KR100592391B1 - Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof - Google Patents

Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
KR100592391B1
KR100592391B1 KR1020040031003A KR20040031003A KR100592391B1 KR 100592391 B1 KR100592391 B1 KR 100592391B1 KR 1020040031003 A KR1020040031003 A KR 1020040031003A KR 20040031003 A KR20040031003 A KR 20040031003A KR 100592391 B1 KR100592391 B1 KR 100592391B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light emitting
organic light
dummy
partition wall
emitting layer
Prior art date
Application number
KR1020040031003A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20050106140A (en
Inventor
이춘탁
배효대
Original Assignee
엘지전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지전자 주식회사 filed Critical 엘지전자 주식회사
Priority to KR1020040031003A priority Critical patent/KR100592391B1/en
Publication of KR20050106140A publication Critical patent/KR20050106140A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100592391B1 publication Critical patent/KR100592391B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/88—Dummy elements, i.e. elements having non-functional features
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
    • H10K59/173—Passive-matrix OLED displays comprising banks or shadow masks
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Abstract

본 발명은 유기발광층의 손상을 방지함으로써 화질저하를 방지 할 수 있는 유기 전계발광소자 및 그 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to an organic electroluminescent device capable of preventing image degradation by preventing damage to the organic light emitting layer and a method of manufacturing the same.

본 발명에 따른 유기 전계발광소자는 유기발광층을 사이에 두고 서로 교차되게 형성된 제1 및 제2 전극과; 상기 제1 및 제2 전극 중 어느 하나와 나란하게 형성된 격벽과; 상기 격벽의 바깥쪽으로 소정 거리를 두고 형성된 적어도 하나의 더미격벽을 포함하는 것을 특징으로 한다. An organic electroluminescent device according to the present invention comprises: first and second electrodes formed to cross each other with an organic light emitting layer interposed therebetween; Barrier ribs formed in parallel with any one of the first and second electrodes; It characterized in that it comprises at least one dummy partition formed at a predetermined distance to the outside of the partition.

Description

유기 전계발광소자 및 그 제조방법{Organic Electro Luminescence Device And Fabricating Method Thereof} Organic electroluminescent device and manufacturing method therefor {Organic Electro Luminescence Device And Fabricating Method Thereof}             

도 1은 종래의 유기 전계발광소자를 개략적으로 나타내는 도면이다. 1 is a view schematically showing a conventional organic electroluminescent device.

도 2a 내지 도 2d는 종래의 유기 전계발광소자의 제조방법을 나타내는 도면이다. 2A to 2D are diagrams illustrating a manufacturing method of a conventional organic electroluminescent device.

도 3a 내지 도 3b는 종래의 유기발광층 형성불량을 설명하기 위한 도면이다. 3A to 3B are diagrams for explaining a conventional organic light emitting layer formation failure.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 유기 전계발광소자를 개략적으로 나타내는 도면이다.4 is a view schematically showing an organic electroluminescent device according to an embodiment of the present invention.

도 5는 도 4에 도시된 유기발광층의 형성을 나타내는 도면이다.FIG. 5 is a diagram illustrating formation of an organic light emitting layer illustrated in FIG. 4.

도 6a 내지 도 6d는 본 발명에 따른 유기 전계발광소자의 제조방법을 나타내는 도면이다. 6a to 6d are views illustrating a method of manufacturing an organic electroluminescent device according to the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

2,102 : 기판 4,104 : 애노드전극2,102 substrate 4,104 anode electrode

8,108 : 격벽 109 : 더미격벽 8,108 bulkhead 109 dummy bulkhead

10,110 : 유기전계발광층 12,112 : 캐소드 전극 10,110: organic light emitting layer 12,112: cathode electrode

45,145 : 섀도우 마스크 45,145: Shadow Mask

본 발명은 유기 전계발광소자에 관한 것으로, 특히, 유기발광층의 손상을 방지함으로써 화질저하를 방지 할 수 있는 유기 전계발광소자 및 그 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to an organic electroluminescent device, and more particularly, to an organic electroluminescent device and a method of manufacturing the same, which can prevent deterioration in image quality by preventing damage to the organic light emitting layer.

최근, 음극선관(Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시장치들이 개발되고 있다. 이러한 평판표시장치로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시장치(Field Emission Display), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel) 및 전계발광소자(Electro Luminescence Device : 이하 "ELD"라 함) 등이 있다. 특히 ELD는 기본적으로 정공수송층, 발광층, 전자수송층으로 이루어진 유기 발광층의 양면에 전극을 붙인 형태의 것으로서, 넓은 시야각, 고개구율, 고색도 등의 특징 때문에 차세대 평판표시장치로서 주목받고 있다. Recently, various flat panel displays have been developed to reduce weight and volume, which are disadvantages of cathode ray tubes. Such flat panel displays include liquid crystal displays, field emission displays, plasma display panels, and electroluminescent devices (hereinafter referred to as "ELDs"). There is this. In particular, ELD is basically formed by attaching electrodes to both sides of an organic light emitting layer including a hole transporting layer, a light emitting layer, and an electron transporting layer.

이러한 ELD는 사용하는 재료에 따라 크게 무기 ELD와 유기 ELD로 나뉘어진다. 이 중 유기 ELD는 정공 주입 전극과 전자 주입 전극 사이에 형성된 유기 EL 층에 전하를 주입하면 전자와 정공이 쌍을 이룬 후 소멸하면서 빛을 내기 때문에 무기 ELD에 비해 낮은 전압으로 구동 가능하다는 장점이 있다. 또한, 유기 ELD는 플 라스틱같이 휠 수 있는(Flexible) 투명기판 위에도 소자를 형성할 수 있을 뿐 아니라, PDP나 무기 ELD에 비해 10V 이하의 낮은 전압에서 구동이 가능하고, 전력 소모가 비교적 작으며, 색감이 뛰어나다. Such ELDs are largely divided into inorganic ELDs and organic ELDs depending on the materials used. Among them, the organic ELD has the advantage of being able to be driven at a lower voltage than the inorganic ELD because when the charge is injected into the organic EL layer formed between the hole injection electrode and the electron injection electrode, electrons and holes are paired up and extinguished to emit light. . In addition, the organic ELD can not only form a device on a flexible transparent substrate like plastic, but also can drive at a lower voltage of 10V or less than a PDP or inorganic ELD, and consumes relatively little power. Excellent color

도 1은 종래의 유기 ELD를 나타내는 사시도이다. 1 is a perspective view showing a conventional organic ELD.

도 1에 도시된 유기 ELD는 기판(2) 상에 애노드전극(4)과 캐소드전극(12)이 서로 교차하는 방향으로 형성된다. The organic ELD shown in FIG. 1 is formed on the substrate 2 in a direction in which the anode electrode 4 and the cathode electrode 12 cross each other.

애노드전극(4)은 기판(2) 상에 소정간격으로 이격되어 다수개 형성된다. 이러한 애노드전극(4)이 형성된 기판(2) 상에는 EL셀(EL) 영역마다 개구부를 갖는 절연막(미도시)이 형성된다. 절연막 상에는 그 위에 형성되어질 유기발광층(10) 및 캐소드전극(12)의 분리를 위한 격벽(8)이 위치한다. 격벽(8)은 애노드전극(4)을 가로지르는 방향으로 형성되며, 상단부가 하단부보다 넓은 폭을 가지게 되는 역 테퍼(taper) 구조를 갖게 된다. 격벽(8)이 형성된 절연막 상에는 유기화합물로 구성되는 유기발광층(10)과 캐소드전극(12)이 순차적으로 전면 증착된다. 유기발광층(10)은 절연막 상에 정공 수송층, 발광층 및 전자 수송층이 적층되어 형성된다. 이러한 수동형 ELD는 애노드전극(4)과 캐소드전극(12)에 구동신호가 인가되면 전자와 정공이 방출되고, 애노드전극(4) 및 캐소드전극(12)에서 방출된 전자와 정공은 유기발광층(10) 내에서 재결합하면서 가시광을 발생하게 된다. 이때, 발생된 가시광은 애노드전극(4)을 통하여 외부로 나오게 되어 소정의 화상 또는 영상을 표시하게 된다. A plurality of anode electrodes 4 are spaced apart at predetermined intervals on the substrate 2. On the substrate 2 on which the anode electrode 4 is formed, an insulating film (not shown) having an opening for each EL cell EL region is formed. On the insulating layer, a partition 8 for separating the organic light emitting layer 10 and the cathode electrode 12 to be formed thereon is positioned. The partition wall 8 is formed in a direction crossing the anode electrode 4 and has a reverse taper structure in which the upper end portion has a wider width than the lower end portion. On the insulating film on which the partition 8 is formed, the organic light emitting layer 10 and the cathode electrode 12 made of an organic compound are sequentially deposited on the entire surface. The organic light emitting layer 10 is formed by stacking a hole transporting layer, a light emitting layer, and an electron transporting layer on an insulating film. The passive ELD emits electrons and holes when a driving signal is applied to the anode electrode 4 and the cathode electrode 12, and the electrons and holes emitted from the anode electrode 4 and the cathode electrode 12 are organic light emitting layers 10. Recombination within) produces visible light. At this time, the generated visible light comes out through the anode electrode 4 to display a predetermined image or image.

이하, 도 2a 내지 도 2d를 참조하여 종래 유기 ELD의 제조방법에 관하여 설 명하면 다음과 같다. Hereinafter, a method of manufacturing a conventional organic ELD will be described with reference to FIGS. 2A to 2D.

먼저, 소다라임(Sodalime) 또는 경화유리를 이용하여 형성된 기판(2) 상에 금속투명도전성물질이 증착된 후 포토리쏘그래피공정과 식각공정에 의해 패터닝됨으로써 도 2a에 도시된 바와 같이 애노드전극(4)이 형성된다. 여기서, 금속물질로는 인듐-틴-옥사이드(Indium-Tin-Oxide) 또는 SnO2 등이 이용된다. First, a metal transparent conductive material is deposited on a substrate 2 formed using soda lime or hardened glass, and then patterned by a photolithography process and an etching process to thereby form the anode electrode 4 as shown in FIG. 2A. ) Is formed. Here, indium tin oxide or SnO 2 may be used as the metal material.

애노드전극(4)이 형성된 기판(2) 상에 감광성절연물질이 스핀코팅(Spin-Coating)법에 의해 코팅된 후 포토리쏘그래피공정 및 식각공정에 의해 패터닝됨으로써 발광영역이 노출되도록 절연막(미도시)이 형성된다. The photosensitive insulating material is coated on the substrate 2 on which the anode electrode 4 is formed by spin-coating, and then patterned by a photolithography and etching process to expose the light emitting region. ) Is formed.

절연막 상에 감광성유기물질이 증착된 후 포토리쏘그래피공정 및 식각공정에 의해 패터닝됨으로써 도 2b에 도시된 바와 같이 격벽(8)이 형성된다. 격벽(8)은 화소를 구분해주기 위해 다수개의 애노드전극(4)과 교차되도록 비발광영역에 형성된다. After the photosensitive organic material is deposited on the insulating layer and patterned by a photolithography process and an etching process, the partition wall 8 is formed as shown in FIG. 2B. The partition wall 8 is formed in the non-light emitting area so as to intersect the plurality of anode electrodes 4 to distinguish the pixels.

격벽(8)이 형성된 기판(2) 상에 도 2c에 도시된 바와 같이 섀도우(shadow) 마스크(미도시)를 이용하여 열증착, 진공증착 등의 방식에 의해 유기발광층(10)을 형성한다. As shown in FIG. 2C, the organic light emitting layer 10 is formed on the substrate 2 on which the partition wall 8 is formed by using a shadow mask (not shown) by thermal deposition or vacuum deposition.

유기발광층(10)이 형성된 기판(2) 상에 금속물질이 증착됨으로써 도 2d에 도시된 바와 같이 캐소드전극(12)이 형성된다. As the metal material is deposited on the substrate 2 on which the organic light emitting layer 10 is formed, the cathode electrode 12 is formed as shown in FIG. 2D.

한편, 종래의 유기발광층(10)을 형성하는 경우 격벽(8)이 형성된 기판(2) 상부에 마크스(45)가 정렬되고 마스크(45)의 투과부(46)를 통해 노출된 영역에 특정 유기발광층 예를 들어, 적색(R)을 구현하는 유기발광층(10)이 형성된다. 이후, 동 일한 마스크(45)를 순차적으로 이동시켜 녹색(G)을 구현하는 유기발광층(10) 및 청색(B)을 구현하는 유기발광층(10)을 형성한다. Meanwhile, when the organic light emitting layer 10 is formed in the related art, a specific organic light emitting layer is formed on a region where the marks 45 are aligned on the substrate 2 on which the partition wall 8 is formed and exposed through the transmission part 46 of the mask 45. For example, the organic light emitting layer 10 implementing red (R) is formed. Thereafter, the same mask 45 is sequentially moved to form the organic light emitting layer 10 implementing green (G) and the organic light emitting layer 10 implementing blue (B).

여기서, 기판(2) 상에 정렬된 마스크(45)는 마스크 홀더(미도시) 및 자석 등에 의해 고정되지만, 마스크(45)의 중심부는 중력에 의해 중력 방향으로 휘어지게 됨으로써 도 3a에 도시된 바와 같이 기판(2)의 최외각에 형성된 격벽(8)과 마스크(45) 사이에 잦은 충돌 및 마찰이 일어나게 된다. 이로써, 최외곽에 위치하는 격벽(8)이 손상됨으로써 격벽물질 및 이물(48) 등이 마스크(45)에 묻게 된다. Here, the mask 45 aligned on the substrate 2 is fixed by a mask holder (not shown), a magnet or the like, but the center of the mask 45 is bent in the direction of gravity by gravity, as shown in FIG. 3A. Likewise, frequent collisions and friction occur between the barrier 8 and the mask 45 formed at the outermost portion of the substrate 2. As a result, the barrier 8 positioned at the outermost portion is damaged, and the barrier material, the foreign matter 48, and the like are buried in the mask 45.

또한, 유기발광층(10) 형성시 유기발광물질은 격벽(8) 위에도 일부 증착되는데 최외곽 격벽(8) 위에 증착된 유기발광물질 또한 마스크(45)에 묻게 된다. 이러한 마스크(45)가 녹색(G)을 구현하는 유기발광층(10)을 형성하기 위해 도 3b에 도시된 바와 같이 마스크(45)의 투과부(46)가 녹색(G) 유기발광 영역과 대응되도록 정렬된 후 녹색(G) 유기발광층(10)을 형성하는 경우 마스크(45)에 묻어 있던 이물(48) 등이 유기발광층(10)에 떨어지게 된다. In addition, when the organic light emitting layer 10 is formed, the organic light emitting material is partially deposited on the partition 8, and the organic light emitting material deposited on the outermost partition 8 is also buried in the mask 45. In order to form the organic light emitting layer 10 in which the mask 45 implements green G, as illustrated in FIG. 3B, the transmissive part 46 of the mask 45 is aligned with the green (G) organic light emitting region. When the green (G) organic light emitting layer 10 is formed, the foreign material 48 or the like buried in the mask 45 falls on the organic light emitting layer 10.

이에 따라, 유기발광층(10)이 오염되거나 서로 다른 색을 구현하는 발광물질이 섞이는 등 유기발광층(10)이 손상 됨으로써 유기ELD발광시 화질이 불균일하는 등의 화질저하 문제가 발생된다. Accordingly, the organic light emitting layer 10 is damaged, such as the organic light emitting layer 10 is contaminated or mixed with light emitting materials that implement different colors, thereby causing a problem of deterioration in image quality such as uneven image quality during organic ELD emission.

따라서, 본 발명의 목적은 유기발광층의 손상을 방지함으로써 화질저하를 방지 할 수 있는 유기 전계발광소자 및 그 제조방법에 관한 것이다.
Accordingly, an object of the present invention relates to an organic electroluminescent device capable of preventing degradation of image quality by preventing damage to the organic light emitting layer and a method of manufacturing the same.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 유기 전계발광소자는 유기발광층을 사이에 두고 서로 교차되게 형성된 제1 및 제2 전극과; 상기 제1 및 제2 전극 중 어느 하나와 나란하게 형성된 격벽과; 상기 격벽의 바깥쪽으로 소정 거리를 두고 형성된 적어도 하나의 더미격벽을 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the organic electroluminescent device according to the present invention comprises: first and second electrodes formed to cross each other with an organic light emitting layer therebetween; Barrier ribs formed in parallel with any one of the first and second electrodes; It characterized in that it comprises at least one dummy partition formed at a predetermined distance to the outside of the partition.

상기 더미격벽은 상기 격벽과 동일 물질인 것을 특징으로 한다.The dummy partition wall is characterized in that the same material as the partition wall.

상기 더미격벽은 상기 격벽보다 높은 높이를 갖는 것을 특징으로 한다.The dummy partition wall has a height higher than that of the partition wall.

상기 더미 격벽은 무기물인 것을 특징으로 한다.The dummy partition wall is characterized in that the inorganic material.

상기 격벽과 더미격벽 사이는 비발광영역인 것을 특징으로 한다.The partition wall and the dummy partition wall is characterized in that the non-light emitting area.

본 발명에 따른 유기전계발광소자의 제조방법은 유기발광층을 사이에 두고 서로 교차되게 형성된 제1 및 제2 전극, 상기 제1 및 제2 전극 중 어느 하나와 나란하게 형성된 격벽을 포함하는 유기전계발광어레이를 형성하는 단계와; 상기 격벽의 바깥쪽으로 소정 거리를 두고 위치하는 적어도 하나의 더미격벽을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.A method of manufacturing an organic light emitting display device according to the present invention includes an organic light emitting display including a first and second electrodes formed to cross each other with an organic light emitting layer interposed therebetween, and partition walls formed side by side with any one of the first and second electrodes. Forming an array; And forming at least one dummy partition wall positioned at a predetermined distance to the outside of the partition wall.

상기 더미격벽은 상기 격벽과 동일물질로 형성되는 것을 특징으로 한다.The dummy partition wall is formed of the same material as the partition wall.

상기 더미격벽은 무기물로 형성되는 것을 특징으로 한다.The dummy partition wall is formed of an inorganic material.

상기 더미격벽은 상기 격벽보다 높은 높이로 형성되는 것을 특징으로 한다. The dummy partition wall is formed at a height higher than that of the partition wall.

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부도면을 참조한 실시 예들에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다. Other objects and features of the present invention in addition to the above object will be apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

이하, 도 4 내지 도 6d를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하기로 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 to 6D.

도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 ELD 나타내는 평면도이다. 4 is a plan view illustrating an ELD according to an embodiment of the present invention.

도 4에 도시된 유기 ELD는 기판(102) 상에 애노드전극(104)과 캐소드전극(112)이 서로 교차하는 방향으로 형성된다. The organic ELD shown in FIG. 4 is formed on the substrate 102 in a direction in which the anode electrode 104 and the cathode electrode 112 cross each other.

애노드전극(104)은 기판(102) 상에 소정간격으로 이격되어 다수개 형성된다. 이러한 애노드전극(104)이 형성된 기판(102) 상에는 EL셀(EL) 영역마다 개구부를 갖는 절연막(미도시)이 형성된다. 절연막 상에는 그 위에 형성되어질 동일색을 구현하는 유기발광층(110) 및 캐소드전극(112)의 분리를 위한 격벽(108)이 다수 형성됨과 아울러 상기 최외곽에 위치하는 격벽(108)과 소정거리를 두고 나란하게 형성되는 적어도 하나의 더미 격벽(109)이 형성된다. 여기서, 격벽(108)과 더미격벽(109) 사이 영역은 유기발광층이 위치하지 않는 비발광영역이다. A plurality of anode electrodes 104 are spaced apart at predetermined intervals on the substrate 102. On the substrate 102 on which the anode electrode 104 is formed, an insulating film (not shown) having an opening for each EL cell EL region is formed. On the insulating film, a plurality of partitions 108 for separating the organic light emitting layer 110 and the cathode electrode 112 to realize the same color to be formed thereon are formed, and at a predetermined distance from the partition 108 located at the outermost side. At least one dummy partition wall 109 is formed side by side. Here, the region between the partition 108 and the dummy partition 109 is a non-light emitting region in which the organic light emitting layer is not located.

도 5를 참조하면, 더미격벽(109)은 최외곽에 위치하는 격벽(108)의 바깥쪽에 위치함으로써 유기발광층(110) 형성시 이용되는 섀도우 마스크(145)가 최외곽에 위치하는 격벽(108)과 접촉되지 않게 하는 역할을 한다. 또한, 최외곽에 위치하는 격벽(108)과 더미격벽(109) 사이는 유기발광층(110) 형성시 마스크(145)에 의해 차단되는 비발광영역이므로 더미격벽(109) 위에는 유기발광물질이 증착되지 않게 된다. Referring to FIG. 5, the dummy partition wall 109 is located outside the partition wall 108 located at the outermost side, so that the shadow mask 145 used when the organic light emitting layer 110 is formed is located at the outermost partition wall 108. To prevent contact with In addition, since the outermost partition 108 and the dummy partition 109 is a non-light emitting area that is blocked by the mask 145 when the organic light emitting layer 110 is formed, no organic light emitting material is deposited on the dummy partition 109. Will not.

이와 같이, 마스크(145)는 최외곽에 위치하는 격벽(109)과 소정거리를 두고 위치함과 아울러 그 위에 유기발광물질이 증착되지 않는 더미격벽(109)과 접촉됨으로써 마스크(145)를 순차적으로 이동시켜 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)을 구현하는 유기발광층(110)을 각각 형성하는 경우 유기발광층(110)에 이물질 및 유기물 등이 섞이지 않게 된다. As such, the mask 145 is positioned at a predetermined distance from the outermost partition 109 and is in contact with the dummy partition 109 on which the organic light emitting material is not deposited. In the case of forming the organic light emitting layer 110 to implement red (R), green (G) and blue (B), respectively, foreign matters and organic substances are not mixed in the organic light emitting layer 110.

이로써, ELD의 화질저하를 방지할 수 있게 된다. 한편, 더미격벽(109)과 격벽(108) 사이의 영역에는 유기발광층이 형성되지 않는 비발광영역이므로 더미격벽물질이 떨어지더라도 ELD의 화질에 전혀 문제가 되지 않는다. This makes it possible to prevent deterioration of the image quality of the ELD. On the other hand, since the organic light emitting layer is not formed in the region between the dummy partition 109 and the partition 108, even if the dummy partition material falls, there is no problem in the image quality of the ELD.

격벽(108) 및 더미격벽(109)은 애노드전극(104)을 가로지르는 방향으로 형성되며, 상단부가 하단부보다 넓은 폭을 가지게 되는 역 테퍼(taper)(하부에서 상부로 갈수록 폭이 넓어지는 형상) 구조를 갖게 된다. The partition wall 108 and the dummy partition wall 109 are formed in a direction crossing the anode electrode 104, and an inverted taper having a wider upper end portion than a lower end portion (a shape that becomes wider from the lower portion to the upper portion) You have a structure.

격벽(8) 및 더미격벽(109)이 형성된 절연막 상에는 유기화합물로 구성되는 유기발광층(110)과 캐소드전극(112)이 순차적으로 전면 증착된다. 유기발광층(110)은 절연막 상에 정공 수송층, 발광층 및 전자 수송층이 적층되어 형성된다. 이러한 ELD는 애노드전극(104)과 캐소드전극(112)에 구동신호가 인가되면 전자와 정공이 방출되고, 애노드전극(104) 및 캐소드전극(112)에서 방출된 전자와 정공은 유기발광층(110) 내에서 재결합하면서 가시광을 발생하게 된다. 이때, 발생된 가시광은 애노드전극(104)을 통하여 외부로 나오게 되어 소정의 화상 또는 영상을 표시하게 된다. On the insulating film on which the barrier rib 8 and the dummy barrier rib 109 are formed, the organic light emitting layer 110 and the cathode electrode 112 made of an organic compound are sequentially deposited on the entire surface. The organic light emitting layer 110 is formed by stacking a hole transporting layer, a light emitting layer, and an electron transporting layer on an insulating film. The ELD emits electrons and holes when a driving signal is applied to the anode electrode 104 and the cathode electrode 112, and the electrons and holes emitted from the anode electrode 104 and the cathode electrode 112 are organic light emitting layers 110. Recombination in the interior will generate visible light. At this time, the generated visible light comes out through the anode electrode 104 to display a predetermined image or image.

이하, 도 6a 내지 도 6d를 참조하여 본 발명에 따른 유기 ELD의 제조방법에 관하여 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, a method of manufacturing an organic ELD according to the present invention will be described with reference to FIGS. 6A to 6D.

먼저, 소다라임(Sodalime) 또는 경화유리를 이용하여 형성된 기판(102) 상에 금속투명도전성물질이 증착된 후 포토리쏘그래피공정과 식각공정에 의해 패터닝됨으로써 도 6a에 도시된 바와 같이 애노드전극(104)이 형성된다. 여기서, 금속물질로는 인듐-틴-옥사이드(Indium-Tin-Oxide) 또는 SnO2 등이 이용된다. First, a metal transparent conductive material is deposited on a substrate 102 formed using soda lime or hardened glass, and then patterned by a photolithography process and an etching process to form an anode electrode 104 as shown in FIG. 6A. ) Is formed. Here, indium tin oxide or SnO 2 may be used as the metal material.

애노드전극(104)이 형성된 기판(102) 상에 감광성절연물질이 스핀코팅(Spin-Coating)법에 의해 코팅된 후 포토리쏘그래피공정 및 식각공정에 의해 패터닝됨으로써 발광영역이 노출되도록 절연막(미도시)이 형성된다. The photosensitive insulating material is coated on the substrate 102 on which the anode electrode 104 is formed by spin-coating, and then patterned by a photolithography process and an etching process to expose the light emitting region. ) Is formed.

절연막 상에 감광성유기물질이 증착된 후 포토리쏘그래피공정 및 식각공정에 의해 패터닝됨으로써 도 6b에 도시된 바와 같이 격벽(8) 및 더미 격벽(109)이 형성된다. 격벽(8)은 화소를 구분해주기 위해 다수개의 애노드전극(4)과 교차되도록 비발광영역에 형성되고, 더미격벽(109)은 최외곽에 위치하는 격벽(108)과 소정 간격을 두고 적어도 하나 이상 형성된다. After the photosensitive organic material is deposited on the insulating layer and patterned by a photolithography process and an etching process, the partition 8 and the dummy partition 109 are formed as shown in FIG. 6B. The partition wall 8 is formed in the non-light emitting area so as to intersect the plurality of anode electrodes 4 so as to distinguish the pixels, and the dummy partition wall 109 is at least one spaced apart from the partition wall 108 positioned at the outermost part. Is formed.

한편, 격벽(108) 및 더미격벽(109)은 순차적으로 형성될 수 도 있다. 즉, 격벽(108)이 형성된 기판(102) 상에 무기물 예를 들어, 금속이 증착된 후 패터닝됨으로써 격벽(108)과 소정거리를 두고 적어도 하나의 더미격벽(109)이 형성될 수 있다. 여기서, 더미격벽(109)은 격벽(108)보다 높은 높이로 형성될 수 도 있고, 작은 크기의 다수개의 더미격벽(109)이 무작위적으로 형성될 수 도 있다. Meanwhile, the partition 108 and the dummy partition 109 may be sequentially formed. That is, at least one dummy partition wall 109 may be formed at a predetermined distance from the partition wall 108 by patterning an inorganic material, for example, metal, on the substrate 102 on which the partition wall 108 is formed. Here, the dummy partition 109 may be formed at a height higher than that of the partition 108, or a plurality of dummy partitions 109 having a small size may be randomly formed.

격벽(108) 및 더미격벽(109)이 형성된 기판(102) 상에 도 6c에 도시된 바와 같이 섀도우(shadow) 마스크(미도시)를 이용하여 유기발광층(110)을 형성한다. 여기서, 유기발광층(110)은 격벽(108)과 더미격벽(109) 사이에는 형성되지 않게 된다. The organic light emitting layer 110 is formed on the substrate 102 on which the partition 108 and the dummy partition 109 are formed using a shadow mask (not shown) as shown in FIG. 6C. Here, the organic light emitting layer 110 is not formed between the partition 108 and the dummy partition 109.

유기발광층(110)이 형성된 기판(102) 상에 금속물질이 증착됨으로써 도 6d에 도시된 바와 같이 캐소드전극(112)이 형성된다. As the metal material is deposited on the substrate 102 on which the organic light emitting layer 110 is formed, the cathode electrode 112 is formed as shown in FIG. 6D.

이와 같이 본 발명에 따른 유기ELD 및 그 제조방법은 최외곽에 위치하는 격벽(108)과 소정 거리들 두고 형성된 적어도 하나의 더미격벽(109)을 구비한다. 이러한, 더미격벽(109)은 최외곽에 위치하는 격벽(108)의 바깥쪽에 위치함으로써 유기발광층(110) 형성시 이용되는 섀도우 마스크(145)가 최외곽에 위치하는 격벽(108)과 접촉되지 않게 하는 역할을 한다. 또한, 최외곽에 위치하는 격벽(108)과 더미격벽(109) 사이는 유기발광층(110) 형성시 마스크(145)에 의해 차단되는 비발광영역이므로 더미격벽(109) 위에는 유기발광물질이 증착되지 않게 된다. 이에 따라, 마스크(145)에는 유기발광물질 등이 묻지 않게됨으로써 마스크(145)의 순차적 이동에 의한 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 유기발광층(110) 형성시 유기발광층(110)에 이물질 및 유기물 등이 섞이는 등에 의한 유기발광층(110)의 손상을 방지할 수 있게 된다. 이로써, ELD의 화질저하를 방지할 수 있게 된다.As described above, the organic ELD and its manufacturing method according to the present invention include at least one dummy partition 109 formed at a predetermined distance from the partition 108 positioned at the outermost part. The dummy barrier rib 109 is positioned outside the barrier rib 108 located at the outermost side so that the shadow mask 145 used when forming the organic light emitting layer 110 does not come into contact with the barrier rib 108 positioned at the outermost side. It plays a role. In addition, since the outermost partition 108 and the dummy partition 109 is a non-light emitting area that is blocked by the mask 145 when the organic light emitting layer 110 is formed, no organic light emitting material is deposited on the dummy partition 109. Will not. Accordingly, the organic light emitting layer 110 is not formed on the mask 145 by forming the red (R), green (G), and blue (B) organic light emitting layers 110 due to the sequential movement of the mask 145. ), It is possible to prevent damage to the organic light emitting layer 110 due to the mixing of foreign matter and organic matter. This makes it possible to prevent deterioration of the image quality of the ELD.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 유기 전계발광소자 및 그 제조방법은 최외곽에 위치하는 격벽과 소정 거리들 두고 형성된 적어도 하나의 더미격벽을 구비한다. 이러한, 더미격벽은 유기발광층 형성시 이용되는 마스크에 의한 최외곽에 위치하는 격벽 및 유기발광층의 손상을 방지하는 역할을 한다. 이에 따라, 유기ELD의 화질저하를 방지할 수 있게 된다. As described above, the organic electroluminescent device and the method of manufacturing the same according to the present invention include at least one dummy partition formed at a predetermined distance from the partition located at the outermost part. The dummy partition wall prevents damage to the partition wall and the organic light emitting layer which are located at the outermost side by a mask used when the organic light emitting layer is formed. As a result, the deterioration of the image quality of the organic ELD can be prevented.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하 는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (9)

유기발광층을 사이에 두고 서로 교차되게 형성된 제1 및 제2 전극과; First and second electrodes formed to cross each other with the organic light emitting layer interposed therebetween; 상기 제1 및 제2 전극 중 어느 하나와 나란하게 형성된 복수의 격벽과; A plurality of partition walls formed in parallel with any one of the first and second electrodes; 상기 복수의 격벽 중 최외곽에 위치하는 격벽의 바깥쪽으로 소정 거리를 두고 형성된 적어도 하나의 더미격벽을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자. And at least one dummy barrier rib formed at a predetermined distance to an outer side of the barrier rib positioned at the outermost of the plurality of barrier ribs. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 더미격벽은 상기 격벽과 동일 물질인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자. The dummy partition wall is an organic light emitting device, characterized in that the same material as the partition wall. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 더미격벽은 상기 격벽보다 높은 높이를 갖는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자. The dummy barrier rib has a height higher than the barrier rib organic light emitting device. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 더미 격벽은 무기물인 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자. The dummy partition wall is an organic light emitting device, characterized in that the inorganic material. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 격벽과 더미격벽 사이는 비발광영역인 것을 특징으로 하는 유기전계발 광소자. The organic light emitting display device between the barrier rib and the dummy barrier rib, characterized in that the non-light emitting area. 유기발광층을 사이에 두고 서로 교차되게 형성된 제1 및 제2 전극, 상기 제1 및 제2 전극 중 어느 하나와 나란하게 형성된 복수의 격벽을 포함하는 유기전계발광어레이를 형성하는 단계와; Forming an organic light emitting array including first and second electrodes formed to cross each other with an organic light emitting layer interposed therebetween, and a plurality of partition walls formed parallel to any one of the first and second electrodes; 상기 복수의 격벽 중 최외곽에 위치하는 격벽의 바깥쪽으로 소정 거리를 두고 위치하는 적어도 하나의 더미격벽을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자의 제조방법. And forming at least one dummy partition wall positioned at a predetermined distance to an outer side of the partition wall located at the outermost part of the plurality of partition walls. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 더미격벽은 상기 격벽과 동일물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자의 제조방법. The dummy barrier rib is formed of the same material as the barrier rib manufacturing method of the organic light emitting device. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 더미격벽은 무기물로 형성되는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자의 제조방법. The dummy barrier rib is formed of an organic light emitting device, characterized in that formed. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 더미격벽은 상기 격벽보다 높은 높이로 형성되는 것을 특징으로 하는 유기전계발광소자의 제조방법. The dummy partition wall is a method of manufacturing an organic light emitting device, characterized in that formed in the height higher than the partition wall.
KR1020040031003A 2004-05-03 2004-05-03 Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof KR100592391B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040031003A KR100592391B1 (en) 2004-05-03 2004-05-03 Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040031003A KR100592391B1 (en) 2004-05-03 2004-05-03 Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050106140A KR20050106140A (en) 2005-11-09
KR100592391B1 true KR100592391B1 (en) 2006-06-22

Family

ID=37283070

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040031003A KR100592391B1 (en) 2004-05-03 2004-05-03 Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100592391B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100784545B1 (en) * 2006-05-25 2007-12-11 엘지전자 주식회사 Light Emitting Device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050106140A (en) 2005-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4803479B2 (en) Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof
US7567029B2 (en) Organic electro-luminescence display device and fabricating method thereof
KR100736580B1 (en) Mother Glass For Organic Electro Luminescence Device and Fabricating Method of Organic Electro Luminescence Device Using The Same
KR100592391B1 (en) Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof
KR20100066221A (en) Organic electroluminescence device and method for fabricating the same
US7352126B2 (en) Organic electro-luminescence display device and fabricating method thereof
KR100692841B1 (en) Masking apparatus and method for fabricating organic electro luminescence device using the same
KR100726635B1 (en) Mother Glass For Organic Electro Luminescence Device and Fabricating Method of Organic Electro Luminescence Device Using The Same
KR100627110B1 (en) Masking apparatus and method for fabricating organic electro luminescence display device using the same
KR100717332B1 (en) Organic Electro Luminescence Device And Fabricating Method Thereof
KR100583320B1 (en) Masking apparatus and method for fabricating organic electro luminescence display device using the same
KR100692863B1 (en) Organic Electro-Luminescence Display Device And Fabricating Method Thereof
KR101102022B1 (en) Masking apparatus and method for fabricating organic electro luminescence display device using the same
KR100488146B1 (en) Organic Electro Luminescence Device And Fabricating Method Thereof
KR101076432B1 (en) Masking apparatus and method for fabricating organic electro luminescence display device using the same
KR100631117B1 (en) Organic electro luminescence device and fabricating method thereof
KR100705318B1 (en) Method For Fabricating Organic Electro Luminescence Display Device
KR100705319B1 (en) Organic Electro-Luminescence Display Device And Fabricating Method Thereof
KR20050114512A (en) Organic electro luminescence display device and fabricating method thereof
KR20060041057A (en) Organic electro luminescence display device and fabricating method thereof
KR100667359B1 (en) Mother Glass and Fabricating Method of Organic Electro Luminescence Device Using The Same
KR20060034968A (en) Mother glass and fabricating method of organic electro luminescence device using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130514

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140523

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150522

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160524

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170524

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180524

Year of fee payment: 13