전물은 제거되고, 전해액 의 철 농도는 증가하게 된다. 최초 전해액에 첨가한 철 농도와 첨가제 첨가 후 전해액의 철 농도를 비교함으로 전해액의 침전제거율을 계산하였다. 첨가된 착화제 및 환원제의 종류와 양에 따른 침전제거율이 이하의 표1 내지 표 3에 나타나 있다.
실시예 착화제 농도 (g/L) 철 농도(mg/L) 침전제거율 (%)
첨가량 측정량
실시예 1 EDTA 1 808 156 19
실시예 2 EDTA 3 808 594 74
실시예 3 EDTA 5 808 748 93
실시예 4 EDTA 7 808 762 94
실시예 5 HEDTA 1 808 126 16
실시예 6 HEDTA 3 808 460 57
실시예 7 HEDTA 5 808 701 87
실시예 8 HEDTA 7 808 732 91
실시예 9 NTA 1 808 170 21
실시예 10 NTA 3 808 711 88
실시예 11 NTA 5 808 754 93
실시예 12 NTA 7 808 754 93
실시예 13 시트르산 1 808 196 24
실시예 14 시트르산 3 808 662 82
실시예 15 시트르산 5 808 772 95
실시예 16 시트르산 7 808 753 93
실시예 1 내지 실시예 16에서는 전해액에 착화제로서, EDTA, HEDTA, NTA, 및시트르산이 각각 1 g/L 내지 7 g/L 범위에서 포함되어 있다.
표 1을 참조하면, 실시예 1 내지 실시예 16에서와 같이 전해액이 착화제를 포함하는 경우, 철이 제거되었음을 확인할 수 있었다. 착화제의 농도가 높아질수록 더 높은 침전제거율이 나타났다.
실시예 환원제 농도 (g/L) 철 농도(mg/L) 침전제거율 (%)
첨가량 측정량
실시예 17 L-아스코르브산 1 808 364 45
실시예 18 L-아스코르브산 3 808 682 84
실시예 19 L-아스코르브산 5 808 690 85
실시예 20 L-아스코르브산 7 808 766 95
실시예 21 D-아스코르브산 1 808 155 19
실시예 22 D-아스코르브산 3 808 630 78
실시예 23 D-아스코르브산 5 808 764 95
실시예 24 D-아스코르브산 7 808 776 96
실시예 17 내지 24에서는 전해액에 환원제로서, L-아스코르브산 및 D-아스코르브산이 각각 1 g/L 내지 7 g/L 범위에서 포함되어 있다.
표 2를 참조하면, 실시예 17 내지 24에서와 같이 전해액이 환원제를 포함하는 경우, 철이 제거되었으며 환원제의 농도가 높을수록 침전제거율이 높게 나타났다.
실시예 착화제 환원제 농도 (g/L) 철 농도(mg/L) 침전제거율 (%)
첨가량 측정량
실시예 25 NTA 1 882 789 89
L-아스코르브산 1
실시예 26 NTA 1 882 818 93
L-아스코르브산 3
실시예 27 NTA 1 882 816 93
L-아스코르브산 5
실시예 28 NTA 3 882 835 95
L-아스코르브산 1
실시예 29 NTA 3 882 853 97
L-아스코르브산 3
실시예 30 NTA 3 882 860 98
L-아스코르브산 5
실시예 31 NTA 5 882 826 94
L-아스코르브산 1
실시예 32 NTA 5 882 839 95
L-아스코르브산 3
실시예 33 NTA 5 882 832 94
L-아스코르브산 5
실시예 25 내지 실시예 33의 전해액에는 착화제로서 NTA, 환원제로서 L-아스코르브산이 그 농도를 달리하며 포함되어 있다.
실시예 25 내지 실시예 33과 같이 착화제 및 환원제를 함께 전해액에 첨가한 경우, 89% 이상의 침전제거율이 산출되었다. 특히, 실시예 25에서는 NTA 및 L-아스코르브산이 각각 1g/L 씩 첨가되어 비교적 소량이 첨가되었음에도 불구하고 89%의 높은 침전제거율을 나타내었다.
표 1 및 표 2를 참조하면, 실시예 1 내지 실시예 16에서와 같이 전해액이 착화제를 포함하는 경우와 실시예 17 내지 24에서와 같이 전해액이 환원제를 포함하는 경우, 철 침전물이 제거되었으며 각각의 착화제 및 환원제의 농도가 높을수록 침전제거율이 높게 나타났다.
따라서, 금속제품의 전해가공용 전해액에 착화제 및 환원제 중 어느 하나가 포함되는 경우, 철과 같이 용출된 금속이온의 침전제거가 높은 효율로 가능함을 확인할 수 있었다. 특히, 각각의 실험결과에서, 침전이 90% 이상 제거되기 위하여는 착화제 또는 환원제가 5g/L 이상 포함된 경우 가능하였다.
실시예 25 내지 실시예 33과 같이 착화제 및 환원제를 함께 전해액에 첨가한 경우는 실시예 1 내지 실시예 24에서와 같이 착화제 및 환원제가 단독으로 사용되는 경우보다 더 적은 양을 사용하여도 동등한 수준의 침전제거율을 얻을 수 있었다.
본 실시예에서는 철을 예로 들어 실시하고 그 결과를 확인하였으나, 철 이외의 금속, 예를 들면, 구리, 니켈, 알루미늄, 주석, 크롬, 또는 아연과 같은 금속 및 이들의 합금으로 된 제품의 경우에도 착화제 및 환원제의 금속에의 작용면에서 철제품의 경우와 유사하게 금속침전물을 제거할 수 있을 것이다.
본 발명은 상술한 실시형태에 의해 한정되는 것이 아니라, 첨부된 청구범위에 의해 해석되어야 한다. 또한, 본 발명에 대하여 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것은 당해 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게 자명할 것이다.

Claims (12)

  1. 용매에 무기염을 포함하고, 착화제 및 환원제 중 적어도 하나를 포함하며,
    상기 착화제는 시트르산(Citric acid), 아세트산(Acetic acid), 옥살산(Oxalic acid), 풀브산(Fulvic acid), 숙신산(Succinic acid), 타르타르산(Tartaric acid), 락트산(Lactic acid), 글루콘산(Gluconic acid), 말레산(Maleic acid), 말산(Malic acid) 및 이들의 염으로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상이며,
    상기 환원제는 L-아스코르브산(L-ascorbic acid), D-이소아스코르브산(D-isoascorbic acid) 및 이들의 염으로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 금속제품 전해가공용 전해액.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 금속은 철, 구리, 니켈, 알루미늄, 주석, 크롬, 아연 및 이들의 합금 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 금속제품 전해가공용 전해액.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 용매는 순수인 것을 특징으로 하는 금속제품 전해가공용 전해액.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 무기염은 NaNO3, NaCl, NaClO4, Na2SO4, KNO3, KCl, KClO4, K2SO4, LiNO3, LiCl, LiClO4, 및 Li2SO4로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 금속제품 전해가공용 전해액.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 무기염의 농도는 전체 전해액의 부피를 기준으로 하여 100g/L 내지 500g/L인 것을 특징으로 하는 금속제품 전해가공용 전해액.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    상기 아세트산은
    에틸렌디아민테트라아세트산(Ethylenediaminetetraacetic acid), 히드록시에틸에틸렌디아민트리아세트산(Hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid), 및 니트릴로트리아세트산(Nitrilotriacetic acid)으로 구성된 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 금속제품 전해가공용 전해액.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 착화제의 농도는 전체 전해액의 부피를 기준으로 하여 0.5 g/L 내지 20 g/L인 것을 특징으로 하는 금속제품 전해가공용 전해액.
  9. 삭제
  10. 제1항에 있어서,
    상기 환원제의 농도는 전체 전해액의 부피를 기준으로 하여 0.5 g/L 내지 20 g/L인 것을 특징으로 하는 금속제품 전해가공용 전해액.
  11. 제1항에 있어서,
    부식억제제, 계면활성제, 점도조절제, pH조절제 중 적어도 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 금속제품 전해가공용 전해액.
  12. 제1항에 있어서,
    pH 범위가 pH 2 내지 pH 7인 것을 특징으로 하는 금속제품 전해가공용 전해액.
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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8492009B1 (en) * 2009-08-25 2013-07-23 Wd Media, Inc. Electrochemical etching of magnetic recording layer
KR101334877B1 (ko) * 2009-09-18 2013-11-29 주식회사 아모그린텍 교류 전기분해법을 이용한 금속 나노입자의 제조방법 및 장치
MX2012005909A (es) * 2009-11-23 2012-11-12 MetCon LLC Soliucion de electrolitos y metodos de electropulido.
US8580103B2 (en) 2010-11-22 2013-11-12 Metcon, Llc Electrolyte solution and electrochemical surface modification methods
US10138569B2 (en) 2011-09-15 2018-11-27 Ensitech IP PTY LLP Weld cleaning fluid
CN102628176A (zh) * 2012-04-21 2012-08-08 广东白云国际科学研究院有限公司 一种去除核污染电解液以及移动式阴极电化学清洗装置
CN102699454A (zh) * 2012-05-07 2012-10-03 天津大学 一种泡沫铝缓冲吸能材料的电解加工***及方法
JP2013251935A (ja) * 2012-05-30 2013-12-12 Denso Corp アクチュエータ
CN103147114B (zh) * 2013-01-07 2016-05-11 中航电测仪器股份有限公司 箔式应变计调阻方法
CN105081487B (zh) * 2014-05-21 2019-01-22 通用电气公司 用于电化学加工的电解液及使用该电解液的电化学加工方法
CN104328476B (zh) * 2014-09-16 2016-09-28 邯郸学院 一种电解液及用该电解液去除银器表面色斑的方法
CN108139306B (zh) 2016-02-18 2021-03-26 日本制铁株式会社 金属化合物粒子的提取方法、分析方法及其使用的电解液
TWI642935B (zh) 2016-02-18 2018-12-01 日商新日鐵住金股份有限公司 電解蝕刻用裝置及金屬化合物粒子的萃取方法
JP6752626B2 (ja) * 2016-05-31 2020-09-09 株式会社カネカ 電解研磨液および電解研磨された金属成形体の製造方法
CN109420811A (zh) * 2017-08-31 2019-03-05 深圳市水佳鑫科技有限公司 硬金属开孔方法及设备
DE102018208299A1 (de) * 2018-05-25 2019-11-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung und Verfahren zur elektrochemischen Bearbeitung eines Werkstoffs
CN113544316A (zh) * 2018-12-17 2021-10-22 赛峰飞机发动机公司 用于γ-γ’镍基超级合金电化学加工的电解质
FR3089836B1 (fr) 2018-12-17 2021-02-19 Safran Aircraft Engines Electrolyte pour l’usinage électrochimique de superalliages bases nickel type γ-γ’’
CN111197173B (zh) * 2020-02-07 2022-03-18 复旦大学 非贵金属单原子掺杂的二维材料的电镀制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02256419A (ja) * 1989-03-30 1990-10-17 Johnson Kk 電解加工液
JPH0542414A (ja) * 1991-08-08 1993-02-23 Sodick Co Ltd 放電加工機用水系加工液の制御装置
KR19980024807A (ko) * 1996-09-20 1998-07-06 이데이 노부유끼 광학 장치 및 전해액
JPH11506052A (ja) * 1996-03-27 1999-06-02 フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ 電解質水溶液から鉄化合物およびクロム化合物を除去する方法ならびに電気化学的機械加工におけるこの方法の使用

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3489522A (en) * 1965-10-15 1970-01-13 Synvar Ass Electron spin resonance labeling of biomolecules
JPS62208823A (ja) * 1986-03-07 1987-09-14 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 電解加工液
JPH07316899A (ja) * 1994-05-17 1995-12-05 Yuken Kogyo Kk 電解加工用電解液組成物
DE19534277B4 (de) * 1995-09-15 2006-02-09 Fritz-Herbert Frembgen Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung des Elektrolyten eines elektro-chemischen Bearbeitungsprozesses
US6178679B1 (en) * 1996-02-13 2001-01-30 David M. Dundorf Weather-proof readerboard signage system
JP2003260618A (ja) * 2002-03-06 2003-09-16 Sankyo Seiki Mfg Co Ltd 電解加工方法、及び電解加工装置
JP2006013177A (ja) * 2004-06-25 2006-01-12 Ebara Corp 電解加工装置及び電解加工方法
JP2005288580A (ja) * 2004-03-31 2005-10-20 Ebara Corp 電解加工方法及び装置
US7998335B2 (en) * 2005-06-13 2011-08-16 Cabot Microelectronics Corporation Controlled electrochemical polishing method
US20080202552A1 (en) * 2006-12-07 2008-08-28 Lawrence Bernard Kool Method for selectively removing coatings from metal substrates

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02256419A (ja) * 1989-03-30 1990-10-17 Johnson Kk 電解加工液
JPH0542414A (ja) * 1991-08-08 1993-02-23 Sodick Co Ltd 放電加工機用水系加工液の制御装置
JPH11506052A (ja) * 1996-03-27 1999-06-02 フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ 電解質水溶液から鉄化合物およびクロム化合物を除去する方法ならびに電気化学的機械加工におけるこの方法の使用
KR19980024807A (ko) * 1996-09-20 1998-07-06 이데이 노부유끼 광학 장치 및 전해액

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