KR100631016B1 - A method for fabricating printing roll forming pattern using printing process and method for forming pattern using the same - Google Patents

A method for fabricating printing roll forming pattern using printing process and method for forming pattern using the same Download PDF

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Abstract

본 발명은 인쇄방식에 의한 패턴을 형성하기 위해 사용되는 인쇄롤의 제조방법 및 이를 이용한 패턴 형성방법에 관한 것으로, 표면에 블랑켓(blanket)이 형성된 원통형의 롤을 준비하는 단계와, 상기 블랑켓 표면에 유기막을 도포하는 단계와, 복수의 볼록패턴이 형성된 클리체를 준비하는 단계와, 상기 클리체 상에 유기막을 접촉시킨 후, 롤을 회전시킴으로써, 상기 볼록패턴과 접촉하는 않는 블랑켓 표면에 유기패턴을 형성하는 단계 및 상기 유기패턴을 경화시키는 단계를 포함하여 이루어지는 인쇄롤의 제조방법을 제공한다.The present invention relates to a method of manufacturing a printing roll used to form a pattern by a printing method and a pattern forming method using the same, preparing a cylindrical roll having a blanket formed on a surface thereof, and the blanket Applying an organic film to the surface, preparing a cliché having a plurality of convex patterns formed thereon, and contacting the organic film on the cliché, and then rotating a roll to contact the blanket surface not in contact with the convex pattern. It provides a method of manufacturing a printing roll comprising the step of forming an organic pattern and the step of curing the organic pattern.

Description

인쇄방식에 의한 패턴 형성시 사용되는 인쇄롤의 제조방법 및 이를 이용한 패턴 형성방법{A METHOD FOR FABRICATING PRINTING ROLL FORMING PATTERN USING PRINTING PROCESS AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME}Manufacturing method of printing roll used for pattern formation by printing method and pattern formation method using same {A METHOD FOR FABRICATING PRINTING ROLL FORMING PATTERN USING PRINTING PROCESS AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME}

도1은 일반적인 액정표시소자의 구조를 나타내는 평면도.1 is a plan view showing the structure of a general liquid crystal display device.

도2는 도1에 도시된 액정표시소자의 박막트랜지스터 구조를 나타내는 단면도.FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a thin film transistor structure of the liquid crystal display shown in FIG.

도3a∼도3c는 그라비아 오프셋 인쇄방식에 의한 패턴 형성방법을 나타내는 도면.3A to 3C are views showing a pattern forming method by a gravure offset printing method.

도4a∼도4c는 본 발명의 일실시예에 따른 인쇄롤 제조방법을 나타낸 도면.Figures 4a to 4c is a view showing a printing roll manufacturing method according to an embodiment of the present invention.

도5a∼도5c는 본 발명의 다른 실시예에 따른 인쇄롤 제조방법을 나타낸 도면.5a to 5c are views showing a printing roll manufacturing method according to another embodiment of the present invention.

도6a∼도6c는 본 발명에 의한 패턴 형성방법을 나타낸 도면.6A to 6C are views showing a pattern forming method according to the present invention.

*** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ****** Explanation of symbols for main parts of drawing ***

231,331,431 : 롤 232,332,432 : 블랑켓231,331,431: Roll 232,332,432: Blanket

233a,333a : 유기패턴 433a : 볼록패턴233a, 333a: Organic pattern 433a: Convex pattern

440 : 식각대상층 450a : 잉크패턴440: etching target layer 450a: ink pattern

본 발명은 인쇄방식에 의한 패턴형성시 사용되는 인쇄장비에 관한 것으로, 특히, 패턴을 식각대상층에 전사시키는 인쇄롤의 제조방법 및 이를 이용한 패턴 형성방법에 관한 것이다.The present invention relates to a printing apparatus used for pattern formation by a printing method, and more particularly, to a manufacturing method of a printing roll for transferring a pattern to an etching target layer and a pattern forming method using the same.

표시소자들, 특히 액정표시소자(Liquid Crystal Display Device)와 같은 평판표시장치(Flat Panel Display)에서는 각각의 화소에 박막트랜지스터와 같은 능동소자가 구비되어 표시소자를 구동하는데, 이러한 방식의 표시소자의 구동방식을 흔히 액티브 매트릭스(Active Matrix) 구동방식이라 한다. 이러한 액티브 매트릭스방식에서는 상기한 능동소자가 매트릭스형식으로 배열된 각각의 화소에 배치되어 해당 화소를 구동하게 된다.In display devices, particularly flat panel displays such as liquid crystal display devices, each pixel includes an active device such as a thin film transistor to drive the display device. The driving method is often called an active matrix driving method. In the active matrix method, the active elements are arranged in each pixel arranged in a matrix to drive the pixel.

도 1은 액티브 매트릭스방식의 액정표시소자를 나타내는 도면이다. 도면에 도시된 구조의 액정표시소자는 능동소자로서 박막트랜지스터(Thin Film Transistor)를 사용하는 TFT LCD이다. 도면에 도시된 바와 같이, 종횡으로 N×M개의 화소가 배치된 TFT LCD의 각 화소에는 외부의 구동회로로부터 주사신호가 인가되는 게이트라인(4)과 화상신호가 인가되는 데이터라인(6)의 교차영역에 형성된 TFT를 포함하고 있다. TFT는 상기 게이트라인(4)과 연결된 게이트전극(3)과, 상기 게이트전극(3) 위에 형성되어 게이트전극(3)에 주사신호가 인가됨에 따라 활성화되는 반도체층(8)과, 상기 반도체층(8) 위에 형성된 소스/드레인전극(5)으로 구성된다. 상기 화소(1)의 표시영역에는 상기 소스/드레인전극(5)과 연결되어 반도체층(8)이 활성화됨에 따라 상기 소스/드레인전극(5)을 통해 화상신호가 인가되어 액정(도면표시하지 않음)을 동작시키는 화소전극(10)이 형성되어 있다.1 is a view showing an active matrix liquid crystal display device. The liquid crystal display of the structure shown in the figure is a TFT LCD using a thin film transistor as an active element. As shown in the figure, each pixel of the TFT LCD in which N × M pixels are arranged vertically and horizontally has a gate line 4 to which a scan signal is applied from an external driving circuit and a data line 6 to which an image signal is applied. It includes a TFT formed in the intersection area. The TFT includes a gate electrode 3 connected to the gate line 4, a semiconductor layer 8 formed on the gate electrode 3, and activated when a scan signal is applied to the gate electrode 3, and the semiconductor layer. (8) and a source / drain electrode 5 formed thereon. In the display area of the pixel 1, an image signal is applied through the source / drain electrode 5 as the semiconductor layer 8 is connected to the source / drain electrode 5 to activate the liquid crystal (not shown). Is formed on the pixel electrode 10.

도 2는 각 화소내에 배치되는 TFT의 구조를 나타내는 도면이다. 도면에 도시된 바와 같이, 상기 TFT는 유리와 같은 투명한 절연물질로 이루어진 기판(20)과, 상기 기판(20) 위에 형성된 게이트전극(3)과, 게이트전극(3)이 형성된 기판(20) 전체에 걸쳐 적층된 게이트절연층(22)과, 상기 게이트절연층(22) 위에 형성되어 게이트전극(3)에 신호가 인가됨에 따라 활성화되는 반도체층(6)과, 상기 반도체층(6) 위에 형성된 소스/드레인전극(5)과, 상기 소스/드레인전극(5) 위에 형성되어 소자를 보호하는 보호층(passivation layer;25)으로 구성된다.2 is a diagram showing the structure of a TFT disposed in each pixel. As shown in the figure, the TFT includes a substrate 20 made of a transparent insulating material such as glass, a gate electrode 3 formed on the substrate 20, and an entire substrate 20 on which the gate electrode 3 is formed. A gate insulating layer 22 stacked over the semiconductor insulating layer 22, a semiconductor layer 6 formed on the gate insulating layer 22 and activated when a signal is applied to the gate electrode 3, and formed on the semiconductor layer 6. A source / drain electrode 5 and a passivation layer 25 formed on the source / drain electrode 5 to protect the device.

상기와 같은 TFT의 소스/드레인전극(5)은 화소내에 형성된 화소전극과 전기적으로 접속되어, 상기 소스/드레인전극(5)을 통해 화소전극에 신호가 인가됨에 따라 액정을 구동하여 화상을 표시하게 된다.The source / drain electrode 5 of the TFT is electrically connected to a pixel electrode formed in the pixel, so that a signal is applied to the pixel electrode through the source / drain electrode 5 to drive the liquid crystal to display an image. do.

상기한 바와 같은 액정표시소자 등의 액티브 매트릭스형 표시소자에서는 각 화소의 크기가 수십㎛의 크기이며, 따라서 화소내에 배치되는 TFT와 같은 능동소자는 수㎛의 미세한 크기로 형성되어야만 한다. 더욱이, 근래에 고화질TV(HDTV)와 같은 고화질 표시소자의 욕구가 커짐에 따라 동일 면적의 화면에 더 많은 화소를 배치해야만 하기 때문에, 화소내에 배치되는 능동소자 패턴(게이트라인과 데이터라인 패턴을 포함) 역시 더욱 미세하게 형성되어야만 한다.In an active matrix display device such as a liquid crystal display device as described above, each pixel has a size of several tens of micrometers, and therefore, an active device such as a TFT disposed in the pixel must be formed with a fine size of several micrometers. Furthermore, as the desire for high-definition display devices such as high-definition television (HDTV) has increased in recent years, more pixels must be disposed on the screen of the same area, and thus, active element patterns (gate line and data line patterns) included in the pixels are included. ) Should also be more finely formed.

한편, 종래에 TFT와 같은 능동소자를 제작하기 위해서는 노광장치에 의한 포토리소그래피(photolithography)방법에 의해 능동소자의 패턴이나 라인 등을 형성 하였다. 그런데, 포토리소그래피방법(photolithography process)은 포토레지스트 (Photo-Resist) 도포, 정렬 및 노광, 현상, 세정등과 같은 연속공정으로 이루어진다.On the other hand, in order to fabricate an active device such as a TFT, a pattern, a line, and the like of the active device are formed by a photolithography method using an exposure apparatus. The photolithography process, however, consists of a continuous process such as photo-resist coating, alignment and exposure, development, and cleaning.

또한, 상기와 같은 액정표시소자의 패턴을 형성하기 위해서는 다수회의 포토공정을 반복해야만 하기 때문에 생산성이 저하되는 문제점이 있었다.In addition, in order to form a pattern of the liquid crystal display device as described above, a number of photo processes must be repeated, which leads to a problem that productivity is lowered.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 본 발명의 목적은 인쇄방식에 의해 한번의 공정으로 패턴을 형성하여 공정 단순화 및 생산성을 향상시킬 수 있는 패턴 형성방법을 제공하는 것이다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a pattern forming method that can simplify the process and improve the productivity by forming a pattern in one step by a printing method.

본 발명의 다른 목적은 패턴을 형성하기 위해 사용되는 인쇄장비를 단순화할 수 있는 인쇄롤의 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a printing roll that can simplify the printing equipment used to form the pattern.

본 발명이 또 다른 목적은 인쇄공정을 더욱 단순화할 수 있는 패턴 형성방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a pattern forming method which can further simplify the printing process.

상기한 목적을 달성하기 위해 이루어지는 본 발명의 인쇄롤 제조방법은 표면에 블랑켓(blanket)이 형성된 원통형의 롤을 준비하는 단계와, 상기 블랑켓 표면에 유기막을 도포하는 단계와, 복수의 볼록패턴이 형성된 클리체를 준비하는 단계와, 상기 클리체 상에 유기막을 접촉시킨 후, 롤을 회전시킴으로써, 상기 볼록패턴과 접촉하는 않는 블랑켓 표면에 유기패턴을 형성하는 단계 및 상기 유기패턴을 경화시키는 단계를 포함하여 이루어진다. The printing roll manufacturing method of the present invention made to achieve the above object comprises the steps of preparing a cylindrical roll having a blanket (blanket) formed on the surface, applying an organic film on the surface of the blanket, a plurality of convex patterns Preparing the formed cliché, contacting the organic film on the cliché, and rotating the roll to form an organic pattern on the surface of the blanket not in contact with the convex pattern and curing the organic pattern. A step is made.

상기 클리체를 준비하는 단계는 투명한 유리기판을 준비하는 단계와, 상기 기판 전면에 금속막을 증착하는 단계와, 상기 금속막을 패터닝하여 금속패턴을 형성하는 단계와, 상기 금속패턴을 마스크로하여 기판을 에칭하는 단계 및 상기 금속패턴을 제거함으로써, 복수의 볼록패턴을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지며, 상기 유기막은 폴리이미드(polyimide) 또는 벤조사이클로부텐(BenzoCycloButene) 중의 하나를 사용할 수 있다. The preparing of the cliché may include preparing a transparent glass substrate, depositing a metal film on the entire surface of the substrate, forming a metal pattern by patterning the metal film, and forming a substrate using the metal pattern as a mask. By etching and removing the metal pattern, a plurality of convex patterns are formed, wherein the organic layer may be one of polyimide or benzocyclobutene.

아울러, 상기 유기패턴을 경화시키는 단계는 상기 유기패턴에 열(thermal) 또는 UV를 조사할 수 있다.In addition, the step of curing the organic pattern may be irradiated thermal (thermal) or UV to the organic pattern.

또한, 본 발명의 인쇄롤 제조방법은 복수의 홈이 형성된 클리체를 준비하는 단계와, 상기 홈 내부에 유기물을 충진시키는 단계와, 상기 홈내부에 충진된 유기물을 원통형 롤의 표면에 전사시키는 단계 및 상기 롤 표면에 전사된 유기패턴을 경화시키는 단계를 포함하여 이루어진다.In addition, the printing roll manufacturing method of the present invention comprises the steps of preparing a cliché formed with a plurality of grooves, filling the organic material in the groove, and the step of transferring the organic material filled in the groove on the surface of the cylindrical roll And curing the organic pattern transferred to the roll surface.

상기 홈 내부에 유기물을 충진시키는 단계는 상기 클리체 상부에 유기물을 도포하는 단계 및 상기 클리체 표면에 닥터블레이드를 접촉시킨 상태에서 닥터블레이드를 이동시킴으로써, 홈 내부에 유기물을 충진시킴과 동시에 클리체 표면에 남아있는 유기물을 제거하는 단계로 이루어진다.The filling of the organic material in the groove may include applying the organic material to the upper part of the cliché and moving the doctor blade while the doctor blade is in contact with the surface of the cliché, thereby filling the organic material in the groove and simultaneously It is a step of removing organic matter remaining on the surface.

그리고, 상기 원통형 롤 표면에 블랑켓을 형성할 수 있으며, 상기 유기패턴은 블랑켓 표면에 형성한다.In addition, a blanket may be formed on the cylindrical roll surface, and the organic pattern may be formed on the blanket surface.

상기 홈 내부에 충진된 유기물을 롤 표면에 전사시키는 단계는 상기 롤을 클리체 표면에 접촉시키는 단계 및 상기 롤을 회전시킴과 동시에 홈 내부에 충진된 유기패턴을 롤 표면에 전사시키는 단계를 포함하여 이루어진다.The step of transferring the organic material filled in the grooves to the roll surface includes contacting the rolls with the surface of the cliché and transferring the organic pattern filled in the grooves to the roll surface while rotating the rolls. Is done.

또한, 본 발명의 패턴 형성방법은 형성하고자 하는 잉크패턴과 동일한 형태의 볼록패턴이 형성된 인쇄롤을 준비하는 단계와, 상기 볼록패턴 표면에 잉크를 형성하는 단계 및 상기 볼록패턴에 형성된 잉크를 식각대상층 상에 전사시키는 단계를 포함하여 이루어진다.In addition, the pattern forming method of the present invention comprises the steps of preparing a printing roll having a convex pattern of the same shape as the ink pattern to be formed, forming the ink on the surface of the convex pattern and the ink formed on the convex pattern etching target layer And transferring the phase.

볼록패턴이 형성된 인쇄롤을 준비하는 단계는 표면에 블랑켓(blanket)이 형성된 원통형의 롤을 준비하는 단계와, 상기 블랑켓 표면에 유기막을 도포하는 단계와, 복수의 볼록패턴이 형성된 클리체를 준비하는 단계와, 상기 클리체 상에 블랑켓 표면의 유기막을 접촉시킨 후, 롤을 회전시킴으로써, 상기 볼록패턴과 접촉하는 않는 블랑켓 표면에 유기패턴을 형성하는 단계 및 상기 유기패턴을 경화시키는 단계를 포함하여 이루어진다.Preparing a printing roll having a convex pattern includes preparing a cylindrical roll having a blanket formed on a surface thereof, applying an organic layer on the surface of the blanket, and forming a cliché formed with a plurality of convex patterns. Preparing an organic pattern on the surface of the blanket that is not in contact with the convex pattern, and then curing the organic pattern by contacting the organic layer on the surface of the blanket on the cliché and rotating the roll. It is made, including.

볼록패턴이 형성된 인쇄롤을 준비하는 단계는 복수의 홈이 형성된 클리체를 준비하는 단계와, 상기 홈 내부에 유기물을 충진시키는 단계와, 상기 클리체 표면에 닥터블레이드를 접촉시킨 상태에서 닥터블레이드를 이동시킴으로써, 홈 내부에 유기물을 충진시킴과 동시에 클리체 표면에 남아있는 유기물을 제거하는 단계와, 상기 홈내부에 충진된 유기물을 원통형 롤의 표면에 전사시키는 단계 및 상기 롤 표면에 전사된 유기패턴을 경화시키는 단계를 포함하여 이루어질 수도 있다.The preparing of the printing roll having the convex pattern may include preparing a cliché formed with a plurality of grooves, filling organic material into the grooves, and performing a doctor blade in a state in which the doctor blade is in contact with the surface of the cliché. Removing the organic material remaining on the surface of the cliché by simultaneously filling the organic material in the groove, transferring the organic material filled in the groove to the surface of the cylindrical roll, and transferring the organic pattern to the surface of the roll. It may also comprise a step of curing.

상기 볼록패턴 표면에 잉크를 형성하는 단계는 상기 인쇄롤과 맞물려 회전하는 어닐록스롤 표면에 잉크를 제공하는 단계와, 상기 어닐록스롤 표면에 제공된 잉크와 접촉하는 인쇄롤의 볼록패턴 상에 잉크를 전사시키는 단계로 이루어진다.Forming ink on the convex pattern surface may include providing ink on a surface of the anneal roll which rotates in engagement with the printing roll, and depositing ink on the convex pattern of the printing roll in contact with the ink provided on the anneal roll surface. The transfer step is made.

상기 잉크를 식각대상층 상에 전사시키는 단계는 상기 볼록패턴 상에 형성된 잉크를 식각대상층 상에 접촉시킨 상태에서 인쇄롤을 회전시키는 단계 및 상기 인쇄롤의 볼록패턴 상에 형성된 잉크를 식각대상층 상에 전사키는 단계로 이루어진다.The transferring of the ink onto the etching target layer may include rotating the printing roll while contacting the ink formed on the convex pattern on the etching target layer and transferring the ink formed on the convex pattern of the printing roll onto the etching target layer. The key consists of steps.

상기 식각대상층 상에 전사된 잉크를 경화시키는 단계 및 상기 경화된 잉크를 마스크로 하여 식각대상층을 에칭하는 단계를 더 포함하여 이루어진다.And curing the ink transferred onto the etching target layer and etching the etching target layer using the cured ink as a mask.

그리고, 상기 식각대상층은 금속층, SiOx 또는 SiNx, 반도체층 중에 하나로 형성될 수 있다.The etching target layer may be formed of one of a metal layer, SiOx or SiNx, and a semiconductor layer.

본 발명에서는 액정표시소자 등과 같은 표시소자의 능동소자 패턴을 형성하기 위해, 인쇄방법을 사용한다. 특히, 그라비아 오프셋 인쇄는 오목판에 잉크를 묻혀 여분의 잉크를 긁어내고 인쇄를 하는 인쇄방식으로서, 출판용, 포장용, 셀로판용, 비닐용, 폴리에틸렌용 등의 각종 분야의 인쇄방법으로서 알려져 있다. 본 발명에서는 이러한 인쇄방법을 사용하여 표시소자에 적용되는 능동소자나 회로패턴을 제작한다.In the present invention, a printing method is used to form an active element pattern of a display element such as a liquid crystal display element. In particular, gravure offset printing is a printing method in which ink is applied to a concave plate to scrape off excess ink, and printing is known as a printing method in various fields such as publishing, packaging, cellophane, vinyl, polyethylene, and the like. In the present invention, such an printing method is used to produce an active element or a circuit pattern applied to the display element.

그라비아 오프셋 인쇄는 전사롤을 이용하여 기판 상에 잉크를 전사하기 때문에, 원하는 표시소자의 면적에 대응하는 전사롤을 이용함으로써 대면적의 표시소자의 경우에도 1회의 전사에 의해 패턴을 형성할 수 있게 된다. 이러한 그라비아 오프셋 인쇄는 표시소자의 각종 패턴들, 예를 들어 액정표시소자의 경우 TFT 뿐만 아니라 상기 TFT와 접속되는 게이트라인 및 데이터라인, 화소전극, 캐패시터용 금속패턴을 패터닝하는데 사용될 수 있다.Since gravure offset printing transfers ink onto a substrate using a transfer roll, it is possible to form a pattern by one transfer even in the case of a large display element by using a transfer roll corresponding to the area of a desired display element. do. Such gravure offset printing can be used to pattern various patterns of display devices, for example, TFTs as well as gate patterns and data lines, pixel electrodes, and capacitor metal patterns connected to the TFTs.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 패턴 형성방법에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a pattern forming method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도3a∼도3c는 인쇄방식을 이용하여 기판 상에 잉크패턴을 형성하는 방법을 나타내는 도면이다. 도3a에 도시된 바와 같이, 인쇄방식에서는 우선 오목판 또는 클리체(130)의 특정 위치에 홈(132)을 형성한 후 상기 홈(132) 내부에 잉크(134)을 충진한다. 상기 클리체(130)에 형성되는 홈(132)은 일반적인 포토리소그래피방법에 의해 형성되며, 홈(132) 내부로의 잉크(134) 충진은 클리체(130)의 상부에 패턴형성용 잉크(134)을 도포한 후 닥터블레이드(138)를 클리체(130)의 표면에 접촉한 상태에서 밀어줌으로써 이루어진다. 따라서, 닥터블레이드(138)의 진행에 의해 홈(132) 내부에 잉크(134)이 충진됨과 동시에 클리체(130) 표면에 남아 있는 잉크(134)는 제거된다.3A to 3C show a method of forming an ink pattern on a substrate using a printing method. As shown in FIG. 3A, in the printing method, first, the groove 132 is formed at a specific position of the concave plate or the cliché 130, and then the ink 134 is filled in the groove 132. The grooves 132 formed in the cliché 130 are formed by a general photolithography method, and the filling of the ink 134 into the grooves 132 is pattern forming ink 134 on the top of the cliché 130. ) And then push the doctor blade 138 in contact with the surface of the cliché 130. Therefore, the ink 134 is filled in the groove 132 by the progress of the doctor blade 138 and the ink 134 remaining on the surface of the cliché 130 is removed.

도3b에 도시된 바와 같이, 상기 클리체(130)의 홈(132) 내부에 충진된 잉크(134)는 상기 클리체(130)의 표면에 접촉하여 회전하는 인쇄롤(131)의 표면에 전사된다. 상기 인쇄롤(131)은 제작하고자 하는 표시소자의 패널의 폭과 동일한 폭으로 형성되며, 패널의 길이와 동일한 길이의 원주를 갖는다. 따라서, 1회의 회전에 의해 클리체(130)의 홈(132)에 충진된 잉크(134)이 모두 인쇄롤(131)의 원주 표면에 전사된다.As shown in FIG. 3B, the ink 134 filled in the groove 132 of the cliché 130 is transferred to the surface of the printing roll 131 which rotates in contact with the surface of the cliché 130. do. The printing roll 131 is formed to have the same width as the width of the panel of the display device to be manufactured, and has a circumference of the same length as the length of the panel. Therefore, the ink 134 filled in the groove 132 of the cliché 130 is transferred to the circumferential surface of the printing roll 131 by one rotation.

이후, 도3c에 도시된 바와 같이, 상기 인쇄롤(131)을 기판(130') 위에 형성된 식각대상층(140)의 표면과 접촉시킨 상태에서 회전시킴에 따라 상기 인쇄롤(131)에 전사된 잉크(134)이 상기 식각대상층(140)에 전사되며, 이 전사된 잉크(134)에 UV 조사 또는 열을 가하여 건조시킴으로써 잉크패턴(133)을 형성한다. 이때에도 상기 인쇄롤(131)의 1회전에 의해 표시소자의 기판(130') 전체에 걸쳐 원하는 패턴(133)을 형성할 수 있게 된다. 이어서, 상기 잉크패턴(133)을 마스크로 하여 식각대상층(140)을 식각함으로써, 원하는 패턴을 형성할 수가 있다.3C, the ink transferred to the printing roll 131 as the printing roll 131 is rotated in contact with the surface of the etch target layer 140 formed on the substrate 130 ′. 134 is transferred to the etching target layer 140, and the ink pattern 133 is formed by applying UV radiation or heat to the transferred ink 134 to dry. In this case, the desired pattern 133 may be formed over the entire substrate 130 ′ of the display device by one rotation of the printing roll 131. Subsequently, by etching the etching target layer 140 using the ink pattern 133 as a mask, a desired pattern can be formed.

상기한 바와 같이, 인쇄방식에서는 클리체(130)와 인쇄롤(131)을 원하는 표시소자의 크기에 따라 제작할 수 있으며, 1회의 전사에 의해 기판(130')에 패턴을 형성할 수 있으므로, 대면적 표시소자의 패턴도 한번의 공정에 의해 형성할 수 있게 된다.As described above, in the printing method, the cliché 130 and the printing roll 131 can be manufactured according to the size of the desired display element, and a pattern can be formed on the substrate 130 'by one transfer. The pattern of the area display element can also be formed by one process.

상기 식각대상층(140)은 TFT의 게이트전극이나 소스/드레인전극, 게이트라인, 데이터라인 혹은 화소전극과 같은 전극을 형성하기 위한 금속층이거나, 액티브층을 형성하기 위한 반도체층을 수 있으며, SiOx나 SiNx와 같이 절연층일 수도 있다.The etching target layer 140 may be a metal layer for forming an electrode such as a gate electrode, a source / drain electrode, a gate line, a data line, or a pixel electrode of the TFT, or may be a semiconductor layer for forming an active layer, and may be SiOx or SiNx. It may be an insulating layer as shown.

실제의 표시소자의 패턴을 형성하는 경우, 상기 잉크패턴(133)은 종래 포토공정에서의 레지스트(resist) 역할을 한다. 따라서, 금속층이나 절연층 위에 상기와 같은 잉크패턴(133)을 형성한 후 일반적인 에칭공정에 의해 금속층이나 절연층을 에칭함으로써 원하는 패턴의 금속층(즉, 전극구조)이나 절연층(예를 들면, 컨택홀 등)을 형성할 수 있게 된다.When the actual pattern of the display device is formed, the ink pattern 133 serves as a resist in the conventional photo process. Therefore, after forming the ink pattern 133 as described above on the metal layer or the insulating layer, the metal layer or the insulating layer is etched by a general etching process, so that the metal layer (ie, the electrode structure) or the insulating layer (for example, the contact) of the desired pattern is formed. Holes, etc.) can be formed.

상기와 같이 인쇄방식은 많은 장점을 가진다. 특히, 대면적인 표시소자에 1회의 공정에 의해 잉크패턴을 형성하거나 종래의 포토리소그래피 공정에 비해 공정이 매우 간단하다는 점은 인쇄방식이 가질 수 있는 대표적인 장점이다.As described above, the printing method has many advantages. In particular, the ink pattern is formed on a large display element by one process or the process is very simple compared to the conventional photolithography process, which is a representative advantage of the printing method.

그러나, 상기와 같은 인쇄방식은 포토리소그래피방식에 비해 정밀도가 떨어지기 때문에 패턴들 간의 얼라인이 정확하게 이루어지지 않아 패턴 불량에 의한 생산성 저하를 초래할 수가 있다.However, since the printing method is less accurate than the photolithography method, the alignment between the patterns is not precisely performed, which may result in a decrease in productivity due to a poor pattern.

따라서, 클리체(130)와 같은 오목판을 별도로 사용하지 않고, 인쇄롤(134) 자체에 패턴을 형성하여 인쇄롤(131)이 클리체(130) 역할을 겸하도록 함으로써, 이러한 문제를 해결할 수가 있다. 인쇄롤(131) 자체에 패턴을 형성하고, 이를 바로 식각대상층(140)에 전사시키는 경우, 클리체(130)로부터 인쇄롤(131) 표면에 잉크패턴을 전사하는 단계를 생략할 수 있기 때문에 클리체(130)가 별도로 마련되어 있는 경우에 비해 정밀도를 더욱 향상시킬 수가 있다.Therefore, this problem can be solved by forming a pattern on the printing roll 134 itself so that the printing roll 131 also serves as the cliché 130 without using a recessed plate such as the cliché 130 separately. . When a pattern is formed on the printing roll 131 itself and is directly transferred to the etching target layer 140, the step of transferring the ink pattern from the cliché 130 to the surface of the printing roll 131 can be omitted. Compared with the case where the sieve 130 is provided separately, the precision can be further improved.

즉, 잉크패턴을 형성하고자 하는 인쇄롤 표면의 특정 위치에 볼록패턴을 형성한 다음, 상기 볼록패턴 상에 잉크패턴을 형성하고, 이를 식각대상층상에 전사시킴으로써, 잉크패턴 형성시 클리체 사용을 생략할 수가 있다.That is, by forming a convex pattern at a specific position on the surface of the printing roll to form the ink pattern, and then forming an ink pattern on the convex pattern and transferring it on the etching target layer, the use of the cliché is omitted in forming the ink pattern. You can do it.

아울러, 인쇄롤의 볼록패턴 상에 형성된 잉크패턴을 바로 식각대상층에 전사시킴으로써, 이전(도3a∼도3c)에 비해 패턴 형성공정을 더욱 단순화시킬 수가 있다.In addition, by directly transferring the ink pattern formed on the convex pattern of the printing roll to the etching target layer, the pattern forming process can be further simplified as compared with the previous (FIGS. 3A to 3C).

도4a∼도4c는 본 발명에 의한 인쇄롤 제조방법을 나타낸 것으로, 먼저, 도4a에 도시된 바와 같이, 원통형 롤(231) 표면에 블랑켓(232)을 형성한 다음, 유기물 공급기(235)를 통해 블랑켓(232) 표면에 유기막(233)을 도포한다. 이때, 유기물은 폴리이미드(polyimide) 또는 벤조사이클로부텐(BenzoCycloButene)을 사용할 수 있다.4A to 4C illustrate a printing roll manufacturing method according to the present invention. First, as shown in FIG. 4A, a blanket 232 is formed on a surface of a cylindrical roll 231, and then an organic material feeder 235 is illustrated. The organic film 233 is applied to the surface of the blanket 232 through. In this case, the organic material may be polyimide or benzocyclobutene (BenzoCycloButene).

이어서, 도4b에 도시된 바와 같이, 표면에 복수의 볼록패턴(230')이 형성된 클리체(230)을 준비한 다음, 상기 클리체(230) 표면에 유기막(233)이 도포된 롤(231)을 접촉시킨 상태에서 회전시킴에 따라, 상기 클리체(230)의 볼록패턴(230')과 접촉하지 않는 블랑켓(232) 표면에 유기패턴(233a)을 형성한다. 이때, 볼록패턴(230')을 갖는 클리체(230)는 기존의 포토리소그래피공정을 통해 형성할 수 있다. 즉, 유리재질의 기판을 준비한 다음, 상기 기판 전면에 금속막을 증착한 후, 이를 패터닝함으로써, 금속패턴을 형성한다. 이어서, 상기 금속패턴을 마스크로 하여 기판을 에칭함으로써, 금속패턴이 형성된 영역에 볼록패턴(230')을 형성할 수가 있다. 이때, 금속패턴을 제거할 수도 있다.Subsequently, as illustrated in FIG. 4B, a cliché 230 having a plurality of convex patterns 230 ′ is prepared on the surface, and then a roll 231 having an organic layer 233 coated on the cliché 230 surface. ) Rotates in contact with each other, thereby forming an organic pattern 233a on the surface of the blanket 232 that is not in contact with the convex pattern 230 ′ of the cliché 230. In this case, the cliché 230 having the convex pattern 230 ′ may be formed through a conventional photolithography process. That is, after preparing a glass substrate, a metal film is deposited on the entire surface of the substrate, and then patterned to form a metal pattern. Subsequently, by etching the substrate using the metal pattern as a mask, the convex pattern 230 ′ can be formed in the region where the metal pattern is formed. In this case, the metal pattern may be removed.

이와 같이 제작된 클리체(230) 표면에 유기막(233)이 도포된 롤(231)을 회전하며 진행시킴에 따라, 볼록패턴(230')과 접촉하는 영역의 유기막(233')이 볼록패턴(230') 상에 남게된다. 이에 따라, 볼록패턴(230')과 접촉하지 않는 블랑켓(232) 표면에는 유기패턴(233a)이 남게된다.As the roll 231 coated with the organic film 233 is rotated on the surface of the cliché 230 manufactured as described above, the organic film 233 'in the region in contact with the convex pattern 230' is convex. It remains on the pattern 230 '. Accordingly, the organic pattern 233a remains on the surface of the blanket 232 that is not in contact with the convex pattern 230 ′.

이후에, 도4c에 도시된 바와 같이, 상기 블랑켓(232) 표면에 남아 있는 유기패턴(233a)에 UV를 조사하거나, 열을 안가함으로써, 유기패턴(233a)을 경화시킬 수가 있다. 이와 같이, 유기패턴(233a)이 경화되어 인쇄롤에 볼록패턴을 형성하게 된다. 상기 볼록패턴은 실제 잉크패턴을 인쇄하는 공정에서, 식각대상층 상에 잉크패턴이 형성된 영역과 대응하게 된다. 즉, 상기 볼록패턴 상에 도포된 잉크가 그대로 식각대상층 상에 전사된다.Thereafter, as illustrated in FIG. 4C, the organic pattern 233a may be cured by irradiating UV or applying heat to the organic pattern 233a remaining on the surface of the blanket 232. In this way, the organic pattern 233a is cured to form a convex pattern on the printing roll. The convex pattern corresponds to a region in which an ink pattern is formed on an etching target layer in a process of printing an actual ink pattern. That is, the ink applied on the convex pattern is transferred onto the etching target layer as it is.

상기한 바와 같이 제작된 인쇄롤을 이용한 패턴 형성방법에 대하여 이후에 더욱 상세하게 설명하기로 한다.The pattern forming method using the printing roll produced as described above will be described in more detail later.

도5a∼도5c는 본 발명의 다른 실시예에 따른 인쇄롤 제조방법을 나타낸 것으로, 먼저, 도5a에 도시된 바와 같이, 복수의 오목한 홈(335)이 형성된 클리체(330)를 준비한 다음, 홈(335) 내부에 유기물(333)을 충진한다. 상기 클리체(330)에 형성되는 홈(335)은 일반적인 포토리소그래피방법에 의해 형성되며, 홈(335) 내부로의 유기물(333) 충진은 클리체(330)의 상부에 패턴형성용 유기물(333)을 도포한 후 닥터블레이드(338)를 클리체(330)의 표면에 접촉한 상태에서 밀어줌으로써 이루어진다. 따라서, 닥터블레이드(338)의 진행에 의해 홈(335) 내부에 유기물(333)이 충진됨과 동시에 클리체(330) 표면에 남아 있는 유기물(333)은 제거된다.5A to 5C illustrate a printing roll manufacturing method according to another embodiment of the present invention. First, as shown in FIG. 5A, a cliché 330 having a plurality of concave grooves 335 is prepared. The organic material 333 is filled in the groove 335. The grooves 335 formed in the cliché 330 are formed by a general photolithography method, and the filling of the organic material 333 into the grooves 335 is a pattern forming organic material 333 on the top of the cliché 330. ) And then push the doctor blade 338 in contact with the surface of the cliché 330. Therefore, the organic material 333 is filled in the groove 335 by the progress of the doctor blade 338 and the organic material 333 remaining on the surface of the cliché 330 is removed.

이어서, 도5b에 도시된 바와 같이, 표면에 블랑켓(332)이 형성된 원통형롤(331)을 클리체(330)에 접촉시킨 상태에서 상기 원통형롤(331)을 회전시켜 진행시킴에 따라, 상기 홈(335) 내부에 충진된 유기물(333)을 블랑켓(332) 표면에 전사시킴으로써, 블랑켓(332) 표면에 유기패턴(333a)을 형성한다.Subsequently, as shown in FIG. 5B, the cylindrical roll 331 having the blanket 332 formed on the surface thereof is brought into contact with the cliché 330 to rotate the cylindrical roll 331 to proceed. By transferring the organic material 333 filled in the groove 335 to the surface of the blanket 332, the organic pattern 333a is formed on the surface of the blanket 332.

이후에, 도5c에 도시된 바와 같이, 상기 블랑켓(332) 표면에 전사된 유기패턴(333a)에 UV를 조사하거나, 열을 안가함으로써, 유기패턴(333a)을 경화시킨다. 이와 같이, 유기패턴(333a)이 경화되어 인쇄롤에 볼록패턴을 형성하게 된다.Thereafter, as illustrated in FIG. 5C, the organic pattern 333a is cured by irradiating UV or applying heat to the organic pattern 333a transferred to the surface of the blanket 332. As such, the organic pattern 333a is cured to form a convex pattern on the printing roll.

언급한 바와 같이, 상기 볼록패턴은 실제 잉크패턴을 인쇄하는 영역으로, 볼록패턴 상에 도포된 잉크물질이 그대로 식각대상층 상에 전사된다. 따라서, 표면에 볼록패턴이 형성된 인쇄롤을 사용하여 잉크패턴을 형성하는 경우, 클리체의 홈내부에 잉크를 충진시키는 단계와, 클리체의 홈내부에 충진된 잉크를 인쇄롤 표면 에 전사시키는 단계를 생략할 수가 있다. 즉, 상기 인쇄롤 표면에 형성된 볼록패턴 상에 잉크를 도포한 다음, 이를 바로 식각대상층 상에 전사시킴으로써, 인쇄장비를 더욱 단순화하고 공정시간을 단축할 수가 있다.As mentioned above, the convex pattern is an area for printing the actual ink pattern, and the ink material applied on the convex pattern is transferred onto the etching target layer as it is. Therefore, when the ink pattern is formed by using a printing roll having a convex pattern formed on the surface, the ink is filled in the groove of the cliché, and the ink filled in the groove of the cliché is transferred to the surface of the printing roll. Can be omitted. That is, by applying the ink on the convex pattern formed on the surface of the printing roll, and then directly transferred to the etching target layer, it is possible to further simplify the printing equipment and shorten the process time.

도6a∼도6c는 본 발명에 의한 패턴 형성방법을 순차적으로 나타낸 공정순서도로, 먼저, 도6a에 도시된 바와 같이, 블랑켓(432) 표면에 형성하고자 하는 잉크패턴과 동일한 형상의 볼록패턴(433a)이 형성된 인쇄롤(431)을 준비한 다음, 상기 인쇄롤(431)의 볼록패턴(433a)과 접촉하며 회전하는 어닐록스롤(460)을 준비한다. 이때, 상기 어닐록스 롤(460)이 회전하는 동안 잉크 공급기(435)로부터 잉크가 공급되며, 어닐록스 롤(460) 표면에는 잉크(450)가 코팅된다. 이와 같이, 어닐록스롤(460) 표면에 코팅된 잉크(450)은 어닐록스롤(460)과 접촉하여 회전하는 인쇄롤(431)의 볼록패턴(433a) 표면에 전사된다. 따라서, 볼록패턴(433a) 표면에 잉크패턴(450a)이 형성된다.6A to 6C are process steps sequentially showing the pattern forming method according to the present invention. First, as shown in FIG. 6A, a convex pattern having the same shape as the ink pattern to be formed on the surface of the blanket 432 ( After preparing the printing roll 431 having the 433a formed thereon, the anneal roll 460 which comes into contact with the convex pattern 433a of the printing roll 431 and rotates is prepared. At this time, the ink is supplied from the ink supplier 435 while the anneal roll 460 rotates, and the ink 450 is coated on the surface of the anneal roll 460. As such, the ink 450 coated on the surface of the anneal roll 460 is transferred to the surface of the convex pattern 433a of the printing roll 431 which rotates in contact with the anneal roll 460. Therefore, the ink pattern 450a is formed on the surface of the convex pattern 433a.

이어서, 도6b에 도시된 바와 같이, 볼록패턴(433a) 상에 형성된 잉크패턴(450a)을 기판(430')의 식각대상층(440) 상에 접촉시킨 상태에서 인쇄롤(431)을 회전시킨다. 이때, 인쇄롤(431)을 회전시킴에 따라 볼록패턴(433a) 상에 형성된 잉크패턴(450a)은 식각대상층(440) 상에 전사된다. 이때, 상기 잉크패턴(450a)은 유기물로 형성된 볼록패턴(433a)으로부터 쉽게 떨어지며 식각대상층(440)에 잘 붙을 수 있는 물질을 사용해야 한다. Subsequently, as illustrated in FIG. 6B, the printing roll 431 is rotated while the ink pattern 450a formed on the convex pattern 433a is brought into contact with the etching target layer 440 of the substrate 430 '. At this time, as the printing roll 431 is rotated, the ink pattern 450a formed on the convex pattern 433a is transferred onto the etching target layer 440. In this case, the ink pattern 450a should be made of a material that is easily separated from the convex pattern 433a formed of an organic material and adheres well to the etching target layer 440.

이후에, 도6c에 도시된 바와 같이, 상기 식각대상층(440) 상에 형성된 잉크패턴(450a)에 열 또는 UV를 조사하여 패턴을 더욱 경화시킬 수가 있다.Thereafter, as illustrated in FIG. 6C, the pattern may be further cured by irradiating heat or UV to the ink pattern 450a formed on the etching target layer 440.

상기 식각대상층(440)은 TFT의 게이트전극이나 소스/드레인전극, 게이트라인, 데이터라인 혹은 화소전극과 같은 전극을 형성하기 위한 금속층이거나, 액티브층을 형성하기 위한 반도체층을 수 있으며, SiOx나 SiNx와 같이 절연층일 수도 있다. 실제의 표시소자의 패턴을 형성하는 경우, 상기 잉크패턴(450a)은 종래 포토공정에서의 레지스트(resist) 역할을 한다. 따라서, 금속층이나 절연층 위에 상기와 같은 잉크패턴(450a)을 형성한 후 일반적인 에칭공정에 의해 금속층이나 절연층을 에칭함으로써 원하는 패턴의 금속층(즉, 전극구조)이나 절연층(예를 들면, 컨택홀 등)을 형성할 수 있게 된다.The etching target layer 440 may be a metal layer for forming an electrode such as a gate electrode, a source / drain electrode, a gate line, a data line, or a pixel electrode of the TFT, or a semiconductor layer for forming an active layer, and may be SiOx or SiNx. It may be an insulating layer as shown. When the actual pattern of the display element is formed, the ink pattern 450a serves as a resist in the conventional photo process. Therefore, after forming the ink pattern 450a as described above on the metal layer or the insulating layer, the metal layer or the insulating layer is etched by a general etching process, thereby forming a metal layer (ie, an electrode structure) or an insulating layer (eg, a contact) of a desired pattern Holes, etc.) can be formed.

상기한 바와 같은 본 발명의 패턴 형성방법은 인쇄롤(431)에 미리 형성하고자 하는 패턴과 동일한 형태의 볼록패턴(433a)을 형성하고, 상기 볼록패턴(433a) 상에 잉크패턴(450a)을 도포한 다음, 이를 식각대상층(440) 상에 전사시킴으로써, 인쇄공정을 더욱 단순화 시킬 수가 있다. 즉, 이전(도3a∼도3c)에는 오목한 홈이 형성된 클리체에 잉크를 도포한 다음, 닥터블레이드를 사용하여 홈 내부에 잉크를 충진시킨 후, 이를 인쇄롤 표면에 전사시킨 후, 이를 다시 식각대상층 상에 재전사시키는 공정을 통해 잉크패턴을 형성한다. 그러나, 도6a∼도6c에 설명된 패턴 형성방법은 형성하고자 하는 패턴과 동일한 형태를 가지는 볼록패턴을 인쇄롤 표면에 형성함으로써, 상기 볼록패턴에 잉크를 형성하고, 이를 바로 식각대상층 상에 전사시킴으로써 잉크패턴을 형성할 수가 있다. 따라서, 클리체를 별도로 필요로하지 않으며, 클리체로부터 인쇄롤에 잉크를 전사시키는 단계를 생략할 수 있기 때문에 인쇄공정을 더욱 단순화할 수 있다.In the pattern forming method of the present invention as described above, the convex pattern 433a having the same shape as the pattern to be formed in advance is formed on the printing roll 431, and the ink pattern 450a is applied onto the convex pattern 433a. Then, by transferring it on the etching target layer 440, it is possible to further simplify the printing process. That is, before (Fig. 3A to Fig. 3C), the ink is applied to the cliché formed with the concave groove, the ink is filled into the groove using the doctor blade, transferred to the surface of the printing roll, and then etched again. An ink pattern is formed through a process of retransferring on the target layer. However, the pattern forming method described in Figs. 6A to 6C forms a convex pattern having the same shape as the pattern to be formed on the surface of the printing roll, thereby forming ink on the convex pattern and transferring it directly onto the etching target layer. An ink pattern can be formed. Therefore, the cleats are not required separately, and the printing process can be further simplified since the step of transferring ink from the cleats to the printing roll can be omitted.

상기 인쇄롤에 볼록패턴을 형성하는 방법은 도4a∼도4c에 설명된 바와 같이, 원통형의 롤표면에 유기물을 도포한 다음, 이를 볼록패턴이 형성된 클리체 상에 접촉시킴으로써, 볼록패턴과 접촉하지 않는 롤 표면에 유기패턴을 형성한 후, 이를 경화시켜 형성하거나, 도5a∼도5c에 설명된 바와 같이, 오목한 홈이 형성된 클리체를 준바한 다음, 상기 홈 내부에 유기물을 충진시키고, 이를 롤 표면에 전사시킨 후, 롤 표면에 전사된 유기패턴을 경화시킴으로써 얻을 수가 있다.The method of forming the convex pattern on the printing roll is, as described in Figures 4a to 4c, by applying an organic substance to the cylindrical roll surface, and then contacting it on the cliché formed with the convex pattern, it is not in contact with the convex pattern After forming an organic pattern on the surface of the roll, which is cured, it is formed by curing it, or as shown in FIGS. 5A to 5C, a cliché having a concave groove is formed, and then an organic material is filled in the groove, and the roll is rolled. After transferring to the surface, it can obtain by hardening the organic pattern transferred to the roll surface.

아울러, 상기한 인쇄방식에 의한 패턴 형성방법은 액정표시소자와 같은 표시소자의 능동소자나 회로뿐만 아니라 반도체 웨이퍼상에서의 소자형성에도 사용될 수 있을 것이다. In addition, the pattern forming method by the printing method may be used for the element formation on the semiconductor wafer as well as the active element or circuit of the display element such as the liquid crystal display element.

상술한 바와 같이, 본 발명에 의하면 표시소자 등의 패턴 형성시 잉크패턴을 형성하고자 하는 위치와 대응하는 인쇄롤 표면에 볼록패턴을 형성함으로써, 인쇄장비를 더욱 단순화할 수 있다. 또한, 본 발명은 볼록패턴이 형성된 인쇄롤을 이용하여 상기 볼록패턴 상에 잉크패턴을 형성하고 이를 식각대상층에 전사시킴으로써 인쇄공정을 단순할 수 있다.As described above, according to the present invention, by forming the convex pattern on the surface of the printing roll corresponding to the position where the ink pattern is to be formed when forming the display element or the like, the printing equipment can be further simplified. In addition, the present invention can simplify the printing process by forming an ink pattern on the convex pattern using a printing roll on which the convex pattern is formed and transferring it to the etching target layer.

본 발명은 인쇄장비 및 인쇄공정을 단순화함으로써, 생산효율을 증대시킬 수 있다.The present invention can increase the production efficiency by simplifying the printing equipment and printing process.

Claims (20)

표면에 블랑켓(blanket)이 형성된 원통형의 롤을 준비하는 단계;Preparing a cylindrical roll having a blanket formed on the surface thereof; 상기 블랑켓 표면에 유기막을 도포하는 단계;Applying an organic film to the surface of the blanket; 복수의 볼록패턴이 형성된 클리체를 준비하는 단계;Preparing a cliché formed with a plurality of convex patterns; 상기 클리체 상에 유기막을 접촉시킨 후, 롤을 회전시켜 접촉된 유기막을 제거하여 상기 볼록패턴과 접촉하는 않는 블랑켓 표면에 유기패턴을 형성하는 단계; 및Contacting the organic film on the cliché and rotating the roll to remove the contacted organic film to form an organic pattern on a blanket surface not in contact with the convex pattern; And 상기 유기패턴을 경화시켜 상기 롤표면에 볼록패턴을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 인쇄롤 제조방법.Hardening the organic pattern to form a convex pattern on the roll surface. 제1항에 있어서, 상기 클리체를 준비하는 단계는,The method of claim 1, wherein preparing the cliché 투명한 유리기판을 준비하는 단계;Preparing a transparent glass substrate; 상기 기판 전면에 금속막을 증착하는 단계;Depositing a metal film on the entire surface of the substrate; 상기 금속막을 패터닝하여 금속패턴을 형성하는 단계;Patterning the metal film to form a metal pattern; 상기 금속패턴을 마스크로하여 기판을 에칭하는 단계; 및Etching the substrate using the metal pattern as a mask; And 상기 금속패턴을 제거함으로써, 복수의 볼록패턴을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 인쇄롤 제조방법.And removing the metal pattern, thereby forming a plurality of convex patterns. 제1항에 있어서, 상기 유기막은 폴리이미드(polyimide)인 것을 특징으로 하는 인쇄롤 제조방법.The method of claim 1, wherein the organic film is polyimide. 제1항에 있어서, 상기 유기막은 벤조사이클로부텐(BenzoCycloButene)인 것을 특징으로 하는 인쇄롤 제조방법.The method of claim 1, wherein the organic film is benzocyclobutene (BenzoCycloButene). 제1항에 있어서, 상기 유기패턴을 경화시키는 단계는,The method of claim 1, wherein curing the organic pattern comprises: 상기 유기패턴에 열(thermal)을 조사하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 인쇄롤 제조방법.Printing roll manufacturing method comprising the step of irradiating the thermal (thermal) to the organic pattern. 제1항에 있어서, 상기 유기패턴을 경화시키는 단계는,The method of claim 1, wherein curing the organic pattern comprises: 상기 유기패턴에 UV를 조사하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 인쇄롤 제조방법.Printing roll manufacturing method comprising the step of irradiating UV to the organic pattern. 복수의 홈이 형성된 클리체를 준비하는 단계;Preparing a cliché formed with a plurality of grooves; 상기 홈 내부에 유기물을 충진시키는 단계;Filling organic material into the groove; 상기 홈내부에 충진된 유기물을 원통형 롤의 표면에 전사시키는 단계; 및Transferring the organic material filled in the groove to the surface of the cylindrical roll; And 상기 롤 표면에 전사된 유기패턴을 경화시켜 상기 롤표면에 볼록패턴을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 인쇄롤 제조방법.And hardening the organic pattern transferred to the roll surface to form a convex pattern on the roll surface. 제7항에 있어서, 상기 홈 내부에 유기물을 충진시키는 단계는,The method of claim 7, wherein the filling of the organic material in the groove, 상기 클리체 상부에 유기물을 도포하는 단계; 및Applying an organic material on the cliché; And 상기 클리체 표면에 닥터블레이드를 접촉시킨 상태에서 닥터블레이드를 이동 시킴으로써, 홈 내부에 유기물을 충진시킴과 동시에 클리체 표면에 남아있는 유기물을 제거하는 단계로 이루어지는 인쇄롤 제조방법.And moving the doctor blade while the doctor blade is in contact with the surface of the cliché, thereby filling the organic material in the groove and simultaneously removing the organic matter remaining on the cliché surface. 제7항에 있어서, 상기 원통형 롤 표면에 블랑켓을 형성하는 것을 특징으로 하는 인쇄롤 제조방법.The method of claim 7, wherein a blanket is formed on the cylindrical roll surface. 제9항에 있어서, 상기 유기패턴은 블랑켓 표면에 형성하는 것을 특징으로 하는 인쇄롤 제조방법.The method of claim 9, wherein the organic pattern is formed on a blanket surface. 제7항에 있어서, 상기 홈 내부에 충진된 유기물을 롤 표면에 전사시키는 단계는,The method of claim 7, wherein the step of transferring the organic material filled in the groove on the roll surface, 상기 롤을 클리체 표면에 접촉시키는 단계; 및Contacting the roll with a cliché surface; And 상기 롤을 회전시킴과 동시에 홈내부에 충진된 유기패턴을 롤 표면에 전사시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 인쇄롤 제조방법.And rotating the roll and transferring the organic pattern filled in the groove to the surface of the roll. 형성하고자 하는 잉크패턴과 동일한 형태의 볼록패턴이 형성된 인쇄롤을 준비하는 단계;Preparing a printing roll having a convex pattern having the same shape as the ink pattern to be formed; 상기 인쇄롤에 맞물려 회전하는 어닐록스롤을 준비하는 단계;Preparing an anilox roll to rotate in engagement with the printing roll; 상기 어닐록스롤 표면에 잉크를 제공하는 단계;Providing ink to the anilox roll surface; 상기 어닐록스롤 표면에 인쇄롤의 볼록패턴이 접촉된 상태에서 상기 인쇄롤을 회전하여 상기 볼록패턴과 접촉된 잉크를 상기 볼록패턴에 전사시키는 단계; 및Transferring the ink in contact with the convex pattern to the convex pattern by rotating the printing roll while the convex pattern of the printing roll is in contact with the surface of the anneal roll; And 상기 볼록패턴 상에 형성된 잉크를 식각대상층 상에 전사시키는 단계를 포함하여 이루어지는 패턴 형성방법.And transferring the ink formed on the convex pattern onto the etching target layer. 제12항에 있어서, 볼록패턴이 형성된 인쇄롤을 준비하는 단계는,The method of claim 12, wherein the preparing of the printing roll having the convex pattern is performed. 표면에 블랑켓(blanket)이 형성된 원통형의 롤을 준비하는 단계;Preparing a cylindrical roll having a blanket formed on the surface thereof; 상기 블랑켓 표면에 유기막을 도포하는 단계;Applying an organic film to the surface of the blanket; 복수의 볼록패턴이 형성된 클리체를 준비하는 단계;Preparing a cliché formed with a plurality of convex patterns; 상기 클리체 상에 블랑켓 표면의 유기막을 접촉시킨 후, 롤을 회전시킴으로써, 상기 볼록패턴과 접촉하는 않는 블랑켓 표면에 유기패턴을 형성하는 단계; 및Contacting the organic film on the surface of the blanket on the cliché, and then rotating the roll to form an organic pattern on the surface of the blanket not in contact with the convex pattern; And 상기 유기패턴을 경화시키는 단계를 포함하여 이루어지는 패턴 형성방법.Pattern forming method comprising the step of curing the organic pattern. 제12항에 있어서, 볼록패턴이 형성된 인쇄롤을 준비하는 단계는,The method of claim 12, wherein the preparing of the printing roll having the convex pattern is performed. 복수의 홈이 형성된 클리체를 준비하는 단계;Preparing a cliché formed with a plurality of grooves; 상기 홈 내부에 유기물을 충진시키는 단계;Filling organic material into the groove; 상기 클리체 표면에 닥터블레이드를 접촉시킨 상태에서 닥터블레이드를 이동시킴으로써, 홈 내부에 유기물을 충진시킴과 동시에 클리체 표면에 남아있는 유기물을 제거하는 단계;Moving the doctor blade in a state in which the doctor blade is in contact with the surface of the cell body, thereby filling the organic material in the groove and simultaneously removing the organic material remaining on the surface of the cell body; 상기 홈내부에 충진된 유기물을 원통형 롤의 표면에 전사시키는 단계; 및Transferring the organic material filled in the groove to the surface of the cylindrical roll; And 상기 롤 표면에 전사된 유기패턴을 경화시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.Patterning method comprising the step of curing the organic pattern transferred to the roll surface. 삭제delete 제12항에 있어서, 상기 잉크를 식각대상층 상에 전사시키는 단계는,The method of claim 12, wherein the transferring of the ink onto the etching target layer comprises: 상기 볼록패턴 상에 형성된 잉크를 식각대상층 상에 접촉시킨 상태에서 인쇄롤을 회전시키는 단계; 및 Rotating the printing roll in a state where the ink formed on the convex pattern is in contact with the etching target layer; And 상기 인쇄롤의 볼록패턴 상에 형성된 잉크를 식각대상층 상에 전사키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.And transferring the ink formed on the convex pattern of the printing roll onto the etching target layer. 제12항에 있어서, The method of claim 12, 상기 식각대상층 상에 전사된 잉크를 경화시키는 단계; 및Curing the ink transferred onto the etching target layer; And 상기 경화된 잉크를 마스크로 하여 식각대상층을 에칭하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.And etching the etching target layer using the cured ink as a mask. 제12항에 있어서, 상기 식각대상층은 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.The method of claim 12, wherein the etching target layer comprises a metal layer. 제12항에 있어서, 상기 식각대상층은 SiOx 또는 SiNx로 이루어진 절연층을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.The method of claim 12, wherein the etching target layer comprises an insulating layer made of SiOx or SiNx. 제12항에 있어서, 상기 식각대상층은 반도체층인 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법.The method of claim 12, wherein the etching target layer is a semiconductor layer.
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