KR100830439B1 - Plasma display panel, fabricating method and barrier lib material composition thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널, 그 제조 방법 및 격벽 재료 조성물에 관한 것으로, 현재 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽을 형성하는 공정이나, 대다수의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 공정에 적용 중인 감광성법에서는 아크릴레이트 기반의 바인더를 사용하고 있다. 그런데, 상기 아크릴레이트 기반의 바인더를 사용한 감광성 격벽 재료 조성물은 고굴절률과 현상성을 확보하기 위해 바인더의 산가가 높아지게 되므로, 페이스트 내의 파우더와의 반응으로 인해 페이스트 저장 안정성이 떨어져 고정세 패턴의 격벽을 얻을 수 없었고, 그에 따라 공정이 복잡해져 비용의 증가와 함께 높은 어스펙트비를 얻기가 힘들다는 문제점이 있었다. 따라서, 본 발명은 고굴절률의 감광성 격벽 재료 조성물을 이용하여 고정세 패턴의 격벽을 얻을 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널, 그 제조 방법 및 격벽 재료 조성물을 제공하는 데 있다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel, a method for manufacturing the same, and a partition material composition. In the process of forming a partition of a plasma display panel or a photosensitive method applied to most plasma display panel manufacturing processes, an acrylate-based binder is used. I use it. However, since the acid value of the binder is increased in order to secure high refractive index and developability of the photosensitive partition material composition using the acrylate-based binder, the paste storage stability is poor due to the reaction with the powder in the paste. There was a problem in that it was difficult to obtain a high aspect ratio with the increase of the cost due to the complicated process. Accordingly, the present invention can obtain a high-definition partition by using a high refractive index photosensitive partition material composition. The present invention provides a plasma display panel, a method of manufacturing the same, and a partition material composition.

격벽, 감광성, 포토마스크, 굴절률, HALS Bulkhead, photosensitive, photomask, refractive index, HALS

Description

플라즈마 디스플레이 패널, 그 제조 방법 및 격벽 재료 조성물{PLASMA DISPLAY PANEL, FABRICATING METHOD AND BARRIER LIB MATERIAL COMPOSITION THEREOF}Plasma display panel, its manufacturing method and partition material composition TECHNICAL FIELD {PLASMA DISPLAY PANEL, FABRICATING METHOD AND BARRIER LIB MATERIAL COMPOSITION THEREOF}

도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 일례를 나타낸 사시도이다.1 is a perspective view showing an example of a general plasma display panel.

도 2는 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 감광성법을 나타낸 공정도이다.2 is a flowchart illustrating a photosensitive method of a general plasma display panel.

도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 후면 기판의 개략 단면도이다.3 is a schematic cross-sectional view of a rear substrate of a plasma display panel according to a preferred embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 나타낸 흐름도이다.4 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a plasma display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 5a 내지 도 5j는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 나타낸 공정도이다.5A to 5J are process charts illustrating a method of manufacturing a plasma display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 간단한 설명><Brief description of the main parts of the drawing>

110 : 하부기판 111 : 후면 글라스110: lower substrate 111: rear glass

115, 130 : 유전체층 113, 120 : 어드레스 전극115 and 130: dielectric layers 113 and 120: address electrodes

140 : 격벽층 141 : 소성된 격벽층140: partition wall layer 141: fired partition wall layer

142 : 소성전 격벽 150 : 포토레지스트142: barrier rib before firing 150: photoresist

112a, 160 : 격벽112a, 160: bulkhead

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널, 그 제조 방법 및 격벽 재료 조성물에 관한 것으로 특히, 감광성 수지를 이용한 격벽 조성물 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a plasma display panel, a method for manufacturing the same, and a partition material composition, and more particularly, to a partition composition using a photosensitive resin and a method for manufacturing the plasma display panel using the same.

플라즈마 디스플레이 패널(PDP : Plasma Display Panel)은 방전 현상을 이용하여 화상을 표시하는 발광형 표시소자의 일종으로서, 각 셀마다 액티브 소자를 장착할 필요가 없어 제조 공정이 간단하고, 화면의 대형화가 용이하며, 응답속도가 빨라 대형화면을 가지는 화상표시장치의 표시소자로 각광받고 있다.Plasma Display Panel (PDP) is a type of light emitting display device that displays an image by using a discharge phenomenon. It is not necessary to mount an active device for each cell, so the manufacturing process is simple and the screen is easily enlarged. In addition, its response speed is fast becoming a display element of an image display device having a large screen.

도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 일례를 나타내는 사시도이다.1 is a perspective view illustrating an example of a general plasma display panel.

도 1에 도시된 바와 같이, 상부 패널(10)과 하부 패널(20)을 대향시켜 겹친 구조로 되어있다. 상기 상부 패널(10)은 투명 기판(11)의 내면에 한 쌍의 유지전극이 배열되는데, 보통 이 유지전극은 각각 투명전극(12)과 버스전극(13)으로 이루어진다. As shown in FIG. 1, the upper panel 10 and the lower panel 20 face each other to overlap each other. The upper panel 10 has a pair of sustain electrodes arranged on an inner surface of the transparent substrate 11, which is usually composed of a transparent electrode 12 and a bus electrode 13, respectively.

이러한 유지전극은 AC 구동을 위한 유전체층(14)으로 피복되고, 이 유전체층(14)의 표면에는 보호막(15)이 형성된다.The sustain electrode is covered with a dielectric layer 14 for AC driving, and a protective film 15 is formed on the surface of the dielectric layer 14.

한편, 상기 하부 패널(20)의 내면에는 하부기판(21) 위에 어드레스 전극(22)이 배열되고, 그 위에 유전체층(23)이 형성되는데, 이 유전체층(23) 위에는 어드레 스 전극(22)을 구획하기 위한 스트라이프 또는 웰 타입의 격벽(24)이 형성되고, 이 격벽(24)에 의해 구획되는 셀에는 컬러표시를 위한 적색, 청색 및 녹색의 형광체(26)가 도포되어 서브 픽셀을 이룬다.On the other hand, an address electrode 22 is arranged on the lower substrate 21 on the inner surface of the lower panel 20, and a dielectric layer 23 is formed thereon. The address electrode 22 is partitioned on the dielectric layer 23. A stripe or well type partition wall 24 is formed, and red, blue, and green phosphors 26 for color display are applied to the cells partitioned by the partition wall 24 to form a subpixel.

상기 격벽(24)에 의하여 방전셀(25)이 서브 픽셀마다 구획되고, 또한 이 방전셀(25)에는 방전가스가 봉입되며, 하나의 픽셀은 상기 3개의 서브 픽셀로 이루어진다.The discharge cell 25 is divided into subpixels by the partition wall 24, and discharge gas is enclosed in the discharge cell 25, and one pixel includes the three subpixels.

상기 격벽(24)의 형성 방법은 주로 인쇄법, 샌드블라스팅법, 에칭법, 및 감광성 재료를 이용하는 포토리소그래피법이 적용되고 있다.As the method for forming the partition wall 24, a printing method, a sand blasting method, an etching method, and a photolithography method using a photosensitive material are mainly applied.

상기 인쇄법은 높은 칙소성을 가진 글라스 페이스트를 수차례 인쇄하여 원하는 정도의 격벽을 형성하는 방법이고, 샌드블라스팅법은 소성 전의 격벽재 위에 드라이 필름 레지스트(Dry Film Resist: DFR)를 도포한 후, 이를 포토마스크를 이용하여 노광하고 현상한 후에, 이와 같이 패터닝된 DFR을 마스크로 이용하여 샌드블라스팅으로 격벽 패턴을 형성한 후 소성하는 방법이다.The printing method is a method of forming a partition of a desired degree by printing a glass paste having a high thixotropy several times, sandblasting method after applying a dry film resist (DFR) on the partition material before firing, After exposure and development using a photomask, the patterned DFR is used as a mask to form a barrier rib pattern by sand blasting and then fire.

또한, 에칭법은 상기 샌드블라스팅법 공정과 유사하나, 상기 샌드블라스팅 대신에 에칭액을 이용하여 격벽을 형성하는 것이다.In addition, the etching method is similar to the sandblasting process, but instead of the sandblasting, an etching solution is used to form partition walls.

그런데 상기 에칭법에는 2가지 방법이 현재 적용중인데, 격벽재 위에 올리는 DFR의 경우가 필름 형태인 것과 액상 PR(Photo Resist)의 2가지 경우가 있다. 그러므로, 이 재료에 따른 공법의 차이가 있다. However, two methods are currently being applied to the etching method, and there are two cases of DFR placed on the partition material, that is, a film form and a liquid photoresist (PR). Therefore, there is a difference in the method according to this material.

도 2는 일반적인 PDP의 감광성법을 나타낸 공정도이다.2 is a process chart showing a photosensitive method of a general PDP.

도 2에 도시된 바와 같이, 하판 글라스에 전극층을 형성한 후, 유전체를 입 히고 그 위에 격벽재를 인쇄나 시트, 또는 다이코팅을 통하여 코팅(S10)하여 건조를 한다. As shown in FIG. 2, after forming the electrode layer on the lower plate glass, a dielectric is coated, and the partition material is coated on the substrate through printing, sheet, or die coating (S10), and dried.

여기에 사용되는 격벽 재료 조성물은 기존의 샌딩법이나 인쇄법에 사용되는 재료가 아니라, 감광성에 적합한 파우더와 UV에 감광되어 경화가 이루어질 수 있는 광경화용 비히클이 혼합된 페이스트를 기초로 만들어진 페이스트나 시트 형태의 재료이다.The partition material composition used herein is not a material used in the conventional sanding or printing method, but a paste or sheet made of a paste containing a powder suitable for photosensitivity and a photocuring vehicle that can be cured by being exposed to UV light. It is a material of form.

또한, 현재 대다수 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 공정에 적용 중인 전술한 감광성법에서는 아크릴레이트 기반의 바인더를 사용하고 있다.In addition, the aforementioned photosensitive method, which is currently applied to the manufacturing process of most plasma display panels, uses an acrylate-based binder.

그런데, 상기 아크릴레이트 기반의 바인더를 사용한 감광성 격벽 재료 조성물은 고굴절률을 확보하기 위해서 높은 바인더 번 아웃(BBO) 온도를 가지게 되고, 현상성을 확보하기 위해 바인더의 산가가 높아져, 페이스트 내의 파우더와의 반응으로 인해 페이스트 저장 안정성이 떨어지는 문제점을 가지고 있다.However, the photosensitive bulkhead material composition using the acrylate-based binder has a high binder burnout (BBO) temperature to secure a high refractive index, and an acid value of the binder increases to secure developability, and thus the Due to the reaction, the storage stability of the paste is poor.

또한, 상기 아크릴레이트 기반의 바인더를 사용한 감광성 격벽 재료 조성물은 고정세 패턴의 격벽을 얻을 수 없었고, 고정세 패턴의 격벽을 얻기 위해서는 공정이 복잡해져 비용의 증가와 함께 높은 어스펙트비를 얻기 힘들다는 문제점이 있었다.In addition, the photosensitive partition material composition using the acrylate-based binder was not able to obtain a high-definition pattern partition wall, the process is complicated to obtain a high-definition pattern partition wall is difficult to obtain a high aspect ratio with the increase in cost There was this.

따라서, 본 발명은 이상과 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 본 발명에 따른 감광성 격벽 재료 조성물을 이용하여 공정수를 감소시켜 비용을 감소시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널, 그 제조 방법 및 격벽 재료 조 성물을 제공하는 데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to solve the above problems, and an object of the present invention is to reduce the number of processes by using the photosensitive partition material composition according to the present invention, a plasma display panel, a manufacturing method thereof, and To provide a bulk material composition.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명에 따른 감광성 격벽 재료 조성물을 이용하여 고정세의 격벽을 형성할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널, 그 제조 방법 및 격벽 재료 조성물을 제공하는 데 있다.Still another object of the present invention is to provide a plasma display panel capable of forming a high-definition partition wall using the photosensitive partition wall material composition according to the present invention, a manufacturing method thereof, and a partition wall material composition.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 서스테인 전극이 구비된 상판; 어드레스 전극이 구비된 하판; 및 하판의 유전체층 상에 형성되고, 고굴절률의 페이스트가 도포된 격벽을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a plasma display panel according to an embodiment of the present invention, the top plate provided with a sustain electrode; A lower plate having an address electrode; And a partition wall formed on the lower dielectric layer and coated with a high refractive index paste.

여기서 고굴절률의 페이스트는 우레탄 아크릴레이트계 바인더, 저산가의 우레탄 아크릴레이트계 바인더, 모노머/올리고머, 및 단/장파장계 광개시제를 포함하고, 광개시제 100 중량부에 대하여 30∼80 중량부를 갖는 자외선 흡수제(UV absorber)를 더 포함하며, 광개시제의 활성화를 위한 라디칼 활성제(radical activator), 유기광촉매 및 장애아민 광 안정제(HALS : Hindered Amine Light Stablizer)를 더 포함한다.Here, the high refractive index paste includes a urethane acrylate binder, a low acid value urethane acrylate binder, a monomer / oligomer, and a short / long wavelength photoinitiator, and has a UV absorber having 30 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the photoinitiator (UV It further includes an absorber, and further comprises a radical activator (radical activator), an organic photocatalyst and a hindered amine light stabilizer (HALS: Hindered Amine Light Stabilizer) for the activation of the photoinitiator.

이때, 모노머는 9에틸렌옥사이드(EO)∼20에틸렌옥사이드(EO) 중 선택된 어느 하나의 에틸렌 옥사이드를 사용하고, 모노머/올리고머는 방향족을 다량 함유한 3가 아민의 모노머/올리고머를 사용한다.At this time, the monomer is any one of ethylene oxide selected from 9 ethylene oxide (EO) to 20 ethylene oxide (EO), the monomer / oligomer is used a monomer / oligomer of a trivalent amine containing a large amount of aromatic.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 격벽 재료 조성물에 의하면, 100℃ 이하의 유리전이온도를 갖는 불포화 아크릴레이트 바인더, 불포화 아크릴레이트 바인더의 100 중량부에 대하여, 20∼60의 중량부를 갖는 우레탄 아크릴레이트계 바인더, 모노머/올리고머, 및 단/장파장계 광개시제가 포함된 비히클을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, according to the partition material composition according to a preferred embodiment of the present invention, The unsaturated acrylate binder having a glass transition temperature of 100 ° C. or less, the urethane acrylate binder having 20 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the unsaturated acrylate binder, the monomer / oligomer, and the short / long wavelength photoinitiator are included. It is characterized in that it comprises a vehicle.

여기서, 불포화 아크릴레이트 바인더는 분자량 20,000∼200,000g/mol 중 어느 하나이거나, 산가 80∼150mgKOH/g 중 어느 하나이다.Here, an unsaturated acrylate binder is either of molecular weights 20,000-200,000 g / mol, or an acid value of 80-150 mgKOH / g.

이때, 우레탄 아크릴레이트계 바인더는 분자량 15,000~200,000g/mol 중 어느 하나이거나 산가 20∼120mgKOH/g 중 어느 하나이다.At this time, the urethane acrylate-based binder is any one of the molecular weight of 15,000 ~ 200,000g / mol or any one of the acid value 20 ~ 120mgKOH / g.

또한, 격벽 재료 조성물은 굴절률 향상을 위한 라디칼 활성제(radical activator), 유기광촉매 및 장애아민 광 안정제(HALS : Hindered Amine Light Stablizer)가 더 포함된 비히클을 포함하고, 광개시제 100 중량부에 대하여 30∼80 중량부를 갖는 범위에 UV 흡수제(absorber)가 더 포함된 비히클을 포함한다.In addition, the barrier material composition includes a vehicle further including a radical activator for improving refractive index, an organic photocatalyst and a hindered amine light stabilizer (HALS), and 30 to 80 parts by weight of the photoinitiator. It includes a vehicle further comprising a UV absorber (absorber) in the range having parts by weight.

그리고, 격벽 재료 조성물은 라디칼 활성제(radical activator), 유기광촉매, 장애아민 광 안정제(HALS : Hindered Amine Light Stablizer) 및 자외선 흡수제(UV absorber)가 더 포함된 비히클을 포함한다.The barrier material composition further includes a vehicle further including a radical activator, an organic photocatalyst, a hindered amine light stabilizer (HALS), and an ultraviolet absorber (UV absorber).

여기서, 자외선 흡수제는 단/장파장계 광개시제 100 중량부에 대하여 30∼80 중량부를 가짐과 동시에, 장애아민 광 안정제 100 중량부에 대하여 20~200 중량부를 갖는다.Here, the ultraviolet absorber has 30 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the short / long wavelength photoinitiator and 20 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the hindered amine light stabilizer.

또한, 격벽 재료 조성물은 비히클의 잔탄률을 5% 미만으로 하여 소성이 가 능하게 하고, 무기물과 유기물의 굴절률 차이를 1.0 이상으로 하며, 300mJ/㎠ 이하의 노광량으로 격벽 심부까지 경화가 가능하도록 한다.In addition, the partition material composition enables plasticity by reducing the residual carbon ratio of the vehicle to less than 5%, making the difference in refractive index between the inorganic material and the organic material 1.0 or more, and hardening to the core part with an exposure amount of 300 mJ / cm 2 or less.

마지막으로, 격벽 재료 조성물을 이용하여 격벽 형성을 위한 그린시트가 제작 가능하다.Finally, a green sheet for forming the partition wall can be manufactured using the partition material composition.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, 이상에서 설명한 격벽 재료 조성물을 준비하는 단계; 및 격벽 재료 조성물을 사용하여, 하판의 유전체층 상에 격벽을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a method of manufacturing a plasma display panel according to a preferred embodiment of the present invention comprises the steps of preparing a barrier material composition described above; And forming a partition on the dielectric layer of the lower plate using the partition material composition.

여기서, 격벽을 형성하는 단계는,Here, the step of forming the partition wall,

(a) 격벽 재료 조성물을 하판 유전체층 상에 도포하여 건조하는 단계;(a) applying the barrier material composition onto the bottom dielectric layer to dry;

(b) 도포된 격벽 재료 조성물을 포토마스크를 이용하여 소정의 광을 조사하여 현상하는 단계; 및(b) developing the coated partition material composition by irradiating predetermined light with a photomask; And

(c) 현상된 격벽 조성물을 소성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.(c) calcining the developed partition wall composition.

이때, (b) 단계는 격벽의 고감도화를 확보하여 노광의 회수를 1회로 하고, 9EO∼20EO 중 어느 하나를 사용하여 현상성을 보상한다.At this time, step (b) ensures high sensitivity of the partition wall, so that the number of exposures is repeated once, and any of 9EO to 20EO is used to compensate for developability.

또한, (c) 단계는 다량의 방향족을 함유한 3가 아민의 모노머/올리고머를 사용하여 굴절률을 향상하고, UV 흡수제를 소량 사용하여 소성함으로써, 장파장계 광개시제의 활성화를 촉진시키며, (c) 단계는 비히클의 잔탄률을 5% 미만으로 소성한다.In addition, step (c) improves the refractive index by using a monomer / oligomer of a trivalent amine containing a large amount of aromatics, and calcinates using a small amount of a UV absorber, thereby promoting activation of the long-wavelength photoinitiator, and (c) Fires the residual carbon percentage of the vehicle to less than 5%.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예의 구성과 그 작용을 설명하며, 도면에 도시되고 또 이것에 의해서 설명되는 본 발명의 구성과 작용은 적어도 하나의 실시예로서 설명되는 것이며, 이것에 의해서 상기한 본 발명의 기술적 사상 과 그 핵심 구성 및 작용이 제한되지는 않는다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings illustrating the configuration and operation of the embodiment of the present invention, the configuration and operation of the present invention shown in the drawings and described by it will be described as at least one embodiment, By the technical spirit of the present invention described above and its core configuration and operation is not limited.

도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 후면 기판의 개략 단면도이다.3 is a schematic cross-sectional view of a rear substrate of a plasma display panel according to a preferred embodiment of the present invention.

본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 기판은 종래의 기술과 동일하고, 후면 기판(110)은 복수 개의 방전 공간 즉, 방전셀을 형성시키기 위한 스트라이프 타입(또는 웰 타입)의 격벽(112a)이 평행을 유지하여 배열된다. 그리고, 어드레스 방전을 수행하여 진공자외선을 발생시키는 다수의 어드레스 전극(113)이 격벽에 대해 평행하게 배치된다. 후면 기판(110)의 상측면에는 어드레스 방전시에 화상표시를 위한 가시광선을 방출하는 R,G,B 형광체(114)가 도포된다. 어드레스 전극(113)과 형광체(114) 사이에는 어드레스 전극(113)을 보호하기 위한 하부 유전체층(115)이 형성된다.The front substrate of the plasma display panel according to the preferred embodiment of the present invention is the same as the conventional technology, and the rear substrate 110 is formed of a plurality of discharge spaces, that is, stripe type (or well type) partition walls for forming discharge cells ( 112a) are arranged in parallel. In addition, a plurality of address electrodes 113 which perform address discharge to generate vacuum ultraviolet rays are arranged in parallel with the partition wall. On the upper side of the rear substrate 110, R, G, and B phosphors 114 which emit visible light for image display during address discharge are coated. A lower dielectric layer 115 is formed between the address electrode 113 and the phosphor 114 to protect the address electrode 113.

화상이 디스플레이되는 표시면인 전면 글라스 상에, 스캔 전극과 서스테인 전극이 쌍을 이루어 형성된 복수의 유지전극쌍이 배열된다. 그리고, 후면 기판은 후면 글라스(111) 상에 도 1에 전술한 복수의 유지전극쌍과 교차되도록 복수의 어드레스 전극(113)이 배열되며, 후면 기판과 전면기판은 일정한 거리를 두고 평행하게 결합된다. 또한, 후면 기판 상에는 격벽(112a)이 형성되어, R, G, B 방전 셀을 각각 구획한다.On the front glass, which is a display surface on which an image is displayed, a plurality of sustain electrode pairs formed by pairing a scan electrode and a sustain electrode are arranged. In addition, a plurality of address electrodes 113 are arranged on the rear glass 111 to intersect the plurality of sustain electrode pairs described above with reference to FIG. 1, and the rear substrate and the front substrate are coupled in parallel at a predetermined distance. . In addition, barrier ribs 112a are formed on the rear substrate to partition the R, G, and B discharge cells, respectively.

상기 격벽(112a)은 우레탄 아크릴레이트계 바인더, 산가를 지닌 우레탄 아크릴레이트계 바인더, 모노머/올리고머, 및 단/장파장계 광개시제가 포함된 고굴절률의 페이스트를 도포하여 형성한다. The partition wall 112a is formed by applying a high refractive index paste containing a urethane acrylate binder, an urethane acrylate binder having an acid value, a monomer / oligomer, and a short / long wavelength photoinitiator.

여기서, 상기 페이스트는 상기 광개시제 100 중량부에 대하여 30∼80 중량부를 갖는 자외선 흡수제(UV absorber)를 더 포함하고, 상기 광개시제의 활성화를 위한 라디칼 활성제(radical activator), 유기광촉매 및 장애아민 광 안정제(HALS : Hindered Amine Light Stablizer)를 더 포함한다.Where The paste further includes a UV absorber having 30 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the photoinitiator, and a radical activator, an organic photocatalyst and a hindered amine light stabilizer (HALS) for activating the photoinitiator. Amine Light Stablizer).

그리고, 상기 모노머는, 9에틸렌옥사이드(EO)∼20에틸렌옥사이드(EO) 중 선택된 어느 하나의 에틸렌 옥사이드를 사용한다. 또한, 상기 모노머/올리고머는 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트(DMAEMA), 디메틸아미토프로필 메타크릴아미드(DMAPMA)와 같은 방향족을 다량 함유한 3가 아민의 모노머/올리고머를 사용하여 격벽 형성시 고감도화(high sensitive)를 이루게 한다.The monomer may be any one of ethylene oxide selected from 9 ethylene oxide (EO) to 20 ethylene oxide (EO). In addition, the monomer / oligomer is highly sensitive when forming a partition by using a monomer / oligomer of a trivalent amine containing a large amount of aromatics such as dimethylaminoethyl methacrylate (DMAEMA) and dimethylamitopropyl methacrylamide (DMAPMA). high sensitive).

또한, 상기 격벽(112a)에 도포되는 페이스트 조성물은 감광성 페이스트 조성물로서, 100℃ 이하의 유리전이온도를 갖는 불포화 아크릴레이트 바인더, 상기 불포화 아크릴레이트 바인더의 100 중량부에 대하여, 20∼60의 중량부를 갖는 우레탄 아크릴레이트계 바인더, 모노머/올리고머, 및 단/장파장계 광개시제가 포함된 비히클을 포함한다.In addition, the paste composition applied to the partition 112a is a photosensitive paste composition, which is 20 to 60 parts by weight based on 100 parts by weight of an unsaturated acrylate binder having a glass transition temperature of 100 ° C. or less and the unsaturated acrylate binder. And a vehicle containing a urethane acrylate binder, a monomer / oligomer, and a short / long wavelength photoinitiator.

여기서, 상기 불포화 아크릴레이트 바인더는 분자량 20,000∼200,000g/mol 중 어느 하나이거나, 산가 80∼150mgKOH/g 중 어느 하나이고, 분자량 15,000~200,000g/mol 중 어느 하나이거나 산가 20∼120mgKOH/g 중 어느 하나이다.Here, the unsaturated acrylate binder is any one of 20,000 to 200,000 g / mol of molecular weight, any one of the acid value of 80 to 150 mgKOH / g, any one of the molecular weight of 15,000 to 200,000 g / mol or any of the acid value of 20 to 120 mgKOH / g. One.

상기 격벽 재료 조성물은 굴절률 향상을 위한 라디칼 활성제, 유기광촉매, 장애아민 광 안정제(HALS : Hindered Amine Light Stablizer), UV 흡수제(absorber)가 더 포함된 비히클을 포함하고, UV 흡수제는 광개시제 100 중량부에 대하여 30∼80 중량부를 가짐과 동시에, 장애아민 광 안정제 100 중량부에 대하여 20~200 중량부를 갖는다.The barrier material composition includes a vehicle further including a radical activator for improving refractive index, an organic photocatalyst, a hindered amine light stabilizer (HALS), and a UV absorber. The UV absorber has 30 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the photoinitiator and 20 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the hindered amine light stabilizer.

상기 격벽 재료 조성물은 상기 비히클의 잔탄률을 5% 미만으로 하고, 유기물과 무기물의 굴절률 허용차의 범위를 0.1 이상인 -0.15~+0.15으로 넓게 한다.The partition material composition has a residual carbon ratio of the vehicle of less than 5%, and a range of refractive index tolerance between organic and inorganic materials. Widen it to -0.15 ~ + 0.15 which is 0.1 or more.

기존의 아크릴레이트 바인더를 사용할 경우, 바인더의 고굴절률을 확보하는데 어려움이 있었다. 그렇기 때문에, 상기 우레탄 아크릴레이트계 바인더와, 저산가의 우레탄 아크릴레이트계 바인더를 혼용함으로써, 고굴절률의 아크릴레이트 바인더의 사용을 저감할 수 있었고, 장애아민 광 안정제를 사용하여 굴절율의 차이가 넓어도 하부까지 조사된 광이 도달할 수 있게 함으로써 제조 단가의 저감을 통해 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 단가를 낮출 수 있었다.When using the existing acrylate binder, there was a difficulty in securing a high refractive index of the binder. Therefore, by using the urethane acrylate binder and the low acid value urethane acrylate binder, the use of a high refractive index acrylate binder can be reduced, and even if the difference in refractive index is wide using a hindered amine light stabilizer, By allowing the irradiated light to reach, the manufacturing cost of the plasma display panel can be lowered by reducing the manufacturing cost.

여기서, 상기 비히클은 라디칼 활성제(radical activator), 유기광촉매 및 장애아민 광 안정제(HALS : Hindered Amine Light Stablizer)가 더 포함되어 상기 광개시제를 활성화시킴으로써, 잔류 라디칼을 5% 미만으로 감소시킨다.Here, the vehicle further includes a radical activator, an organic photocatalyst and a hindered amine light stabilizer (HALS) to activate the photoinitiator, thereby reducing residual radicals to less than 5%.

상기 격벽(112a)은 비교적 후막이므로, 라디칼 활성제(radical activator), 유기광촉매, 장애아민 광 안정제(HALS : Hindered Amine Light Stablizer) 및 자외선 흡수제(UV absorber) 더 포함하여, 광중합시에 활성화된 단/장파장계 광개시제의 라디칼이 후막의 격벽 기저까지 도달하여 경화 반응을 진행할 수 있도록 하고 노광의 효율성을 높이는 동시에, 격벽의 안정성을 높이게 한다. 이때, 300mJ/㎠ 이하의 노광량으로 격벽 심부까지 경화가 가능하게 하고, 상기 라디칼 활성제는 굴절률을 높여주는 역할을 한다.Since the partition 112a is a relatively thick film, a radical activator, an organic photocatalyst, a hindered amine light stabilizer (HALS) and an ultraviolet absorber (UV absorber) are further included, so that the bulkhead 112a is activated during photopolymerization. The radicals of the long-wavelength photoinitiator reach the base of the thick wall of the thick film to proceed the curing reaction, increase the efficiency of the exposure, and increase the stability of the bulkhead. At this time, it is possible to cure up to the core portion of the partition wall with an exposure dose of less than 300mJ / ㎠, and the radical activator serves to increase the refractive index.

하기의 화학식 1은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 재료 조성물에 포함된 장애아민 광 안정제(HALS)의 화학 구조를 나타낸다.Formula 1 below shows the chemical structure of the hindered amine light stabilizer (HALS) contained in the partition material composition of the plasma display panel according to the present invention.

Figure 112006032101816-pat00001
Figure 112006032101816-pat00001

상기 식에서,Where

R=H, CH3 또는 OC8H17이다. R = H, CH 3 or OC 8 H 17 .

상기 화학식 1은 이미 공지된 사항이므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.Formula 1 is already known, so detailed description thereof will be omitted.

도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 나타낸 흐름도이다.4 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a plasma display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이, 처음에, 불포화 아크릴레이트 바인더, 상기 불포화 아크릴레이트 바인더의 100 중량부에 대하여, 20∼60의 중량부를 갖는 우레탄 아크릴레이트계 바인더, 모노머/올리고머, 단/장파장계 광개시제, 라디칼 활성제(radical activator), 유기광촉매, 장애아민 광 안정제(HALS), UV 흡수제가 포함된 격벽 재료 조성물을 포함하는 격벽 재료를 준비하는 단계(S410)와, 상기 준비된 격벽 재료 조성물을 사용하여, 하판의 유전체층 상에 격벽을 형성하는 단계(S420∼S440)를 포함하여 이루어진다.As shown, at first, an unsaturated acrylate binder, a urethane acrylate binder having 20 to 60 parts by weight relative to 100 parts by weight of the unsaturated acrylate binder, a monomer / oligomer, a short / long wavelength photoinitiator, a radical activator (S410) preparing a partition material including a partition material composition including a radical activator, an organic photocatalyst, a hindered amine light stabilizer (HALS), and a UV absorber (S410), and using the prepared partition material composition, a lower dielectric layer Forming a partition on the substrate (S420 to S440).

상기 격벽을 형성하는 단계(S420∼S440)는 상기 격벽 재료 조성물을 하판 유전체층 상에 도포하여 건조하고(S420), 다음에, 상기 도포된 격벽 재료 조성물을 소정의 광을 조사하여 현상하며(S430), 다음에, 상기 현상된 격벽 조성물을 소성하는 단계(S440)를 포함하여 이루어진다.In the forming of the partition walls (S420 to S440), the partition material composition is applied onto the lower plate dielectric layer to be dried (S420), and then the coated partition material composition is developed by irradiating predetermined light (S430). Next, the step of firing the developed partition wall composition (S440) is made.

여기서, 상기 단계(S420)에서는 격벽의 고감도화를 확보하기 위해 노광의 회수를 1회로 하고, 현상성을 보상하기 위해, 9EO∼20EO 중 어느 하나를 사용한다.Here, in the step S420, the number of exposures is repeated once to ensure high sensitivity of the partition wall, and one of 9EO to 20EO is used to compensate for developability.

또한, 상기 단계(S430)에서는 굴절률을 보상하기 위해, 방향족을 다량 함유한 3가 아민의 모노머/올리고머를 사용하고, 장파장계 광개시제의 활성화를 촉진시키기 위해 UV 흡수제를 소량 사용하여 소성한다. 이때, 비히클의 잔탄률을 5% 미만으로 소성한다.In addition, in the step (S430), to compensate for the refractive index, a monomer / oligomer of trivalent amine containing a large amount of aromatic is used, and a small amount of UV absorber is fired to promote the activation of the long wavelength photoinitiator. At this time, the residual carbon ratio of the vehicle is fired to less than 5%.

도 5a 내지 도 5j는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 나타낸 공정도이다.5A to 5J are process charts illustrating a method of manufacturing a plasma display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

플라즈마 디스플레이 패널의 후면 기판을 제조하는 공정은, 도 5a에 도시된 바와 같이 후면 글라스(511)를 준비하는 데 후면 글라스(511)는 소다 라임 유리 또는 PD200인 것이 바람직하다. 이어서, 도 5b에 도시된 바와 같이 후면 글라스(511) 상에 어드레스 전극(513)을 형성하고, 도 5c에 도시된 바와 같이 후면 글라스(511)와 어드레스 전극(513)을 덮도록 하부 유전체층(515)을 형성한다. 그리고, 하부 유전체층(515) 상에 격벽(512a)을 형성한다.In the process of manufacturing the rear substrate of the plasma display panel, as shown in FIG. 5A, the rear glass 511 is preferably prepared soda lime glass or PD200. Subsequently, an address electrode 513 is formed on the back glass 511 as shown in FIG. 5B, and a lower dielectric layer 515 is formed to cover the back glass 511 and the address electrode 513 as shown in FIG. 5C. ). The barrier rib 512a is formed on the lower dielectric layer 515.

격벽(512a)의 형성공정을 상세히 설명하면 다음과 같다. 먼저, 도 5d에 도시된 바와 같이 격벽 재료 조성물(512a)을 하부 유전체층(515) 상에 도포한다(S420). 격벽 재료 조성물(512a)의 도포는, 페이스트 형태의 격벽 재료 조성물을 인쇄하거나 슬러리 형태의 격벽 그린시트를 라미네이팅한다. 격벽 재료 조성물(512a)의 성분 및 조성비는 전술한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 재료 조성물과 동일하다. 이어서, 도포된 격벽 재료 조성물(512a)을 노광하여 현상하고(S430), 노광 공정은 도 5e에 도시된 바와 같이 격벽 재료 조성물(512a) 상에 포토레지스트(530)를 도포한 후, 도 5f에 도시된 바와 같이 포토마스크(532)를 포토레지스트(530)의 상측면에 씌우고 광을 조사하여 포토레지스트(532)를 경화시킨다. 이어서, 도 5g에 도시된 바와 같이 현상 공정에서, 경화되지 않은 포토레지스트(530)를 세정한 후, 도 5h에 도시된 바와 같이 광을 조사받은 격벽 재료 조성물(512a)을 식각한다. 현상액으로는 Na2CO3 수용액 또는 MEA(2-amino ethanol) 등을 사용하는 것이 바람직하다. 그리고, 도 5i에 도시된 바와 같이 포토레지스트(530)를 제거하고 소성을 하여 격벽(512a)을 완성한다(S440). 소성 온도는 500~600℃인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 540~580℃인 것이 바람직하다.The formation process of the partition 512a will be described in detail as follows. First, as illustrated in FIG. 5D, the partition material composition 512a is applied onto the lower dielectric layer 515 (S420). Application of the partition material composition 512a prints the partition material composition in paste form or laminates the partition green sheet in slurry form. The component and the composition ratio of the partition material composition 512a are the same as the partition material composition of the plasma display panel described above. Subsequently, the coated barrier material composition 512a is exposed and developed (S430), and the exposure process is performed by applying the photoresist 530 onto the barrier material composition 512a as shown in FIG. 5E. As shown, the photomask 532 is covered on the upper surface of the photoresist 530 and irradiated with light to cure the photoresist 532. Subsequently, in the development process as shown in FIG. 5G, after uncured photoresist 530 is cleaned, the partition material composition 512a irradiated with light is etched as shown in FIG. 5H. As the developing solution, it is preferable to use Na 2 CO 3 aqueous solution or MEA (2-amino ethanol). 5I, the photoresist 530 is removed and calcined to complete the partition 512a (S440). It is preferable that baking temperature is 500-600 degreeC, More preferably, it is preferable that it is 540-580 degreeC.

전술한 방법은 포토레지스트를 도포하고 광을 조사하여 격벽 재료를 노광하는 실시예이다. 그러나, 감광성 개시재를 격벽 재료에 포함하면, 포토레지스트를 사용하지 않고 포토마스크를 씌우고 노광한 후 현상액으로 노광이 되지 않은 부분을 제거한다. 그리고, 샌딩법에서는, 포토레지스트를 노광 및 현상한 후 샌딩법으 로 포토레지스트가 남아있지 않은 부분을 제거한다. 또한, 에칭법에서는, 포토레지스트를 노광 및 현상한 후 에칭액을 분사하여 포토레지스트가 남아있지 않은 부분을 제거한다.The above-described method is an embodiment in which the barrier material is exposed by applying a photoresist and irradiating light. However, when the photosensitive initiator is included in the partition material, the exposed portion is removed by covering the photomask without using a photoresist and then exposing the exposed portion with the developer. In the sanding method, after the photoresist is exposed and developed, the part where no photoresist remains by sanding is removed. In the etching method, after the photoresist is exposed and developed, an etchant is sprayed to remove portions where no photoresist remains.

이어서, 도 5j에 도시된 바와 같이 하부 유전체층(515) 상부면 및 격벽(512a)의 측면에 형광체(514)를 도포하면 하부기판이 완성된다. 상술한 공정에 의해 제조된 후면 기판을, 실 프릿트(seal frit) 등의 실링재를 사용하여 어드레스 전극이 구비된 전면기판과 접합하는데 구체적으로 실 프릿트를 소성하고 가열하여 내부의 분순물 등을 배기한다. 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 셀 내부에 플라즈마의 방전 효율을 높이기 위하여 헬륨(He), 네온(Ne), 크세논(Xe) 등과 같은 불활성 가스를 주입한다.Subsequently, as shown in FIG. 5J, when the phosphor 514 is applied to the upper surface of the lower dielectric layer 515 and the side surface of the partition wall 512a, the lower substrate is completed. The back substrate manufactured by the above-described process is bonded to the front substrate provided with the address electrode using a sealing material such as seal frit. Specifically, the seal frit is fired and heated to remove internal impurities and the like. Exhaust. An inert gas such as helium (He), neon (Ne), xenon (Xe), or the like is injected into the discharge cell of the plasma display panel to increase the discharge efficiency of the plasma.

따라서, 전술한 바와 같이, 1회의 노광 공정과 포토마스크를 사용하지 않은 채로, 후막인 격벽의 심부 경화시, 부족했었던 광경화 문제를 본 발명에 따른 격벽 재료 조성물을 사용하여 해결함으로써 격벽 형성 공정 적용시 노광 및 현상 마진을 확보할 수 있었고, 격벽 재료 조성물의 함량을 조절함으로써 노광량의 조절 및 격벽 모양을 용이하게 제어할 수 있었다.Therefore, as described above, without the one-time exposure process and the photomask, applying the partition formation process by solving the photocuring problem, which was insufficient during deep curing of the partition, which is a thick film, by using the partition material composition according to the present invention. During exposure and development margins were secured, by adjusting the content of the partition material composition it was possible to easily control the exposure amount and the shape of the partition wall.

또한, 후막인 감광성 격벽 형성용 재료 조성물에 HALS를 도입함으로써 페이스트 형태의 재료를 노광, 현상하는 것에 대한 언더컷(under-cut) 등의 문제를 제어할 수 있음은 물론 노광된 빛이 심부까지 전달될 수 있도록 함과 동시에 그러한 기능으로 인하여 굴절률을 높여야 하는 문제에 대응할 수 있게 되었다.In addition, by introducing HALS into the thick photosensitive barrier material composition, it is possible to control problems such as undercut for exposing and developing the paste-type material, as well as transferring the exposed light to the deep part. At the same time, it is possible to address the problem of increasing the refractive index.

한편, 본 발명에서 사용되는 용어(terminology)들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의 내려진 용어들로써 이는 당분야에 종사하는 기술자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있으므로 그 정의는 본 발명의 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다. On the other hand, the terms used in the present invention (terminology) are terms defined in consideration of the functions in the present invention may vary according to the intention or practice of those skilled in the art, the definitions are the overall contents of the present invention It should be based on.

본 발명을 전술한 실시예에 한정되지 않으며, 첨부된 청구범위에서 알 수 있는 바와 같이 본 발명이 속한 분야의 통상의 지식을 가지 자에 의해 변형이 가능하고 이러한 변형은 본 발명의 범위에 속한다. The present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be modified by those skilled in the art as can be seen from the appended claims, and such modifications are within the scope of the present invention.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널, 그 제조 방법 및 격벽 재료 조성물은 제조 공정 수를 감소하여 격벽을 제조할 수 있으므로, 제조단가를 낮출 수 있고 높은 어스펙트비를 얻을 수 있다는 효과가 있다.As described above, the plasma display panel, the method of manufacturing the same, and the barrier material composition according to the present invention can reduce the number of manufacturing steps, thereby manufacturing the barrier rib, thereby reducing the manufacturing cost and achieving a high aspect ratio. have.

또한, 본 발명에 의하면, 플라즈마 디스플레이 패널의 후막인 감광성 격벽을 형성할 때 생기는 언더컷(under-cut) 현상을 감소시킨다는 효과가 있다.Further, according to the present invention, there is an effect of reducing the under-cut phenomenon that occurs when forming the photosensitive partition wall, which is a thick film of the plasma display panel.

더욱이, 활성화된 광개시제의 라디칼이 후막의 격벽 기저까지 도달하여 경화반응을 진행시킬 수 있게 하므로, 노광의 효율성을 높이고, 감광성 재료의 유기물의 굴절률을 높이기 위해 사용되는 재료들로 인해 재료 선택이 한정되어지고, 선택된 재료로 인해 BBO(Binder BurnOut) 온도가 높아지게 되어 소성 후에도 잔탄이 많이 잔존하게 되는 문제 등을 개선하여 격벽의 안정성을 높인다는 효과가 있다.Furthermore, since the radicals of the activated photoinitiators can reach the bottom of the thick wall of the thick film to proceed the curing reaction, the material selection is limited due to the materials used to increase the efficiency of exposure and to increase the refractive index of the organic material of the photosensitive material. In addition, the BBO (Binder BurnOut) temperature is increased due to the selected material, thereby improving the stability of the barrier rib by improving the problem of a large amount of residual coal remaining after firing.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술 사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

따라서 본 발명의 기술적 범위는 실시예에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의하여 정해져야 한다.Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the embodiments, but should be defined by the claims.

Claims (21)

청구항 1은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 1 was abandoned when the setup fee was paid. 서스테인 전극이 구비된 상판;A top plate provided with a sustain electrode; 어드레스 전극이 구비된 하판; 및A lower plate having an address electrode; And 상기 하판의 유전체층 상에 형성되고, 우레탄 아크릴레이트계 바인더, 저산가의 우레탄 아크릴레이트계 바인더, 모노머/올리고머, 및 광개시제를 포함하는 페이스트를 이용하여 형성된 격벽을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And a partition wall formed on the lower dielectric layer and formed using a paste including a urethane acrylate binder, a low acid urethane acrylate binder, a monomer / oligomer, and a photoinitiator. 삭제delete 청구항 3은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 3 was abandoned when the setup registration fee was paid. 제 1 항에 있어서, 상기 페이스트는,The method of claim 1, wherein the paste, 상기 광개시제 100 중량부에 대하여 30∼80 중량부를 갖는 자외선 흡수제(UV absorber)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And a UV absorber having 30 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the photoinitiator. 청구항 4은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 4 was abandoned when the registration fee was paid. 제 1 항에 있어서, 상기 페이스트는,The method of claim 1, wherein the paste, 상기 광개시제의 활성화를 위한 라디칼 활성제(radical activator), 유기광촉매 및 장애아민 광 안정제(HALS : Hindered Amine Light Stablizer)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.And a radical activator, an organic photocatalyst, and a hindered amine light stabilizer (HALS) for activating the photoinitiator. 청구항 5은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 5 was abandoned upon payment of a set-up fee. 제 1 항에 있어서, 상기 모노머는,The method of claim 1, wherein the monomer, 9에틸렌옥사이드(EO)∼20에틸렌옥사이드(EO) 중 선택된 어느 하나의 에틸렌옥사이드를 사용하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.A plasma display panel comprising any one selected from 9 ethylene oxide (EO) to 20 ethylene oxide (EO). 청구항 6은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 6 was abandoned when the registration fee was paid. 제 1 항에 있어서, 상기 모노머/올리고머는,The method of claim 1, wherein the monomer / oligomer, 바인더 100 중량부에 대하여 1~25 중량부를 갖는 3가 아민의 모노머/올리고머인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.It is a monomer / oligomer of the trivalent amine which has 1-25 weight part with respect to 100 weight part of binders, The plasma display panel characterized by the above-mentioned. 감광성 페이스트 조성물로서,As a photosensitive paste composition, 100℃ 이하의 유리전이온도를 갖는 불포화 아크릴레이트 바인더, 불포화 아크릴레이트 바인더의 100 중량부에 대하여, 20∼60의 중량부를 갖는 우레탄 아크릴레이트계 바인더, 모노머/올리고머, 및 광개시제가 포함된 비히클을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 재료 조성물.An unsaturated acrylate binder having a glass transition temperature of 100 ° C. or less, a urethane acrylate-based binder having 20 to 60 parts by weight, and a vehicle containing a photoinitiator, based on 100 parts by weight of the unsaturated acrylate binder. A partition material composition of a plasma display panel. 제 7 항에 있어서, 상기 불포화 아크릴레이트 바인더는,The method of claim 7, wherein the unsaturated acrylate binder, 분자량 20,000∼200,000g/mol 중 어느 하나이거나, 산가 80∼150mgKOH/g 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 재료 조성물.Any one of molecular weights 20,000-200,000 g / mol, or acid value The partition material composition of the plasma display panel which is any one of 80-150 mgKOH / g. 제 7 항에 있어서, 상기 우레탄 아크릴레이트계 바인더는,The method of claim 7, wherein the urethane acrylate binder, 분자량 15,000~200,000g/mol 중 어느 하나이거나 산가 20∼120mgKOH/g 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 재료 조성물.The partition material composition of the plasma display panel which is any one of a molecular weight of 15,000-200,000 g / mol, or an acid value of 20-120 mgKOH / g. 제 7 항에 있어서, 상기 격벽 재료 조성물은,The method of claim 7, wherein the partition material composition, 라디칼 활성제(radical activator), 유기광촉매, 장애아민 광 안정제(HALS : Hindered Amine Light Stablizer) 및 자외선 흡수제(UV absorber)가 더 포함된 비히클을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 재료 조성물.A barrier material composition of a plasma display panel comprising a vehicle further comprising a radical activator, an organic photocatalyst, a hindered amine light stabilizer (HALS) and an ultraviolet absorber (UV absorber). 제 10 항에 있어서, 상기 자외선 흡수제는,The method of claim 10, wherein the ultraviolet absorber, 상기 광개시제 100 중량부에 대하여 30∼80 중량부를 가짐과 동시에, 장애아민 광 안정제 100 중량부에 대하여 20~200 중량부를 갖는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 재료 조성물.30 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the photoinitiator, and 20 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the hindered amine light stabilizer. 제 10 항에 있어서, 상기 격벽 재료 조성물은,The method of claim 10, wherein the partition material composition, 상기 비히클의 잔탄률을 5% 미만으로 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 재료 조성물.The partition material composition of the plasma display panel, wherein the residual carbon ratio of the vehicle is less than 5%. 제 7 항에 있어서, 상기 격벽 재료 조성물은,The method of claim 7, wherein the partition material composition, 무기물과 유기물의 굴절률 차이를 1.0 이상으로 하는 것을 특징으로 하는 플 라즈마 디스플레이 패널의 격벽 재료 조성물.A partition material composition of the plasma display panel, wherein the refractive index difference between the inorganic material and the organic material is 1.0 or more. 제 7 항에 있어서, 상기 격벽 재료 조성물은,The method of claim 7, wherein the partition material composition, 300mJ/㎠ 이하의 노광량으로 격벽 심부까지 경화가 가능하도록 한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 재료 조성물.A partition material composition of a plasma display panel, wherein curing is possible to the core portion of the partition wall at an exposure dose of 300 mJ / cm 2 or less. 제 7 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 의한 격벽 재료 조성물을 준비하는 단계; 및Preparing a partition material composition according to any one of claims 7 to 14; And 상기 격벽 재료 조성물을 사용하여, 하판의 유전체층 상에 격벽을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.And forming a partition on the dielectric layer of the lower plate using the partition material composition. 제 15 항에 있어서, 상기 격벽을 형성하는 단계는,The method of claim 15, wherein forming the partition wall, (a) 상기 격벽 재료 조성물을 하판 유전체층 상에 도포하여 건조하는 단계;(a) applying the barrier material composition onto a bottom dielectric layer to dry; (b) 상기 도포된 격벽 재료 조성물을 포토마스크를 이용하여 소정의 광을 조사하여 현상하는 단계; 및(b) developing the coated partition material composition by irradiating predetermined light with a photomask; And (c) 상기 현상된 격벽 조성물을 소성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.(c) calcining the developed partition wall composition. 제 16 항에 있어서, 상기 (b) 단계는,The method of claim 16, wherein step (b) comprises: 격벽의 고감도화를 확보하여 노광의 회수를 1회로 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.A method of manufacturing a plasma display panel, which ensures high sensitivity of the partition wall, so that the number of exposures is repeated once. 제 16 항에 있어서, 상기 (b) 단계는,The method of claim 16, wherein step (b) comprises: 9EO∼20EO 중 어느 하나를 사용하여 현상성을 보상하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.The manufacturing method of the plasma display panel characterized by compensating developability using any one of 9EO-20EO. 제 16 항에 있어서, 상기 (c) 단계는,The method of claim 16, wherein step (c) comprises: 방향족을 함유한 3가 아민의 모노머/올리고머를 사용하여 굴절률을 보상하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.A method of manufacturing a plasma display panel, wherein the refractive index is compensated for by using a monomer / oligomer of an aromatic-containing trivalent amine. 제 16 항에 있어서, 상기 (c) 단계는,The method of claim 16, wherein step (c) comprises: UV 흡수제를 첨가하여 소성함으로써, 광개시제의 활성화를 촉진시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.A method of manufacturing a plasma display panel, characterized by promoting the activation of a photoinitiator by adding and baking a UV absorber. 제 16 항에 있어서, 상기 (c) 단계는,The method of claim 16, wherein step (c) comprises: 비히클의 잔탄률을 5% 미만으로 소성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.A method of manufacturing a plasma display panel, wherein the residual carbon ratio of the vehicle is fired at less than 5%.
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