KR100852624B1 - Gas supply device for manufacturing electronic material - Google Patents

Gas supply device for manufacturing electronic material Download PDF

Info

Publication number
KR100852624B1
KR100852624B1 KR1020060091941A KR20060091941A KR100852624B1 KR 100852624 B1 KR100852624 B1 KR 100852624B1 KR 1020060091941 A KR1020060091941 A KR 1020060091941A KR 20060091941 A KR20060091941 A KR 20060091941A KR 100852624 B1 KR100852624 B1 KR 100852624B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pneumatic
gas
valve
line
pressure
Prior art date
Application number
KR1020060091941A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20080026852A (en
Inventor
이성섭
이종관
김민경
정근준
Original Assignee
주식회사 케이씨텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 케이씨텍 filed Critical 주식회사 케이씨텍
Priority to KR1020060091941A priority Critical patent/KR100852624B1/en
Publication of KR20080026852A publication Critical patent/KR20080026852A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100852624B1 publication Critical patent/KR100852624B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00Control of flow
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67253Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Pipeline Systems (AREA)

Abstract

본 발명은 전자소재 제조용 가스공급장치에 관한 것으로, 가스봄베의 공정가스를 공정챔버로 이송하는 가스라인과, 상기 가스라인에 설치되며 공압에 의해 구동되어 공정가스의 이송여부를 단속하는 개폐밸브와, 상기 개폐밸브측으로 연결되어 상기 개폐밸브의 구동을 위한 공압을 전달하는 공압라인과, 상기 공압라인을 통하여 상기 개폐밸브측으로 전달되는 공압을 제어신호에 따라 인가 또는 차단하는 자동제어기재와, 상기 자동제어기재의 이상 발생시 상기 공압라인으로 공압을 강제 공급하여 상기 개폐밸브를 개방시키는 수동제어기재를 포함하는 전자소재 제조용 가스공급장치를 제공한다. 본 발명에 의하면, 자동제어기재의 이상 발생시 공정가스의 공급을 유지시키기 위한 구성부품으로 메뉴얼밸브 대신 공압밸브가 채용되므로 장치의 제조단가를 현저하게 절감시키는 효과가 있다.The present invention relates to a gas supply apparatus for manufacturing an electronic material, a gas line for transferring a process gas of a gas cylinder to a process chamber, and an opening and closing valve installed in the gas line and driven by pneumatic to control whether or not the process gas is transferred. A pneumatic line connected to the on / off valve side for transmitting pneumatic pressure for driving the on / off valve, an automatic control material for applying or blocking pneumatics transmitted to the on / off valve side through the pneumatic line according to a control signal, and the automatic The present invention provides a gas supply apparatus for manufacturing an electronic material, including a manual control material which opens the on / off valve by forcibly supplying pneumatic pressure to the pneumatic line when an abnormality occurs in the controller material. According to the present invention, since a pneumatic valve is used instead of a manual valve as a component for maintaining a supply of process gas in the event of an abnormality of the automatic control equipment, the manufacturing cost of the apparatus is remarkably reduced.

가스공급, 가스라인, 메뉴얼밸브, 공압밸브, 솔레노이드밸브 Gas Supply, Gas Line, Manual Valve, Pneumatic Valve, Solenoid Valve

Description

전자소재 제조용 가스공급장치{Gas supply device for manufacturing electronic material} Gas supply device for manufacturing electronic material

도 1은 종래 전자소재 제조용 가스공급장치의 구성도이다.1 is a configuration diagram of a gas supply apparatus for manufacturing a conventional electronic material.

도 2는 본 발명에 따른 전자소재 제조용 가스공급장치의 일실시 구성도이다.2 is a configuration diagram of an embodiment of a gas supply apparatus for manufacturing an electronic material according to the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

100 : 가스봄베 110 : 가스라인100: gas cylinder 110: gas line

111 : 개폐밸브 200 : 공정챔버111: on-off valve 200: process chamber

300 : 자동제어기재 310 : 공압공급원300: automatic control material 310: pneumatic supply source

320 : 공압라인 321 : 솔레노이드밸브320: pneumatic line 321: solenoid valve

330 : 콘트롤러 400 : 수동제어기재330: controller 400: manual control equipment

410 : 공압공급원 420 : 분기라인410: pneumatic supply source 420: branch line

421 : 공압밸브 422 : 체크밸브421 pneumatic valve 422 check valve

423 : 압력표기기423: Pressure gauge

본 발명은 전자소재 제조용 가스공급장치에 관한 것으로, 특히 자동제어기재 의 이상 발생시에도 공정가스를 중단없이 연속하여 공급할 수 있는 전자소재 제조용 가스공급장치에 관한 것이다.The present invention relates to a gas supply apparatus for manufacturing an electronic material, and more particularly, to a gas supply apparatus for manufacturing an electronic material which can continuously supply process gas without interruption even when an abnormality occurs in an automatic control material.

일반적으로 반도체와 엘씨디(LCD) 및 엘이디(LED) 등의 전자소재를 제조하기 위한 공정챔버(process chamber)에는 제조공정에 따라 다양한 공정가스(process gas)가 공급되어야 한다.In general, a process chamber for manufacturing electronic materials such as semiconductors, LCDs, and LEDs should be supplied with various process gases depending on the manufacturing process.

이러한 공정챔버(또는 공정장비)는 공정진행을 위한 공정가스를 공급받도록 가스공급장치와 연결되고, 이러한 가스공급장치는 예컨데 가스봄베에서 공급되는 공정가스를 가스라인에 통과시켜 공정챔버로 공급한다.The process chamber (or process equipment) is connected with a gas supply device to receive a process gas for process progress, and such a gas supply device supplies a process gas supplied from a gas cylinder to a process chamber through a gas line.

일례로 단일의 가스봄베에서 다수의 공정챔버로 공정가스를 공급할 수도 있고, 다수의 가스봄베가 교대로 단일의 공정챔버에 공정가스를 공급할 수도 있다. 특히, 후자의 경우 공정가스가 공정챔버에 중단되지 않고 연속하여 공급될 수 있는 장점이 있다.For example, the process gas may be supplied to a plurality of process chambers from a single gas cylinder, and the plurality of gas cylinders may alternately supply process gases to a single process chamber. In particular, in the latter case, there is an advantage that the process gas can be continuously supplied to the process chamber without being interrupted.

그리고 가스라인에는 가스봄베에서 유입되는 공정가스를 단속할 수 있는 예컨데 자동밸브(air valve) 등의 다양한 단속수단과, 레큘레이터(regulator) 등의 압력조절수단과, 플로우미터(flowmeter) 등의 유량조절수단과, 압력계(manometer) 등의 압력측정수단 등이 설치될 수 있다.In the gas line, various control means, such as an air valve, which control the process gas flowing from the gas cylinder, pressure control means such as a regulator, and a flow rate of a flow meter, etc. The adjusting means and pressure measuring means such as a manometer may be provided.

이와 같이 가스공급장치의 가스라인상에는 원활한 공정가스의 공급을 위한 다수의 구성부품이 설치될 수 있다.As such, a plurality of components for smooth supply of process gas may be installed on the gas line of the gas supply device.

도 1은 종래 전자소재 제조용 가스공급장치의 구성도이다.1 is a configuration diagram of a gas supply apparatus for manufacturing a conventional electronic material.

도 1은 참조하면, 종래 전자소재 제조용 가스공급장치(이하 가스공급장치)는 공정가스를 공급하는 가스봄베(10)와, 상기 가스봄베(10)의 공정가스를 공정챔버(30)로 이송하는 가스라인(20)과, 상기 가스라인(20)에 설치되어 공정가스를 단속하는 개폐밸브(21)와, 상기 개폐밸브(21)를 공압구동하기 위한 공압라인(40)과, 상기 공압라인(40)에 설치되어 공압공급원(50)에서 제공되는 공압을 개폐밸브(21)측으로 인가하거나 차단하는 솔레노이드밸브(41)를 포함한다.Referring to FIG. 1, a gas supply apparatus (hereinafter, a gas supply apparatus) for manufacturing a conventional electronic material includes a gas cylinder 10 for supplying a process gas and a process gas of the gas cylinder 10 to a process chamber 30. A gas line 20, an on / off valve 21 installed in the gas line 20 to control process gas, a pneumatic line 40 for pneumatically driving the on / off valve 21, and the pneumatic line ( And a solenoid valve 41 installed at 40 to apply or block the pneumatic pressure provided from the pneumatic supply source 50 to the on / off valve 21 side.

상기 솔레노이드밸브(41)는 콘트롤러(70)에서 전달되는 제어신호에 따라 온(on) 또는 오프(off) 동작되고, 이러한 온 또는 오프 동작에 의해 공압라인(40)을 통하여 개폐밸브(21)로의 공압인가 여부를 결정할 수 있다.The solenoid valve 41 is turned on or off in accordance with a control signal transmitted from the controller 70, and the solenoid valve 41 is connected to the on-off valve 21 through the pneumatic line 40 by the on or off operation. It can be determined whether it is pneumatic.

일례로 솔레노이드밸브(41)는 온 동작시 공압공급원(50)에서 제공되는 공압을 공압라인(40)으로 인가하고, 이에 개폐밸브(21)는 공압에 의해 구동되어 개방되므로 공정가스를 통과시킨다.In one example, the solenoid valve 41 applies the pneumatic pressure provided from the pneumatic supply source 50 to the pneumatic line 40 during the on operation, and the on-off valve 21 is driven and opened by pneumatic pressure to pass the process gas.

한편 종래 가스공급장치는 콘트롤러(70)나 솔레노이드밸브(41)의 고장 또는 정전 등의 이상 발생시에도 공정챔버(30)로 공정가스를 중단없이 연속하여 공급할 수 있다.Meanwhile, the conventional gas supply device may continuously supply the process gas to the process chamber 30 without interruption even when an abnormality such as a failure or power failure of the controller 70 or the solenoid valve 41 occurs.

구체적으로, 종래 가스공급장치는 개폐밸브(21)를 바이패스(bypass)하도록 가스라인(20)에서 분기되는 우회라인(60)과, 상기 우회라인(60)에 설치되어 공정가스를 단속하는 메뉴얼밸브(61)를 더 포함한다.In detail, the conventional gas supply device includes a bypass line 60 branched from the gas line 20 to bypass the opening / closing valve 21, and a manual provided to the bypass line 60 to control the process gas. It further comprises a valve (61).

이에 가스공급장치는 콘트롤러(70)나 솔레노이드밸브(41)의 고장 또는 정전 등의 이상 상황이 발생하여 개폐밸브(21)가 개방작동되지 못하여도, 메뉴얼밸 브(61)를 개방하면 우회라인(60)을 통하여 공정가스가 중단되지 않고 공정챔버(30)로 공급된다. 한편 도 1에서 미설명된 부호 62는 레귤레이터이다.Accordingly, the gas supply device has a bypass line when the manual valve 61 is opened even when the shutoff valve 21 is not opened due to a failure or failure of the controller 70 or the solenoid valve 41. Through 60, the process gas is supplied to the process chamber 30 without interruption. Meanwhile, reference numeral 62 which is not described in FIG. 1 is a regulator.

그러나 종래 가스공급장치는 우회라인(60)에 설치되는 메뉴얼밸브(61)의 단가가 수 백만원을 호가하는 구성부품이므로 장치의 제조단가를 증가시키는 단점이 있었다.However, the conventional gas supply device has a disadvantage in that the unit cost of the manual valve 61 installed in the bypass line 60 increases the manufacturing cost of the device because it is a component costing millions of won.

더욱이 우회라인(60)이 가스라인(20)에서 분기하여 우회하는 구조이므로 공정가스의 공급경로를 복잡하게 할 뿐만 아니라 관로상에 분기점을 생성하므로 가스 누출가능성을 증가시키는 단점이 있었다.Furthermore, since the bypass line 60 diverges from the gas line 20 to bypass, the bypass line 60 not only complicates the supply path of the process gas but also creates a branch point on the pipeline, thereby increasing the possibility of gas leakage.

또한 가스라인(20)을 통한 정상적인 가스공급 상황하에서도 우회라인(60) 내부에 공정가스가 정체하며, 정체된 공정가스가 시효경과에 따라 순도 저하되는 문제점이 있었다.In addition, even in a normal gas supply situation through the gas line 20, the process gas is stagnated inside the bypass line 60, and there is a problem that the stagnant process gas is deteriorated according to the aging process.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은, 이상 상황 발생시 우회라인이나 메뉴얼밸브 없이도 공정가스를 연속공급할 수 있는 전자소재 제조용 가스공급장치를 제공함에 그 목적이 있다.In view of the above problems, the present invention has an object to provide a gas supply device for manufacturing an electronic material which can continuously supply a process gas without a bypass line or a manual valve when an abnormal situation occurs.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 가스봄베의 공정가스를 공정챔버로 이송하는 가스라인과, 상기 가스라인에 설치되며 공압에 의해 구동되어 공정가스의 이송여부를 단속하는 개폐밸브와, 상기 개폐밸브측으로 연결되어 상기 개폐밸브의 구동을 위한 공압을 전달하는 공압라인과, 상기 공압라인을 통하여 상기 개폐밸브측으로 전달되는 공압을 제어신호에 따라 인가 또는 차단하는 자동제어기재와, 상기 자동제어기재의 이상 발생시 상기 공압라인으로 공압을 강제 전달하여 상기 개폐밸브를 개방시키는 수동제어기재를 포함한다.The present invention for achieving the above object, the gas line for transferring the process gas of the gas cylinder to the process chamber, the on-off valve is installed in the gas line is driven by pneumatic to control the transfer of the process gas, A pneumatic line connected to the on / off valve side for delivering pneumatics for driving the on / off valve, an automatic control material for applying or blocking pneumatics transmitted to the on / off valve side through the pneumatic line according to a control signal, and the automatic control It includes a manual control device for opening the on-off valve by forcibly transferring the pneumatic pressure to the pneumatic line when the abnormality of the substrate.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. 그러나 이하의 실시 예는 이 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시 예에 한정되는 것은 아니다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following embodiments are provided to those skilled in the art to fully understand the present invention, and may be modified in various forms, and the scope of the present invention is limited to the embodiments described below. It is not. Like numbers refer to like elements in the figures.

도 2는 본 발명에 따른 전자소재 제조용 가스공급장치의 일실시 구성도이다.2 is a configuration diagram of an embodiment of a gas supply apparatus for manufacturing an electronic material according to the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 전자소재 제조용 가스공급장치는 가스봄베(100)의 공정가스를 공정챔버(200)로 이송하는 가스라인(110)과, 상기 가스라인(110)에 설치되며 공압에 의해 구동되어 공정가스의 이송여부를 단속하는 개폐밸브(111)와, 상기 개폐밸브(111)측으로 연결되어 상기 개폐밸브(111)의 구동을 위한 공압을 전달하는 공압라인(320)과, 상기 공압라인(320)을 통하여 상기 개폐밸브(111)측으로 전달되는 공압을 제어신호에 따라 인가 또는 차단하는 자동제어기재(300)와, 상기 자동제어기재(300)의 이상 발생시 상기 공압라인(320)으로 공압을 강제 전달하여 상기 개폐밸브(111)를 개방시키는 수동제어기재(400)를 포함한다.Referring to FIG. 2, a gas supply apparatus for manufacturing an electronic material according to an exemplary embodiment of the present invention includes a gas line 110 for transferring a process gas of a gas cylinder 100 to a process chamber 200, and the gas line ( It is installed in the 110 and the pneumatic line which is driven by the pneumatic pressure to control the transfer of the process gas and connected to the on-off valve 111 side to deliver the pneumatic pressure for driving the on-off valve 111 320 and the automatic control unit 300 for applying or blocking the pneumatic pressure transmitted to the on-off valve 111 through the pneumatic line 320 in accordance with a control signal, and the abnormality of the automatic control unit 300 It includes a manual control substrate 400 for opening the on-off valve 111 by forcibly transferring the pneumatic pressure to the pneumatic line (320).

상기 가스라인(110)은 가스봄베(100)의 공정가스를 공정챔버(200)로 이송하 기 위한 가스 공급관(로)이고, 상기 개폐밸브(111)는 상기 가스라인(110)을 통하여 이송되는 공정가스가 공정챔버(200)로 공급되는 것을 단속하기 위한 밸브이다.The gas line 110 is a gas supply pipe (ro) for transferring the process gas of the gas cylinder 100 to the process chamber 200, and the opening and closing valve 111 is transferred through the gas line 110. It is a valve for controlling the supply of the process gas to the process chamber 200.

이러한 개폐밸브(111)는 공압에 의해 구동되는 밸브이되, 공압 인가되면 가스라인(110)을 폐쇄하고 공압 해제되면 가스라인(110)을 개방하도록 구성되거나, 역으로 공압 인가되면 가스라인(110)을 개방하고 공압 해제되면 가스라인(110)을 폐쇄하도록 구성될 수 있다.The on-off valve 111 is a valve driven by pneumatic pressure, is configured to close the gas line 110 when the pneumatic pressure is applied and open the gas line 110 when the pneumatic release, or reversely applied gas pressure 110 It may be configured to close the gas line 110 when the opening and pneumatic release.

상기 공압라인(320)은 일측이 공압공급원(310)과 소통연결되고 타측이 개폐밸브(111)에 연결된다. 따라서 개폐밸브(111)는 공압공급원(310)으로 부터 공압 공급받을 수 있으며, 본 일실시예에서는 개폐밸브(111)에 공압 인가되면 가스라인(110)이 개방되고 개폐밸브(111)에 공압 해제되면 가스라인(110)이 폐쇄되는 것으로 예시한다.The pneumatic line 320 is one side is in communication with the pneumatic supply source 310 and the other side is connected to the on-off valve 111. Therefore, the on-off valve 111 may be supplied with pneumatic pressure from the pneumatic supply source 310. In the present embodiment, when pneumatic pressure is applied to the on / off valve 111, the gas line 110 is opened and the pneumatic release is performed on the on / off valve 111. When the gas line 110 is closed.

상기 자동제어기재(300)는 공정챔버(200)의 가스 공급요구에 따라 개폐밸브(111)를 제어하여 공정챔버(200)로의 공정가스 공급을 조절하는 구성모듈이며, 일례로 상기의 공압공급원(310)과, 공정챔버(200)의 가스 공급요구에 따라 제어신호를 발생하는 콘트롤러(330)와, 상기 콘트롤러(330)에서 발생되는 제어신호에 따라 온 또는 오프되어 공압라인(320)에서 개폐밸브(111)로의 공압 공급을 단속하는 솔레노이드밸브(321)를 포함한다.The automatic control substrate 300 is a configuration module for controlling the supply gas to the process chamber 200 by controlling the opening and closing valve 111 according to the gas supply request of the process chamber 200, for example, the pneumatic supply source ( 310, the controller 330 for generating a control signal according to the gas supply request of the process chamber 200, and on or off in accordance with the control signal generated from the controller 330 is opened or closed valve in the pneumatic line 320 And a solenoid valve 321 for intermittent pneumatic supply to 111.

상기 콘트롤러(330)는 예컨데 PLC(Programmable Logic Controller) 등 일수 있으며, 상기 솔레노이드밸브(321)는 예컨데 3포트 2위치 구조로 설계되어 콘트롤러(330)에서 전달되는 제어신호에 따라 온 또는 오프 동작되고 이러한 온 또는 오 프 동작에 의해 공압공급원(310)에서 발생되는 공압을 공압라인(320)을 통하여 개폐밸브(111)로 전달 또는 차단할 수 있다.The controller 330 may be, for example, a programmable logic controller (PLC) or the like, and the solenoid valve 321 is designed in a three-port two-position structure to be operated on or off in accordance with a control signal transmitted from the controller 330. Pneumatic pressure generated from the pneumatic source 310 by the on or off operation may be transmitted or blocked to the on-off valve 111 through the pneumatic line 320.

한편 콘트롤러(330)에 고장이 발생되어 솔레노이드밸브(321)에 제어신호를 인가하지 못할 경우, 솔레노이드밸브(321)의 자체고장으로 온 또는 오프 동작되지 못하는 경우, 정전에 의해 콘트롤러(330)나 솔레노이드밸브(321)가 전원공급 중단될 경우에 개폐밸브(111)로 공압이 인가되지 못하여 개폐밸브(111)는 가스라인(110)을 차단한 상태로 유지된다. 이로 인해 공정챔버(200)로의 공정가스 공급이 중단되어 공정챔버(200)에서의 공정진행이 정지되고, 전체 공정도 정지되는 상황이 발생될 수 있다.On the other hand, when a failure occurs in the controller 330 and a control signal is not applied to the solenoid valve 321, when the on or off operation is not performed due to the failure of the solenoid valve 321, the controller 330 or the solenoid by power failure When the power supply of the valve 321 is stopped, pneumatic pressure is not applied to the on / off valve 111 so that the on / off valve 111 is maintained in a state in which the gas line 110 is shut off. As a result, the process gas supply to the process chamber 200 is stopped, and thus the process progress in the process chamber 200 is stopped and the entire process may be stopped.

따라서 본 일실시예에 따른 전자소재 제조용 가스공급장치는 상기한 바와 같은 콘트롤러(330)나 솔레노이드밸브(321) 등의 자동제어기재(300)의 고장 또는 정전과 같은 예기치 못한 이상 상황 발생시에도 공정챔버(200)로 공정가스를 공급하는 것이 가능하도록 수동제어기재(400)를 포함한다.Therefore, the gas supply apparatus for manufacturing an electronic material according to the present embodiment is a process chamber even when an unexpected abnormal situation such as a failure or power failure of the automatic control substrate 300 such as the controller 330 or the solenoid valve 321 as described above occurs. Manual control substrate 400 is included to enable supply of process gas to 200.

상기 수동제어기재(400)는 상기와 같은 이상 상황 발생시 공압라인(320)으로 공압을 강제 공급하여 개폐밸브(111)를 개방시키는 것으로 공정가스의 공급을 유지시키는 구성모듈이며, 상기 공압라인(320)에서 분기되어 공압공급원(410)과 연결되는 분기라인(420)과, 상기 분기라인(420)에 설치되어 상기 공압라인(320)으로의 공압 인가여부를 단속하는 공압밸브(421)를 포함하는 것이 바람직하다.The manual control substrate 400 is a configuration module for maintaining the supply of the process gas by forcibly supplying pneumatic pressure to the pneumatic line 320 when the abnormal situation occurs as described above to open the valve 111, the pneumatic line 320 A branch line 420 branched from and connected to the pneumatic supply source 410, and a pneumatic valve 421 installed at the branch line 420 to control whether pneumatics are applied to the pneumatic line 320. It is preferable.

따라서 본 일실시예에 따른 전자소재 제조용 가스공급장치는 종래 기술에서 메뉴얼밸브가 채용되어 제조단가가 높았던 것에 비해, 공압밸브(421)가 채용되므로 장치의 제조단가를 현저하게 절감시키는 장점이 있다.Therefore, the gas supply apparatus for manufacturing an electronic material according to the present embodiment has an advantage of significantly reducing the manufacturing cost of the device because the pneumatic valve 421 is employed, compared to the manual valve is adopted in the prior art and the manufacturing cost is high.

더욱이 종래 기술에서는 공정가스를 공급하는 가스라인에 우회라인 추가로 설치되어 이상 상황 발생시 공정가스를 우회공급하는 구조인 것에 비해, 본 일실시예에서는 가스라인(110)을 그대로 유지하는 것은 물론 우회라인이 필요치않아 공정가스의 공급경로가 최적 간소화된다.Furthermore, in the prior art, the bypass line is additionally installed in the gas line for supplying the process gas to bypass the process gas when the abnormal situation occurs. In this embodiment, the gas line 110 is maintained as it is. This necessity simplifies the supply path of the process gas optimally.

또한 본 일실시예에 따르면, 가스라인(100)의 관로상에 분기점이 없으므로 가스누출 가능성을 최소화하며, 공정가스가 정체되지 않으므로 공정가스의 순도저하 가능성을 미연에 방지하는 등의 다양한 장점이 있다.In addition, according to the present embodiment, since there is no branch point on the pipeline of the gas line 100, there is various advantages such as minimizing the possibility of gas leakage and preventing the possibility of purity deterioration of the process gas since the process gas is not stagnant. .

상기 공압밸브(421)는 예컨데 일측에 푸쉬스위치가 마련된 3포트 2위치 구조로 설계되어 상기한 바와 같은 이상 상황 발생시 작업자에 의해 푸쉬스위치가 강제로 푸쉬조작되면 공압공급원(410)의 공압을 공압라인(320)을 통하여 개폐밸브(111)로 공급한다.For example, the pneumatic valve 421 is designed in a three-port two-position structure in which a push switch is provided at one side thereof. Supply to the on-off valve 111 through (320).

상기의 구성에서, 공압라인(320)과 분기라인(420)의 분기점에는 체크밸브(422)를 더 포함하는 것이 바람직하다. 상기 체크밸브(422)는 공압라인(320)을 통과하는 공압이 분기라인(420)측으로 역유입되는 것을 방지하여, 공압이 개폐밸브(111)측으로만 공급되도록 하는 한편 불필요하게 유출소모되는 것을 방지하는 장점이 있다.In the above configuration, it is preferable to further include a check valve 422 at the branch point of the pneumatic line 320 and the branch line 420. The check valve 422 prevents the pneumatic pressure passing through the pneumatic line 320 from flowing back to the branch line 420 side, so that the pneumatic pressure is supplied only to the on-off valve 111 side and prevents unnecessary drainage. There is an advantage.

또한, 분기라인(420)에는 관로상의 압력을 측정하여 표시하는 압력표시기(423)를 더 포함한다. 상기 압력표시기(423)는 이상 상황 발생시 공압밸브(421)의 조작에 의해 공압공급원(410)의 공압이 분기라인(420)을 통하여 공압라인(320) 으로 정상 공급되고 있는지의 여부를 육안으로 점검할 수 있게 표시하여, 작업자에게 공압밸브(421)의 정상작동여부를 즉각 파악할 수 있게 한다.In addition, the branch line 420 further includes a pressure indicator 423 for measuring and displaying the pressure on the pipeline. The pressure indicator 423 visually checks whether or not the air pressure of the pneumatic supply source 410 is normally supplied to the pneumatic line 320 through the branch line 420 by an operation of the pneumatic valve 421 when an abnormal situation occurs. Displayed so as to enable the operator to immediately determine whether the normal operation of the pneumatic valve (421).

한편 상기 자동제어기재(300)의 공압공급원(310)과 상기 수동제어기재(400)의 공압공급원(410)은 예시한 바와 같이 서로 다른 구성요소일 수도 있고, 동일한 구성요소로 구성하는 것도 고려될 수 있을 것이다. 즉, 솔레노이드밸브(321)측으로 입력되는 공압과 공압밸브(421)로 입력되는 공압이 동일한 공압원에서 공급되어도 무방함은 물론이다. 그리고 도 2에서 미설명된 부호 112는 레귤레이터이다.Meanwhile, the pneumatic supply source 310 of the automatic control substrate 300 and the pneumatic supply source 410 of the manual control substrate 400 may be different components as illustrated, or may be considered to be composed of the same components. Could be. That is, of course, the pneumatic pressure input to the solenoid valve 321 and the pneumatic pressure input to the pneumatic valve 421 may be supplied from the same pneumatic source. Reference numeral 112 not described in FIG. 2 is a regulator.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예를 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.Although the present invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments and has ordinary skill in the art to which the present invention pertains without departing from the concept of the present invention. Various changes and modifications are possible by the user.

상기한 바와 같이 본 발명은, 자동제어기재의 이상 발생시 공정가스의 공급을 유지시키기 위한 구성부품으로 메뉴얼밸브 대신 공압밸브가 채용되므로 장치의 제조단가를 현저하게 절감시키는 효과가 있다.As described above, the present invention has the effect of significantly reducing the manufacturing cost of the device because a pneumatic valve is employed as a component for maintaining the supply of process gas in the event of an abnormality of the automatic control equipment.

또한 본 발명은, 우회라인이 생략되므로 공정가스의 공급경로가 간소화되고, 관로상에 분기점이 없으므로 가스누출 가능성을 최소화하며, 공정가스가 정체되지 않으므로 공정가스의 순도저하 가능성을 미연에 방지하는 효과가 있다.In addition, the present invention, the bypass line is omitted, the process gas supply path is simplified, there is no branch point in the pipeline minimizes the possibility of gas leakage, the process gas is not stagnant effect of preventing the possibility of lowering the purity of the process gas in advance There is.

Claims (4)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 가스봄베의 공정가스를 공정챔버로 이송하는 가스라인과, 상기 가스라인에 설치되며 공압에 의해 구동되어 공정가스의 이송여부를 단속하는 개폐밸브와, 상기 개폐밸브측으로 연결되어 상기 개폐밸브의 구동을 위한 공압을 전달하는 공압라인과, 상기 공압라인을 통하여 상기 개폐밸브측으로 전달되는 공압을 제어신호에 따라 인가 또는 차단하는 자동제어기재, 및 상기 자동제어기재의 이상 발생시 상기 공압라인으로 공압을 강제 공급하여 상기 개폐밸브를 개방시키는 수동제어기재를 포함하고,A gas line for transferring the process gas of the gas cylinder to the process chamber, an on / off valve installed in the gas line and driven by pneumatic to control the transfer of the process gas, and connected to the on / off valve side to drive the on / off valve. A pneumatic line for delivering the pneumatic pressure, an automatic control device for applying or blocking the pneumatic pressure delivered to the on / off valve side through the pneumatic line according to a control signal, and forcibly supplying air pressure to the pneumatic line when an abnormality occurs in the automatic control device And includes a manual control material for opening the on-off valve, 상기 수동제어기재는 상기 공압라인에서 분기되어 공압공급원과 연결되는 분기라인과 이 분기라인에 설치되어 상기 공압라인으로의 공압 인가여부를 단속하는 공압밸브를 포함하는 전자소재 제조용 가스공급장치에 있어서,The manual control material is a gas supply device for manufacturing an electronic material comprising a branch line branched from the pneumatic line and connected to a pneumatic supply source and a pneumatic valve installed at the branch line to control whether pneumatics are applied to the pneumatic line. 상기 분기라인에는 관로상의 압력을 측정하여 표시하는 압력표시기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자소재 제조용 가스공급장치.The branch line further comprises a pressure indicator for measuring and displaying the pressure on the pipe to the electronic material manufacturing gas supply device.
KR1020060091941A 2006-09-21 2006-09-21 Gas supply device for manufacturing electronic material KR100852624B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060091941A KR100852624B1 (en) 2006-09-21 2006-09-21 Gas supply device for manufacturing electronic material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060091941A KR100852624B1 (en) 2006-09-21 2006-09-21 Gas supply device for manufacturing electronic material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080026852A KR20080026852A (en) 2008-03-26
KR100852624B1 true KR100852624B1 (en) 2008-08-18

Family

ID=39414065

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060091941A KR100852624B1 (en) 2006-09-21 2006-09-21 Gas supply device for manufacturing electronic material

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100852624B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101239427B1 (en) * 2010-07-27 2013-03-06 주식회사 포스코 An apparatus for throwing tundish flux

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102040641B1 (en) * 2019-02-20 2019-11-06 (주)쎌텍 Automatic apparatus for transfering supply of gas for process
CN111916328B (en) * 2019-05-10 2024-02-27 北京北方华创微电子装备有限公司 Flow path interlocking structure, air inlet device and semiconductor processing equipment
KR20230054436A (en) * 2020-08-21 2023-04-24 램 리써치 코포레이션 Solenoid bank with standby solenoid valves for controlling pneumatic valves of a substrate processing system

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200180891Y1 (en) * 1999-11-30 2000-05-15 주식회사케이.씨.텍 Gas suppling machine
KR20020065118A (en) * 2001-02-05 2002-08-13 한국에너지기술연구원 Automatic performance test and evaluation apparatus for polymer electrolyte fuel cell power generation systems
KR20050030020A (en) * 2003-09-24 2005-03-29 삼성전자주식회사 Reaction chamber system having gas supply apparatus

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200180891Y1 (en) * 1999-11-30 2000-05-15 주식회사케이.씨.텍 Gas suppling machine
KR20020065118A (en) * 2001-02-05 2002-08-13 한국에너지기술연구원 Automatic performance test and evaluation apparatus for polymer electrolyte fuel cell power generation systems
KR20050030020A (en) * 2003-09-24 2005-03-29 삼성전자주식회사 Reaction chamber system having gas supply apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101239427B1 (en) * 2010-07-27 2013-03-06 주식회사 포스코 An apparatus for throwing tundish flux

Also Published As

Publication number Publication date
KR20080026852A (en) 2008-03-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101988361B1 (en) Gas Supply System
KR101291236B1 (en) A pressure insensitive mass flow controller, a process fluid control assembly, a fluid control panel, a combination manual/pneumatic valve for a fluid control assembly, and a method of preventing a mass flow controller from participating in crosstalk in an array of mass controllers
KR100852624B1 (en) Gas supply device for manufacturing electronic material
JP5580380B2 (en) Solenoid bypass system for continuous operation of pneumatic valves
JP5107007B2 (en) Valve open / close counting method in automatic liquid supply device
KR20150072831A (en) Air pressure distributor for fluid supply
EP1744131A1 (en) Module for a gas system
CA2327915C (en) Process and fixture for ascertaining pressure losses
JP5251734B2 (en) Paste applicator
KR101275890B1 (en) Apparatus for providing a divided gas
RU2757342C2 (en) Pressure retention unit
KR200158763Y1 (en) Controller of nitrogen gas pressure
KR200266364Y1 (en) The real-time gas monitoring device of gas supply system
KR20060135319A (en) Step valve testing device and it's processing
US6796458B2 (en) Air supply apparatus for semiconductor device fabricating equipment
KR200180891Y1 (en) Gas suppling machine
JP2007205500A (en) Backflow prevention device
KR20070044884A (en) Valve assembly
KR20070047487A (en) Gas supplying device for manufacturing electronic material and method thereof
KR20040078189A (en) test system of setting up a fluid-line and method thereof
KR200483613Y1 (en) Solenoid valve test device
KR100749335B1 (en) Apparatus for automatically venting photoresist
KR20090058638A (en) Chemical delivery system for manufacturing semiconductor device
KR20020049549A (en) Pressure controller for tire
KR20100058917A (en) Method for supplying treating liquid

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
J201 Request for trial against refusal decision
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130530

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140624

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150701

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160810

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180717

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190717

Year of fee payment: 12