KR100786863B1 - 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법 - Google Patents

플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법 Download PDF

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Abstract

플라즈마 표시 장치에서, 복수의 서브필드 중 제1 서브필드의 어드레스 기간에서는 선택적 기입 방식을 사용하여 발광 셀로 설정한 셀을 선택하고 제1 서브필드의 유지 기간에서는 선택된 발광 셀을 유지 방전시킨다. 그리고 복수의 서브필드 중 제2 서브필드의 어드레스 기간에서는 선택적 소거 방식을 사용하여 제1 서브필드의 발광 셀 중에서 비발광 셀로 설정한 셀을 선택하고 제2 서브필드의 유지 기간에서는 발광 셀을 유지 방전시킨다. 이와 같이, 복수의 서브필드 중 적어도 일부의 서브필드에서 어드레스 기간을 선택적 소거 방식으로 형성하면 모든 서브필드의 어드레스 기간을 선택적 기입 방식으로 형성할 때보다 고속 어드레스가 가능하며, 제1 서브필드의 유지 기간 중 제1 기간동안 인가되는 제1 유지 방전 펄스의 폭을 상기 제1 기간을 제외한 나머지 기간에 인가되는 유지방전 펄스 폭보다 길에 함으로써 유지방전을 안정적으로 확보할 수 있다. 따라서, 선택적 기입 방식을 사용하는 제1 서브필드의 유지 방전이 안정화되어, 선택적 기입 방식과 선택적 소거 방식이 적용된 구동 방법에서 발생할 수 있는 불안정한 화상표현을 제거할 수 있다.
PDP, 전극, 기입, 소거, 어드레스, 발광 셀, 비발광 셀, 소비 전력

Description

플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법{PLASMA DISPLAY AND DRIVING METHOD THEREOF}
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 분해 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 패널의 전극 배열도이다.
도 3은 도 1의 샤시 베이스의 개략적인 평면도이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형도이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형도이다.
도 7은 본 발명의 제4 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형도이다.
본 발명은 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법에 관한 것이다.
플라즈마 표시 장치는 기체 방전에 의해 생성된 플라즈마를 이용하여 문자 또는 영상을 표시하는 장치이다. 이러한 플라즈마 표시 장치의 표시 패널에는 복수의 방전 셀이 매트릭스 형태로 배열되어 있다.
일반적으로 플라즈마 표시 장치는 한 프레임이 복수의 서브필드로 분할되어 구동되며, 각 서브필드는 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간으로 이루어진다.
리셋 기간은 셀에 어드레스 방전을 안정적으로 수행하기 위해 방전 셀의 상태를 초기화하는 기간이며, 어드레스 기간은 어드레스 방전을 통해 복수의 방전 셀 중 켜질 셀과 켜지지 않을 셀을 선택하는 기간이다. 유지 기간은 실제로 영상을 표시하기 위해 켜질 셀에 대하여 유지 방전을 수행하는 기간이다.
이러한 동작을 하기 위해서 유지 기간에서는 주사 전극과 유지 전극에 교대로 유지방전 펄스가 인가되고, 리셋 기간과 어드레스 기간에서는 주사 전극에 리셋 파형과 주사 파형이 인가된다. 따라서 주사 전극을 구동하기 위한 주사 구동 보드와 유지 전극을 구동하기 위한 유지 구동 보드가 별개로 존재하여야 한다. 이와 같이 구동 보드가 따로 존재하면 샤시 베이스에 구동 보드를 실장하는 문제점이 있으며, 두 개의 구동 보드로 인해서 단가가 증가한다.
따라서, 두 구동 보드를 하나로 통합하여 주사 전극의 한쪽 끝에 형성하고, 유지 전극의 한쪽 끝을 길게 연장하여 통합 보드에 연결하는 방법이 제안되었다. 그런데 이와 같이 두 구동 보드를 통합하면 길게 연장된 유지 전극에서 형성되는 임피던스 성분이 크게 된다는 문제점이 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 주사 전극과 유지 전극을 구동할 수 있는 통합 보드를 가지는 플라즈마 표시 장치를 제공하는 것이다.
또한, 본 발명은 초기 유지방전을 안정적으로 확보할 수 있는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법을 제공하는 것을 그 기술적 과제로 한다.
이러한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 특징에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 방법은 복수의 제1 전극, 복수의 제2 전극 및 상기 제1 전극과 제2 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극을 포함하며, 상기 제1, 제2 및 제3 전극에 의해 방전 셀이 형성되는 플라즈마 표시 장치에서 한 프레임을 복수의 서브필드로 분할하여 구동하는 구동 방법으로서,
상기 복수의 서브필드 중 제1 서브필드의 유지 기간에서, 상기 복수의 제2 전극에 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제1 전극에 상기 제1 전압보다 높은 제2 전압을 가지는 유지 방전 펄스와 상기 제1 전압보다 낮은 제3 전압을 가지는 유지 방전 펄스를 교대로 인가하여 발광 셀을 유지방전 시키는 단계와 상기 복수의 서브필드 중 제2 서브필드의 어드레스 기간에서, 상기 제1 서브필드의 발광 셀 중 비발광 셀로 선택할 셀에 대응하는 상기 제1 전극 및 상기 제3 전극에 각각 제4 전압의 제1 주사 펄스 및 제5 전압의 제1 어드레스 펄스를 인가하고, 상기 제1 주사 펄스가 인가되지 않는 상기 제1 전극을 제6 전압으로 유지하는 단계 그리고 상기 제2 서브필드의 유지 기간에서, 상기 복수의 제2 전극에 상기 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제1 전극에 상기 제3 전압과 상기 제2 전압을 교대로 인가하여 상기 발광 셀을 유지 방전시키는 단계를 포함하며,
상기 제1 서브필드의 유지 기간 중 제1 기간동안 인가되는 제1 유지 방전 펄스의 폭은 상기 제1 기간을 제외한 나머지 기간에 인가되는 유지 방전 펄스 폭보다 긴 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 특징에 따른 플라즈마 표시 장치는 복수의 제1 전극, 복수의 제2 전극, 상기 복수의 제2 전극 및 상기 제1 전극과 제2 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극을 포함하며, 상기 제1 , 제2 및 제3 전극에 의해 방전 셀이 형성되고, 상기 제1 전극이 제1 전압으로 바이어스 되어 있는 플라즈마 표시 패널과 상기 플라즈마 표시 패널을 구동하는 구동부 그리고 한 프레임을 복수의 서브필드로 나누어 구동하도록 상기 구동부를 제어하는 제어부를 포함하며,
상기 구동부는,
상기 복수의 서브필드 중 제1 서브필드의 유지 기간에서, 상기 복수의 제1 전극에 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제2 전극에 상기 제1 전압보다 높은 제2 전압을 가지는 유지방전 펄스와 상기 제1 전압보다 낮은 제3 전압을 가지는 유지방전 펄스를 교대로 인가하여 발광 셀을 유지방전시키고,
상기 복수의 서브필드 중 제2 서브필드의 어드레스 기간에서, 상기 복수의 제1 전극에 상기 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 제2 전극 및 제3 전극에 각각 제1 주사 펄스와 제1 어드레스 펄스를 인가하여 상기 제1 서브필드의 발광 셀 중 비발광 셀로 설정할 셀을 선택하고, 상기 제1 주사 펄스가 인가되지 않는 상기 제2 전극을 제4 전압으로 유지하며,
상기 제2 서브필드의 유지 기간에서, 상기 복수의 제1 전극에 상기 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제2 전극에 상기 제3 전압과 상기 제2 전압을 교대로 인가하여 상기 발광 셀을 유지 방전시키고,
상기 제1 서브필드의 유지 기간 중 제1 기간동안 인가되는 제1 유지방전 펄스의 폭은 상기 제1 기간을 제외한 나머지 기간에 인가되는 유지방전 펄스 폭보다 긴 것을 특징으로 한다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다.
그리고 본 발명에서 언급되는 벽 전하란 셀의 벽(예를 들어, 유전체층) 상에서 각 전극에 가깝게 형성되는 전하를 말한다. 그리고 벽 전하는 실제로 전극 자체에 접촉되지는 않지만, 여기서는 전극에 "형성됨", "축적됨" 또는 "쌓임"과 같이 설명한다. 또한 벽 전압은 벽 전하에 의해서 셀의 벽에 형성되는 전위차를 말한다.
이제 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법에 대하여 도면을 참고로 하여 상세하게 설명한다.
먼저, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 개략적인 구조에 대해서 도 1 내지 도 3을 참조하여 자세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 분해 사시도이며, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 패널의 전극 배열도이고, 도 3은 도 1의 샤시 베이스의 개략적인 평면도이다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 플라즈마 표시 장치는 플라즈마 표시 패널(10), 샤시 베이스(20), 전면 케이스(30) 및 후면 케이스(40)를 포함한다. 샤시 베이스(20)는 플라즈마 표시 패널(10)에서 영상이 표시되는 면의 반대측에 배치되어 플라즈마 표시 패널(10)과 결합된다. 전면 및 후면 케이스(30, 40)는 플라즈마 표시 패널(10)의 전면 및 샤시 베이스(20)의 후면에 각각 배치되어, 플라즈마 표시 패널(10) 및 샤시 베이스(20)와 결합되어 플라즈마 표시 장치를 형성한다.
도 2를 보면, 플라즈마 표시 패널(10)은 세로 방향으로 뻗어 있는 복수의 어드레스 전극(A1-Am), 그리고 가로 방향으로 뻗어 있는 복수의 주사 전극(Y1-Yn) 및 복수의 유지 전극(X1-Xn)을 포함한다. 유지 전극(X1-Xn)은 각 주사 전극(Y1-Yn)에 대응해서 형성되며, 일반적으로 그 일단이 서로 공통으로 연결되어 있다. 그리고 플라즈마 표시 패널(10)은 유지 및 주사 전극(X1-Xn, Y1-Yn)이 배열된 절연 기판과 어드레스 전극(A1-Am)이 배열된 절연 기판을 포함한다. 두 절연 기판은 주사 전극(Y1-Yn)과 어드레스 전극(A1-Am) 및 유지 전극(X1-Xn)과 어드레스 전극(A1-Am)이 각각 직교하도록 방전 공간을 사이에 두고 대향하여 배치되어 있다. 이때, 어드레스 전극(A1-Am)과 유지 및 주사 전극(X1-Xn, Y1-Yn)의 교차부에 있는 방전 공간이 셀을 형성한다. 이러한 플라즈마 표시 패널(100)의 구조는 일 예이며, 아래에서 설명하는 구동 파형이 적용될 수 있는 다른 구조의 패널도 본 발명에 적용될 수 있다.
그리고 도 3에 나타낸 바와 같이, 샤시 베이스(20)에는 플라즈마 표시 패널(10)의 구동에 필요한 보드(100-500)가 형성되어 있다. 어드레스 버퍼 보드(100)는 샤시 베이스(20)의 상부 및 하부 중 어느 한 곳에 형성되어 있으며, 단일 보드로 이루어질 수도 있으며 복수의 보드로 이루어질 수도 있다. 도 3에서는 싱글 구동을 하는 플라즈마 표시 장치를 예를 들어 설명하고 있지만, 듀얼 구동의 경우에 어드레스 버퍼 보드(100)는 샤시 베이스(20)의 상부 및 하부에 각각 배치된다. 이러한 어드레스 버퍼 보드(100)는 영상 처리 및 제어 보드(400)로부터 어드레스 구동 제어 신호를 수신하여 표시하고자 하는 방전 셀을 선택하기 위한 전압을 각 어드레스 전극(A1-Am)에 인가한다.
주사 구동 보드(200)는 샤시 베이스(20)의 좌측에 배치되어 있으며, 주사 구동 보드(200)는 주사 버퍼 보드(300)를 거쳐 주사 전극(Y1-Yn)에 전기적으로 연결되어있다. 주사 버퍼 보드(300)는 어드레스 기간에서 주사 전극(Y1-Yn)을 순차적으로 선택하기 위한 전압을 주사 전극(Y1-Yn)에 인가한다. 주사 구동 보드는 영상 처리 및 제어 보드(400)로부터 제어 신호를 수신하여 주사 전극(Y1-Yn)에 구동 전압을 인가한다. 그리고 도 3에서는 주사 구동 보드(200)와 주사 버퍼 보드(300)가 샤시 베이스(20)의 좌측에 배치되는 것으로 도시하였지만, 샤시 베이스(20)의 우측에 배치될 수도 있다. 또한 주사 버퍼 보드(300)는 주사 구동 보드(200)와 일체형으로 형성될 수도 있다.
영상 처리 및 제어 보드(400)는 외부로부터 영상 신호를 수신하여 어드레스 전극(A1-Am) 구동에 필요한 제어 신호와 주사 및 유지 전극(Y1-Yn, X1-Xn) 구동에 필요한 제어 신호를 생성하여 각각 어드레스 구동 보드(100)와 주사 구동 보드(200)에 인가한다. 전원 보드(500)는 플라즈마 표시 장치의 구동에 필요한 전원을 공급한다. 영상 처리 및 제어 보드(400)와 전원 보드(500)는 샤시 베이스(20)의 중앙에 배치될 수 있다.
여기서, 어드레스 버퍼 보드(100), 주사 구동 보드(200) 및 주사 버퍼 보드(300)는 어드레스 전극(A), 주사 전극(Y) 및 유지 전극(X)을 구동하는 구동부를 형성하고, 영상 처리 및 제어 보드(400)는 구동부를 제어하는 제어부를 형성하며, 전원 보드(500)는 구동부와 제어부에 전원을 공급하는 전원부를 형성한다.
다음, 도 4를 참조하여 본 발명의 제1 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형에 대해서 설명한다.
도 4는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형도이다. 아래에서는 편의상 하나의 셀을 형성하는 주사 전극(Y), 유지 전극(X) 및 어드레스 전극(A)에 인가되는 구동 파형에 대해서만 설명한다. 그리고 도 4의 구동 파형에서 주사 전극(Y)에 인가되는 전압은 주사 구동 보드(200)와 주사 버퍼 보드(300)에서 공급되고 어드레스 전극(A)에 인가되는 전압은 어드레스 버퍼 보드(100)에서 공급된다. 또한 유지 전극(X)은 기준 전압(도 4에서는 접지 전압)으로 바이어스되어 있으므로, 유지 전극(X)에 인가되는 전압에 대해서는 설명을 생략한다.
도 4를 보면, 하나의 서브필드는 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간으 로 이루어지며, 리셋 기간은 상승 기간 및 하강 기간으로 이루어진다.
리셋 기간의 상승 기간에서는 어드레스 전극(A)을 기준 전압(도 4에서는 0V)으로 유지한 상태에서 주사 전극(Y)의 전압을 Vs 전압에서 Vset 전압까지 점진적으로 증가시킨다. 도 4에서는 주사 전극(Y)의 전압이 램프 형태로 증가하는 것으로 도시하였다. 주사 전극(Y)의 전압이 증가하는 중에 주사 전극(Y)과 유지 전극(X)사이 및 주사 전극(Y)과 어드레스 전극(A) 사이에서 미약한 방전(이하, "약 방전"이라 함)이 일어나면서, 주사 전극(Y)에는 (-) 벽 전하가 형성되고 유지 전극(X) 및 어드레스 전극(A)에는 (+) 벽 전하가 형성된다. 그리고 전극의 전압이 도 4와 같이 점진적으로 변하는 경우에는 셀에 미약한 방전이 일어나면서 외부에서 인가된 전압과 셀의 벽 전압의 합이 방전 개시 전압 상태를 유지하도록 벽 전하가 형성된다. 이러한 원리에 대해서는 웨버(Weber)의 미국등록특허 제5,745,086에 개시되어 있다. 리셋 기간에서는 모든 셀의 상태를 초기화하여야 하므로 Vset 전압은 모든 조건의 셀에서 방전이 일어날 수 있을 정도의 높은 전압이다. 또한, Vs 전압은 일반적으로 유지 기간에서 주사 전극(Y)에 인가되는 전압과 같은 전압이며, 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이의 방전 개시 전압보다 낮은 전압이다.
이어서, 리셋 기간의 하강 기간에서는 어드레스 전극(A)을 기준 전압으로 유지한 상태에서 주사 전극(Y)의 전압을 Vs 전압에서 Vnf 전압까지 점진적으로 감소시킨다. 그러면 주사 전극(Y)의 전압이 감소하는 중에 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이 및 주사 전극(Y)과 어드레스 전극(A) 사이에서 약 방전이 일어나면서 주사 전극(Y)에 형성된 (-) 벽 전하와 유지 전극(X) 및 어드레스 전극(A)에 형성된 (+) 벽 전하가 소거된다. 일반적으로 Vnf 전압의 크기는 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이의 방전 개시 전압 근처로 설정된다. 그러면 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이의 벽 전압이 거의 0V가 되어, 어드레스 기간에서 어드레스 방전이 일어나지 않은 셀이 유지 기간에서 오방전하는 것을 방지할 수 있다. 그리고 어드레스 전극(A)은 기준 전압으로 유지되어 있으므로 Vnf 전압의 레벨에 의해 주사 전극(Y)과 어드레스 전극(A) 사이의 벽 전압이 결정된다.
다음, 어드레스 기간에서 켜질 셀을 선택하기 위해 주사 전극(Y)과 어드레스 전극(A)에 각각 VscL 전압을 가지는 주사 펄스 및 Va 전압을 가지는 어드레스 펄스를 인가한다. 그리고 선택되지 않는 주사 전극(Y)은 VscL 전압보다 높은 VscH 전압으로 바이어스하고, 켜지지 않을 셀의 어드레스 전극(A)에는 기준 전압을 인가한다. 이 때, VscL 전압을 주사 전압이라고 하며, VscH 전압을 비주사 전압이라고 한다.
한편, 이러한 동작을 수행하기 위해, 주사 버퍼 보드(300)는 주사 전극(Y1-Yn) 중 VscL의 주사 펄스가 인가될 주사 전극(Y)을 선택하며, 예를 들어 싱글 구동에서 세로 방향으로 배열된 순서대로 주사 전극(Y)을 선택할 수 있다. 그리고 어드레스 버퍼 보드(100)는 하나의 주사 전극(Y)이 선택될 때 해당 주사 전극(Y)에 의해 형성된 셀을 통과하는 어드레스 전극(A) 중 Va 전압의 어드레스 펄스가 인가될 셀을 선택한다.
구체적으로, 먼저 첫 번째 행의 주사 전극에 VscL 전압의 주사 펄스를 인가하는 동시에 첫 번째 행 중 켜질 셀에 위치하는 어드레스 전극(A)에 Va 전압의 어 드레스 펄스를 인가한다. 그러면 첫 번째 행의 주사 전극(Y)과 Va 전압이 인가된 어드레스 전극(A) 사이에서 방전이 일어나서, 주사 전극(Y)에 (+) 벽 전하, 어드레스 전극(A) 및 유지 전극(X) 전극에 각각 (-) 벽 전하가 형성된다. 그 결과 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이에 주사 전극(Y)의 전위가 유지 전극(X)의 전위에 대해 높도록 벽 전압(Vwxy)이 형성된다. 이어서, 두 번째 행의 주사 전극(Y)에 VscL 전압의 주사 펄스를 인가하면서 두 번째 행 중 표시하고자 하는 셀에 위치하는 어드레스 전극(A)에 Va 전압의 어드레스 펄스를 인가한다. 그러면 앞에서 설명한 것처럼 Va 전압이 인가된 어드레스 전극(A)과 두 번째 행의 주사 전극(Y)에 의해 형성되는 셀에서 어드레스 방전이 일어나서 셀에 앞서 설명한 것처럼 벽 전하가 형성된다. 마찬가지로 나머지 행의 주사 전극(Y)에 대해서도 순차적으로 VscL 전압의 주사 펄스를 인가하면서 켜질 셀에 위치하는 어드레스 전극(A)에 Va 전압의 어드레스 펄스를 인가하여 벽 전하를 형성한다.
이러한 어드레스 기간에서 VscL 전압은 일반적으로 Vnf 전압과 같거나 낮은 레벨로 설정되고 Va 전압은 기준 전압보다 높은 레벨로 설정된다. 예를 들어, VscL 전압과 Vnf 전압이 같은 경우에 Va 전압이 인가될 때 셀에서 어드레스 방전이 일어나는 이유에 대해서 설명한다. 리셋 기간에서 Vnf 전압이 인가되었을 때, 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이의 벽 전압과 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이의 외부 전압(Vnf)의 합은 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이의 방전 개시 전압(Vfay)으로 결정된다. 그런데 어드레스 기간에서 어드레스 전극(A) 전극에 0V가 인가되고 주사 전극(Y)에 VscL(=Vnf) 전압이 인가되는 경우에 어드레스 전극(A) 과 주사 전극(Y) 사이에는 Vfay 전압이 형성되므로 방전이 일어날 수 있지만, 일반적으로 이 경우의 방전 지연 시간이 주사 펄스와 어드레스 펄스의 폭보다 길어서 방전이 일어나지 않는다. 그런데 어드레스 전극(A)에 Va 전압이 인가되고 주사 전극(Y)에 VscL(=Vnf) 전압이 인가되는 경우에 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이에는 Vfay 전압보다 높은 전압이 형성되어 방전 지연 시간이 주사 펄스의 폭보다 줄어들어서 방전이 일어날 수 있다. 이때, 어드레스 방전이 더 잘 일어나도록 하기 위해서 VscL 전압을 Vnf 전압보다 낮은 전압으로 설정할 수 있다.
다음, 어드레스 기간에서 어드레스 방전이 일어난 셀에서는 유지 전극(X)에 대한 주사 전극(Y)의 벽 전압(Vwxy)이 높은 전압으로 형성되었으므로, 유지 기간에서는 주사 전극(Y)에 먼저 Vs 전압을 가지는 펄스를 인가하여 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이에서 유지방전을 일으킨다. 이때, Vs 전압은 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이의 방전 개시 전압(Vfxy)보다는 낮고 (Vs+Vwxy) 전압이 Vfxy 전압보다 낮도록 설정된다. 유지방전의 결과 주사 전극(Y)에 (-) 벽 전하가 형성되고 유지 전극(X)과 어드레스 전극(A)에 (+) 벽 전하가 형성되어, 주사 전극(Y)에 대한 유지 전극(X)의 벽 전압(Vfyx)이 높은 전압으로 형성된다.
이어서 주사 전극(Y)에 대한 유지 전극(X)의 벽 전압(Vfyx)이 높은 전압으로 형성되었으므로, 주사 전극(Y)에 -Vs 전압을 가지는 펄스를 인가하여 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이에서 유지방전을 일으킨다. 그 결과 주사 전극(Y)에 (+) 벽 전하가 형성되고 유지 전극(X)과 어드레스 전극(A)에 (-) 벽 전하가 형성되어 주사 전극(Y)에 Vs 전압이 인가될 때 유지방전이 일어날 수 있는 상태로 된다. 이후, 주사 전극(Y)에 Vs 전압의 유지방전 펄스를 인가하는 과정과 유지 전극(X)에 Vs 전압의 유지방전 펄스를 인가하는 과정을 해당 서브필드가 표시하는 가중치에 대응하는 횟수만큼 반복한다.
이와 같이, 본 발명의 제1 실시예에서는 유지 전극(X)을 기준 전압으로 바이어스한 상태에서 주사 전극(Y)에 인가되는 구동 파형만으로 리셋 동작, 어드레스 동작 및 유지방전 동작을 수행할 수 있다. 따라서 유지 전극(X)을 구동하는 구동 보드를 제거할 수 있으며, 단지 유지 전극(X)을 기준 전압으로 바이어스만 하면 된다.
그런데, 한 프레임을 형성하는 복수의 서브필드의 어드레스 기간을 모두 도 4의 선택적 기입 방식으로 형성하는 경우, 주사 펄스와 어드레스 펄스는 발광 셀에 벽 전압이 형성될 만큼의 소정의 폭을 가져야 한다. 따라서, 어드레스 기간이 길어지므로 고속 어드레스가 불가능하게 된다.
그런데, 선택적 소거 방식은 벽 전하를 형성할 필요가 없으므로 주사 펄스와 어드레스 펄스 폭을 줄일 수 있으며, 이로 인해 어드레스 기간이 단축되어 선택적 기입 방식에 비해 고속 어드레스가 가능하게 된다.
따라서, 본 발명의 제2 및 제3 실시예에서는 복수의 서브필드 중에서 일부 서브필드의 어드레스 기간에서 선택적 소거 방식을 사용한다. 선택적 소거 방식은 발광 셀 상태의 셀을 어드레스 방전시켜 벽 전하를 소거시켜서 비발광 셀로 설정하는 방식이다. 아래에서는 선택적 기입 방식에서 벽 전하를 형성하기 위한 어드레스 방전을 "기입 방전"이라 하고, 선택적 소거 방식에서 벽 전하를 소거하기 위한 어드레스 방전을 "소거 방전"이라 한다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형도이고, 도 6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형도이며 도 7은 본 발명의 제4 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형도이다. 도 5 내지 도 7에서는 복수의 서브필드 중 두 개의 서브필드만을 도시하였으며, 편의상 두 서브필드를 각각 제1 서브필드와 제2 서브필드로 표시하였고, 제1 서브필드의 어드레스 기간에서는 선택적 기입 방식을 사용하고 제2 서브필드의 어드레스 기간에서는 선택적 소거 방식을 사용하는 것으로 도시하였다. 제1 서브필드의 구동 파형은 도 4에서 설명한 제1 실시예와 동일하므로 제1 서브필드에 대한 자세한 설명은 생략하였다.
먼저, 도 5에 도시한 바와 같이, 제1 서브필드의 리셋 기간에서는 모든 방전 셀을 초기화하여 비발광 셀 상태로 설정한 후, 어드레스 기간에서는 비발광 셀 상태의 셀을 기입 방전시켜서 벽 전하를 형성하는 발광 셀 상태로 설정한다. 그리고 유지 기간에서 Vs 전압과 -Vs 전압을 교대로 가지는 유지 방전 펄스가 주사 전극(Y)에 인가되어 셀이 유지 방전된다.
다음, 제2 서브필드에서는 제1 서브필드에서 설정된 발광 셀 중에서 비발광 셀로 설정될 셀을 선택한다. 제1 서브필드에서의 발광 셀은 유지 방전으로 인해 벽 전하가 충분히 형성되어 있으므로, 제2 서브필드의 어드레스 기간에서는 발광 셀 중 비발광 셀로 설정된 셀의 벽 전하를 소거한다.
구체적으로, 제2 서브필드의 어드레스 기간에서 유지 전극(X)에 기준 전압을 인가한 상태에서 복수의 주사 전극(도 2의 Y1-Yn)에 순차적으로 음의 전압인 VscL2 전압의 주사 펄스를 인가한다. 이때, 주사 펄스가 인가된 주사 전극(Y)에 형성된 발광 셀(제1 서브필드에서 유지 방전이 일어난 셀) 중에서 비발광 셀로 선택할 셀의 어드레스 전극(A)에 양의 전압을 가지는 어드레스 펄스가 인가된다. 그리고 선택되지 않는 주사 전극(Y)은 VscL2 전압보다 높은 양의 전압인 VscH2 전압으로 바이어스하고, 선택되지 않는 어드레스 전극(A)에는 기준 전압을 인가한다. 이때, 도 5에서와 같이 어드레스 전극(A)에 인가되는 양의 전압으로 제1 서브필드의 Va 전압을 사용하면 추가적인 전원을 줄일 수 있다. 그리고 제1 서브필드에서 비발광 셀로 설정된 셀에서 방전이 일어나지 않도록 하기 위해서 VscL2 전압은 VscL1 전압보다 높은 전압을 가지도록 설정된다.
그러면, VscL2 전압의 주사 펄스가 인가된 주사 전극(Y)과 Va 전압의 어드레스 펄스가 인가된 발광 셀에서 소거 방전이 일어나서, 유지 전극(X)과 주사 전극(Y)에 형성된 벽 전압이 소거되어 비발광 셀이 설정된다.
그리고 제1 서브필드의 발광 셀 중에서 제2 서브필드의 어드레스 기간에서 소거 방전이 일어나지 않은 셀이 제2 서브필드의 발광 셀이므로, 제2 서브필드의 유지 기간에서는 주사 전극(Y)에 먼저 -Vs 전압이 인가되어 발광 셀에서 유지 방전이 일어나고, 이어서 주사 전극(Y)에 Vs 전압이 인가되어 발광 셀에서 유지 방전이 일어난다. 그리고 주사 전극(Y)에 Vs 전압과 -Vs 전압을 교대로 인가하는 과정이 제2 서브필드가 표시하는 가중치에 대응하는 횟수만큼 반복된다. 이때, 주사 전극(Y)에 Vs 전압이 인가되어 마지막 유지 방전이 일어난 후에 유지 기간이 종료 된다.
그리고 이후의 서브필드(SF3-SF8)의 어드레스 기간은 선택적 소거 방식으로 이루어질 수도 있다. 또한, 선택적 기입 방식의 서브필드가 복수 개 이어진 후에, 선택적 소거 방식의 서브필드가 복수 개 이어질 수도 있다.
또한, 선택적 기입 방식의 어드레스 기간을 가지는 서브필드에는 어드레스 기간 직전에 발광 셀을 비발광 셀로 초기화하는 리셋 기간이 형성된다. 이러한 리셋 기간은 도 4의 상승 기간과 하강 기간으로 이루어질 수도 있으며, 도 4의 하강 기간만으로 이루어질 수도 있다. 리셋 기간인 도 4의 하강 기간만으로 이루어지는 경우에는, 직전 서브필드에서 발광 셀인 셀만이 리셋 기간에서 방전이 일어나서 초기화된다.
한편, 전체 서브필드 중 일부 서브필드의 어드레스 기간에서 선택적 소거 방식을 사용하는 플라즈마 표시 장치에 있어서 나머지 서브필드의 어드레스 기간에서 기입 방전 직후의 유지 기간(즉, 도 5에서 제1 서브필드)에서의 유지방전의 안정화는 매우 중요하다. 특히, 전체 서브필드에서 첫 번째 서브필드에서만 선택적 기입 방식을 사용하고, 나머지 서브필드에서는 선택적 소거 방식을 사용하는 경우에는 첫 번째 서브필드의 어드레스 기간 이후의 유지방전 조건은 전체 서브필드에 영향을 미치므로 첫 번째 서브필드의 유지 기간에서의 유지방전의 안정화는 매우 중요하다. 즉, 선택적 기입 방식을 사용하는 첫 번째 서브필드에서 유지 방전이 제대로 발생하지 않은 경우에는 선택적 소거 방식을 사용하는 나머지 서브필드에서 소거 방전이 제대로 이루어지지 않아, 전체 화상구현에 있어 화면펄럭임과 같은 문제 가 발생한다.
따라서, 본 발명의 제3 실시예에서는 선택적 기입이 이루어지는 서브필드의 유지 기간에서의 첫 번째 유지방전의 안정화를 위한 방법을 제안한다.
도 6에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제3 실시예에 따른 구동파형은 제1 서브필드의 유지 기간 초기의 주사 전극(Y)에 인가되는 유지방전 펄스의 인가 방법을 제외하면 제2 실시예와 동일하다.
구체적으로, 선택적 기입 방식이 적용되는 제1 서브필드의 유지 기간에서는 첫 번째 유지방전 펄스의 펄스 폭(T1)을 나머지 유지방전 펄스의 퍽스 폭(T2)보다 길게 유지한다. 이때, 첫 번째 유지방전 펄스의 펄스 폭(T1)은 유지 방전에 의해 생긴 벽 전하를 주사 전극(Y) 및 유지 전극(X) 상에 충분히 형성될 만큼 유지하도록 하며 펄스 폭(T1)이 지나치게 길면 듀얼 구동을 하는 플라즈마 표시 장치의 경우에는 패널의 중간부에 줄밝음이나 줄어두움 현상을 일으킬 수도 있으므로, 실험에 의해 T1의 값을 적절하게 선택한다.
한편, 도 6에서는 제1 서브필드의 유지 기간에서 첫 번째 유지 방전 펄스의 펄스 폭(T1)을 나머지 유지 방전 펄스 폭(T2)보다 넓게 인가하는 것으로 나타내었으나 첫 번째 유지 방전 펄스 뿐만 아니라 소정의 회수의 유지 방전 펄스의 폭(T1)을 나머지 유지 방전 펄스 폭(T2)보다 넓게 인가하여, 제1 서브필드의 유지 방전을 더욱 안정화시킬 수 있다.
이와 같이 선택적 기입 방식을 사용하는 제1 서브필드의 유지 방전이 안정화되어, 선택적 기입 방식과 선택적 소거 방식이 적용된 구동 방법에서 계조 표현의 불안정성을 제거할 수 있다.
또한, 본 발명의 제2 및 제3 실시예에서는 리셋 기간에 주사 전극(Y)의 전압이 하강할 때 Vs 전압부터 Vnf 전압까지 점진적으로 하강시켰다. 그런데, 하강 시작 전압을 더욱 낮출 수 있다.
일반적으로 전극의 전압이 시간 변화에 따라 점진적으로 변하는 기울기가 완만할수록 셀에서는 더 약한 방전이 일어난다. 따라서 주사 전극(Y)의 하강 시작 전압을 낮은 전압으로 설정하면, 주어진 하강 기간에서 주사 전극(Y)의 하강 기울기를 더 완만하게 설정할 수 있다. 그러면 상승 기간에서 강 방전이 발생하더라도 주사 전극(Y)의 전압이 느린 속도로 변하기 때문에 강 방전을 방지할 수 있다. 이때, 주사 전극(Y)의 하강 시작 전압을 기준 전압(0V)으로 설정하는 경우에 추가적인 전원을 사용하지 않을 수 있다.
예를 들어 주사 전극(Y)의 하강 시작 전압이 0V인 경우에, 주사 전극(Y)의 하강 시점에서 외부에서 유지 전극(X)과 주사 전극(Y)에 인가되는 전압의 차와 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y)에 인가되는 전압의 차는 모두 0V이므로 방전이 일어나지 않는다. 다음, 주사 전극(Y)의 전압이 0V에서 점진적으로 하강할 때, 셀에 형성된 벽 전압과 외부에서 인가되는 전압의 차가 방전 개시 전압이 넘는 경우에 약 방전이 일어나서 벽 전하가 설정될 수 있다.
이와 같이, 주사 전극(Y)의 전압을 점진적으로 낮추면 주사 전극(Y)의 전압이 감소하는 중에 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이 및 주사 전극(Y)과 어드레스 전극(A) 사이에서 미약한 방전이 일어나면서 주사 전극(Y)에 형성된 (-) 벽 전하와 유지 전극(X) 및 어드레스 전극(A)에 형성된 (+) 벽 전하가 소거된다. 일반적으로 Vnf 전압의 크기는 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이의 방전 개시 전압 근처로 설정된다. 그러면 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이의 벽 전압이 거의 0V가 되어, 어드레스 기간에서 어드레스 방전이 일어나지 않은 셀이 유지 기간에서 오방전하는 것을 방지할 수 있다. 그리고 어드레스 전극(A)은 기준 전압으로 유지되어 있으므로 Vnf 전압의 레벨에 의해 주사 전극(Y)과 어드레스 전극(A) 사이의 벽 전압이 결정된다. 도 7에서는 주사 전극(Y)의 하강 시작 전압을 0V로 설정한 경우에 대하여 도시하였다.
한편, 주사 전극(Y)과 어드레스 전극(A) 사이의 방전 개시 전압이 주사 전극(Y)과 유지 전극(X) 사이의 방전 개시 전압보다 작은 경우에, 리셋 기간의 상승 기간에서 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이 전압이 방전 개시 전압을 넘은 후에 유지 전극(X)과 주사 전극(Y) 사이 전압이 방전 개시 전압을 넘는다. 일반적으로 플라즈마 표시 패널에서 어드레스 전극(A)은 색상 표현을 위해 형광체로 덮여 있는 반면, 유지 전극(X)과 주사 전극(Y)은 유지방전의 효율을 위해 MgO 성분의 보호막과 같이 2차 전자 방출 계수가 높은 물질로 덮여 있다. 그런데 리셋 기간의 상승 기간에서 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이의 전압이 방전 개시 전압을 넘어도 어드레스 전극(A)이 음극으로 작용하기 때문에, 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이에서 방전이 지연된다. 방전 지연에 의해 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이의 전압이 방전 개시 전압을 넘은 이후에 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이에서 실제 방전이 일어날 수 있다. 즉, 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이의 전압이 방전 개시 전압보다 소정 전압 이상만큼 큰 경우에 방전이 일어나므로, 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이에서 약 방전이 아닌 강 방전이 발생할 수 있다.
그런데, 도 7에 도시한 본 발명의 제4 실시예와 같이 리셋 기간의 상승 기간에서 어드레스 전극(A)에 양의 전압이 인가되면 유지 전극(X)과 주사 전극(Y) 사이의 전압이 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이의 전압보다 먼저 방전 개시 전압을 넘게 된다. 그러면 유지 전극(X)과 주사 전극(Y) 사이에서 먼저 약 방전이 발생하고 이 약 방전에 의해 프라이밍 입자가 형성된 상태에서 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이의 전압이 방전 개시 전압을 넘게 된다. 그리고 이 프라이밍 입자에 의해 어드레스 전극(A)과 주사 전극(Y) 사이에서는 방전 지연이 줄어서 강 방전이 발생하지 않고 약 방전이 수행될 수 있다. 이때, 어드레스 전극(A)에 인가되는 양의 전압을 Va 전압과 동일하게 하면, 양의 전압을 인가하기 위한 추가적인 전원을 형성하지 않을 수 있다. 또한, 리셋 기간의 상승 기간에서 어드레스 전극(A)에 양의 전압을 인가하지 않고 어드레스 전극(A)을 플로팅 할 수도 있다. 그러면 어드레스 전극(A)의 전압이 양의 전압 상태로 설정된다. 또한, 리셋 기간의 상승 기간 전체에서 어드레스 전극(A)을 양의 전압 상태로 하지 않고, 상승 기간의 일부에서만 어드레스 전극(A)을 양의 전압으로 설정할 수도 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리 범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리 범위에 속하는 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, 유지 전극은 일정한 전압으로 바이어스한 상태에서 주사 전극(Y)에만 구동 파형이 인가되므로 실질적으로 하나의 보드만으로 구동하는 통합 보드를 구현할 수 있으며, 이에 따라 단가가 절감된다.
그리고 각 서브필드의 어드레스 기간에서 선택적 기입 방식과 선택적 소거 방식을 사용함으로써, 각 서브필드에서 모두 선택적 기입 방식을 사용하는 경우에 비해 고속 어드레스가 가능하며, 선택적 기입 방식을 사용하는 제1 서브필드의 유지 방전이 안정화되어, 선택적 기입 방식과 선택적 소거 방식이 적용된 구동 방법에서 발생할 수 있는 불안정한 화상표현을 제거할 수 있다.

Claims (14)

  1. 복수의 제1 전극, 복수의 제2 전극 및 상기 제1 전극과 제2 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극을 포함하며, 상기 제1, 제2 및 제3 전극에 의해 방전 셀이 형성되는 플라즈마 표시 장치에서 한 프레임을 복수의 서브필드로 분할하여 구동하는 구동 방법에 있어서,
    상기 복수의 서브필드 중 제1 서브필드의 유지 기간에서, 상기 복수의 제2 전극에 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제1 전극에 상기 제1 전압보다 높은 제2 전압을 가지는 유지 방전 펄스와 상기 제1 전압보다 낮은 제3 전압을 가지는 유지 방전 펄스를 교대로 인가하여 발광 셀을 유지방전 시키는 단계;
    상기 복수의 서브필드 중 제2 서브필드의 어드레스 기간에서, 상기 제1 서브필드의 발광 셀 중 비발광 셀로 설정할 셀을 선택하는 단계; 및
    상기 제2 서브필드의 유지 기간에서, 상기 복수의 제2 전극에 상기 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제1 전극에 상기 제3 전압과 상기 제2 전압을 교대로 인가하여 상기 발광 셀을 유지 방전시키는 단계를 포함하며,
    상기 제1 서브필드의 유지 기간에서 상기 복수의 제2 전극에 제1 전압을 인가한 상태에서 복수의 제1 전극에 첫 번째로 인가되는 유지 방전 펄스의 폭이 복수의 제1 전극에 인가되는 나머지 유지 방전 펄스 폭보다 긴 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제2 서브필드는 상기 제1 서브필드에 연속하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1 서브필드의 어드레스 기간에서, 상기 복수의 셀 중에서 상기 발광 셀을 선택하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제1 서브필드에서,
    상기 어드레스 기간 직전의 리셋 기간에서 상기 복수의 셀을 비발광 셀로 초기화하는 단계를 더 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 리셋 기간에서 상기 복수의 제2 전극에 상기 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 점진적으로 증가시키고, 제2 기간 동안 상기 복수의 제3 전극을 양의 전압으로 설정하는 단계를 더 포함하며,
    상기 제2 기간은 상기 복수의 제1 전극의 전압이 증가하는 기간 중 적어도 일부 기간을 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  8. 제1항, 제4항, 제5항, 제6항 또는 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 전압은 접지 전압인 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  9. 복수의 제1 전극, 복수의 제2 전극 및 상기 제1 전극과 제2 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극을 포함하며, 상기 제1 , 제2 및 제3 전극에 의해 방전 셀이 형성되고, 상기 제1 전극이 제1 전압으로 바이어스 되어 있는 플라즈마 표시 패널;
    상기 플라즈마 표시 패널을 구동하는 구동부; 및
    한 프레임을 복수의 서브필드로 나누어 구동하도록 상기 구동부를 제어하는 제어부를 포함하며,
    상기 구동부는,
    상기 복수의 서브필드 중 제1 서브필드의 유지 기간에서, 상기 복수의 제1 전극에 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제2 전극에 상기 제1 전압보다 높은 제2 전압을 가지는 유지방전 펄스와 상기 제1 전압보다 낮은 제3 전압을 가지는 유지방전 펄스를 교대로 인가하여 발광 셀을 유지방전시키고,
    상기 복수의 서브필드 중 제2 서브필드의 어드레스 기간에서, 상기 복수의 제1 전극에 상기 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 제2 전극 및 제3 전극에 각각 제1 주사 펄스와 제1 어드레스 펄스를 인가하여 상기 제1 서브필드의 발광 셀 중 비발광 셀로 설정할 셀을 선택하고, 상기 제1 주사 펄스가 인가되지 않는 상기 제2 전극을 제4 전압으로 유지하며,
    상기 제2 서브필드의 유지 기간에서, 상기 복수의 제1 전극에 상기 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제2 전극에 상기 제3 전압과 상기 제2 전압을 교대로 인가하여 상기 발광 셀을 유지 방전시키고,
    상기 제1 서브필드의 유지 기간에서 상기 복수의 제1 전극에 제1 전압을 인가한 상태에서 복수의 제2 전극에 첫 번째로 인가되는 유지방전 펄스의 폭이 복수의 제2 전극에 인가되는 나머지 유지방전 펄스 폭보다 긴 플라즈마 표시 장치.
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 제9항에 있어서,
    상기 제2 서브필드는 상기 제1 서브필드에 연속하는 플라즈마 표시 장치.
  13. 제9항에 있어서,
    상기 구동부는,
    상기 제1 서브필드의 어드레스 기간에서, 상기 복수의 제1 전극에 상기 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 제2 전극 및 상기 제3 전극에 각각 제2 주사 펄스와 제2 어드레스 펄스를 인가하여 상기 복수의 셀 중에서 상기 발광 셀로 설정할 셀을 선택하는 플라즈마 표시 장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 제1 서브필드의 어드레스 기간 직전의 리셋 기간에서, 상기 복수의 제1 전극에 상기 제1 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 점진적으로 증가시키고, 제2 기간 동안 상기 복수의 제3 전극을 양의 전압으로 설정하는 단계를 더 포함하며,
    상기 제2 기간은 상기 복수의 제2 전극의 전압이 증가하는 기간 중 적어도 일부 기간을 포함하는 플라즈마 표시 장치.
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