KR100587366B1 - 횡전계방식 액정표시장치 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 데이터 배선의 오픈을 대비해서 공정 중에 더미패턴을 형성함으로써, 보다 손쉽게 데이터 배선을 리페어 할 수 있는 횡전계방식 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공하기 위한 것으로, 본 발명의 횡전계방식 액정표시장치는 액정층을 개재하여 서로 대향되게 배치된 제 1 기판 및 제 2 기판; 상기 제 1 기판상에 종횡으로 배치된 게이트 배선 및 데이터 배선; 상기 게이트 배선과 데이터 배선에 의해 정의되는 제 1 기판상의 화소 영역내에 형성되어 횡전계를 인가하는 복수개의 공통 전극들 및 데이터 전극들; 상기 공통 전극과 일체형으로 구성되며 한 화소 영역을 정의하는 데이터 배선의 양쪽에 오버랩되는 제 1 더미 패턴과 제 2 더미 패턴을 포함하여 구성되어 데이터 배선의 오픈시, 데이터 배선과 제 1, 제 2 더미 패턴을 레이저를 이용하여 전기적으로 연결시키고, 제 1, 제 2 더미 패턴과 일체형의 공통 전극은 공통 배선과 절연시킴으로써, 별도의 리페어 라인을 형성하지 않고 손쉽게 데이터 배선의 오픈 불량을 리페어 할 수 있다.
공통 배선, 더미 패턴

Description

횡전계방식 액정표시장치 및 그 제조방법{In-plane switching mode liquid crystal display device and method for manufacturing the same}
도 1은 종래 기술에 따른 횡전계방식 액정표시장치의 평면도
도 2는 도 1의 A-A'선에 따른 단면도
도 3은 본 발명의 횡전계방식 액정표시장치의 평면도
도 4는 도 3의 A-A'선에 따른 단면도
도 5는 도 3의 B-B'선에 따른 단면도
도 6a 내지 6d는 본 발명의 횡전계방식 액정표시장치의 제조방법을 설명하기 위한 공정단면도
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
30,50 : 제 1, 제 2 기판 31 : 게이트 배선
33 : 데이터 배선 35 : 공통 배선
37 : 데이터 전극 38 : 보호막
39,39a : 제 1, 제 2 더미 패턴 41 : 공통 전극
43 : 게이트 절연막 51 : 칼라필터층
53 : 액정층
본 발명은 디스플레이 장치에 관한 것으로, 특히 데이터 배선의 단선을 리페어 할 수 있는 횡전계방식 액정표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.
디스플레이 장치중 하나인 씨알티(CRT: Cathode Ray Tube)는 텔레비젼을 비롯해서 계측기기, 정보 단말기기 등의 모니터에 주로 이용되어 왔으나, CRT자체의 무게나 크기로 인하여 전자제품의 소형화, 경량화의 요구에 적극 대응할 수가 없었다.
이러한 CRT를 대체하기 위해 경박,단소화의 장점을 갖고 있는 액정표시장치(Liquide Crystal Dispaly Device: LCD)가 활발하게 개발되어져 왔고, 최근에는 평판형 표시장치로서의 역할을 충분히 수행할 수 있을 정도로 개발되어 그 수요가 점차 증가하고 있는 추세에 있다.
통상, 저코스트 및 고성능의 박막 트랜지스터 액정표시소자(TFT-LCD)에서는 스위칭 소자로 비정질 실리콘 박막 트랜지스터를 사용하고 있으며, 현재, 액정표시소자는 VGA(Video Graphic Array; 최대 해상도는 640×480화소)에서 SVGA(800×600), XVGA(1024×768)로 고해상도를 지향하고 있다.
TFT-LCD 산업의 발전과 그 응용은 크기의 증가, 해상도의 증가에 의해 가속화되었으며, 생산성의 증가와 낮은 가격을 위해서 제조공정의 단순화 및 수율 향상의 관점에서 많은 노력이 계속되고 있다.
이러한 TFT-LCD는 현재 대면적화가 강력하게 요구되지 있는 실정이지만, 시 야각에 다른 콘트라스트비(Contrast ratio)가 변하는 문제가 있으며, 이를 해결하기 위해 광보상판이 장착된 트위스트 네마틱(Twisted nematic) 액정표시장치, 멀티 도메인(Munti domain) 액정표시장치 등과 같은 여러 가지의 액정표시장치가 제안되고 있으나, 이들 또한 시야각에 따라 콘트라스트비가 저하되고 색상이 변하는 문제를 해결하기는 아직은 힘든 실정이다.
이에, 광시야각을 실현하기 위해 기판과 평행한 전계에 의해 액정의 배열을 조절하는 횡전계방식 액정표시장치가 제안된 바 있다.
도 1은 종래 기술에 따른 횡전계방식 액정표시장치의 평면도이고, 도 2는 도 1의 A-A'선에 따른 단면도이다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 게이트 배선(1)과 데이터 배선(2)은 제 1 기판(10) 위에 종횡으로 형성되어 복수의 화소 영역을 정의한다. 참고적으로 도면은 단위 화소만을 나타낸 것이다.
공통 배선(3)은 화소내에 게이트 배선(1)과 평행하게 배열되며, 게이트 배선(1)과 데이터 배선(2)이 교차하는 부위에는 게이트 전극, 게이트 절연막, 반도체층, 소스/드레인 전극으로 구성되는 박막 트랜지스터(TFT)가 형성된다.
화소 영역내에는 데이터 전극(8)과 공통 전극(9)이 데이터 배선(2)과 평행하게 형성되며, 데이터 전극(8)은 축적 용량을 형성하기 위해 공통 배선(3) 및 공통 전극(9)과 오버랩(Overlap)되는 영역을 갖는다.
상기 공통 전극(9)은 공통 배선(3)에 연결되며, 데이터 전극(8)은 게이트 절연막(12) 위에 형성되어 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 연결된다. 그리고 박막 트랜지스터(TFT), 데이터 전극(8) 및 게이트 절연막 위에는 보호막이 형성된다.
제 2 기판(20) 상에는 칼라 필터층(21)이 형성되며, 제 1 기판(10)과 제 2 기판(20) 사이에는 액정층(22)이 형성된다.
또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 두 기판(10,20)의 외측면에는 투과하는 빛을 선편광시키는 편광자가 배치되며, 두 기판(10,20)의 내측면에는 액정층(22)과 접하도록 배향막이 형성되어 액정층(22)의 배향 방향을 조절한다.
이와 같은 종래 횡전계방식 액정표시장치의 동작을 설명하면 다음과 같다.
외부의 구동회로(미도시)로부터 전압이 인가되면, 데이터 전극(8)과 공통 전극(9) 사이에 기판(10,20)과 평행한 횡전계가 발생한다. 따라서, 액정층(22)내에 배향된 액정 분자가 상기 횡전계를 따라 기판(10, 20)에 평행한 상태에서 회전하게 되며, 그 결과 액정층(22)을 통과하는 빛의 양이 조절된다. 이때, 액정 분자가 기판(10, 20)에 평행한 상태에서 계조표시(Gray scale)가 구동되기 때문에, 시야각에 따른 광투과율의 차가 감소하게 된다.
그러나 상기와 같은 종래 횡전계방식 액정표시장치는 다음과 같은 문제점이 있었다.
즉, 공정 중의 이물질 등에 의해 데이터 배선의 오픈(Open)이 발생할 경우, 리페어(Repair)를 해주기 위해서는 리페어 라인(Repair line)을 별도의 공정으로 형성해주어야 한다.
별도의 공정으로 리페어 라인을 형성하기는 공정적으로 쉽지 않으며, 설사 리페어 라인을 형성한다 하더라도 공정이 복잡해질 뿐만 아니라, 추가적인 공정 등으로 인하여 신뢰성이 저하되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 데이터 라인의 오픈을 대비해서 공정 중에 더미패턴을 형성함으로써, 보다 손쉽게 데이터 배선을 리페어 할 수 있는 횡전계방식 액정표시장치 및 그 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 횡전계방식 액정표시장치는 액정층을 개재하여 서로 대향되게 배치된 제 1 기판 및 제 2 기판; 상기 제 1 기판상에 종횡으로 배치된 게이트 배선 및 데이터 배선; 상기 게이트 배선과 데이터 배선에 의해 정의되는 제 1 기판상의 화소 영역내에 형성되어 횡전계를 인가하는 복수개의 공통 전극들 및 데이터 전극들; 상기 공통 전극과 일체형으로 구성되며 한 화소 영역을 정의하는 데이터 배선의 양쪽에 오버랩되는 제 1 더미 패턴과 제 2 더미 패턴을 포함하여 구성되며, 본 발명의 횡전계방식 액정표시장치의 제조방법은 제 1 기판상에 복수의 게이트 배선들, 각 게이트 배선으로부터 각각 돌출된 게이트 전극들, 복수의 공통전극들, 및 상기 공통전극으로부터 돌출되는 제 1 및 제 2 더미 패턴을 형성하는 공정; 상기 게이트 배선들, 게이트 전극들, 공통전극들, 제 1 더미 패턴, 및 제 2 더미 패턴을 포함한 제 1 기판의 전면에 게이트 절연막을 형성하는 공정; 상기 제 1, 제 2 더미 패턴과 소정 부분 오버랩되도록 상기 게이트 배선과 교차하는 방향으로 데이터 배선과, 상기 공통 전극과 함께 횡전계를 인가하는 데이터 전극을 형성하는 공정; 상기 데이터 배선 및 데이터 전극을 포함한 상기 제 1 기판의 전면에 보호막을 형성하는 공정; 및 상기 제 1 기판과 대향하는 제 2 기판과의 사이에 액정층을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 그 특징으로 한다.
이와 같은 본 발명의 횡전계방식 액정표시장치는 데이터 배선의 오픈(Open) 불량을 공통 전극을 이용하여 리페어(Repair)하는 것을 특징으로 한다. 즉, 공통 전극을 패터닝할 때, 공통 전극 물질로 이루어진 더미 패턴을 데이터 배선과 오버랩되도록 동시에 형성함으로써, 데이터 배선의 오픈에 따른 신호의 절단을 상기 더미 패턴을 이용하여 바이패스(Bypass)시켜 신호의 전달 패스(Path)를 구성한다.
통상, 픽셀 단위로볼 때, 게이트 배선의 길이는 오픈(Open) 불량이 일어날 정도로 길지 않으나, 데이터 배선의 경우에는 그 길이가 길기 때문에 공정 중의 이물질 등에 의해 쉽게 오픈(Open) 불량이 발생한다.
따라서, 공통 전극과 일체형으로 구성된 더미 패턴을 통해 데이터 배선의 신호를 바이패스시켜 데이터 배선의 오픈(Open) 불량에 따른 문제를 해결하고자 하였다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 횡전계방식 액정표시장치 및 그 제조방법을 설명하기로 한다.
도 3은 본 발명의 횡전계방식 액정표시장치의 평면도이고, 도 4는 도 3의 A-A'선에 따른 단면도이다.
먼저, 도 3에 도시한 바와 같이, 제 1 기판(30) 위에 종횡으로 배치되어 복수의 화소 영역을 정의하는 게이트 배선(31) 및 데이터 배선(33)과, 상기 화소 영역내에서 상기 게이트 배선(31)과 평행하게 형성되는 공통 배선(35)과, 상기 게이트 배선(31)과 데이터 배선(33)이 교차하는 부위에 형성되는 박막 트랜지스터(TFT)와, 상기 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극과 전기적으로 연결되며 상기 데이터 배선(33)과 평행하게 형성되는 데이터 전극(37)과, 상기 공통 배선(35) 및 박막 트랜지스터(TFT)의 드레인 전극과 연결되어 상기 데이터 전극(37)과 평행하게 형성되며, 그 일부가 상기 데이터 배선(33)과 오버랩되는 제 1, 제 2 더미 패턴(39,39a)을 갖는 공통 전극(41)을 포함하여 구성된다.
여기서, 도면에 도시된 바와 같이, 데이터 배선(33)은 단위 픽셀을 정의하는 데이터 배선(33)의 길이 중 그 중앙부("가" 부분)에서 오픈(Open)되는 경우가 많다. 따라서, 상기 중앙부를 중심으로 그 양측에 각각 상기 제 1 더미 패턴(39)과 제 2 더미 패턴(39a)을 형성함으로써, 데이터 배선(33), 제 1 더미 패턴(39), 공통 전극(41), 제 2 더미 패턴(39a)으로 이루어지는 신호 전달 패스(Path)를 형성한다.
한편, 상기 데이터 전극(37)은 축적 용량을 형성하기 위해 공통 배선(35) 및 공통 전극(41)과 소정 부분 오버랩(Overlap)되는 구조를 가지며, 상기 제 1, 제 2 더미 패턴(39, 39a))과 데이터 배선(33)간의 오버랩 정도는 모델(Model)의 종류에 따른 데이터 배선(33)의 로드(load) 정도에 따라 결정한다. 참고적으로, 도3은 단위 화소만을 도시한 것이다.
이와 같은 횡전계방식 액정표시장치의 단면은 도 4 및 도 5에 도시한 바와 같다. 참고적으로 도 4는 도 3의 A-A'선에 따른 단면이고, 도 5는 B-B'선에 따른 단면이다.
즉, 제 1 기판(30) 상에는 데이터 배선(33)쪽으로 확장된 제 1 더미 패턴(39)(제 2 더미 패턴(39a)은 도시되지 않음) 및 상기 제 1 더미 패턴(39)과 일체형으로 형성된 공통 전극(41)이 형성되고, 상기 공통 전극(41)을 포함한 제 1 기판(30)의 전면에 게이트 절연막(43)이 형성되고, 상기 게이트 절연막(43)상에는 상기 제 1 더미 패턴(39)과 소정 부분 오버랩되도록 데이터 배선(33)이 형성되고, 상기 데이터 배선(33)과 소정 거리를 두고 상기 게이트 절연막(43)상에 데이터 전극(37)이 형성되고, 상기 데이터 전극(37) 및 데이터 배선(33)을 포함한 제 1 기판(30)의 전면에 보호막(38)이 형성된다.
여기서, 상기 제 1, 제 2 더미 패턴(39,39a)은 공통 전극(41)과 동일 물질로 형성되며 통상은 ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명한 도전성 물질로 형성된다. 상기 공통 전극(41)은 제 1 기판(30) 상에 게이트 전극과 동시에 형성되어 공통 배선(35)과 전기적으로 연결되며, 상기 데이터 전극(37)은 게이트 절연막(43) 상에 소스/드레인 전극과 동시에 형성되어 드레인 전극에 연결된다.
한편, 제 2 기판(50) 상에는 박막 트랜지스터(TFT), 게이트 배선(31) 및 데이터 배선(33)으로 빛이 새는 것을 방지하기 위한 차광층(도시하지 않음) 및 색 표현을 위한 칼라 필터층(51)이 형성되며, 제 1 기판(30)과 제 2 기판(50) 사이에는 액정층(53)이 형성된다. 또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 두 기판(30,50)의 외측면에는 투과하는 빛을 선편광시키는 편광자가 배치되며, 두 기판(30,50)의 내측면에는 액정층(53)과 접하도록 배향막이 형성되어 액정층(53)의 배향 방향을 조절한다.
이와 같은 본 발명의 횡전계방식 액정표시장치는 상기 데이터 배선(33)에 단선(도 3의 "가"부분)이 발생하였을 경우, 데이터 배선(33)과 제 1, 제 2 더미 패턴(39,39a)을 레이저 웰딩(raser welding)을 통해 서로 전기적으로 연결(도 3의 "나","다"부분)시킨 다음, 상기 공통 전극(41)중 공통 배선(35)과 연결되는 부위(도 3의 "라","마"부분)를 레이저 (raser)로 커팅(cutting)하여 공통 전극(41)을 공통 배선(35)과 전기적으로 절연시킨다.
따라서, 구동회로로부터 인가되는 영상신호는 데이터 배선(33), 제 1 더미 패턴(39), 공통 배선(35)과는 단절된 공통 전극(41), 제 2 더미 패턴(39a) 다시 데이터 배선(33)으로 이루어지는 패스(Path)를 통해 전달된다.
이와 같은 본 발명의 횡전계방식 액정표시장치의 제조방법을 도 6a 내지 6d를 참조하여 설명하면 다음과 같다. 참고적으로, 도 6a 내지 6d에 도시된 단면은 도 3의 A-A'선에 따른 단면이다.
먼저, 도 6a에 도시한 바와 같이, 제 1 기판(30) 상에 Al, Mo, Ta, Al합금 또는 ITO와 같은 도전성 물질을 스퍼터링(Sputtering) 방법으로 형성한 후, 포토리소그래피(Photolithography) 공정을 이용하여 게이트 배선(31), 게이트 전극, 공통 전극(41) 및 공통 배선(35)을 형성한다. 이때, 상기 공통 배선(35)은 게이트 배선(31)과 평행한 방향으로 형성하며, 상기 공통 전극(41)은 이후에 형성될 데이터 배선(33)과 소정 부분 오버랩될 수 있도록 데이터 배선(33)이 형성될 영역으로 확장되는 제 1 더미 패턴(39) 및 제 2 더미패턴(39a)(도시되지 않음)과 일체형으로 형성된다. 즉, 상기 제 1 더미 패턴(39)과 제 2 더미 패턴(39a)은 공통 전극(41)과 동일한 물질로서, 상기 포토리소그래피 공정으로 공통 전극(41)을 패터닝할 때, 동시에 패터닝한다.
이어, 도 6b에 도시한 바와 같이, 상기 전극 및 배선 위에 SiNX, SiOX, 등을 플라즈마 CVD(Plasma chemical vapor deposition) 방법으로 형성하여 게이트 절연막(43)을 형성한다.
이후, 도 6c에 도시한 바와 같이, 상기 게이트 절연막(43) 위에 Al, Cr, Ti, Al합금 등과 같은 금속을 형성한 후, 사진 식각 공정을 이용하여 상기 게이트 배선(31)과 교차하며 상기 제 1 더미 패턴(39) 및 제 2 더미 패턴(39a)과 오버랩될 수 있도록 데이터 배선(33)을 형성하고, 상기 데이터 배선(33)과 평행한 방향으로 데이터 전극(37)을 형성한다.
이어서, 도 6d에 도시한 바와 같이, 상기 데이터 배선(33) 및 데이터 전극(37)을 포함한 제 1 기판(30)의 전면에 SiNX, SiOX, 등과 같은 무기물 또는 BCB(Benzocyclobutene) 또는 아크릴(Acryl)과 같은 유기물 등으로 보호막(38)을 형성한다. 그리고 패턴이 형성된 제 2 기판(50)과의 사이에 액정층(53)을 형성하면 본 발명에 따른 횡전계방식 액정표시장치의 제조공정이 완료된다.
추가로, 상기 제 1 기판(30) 및 제 2 기판(50)에 배향막을 형성하는 것이 가능하며, 그 물질로서는 폴리아미드(Polyamide), 폴리이미드(Polyimide)계 화합물, PVA(Polyvinylalcohol), 폴리아믹산(Polyamicacid) 등의 물질을 도포하고, 러빙을 실시하여 배향방향을 결정하거나, 폴리실록산신나메이트(Polysiloxanecinnamate), 폴리비닐신나메이트(Polyvinylcinnamate) 또는 셀루로즈신나메이트(Cellulosecinnamate) 등의 광배향 물질을 도포하고, 광을 조사 하여 배향방향을 결정할 수 있다. 이때, 광 조사는 편광되거나, 편광되지 않은 빛을 1회 또는 그 이상 조사하며, 자외선이 바람직하다.
이와 같은 본 발명의 횡전계방식 액정표시장치 및 그 제조방법에 따르면, 데이터 배선(33)이 오픈(Open) 될 경우에는 상기 데이터 배선(33)과 제 1, 제 2 더미 패턴(39,39a)이 오버랩되는 부분을 레이저 웰딩(raser welding)을 통해 서로 전기적으로 연결하고, 상기 제 1, 제 2 더미 패턴(39, 39a)과 일체형으로 형성된 공통 전극(41)은 레이저 커팅을 통해 공통 배선(35)과 전기적으로 절연시킨다. 따라서, 데이터 배선(33)의 단선에 따른 신호의 패스를 데이터 배선(33)→제 1 더미 패턴(39)→공통 전극(41)(공통 배선과 전기적으로 단절된)→제 2 더미 패턴(39a)→데이터 배선(33)으로 우회시킴으로서, 데이터 배선(33)의 오픈을 리페어(Repair)한다.
이상 상술한 바와 같이, 본 발명의 횡전계방식 액정표시장치 및 그 제조방법은 데이터 배선의 오픈 불량을 리페어 하기 위해 공통 전극 형성시 상기 데이터 배선과 오버랩될 수 있도록 공통 전극과 일체형으로 구성되는 더미 패턴을 형성하여 별도의 리페어 라인을 형성하기 위한 공정을 수행하지 않고도 레이저 웰딩 및 커팅에 의해 손쉽게 데이터 배선의 오픈 불량을 리페어할 수 있다.

Claims (10)

  1. 액정층을 개재하여 서로 대향되게 배치된 제 1 기판 및 제 2 기판;
    상기 제 1 기판상에 종횡으로 배치된 게이트 배선 및 데이터 배선;
    상기 게이트 배선과 데이터 배선에 의해 정의되는 제 1 기판상의 화소 영역내에 형성되어 횡전계를 인가하는 복수개의 공통 전극들 및 데이터 전극들;
    상기 공통 전극과 일체형으로 구성되며 한 화소 영역을 정의하는 데이터 배선의 양쪽에 오버랩되는 제 1 더미 패턴과 제 2 더미 패턴을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 횡전계방식 액정표시장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 데이터 배선과 상기 제 1, 제 2 더미 패턴 사이에 형성된 게이트 절연막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 횡전계방식 액정표시장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1, 제 2 더미 패턴은 상기 공통 전극과 동일물질인 것을 특징으로 하는 횡전계방식 액정표시장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 복수개의 공통 전극들을 전기적으로 연결하기 위해 상기 화소 영역내에 상기 게이트 배선과 동일 방향으로 공통 배선을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 횡전계방식 액정표시장치.
  5. 제 2 항에 있어서,
    임의의 데이터 배선의 일부가 단선되어 있으며;
    상기 단선된 데이터 배선과 상기 제 1 더미 패턴간의 오버랩된 부분이, 레이저 웰딩을 통해, 서로 전기적으로 연결되어 있으며;
    상기 데이터 배선과 상기 제 2 더미 패턴간의 오버랩된 부분이, 레이저 웰딩을 통해 서로 전기적으로 연결되어 있으며; 그리고,
    상기 제 1 및 제 2 더미 패턴을 갖는 공통 전극이, 레이저 커팅을 통해, 상기 공통배선으로부터 전기적으로 분리된 것을 특징으로 횡전계방식 액정표시장치.
  6. 제 1 기판상에 복수의 게이트 배선들, 각 게이트 배선으로부터 각각 돌출된 게이트 전극들, 복수의 공통전극들, 및 상기 공통전극으로부터 돌출되는 제 1 및 제 2 더미 패턴을 형성하는 공정;
    상기 게이트 배선들, 게이트 전극들, 공통전극들, 제 1 더미 패턴, 및 제 2 더미 패턴을 포함한 제 1 기판의 전면에 게이트 절연막을 형성하는 공정;
    상기 제 1, 제 2 더미 패턴과 소정 부분 오버랩되도록 상기 게이트 배선과 교차하는 방향으로 데이터 배선과, 상기 공통 전극과 함께 횡전계를 인가하는 데이터 전극을 형성하는 공정;
    상기 데이터 배선 및 데이터 전극을 포함한 상기 제 1 기판의 전면에 보호막을 형성하는 공정; 및
    상기 제 1 기판과 대향하는 제 2 기판과의 사이에 액정층을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 횡전계방식 액정표시장치 제조방법.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 게이트 배선과 평행한 방향으로 상기 공통 전극과 연결되는 공통 배선을 형성하는 공정을 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 횡전계방식 액정표시장치 제조방법.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 데이터 배선이 단선된 경우,
    상기 단선된 데이터 배선과 상기 제 1 더미 패턴간의 오버랩된 부분을, 레이저 웰딩을 통해, 서로 전기적으로 연결하는 단계;
    상기 데이터 배선과 상기 제 2 더미 패턴간의 오버랩된 부분을, 레이저 웰딩을 통해, 서로 전기적으로 연결하는 단계; 그리고,
    상기 제 1 및 제 2 더미 패턴을 갖는 공통 전극을, 레이저 커팅을 통해, 상기 공통배선으로부터 전기적으로 분리하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 횡전계방식 액정표시장치의 제조방법.
  9. 제 6 항에 있어서, 상기 공통 전극과 상기 제 1, 제 2 더미 패턴은 ITO로 형성하는 것을 특징으로 하는 횡전계방식 액정표시장치 제조방법.
  10. 제 1 항에 있어서, 상기 공통 전극과 상기 제 1, 제 2 더미 패턴은 ITO로 형성하는 것을 특징으로 하는 횡전계방식 액정표시장치.
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