KR100717040B1

KR100717040B1 - 광 주사장치 및 이를 적용한 화상형성장치

Info

Publication number: KR100717040B1
Application number: KR1020050096965A
Authority: KR
Inventors: 장경남
Original assignee: 삼성전자주식회사
Priority date: 2005-10-14
Filing date: 2005-10-14
Publication date: 2007-05-10
Also published as: CN1949021A; US7518773B2; KR20070041139A; CN100510838C; US20070091403A1

Abstract

광을 출사하는 광원부와, 편향면이 사인 진동하여 광원부쪽에서 입사되는 광을 편향 주사하는 광 편향기를 포함하는 광 주사장치가 개시되어 있다. 개시된 광 주사장치에서는, 주사 범위의 중심으로 광을 진행시키는 편향면의 위치에 대해, 그 편향면의 최대 편향각도 Φ₀ 가 하기의 조건 식1을 만족하도록 제어된다.

<식1>

20° ≤ Φ₀ ≤ 25°

Description

광 주사장치 및 이를 적용한 화상형성장치{Light scanning system and image forming apparatus employing the same}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광 주사장치의 광학적 구성을 개략적으로 보여준다.

도 2는 사인 진동하는 편향면의 최대 편향각과 스캔 각도를 보여준다.

도 3a는, 사인 진동하는 편향면에서 반사된 광의 주사 각도가 시간을 기준으로 해서 사인 곡선 형태를 나타냄을 보여준다.

도 3b는 시간에 따라 사인 진동하는 편향면에 의해 주사되는 광선의 상고(수학식 4)에 대한 사인 성분(sine), 탄젠트 성분(Tangent)의 그래프를 선형 성분(Linear)과 비교하여 나타낸다.

도 4는 최대 편향 각도 Φ₀= 22.5°로 편향면을 사인 진동시킬 때, 상고(image height)가 약 70% 구간에서 선형특성을 보이는 것을 보여준다.

도 5a는 최대 편향 각도 Φ₀= 20°로 편향면을 사인 진동시킬 때, 상고(image height)가 약 60% 구간에서 선형특성을 보이는 것을 보여준다.

도 5b는 최대 편향 각도 Φ₀= 25로 편향면을 사인 진동시킬 때, 상고(image height)가 약 80% 구간에서 선형특성을 보이는 것을 보여준다.

도 6은 집속렌즈광학계가 광 편향기와 피주사면 사이에 위치될 때, 집광렌즈광학계에 의해 포커싱되는 광의 경로를 보여준다.

도 7은 집속렌즈광학계가 광원과 광 편향기 사이에 위치되고, 포스트-오브젝티브 주사(Post-Objective scanning)가 이루어지도록 마련된 본 발명의 다른 실시예에 따른 광 주사장치의 광학적 배치를 보여준다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

1...감광매체 10...광원부

11...광원 30...광 편향기

31...편향 미러 31a...편향면

50...집속렌즈 광학계

본 발명은 광 주사장치 및 이를 채용한 화상형성장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 사인(sine) 진동하는 편향면을 가진 광 주사장치 및 이를 채용한 화상형성장치에 관한 것이다.

LSU(Laser Scanning Unit)와 같은 광 주사장치는 복사기, 프린터, 팩시밀리 등과 같이 인쇄용지에 화상을 재현하는 화상형성장치에 적용되어, 비데오 신호에 의해 반도체 레이저와 같은 광원으로부터 출사된 광을 화상형성장치의 감광매체에 주사하여 정전잠상(electrostatic latent image)을 형성하는 장치이다. 감광매체에 형성된 잠상을 종이 등의 매개체에 전사함에 의해 화상이 재현된다.

광 주사장치에는 레이저 광원으로부터 출사된 레이저광을 일정속도로 주사하는 광편향기가 구비되어 있다.

일반적으로 광 주사장치에서는, 광 편향기로 입사하는 레이저광을 회전하면서 반사시켜 수평 방향으로 등선속으로 주사하는 회전다면경을 사용한다. 회전다면경을 광 편향기로 사용하는 경우, 그 회전다면경에 의해 주사된 광을 화상형성장치의 감광매체 예컨대, 감광드럼 면에 등속도로 주사하기 위해 결상 렌즈로 에프-세타(f-θ) 렌즈를 사용한다.

광 편향기로 회전다면경을 사용하는 경우, 회전다면경과, 이 회전다면경을 회전 구동하기 위한 모터 등이 요구되므로, 비교적 광 주사장치의 부피가 크게 되고, 진동이나 소음에 불리하다.

한편, 광 편향기로 사인(sine) 진동하는 광편향기를 사용하는 방식이 제안된 바 있다.

일본 공개특허 특개평9-33843(공개일 1997년 2월 7일)에는 사인 진동하는 광편향기를 구비하는 광 주사장치가 개시되어 있다. 사인 진동하는 광편향기에 의해 반사되는 광은 결상 렌즈로의 입사각이 시간에 대해 삼각 함수적으로 변화한다.

따라서, 사인 진동하는 광편향기를 이용하는 광 주사장치에서는, 결상렌즈로 에프-아크사인 세타(f-arcsin θ) 렌즈가 사용된다.

이러한 사인 진동하는 광 편향기를 쓸 경우에는, 소비전력이 적고, 광 편향기의 소형화가 가능하고, 이론상 금속 피로가 없고 내구성도 뛰어난 장점을 가지게 된다. 하지만, 이러한 사인 진동하는 광 편향기를 사용하는 광 주사장치의 경우에는 결상렌즈로 에프-아크사인 세타 렌즈를 사용해야 하는데, 이 렌즈 구성이 복잡하여, 장치의 소형화, 저비용 달성을 어렵게 한다.

본 발명은 상기한 바와 같은 점을 감안하여 안출된 것으로, 결상 렌즈로 에프-아크사인 세타 렌즈를 사용하지 않으면서도 사인 진동하는 광편향기를 사용하도록 된 광 주사장치 및 이를 채용한 화상형성장치를 제공하는데 그 목적이 있다.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 광을 출사하는 광원부와; 편향면이 사인 진동하여 상기 광원부쪽에서 입사되는 광을 편향 주사하는 광 편향기;를 포함하는 광 주사장치에 있어서, 주사 범위의 중심으로 광을 진행시키는 편향면의 위치에 대해, 그 편향면의 최대 편향각도 Φ₀ 가 하기의 조건 식1을 만족하는 것을 특징으로 한다.

<식1>

20° ≤ Φ₀ ≤ 25°

적어도 1매 이상의 렌즈로 이루어지고, 포커싱 기능을 주로 하여, 상기 광 편향기에서 편향 주사된 광을 피주사면 상에 결상시키는 집속렌즈광학계;를 더 포함할 수 있다.

상기 광 편향기의 편향면에서 상기 집속렌즈 광학계 까지의 거리가, 상기 편 향면과 피주사면 사이의 거리의 10% 이내일 수 있다.

상기 집속렌즈광학계는, 광축을 중심으로 회전대칭인 광학계일 수 있다.

대안으로, 상기 광원부와 편향면 사이에 포커싱을 위한 집속렌즈광학계;를 더 포함하고, 포스트-오브젝티브 주사(Post-Objective scanning)가 이루어지도록 구성될 수도 있다.

상기 광 편향기는, 사인 진동하는 MEMS 소자를 구비할 수 있다.

주사 범위의 중심에 대해, 최대 스캔 각도 θ₀는 하기의 조건 식2를 만족하는 것이 바람직하다.

<식2>

θ₀ ≤ 1.5Φ₀

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 광을 주사하는 광 주사장치와; 상기 광 주사장치에 의해 주사되는 광에 의해 정전잠상이 형성되는 감광매체를 포함하는 화상형성장치에 있어서, 상기 광 주사장치는, 상기한 특징점 중 적어도 어느 하나를 포함하는 광 주사장치를 구비하는 것을 특징으로 한다.

이하, 첨부된 도면들을 참조하면서 본 발명에 따른 광 주사장치의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.

도면을 참조하면, 본 발명에 따른 광 주사장치는, 광을 출사하는 광원부(10) 와, 광원부(10)로부터 입사되는 광빔을 편향 주사하기 위한 광 편향기(30)를 포함한다. 또한, 본 발명에 따른 광 주사장치는 광 편향기(30)에서 편향 주사된 광을 피주사면 상에 결상시키는 집속렌즈광학계(50)를 더 포함할 수 있다.

상기 광원부(10)는, 광원(11)과, 이 광원(11)으로부터 출사된 광을 콜리메이팅하는 콜리메이팅렌즈(13)를 포함할 수 있다.

상기 광원(11)은 피주사면 예컨대, 화상형성장치의 감광매체(1)의 정전 잠상(latent image)이 형성될 부분에 대해서만 선택적으로 광을 조사할 수 있도록 변조된다. 이 광원(11)으로는 예컨대, 반도체 레이저를 구비할 수 있다. 상기 광원(11)은 하나의 광원(11)으로 구성되어 단일 빔을 주사할 수 있도록 구성될 수 있다. 또한, 복수의 광원(11)을 포함하여 멀티 빔을 주사할 수 있도록 구성되는 것도 가능하다.

상기 광 편향기(30)는 상기 광원(11)에서 조사된 광빔을 상기 감광매체(1)의 주주사방향으로 편향 주사시킨다.

상기 광 편향기(30)는, 그 편향 미러(31)를 사인 진동시켜 상기 광원(11)에서 편향 미러(31)의 편향면(31a)으로 조사된 광빔을 감광매체(1)의 주주사방향으로 편향 주사하기 위한 것으로, 이 광 편향기(30)로는 사인 진동하는 MEMS 소자를 구비할 수 있다. 광 편향기(30)로 사용되는 MEMS 소자는 마이크로 미러와, 이 마이크로 미러를 사인 진동시키는 구동부(미도시)를 포함하여 구성된다. 마이크로 미러가 상기 편향 미러(31)가 되며, 마이크로 미러의 면이 상기 편향면(31a)이 된다. 상기 편향 미러(31)를 사인 진동시키면, 편향면(31a)도 사인 진동된다.

도 2는 사인 진동하는 편향면(31a)의 최대 편향각과 스캔 각도를 보여준다. 도 2에서 l은 주사 범위의 중심으로 진행하는 광의 중심축을 나타내며, 실선으로 나타낸 편향 미러(31)는 주사 범위의 중심으로 광을 진행시키도록 편향면(31a)이 위치된 상태를 보여준다. 주사 범위의 중심은, 광을 주주사 방향으로 피주사면에 주사시켜 형성되는 유효 주사라인 폭의 중심 예컨대, 감광매체(1)의 유효 감광영역의 중심에 해당한다.

상기 광 편향기(30)는 주사 범위의 중심으로 광을 진행시키는 편향면(31a)의 위치에 대해, 그 편향면(31a)의 최대 편향각도 Φ₀이 수학식1의 조건을 만족하도록 구동되는 것이 바람직하다.

이때, 최대 편향각도가 Φ₀일 때, 상기 편향면(31a)은 -Φ₀에서 +Φ₀까지 또는 그 역방향으로 순환적으로 사인 진동하므로, 상기 광 편향기(30)의 편향면(31a)의 최대 편향각도 범위는 2Φ₀가 된다.

편향면(31a)이 그에 의해 편향 주사된 광을 주사 범위의 중심 즉, 도 2에서 l 축 상으로 진행시키도록 위치될 때, 편향면(31a)에 입사되는 광의 입사각을 a 라 하면, 편향면(31a)에 의해 반사되어 l 축 상으로 진행하는 광의 반사각도 a가 된다. 따라서, 입사광과 반사광(편향 광)이 이루는 각도는 2a가 된다.

이로부터 편향면(31a)을 Φ₀만큼 회동시키면, 편향면(31a)에 입사되는 광의 입사각은 a-Φ₀가 되므로, 입사광과 반사광이 이루는 각도는 2(a-Φ₀)가 된다.

따라서, 편향면(31a)이 그에 의해 반사된 광이 주사 범위의 중심 즉, l 축 상으로 진행하도록 위치될 때의 진행하는 광의 중심 광선을 제1광선, 이로부터 편향면(31a)을 Φ₀만큼 회동시켰을 때 그 편향면(31a)에 의해 반사된 광의 중심 광선을 제2광선이라 할 때, 제1광선과 제2광선 사이의 각도는 2a -2(a-Φ₀)= 2Φ₀가 된다.

즉, 편향면(31a)을 Φ₀만큼 회동시키면, 광은 2Φ₀의 주사각도 범위로 주사된다. 여기서, 편향면(31a)은, 주사 범위의 중심으로 광을 진행시키는 편향면(31a)의 위치에 대해, +Φ₀, -Φ₀만큼 회동되므로, 편향면(31a)이 사인 진동할 때, 광은 -2Φ₀에서 +2Φ₀범위의 주사각도 즉, 4Φ₀의 주사 각도 범위에서 주사된다.

한편, 본 발명에 따른 광 주사장치 및 이를 적용한 화상형성장치에 있어서, 주사 범위의 중심으로 진행하는 광의 중심 축(l) 즉, 주사 범위의 중심에 대해, 상면으로 결상되는 유효한 최대 주사 각도를 θ₀라 할 때, 이 최대 주사 각도(θ₀)는 수학식 2의 조건을 만족하도록 정해지는 것이 바람직하다.

여기서, 편향면(31a)이, 주사 범위의 중심으로 광을 진행시키는 편향면(31a) 의 위치에 대해, +Φ₀, -Φ₀만큼 회동되므로, 편향면(31a)이 사인 진동할 때, 상면으로 결상되는 최대 주사 각도 범위는 2θ₀가 된다.

편향면(31a)의 최대 편향 각도(Φ₀)이 수학식 1의 조건을 만족하고, 최대 주사 각도(θ₀)가 수학식 2의 조건을 만족하도록 정해지는 것이 바람직한 이유는 다음과 같다.

잘 알려져 있는 바와 같이, 사인 진동하는 편향면(31a)에서 반사된 광의 주사 각도(θ)는 시간을 기준으로 해서 수학식 3의 사인 함수를 나타내며, 도 3a에 나타낸 바와 같은 사인 곡선 형태를 띄게 된다.

이 사인 곡선 형태의 주사 각도로 주사되는 빔의 주광선이 광축 방향과 수직인 상면에 도달했을 때의 상고(image height)는 다시 탄젠트 함수 형태를 띄게 된다. 따라서, 사인 진동하는 편향면(31a)에서 반사된 광의 주광선이 광축 방향에 수직인 상면에 도달했을 때, 편향면(31a)에서 상면까지의 거리를 f 라 할 때, 상고는 다음의 수학식 4와 같은 식으로 나타낼 수 있다.

이때, 사인 성분은 도 3a에서 알 수 있는 바와 같이 상고가 높아질수록 폭이 좁아지려고 하고, 탄젠트 성분은 도 3b에서 알 수 있는 바와 같이, 상고가 높아질 수록 폭이 넓어지려고 하기 때문에, 사인 진동하는 편향면(31a)의 최대 편향각이 일정 각도가 되면, 사인 성분과 탄젠트 성분이 서로 보상해주어 일정 구간에서 선형특성을 보인다.

도 3b는 시간에 따라 사인 진동하는 편향면(31a)에 의해 주사되는 광선의 상고(수학식 4)에 대한 사인 성분(sine), 탄젠트 성분(Tangent)의 그래프를 선형 성분(Linear)과 비교하여 나타낸다. 도 3b에서 알 수 있는 바와 같이, 사인 진동하는 편향면(31a)의 최대 편향각이 일정 각도 범위내이면, 사인 성분과 탄젠트 성분이 서로 보상해주어 일정 구간에서 선형특성을 보인다.

도 4는 최대 편향 각도 Φ₀= 22.5°(이때의 주사 각도 2Φ₀= 45°)로 편향면(31a)을 사인 진동시킬 때, 상고(image height)가 약 70% 구간에서 선형특성을 보이는 것을 보여준다.

이 구간에서의 선형성(Linearity) 오차는 다음의 표 1에서 알 수 있는 바와 같이 ±1.7% 정도이다.

한편, 도 5a는 최대 편향 각도 Φ₀= 20°로 편향면(31a)을 사인 진동시킬 때, 상고(image height)가 약 60% 구간에서 선형특성을 보이는 것을 보여준다. 또한, 도 5b는 최대 편향 각도 Φ₀= 25로 편향면(31a)을 사인 진동시킬 때, 상고(image height)가 약 80% 구간에서 선형특성을 보이는 것을 보여준다. 도 5a 및 도 5b로부터 알 수 있는 바와 같이, 최대 편향 각도 Φ₀가 수학식 1의 조건을 만족할 때, 상고가 선형 특성을 보이는 구간이 대략 60% 이상이 됨을 알 수 있다. 여기서, 본 발명에 따른 광 주사장치에 있어서, 상고가 선형 특성을 보이는 구간의 비율이 80%보다 커야 하거나, 60%보다 작아도 수용할 수 있다면, 최대 편향 각도 Φ₀값은 수학식 1의 조건을 벗어나는 값이 될 수도 있다.

이와 같이, 편향면(31a)을 특정 범위내의 최대 편향 각도로 사인 진동시켜 광을 주사하는 경우, 주광선이 상면에서 선형 특성을 보이기 때문에, 편향면(31a)과 상면 사이에 에프-아크사인 세타 렌즈가 필요 없게 되며, 상면에서의 상고의 선형성(Linearity)을 보장하게 된다.

따라서, 편향면(31a)의 최대 편향 각도를 수학식 1의 조건으로 한정한 본 발명에 따른 광 주사장치에 따르면, 결상 렌즈로 에프-아크사인 세타 렌즈를 사용하지 않으면서도 사인 진동하는 광 편향기(30)를 사용하는 것이 가능하다.

한편, 본 발명에 따른 광 주사장치는, 사인 진동하는 광 편향기(30)에 의해 편향 주사된 광을 상면인 피주사면 예컨대, 감광매체(1)의 감광면에 결상시키기 위해 집속렌즈광학계(50)를 더 포함할 수 있다. 상기 집속렌즈광학계(50)는 1매의 렌즈로 이루어질 수도 있고, 2매 이상의 렌즈로 이루어질 수도 있다. 도 2, 도 6 및 도 7에서는 집속렌즈광학계(50)가 2매의 렌즈로 이루어진 예를 보여준다.

본 발명의 일 실시예에 따른 광 주사장치에 의하면, 광 편향기(30)에 의해 주사되는 광을 상면에 결상시켜주기만 하면 되므로, 결상렌즈광학계로 포커싱 기능을 주로 하는 집속렌즈광학계(50)를 구비함에 의해서도, 시간당 상면에서의 선형성을 보장할 수 있다.

본 발명에 따른 광 주사장치에 따르면, 이러한 집속렌즈광학계(50)의 유무에 따른 시간당 주사 거리비의 차는 대략 ±5% 이내가 된다.

도 2에서는 집속렌즈광학계(50)가 광 편향기(30)와 피주사면 사이에 위치되는 경우를 보여준다. 도 6은 집속렌즈광학계(50)가 광 편향기(30)와 피주사면 사이에 위치될 때, 집광렌즈광학계(50)에 의해 포커싱되는 광의 경로를 보여준다. 집속렌즈광학계(50)가 광 편향기(30)와 피주사면 사이에 위치되면, 이 집속렌즈광학계(50)는 포커싱 기능을 주로 하므로, 도 2 및 도 6에 보여진 바와 같이, 광 편향기(30)에 근접되게 배치될 수 있다.

예를 들어, 광 편향기(30)의 편향면(31a)에서 상기 집속렌즈광학계(50) 까지의 거리가 편향면(31a)과 피주사면 사이의 거리의 10% 이내가 되도록 집속렌즈광학계(50)를 배치할 수 있다. 이 경우, 편향면(31a)과 집속렌즈광학계(50) 사이의 거리를 줄일 수 있기 때문에, 광 주사장치의 광학계 크기를 줄일 수 있고, 이에 따라 집속렌즈광학계(50)를 광축을 중심으로 회전대칭인 광학계로 구성할 수 있다. 여기서, 광축을 중심으로 회전대칭인 광학계는 렌즈 중심에 수직인 단면이 원형인 렌즈로 이루어진 광학계를 말한다.

한편, 본 발명에 따른 광 주사장치는 도 7에 보여진 바와 같이, 포커싱을 위한 집속렌즈광학계(50)를 광원부(10)와 편향면(31a) 사이에 배치하여, 포스트-오브젝티브 주사(Post-Objective scanning)가 이루어지도록 마련될 수도 있다.

본 발명에 따른 광 주사장치는 상면에서 선형특성이 있기 때문에, field of curvature 만큼의 초점심도를 갖는 렌즈 광학계를 사용하여, 이 렌즈 광학계를 광원(11)과 편향면(31a) 사이에 위치시키고, 편향면(31a)과 상면사이에 렌즈 광학계가 없는 포스트-오브젝티브 주사를 하는 광 주사장치가 구현할 수 있게 된다.

본 발명에 따른 광 주사장치에 따르면, 편향면(31a)과 상면 사이에 렌즈 광학계가 있는 경우에는, 렌즈 광학계를 편향면(31a) 가까이 둘 수 있고, 광원(11)과 편향면(31a) 사이에 렌즈 광학계를 둘 수도 있기 때문에, 광 주사장치의 프레임(frame)이 작아질 수 있다는 장점이 있고, 회전 대칭인 렌즈 광학계를 사용할 수 있어, 그 렌즈 광학계의 크기가 작아지기 때문에 렌즈 가공성 및 제조원가 측면에서도 유리하다.

상기한 바와 같은 본 발명에 따르면, 사인 진동하는 광 편향기의 편향면의 최대 편향각도를 상면에서의 상고(image height)의 선형성을 보장하는 범위로 제안한다. 따라서, 에프-아크사인 세타 렌즈를 사용하지 않으면서도 사인 진동하는 광 편향기를 사용하는 광 주사장치를 실현할 수 있다.

Claims

광을 출사하는 광원부와;

편향면이 사인 진동하여 상기 광원부쪽에서 입사되는 광을 편향 주사하는 광 편향기;를 포함하는 광 주사장치에 있어서,

주사 범위의 중심으로 광을 진행시키는 편향면의 위치에 대해, 그 편향면의 최대 편향각도 Φ₀ 가 하기의 조건 식1을 만족하는 것을 특징으로 하는 광 주사장치.

<식1>

20° ≤ Φ₀ ≤ 25°
제1항에 있어서, 적어도 1매 이상의 렌즈로 이루어지고, 포커싱 기능을 주로 하여, 상기 광 편향기에서 편향 주사된 광을 피주사면 상에 결상시키는 집속렌즈광학계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 주사장치.
제2항에 있어서, 상기 광 편향기의 편향면에서 상기 집속렌즈 광학계 까지의 거리가, 상기 편향면과 피주사면 사이의 거리의 10% 이내인 것을 특징으로 하는 광 주사장치.
제2항에 있어서, 상기 집속렌즈광학계는, 광축을 중심으로 회전대칭인 광학계인 것을 특징으로 하는 광 주사장치.
삭제
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광 편향기는, 사인 진동하는 MEMS 소자를 구비하는 것을 특징으로 하는 광 주사장치.
제6항에 있어서, 주사 범위의 중심에 대해, 최대 스캔 각도 θ₀는 하기의 조건 식2를 만족하는 것을 특징으로 하는 광 주사장치.

<식2>

θ₀ ≤ 1.5Φ₀
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 주사 범위의 중심에 대해, 최대 스캔 각도 θ₀는 하기의 조건 식2를 만족하는 것을 특징으로 하는 광 주사장치.

<식2>

θ₀ ≤ 1.5Φ₀
광을 주사하는 광 주사장치와; 상기 광 주사장치에 의해 주사되는 광에 의해 정전잠상이 형성되는 감광매체를 포함하는 화상형성장치에 있어서,

상기 광 주사장치는, 청구항 1항 내지 4항 중 어느 한 항의 광 주사장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 화상형성장치.
제9항에 있어서, 상기 광 편향기는, 사인 진동하는 MEMS 소자를 구비하는 것을 특징으로 하는 화상형성장치.
제10항에 있어서, 주사 범위의 중심에 대해, 최대 스캔 각도 θ₀는 하기의 조건 식2를 만족하는 것을 특징으로 하는 화상형성장치.

<식2>

θ₀ ≤ 1.5Φ₀
제9항에 있어서, 주사 범위의 중심에 대해, 최대 스캔 각도 θ₀는 하기의 조건 식2를 만족하는 것을 특징으로 하는 화상형성장치.

<식2>

θ₀ ≤ 1.5Φ₀