KR100645556B1 - 배기가스 처리용 플라즈마 반응기 및 이를 이용한 배기가스 처리장치 - Google Patents

배기가스 처리용 플라즈마 반응기 및 이를 이용한 배기가스 처리장치 Download PDF

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Abstract

본 발명의 실시예에 의한 배기가스를 정화하기 위한 플라즈마 반응기는, 교대로 적층되는 제1전극유닛과 제2전극유닛, 및 배기가스 통로가 형성되도록 서로 이격된 상태로 상기 제1전극유닛과 제2전극유닛의 사이에 배치되는 적어도 한 쌍의 절연 스페이서(insulating spacer)를 포함한다. 상기 제1전극유닛과 상기 제2전극유닛 각각은, 서로 마주보는 면에 전극층(electrode layer)이 각각 인쇄되며 상기 전극이 서로 마주보도록 배치되는 한 쌍의 절연유전평판(insulating dielectric plate)을 포함한다. 상기 한 쌍의 절연유전평판의 서로 마주보는 면의 전체에 걸쳐 접착제층(adhesive agent layer)이 형성되어 상기 한 쌍의 절연유전평판이 서로 접착된다.
배기가스, 플라즈마, 전극, 절연

Description

배기가스 처리용 플라즈마 반응기 및 이를 이용한 배기가스 처리장치{PLASMA REACTOR FOR PURIFYING EXHAUST EMISSIONS AND APPARATUS FOR PURIFYING EXHAUST EMMISSIONS BY USING PLASMA REACTOR}
도1은 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치의 사시도이다.
도2는 도1의 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치의 분해 사시도이다.
도3은 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치에서 전원 공급 플러그가 하우징 및 플라즈마 반응기에 장착된 상태를 보여주는 도면이다.
도4는 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 반응기의 사시도이다.
도5는 도4의 A-A선을 따라 절개한 단면을 보여주는 단면도이다.
도6은 도5의 B-B선을 따라 절개한 단면을 보여주는 단면도이다.
도7은 도5의 C-C선을 따라 절개한 단면을 보여주는 단면도이다.
도8은 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 반응기 시스템을 이용한 배기가스 처리장치의 구성을 개략적으로 보여주는 개념도이다.
도9는 본 발명의 다른 실시예에 의한 플라즈마 반응기의 전극유닛의 내부를 보여주는 단면도이다.
도10은 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치의 전원 공급 플러그의 내부 구조를 보여주는 일부 단면도이다.
본 발명은 자동차의 배기가스를 정화하기 위한 플라즈마 반응기(plasma reactor)에 관한 것으로, 보다 상세하게는 평행 평판형 플라즈마 반응기(parallel plate type plasma reactor)에 관한 것이다.
일반적으로, 플라즈마 반응기는 차량의 배기 시스템의 촉매 컨버터(catalytic converter)의 상류측에 설치되어 배기가스를 정화하는 작용을 한다.
미국특허 US 6,464,945에는 종래의 플라즈마 반응기의 일예가 게시되어 있다. 일반적으로, 평행 평판형 플라즈마 반응기는 배기가스 통로가 형성되는 복수개의 단위 셸(unit cell)을 포함한다. 각 단위 셸은, 서로 마주보는 상부 및 하부 유전체 플레이트(upper and lower dielectric plate)와, 이 상부 및 하부 유전체 플레이트 사이에서 배치되는 한 쌍의 절연 스페이서(insulating spacer)를 포함한다. 한 쌍의 절연 스페이서가 서로 이격되어 배치됨으로써, 상부 및 하부 유전체 플레이트 사이에 배기가스 통로(exhaust gas passage)가 형성된다.
상부 절연체 플레이트의 상면과 하부 절연체 플레이트의 상면에는 전극이 인쇄된다. 따라서, 특정 단위 셸의 상부 플레이트와 그 상부의 단위 셸의 하부 플레이트가 서로 접착되며, 일반적으로 접착제를 통하여 양 플레이트가 서로 접합된다.
이때, 특정 단위 셸의 상부 플레이트의 상면에 형성된 전극의 전체를 덮도록 접착제층이 형성되면, 유전율이 감소하게 되고 그 결과 배기가스 정화 효율이 작아지게 된다. 반면, 전극을 제외한 상부 플레이트의 상면에 접착제층을 형성하여 양 플레이트를 접합하는 경우에는, 접합력이 떨어질 뿐만 아니라, 접착제층의 두께가 전극의 두께 보다 다소 크게 형성되면 유전체 플레이트와 전극 사이에 공기층이 존재하게 된다. 이러한 공기층의 존재로 인하여, 플라즈마 방전 이전 단계에서 아크(arc)가 형성되는 문제가 있다.
한편, 상기한 미국특허문헌에 기재된 바와 같이 전극에서 연장되는 커넥터(connector)가 유전체 플레이트의 가장자리(edge)까지 연장되므로, 플라즈마 반응기가 하우징(housing) 내에 장착되는 경우에 커넥터와 하우징 사이에 스파크(spark)가 발생할 수 있다. 플라즈마 반응기와 하우징 사이에 절연 매트(insulating mat)를 배치하는 경우에도, 절연체 플레이트의 가장자리까지 연장된 커넥터와 하우징의 내면 사이에서 스파크가 발생할 수 있다.
나아가, 플라즈마 반응기로 전원을 인가하기 위한 장치인 전원 공급 플러그가 단순히 하우징에 고정되므로, 장기간의 사용 또는 설계상의 오차에 의해 전원 공급 플러그의 일단과 플라즈마 반응기의 전극과의 접촉이 끊어지는 경우가 있다.
본 발명은 상기 전술한 바와 같은 문제점들을 해결하기 위해 창출된 것으로서, 유전율을 저하시키지 아니하고 유전체 플레이트를 견고히 접합할 수 있는 플라즈마 반응기를 제공함에 그 목적이 있다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 절연체 플레이트 상에 형성되는 커넥터와 플라즈마 반응기가 설치되는 하우징 사이에서 스파크의 발생을 크게 저감시킬 수 있는 플라즈마 반응기를 제공하는 것이다.
나아가, 본 발명의 또 다른 목적은 플라즈마 반응기로 전원을 인가하는 전원 공급 플러그와 플라즈마 반응기 사이의 접촉을 효과적으로 유지할 수 있는 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치를 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 의한 배기가스를 정화하기 위한 플라즈마 반응기는, 교대로 적층되는 제1전극유닛과 제2전극유닛, 및 배기가스 통로가 형성되도록 서로 이격된 상태로 상기 제1전극유닛과 제2전극유닛의 사이에 배치되는 적어도 한 쌍의 절연 스페이서(insulating spacer)를 포함한다. 상기 제1전극유닛과 상기 제2전극유닛 각각은, 서로 마주보는 면에 전극층(electrode layer)이 각각 인쇄되며 상기 전극이 서로 마주보도록 배치되는 한 쌍의 절연유전평판(insulating dielectric plate)을 포함한다. 상기 한 쌍의 절연유전평판의 서로 마주보는 면의 전체에 걸쳐 접착제층(adhesive agent layer)이 형성되어 상기 한 쌍의 절연유전평판이 서로 접착된다.
본 발명의 다른 실시예에 의한 배기가스를 정화하기 위한 플라즈마 반응기는, 교대로 적층되는 제1전극유닛과 제2전극유닛, 및 배기가스 통로가 형성되도록 서로 이격된 상태로 상기 제1전극유닛과 제2전극유닛의 사이에 배치되는 적어도 한 쌍의 절연 스페이서(insulating spacer)를 포함한다. 상기 제1전극유닛과 상기 제2전극유닛 각각은, 서로 마주보도록 배치되는 한 쌍의 절연유전평판과, 상기 한 쌍의 절연유전평판 사이에 배치되는 전극층을 포함한다. 상기 전극층은 전극(electrode) 및 상기 전극으로부터 상기 절연유전평판의 가장자리에서 설정된 거리 만큼 이격된 지점까지 연장되는 커넥터(connector)를 포함하고, 상기 커넥터는 상기 절연유전평판을 뚫고 상하방향으로 삽입되는 리드라인에 의해 서로 연결되는 것이 바람직하다.
상기 제1전극유닛의 전극층의 커넥터와 상기 제2전극유닛의 전극층의 커넥터는 서로 반대방향으로 연장되는 것이 바람직하다.
상기 리드라인에는 적어도 하나의 플랜지가 형성되며, 상기 플랜지는 상기 절연유전평판의 사이 및 상기 절연유전평판과 상기 절연 스페이서의 사이 중 적어도 어느 하나에 배치되는 것이 바람직하다.
본 발명의 실시예에 의한 배기가스 정화용 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치는, 하우징; 상기 하우징 내부에 배치되는 플라즈마 반응기; 및 상기 하우징에 설치되며, 전원을 상기 플라즈마 반응기에 인가시키는 전원 공급 플러그;를 포함한다. 상기 플라즈마 반응기는, 교대로 적층되는 제1전극유닛과 제2전극유닛; 및 배기가스 통로가 형성되도록 서로 이격된 상태로 상기 제1전극유닛과 제2전극유닛의 사이에 배치되는 적어도 한 쌍의 절연 스페이서(insulating spacer);를 포함한다. 상기 제1전극유닛과 상기 제2전극유닛 각각은, 서로 마주보는 면에 전극층(electrode layer)이 각각 인쇄되며 상기 전극이 서로 마주보도록 배치되는 한 쌍의 절연유전평판(insulating dielectric plate)을 포함한다. 상기 한 쌍의 절연유전평판의 서로 마주보는 면의 전체에 걸쳐 접착제층(adhesive agent layer)이 형성되어 상기 한 쌍의 절연유전평판이 서로 접착된다.
본 발명의 다른 실시예에 의한 배기가스 정화용 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치는, 하우징; 상기 하우징 내부에 배치되는 플라즈마 반응기; 및 상기 하우징에 설치되며, 전원을 상기 플라즈마 반응기에 인가시키는 전원 공급 플러그;를 포함한다. 상기 제1전극유닛과 상기 제2전극유닛 각각은, 서로 마주보도록 배치되는 한 쌍의 절연유전평판과, 상기 한 쌍의 절연유전평판 사이에 배치되는 전극층을 포함한다. 상기 전극층은 전극(electrode) 및 상기 전극으로부터 상기 절연유전평판의 가장자리에서 설정된 거리만큼 이격된 지점까지 연장되는 커넥터(connector)를 포함하고, 상기 커넥터는 상기 절연유전평판을 뚫고 상하방향으로 삽입되는 리드라인에 의해 서로 연결된다.
본 발명의 또 다른 실시예에 의한 배기가스 정화용 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치는, 하우징; 상기 하우징 내부에 배치되는 플라즈마 반응기; 및 상기 하우징에 설치되며, 전원을 상기 플라즈마 반응기에 인가시키는 전원 공급 플러그;를 포함한다. 상기 전원 공급 플러그는, 플러그 하우징; 상기 플러그 하우징에 고정되는 전원 연결단자; 일단이 상기 플러그 하우징의 외부로 노출되도록 상기 플러그 하우징에 슬라이딩(sliding) 가능하도록 삽입되는 도체전극; 및 상기 전원 연결단자와 상기 도체전극을 전기적으로 연결하며, 상기 전원 연결단자에 대해 상기 도체전극을 탄성적으로 지지하는 도체 스프링;을 포함한다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조로 설명한다.
본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 반응기(plasma reactor)(100)는 차량의 배기가스를 정화하기 위한 장치이다. 그리고, 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치(apparatus for purifying exhaust emissions by using plasma reactor)(200)는 플라즈마 반응기(100)를 포함한다.
도1은 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치의 사시도이고, 도2는 도1의 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치의 분해 사시도이다.
도1 및 도2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치(200)는, 하우징(housing)(201)과, 이 하우징(201)의 내부에 배치되는 플라즈마 반응기(100)와, 전원 공급 플러그(203)를 포함한다.
하우징(201)은, 캔(can)(205), 인렛 콘(inlet cone)(207), 및 아웃렛 콘(outlet cone)(209)의 조합으로 이루어진다.
플라즈마 반응기(100)는 캔(205)의 내부에 설치된다. 따라서, 인렛 콘(207)을 통하여 유입된 배기가스는, 플라즈마 반응기(100)에 형성된 배기가스 통로를 통과한 후 아웃렛 콘(209)을 통하여 배출된다.
인렛 콘(207)의 일단과 아웃렛 콘(209)의 일단에는 배기 시스템과의 연결을 위한 결합 플랜지(211, 213)가 각각 구비되는 것이 바람직하다.
그리고, 도1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에서는, 플라즈마 반응기(100)와 캔(205) 사이에 절연 매트(insulating mat)(215)가 배치될 수 있다. 절연 매트(215)는 플라즈마 반응기(100)와 캔(205) 사이의 전기 스파크 발생을 방지한다.
캔(205)의 양 측면에는 전원 공급 플러그(203) 및 접지 플러그(217)의 장착을 위한 보스(boss)(219, 221)가 구비된다. 도3에 도시된 바와 같이, 전원 공급 플러그(203)가 보스(219)에 삽입된다. 전원 공급 플러그(203)는 외부의 전원을 플라즈마 반응기(100)로 인가할 수 있도록 구성된다. 즉, 전원 공급 플러그(203)의 일 단은 외부의 전원공급장치(도시되지 아니함)에 연결되고 다른 일단은 플라즈마 반응기(100)에 접촉됨으로써, 전원이 플라즈마 반응기(100)로 인가될 될 수 있다.
도4를 참조하면, 플라즈마 반응기(100)는, 복수개의 제1전극유닛(방전전극유닛)(101)과, 복수개의 제2전극유닛(접지전극유닛)(103)을 포함한다. 제1전극유닛(101)과 제2전극유닛(103)은 교대로 적층된다.
제1전극유닛(101)과 제2전극유닛(103)의 사이에는 한 쌍의 절연 스페이서(insulating spacer)(105, 107)가 배치된다. 이때, 한 쌍의 절연 스페이서(105, 107)는 설정된 거리만큼 이격되도록 배치된다. 제1전극유닛(101)과 제2전극유닛(103) 사이에 한 쌍의 절연 스페이서(105, 107)가 서로 이격되어 배치됨으로써, 제1전극유닛(101)과 제2전극유닛(103) 사이에 배기가스 통로(exhaust gas passage)(109)가 형성된다. 따라서, 도4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 반응기(100)는, 제1전극유닛(101)과 제2전극유닛(103) 사이에 형성되는 복수개의 배기가스 통로(109)를 포함한다.
제1전극유닛(101)에는 전원 공급 플러그(203)가 접촉되고, 제2전극유닛(103)에는 접지 플러그(217)가 접촉된다. 따라서, 배기가스가 배기가스 통로(109)를 흐르는 상태에서 전원 공급 플러그(203)를 통하여 제1전극유닛(101)으로 전원이 인가되면, 플라즈마 방전이 일어나게 된다.
도5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 반응기(100)의 제1전극유닛(101)은, 서로 마주보는 한 쌍의 절연유전평판(insulating dielectric plate)(111, 113)과, 방전 전극층(discharge electrode layer)(115)을 포함한다.
전극층(115)은 한 쌍의 절연유전평판(111, 113)의 사이에 배치된다. 예를 들어, 전극층(115)은 한 상의 절연유전평판(111, 113) 중 어느 하나 이상에 인쇄되어 형성될 수 있다. 또한, 한 쌍의 절연유전평판(111, 113)은 접착제를 사용하여 서로 접합되는 것이 바람직하다.
마찬가지로, 제2전극유닛(103)은, 서로 마주보는 한 쌍의 절연유전평판(117, 119)과, 접지 전극층(ground electrode layer)(121)을 포함한다.
도5의 B-B선을 따라 절개한 단면을 보여주는 도면인 도6을 참조하면, 방전 전극층(115)은, 절연유전평판(113)의 중앙 부분에 배치되는 방전전극(discharge electrode)(123)과, 이 방전전극(123)으로부터 절연유전평판(113)의 가장자리(127) 쪽으로 연장되어 형성되는 방전 커넥터(discharge connector)(125)를 포함한다. 주지하는 바와 같이, 커넥터의 폭은 전극의 폭 보다 작게 형성되는 것이 바람직하다.
이때, 본 발명의 실시예에서는, 방전 커넥터(125)는 절연유전평판(113)의 가장자리(edge)(127)로부터 설정된 거리(d1) 만큼 이격된 지점까지 연장된다.
유사하게, 도5의 C-C선을 따라 절개한 단면을 보여주는 도면인 도7을 참조하면, 접지 전극층(121)은, 절연유전평판(119)의 중앙 부분에 배치되는 접지전극(ground electrode)(129)과, 이 접지전극(129)으로부터 절연유전평판(119)의 가장자리(133) 쪽으로 연장되어 형성되는 접지 커넥터(ground connector)(131)를 포함한다. 이때, 본 발명의 실시예에서는, 접지 커넥터(131)는 절연유전평판(119)의 가장자리(133)로부터 설정된 거리(d2) 만큼 이격된 지점까지 연장된다.
방전 커넥터(125)와 접지 커넥터(131)가 절연유전평판의 가장자리로부터 이 격됨으로써, 하우징(201)과 커넥터(125, 131) 사이의 스파크(spark) 발생이 크게 감소된다.
도6 및 도7에 도시된 바와 같이, 방전 커넥터(125)와 접지 커넥터(131)는 서로 반대방향으로 연장된다.
결과적으로, 방전 전극층(115)과 접지 전극층(121)은 절연유전평판의 사이에 각각 배치되며, 상하 방향을 따라 교대로 배치된다.
그리고, 도5에 도시된 바와 같이, 방전 전극층(115)의 방전 커넥터(125)는 절연유전평판들을 뚫고 상하방향으로 삽입되는 방전 리드 라인(discharge lead line)(135)에 의해 서로 연결되고, 접지 전극층(121)의 접지 커넥터(121)는 절연유전평판들을 뚫고 상하방향으로 삽입되는 접지 리드 라인(ground lead line)(137)에 의해 서로 연결된다.
방전 리드 라인(135)은 전원 공급 플러그(203)에 접촉하고, 접지 리드 라인(137)은 접지 플러그(217)에 접촉한다. 따라서, 전원이 방전 리드 라인(135)을 통하여 각각의 방전 전극층(115)에 인가되고, 각각의 접지 전극층(121)은 접지 리드 라인(137)을 통하여 접지된다.
한편, 도5 내지 도7에 도시된 바와 같이, 방전 리드 라인(135) 및 접지 리드 라인(137)에는 적어도 하나의 플랜지(flange)(136, 138)가 각각 형성된다. 플랜지(136, 138)는 절연유전평판 사이 또는 절연유전평판과 절연 스페이서의 사이에 배치되는 것이 바람직하다. 플랜지(136, 138)가 형성됨으로써, 절연유전평판 사이의 결합력 및 절연유전평판과 절연 스페이서 사이의 결합력이 증대된다.
도8은 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치(200)의 구성을 개념적으로 도시한 도면이다. 도8에 도시된 바와 같이, 하우징(201)의 내부에 플라즈마 반응기(100)가 설치되고, 플라즈마 반응기(100)의 내부에는 방전 전극층(115)과 접지 전극층(121)이 상하로 교대로 배치된다. 그리고, 방전 전극층(115)은 플라즈마 반응기(100)의 상하방향(도8에서)으로 배치되는 방전 리드 라인(135)에 의해 서로 연결되며, 전원 공급 플러그(203)가 이 방전 리드 라인(135)에 접촉한다. 이때, 제1전극유닛(101)과 제2전극유닛(103)을 구성하는 절연유전평판들 중 적어도 일부에는 삽입홈(139)이 형성되고 이 삽입홈(139)에 전원 공급 플러그(203)의 일단이 삽입됨으로써, 전원 공급 플러그(203)가 방전 리드 라인(135)에 접촉하게 된다.
마찬가지로, 접지 전극층(121)은 플라즈마 반응기(100)의 상하방향(도8에서)으로 배치되는 접지 리드 라인(137)에 의해 서로 연결되며, 접지 플러그(217)가 이 접지 리드 라인(137)에 접촉한다. 이때, 제1전극유닛(101)과 제2전극유닛(103)을 구성하는 절연유전평판들 중 적어도 일부에는 삽입홈(141)이 형성되고 이 삽입홈(141)에 접지 플러그(217)의 일단이 삽입됨으로써, 접지 플러그(217)가 접지 리드 라인(137)에 접촉하게 된다.
도9는 본 발명의 다른 실시예에 의한 전극유닛의 단면을 도시하고 있다. 본 실시예에서는, 제1전극유닛(101)의 한 쌍의 절연유전평판(111, 113)의 서로 마주보는 면(112, 114) 각각에 전극층(115a, 115b)이 형성된다. 그리고, 절연유전평판의 서로 마주보는 면의 전체에 걸쳐 접착제층(adhesive agent layer)(300)이 형성된다. 따라서, 절연유전평판(111, 113)이 보다 견고하게 서로 접합된다. 나아가, 두 개의 절연유전평판(111, 113) 모두에 전극층(115a, 115b)이 형성되어 유전율이 증가하므로, 접착제층(300)이 전극층(115a, 115b)을 덮음으로 인해 야기되는 유전율을 저하를 상쇄할 수 있게 된다. 따라서, 양호한 유전율과 접합성을 동시에 가지는 전극유닛이 실현된다. 마찬가지로, 제2전극유닛(103)에도 두 개의 절연유전평판(117, 119) 모두에 전극층이 형성함으로써, 동일한 효과를 얻을 수 있다.
도10은 본 발명의 실시예에 의한 전원 공급 플러그(203)의 내부를 보여주는 일부 단면도이다. 도10에 도시된 바와 같이, 전원 공급 플러그(203)는, 플러그 하우징(plug housing)(231)과, 전원 연결단자(233)와, 도체 전극(235)과, 도체 스프링(237)을 포함한다.
플러그 하우징(231)은 전압 누설을 방지할 수 있는 절연물질로 형성되는 것이 바람직하며, 예를 들어, 세라믹 재질로 형성될 수 있다.
전원 연결단자(233)는 전원공급장치(도시되지 아니함)에 전기적으로 연결되며, 플러그 하우징(237)에 고정적으로 결합된다.
도체 전극(235)은 그 일단이 플러그 하우징(237)의 외부로 노출되도록 플러그 하우징(237)에 슬라이딩(sliding) 가능하도록 삽입된다. 도체 전극(235)은 플라즈마 반응기(100)의 방전 리드 라인(135)에 접촉하게 된다.
도체 스프링(237)은 전원 연결단자(233)와 도체 전극을 전기적으로 연결하며, 전원 연결단자(233)에 대해 도체 전극(235)을 도10에서 아래 방향으로 탄성적으로 지지한다. 결국, 방전 리드 라인(135)에 접촉하는 도체 전극(235)이 도체 스프링(237)에 의해 탄성적으로 지지됨으로써, 설계오차 등에 의해 도체 전극(235)과 방전 리드 라인(135)의 접촉이 유지될 수 있다.
이상에서, 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 아니하며, 본 발명의 실시예로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 용이하게 변경되어 균등하다고 인정되는 범위의 모든 변경 및/또는 수정을 포함한다.
상기와 같은 본 발명의 실시예에 의하면, 전극유닛의 서로 마주보는 절연유전평판 각각에 전극층이 형성되고 절연유전평판의 서로 마주보는 면의 전체에 걸쳐 접착제층이 형성됨으로써, 절연유전평판이 서로 보다 견고하게 접합되는 동시에 유전율의 저하를 방지할 수 있다.
또한, 전극층의 커넥터가 절연유전평판의 가장자리로부터 소정 거리 만큼 이격된 지점까지만 연장됨으로써, 커넥터와 하우징 사이의 스파크 발생이 크게 감소된다.
나아가, 전극층들이 리드 라인에 의해 서로 연결되고 이 리드 라인에 플랜지가 형성됨으로써, 전극층들이 보다 견고하게 서로 부착될 수 있게 된다.
그리고, 전원 공급 플러그의 도체 전극이 스프링에 의해 지지됨으로써, 도체 전극과 전극유닛의 리드 라인의 전기적 접촉이 끊어지는 것을 방지할 수 있다.

Claims (12)

  1. 배기가스를 정화하기 위한 플라즈마 반응기에 있어서,
    교대로 적층되는 제1전극유닛과 제2전극유닛; 및
    배기가스 통로가 형성되도록 서로 이격된 상태로 상기 제1전극유닛과 제2전극유닛의 사이에 배치되는 적어도 한 쌍의 절연 스페이서(insulating spacer);를 포함하되,
    상기 제1전극유닛과 상기 제2전극유닛 각각은, 서로 마주보는 면에 전극층(electrode layer)이 각각 인쇄되며 상기 전극이 서로 마주보도록 배치되는 한 쌍의 절연유전평판(insulating dielectric plate)을 포함하고,
    상기 한 쌍의 절연유전평판의 서로 마주보는 면의 전체에 걸쳐 접착제층(adhesive agent layer)이 형성되어 상기 한 쌍의 절연유전평판이 서로 접착되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기.
  2. 배기가스를 정화하기 위한 플라즈마 반응기에 있어서,
    교대로 적층되는 제1전극유닛과 제2전극유닛; 및
    배기가스 통로가 형성되도록 서로 이격된 상태로 상기 제1전극유닛과 제2전극유닛의 사이에 배치되는 적어도 한 쌍의 절연 스페이서(insulating spacer);를 포함하되,
    상기 제1전극유닛과 상기 제2전극유닛 각각은, 서로 마주보도록 배치되는 한 쌍의 절연유전평판과, 상기 한 쌍의 절연유전평판 사이에 배치되는 전극층을 포함하며,
    상기 전극층은, 전극(electrode) 및 상기 전극으로부터 상기 절연유전평판의 가장자리에서 설정된 거리만큼 이격된 지점까지 연장되는 커넥터(connector)를 포함하고,
    상기 커넥터는 상기 절연유전평판을 뚫고 상하방향으로 삽입되는 리드라인에 의해 서로 연결되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기.
  3. 제2항에서,
    상기 제1전극유닛의 전극층의 커넥터와 상기 제2전극유닛의 전극층의 커넥터는 서로 반대방향으로 연장되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기.
  4. 제2항에서,
    상기 리드라인에는 적어도 하나의 플랜지가 형성되며, 상기 플랜지는 상기 절연유전평판의 사이 및 상기 절연유전평판과 상기 절연 스페이서의 사이 중 적어도 어느 하나에 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기.
  5. 배기가스 정화용 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치에 있어서,
    하우징;
    상기 하우징 내부에 배치되는 플라즈마 반응기; 및
    상기 하우징에 설치되며, 전원을 상기 플라즈마 반응기에 인가시키는 전원 공급 플러그;
    를 포함하되,
    상기 플라즈마 반응기는,
    교대로 적층되는 제1전극유닛과 제2전극유닛; 및
    배기가스 통로가 형성되도록 서로 이격된 상태로 상기 제1전극유닛과 제2전극유닛의 사이에 배치되는 적어도 한 쌍의 절연 스페이서(insulating spacer);를 포함하고,
    상기 제1전극유닛과 상기 제2전극유닛 각각은, 서로 마주보는 면에 전극층(electrode layer)이 각각 인쇄되며 상기 전극이 서로 마주보도록 배치되는 한 쌍의 절연유전평판(insulating dielectric plate)을 포함하고,
    상기 한 쌍의 절연유전평판의 서로 마주보는 면의 전체에 걸쳐 접착제층(adhesive agent layer)이 형성되어 상기 한 쌍의 절연유전평판이 서로 접착되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치.
  6. 제5항에서,
    상기 전원 공급 플러그는,
    플러그 하우징;
    상기 플러그 하우징에 고정되는 전원 연결단자;
    일단이 상기 플러그 하우징의 외부로 노출되도록 상기 플러그 하우징에 슬라이딩(sliding) 가능하도록 삽입되는 도체전극; 및
    상기 전원 연결단자와 상기 도체전극을 전기적으로 연결하며, 상기 전원 연결단자에 대해 상기 도체전극을 탄성적으로 지지하는 도체스프링;
    을 포함하는 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치.
  7. 배기가스 정화용 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치에 있어서,
    하우징;
    상기 하우징 내부에 배치되는 플라즈마 반응기; 및
    상기 하우징에 설치되며, 전원을 상기 플라즈마 반응기에 인가시키는 전원 공급 플러그;
    를 포함하되,
    상기 제1전극유닛과 상기 제2전극유닛 각각은, 서로 마주보도록 배치되는 한 쌍의 절연유전평판과, 상기 한 쌍의 절연유전평판 사이에 배치되는 전극층을 포함하며,
    상기 전극층은, 전극(electrode) 및 상기 전극으로부터 상기 절연유전평판의 가장자리에서 설정된 거리만큼 이격된 지점까지 연장되는 커넥터(connector)를 포함하고,
    상기 커넥터는 상기 절연유전평판을 뚫고 상하방향으로 삽입되는 리드라인에 의해 서로 연결되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치.
  8. 제7항에서,
    상기 제1전극유닛의 전극층의 커넥터와 상기 제2전극유닛의 전극층의 커넥터는 서로 반대방향으로 연장되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치.
  9. 제7항에서,
    상기 제1전극유닛 및 상기 제2전극유닛의 절연유전평판 중 적어도 일부에는 삽입홈이 형성되고, 상기 전원 공급 플러그의 일단이 상기 삽입홈에 삽입됨으로써 상기 전원 공급 플러그가 상기 리드라인에 접촉하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치.
  10. 제7항에서,
    상기 리드라인에는 적어도 하나의 플랜지가 형성되며, 상기 플랜지는 상기 절연유전평판의 사이 및 상기 절연유전평판과 상기 절연 스페이서의 사이 중 적어도 어느 하나에 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치.
  11. 제7항에서,
    상기 전원 공급 플러그는,
    플러그 하우징;
    상기 플러그 하우징에 고정되는 전원 연결단자;
    일단이 상기 플러그 하우징의 외부로 노출되도록 상기 플러그 하우징에 슬라이딩(sliding) 가능하도록 삽입되는 도체전극; 및
    상기 전원 연결단자와 상기 도체전극을 전기적으로 연결하며, 상기 전원 연결단자에 대해 상기 도체전극을 탄성적으로 지지하는 도체스프링;
    을 포함하는 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치.
  12. 배기가스 정화용 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치에 있어서,
    하우징;
    상기 하우징 내부에 배치되는 플라즈마 반응기; 및
    상기 하우징에 설치되며, 전원을 상기 플라즈마 반응기에 인가시키는 전원 공급 플러그;를 포함하고,
    상기 전원 공급 플러그는,
    플러그 하우징;
    상기 플러그 하우징에 고정되는 전원 연결단자;
    일단이 상기 플러그 하우징의 외부로 노출되도록 상기 플러그 하우징에 슬라이딩(sliding) 가능하도록 삽입되는 도체전극; 및
    상기 전원 연결단자와 상기 도체전극을 전기적으로 연결하며, 상기 전원 연결단자에 대해 상기 도체전극을 탄성적으로 지지하는 도체스프링;
    을 포함하는 플라즈마 반응기를 이용한 배기가스 처리장치.
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