KR100623704B1 - method for fabricating Organic light emission device panel - Google Patents

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KR100623704B1
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Abstract

본 발명은 유기전계발광표시장치의 제조 방법에 관한 것으로서, 발광층을 제외한 유기막층을 UV 경화성 고분자를 사용함으로써 봉지부에 존재하는 유기막을 용이하게 제거하여 실란트의 접착력을 강화시켜 내부의 유기발광소자를 보호할 수 있는 유기전계발광표시장치의 제조 방법을 제공한다.The present invention relates to a method of manufacturing an organic light emitting display device, by using an UV curable polymer in an organic film layer except for a light emitting layer, an organic film existing in an encapsulation can be easily removed to enhance the adhesive strength of a sealant, thereby forming an organic light emitting device therein. Provided are a method of manufacturing an organic light emitting display device that can be protected.

또한, 유기전계발광표시장치의 제조 방법에 있어서, 상기 유기막층으로 고분자를 사용함으로써 기판의 요철을 완화시켜 주는 평탄화 기능을 부여하여 레이저 열전사법에 의해 유기발광층 패턴을 안정적으로 형성할 수 있는 유기전계발광표시장치의 제조방법을 제공한다.In addition, in the method of manufacturing an organic light emitting display device, an organic electric field capable of stably forming an organic light emitting layer pattern by a laser thermal transfer method by providing a flattening function to alleviate irregularities of a substrate by using a polymer as the organic film layer. A method of manufacturing a light emitting display device is provided.

유기전계발광표시장치, 봉지, UV 경화 고분자Organic light emitting display, encapsulation, UV curable polymer

Description

유기 전계 발광 표시 장치의 제조 방법{method for fabricating Organic light emission device panel}Method for fabricating organic light emission device panel

도 1a 및 도 1b는 종래의 레이저 열전사법에 의한 유기전계발광표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다.1A and 1B are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device by a conventional laser thermal transfer method.

도 2a 내지 2e는 본 발명의 실시예의 유기전계발광표시장치의 제조 방법을 설명하기 위한 도면들이다.2A through 2E are diagrams for describing a method of manufacturing an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

- 도면의 주요 부분에 대한 도면 부호의 설명- Description of reference numerals for the main parts of the drawings

10 : 절연기판 11 : 제 1전극10: insulating substrate 11: first electrode

12 : 제 1유기막 20 : 도너기판12: first organic film 20: donor substrate

23' : 유기발광층 24 : 제 2전극23 ': organic light emitting layer 24: second electrode

30 : 기판 40 : 봉지재 30: substrate 40: sealing material

본 발명은 유기전계발광표시장치의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 유기전계발광표시장치의 봉지부에 존재하는 유기막을 제거하는 유기전계발광 표시장치의 제조방법에 대한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing an organic light emitting display device, and more particularly, to a method of manufacturing an organic light emitting display device for removing an organic film present in an encapsulation portion of an organic light emitting display device.

평판 표시 장치 중 유기전계발광표시장치는 응답속도가 1ms 이하로서 고속의 응답속도를 가지며, 소비 전력이 낮고, 자체 발광이므로 시야각에 문제가 없어서, 장치의 크기에 상관없이 동화상 표시 매체로서 장점이 있다. 또한, 저온 제작이 가능하고, 기존의 반도체 공정 기술을 바탕으로 제조 공정이 간단하므로 향후 차세대 평판 표시 장치로 주목받고 있다.Among the flat panel display devices, the organic light emitting display device has a high response time with a response speed of 1 ms or less, low power consumption, and no self-emission, so there is no problem in viewing angle. . In addition, low-temperature manufacturing is possible, and the manufacturing process is simple based on the existing semiconductor process technology has attracted attention as a next-generation flat panel display device in the future.

상기 유기전계발광표시장치의 단위화소에는 적어도 발광층을 포함한 유기층이 존재한다. 상기의 유기전계발광표시장치에 R, G 및 B의 삼원색을 나타내는 발광층을 패터닝함으로서 풀칼라를 구현할 수 있다. At least an organic layer including a light emitting layer is present in a unit pixel of the organic light emitting display device. The full color can be realized by patterning a light emitting layer having three primary colors of R, G, and B in the organic light emitting display device.

상기 유기층은 새도우 마스크를 이용한 진공증착법 또는 통상적인 광식각법을 이용하여 형성되어질 수 있으나 진공 증착법의 경우에는 유기층을 미세 패턴으로 형성하는데 어려움이 있어 완벽한 풀칼라 디스플레이를 구현하는데 어려움이 있으며, 광식각법인 경우에는 현상액 또는 식각액에 의해 유기막의 손상으로 수명 및 효율 등의 발광 특성이 나빠지는 문제점이 있다.The organic layer may be formed using a vacuum deposition method or a conventional optical etching method using a shadow mask, but in the case of vacuum deposition method, it is difficult to form an organic layer in a fine pattern, and thus it is difficult to realize a full-color display. In this case, there is a problem in that light emission characteristics such as lifetime and efficiency are deteriorated due to damage to the organic layer by the developer or etching solution.

이에 따라, 이런 문제점을 해결하기 위한 방법으로 레이저 열전사법(Laser Induced Thermal Imaging : LITI)을 이용하여 유기층을 패턴하는 방식이 도입되었다.Accordingly, a method of patterning an organic layer using laser induced thermal imaging (LITI) has been introduced as a method to solve this problem.

상기 레이저 열전사법은 광원에서 빛이 나와 도너 기판의 광-열 변환층에 흡수되어 빛이 열에너지로 전환되고, 전환된 열에너지에 의해 전사층에 형성된 유기물질이 기판으로 전사되어 형성되는 방법이다.The laser thermal transfer method is a method in which light is emitted from a light source and absorbed by a light-to-heat conversion layer of a donor substrate to convert light into thermal energy, and the organic material formed on the transfer layer is transferred to the substrate by the converted thermal energy.

상기 레이저 열전사법에 의한 유기전계발광표시장치의 패턴 형성 방법은 한국 특허등록번호 10-0342653호에 개시되어 있으며, 또한, 미국 특허 제 5,998,085호, 6,214,520호 및 6,114,085호에 이미 개시된 바 있다.The pattern formation method of the organic light emitting display device by the laser thermal transfer method is disclosed in Korean Patent Registration No. 10-0342653, and has already been disclosed in US Patent Nos. 5,998,085, 6,214,520 and 6,114,085.

도 1a 및 도 1b는 종래의 레이저 열전사법에 의한 유기전계발광표시장치의 제조 방법을 설명하기 위해 도시한 단면도들이다.1A and 1B are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device by a conventional laser thermal transfer method.

도 1a를 참조하면, 먼저, 절연 기판(100)의 버퍼층(110)상부에 통상적인 방법으로 반도체층(125), 게이트 절연막(120), 게이트 전극(135), 층간 절연막(130), 소오스/드레인 전극(145)을 구비한 박막 트랜지스터가 형성된다.Referring to FIG. 1A, first, a semiconductor layer 125, a gate insulating layer 120, a gate electrode 135, an interlayer insulating layer 130, and a source / layer may be formed on a buffer layer 110 of an insulating substrate 100 in a conventional manner. A thin film transistor having a drain electrode 145 is formed.

상기 층간 절연막(130)의 전면에 걸쳐 패시배이션막(140)을 형성하고, 상기 패시배이션막(140) 상부에 평탄화막(150)을 형성한 후 소오스/드레인 전극(145)중 한 전극의 소정 부분을 노출시키기 위한 비아홀(165)을 형성한다. A passivation film 140 is formed over the entire surface of the interlayer insulating film 130, and a planarization film 150 is formed on the passivation film 140, and then one of the source / drain electrodes 145 is formed. A via hole 165 is formed to expose a predetermined portion of the.

상기 비아홀(165)을 통하여 소오스/드레인 전극(145)의 노출된 소정 부분과 접하는 화소전극(160)을 형성한다.The pixel electrode 160 is formed to contact the exposed predetermined portion of the source / drain electrode 145 through the via hole 165.

이 때, 상기 비아홀(160)의 굴곡진 형태를 지닌 상기 화소전극(160)을 덮는 화소정의막(170)을 형성한 후, 상기 화소정의막(170) 상에 상기 화소전극(160)의 일부분을 노출시키는 개구부(195)를 형성한다.In this case, after forming the pixel defining layer 170 covering the pixel electrode 160 having the curved shape of the via hole 160, a portion of the pixel electrode 160 is formed on the pixel defining layer 170. An opening 195 is formed to expose the opening.

이로써, 박막트랜지스터를 구비하며, 상기 화소 전극이 형성되어 있는 기판을 제조한다.Thus, a substrate having a thin film transistor and having the pixel electrode formed thereon is manufactured.

한편, 기재층(201), 광-열 변환층(202) 및 전사층(203)을 순차적으로 적층하여 레이저 전사용 도너 기판(200)을 제조한다.Meanwhile, the donor substrate 200 for laser transfer is manufactured by sequentially stacking the base layer 201, the light-to-heat conversion layer 202, and the transfer layer 203.

이어서, 상기 기판의 화소 전극과 전사용 도너 기판의 전사층을 마주보게 하여 접착(lamination)한 후에 상기 도너 기판의 기재층면의 소정 부분에 레이저(X)를 조사한다.Subsequently, after laminating the pixel electrode of the substrate and the transfer layer of the transfer donor substrate, the laser X is irradiated to a predetermined portion of the base layer surface of the donor substrate.

이후에 도 1b에서와 같이, 상기 기판의 화소전극(160)상에 도너 기판으로부터 전사층이 전사되어 상기 기판상에 유기발광층 패턴(204')이 형성된다. 이어서, 상기 유기 발광층 패턴(204')의 상부에 공통전극으로 상부전극(180)을 형성함으로서 유기전계발광표시장치를 제조할 수 있다.Thereafter, as shown in FIG. 1B, the transfer layer is transferred from the donor substrate to the pixel electrode 160 of the substrate to form an organic light emitting layer pattern 204 ′ on the substrate. Subsequently, the organic light emitting display device may be manufactured by forming the upper electrode 180 as a common electrode on the organic emission layer pattern 204 ′.

이때, 상기 기판에 상기 도너 기판을 접착하는 과정에 있어서, 기판의 단차로 인해 상기 도너 기판이 상기 기판에 잘 밀착되지 않아 전사층이 기판상으로 전사될 때, 유기막이 오픈되는 오픈불량(E)이 발생될 수 있다. 즉, 기판의 에지 부분에 유기막이 제대로 전사되지 않고 유기막이 끊어짐으로써, 불량을 발생시킬 수 있다. At this time, in the process of adhering the donor substrate to the substrate, when the donor substrate is not tightly adhered to the substrate due to the step difference of the substrate and the transfer layer is transferred onto the substrate, an open defect (E) in which the organic layer is opened. This may occur. That is, the organic film is not properly transferred to the edge portion of the substrate and the organic film is cut, thereby causing a defect.

또한, 상기 유기전계발광표시장치의 특성을 향상시키기 위해 상기 유기막은 정공주입층, 정공수송층, 정공억제층, 전자수송층, 전자주입층중에 하나 이상을 포함하는 다층막으로 형성될 수 있다. 일반적으로, 상기의 발광층을 제외한 유기층은 공통층으로 스핀공정 또는 증착에 의해 형성될 수 있는데, 이 경우 상기 유기전계발광표시장치의 제조 과정 중, 상기 유기층이 상기 표시장치의 봉지부에도 형성될 수 있다.In addition, in order to improve characteristics of the organic light emitting display device, the organic layer may be formed as a multilayer film including at least one of a hole injection layer, a hole transport layer, a hole suppression layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. In general, the organic layer except for the light emitting layer may be formed by a spin process or a deposition as a common layer. In this case, the organic layer may also be formed in the encapsulation portion of the display device during the manufacturing process of the organic light emitting display device. have.

따라서, 봉지부에 유기층이 존재하여, 실란트의 접착력이 약화되는 문제가 발생한다. 상기 실란트의 접착력이 약화됨으로 인해서, 외부의 기체 및 수분이 상 기 유기전계발광표시장치 내로 유입될 수 있고, 상기 유입된 외부의 기체 및 수분은 상기 표시장치 내의 발광층의 수명을 단축시킴으로써 화소 영역의 불량을 발생시킬 수 있는 문제점이 있다. Therefore, the organic layer is present in the sealing portion, a problem that the adhesive strength of the sealant is weakened. As the adhesive force of the sealant is weakened, external gas and moisture may be introduced into the organic light emitting display device, and the introduced external gas and moisture may shorten the lifespan of the light emitting layer in the display device. There is a problem that can cause a defect.

종래에는 물리적인 세척 공정에 의해 상기 유기막을 제거하기도 하나, 봉지부 내에 있는 배선의 손상을 일으킬 수 있어 또 다른 불량을 유발시킬수 있다.Conventionally, although the organic film is removed by a physical cleaning process, it may cause damage to the wiring in the encapsulation part, which may cause another defect.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 유기전계발광표시장치의 제조공정에 있어서, 유기막을 UV경화성 고분자를 사용함으로써 봉지부에 존재하는 유기막을 용이하게 제거하여 실란트의 접착력을 강화시키고 유기전계발광표시장치 내의 발광소자를 보호하는 것에 목적이 있다.The technical problem to be achieved by the present invention, in the manufacturing process of the organic light emitting display device, by using a UV-curable polymer in the organic film to easily remove the organic film present in the encapsulation portion to enhance the adhesive strength of the sealant and organic light emitting display device It is an object to protect the light emitting element inside.

또한, 유기전계발광표시장치의 제조공정에 있어서, 유기막층으로 고분자를 사용함으로써 기판의 요철을 완화시켜 주는 평탄화 기능을 부여하여 유기전계발광표시장치의 안정성을 향상시키는데 목적이 있다.In addition, in the manufacturing process of the organic light emitting display device, the use of a polymer as the organic film layer is to provide a flattening function to reduce the irregularities of the substrate to improve the stability of the organic light emitting display device.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 The present invention to achieve the above object

제 1전극이 형성된 절연기판이 제공되는 단계와;Providing an insulating substrate having a first electrode formed thereon;

상기 제 1 전극 상에 상기 절연기판 전면에 걸쳐 공통층으로 제 1유기막을 형성하는 단계와;Forming a first organic film on the first electrode as a common layer over the entire surface of the insulating substrate;

상기 절연기판상의 봉지부에 형성된 제 1유기막을 제외하고 상기 제 1유기막을 경화시키는 단계와;Curing the first organic film except for the first organic film formed on the encapsulation portion on the insulating substrate;

상기 봉지부의 제 1유기막을 제거하는 단계와;Removing the first organic film of the encapsulation part;

상기 제 1유기막상의 화소영역에 레이전 열전사법에 의해 패턴된 유기발광층을 형성하는 단계와;Forming an organic light emitting layer patterned by a region thermal transfer method in the pixel region on the first organic film;

상기 유기발광층상에 공통전극인 제 2전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법을 제공한다.It provides a method of manufacturing an organic light emitting display device comprising the step of forming a second electrode which is a common electrode on the organic light emitting layer.

이하, 본발명의 실시예를 도면을 통해 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 2a 내지 2e는 본 발명의 실시예의 유기전계발광표시장치의 제조 방법을 설명하기 위한 도면들이다.2A through 2E are diagrams for describing a method of manufacturing an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2a에서와 같이, 화소 영역상에 제 1전극(11)이 형성된 절연기판(10)을 제공한다. 상기 제 1전극은 애노드 전극이거나 캐소드 전극일 수 있다.As shown in FIG. 2A, an insulating substrate 10 having a first electrode 11 formed on a pixel area is provided. The first electrode may be an anode electrode or a cathode electrode.

상기 제 1전극(11)이 애노드 전극일 경우, 일함수가 높은 금속으로서 ITO이거나 IZO로 이루어진 투명전극이거나, Pt, Au, Ir, Cr, Mg, Ag, Ni, Al 및 이들의 합금으로 이루어진 군에서 선택된 반사전극일 수 있다. When the first electrode 11 is an anode electrode, a metal having a high work function is a transparent electrode made of ITO or IZO, or a group consisting of Pt, Au, Ir, Cr, Mg, Ag, Ni, Al, and alloys thereof It may be a reflective electrode selected from.

또한, 상기 제 1전극(11)이 캐소드 전극일 경우, 일함수가 낮은 금속으로서 Mg, Ca, Al, Ag, Ba 및 이들의 합금으로 이루어진 군에서 선택하되 얇은 두께를 갖는 투명전극이거나, 두꺼운 반사전극일 수 있다. In addition, when the first electrode 11 is a cathode, a metal having a low work function is selected from the group consisting of Mg, Ca, Al, Ag, Ba, and alloys thereof. It may be an electrode.

상기 제 1전극상에 상기 절연기판 전면에 걸쳐 제 1유기막(12)을 형성한다.A first organic film 12 is formed on the first electrode over the entire surface of the insulating substrate.

여기서, 상기 제 1유기막은 UV 반응성의 관능기를 가지는 정공주입층, 정공수송층 또는 이들의 이중층이거나 전자주입층, 전자수송층 또는 이들의 이중층일 수 있다.Here, the first organic layer may be a hole injection layer, a hole transport layer or a double layer thereof or an electron injection layer, an electron transport layer or a double layer thereof having a UV reactive functional group.

즉, 상기 제 1유기막은 상기 정공주입층, 정공수송층 또는 이들의 이중층이거나 전자주입층, 전자수송층 또는 이들의 이중층을 이루기 위한 각각의 특성을 가진 단분자 또는 고분자에 UV 반응성의 관능기가 도입된 단분자 또는 고분자가 결합된 구조를 가진다. 이를 테면, 상기 정공수송층은 통상적으로 사용되는 정공수송물질인 N-디페닐-N,N'-비스(4-메틸페닐)-1,1'-바이페닐-4,4'-디아민에 UV 반응성의 관능기가 결합되어 있을 수 있다. 여기서, UV 반응성 관능기는 아크릴레이트기(acrylate group), 비닐기(vinyl group) 및 에폭시기(epoxy group)중에 하나를 포함할 수 있다.That is, the first organic layer is a hole injection layer, a hole transport layer or a double layer thereof or a UV reactive functional group introduced into a single molecule or polymer having respective properties for forming an electron injection layer, an electron transport layer or a double layer thereof It has a structure in which molecules or polymers are bound. For example, the hole transport layer is UV reactive to N-diphenyl-N, N'-bis (4-methylphenyl) -1,1'-biphenyl-4,4'-diamine, which is a commonly used hole transport material. Functional groups may be bound. Here, the UV reactive functional group may include one of an acrylate group, a vinyl group, and an epoxy group.

상기 정공 수송층은 하기 화학식 1로 표현할 수 있다.The hole transport layer may be represented by the following formula (1).

<화학식 1><Formula 1>

Figure 112004051158378-pat00001
Figure 112004051158378-pat00001

여기서, 상기 화학식 1에서 Rl 내지 R8은 수소, 불소 또는 다양한 사슬길이를 갖는 알킬기로, 서로 같거나 다를 수 있으며, 적어도 하나는 UV 반응성 관능기를 가진다. 이때, UV 반응성 관능기는 아크릴레이트기(acrylate group), 비닐기(vinyl group) 및 에폭시기(epoxy group)중에 하나를 포함할 수 있다.Here, in Formula 1, R1 to R8 are hydrogen, fluorine, or an alkyl group having various chain lengths, which may be the same as or different from each other, and at least one has a UV reactive functional group. In this case, the UV reactive functional group may include one of an acrylate group, a vinyl group, and an epoxy group.

더욱 상세하게는 하기의 화학식 2 내지 화학식 4로 나타낼 수 있다.More specifically, it may be represented by the following Chemical Formulas 2 to 4.

<화학식2><Formula 2>

Figure 112004051158378-pat00002
Figure 112004051158378-pat00002

<화학식3><Formula 3>

Figure 112004051158378-pat00003
Figure 112004051158378-pat00003

<화학식4><Formula 4>

Figure 112004051158378-pat00004
Figure 112004051158378-pat00004

여기서, 상기 화학식 2 내지 화학식4에서 R 및 Rl 내지 R8은 수소, 불소 또는 다양한 사슬길이를 갖는 알킬기로, 서로 같거나 다를 수 있다.Here, in Formulas 2 to 4, R and Rl to R8 are hydrogen, fluorine, or an alkyl group having various chain lengths, and may be the same as or different from each other.

상기 제 1유기막은 스프레이 코팅방식, 딥 코팅 방식, 바코팅, 그라비아 코팅 방식, 롤 코팅 방식 및 스핀 코팅방식으로 이루어진 군에서 선택된 하나의 방식으로 형성할 수 있다.The first organic layer may be formed by one method selected from the group consisting of a spray coating method, a dip coating method, a bar coating, a gravure coating method, a roll coating method, and a spin coating method.

이로써, 상기 제 1유기막은 고분자로 형성되어지며, 상기 제 1전극상에 화소영역에 형성되어 기판의 요철구조를 평탄화시킬 수 있어, 후속 공정인 레이저 열전사에 의해 발광층의 패턴을 형성시에 에지 오픈 현상을 완화시킬수 있다.As a result, the first organic layer is formed of a polymer, and is formed in the pixel region on the first electrode to planarize the uneven structure of the substrate, thereby forming an edge of the light emitting layer by laser thermal transfer, which is a subsequent process. It can alleviate the open phenomenon.

이어서, 도 2b에서와 같이, 마스크(13)를 이용하여 봉지부(a)를 제외한 부분에 UV를 조사하여 경화를 시킨후, UV가 조사되지 않은 영역을 유기용제등으로 세정함으로써 봉지부(a)에 형성된 제 1유기막을 제거한다.Subsequently, as shown in FIG. 2B, the mask 13 is irradiated with UV to cure portions other than the encapsulation portion a, and then the encapsulation portion a is cleaned by washing with an organic solvent or the like. Remove the first organic film formed in the).

이어서, 도 2c에서와 같이, 기재층(21), 광-열 변환층(22) 및 전사층(23R, 23G, 23B)으로 이루어진 도너기판(20R, 20G, 20B)을 상기 기판의 화소영역과 대향하도록 배치한 후에 레이저를 조사하여 도 2d와 같이 각각의 화소영역에 유기발광층 패턴(23)을 형성한다.Subsequently, as shown in FIG. 2C, donor substrates 20R, 20G, and 20B formed of a base layer 21, a light-to-heat conversion layer 22, and a transfer layer 23R, 23G, and 23B may be connected to the pixel region of the substrate. After arranging to face the laser, the organic light emitting layer pattern 23 is formed in each pixel region as shown in FIG. 2D.

이어서, 도 2d에서와 같이, 상기 유기발광층 패턴상에 상기 기판 전면에 걸쳐 공통층으로 제 2전극(24)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 2D, a second electrode 24 is formed on the organic light emitting layer pattern as a common layer over the entire surface of the substrate.

상기 제 2전극(24)은 일함수가 낮은 도전성의 금속으로 Mg, Ca, Al, Ag 및 이들의 합금으로 이루어진 군에서 선택된 하나의 물질로서 얇은 두께를 갖는 투명전극이거나, 두꺼운 두께를 갖는 반사전극으로 형성된다.The second electrode 24 is a conductive metal having a low work function and is a material selected from the group consisting of Mg, Ca, Al, Ag, and alloys thereof, or a transparent electrode having a thin thickness or a reflective electrode having a thick thickness. Is formed.

또한, 상기 제 2 전극(24)이 애노드 전극인 경우에 있어서, 일함수가 높은 금속으로서, ITO 또는 IZO로 이루어진 투명전극이거나, Pt, Au, Ir, Cr, Mg, Ag, Ni, Al 및 이들의 합금으로 이루어진 반사전극일 수 있다.In the case where the second electrode 24 is an anode electrode, a metal having a high work function is a transparent electrode made of ITO or IZO, or Pt, Au, Ir, Cr, Mg, Ag, Ni, Al, and these. It may be a reflective electrode made of an alloy of.

한편, 본 발명에서는 상기 유기발광층 패턴(23)과 상기 제 2전극(24)사이에 제 2유기막을 더욱 포함할 수 있다. In the present invention, a second organic layer may be further included between the organic light emitting layer pattern 23 and the second electrode 24.

여기서, 상기 제 2유기막은 UV 반응성의 관능기를 가지는 정공주입층, 정공수송층 또는 이들의 이중층이거나 전자주입층, 전자수송층 또는 이들의 이중층일 수 있다. 즉, 상기 제 2유기막은 상술한 바와 같이 상기 정공주입층, 정공수송층 또는 이들의 이중층이거나 전자주입층, 전자수송층 또는 이들의 이중층을 이루기 위한 각각의 특성을 가진 단분자 또는 고분자에 UV 반응성의 관능기가 도입된 단분자 또는 고분자가 결합된 구조를 가진다Here, the second organic film may be a hole injection layer, a hole transport layer or a double layer thereof or an electron injection layer, an electron transport layer or a double layer thereof having a UV reactive functional group. That is, the second organic film is a UV injection functional group to a single molecule or a polymer having the respective characteristics for forming the hole injection layer, hole transport layer or a double layer thereof or an electron injection layer, an electron transport layer or a double layer thereof as described above Has a structure in which a single molecule or a polymer is introduced

여기서, 상기 제 2유기막은 스프레이 코팅방식, 딥 코팅 방식, 바코팅, 그라 비아 코팅 방식, 롤 코팅 방식, 스핀 코팅방식 및 증착방식중에 하나의 방법을 선택하여 형성하거나 발광층 형성하는 단계에서 동시에 형성될 수 있다. The second organic layer may be formed at the same time by selecting one of spray coating, dip coating, bar coating, gravure coating, roll coating, spin coating and deposition. Can be.

이어서, 도 2e에서와 같이, 내부의 수분을 제거하기 위한 흡습제(31)가 부착된 봉지재(30)의 가장자리에 밀봉제(32)를 형성한 후, 상기 기판(30)의 봉지부(a)와 SUS 캔의 밀봉제를 접착시킨후 열 또는 자외선에 경화시킴으로써 봉지재와 기판(30)의 배면을 외부와 차단하도록 봉지하여 유기전계발광표시장치를 제조할 수 있다.Subsequently, as shown in FIG. 2E, after the sealant 32 is formed at the edge of the encapsulant 30 to which the moisture absorbent 31 is attached to remove moisture therein, the encapsulation portion a of the substrate 30 is formed. ) And the sealant of the SUS can, and then cured with heat or ultraviolet rays to encapsulate the encapsulant and the back surface of the substrate 30 to the outside to manufacture the organic light emitting display device.

또한, 상기 봉지부(a)의 유기막을 제거함으로써 상기 봉지재와 상기 기판(30)의 접착력을 향상시킬 수 있다.In addition, the adhesion between the encapsulant and the substrate 30 may be improved by removing the organic layer of the encapsulation portion a.

상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 유기발광층의 특성을 향상시키기 위한 제 1유기막을 UV 경화성 고분자를 적용함에 따라 기판의 요철를 완화시켜주는 평탄화 기능을 하여 보다 안정화된 유기전계발광표시장치를 제조할 수 있다.As described above, according to the present invention, as the first organic film for improving the characteristics of the organic light emitting layer is applied to the UV curable polymer, the organic EL display device can be manufactured more stabilized by the flattening function to alleviate the unevenness of the substrate. have.

또한, 본발명은 봉지부에 형성될 수 있는 유기막을 안전하게 제거하여 줌으로써 봉지재와 기판의 접착력이 강화되어 화소의 불량 발생을 제어할 수 있는 유기전계발광표시장치를 제조할 수 있다In addition, the present invention can manufacture an organic light emitting display device that can control the occurrence of defects of the pixel by strengthening the adhesion between the encapsulant and the substrate by safely removing the organic film formed on the encapsulation portion.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to a preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art will be variously modified and changed within the scope of the invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below I can understand that you can.

Claims (12)

제 1전극이 형성된 절연기판이 제공되는 단계와;Providing an insulating substrate having a first electrode formed thereon; 상기 제 1 전극 상에 상기 절연기판 전면에 걸쳐 공통층으로 제 1유기막을 형성하는 단계와;Forming a first organic film on the first electrode as a common layer over the entire surface of the insulating substrate; 상기 절연기판상의 봉지부에 형성된 제 1유기막을 제외하고 상기 제 1유기막을 경화시키는 단계와;Curing the first organic film except for the first organic film formed on the encapsulation portion on the insulating substrate; 상기 봉지부의 제 1유기막을 제거하는 단계와;Removing the first organic film of the encapsulation part; 상기 제 1유기막상의 화소영역에 레이전 열전사법에 의해 패턴된 유기발광층을 형성하는 단계와;Forming an organic light emitting layer patterned by a region thermal transfer method in the pixel region on the first organic film; 상기 유기발광층상에 공통전극인 제 2전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.And forming a second electrode as a common electrode on the organic light emitting layer. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제 1전극은 애노드 전극이거나 캐소드 전극인 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.And the first electrode is an anode electrode or a cathode electrode. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1유기막은 정공주입층, 정공수송층 또는 이들의 이중층이거나 전자주입층, 전자수송층 또는 이들의 이중층인 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.And the first organic layer is a hole injection layer, a hole transport layer, or a double layer thereof, or an electron injection layer, an electron transport layer, or a double layer thereof. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 제 1유기막은 UV 반응성 관능기가 도입되어 있는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.The first organic film is a method of manufacturing an organic light emitting display device, characterized in that a UV reactive functional group is introduced. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 UV 반응성 관능기는 아크릴레이트기(acrylate group), 비닐기(vinyl group) 및 에폭시기(epoxy group)중에서 선택된 하나인 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.The UV reactive functional group is a method of manufacturing an organic light emitting display device, characterized in that one selected from an acrylate group (acrylate group), a vinyl group (vinyl group) and an epoxy group (epoxy group). 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1유기막은 스프레이 코팅방식, 딥 코팅 방식, 바코팅, 그라비아 코팅 방식, 롤 코팅 방식 및 스핀 코팅방식중에 하나의 방법을 선택하여 형성하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.The first organic layer is a method of manufacturing an organic light emitting display device, characterized in that formed by selecting one of the spray coating method, dip coating method, bar coating, gravure coating method, roll coating method and spin coating method. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 유기전계발광표시장치는 상기 유기발광층의 상부에 제 2유기막을 더 형성하고, 봉지부를 제외한 상기 제 2유기막을 경화시킨후, 상기 봉지부의 제 2유기막을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.The organic light emitting display device may further include forming a second organic film on the organic light emitting layer, curing the second organic film except for an encapsulation part, and then removing the second organic film of the encapsulation part. A method of manufacturing an organic light emitting display device. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제 2유기막은 정공주입층, 정공수송층 또는 이들의 이중층이거나 전자주입층, 전자수송층 또는 이들의 이중층인 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.And the second organic layer is a hole injection layer, a hole transport layer, or a double layer thereof, or an electron injection layer, an electron transport layer, or a double layer thereof. 제 8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 제 2유기막은 UV 반응성 관능기가 도입되어 있는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.The second organic film is a method of manufacturing an organic light emitting display device, characterized in that the UV reactive functional group is introduced. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 UV 반응성 관능기는 아크릴레이트기(acrylate group), 비닐기(vinyl group) 및 에폭시기(epoxy group)중 하나인 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.The UV reactive functional group is a method of manufacturing an organic light emitting display device, characterized in that one of an acrylate group (acrylate group), a vinyl group (vinyl group) and an epoxy group (epoxy group). 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제 2유기막은 스프레이 코팅방식, 딥 코팅 방식, 바 코팅, 그라비아 코팅 방식, 롤 코팅 방식, 스핀 코팅방식 및 증착 방식중에 하나의 방법을 선택하여 형성하거나 발광층 형성하는 단계에서 동시에 형성되는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치의 제조 방법.The second organic film is formed at the same time in the step of forming one of the method selected from the spray coating method, dip coating method, bar coating method, gravure coating method, roll coating method, spin coating method and the deposition method or forming the light emitting layer A method of manufacturing an organic light emitting display device. 상기 제 1항의 방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는 유기전계발광표시장치.An organic light emitting display device manufactured by the method of claim 1.
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