JPH11120905A - Barrier rib forming method for plasma display panel and its material - Google Patents
Barrier rib forming method for plasma display panel and its materialInfo
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- JPH11120905A JPH11120905A JP9278920A JP27892097A JPH11120905A JP H11120905 A JPH11120905 A JP H11120905A JP 9278920 A JP9278920 A JP 9278920A JP 27892097 A JP27892097 A JP 27892097A JP H11120905 A JPH11120905 A JP H11120905A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イパネル（以下、ＰＤＰという）の隔壁をサンドブラス
ト法により形成させる改良方法及びこれに適したガラス
ペースト組成物に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improved method for forming partition walls of a plasma display panel (hereinafter referred to as "PDP") by a sandblast method and a glass paste composition suitable for the method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、テレビジョン、コンピューター等
の平面表示装置の分野では、ハイビジョン方式のような
高精度で且つ微細な画質の表示装置が開発され、その表
示手段も益々大型化、高精度微細化されつつある。これ
に対応するものとしてプラズマディスプレイ（ＰＤ）方
式が注目されている。該ＰＤ方式のパネル（以下「ＰＤ
Ｐ」という）は、２枚の基板ガラスとその間に設けられ
た隔壁に囲まれた多数のセル（微小空間）に蛍光体及び
電極を配し、放電ガスを充填した構造を有しており、上
記セル内の電極間放電により放電ガスが励起され、これ
が基底状態に戻る際に発する紫外線により蛍光体が発光
されて画素を形成するものである。2. Description of the Related Art In recent years, in the field of flat display devices such as televisions and computers, high-precision and fine-image-quality display devices such as high-vision systems have been developed, and their display means have become larger and more precise. Is being transformed. As a countermeasure to this, a plasma display (PD) method has attracted attention. The PD type panel (hereinafter referred to as “PD
P ") has a structure in which phosphors and electrodes are arranged in a large number of cells (microspaces) surrounded by two substrate glasses and partition walls provided therebetween, and are filled with a discharge gas. The discharge gas is excited by the discharge between the electrodes in the cell, and the phosphor is emitted by the ultraviolet light emitted when the discharge gas returns to the ground state, thereby forming a pixel.
【０００３】上記ＰＤＰの隔壁は、放電空間を規定し、
均一な放電空間を与え、放電時のクロストークを回避す
るために重要な役割を果たしている。現在、該隔壁形成
の代表的な方法の一つとしては、フォトリソグラフィー
技術を利用した方法が、殊に高解像度のＰＤＰを提供で
きるものとして知られている。[0003] The partition walls of the PDP define a discharge space,
It provides a uniform discharge space and plays an important role in avoiding crosstalk during discharge. At present, a method utilizing photolithography is known as one of the typical methods of forming the partition walls, particularly as a method capable of providing a high-resolution PDP.
【０００４】これはより詳細には、低融点ガラス粉末、
無機質フィラー及び無機質顔料の混合物をビヒクル（バ
インダー及び溶剤）に分散させたペーストを、基板ガラ
ス（背面板）全面にスクリーン印刷やロールコート等に
より塗布、乾燥するか、又は上記ペーストから溶剤を除
いたグリーンシートを基板ガラスに積層し、その後、感
光性樹脂のドライフィルムを更に積層し、遮光フィルム
（マスク）を介して上記ドライフィルムを露光、現像し
てパターン化し、開口部下のバインダーを含むガラス混
合物層をサンドブラストにて切削除去し、次いで上記ド
ライフィルムを剥離後、５００〜６００℃で焼成して所
望の隔壁を形成させるものである（例えば特開平４−５
８４３８号公報等参照）。This is more particularly a low melting glass powder,
A paste in which a mixture of an inorganic filler and an inorganic pigment is dispersed in a vehicle (binder and solvent) is applied to the entire surface of the substrate glass (back plate) by screen printing, roll coating, or the like, and dried, or the solvent is removed from the paste. A green sheet is laminated on a substrate glass, and a dry film of a photosensitive resin is further laminated thereon. The dry film is exposed and developed through a light-shielding film (mask), developed and patterned, and a glass mixture containing a binder under an opening. The layer is cut and removed by sandblasting, and then the above-mentioned dry film is peeled off and fired at 500 to 600 ° C. to form a desired partition wall (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-5).
No. 8438).
【０００５】しかしながら、この方法は、サンドブラス
トのマスク剤として使用される感光性樹脂のドライフィ
ルム自体、焼成時の熱分解性が悪く、バインダーを含む
ガラス混合物層と同時に焼成することができず、該ガラ
ス層の焼成に先だって、濃アルカリ水溶液を用いて剥離
しなければならないという重大な欠点があった。かかる
剥離工程におけるアルカリ液の利用は、その後のシャワ
ー水洗工程を必須とし、この工程の採用によって、焼成
前に隔壁が背面板より欠落する等の弊害の伴なわれるお
それが多分にあり、これが製品の量産における歩留まり
低下の主要な原因となっており、更に製造コストを上昇
させる原因ともなっていた。However, in this method, the dry film itself of the photosensitive resin used as a masking agent for sandblasting has poor thermal decomposability at the time of firing, and cannot be fired simultaneously with the glass mixture layer containing a binder. Prior to firing the glass layer, there was a significant drawback that it had to be stripped using a concentrated alkaline aqueous solution. The use of an alkaline solution in such a stripping step requires a subsequent shower water washing step, and by adopting this step, there is a possibility that the partition wall may be cut off from the back plate before firing, or the like. This has been a major cause of a decrease in the yield in mass production, and has also caused a rise in the manufacturing cost.
【０００６】上記以外にも、フォトリソグラフィー技術
を利用した隔壁形成方法としては、例えばビヒクルとし
て感光性樹脂を配合した感光性ガラスペーストを基板ガ
ラス上に塗布し、予備乾燥するか又はそのまま、マスク
を介して露光して、隔壁形成部分を硬化させ、非露光部
分を現像、除去後、焼成する方法（特公平２−１６５５
３８号公報、特開平９−１１０４６６号公報等参照）等
が提案されている。[0006] In addition to the above, as a method for forming a partition wall utilizing a photolithography technique, for example, a photosensitive glass paste containing a photosensitive resin as a vehicle is applied on a substrate glass and preliminarily dried or a mask is used as it is. To cure the partition wall forming portion, develop and remove the non-exposed portion, and then bake (Japanese Patent Publication No. 2-1655).
38, JP-A-9-110466 and the like).
【０００７】しかるに、この方法では、上記サンドブラ
スト法にみられる如き欠点は解消されるものの、必要な
隔壁高さである１５０〜３００μｍのガラスペースト乃
至グリーンシートを一度に露光、現像することは困難で
あり、数十μｍずつ塗布、積層と露光とを繰り返す必要
があった。かかる操作は煩雑であるばかりでなく、位置
合わせの精度が悪くなるという問題を抱えている。ま
た、上記膜厚の塗膜の現像を単一回で行なうため、現像
残渣が残りやすい弊害もあった。更に、硬化した感光性
樹脂の燃焼性（燃えきり）は悪く、焼成時に気泡残りや
炭化現象が惹起される問題もあった。[0007] However, this method eliminates the drawbacks of the above-mentioned sandblasting method, but it is difficult to expose and develop a glass paste or a green sheet having a required partition height of 150 to 300 µm at a time. Yes, it was necessary to repeat application, lamination and exposure for several tens of μm each. Such an operation is not only complicated, but also has a problem that the accuracy of the positioning is deteriorated. Further, since the development of the coating film having the above film thickness is performed only once, there is also a problem that a development residue tends to remain. Further, the burnability (burn-out) of the cured photosensitive resin is poor, and there is a problem that bubbles remain and carbonization occurs during firing.
【０００８】以上のように、現在、高解像度の隔壁を形
成させ得るものとして知られているフォトリソグラフィ
ー技術とサンドブラスト技術とを応用した方法は、いず
れも尚解決されるべき多くの問題点を有しており、之等
の問題点を解消した新しい改良された隔壁形成方法の確
立が当業界で要望されている。[0008] As described above, the methods utilizing the photolithography technology and the sandblasting technology, which are currently known as being capable of forming high-resolution partition walls, have many problems to be solved. Therefore, there is a need in the art to establish a new and improved partition wall forming method that solves these problems.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、従来の高解像度ＰＤＰの隔壁形成法に見られる各種
の欠点を悉く解消した新しいＰＤＰの隔壁形成方法、及
び該方法に利用されるガラスペースト組成物を提供する
ことにある。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a new method for forming a partition of a PDP which eliminates all the various drawbacks found in the conventional method for forming a partition of a high-resolution PDP, and to utilize the method. It is to provide a glass paste composition.
【００１０】本発明者らは、上記目的より、高解像度隔
壁形成手段としてのフォトリソグラフィー技術及びサン
ドブラスト技術を利用し、従来の煩雑な工程を省略し且
つ感光性ドライフィルムを利用しないという観点から、
鋭意研究を重ねた。その結果、下記特定の感光性樹脂バ
インダーを含む第２の低融点ガラス層を利用する時に
は、上記目的に合致して、所望の隔壁を容易に形成可能
な方法が提供されることを見出し、ここに本発明を完成
するに至った。From the above-mentioned object, the present inventors have utilized photolithography technology and sandblasting technology as means for forming high-resolution partition walls, and have omitted the conventional complicated steps and from the viewpoint of not using a photosensitive dry film.
We continued our research. As a result, when utilizing the second low melting point glass layer containing the following specific photosensitive resin binder, it has been found that a method capable of easily forming a desired partition wall is provided in accordance with the above-mentioned purpose. Thus, the present invention has been completed.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、ＰＤＰ
の隔壁をサンドブラスト法により形成させる方法におい
て、ＰＤＰの背面ガラス基板上に、非感光性樹脂バイン
ダーを含む第１の低融点ガラス層（以下「非感光性第１
ガラス層」という）を形成させる工程、該層上に感光性
樹脂バインダーを含む第２の低融点ガラス層（以下「感
光性第２ガラス層」という）を積層する工程、隔壁パタ
ーンを有する遮光マスクを介して上記感光性第２ガラス
層を露光、現像してパターン化する工程、及び得られる
パターンをマスクとしてその開口部下の非感光性第１ガ
ラス層をサンドブラストにより切削除去する工程を含む
ことを特徴とするＰＤＰの隔壁形成方法に係わる。That is, the present invention provides a PDP
In the method of forming a partition wall by a sandblast method, a first low-melting glass layer containing a non-photosensitive resin binder (hereinafter referred to as “non-photosensitive first
Forming a second low-melting glass layer containing a photosensitive resin binder (hereinafter, referred to as a “photosensitive second glass layer”), a light-shielding mask having a partition pattern Exposing and developing the photosensitive second glass layer to form a pattern, and cutting and removing the non-photosensitive first glass layer below the opening by sandblasting using the obtained pattern as a mask. The present invention relates to a characteristic method of forming a partition wall of a PDP.
【００１２】より詳しくは、本発明によれば、感光性第
２ガラス層を構成する材料が、低融点ガラス粉末を必須
成分とする無機固形粉末１００重量部と、感光性樹脂材
料及び光重合開始剤からなる感光性樹脂バインダー２０
〜１００重量部とを含むものである上記隔壁形成方法；
低融点ガラス粉末が粒径０．５〜２０μｍの範囲のもの
である上記隔壁形成方法；及び上記無機固形粉末１００
重量部と感光性樹脂バインダー２０〜１００重量部とを
含むことを特徴とする上記隔壁形成方法における感光性
第２ガラス層を形成させるためのガラスペースト組成物
が提供される。More specifically, according to the present invention, the material constituting the photosensitive second glass layer is composed of 100 parts by weight of an inorganic solid powder containing a low melting point glass powder as an essential component, a photosensitive resin material and a photopolymerization starter. Resin binder 20 consisting of an agent
The above-described method for forming a partition wall, comprising:
The partition wall forming method, wherein the low melting point glass powder has a particle size in the range of 0.5 to 20 μm; and the inorganic solid powder 100
The present invention provides a glass paste composition for forming a photosensitive second glass layer in the above-mentioned method for forming a partition wall, which comprises a photosensitive resin binder by 20 to 100 parts by weight.
【００１３】本発明方法は、従来必須とされていた感光
性ドライフィルムを利用せず、これに代えて特定の感光
性第２ガラス層を利用することに基づいて、該ドライフ
ィルムの利用に伴われる前述した各種欠点が全て解消さ
れ、高解像度で品質良好なＰＤＰ用隔壁を、簡単な操作
で能率良く形成することができる。また、本発明方法に
よれば、高い歩留まりをもって所望の隔壁を低コストで
量産することができる。[0013] The method of the present invention does not use a photosensitive dry film, which has been essential in the past, but instead uses a specific photosensitive second glass layer. All of the above-mentioned various disadvantages are eliminated, and a high-resolution and high-quality PDP partition wall can be efficiently formed by a simple operation. Further, according to the method of the present invention, desired partition walls can be mass-produced at a low cost with a high yield.
【００１４】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係わる隔壁形成方
法につき詳述する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a method of forming a partition according to the present invention will be described in detail.
【００１５】本発明方法においては、まず、ＰＤＰの背
面ガラス基板（以下単に「ガラス基板」という）上に、
非感光性第１ガラス層を形成させる。In the method of the present invention, first, a back glass substrate of a PDP (hereinafter simply referred to as a "glass substrate")
A non-photosensitive first glass layer is formed.
【００１６】ここでガラス基板は、銀、アルミニウム、
ニッケル等の金属電極やＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒの薄膜電極を
施すか又は更にその上にガラス層による絶縁層を設け
た、各種ＰＤＰの背面ガラス基板のいずれでもよい。ま
た、該基板は通常上記電極、抵抗の上にオーバーコート
が設けられ、本発明ではかかるオーバーコートを有する
ものも当然に利用できる。Here, the glass substrate is made of silver, aluminum,
Any of a back glass substrate of various PDPs provided with a metal electrode such as nickel or a thin film electrode of Cr-Cu-Cr or further provided with an insulating layer of a glass layer thereon. In addition, the substrate is usually provided with an overcoat on the above electrodes and resistors, and in the present invention, a substrate having such an overcoat can be used as a matter of course.
【００１７】該ガラス基板上に形成される非感光性第１
ガラス層の形成のためには、適当なガラスペースト組成
物乃至グリーンシートを利用する。之等は、従来よりか
かるサンドブラスト法によるＰＤＰの隔壁形成に用いら
れてきている各種のもののいずれでもよい。代表的に
は、上記ガラスペースト組成物は、低融点ガラス粉末、
無機質顔料及び無機質フィラーからなる無機固形粉末
を、ビヒクル例えば樹脂バインダーの溶剤溶液に分散さ
せて調製される。The non-photosensitive first layer formed on the glass substrate
For forming the glass layer, a suitable glass paste composition or green sheet is used. These may be any of various types conventionally used for forming partition walls of PDPs by the sandblast method. Typically, the glass paste composition is a low melting glass powder,
It is prepared by dispersing an inorganic solid powder composed of an inorganic pigment and an inorganic filler in a solvent solution of a vehicle, for example, a resin binder.
【００１８】ここで、低融点ガラス粉末としては、焼成
温度約５００〜６５０℃の温度範囲でメルトしてガラス
状になる各種のガラス粉末、例えば硼珪酸鉛系（ＰｂＯ
−ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3）、硼珪酸ビスマス系（Ｂｉ2Ｏ3−
ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3）、亜鉛系（ＺｎＯ−ＳｉＯ2−Ｂ
2Ｏ3）、リン酸−アルカリ土類系（Ｐ2Ｏ5−ＺｎＯ−Ｍ
ｇＯ）等のガラス粉末の他、バリウム系、マンガン系等
の各種ガラス粉末を使用できる。之等ガラス粉末は、そ
の１種を単独で用いることもでき、２種以上を併用する
こともできる。之等ガラス粉末の粒径は、通常平均粒子
径が約０．５〜２０μｍの範囲、好ましくは約１〜１０
μｍの範囲から選ばれるのが好適である。Here, as the low melting point glass powder, various glass powders which are melted in a temperature range of about 500 to 650 ° C. to be glassy, for example, lead borosilicate (PbO
—SiO 2 —B 2 O 3 ), bismuth borosilicate (Bi 2 O 3 —
SiO 2 —B 2 O 3 ), zinc-based (ZnO—SiO 2 —B)
2 O 3 ), phosphoric acid-alkaline earth system (P 2 O 5 -ZnO-M)
In addition to glass powders such as gO), various glass powders such as barium and manganese can be used. These glass powders can be used alone or in combination of two or more. The average particle diameter of the glass powder is usually in the range of about 0.5 to 20 μm, preferably about 1 to 10 μm.
It is preferable to select from the range of μm.
【００１９】無機質フィラーも、通常慣用されている各
種のフィラー成分、例えば焼成時の保形性を向上させる
ためのアルミナ、ジルコン、溶融シリカ、β−ユークリ
プトタイト、コージェライト、スポジューメン等の１種
又は２種以上でよい。該無機質フィラーの配合は、隔壁
形成時（焼成時）のガラス層の保形性や線膨張係数の調
整に役立つ。The inorganic filler is also one of various commonly used filler components, for example, one of alumina, zircon, fused silica, β-eucryptite, cordierite, spodumene and the like for improving shape retention during firing. Alternatively, two or more kinds may be used. The blending of the inorganic filler is useful for adjusting the shape retention and linear expansion coefficient of the glass layer when forming the partition walls (when firing).
【００２０】無機質顔料も、通常汎用されるものと同様
のものでよい。例えば反射型ＰＤＰにおいては、反射率
をアップして輝度向上を図るために、特に酸化チタン
（ＴｉＯ2）等の白色顔料が好ましく利用できる。プラ
ズマアドレスの液晶ディスプレイ等においては、Ｃｕ
Ｏ、Ｃｒ2Ｏ3、Ｆｅ2Ｏ3、ＣｏＯ、ＭｎＯ2等から選ば
れる２種以上の酸化物を焼成した黒色焼成顔料、例えば
コバルト−クロム、銅−クロム等を利用できる。之等無
機質フィラー及び無機質顔料の配合量は特に限定され
ず、一般的に利用されるそれらと同様とすることができ
る。The inorganic pigments may be the same as those generally used. For example, in the case of a reflective PDP, a white pigment such as titanium oxide (TiO 2 ) can be preferably used in order to increase the reflectance and improve the luminance. In a plasma-addressed liquid crystal display or the like, Cu
Black fired pigments obtained by firing two or more oxides selected from O, Cr 2 O 3 , Fe 2 O 3 , CoO, MnO 2, and the like, for example, cobalt-chromium, copper-chromium, and the like can be used. The amounts of these inorganic fillers and inorganic pigments are not particularly limited, and may be the same as those generally used.
【００２１】ビヒクルを構成する樹脂バインダーは、非
感光性であること、即ち感光性樹脂材料を含まないもの
から適宜選択でき、特に熱分解性（燃焼性）の良好なも
のが望ましい。その例としては、アクリル系樹脂（メタ
クリル系樹脂を含む）、セルロース系樹脂等を例示でき
る。該アクリル系樹脂には、ポリブチルアクリレート、
ポリイソブチルメタクリレート等が、セルロース系樹脂
には、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ニトロセルロース等が、それぞれ包含される。サン
ドブラスト時の切削速度やガラス基板との密着性等を考
慮すると、通常上記アクリル系樹脂では重量平均分子量
５千〜５０万の範囲のものが好ましく、セルロース系樹
脂では同重量平均分子量１万〜５０万の範囲のものが好
ましい。之等は１種単独で用いることもでき、２種以上
併用することもできる。The resin binder constituting the vehicle can be appropriately selected from those which are non-photosensitive, that is, those which do not contain a photosensitive resin material. Particularly, those having good thermal decomposability (combustibility) are desirable. Examples thereof include an acrylic resin (including a methacrylic resin) and a cellulose resin. The acrylic resin includes polybutyl acrylate,
Examples of polyisobutyl methacrylate and the like, and examples of the cellulosic resin include ethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, and nitrocellulose. In consideration of the cutting speed at the time of sand blasting and the adhesion to the glass substrate, the acrylic resin generally has a weight average molecular weight of 5,000 to 500,000, and the cellulose resin has the same weight average molecular weight of 10,000 to 50,000. Thousands are preferred. These can be used alone or in combination of two or more.
【００２２】上記樹脂バインダーを溶解するための溶剤
は、特に限定されず、樹脂の溶解性に優れ、粘稠性のオ
イルを形成し得るものから適宜選択できる。これには中
沸点及び高沸点のエステル系、エーテル系、石油系溶剤
等が含まれる。具体例としては、ブチルセロソルブアセ
テート、ブチルカルビトールアセテート等のエステル系
溶剤や、ナフサ、ミネラルターペン、パインオイル、α
−ターピネオール等の石油系溶剤等を例示できる。之等
も１種単独で用いてもよく、２種以上併用することもで
きる。The solvent for dissolving the resin binder is not particularly limited, and may be appropriately selected from those which have excellent resin solubility and can form viscous oil. This includes medium- and high-boiling ester, ether, and petroleum solvents. Specific examples include butyl cellosolve acetate, ester solvents such as butyl carbitol acetate, naphtha, mineral terpenes, pine oil, α
And petroleum solvents such as terpineol. These may be used alone or in combination of two or more.
【００２３】上記ガラスペースト組成物の組成は、これ
を施工して得られるガラス層が切削性良好であり且つ後
述する第２の低融点ガラス層の形成時に版に付着して惹
き剥がされないことを前提として、より好ましくは、焼
成後に緻密で保形性の良好な隔壁を形成できるように、
適宜選択できる。一般には、低融点ガラス粉末１００重
量部に対して、無機質フィラー５〜１００重量部及び無
機質顔料１〜３０重量部の範囲から選ばれるのが好適で
ある。また樹脂バインダーは、無機固形粉末の合計１０
０重量部に対して、好ましくは１〜１０重量部程度の範
囲で配合されるのがよい。The composition of the above-mentioned glass paste composition is such that the glass layer obtained by applying the glass paste composition has good machinability and does not adhere to the plate during the formation of the second low-melting glass layer described later and is not peeled off. As a premise, more preferably, to form a dense and good shape retention partition after firing,
It can be selected as appropriate. In general, it is preferable to select from a range of 5 to 100 parts by weight of the inorganic filler and 1 to 30 parts by weight of the inorganic pigment with respect to 100 parts by weight of the low melting point glass powder. The resin binder is composed of a total of 10 inorganic solid powders.
It is preferable that the compounding amount is preferably in the range of about 1 to 10 parts by weight with respect to 0 parts by weight.
【００２４】上記ガラスペースト組成物は、常法に従
い、例えば乾燥時に所定量となる樹脂を溶剤に溶解した
オイル中に、所定量の無機固形粉末を、三本ロール、ボ
ールミル、サンドミル等の分散機で分散させて、スラリ
ー状乃至ペースト状に調製し、スクリーン印刷法、ロー
ルコーター法、ドクターブレード法、その他、テーブル
コーター法、リバースコーター法、スプレー法等によ
り、基板ガラス上に施工できる。かくして、本発明の非
感光性第１ガラス層を形成させ得る。The above-mentioned glass paste composition is prepared by dispersing a predetermined amount of inorganic solid powder in an oil obtained by dissolving a predetermined amount of resin in a solvent in a solvent according to a conventional method, such as a three-roll, ball mill, or sand mill. To prepare a slurry or paste, and can be applied to the substrate glass by a screen printing method, a roll coater method, a doctor blade method, a table coater method, a reverse coater method, a spray method or the like. Thus, the non-photosensitive first glass layer of the present invention can be formed.
【００２５】本発明に従う上記非感光性第１ガラス層
は、上記ガラスペースト組成物より溶剤を除去して、薄
板状グリーンシート形態とした後、これを基板ガラス上
に、例えば加熱しながらロールラミネーター等を用いて
積層することによっても形成させる得る。The non-photosensitive first glass layer according to the present invention is obtained by removing a solvent from the glass paste composition to form a thin green sheet, and then placing the thin green sheet on a substrate glass, for example, while heating the roll laminator. It can also be formed by laminating using, for example.
【００２６】上記非感光性第１ガラス層の膜厚は、これ
が隔壁高さの大部分を占めるものとなるようにするのが
よく、通常約１００〜３００μｍ、好ましくは約１５０
〜２５０μｍとされるのがよい。The thickness of the non-photosensitive first glass layer is preferably such that it occupies most of the height of the partition wall, and is usually about 100 to 300 μm, preferably about 150 μm.
It is good to be ~ 250 μm.
【００２７】次いで、本発明方法においては、上記で形
成させた非感光性第１ガラス層上に、感光性第２ガラス
層を積層する。該感光性第２ガラス層の積層は、低融点
ガラス粉末を必須成分とする無機固形粉末を、感光性樹
脂材料及び光重合開始剤からなる感光性樹脂バインダー
を溶剤に溶かしたビヒクル中に分散させて得られるペー
スト組成物を塗布するか、或いは上記ペースト組成物か
ら溶剤を除去したグリーンシートを積層することにより
実施できる。Next, in the method of the present invention, a photosensitive second glass layer is laminated on the non-photosensitive first glass layer formed above. The lamination of the photosensitive second glass layer is performed by dispersing an inorganic solid powder containing a low-melting glass powder as an essential component in a vehicle in which a photosensitive resin binder composed of a photosensitive resin material and a photopolymerization initiator is dissolved in a solvent. It can be carried out by applying a paste composition obtained by the above method, or by laminating green sheets obtained by removing a solvent from the paste composition.
【００２８】ここで用いられる無機固形粉末は、前記非
感光性第１ガラス層に用いられるそれと同様の低融点ガ
ラス粉末を必須成分として、これに更に必要に応じて同
様の無機質顔料及び無機質フィラーを適宜配合してなる
ものとすることができ、之等各成分の配合割合も略同様
のものとすることができる。The inorganic solid powder used here is a low melting point glass powder similar to that used for the non-photosensitive first glass layer as an essential component, and further, if necessary, a similar inorganic pigment and inorganic filler. The components can be appropriately mixed, and the mixing ratio of each component can be substantially the same.
【００２９】但し、この感光性第２ガラス層は、引続く
サンドブラスト工程において、多少の侵食を受けて表面
に凹凸を生じるおそれがあるため、隔壁形成のための焼
成工程でその平滑化を図り得るものとするのが好まし
い。このことを考慮すれば、該第２ガラス層に利用され
る低融点ガラス粉末として、第１ガラス層に利用される
それよりも低融点のものを選択するのが好ましい。However, the photosensitive second glass layer may be slightly eroded in the subsequent sand blasting process to cause irregularities on the surface, so that it can be smoothed in the firing process for forming the partition walls. It is preferred that In consideration of this, it is preferable to select, as the low melting point glass powder used for the second glass layer, a powder having a lower melting point than that used for the first glass layer.
【００３０】無機質顔料及び無機質フィラーは、この感
光性第２ガラス層の形成のための必須成分ではないが、
無機質顔料はその配合によって得られる隔壁のコントラ
ストを向上させ得るためその配合が好ましい。特にＰＤ
Ｐ画像のコントラスト向上のためには上記無機質顔料と
して黒色顔料を利用するのが好ましい。また無機質フィ
ラーはその配合によって隔壁の保形性を向上させ得る
が、この感光性第２ガラス層自体、非感光性第１ガラス
層程の膜厚を必要とせず、通常かなり薄いものであるた
め、上記無機質フィラーの配合は特に必要ではない。之
等無機質顔料及び無機質フィラーを配合する場合、それ
らの配合量は、上記と同様の第２ガラス層の平滑化のた
めに、第１ガラス層のそれらよりも少なくするのが好ま
しい。例えば低融点ガラス粉末１００重量部に対して、
無機質顔料０〜３０重量部及び無機質フィラー０〜２０
重量部の範囲から選ばれるのがよい。Although the inorganic pigment and the inorganic filler are not essential components for forming the photosensitive second glass layer,
Inorganic pigments are preferred because they can improve the contrast of the partition walls obtained by their blending. Especially PD
In order to improve the contrast of the P image, it is preferable to use a black pigment as the inorganic pigment. The inorganic filler can improve the shape retention of the partition walls by its blending. However, since the photosensitive second glass layer itself does not require the thickness of the non-photosensitive first glass layer, it is usually quite thin. The addition of the inorganic filler is not particularly necessary. When the inorganic pigment and the inorganic filler are blended, the blending amount thereof is preferably smaller than that of the first glass layer in order to smooth the second glass layer as described above. For example, for 100 parts by weight of low melting glass powder,
0-30 parts by weight of inorganic pigment and 0-20 of inorganic filler
It is preferred to be selected from the range of parts by weight.
【００３１】この第２ガラス層に利用される低融点ガラ
ス粉末は、その平均粒子径が約０．５〜２０μｍの範
囲、好ましくは約１〜１０μｍの範囲から選ばれるのが
重要である。これが２０μｍを越えあまりに大きいと、
紫外線照射時ハレーションを起こして現像時のパターン
切れを悪化させ、残渣残りを発生させる不利がある。逆
に０．５μｍよりあまりに小さすぎると、ペーストの調
製や塗布作業性を低下させる不利がある。It is important that the low melting point glass powder used in the second glass layer has an average particle diameter selected from a range of about 0.5 to 20 μm, preferably about 1 to 10 μm. If this exceeds 20 μm and is too large,
There is a disadvantage in that halation occurs at the time of irradiation with ultraviolet rays, and the pattern breakage at the time of development is deteriorated, and residue remains. Conversely, if it is too small, the paste preparation and application workability are disadvantageously reduced.
【００３２】感光性樹脂材料は、水溶性であるのが作業
環境上好ましく、光反応性、熱分解性等を考慮して適宜
選択できる。通常これは感光性のプレポリマー乃至オリ
ゴマー成分とモノマー成分とから構成される。該プレポ
リマー乃至オリゴマー成分の代表例としては、アクリル
酸（メタクリル酸を含む、以下「（メタ）アクリル酸」
の如く括弧を付して示す）のプレポリマー及び／又はオ
リゴマーを例示できる。より詳しくは、メチル（メタ）
アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチ
ル（メタ）アクリレート等に、グリシジル（メタ）アク
リレートを共重合させ、得られる共重合体（プレポリマ
ー）に更に（メタ）アクリル酸と無水フタール酸等の二
塩基酸無水物を反応させて得られるものを例示できる。
このものは、光硬化性を有し、水溶性であり、水で現像
でき、特に本発明に好適である。The photosensitive resin material is preferably water-soluble in view of the working environment, and can be appropriately selected in consideration of photoreactivity, thermal decomposability and the like. Usually, it is composed of a photosensitive prepolymer or oligomer component and a monomer component. Representative examples of the prepolymer or oligomer component include acrylic acid (including methacrylic acid, hereinafter referred to as “(meth) acrylic acid”).
(Shown in parentheses as in Example 1)). More specifically, methyl (meth)
Glycidyl (meth) acrylate is copolymerized with acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, etc., and the resulting copolymer (prepolymer) is further dibasic, such as (meth) acrylic acid and phthalic anhydride. Examples thereof include those obtained by reacting an acid anhydride.
It is photocurable, water-soluble, and developable with water, and is particularly suitable for the present invention.
【００３３】本発明に利用できる水溶性感光性樹脂材料
（プレポリマー乃至オリゴマー成分）には、また、ビス
フェノールＡ型エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ
化合物等のエポキシ系化合物（そのグリシジル基）に、
（メタ）アクリル酸と無水フタール酸等の二塩基酸無水
物を反応させて得られるエポキシ系のものや、ジエチレ
ングリコール、ジプロピレングリコール、ペンタエリス
リトール等の多価アルコール類に同様の（メタ）アクリ
ル酸と二塩基酸無水物を反応させて得られるポリエステ
ル系のものも包含される。之等は、その１種を単独で用
いることもでき、また２種以上を併用することもでき
る。尚、後者のエポキシ系、ポリエステル系のものは、
水乃至弱アルカリ水溶液で現像可能であるためには、固
形分酸価が約５０〜２００の範囲にあるのが好ましい。The water-soluble photosensitive resin material (prepolymer or oligomer component) which can be used in the present invention includes epoxy compounds such as bisphenol A type epoxy compounds and novolak type epoxy compounds (glycidyl groups thereof).
Epoxy resins obtained by reacting (meth) acrylic acid with dibasic anhydrides such as phthalic anhydride, and (meth) acrylic acids similar to polyhydric alcohols such as diethylene glycol, dipropylene glycol and pentaerythritol And a dibasic acid anhydride. These can be used alone or in combination of two or more. In addition, the latter epoxy type and polyester type are
In order to be developable with water or a weak alkaline aqueous solution, the solid content acid value is preferably in the range of about 50 to 200.
【００３４】上記感光性樹脂材料には、更に、その水乃
至弱アルカリ水で現像できる特徴を損なわない範囲で、
非水溶性のプレポリマー乃至オリゴマー成分、例えば上
記以外のエポキシ系（メタ）アクリレート、ポリエステ
ル系（メタ）アクリレート、ウレタン系（メタ）アクリ
レート、ポリオール系（メタ）アクリレート、ブタジエ
ン系（メタ）アクリレート等を添加配合することもでき
る。特に得られるガラス層の耐サンドブラスト性を向上
させるためには、柔軟性のあるウレタン系（メタ）アク
リレート、ブタジエン系（メタ）アクリレート等の併用
が好ましい。之等の配合量は水溶性プレポリマー乃至オ
リゴマー成分１００重量部に対して約５〜１００重量部
の範囲とされるのが適当である。The photosensitive resin material may further comprise, as far as the characteristics that can be developed with water or weakly alkaline water are not impaired:
Water-insoluble prepolymer or oligomer components such as epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, butadiene (meth) acrylate, etc. They can be added and blended. In particular, in order to improve the sandblast resistance of the obtained glass layer, it is preferable to use a flexible urethane (meth) acrylate, butadiene (meth) acrylate, or the like in combination. The amount of these components is suitably in the range of about 5 to 100 parts by weight per 100 parts by weight of the water-soluble prepolymer or oligomer component.
【００３５】また前記モノマー成分としては、架橋剤乃
至改質剤としての役割を果たす化合物を利用できる。か
かる化合物としては、例えば改質剤的役割を有する、２
−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロ
フルフラール（メタ）アクリレート等の単官能性化合物
及び１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジ（メタ）アクリレート等の二官能性化合物を例示で
きる。また架橋剤的役割をもつ化合物としては、例えば
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート等を例示できる。
之等モノマー成分は、通常プレポリマー及び／又はオリ
ゴマー成分１００重量部に対して、約５〜５０重量部の
範囲で配合されるのが適当である。As the monomer component, a compound which functions as a crosslinking agent or a modifier can be used. Such compounds include, for example, 2
Monofunctional compounds such as -ethylhexyl (meth) acrylate and tetrahydrofurfural (meth) acrylate; and bifunctional compounds such as 1,6-hexanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, and neopentyl glycol di (meth) acrylate. . Examples of the compound having a role as a crosslinking agent include, for example, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and the like.
It is appropriate that the monomer component is usually blended in an amount of about 5 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the prepolymer and / or oligomer component.
【００３６】光重合開始剤としては、従来より知られて
いる各種のものを使用できる。その例としては、ベンゾ
イン、ベンゾインメチルエーテル等のアルキルエーテル
類、アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニ
ルアセトフェノン等のアセトフェノン類、２−メチルア
ントラキノン、２−エチルアントラキノン等のアントラ
キノン類、２，４−ジメチルチオキサントン２，４−ジ
エチルチオキサントン等のチオキサントン類、アセトフ
ェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等
のケタール類等を例示できる。之等は１種単独でも２種
以上を混合しても使用できる。かかる光重合開始剤は、
また例えば安息香酸系、第３級アミン系等の慣用される
光重合促進剤と組合せて使用することもできる。該光重
合開始剤の添加量は、プレポリマー及び／又はオリゴマ
ー成分１００重量部に対して約３〜２０重量部とされる
のがよい。As the photopolymerization initiator, various conventionally known photopolymerization initiators can be used. Examples thereof include alkyl ethers such as benzoin and benzoin methyl ether; acetophenones such as acetophenone and 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone; anthraquinones such as 2-methylanthraquinone and 2-ethylanthraquinone; Thioxanthone such as 2,4-diethylthioxanthone, and ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal. These can be used alone or in combination of two or more. Such a photopolymerization initiator,
Further, for example, it can be used in combination with a commonly used photopolymerization accelerator such as a benzoic acid or a tertiary amine. The addition amount of the photopolymerization initiator is preferably about 3 to 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the prepolymer and / or oligomer component.
【００３７】上記感光性樹脂材料及び光重合開始剤から
なる感光性樹脂バインダーを溶解させるために用いられ
る溶剤は、前述した非感光性第１ガラス層の形成のため
の非感光性樹脂バインダーの溶解に用いられるそれら
（エステル系、エーテル系、石油系溶剤等）と同様のも
のとすることができる。特に、調整されるペースト組成
物の塗布特性を考慮すると、中沸点から高沸点（１５０
〜２２０℃程度）のエステル系溶剤が好適である。The solvent used for dissolving the photosensitive resin binder comprising the photosensitive resin material and the photopolymerization initiator is the solvent for dissolving the non-photosensitive resin binder for forming the above-mentioned non-photosensitive first glass layer. (Ester-based, ether-based, petroleum-based solvents, etc.). In particular, in consideration of the application characteristics of the paste composition to be adjusted, a medium boiling point to a high boiling point (150
(About 220 ° C.) is suitable.
【００３８】本発明の感光性第２ガラス層を形成させる
ためのペースト組成物は、無機固形粉末と、感光性樹脂
バインダーを含むビヒクルとをミキサーで予備混合後、
三本ロール、ボールミル、サンドミル等の分散機で上記
粉末をビヒクル中に分散させることにより調製できる。
上記ペースト組成物を平滑な、例えばポリエチレンテレ
フタレート等のプラスチックフィルム上に均一に塗布
し、溶剤を乾燥除去して調製されるグリーンシートもま
た、本発明感光性第２ガラス層の形成に利用することが
できる。The paste composition for forming the photosensitive second glass layer of the present invention is prepared by premixing an inorganic solid powder and a vehicle containing a photosensitive resin binder with a mixer.
The powder can be prepared by dispersing the powder in a vehicle using a disperser such as a three-roll, ball mill, or sand mill.
A green sheet prepared by uniformly applying the paste composition on a smooth plastic film such as polyethylene terephthalate and drying off the solvent is also used for forming the photosensitive second glass layer of the present invention. Can be.
【００３９】上記ペースト組成物は、常法に従い、スク
リーン印刷法、ロールコーター法、ドクターブレード
法、テーブルコーター法、リバースコーター法、スプレ
ー法等により、非感光性第１ガラス層上に施工できる。
グリーンシートは、プラスチックフィルムを剥離しつ
つ、例えば加熱しながらロールラミネーター等を用い
て、上記第１ガラス層上に積層できる。尚、上記グリー
ンシートの場合、ペースト組成物に比して、常温固型の
プレポリマーをより多量に利用することができる。The paste composition can be applied on the non-photosensitive first glass layer by a screen printing method, a roll coater method, a doctor blade method, a table coater method, a reverse coater method, a spray method or the like according to a conventional method.
The green sheet can be laminated on the first glass layer using a roll laminator or the like while peeling off the plastic film, for example, while heating. In addition, in the case of the above-mentioned green sheet, a room temperature solid prepolymer can be used in a larger amount than the paste composition.
【００４０】上記ペースト組成物乃至グリーンシートに
は、それらの印刷特性、塗布特性等を改良するために、
感光性樹脂材料以外に、通常の樹脂バインダーとして知
られているセルロース系、メタアクリル系、ポリビニル
アルコール系、ポリビニルブチラール系等の各種樹脂成
分を適宜添加配合することも可能である。In order to improve the printing characteristics, coating characteristics, etc. of the paste composition or green sheet,
In addition to the photosensitive resin material, it is also possible to appropriately add and mix various resin components such as cellulose-based, methacrylic, polyvinyl alcohol-based, and polyvinyl butyral-based resins that are known as ordinary resin binders.
【００４１】本発明方法に従い、非感光性第１ガラス層
上に積層される感光性第２ガラス層は、後述するサンド
ブラスト工程において、上記第１ガラス層の切削に対し
て充分なマスキングの役目を果たすものとするため、特
に、該層を構成する感光性樹脂バインダーの配合割合
を、無機固形粉末１００重量部に対して約２０重量部以
上とするのが好ましい。この配合量があまりに少なすぎ
ると、露光、現像時のパターン切れが悪化するのみなら
ず、残渣残りも顕著となる弊害が生じる。またこの配合
量の上限は、通常約１００重量部前後であり、この配合
量以下では、露光、現像による硬化時に膜が浮き上がら
ず且つ焼成時にクラック、欠け、炭化等も起こらない。According to the method of the present invention, the photosensitive second glass layer laminated on the non-photosensitive first glass layer plays a role of sufficient masking for cutting the first glass layer in a sandblasting step described later. In order to achieve this, it is particularly preferable that the mixing ratio of the photosensitive resin binder constituting the layer is about 20 parts by weight or more based on 100 parts by weight of the inorganic solid powder. If the compounding amount is too small, not only the pattern breakage at the time of exposure and development is deteriorated, but also the residual residue becomes remarkable. The upper limit of the compounding amount is usually about 100 parts by weight. When the compounding amount is less than the above, the film does not float during curing by exposure and development, and cracking, chipping, and carbonization do not occur during firing.
【００４２】上記第２ガラス層の膜厚は、該層がマスキ
ングの役目を果たし得る限り特に限定されず、該層を構
成する成分の種類や配合割合、及び第１ガラス層のそれ
ら及びその膜厚等を考慮して適宜決定できる。通常、前
記第１ガラス層の膜厚約１００〜３００μｍに対して、
約２０μｍ程度で所望のマスキング機能を果たし得る。
該膜厚は、通常約２０〜６０μｍ、好ましくは約２５〜
５０μｍとされる。The thickness of the second glass layer is not particularly limited as long as the layer can function as a mask, and the types and mixing ratios of the components constituting the layer, those of the first glass layer and their films It can be appropriately determined in consideration of the thickness and the like. Usually, for a film thickness of about 100 to 300 μm of the first glass layer,
A desired masking function can be achieved at about 20 μm.
The film thickness is usually about 20 to 60 μm, preferably about 25 to
It is 50 μm.
【００４３】本発明では、非感光性第１ガラス層上に感
光性第２ガラス層を積層し、該第２ガラス層を適当なパ
ターンを有する遮光マスクを介して露光、現像して、パ
ターン化し（非隔壁部分を開口し）、次いで両ガラス層
の切削性の差を利用して、サンドブラスト法により上記
開口部下の第１ガラス層を切削除去する。即ち、感光性
第２ガラス層のパターンをマスクとして、非パターン部
下にある非感光性第１ガラス層を切削除去する。本発明
方法は、このような感光性第２ガラス層の利用に基づい
て、従来の感光性樹脂のドライフィルムを利用する必要
がなく、それ故、サンドブラスト後の高濃度アルカリ液
による該ドライフィルムの剥離溶解工程が不必要とな
り、これに伴われる弊害が全て解消される利点がある。In the present invention, the photosensitive second glass layer is laminated on the non-photosensitive first glass layer, and the second glass layer is exposed and developed through a light-shielding mask having an appropriate pattern to form a pattern. Then, the first glass layer below the opening is cut and removed by sandblasting, utilizing the difference in the cutting properties between the two glass layers. That is, using the pattern of the photosensitive second glass layer as a mask, the non-photosensitive first glass layer below the non-pattern portion is cut and removed. The method of the present invention, based on the use of such a photosensitive second glass layer, does not require the use of a conventional dry film of a photosensitive resin, and therefore, the sand film is subjected to a high-concentration alkaline solution after the sandblasting. There is an advantage that the peeling and dissolving step becomes unnecessary and all the adverse effects associated therewith are eliminated.
【００４４】本発明方法における上記露光、現像工程
は、前記感光性第２ガラス層を予備乾燥後、隔壁パター
ンとは逆のパターンを有する遮光マスクを介してこれに
紫外線を照射し、隔壁部分となる第２ガラス層中の感光
性樹脂成分を硬化させ、次いで、非隔壁部分に相当する
第２ガラス層部分を現像、除去することにより実施され
る。上記における紫外線としては、特に３００ｎｍ〜４
００ｎｍの波長が好ましく、また平行光を利用するのが
適当である。未硬化部分の現像液としては、無機アルカ
リ水溶液や有機アルカリ水溶液が使用でき、特に本発明
では、約０．１〜５％程度の濃度の炭酸ナトリウム水溶
液の使用が好適である。In the above-mentioned exposure and development steps in the method of the present invention, the photosensitive second glass layer is preliminarily dried and then irradiated with ultraviolet rays through a light-shielding mask having a pattern opposite to that of the partition wall pattern. This is performed by curing the photosensitive resin component in the resulting second glass layer, and then developing and removing the second glass layer portion corresponding to the non-partition portion. As the ultraviolet light in the above, particularly 300 nm to 4
A wavelength of 00 nm is preferred, and the use of parallel light is appropriate. As the developer for the uncured portion, an aqueous solution of an inorganic alkali or an aqueous solution of an organic alkali can be used. In the present invention, use of an aqueous solution of sodium carbonate having a concentration of about 0.1 to 5% is particularly preferable.
【００４５】上記に引き続く、硬化した感光性第２ガラ
ス層の開口部下の第１ガラス層（非隔壁部分）の切削除
去は、適当なサンドブラスト機を利用して実施できる。
上記サンドブラストの条件は、従来のこの種サンドブラ
スト法に採用されているそれらと同様のものとすること
ができる。ノズル形状、噴霧圧力、噴霧量、研磨粉（ブ
ラスト剤）等に関しても従来汎用されているそれらをい
ずれも採用できる。特に、約１．０〜５．０ｋｇ／ｃｍ
2のブラスト圧の採用が好ましく、ブラスト剤として
は、炭酸カルシウム粉末、ガラスビーズ等の使用が好適
である。Subsequent to the above, cutting and removal of the first glass layer (non-partition portion) below the opening of the cured photosensitive second glass layer can be carried out by using a suitable sandblasting machine.
The conditions for the above sandblasting can be the same as those employed in the conventional sandblasting method of this type. Regarding the nozzle shape, spray pressure, spray amount, abrasive powder (blasting agent) and the like, any of those conventionally used widely can be adopted. In particular, about 1.0 to 5.0 kg / cm
It is preferable to employ a blast pressure of 2 , and as the blasting agent, it is preferable to use calcium carbonate powder, glass beads or the like.
【００４６】かくして、所望パターンの隔壁部分を形成
させ得る。該隔壁部分は、これに用いられたガラス（第
１ガラス層及び第２ガラス層）に応じた適当な焼成条
件、例えば約５００〜６００℃程度の温度条件で１０〜
３０分程度の条件で焼成することにより、本発明所期の
隔壁とすることができる。また、この焼成によれば、サ
ンドブラストによる第２ガラス層表面の凹凸を平滑なも
のとすることができる。Thus, a partition portion having a desired pattern can be formed. The partition portion is formed under appropriate firing conditions according to the glass (first glass layer and second glass layer) used for this, for example, at a temperature of about 500 to 600 ° C.
By firing under conditions of about 30 minutes, the intended partition wall of the present invention can be obtained. Further, according to this firing, unevenness on the surface of the second glass layer due to sand blast can be made smooth.
【００４７】本発明方法によれば、フォトリソグラフィ
ー技術を利用した感光性第２ガラス層の露光、現像が、
従来の感光性ドライフィルムと対比して、かなりの薄膜
状態で実施でき、従って、単１回の施工、露光で充分に
所望の硬化を行ない得るに加えて、現像時の残渣残りの
問題も回避される。更に、上記感光性ガラス層が薄膜で
あることより、これは焼成時の燃焼性を低下させること
もなく、従って、気泡のない隔壁を安定して収得できる
利点がある。According to the method of the present invention, exposure and development of the photosensitive second glass layer using the photolithography technique
Compared to the conventional photosensitive dry film, it can be performed in a considerably thin film state, so that the desired curing can be sufficiently performed by a single application and exposure, and the problem of residue residue during development is also avoided. Is done. Further, since the photosensitive glass layer is a thin film, it does not reduce the flammability at the time of firing, and thus has an advantage that a partition without bubbles can be stably obtained.
【００４８】また、本発明方法では、利用する感光性第
２ガラス層は、従来の感光性ドライフィルムのように、
露光、現像後に剥離除去する必要がなく、そのまま焼成
できる。これは、上記剥離除去にアルカリ水溶液を要
し、これとの接触によって隔壁部分が損傷、欠落等を起
こす危険があることを考慮すれば、かかる危険を確実に
回避できる点からも、非常に好ましいものであることが
明らかである。In the method of the present invention, the photosensitive second glass layer to be used is, as in a conventional photosensitive dry film,
There is no need to remove and remove after exposure and development, and baking can be performed as it is. This is very preferable from the viewpoint that the above-described peeling and removal requires an alkaline aqueous solution, and considering that there is a risk that the partition wall portion may be damaged or dropped due to contact with the alkaline aqueous solution, such a risk can be reliably avoided. Obviously.
【００４９】本発明方法は、ＡＣ型プラズマディスプレ
イパネルのストライプ状隔壁の作成は勿論のこと、ＤＣ
型のセル状構造（＃型）の隔壁形成やプラズマアドレス
型液晶表示装置の隔壁形成にも適用できるものである。According to the method of the present invention, not only the formation of the stripe-shaped partition walls of the AC type plasma display panel but also the DC
The present invention can be applied to the formation of a partition having a cell type structure (# type) of a mold or the formation of a partition of a plasma addressed liquid crystal display device.
【００５０】[0050]
【実施例】以下、本発明を更に詳しく説明するため、実
施例を挙げる。尚、例中、部及び％はいずれも重量基準
による。The present invention will now be described in further detail with reference to examples. In the examples, parts and% are based on weight.
【００５１】[0051]
【実施例１】この例は、本発明隔壁形成方法を、その各
工程毎に示したものであり、各工程において形成される
隔壁構造の概略は、図１（各工程を矢印順に示す。但
し、ガラス基板上に形成される電極やオーバーコートガ
ラスは省略している。）に示される通りである。Embodiment 1 In this embodiment, the partition forming method of the present invention is shown for each step, and the structure of the partition formed in each step is schematically shown in FIG. 1 (each step is shown in the order of arrows). , Electrodes and overcoat glass formed on the glass substrate are omitted.)
【００５２】該図１は、最上段より、下方に順次、以下
の各工程を示す。FIG. 1 shows the following steps sequentially from the top to the bottom.
【００５３】最上段；ガラス基板（１）上に非感光性第
１ガラス層（２）を形成させる工程 第２段；非感光性第１ガラス層（２）上に感光性第２ガ
ラス層（３）を積層する工程 第３段；遮光マスク（４）を介してその上方より感光性
第２ガラス層（３）に露光して、そのパターン部（５）
を硬化させる工程 第４段；露光後に感光性第２ガラス層の非パターン部を
現像除去する工程 最下段；除去された感光性第２ガラス層（非パターン
部、開口部）下の非感光性第１ガラス層（２）をサンド
ブラストにより切削除去する工程。Top: Step of forming non-photosensitive first glass layer (2) on glass substrate (1) Second step: Photosensitive second glass layer (2) on non-photosensitive first glass layer (2) Step of laminating 3) Third step: Exposure of the photosensitive second glass layer (3) from above through a light-shielding mask (4) to form a pattern portion (5).
Step of developing and removing the non-patterned portion of the photosensitive second glass layer after exposure. Lowermost step: Non-photosensitive under the removed photosensitive second glass layer (non-patterned portion, opening). A step of cutting and removing the first glass layer (2) by sandblasting.
【００５４】（１）非感光性第１ガラス層形成用ガラス
ペースト組成物の調製 無機固形粉末として、下記組成の低融点ガラス粉末（軟
化点５１０℃、平均粒径Ｄ50＝１０μｍ）９０％、アル
ミナ粉末（平均粒径Ｄ50＝３μｍ）５％及び酸化チタン
顔料（平均粒径Ｄ50＝０．２μｍ）５％を用いた。(1) Preparation of glass paste composition for forming non-photosensitive first glass layer As an inorganic solid powder, a low-melting glass powder having the following composition (softening point: 510 ° C., average particle diameter D 50 = 10 μm) 90%, 5% of alumina powder (average particle diameter D 50 = 3 μm) and 5% of titanium oxide pigment (average particle diameter D 50 = 0.2 μm) were used.
【００５５】 ＰｂＯ ６０％ ＳｉＯ2 ２８％ Ｂ2Ｏ3 ５％ ＴｉＯ2 ３％ Ａｌ2Ｏ3 ３％ ＺｒＯ2 ２％ 上記無機固形粉末を、ジエチレングリコールモノブチル
エーテルを溶剤としてこれにエチルセルロース（東レ・
ダウコーニング社製、ＭＥＤ２０）を溶解させたオイル
中に、三本ロールを用いて分散させて、非感光性第１ガ
ラス層用ペースト組成物を調製した。尚、該ペースト組
成物中のエチルセルロース量は、無機固形粉末１００部
に対して７部となるように調整した。該ペースト組成物
の粘度は９００ポイズ／２５℃であった。PbO 60% SiO 2 28% B 2 O 3 5% TiO 2 3% Al 2 O 3 3% ZrO 2 2% The above inorganic solid powder was mixed with diethylene glycol monobutyl ether as a solvent in ethyl cellulose (Toray Co., Ltd.).
A non-photosensitive first glass layer paste composition was prepared by dispersing in an oil in which Dow Corning MED20) was dissolved using a three-roll mill. The amount of ethyl cellulose in the paste composition was adjusted to 7 parts with respect to 100 parts of the inorganic solid powder. The viscosity of the paste composition was 900 poise / 25 ° C.
【００５６】（２）非感光性第１ガラス層の形成 上記（１）で調製したガラスペースト組成物を、電極及
び誘電体層を施した基板ガラス（背面板）上に、２００
メッシュステンレススクリーンを用いてスクリーン印刷
法により全面塗布し、乾燥する操作を１０回繰り返し
て、約２００μｍの乾燥塗膜（非感光性第１ガラス層）
を形成させた。(2) Formation of Non-Photosensitive First Glass Layer The glass paste composition prepared in the above (1) was applied on a substrate glass (back plate) provided with electrodes and a dielectric layer by 200 μm.
The operation of applying the whole surface by a screen printing method using a mesh stainless screen and drying is repeated 10 times to obtain a dried coating film (non-photosensitive first glass layer) of about 200 μm.
Was formed.
【００５７】（３）感光性第２ガラス層用ガラスペース
ト組成物の調製 上記（１）と同一の低融点ガラス粉末９５％にＦｅ2Ｏ3
・ＣｏＯ・ＭｎＯ2系黒色顔料５％を配合した無機固形
粉末を用いた。(3) Preparation of Glass Paste Composition for Photosensitive Second Glass Layer 95% of the same low melting point glass powder as in (1) above was made of Fe 2 O 3
An inorganic solid powder containing 5% of a CoO.MnO 2 -based black pigment was used.
【００５８】メチルメタクリレートとグリシジルメタク
リレートとをブチルカルビトールアセテート中で共重合
させ、更に無水フタール酸及びアクリル酸にて変性した
重量平均分子量１０万、固形分酸価１００の感光性の水
溶性プレポリマー１００部に、モノマー成分として１，
６−ヘキサンジオールジアクリレート（共栄化学社製、
１．６ＨＸＡ）１０部、光重合開始剤（２，４−ジエチ
ルチオキサントン、日本化薬社製、ＤＥＴＸ）５部及び
ｐ−メチル安息香酸メチル（ダイトーケミックス社製、
ＰＡＡ）５部を添加し、プロペラミキサーにて混合し
て、感光性樹脂バインダーの溶剤溶液を調製した。Methyl methacrylate and glycidyl methacrylate are copolymerized in butyl carbitol acetate, and further modified with phthalic anhydride and acrylic acid. A photosensitive water-soluble prepolymer having a weight average molecular weight of 100,000 and a solid acid value of 100. 100 parts, 1, as a monomer component
6-hexanediol diacrylate (manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd.
1.6HXA), 10 parts of a photopolymerization initiator (2,4-diethylthioxanthone, manufactured by Nippon Kayaku, DETX) and 5 parts of methyl p-methylbenzoate (manufactured by Daito Chemmix, Inc.
PAA) (5 parts) was added and mixed with a propeller mixer to prepare a solvent solution of a photosensitive resin binder.
【００５９】上記無機固形粉末１００部と感光性樹脂バ
インダーの溶剤溶液５０部（溶剤を除外した計算値、以
下バインダーについては同様とする）とを用いて、
（１）と同様にして、三本ロールを用いて感光性第２ガ
ラス層用ペースト組成物を調製した。Using 100 parts of the above inorganic solid powder and 50 parts of a solvent solution of a photosensitive resin binder (calculated value excluding the solvent, the same applies to the binder hereinafter),
In the same manner as in (1), a paste composition for a photosensitive second glass layer was prepared using three rolls.
【００６０】（４）感光性第２ガラス層の積層 上記（２）で得た非感光性第１ガラス層上に、上記
（３）で調製したペースト組成物を１５０メッシュステ
ンレススクリーンを用いて全面塗布後、自然乾燥させ
て、乾燥後膜厚３０μｍの感光性第２ガラス層を形成さ
せた。(4) Lamination of Photosensitive Second Glass Layer On the non-photosensitive first glass layer obtained in the above (2), the paste composition prepared in the above (3) is entirely coated using a 150 mesh stainless screen. After the application, the coating was naturally dried to form a photosensitive second glass layer having a thickness of 30 μm after drying.
【００６１】（５）露光、現像、サンドブラスト処理 上記（４）で得た感光性第２ガラス層上に、隔壁パター
ンを有するフォトマスクを載置し、露光機（オーク社
製、平行光）にて、７００ｍｊ／ｃｍ2の紫外線を照射
した。次いで、１％炭酸ナトリウム水溶液にて未露光部
分を現像して、上記第２ガラス層をパターン化した。(5) Exposure, development, and sandblast treatment A photomask having a partition pattern is placed on the photosensitive second glass layer obtained in the above (4), and the exposure is performed by an exposure machine (Oak Co., parallel light). And irradiated with 700 mj / cm 2 ultraviolet rays. Next, the unexposed portion was developed with a 1% aqueous solution of sodium carbonate to pattern the second glass layer.
【００６２】このパターン化した第２ガラス層をマスク
として、ブラスト剤として炭酸カルシウム粉末（＃６０
０）を用い、サンドブラスト機（不二製作所社製、ニュ
ーブラスターＳＭＣ−１ＡＤＥ−４０１）を利用して、
噴射圧３ｋｇ・ｆ／ｃｍ2でブラスト処理した。Using the patterned second glass layer as a mask, calcium carbonate powder (# 60) was used as a blasting agent.
0) using a sand blasting machine (New Blaster SMC-1ADE-401, manufactured by Fuji Manufacturing Co., Ltd.)
The blast treatment was performed at an injection pressure of 3 kg · f / cm 2 .
【００６３】その結果、隔壁部分となる第２ガラス層に
は、数μｍの切削が認められたが、充分なマスク機能を
有しており、かくして、膜厚（隔壁高さ）約２２０μｍ
の隔壁部分（未焼成）を形成できた。As a result, the second glass layer serving as the partition wall portion was cut by several μm. However, the second glass layer had a sufficient mask function, and thus had a film thickness (partition height) of about 220 μm.
Was formed (unfired).
【００６４】（６）焼成処理 次に、上記（５）で得た隔壁部分を形成させたガラス基
板を、硬化した感光性第２ガラス層を剥離することな
く、最高温度５７０℃で１０分間保持し、イン−アウト
時間１時間を要して焼成した。かくして、隔壁高さ１６
０μｍの隔壁を得た。(6) Firing Treatment Next, the glass substrate on which the partition wall portion obtained in the above (5) is formed is held at the maximum temperature of 570 ° C. for 10 minutes without peeling off the cured photosensitive second glass layer. Then, firing was required for an in-out time of 1 hour. Thus, the partition height 16
0 μm partition walls were obtained.
【００６５】[0065]
【実施例２】この例は、実施例１において用いた感光性
第２ガラス層用ガラスペースト組成物に代えて、グリー
ンシートを用いて実施したものであり、以下の通り行な
われた。Example 2 This example was conducted using a green sheet in place of the glass paste composition for a photosensitive second glass layer used in Example 1, and was carried out as follows.
【００６６】（１）非感光性第１ガラス層形成用ガラス
ペースト組成物の調製及び非感光性第１ガラス層の形成 実施例１の（１）及び（２）と同様にして実施した。(1) Preparation of glass paste composition for forming non-photosensitive first glass layer and formation of non-photosensitive first glass layer This was carried out in the same manner as (1) and (2) of Example 1.
【００６７】（２）感光性第２ガラス層用グリーンシー
トの調製及び感光性第２ガラス層の積層 実施例１で調製した感光性第２ガラス層用へペースト組
成物をドクターブレード法によりポリエチレンテレフタ
レート（ＰＥＴ）フィルム上に塗布し、１５０〜１７０
℃で遮光下に乾燥させた。かくして膜厚３３μｍのグリ
ーンシートを得た。得られたグリーンシートは、曲げに
対して充分に追随した。(2) Preparation of Green Sheet for Photosensitive Second Glass Layer and Lamination of Photosensitive Second Glass Layer The paste composition for the photosensitive second glass layer prepared in Example 1 was polyethylene terephthalate by a doctor blade method. (PET) 150-170
Dry at ℃ under light protection. Thus, a green sheet having a thickness of 33 μm was obtained. The obtained green sheet sufficiently followed the bending.
【００６８】上記グリーンシートを、その下地のＰＥＴ
フィルムを剥離しながら、ラミネーターにて、第１ガラ
ス層上に積層した。The above-mentioned green sheet is placed on the underlying PET film.
While peeling the film, it was laminated on the first glass layer with a laminator.
【００６９】（３）露光、現像、サンドブラスト処理 実施例１の（５）と同様に、露光、現像、サンドブラス
ト処理を行なった。(3) Exposure, development and sand blast treatment Exposure, development and sand blast treatment were carried out in the same manner as in (5) of Example 1.
【００７０】その結果、隔壁部分となる第２ガラス層に
は数μｍの切削跡が認められたが、充分にマスクとして
機能し得るものであった。かくして、膜厚（隔壁高さ）
約２２０μｍの隔壁部分（未焼成）を形成できた。As a result, a cut mark of several μm was observed in the second glass layer serving as the partition wall portion, but it could sufficiently function as a mask. Thus, film thickness (partition height)
A partition part (unfired) of about 220 μm was formed.
【００７１】（４）焼成処理 実施例１と同様にして、上記（３）で得た隔壁部分を形
成させたガラス基板を、最高温度１５０℃で１０分間保
持し、イン−アウト時間１時間を要して焼成した。上記
により、隔壁高さ１６０μｍの隔壁を得た。(4) Firing Treatment In the same manner as in Example 1, the glass substrate on which the partition wall portion obtained in (3) above was formed was held at a maximum temperature of 150 ° C. for 10 minutes, and the in-out time was set at 1 hour. In other words, it was fired. As described above, a partition having a partition height of 160 μm was obtained.
【図１】本発明方法に従う隔壁形成の各工程における積
層体構造の概略を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a laminate structure in each step of forming a partition wall according to the method of the present invention.
１ ガラス基板 ２ 非感光性第１ガラス層 ３ 感光性第２ガラス層 ４ 遮光マスク ５ 硬化した感光性第２ガラス層のパターン部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Non-photosensitive first glass layer 3 Photosensitive second glass layer 4 Light-shielding mask 5 Patterned portion of cured photosensitive second glass layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 17/16 Ｈ０１Ｊ 17/16 (72)発明者 奥野 晴彦 大阪府大阪市中央区道修町４−７−10 奥 野製薬工業株式会社内──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI H01J 17/16 H01J 17/16 (72) Inventor Haruhiko Okuno 4-7-10 Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka Inside the corporation
Claims (4)
ンドブラスト法により形成させる方法において、プラズ
マディスプレイパネルの背面ガラス基板上に、非感光性
樹脂バインダーを含む第１の低融点ガラス層を形成させ
る工程、該層上に感光性樹脂バインダーを含む第２の低
融点ガラス層を積層する工程、隔壁パターンを有する遮
光マスクを介して上記第２の低融点ガラス層を露光、現
像してパターン化する工程、及び得られるパターンをマ
スクとしてその開口部下の第１の低融点ガラス層をサン
ドブラストにより切削除去する工程を含むことを特徴と
するプラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法。1. A method for forming a partition wall of a plasma display panel by a sandblast method, wherein a first low-melting glass layer containing a non-photosensitive resin binder is formed on a back glass substrate of the plasma display panel. Laminating a second low-melting glass layer containing a photosensitive resin binder thereon, exposing and developing the second low-melting glass layer through a light-shielding mask having a partition pattern, and patterning. And forming a first low-melting glass layer under the opening by sandblasting using the resulting pattern as a mask.
が、低融点ガラス粉末を必須成分とする無機固形粉末１
００重量部と、感光性樹脂材料及び光重合開始剤からな
る感光性樹脂バインダー２０〜１００重量部とを含むも
のである請求項１に記載の隔壁形成方法。2. A material constituting a second low melting point glass layer is an inorganic solid powder containing low melting point glass powder as an essential component.
The method according to claim 1, wherein the method comprises 100 parts by weight and 20 to 100 parts by weight of a photosensitive resin binder composed of a photosensitive resin material and a photopolymerization initiator.
ｍの範囲のものである請求項２に記載の隔壁形成方法。3. The low melting glass powder has a particle size of 0.5 to 20 μm.
3. The method for forming a partition wall according to claim 2, wherein the partition wall thickness is within a range of m.
固形粉末１００重量部と、感光性樹脂材料及び光重合開
始剤からなる感光性樹脂バインダー２０〜１００重量部
とを含むことを特徴とする請求項１に記載の隔壁形成方
法における第２の低融点ガラス層を形成させるためのガ
ラスペースト組成物。4. It comprises 100 parts by weight of an inorganic solid powder containing a low melting point glass powder as an essential component, and 20 to 100 parts by weight of a photosensitive resin binder comprising a photosensitive resin material and a photopolymerization initiator. A glass paste composition for forming a second low-melting glass layer in the method for forming a partition wall according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9278920A JPH11120905A (en) | 1997-10-13 | 1997-10-13 | Barrier rib forming method for plasma display panel and its material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9278920A JPH11120905A (en) | 1997-10-13 | 1997-10-13 | Barrier rib forming method for plasma display panel and its material |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11120905A true JPH11120905A (en) | 1999-04-30 |
Family
ID=17603935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9278920A Pending JPH11120905A (en) | 1997-10-13 | 1997-10-13 | Barrier rib forming method for plasma display panel and its material |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11120905A (en) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100415619B1 (en) * | 2001-11-19 | 2004-01-24 | 엘지전자 주식회사 | Method of Fabricating the Barrier Rib on Plasma Display Panel |
| WO2004023511A1 (en) * | 2002-09-03 | 2004-03-18 | Asahi Glass Company, Limited | Pastes for forming barrier ribs and process for production of plasma display panels |
| KR100499760B1 (en) * | 2001-10-22 | 2005-07-07 | 파이오니아 플라즈마 디스플레이 가부시키가이샤 | Multi-gap mask, method for manufacturing same and method for manufacturing component part by using same |
| KR20050072915A (en) * | 2004-01-08 | 2005-07-13 | 엘지전자 주식회사 | Partition manufacturing method of plasma display panel |
| KR100830439B1 (en) | 2006-05-08 | 2008-05-20 | 엘지전자 주식회사 | Plasma display panel, fabricating method and barrier lib material composition thereof |
| KR100863043B1 (en) | 2006-05-08 | 2008-10-13 | 엘지전자 주식회사 | Plasma display panel, fabricating method and barrier lib material composition thereof |
| CN100465787C (en) * | 2004-11-25 | 2009-03-04 | 中华映管股份有限公司 | Formation of graphic diaphragm layer and barrier |
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1997
- 1997-10-13 JP JP9278920A patent/JPH11120905A/en active Pending
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