KR100467677B1 - Graphite Pattern Formation Method of Field Emission Display Device - Google Patents
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Abstract
목적 : 본 발명은 감광성 포토레지스트 흑연 슬러리를 사용하여 도포 건조 공정을 감축시켜 제조공정에서의 생산성을 향상시킬 수 있는 전계 방출 표시소자의 흑연 패턴 형성 방법을 제공함에 그 목적이 있다.Disclosure of the Invention The object of the present invention is to provide a method for forming a graphite pattern of a field emission display device which can reduce the coating drying process by using a photosensitive photoresist graphite slurry to improve productivity in the manufacturing process.
구성 : 본 발명은 하이드록시 에틸 아크릴레이트(HEA)를 기저로 하여 공중합된 고분자 및 비스아지도(bisazido)계 감광제를 포함하는 감광성 포토레지스트 흑연 슬러리를 사용하여 흑연 패턴을 형성한다. 여기서, 비스아지도계 감광제는 4.4'- 디아지도스틸벤- 2,2'-디설포닉애시드 소디움염 [4.4'- diazldostilbene- 2,2'-disulfonic acid sodium salt], 2,5- 비스(4'- 아지도- 2'- 설포벤질리덴) 사이클로펜타논 이나트륨염 [2,5- bis(4'- azido- 2'- sulfobenzylidene) cyclopentanone disodium], 3,3'- 디아미노벤질리덴 4염산염 [3,3'- diamino benzylidene tetrahydrochloride] 이다.Composition: The present invention forms a graphite pattern using a photosensitive photoresist graphite slurry containing a polymer copolymerized on the basis of hydroxy ethyl acrylate (HEA) and a bisazido-based photosensitive agent. Here, the bisazido-based photoresist is 4.4'- diadozistilben-2,2'- disulfonic acid sodium salt [4.4'- diazldostilbene-2,2'-disulfonic acid sodium salt], 2,5-bis (4 ' Azido-2'- sulfobenzylidene) cyclopentanone disodium salt [2,5-bis (4'-azido- 2'- sulfobenzylidene) cyclopentanone disodium], 3,3'- diaminobenzylidene tetrahydrochloride [ 3,3'-diamino benzylidene tetrahydrochloride].
효과 : 본 발명은 HEA 고분자 및 비스아지도계 감광제를 함유하는 감광성 포토레지스트 흑연 슬러리를 사용함으로써 도포 건조 공정이 감축되어 제조공정에서의 생산성을 향상시킬 수 있다.Effect: According to the present invention, by using a photosensitive photoresist graphite slurry containing a HEA polymer and a bisazido-based photosensitive agent, the coating drying process can be reduced, thereby improving productivity in the manufacturing process.
Description
본 발명은 전계 방출 표시소자(Field Emission Display : FED)의 흑연 패턴 형성방법에 관한 것으로, 특히 감광성 포토레지스트 흑연 슬러리를 사용하여 도포 건조 공정을 감축시켜 제조공정에서의 생산성을 향상시킬 수 있는 전계 방출 표시소자의 흑연 패턴 형성 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of forming a graphite pattern of a field emission display (FED), and in particular, to reduce the coating drying process using a photosensitive photoresist graphite slurry to improve productivity in the manufacturing process. The present invention relates to a graphite pattern forming method of a display element.
전계 방출 표시소자는 상호 대향 배치되어 기밀 밀봉되는 글라스 사이로 음극과 형광체가 각각 일정의 패턴을 이루어 대향하는 구조로 되어 있으며, 이러한 구성에서 상기 양극과 음극의 방출면 사이를 높은 전압 구배로 하면 쇼트키 효과에 의한 직접 전자 방출이 일어나고, 이렇게 방출된 전자가 형광체를 여기(勵起)시켜 빛을 발하는 영상표시소자이다.The field emission display device has a structure in which a cathode and a phosphor are formed to face each other between glass which is disposed to face each other and is hermetically sealed, and in such a configuration, when a high voltage gradient is formed between the emission surface of the anode and the cathode, the Schottky The direct electron emission is caused by the effect, and the electrons thus emitted excite the phosphor to emit light.
이와 같이 음극에서 전자를 방출시키고 이를 형광체에 입사하여 발광을 이루는 전계 방출 표시소자는 기존의 음극선관(Cathode Ray Tube)과 유사한 특징을 가지고 있고, 특히 음극선관의 화질에 가장 근접할 수 있는 평판표시소자로서 대화면용 표시소자에 적합할 뿐만 아니라 전력소비가 작고 양질의 화상을 얻을 수 있는 이점을 가지고 있다.As such, the field emission display device that emits electrons from the cathode and emits light by incident on the phosphor has characteristics similar to those of a conventional cathode ray tube, and particularly, a flat panel display that is closest to the image quality of the cathode ray tube. As an element, it is not only suitable for a large screen display element, but also has an advantage of achieving a low power consumption and high quality images.
도 1은 종래의 전계 방출 표시소자의 구성을 나타내는 측단면도이다. 1 is a side cross-sectional view showing the configuration of a conventional field emission display device.
전면글라스(20)와 기판글라스(22)는 인슐레이터(24)에 의해 그 판 면이 소정의 패턴을 이루도록 다수 구획되어 있고, 이들 인슐레이터(24) 사이의 공간으로는 각각 대응하는 양전극(26)과 음전극(28)이 적층 형성되어 있다. The front glass 20 and the substrate glass 22 are divided by the insulator 24 so that the plate surface forms a predetermined pattern. The space between the insulators 24 corresponds to the positive electrode 26 and the corresponding positive electrode 26, respectively. The negative electrode 28 is laminated.
상기 전면글라스(20)의 양전극(26)은 ITO 또는 은 페이스트에 의해 적층 배열되는 것이며, 그 상면에는 형광체(30)가 적층되어 있어서 상기 음전극(28)으로부터 방사되는 전자 비임이 양전극(26)으로 랜딩될 때에 여기되면서 빛을 발하게 된다. 이렇게 하여 발생되는 빛이 모여서 화상을 현출하게 되는 것이며, 따라서 상기 형광체(30)는 음극선관의 경우와 대동소이하게 소정의 칼라 패턴으로 배열되어 있다.The positive electrode 26 of the front glass 20 is laminated by ITO or silver paste, and a phosphor 30 is stacked on the upper surface thereof, and an electron beam radiated from the negative electrode 28 is transferred to the positive electrode 26. It is excited to shine upon landing. The light generated in this way is collected to display an image. Therefore, the phosphors 30 are arranged in a predetermined color pattern similarly to the case of a cathode ray tube.
이와 같은 구성으로 된 전계 방출 표시소자에 있어서, 전자에 의하여 발광되어 화상을 현출하는 형광체(30)가 도포 형성되어 있는 전면글라스(20)에는 상기 형광체(30)의 주변에 생기는 간섭광을 흡수하기 위한 블랙 매트릭스를 형성하고 있으며, 이 블랙 매트릭스의 간섭광 흡수 작용으로 화면상의 콘트라스트 및 색순도가 향상된다.In the field emission display device having such a configuration, the front glass 20 coated with the phosphor 30 which emits light by electrons and displays an image absorbs interference light generated around the phosphor 30. A black matrix is formed, and the contrast and color purity on the screen are improved by the interference light absorption action of the black matrix.
블랙 매트릭스 성형공정은 에멀젼상의 흑연과 감광성 수지를 혼합한 블랙 매트릭스 슬러리를 전면 글라스(20)의 내측면에 도포하고 소정의 패턴을 가진 마스크를 통해 노광한 다음 현상하여 비노광부를 제외한 노광부가 세정되게 함으로써 형성된다.In the black matrix forming process, a black matrix slurry containing an emulsion of graphite and a photosensitive resin is applied to the inner surface of the front glass 20, exposed through a mask having a predetermined pattern, and then developed to clean an exposed portion except for the non-exposed portion. It is formed by.
이러한 블랙 매트릭스 성형 공정에서 노광부의 제거는 황산 등을 사용하여 행하고 있으며, 이에 따라 블랙 매트릭스 슬러리의 도포 건조 과정이 2 단계로 되어 그 생산성이 떨어진다.In the black matrix forming step, the exposed portion is removed using sulfuric acid or the like. As a result, the application drying process of the black matrix slurry is performed in two stages, and the productivity is lowered.
따라서, 본 발명은 블랙 매트릭스 성형의 도포 건조 공정을 감축시켜 제조공정에서의 생산성을 향상시킬 수 있는 전계 방출 표시소자의 흑연 패턴 형성 방법을 제공함에 그 목적이 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for forming a graphite pattern of a field emission display device capable of reducing the coating drying process of black matrix molding to improve productivity in the manufacturing process.
상기의 목적을 실현하기 위하여, 본 발명은 하이드록시 에틸 아크릴레이트(HEA)를 기저로 하여 공중합된 고분자 및 비스아지도(bisazido)계 감광제를 포함하는 감광성 포토레지스트 흑연 슬러리를 사용하여 흑연 패턴을 형성한다.In order to realize the above object, the present invention is to form a graphite pattern using a photosensitive photoresist graphite slurry containing a polymer copolymerized on the basis of hydroxy ethyl acrylate (HEA) and a bisazido-based photosensitive agent do.
여기서, 비스아지도계 감광제로는 4.4'- 디아지도스틸벤- 2,2'-디설포닉애시드 소디움염 [4.4'- diazldostilbene- 2,2'-disulfonic acid sodium salt : 이하 “DAS”라 함], 2,5- 비스(4'- 아지도- 2'- 설포벤질리덴) 사이클로펜타논 이나트륨염 [2,5- bis(4'- azido- 2'- sulfobenzylidene) cyclopentanone disodium : 이하 “DAP”라 함], 3,3'- 디아미노벤질리덴 4염산염 [3,3'- diamino benzylidene tetrahydrochloride : 이하 “DAB”라 함]을 사용한다.Here, as the bisazido-based photosensitizer, 4.4'-diazidostilbene-2,2'-disulfonic acid sodium salt [4.4'-diazldostilbene-2,2'-disulfonic acid sodium salt: hereinafter referred to as "DAS"], 2,5-bis (4'-azido-2'- sulfobenzylidene) cyclopentanone disodium salt [2,5-bis (4'-azido-2'- sulfobenzylidene) cyclopentanone disodium: "DAP" ], 3,3'- diaminobenzylidene tetrahydrochloride [3,3'- diamino benzylidene tetrahydrochloride (hereinafter referred to as "DAB") is used.
또, 고분자 화합물은 하이드록시 에틸 아크릴레이트를 기저(基底)로 하여 디메틸 아크릴아마이드, 아크릴아마이드, 비닐 아세테이트, 비닐 실란, 비닐피롤리돈 중에서 선택된 어느 하나의 모노머를 공중합하여 얻어지며, 이러한 모노머들은 비스아지도계 감광제에 적합하도록 강도 조절 및 현상성을 변화시키기 위하여 사용된다. 이 때 중합에 필요한 개시제를 첨가하며, 이러한 개시제로는 일본 와코화학 제품의 VA - 061 [2,2'-아조비스[2-(2-이리다졸린-2-릴)프로판]]을 사용할 수 있다.In addition, the polymer compound is obtained by copolymerizing any monomer selected from dimethyl acrylamide, acrylamide, vinyl acetate, vinyl silane, and vinylpyrrolidone based on hydroxy ethyl acrylate. It is used to change the strength control and developability to be suitable for azido-based photoresist. At this time, an initiator necessary for polymerization is added, and as such an initiator, VA-061 [2,2'-azobis [2- (2-iridazolin-2-yl) propane], available from Wako Chemical, Japan, can be used. have.
상기 흑연 슬러리에는 흑연의 분산성을 더욱 향상시키기 위하여 GR 5M (롬 앤드 하스사 제품명 : 소디움 디옥틸설포석시네이트)를 첨가할 수 있다. GR 5M (product name: Sodium Dioctylsulfosuccinate) may be added to the graphite slurry in order to further improve the dispersibility of graphite.
여기서, 상기 비스아지도계 감광제는 1 ∼ 20 wt%, 특히 바람직하기로는 1 ∼ 15 wt% 이고, 상기 고분자화합물은 20 ∼ 40 wt%, 특히 바람직하기로는 30 ∼ 40wt% 이다.Here, the bisazido-based photosensitive agent is 1 to 20 wt%, particularly preferably 1 to 15 wt%, and the high molecular compound is 20 to 40 wt%, particularly preferably 30 to 40 wt%.
이하, 본 발명을 바람직한 실시예에 따라 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail according to a preferred embodiment.
실시예 1Example 1
하이드록시 에틸 아크릴레이트 50 g, 아크릴아마이드 10 g, 순수 939.6 g 및 VA 061 0.4 g을 첨가하여 교반한 후, 이것을 사구 플라스크에 담아 온도 조절장치와 질소 주입장치를 설치하여 59 ℃에서 3시간 반응시킨다.50 g of hydroxy ethyl acrylate, 10 g of acrylamide, 939.6 g of pure water, and 0.4 g of VA 061 were added to the mixture, followed by stirring. The mixture was placed in a four-necked flask, and a temperature controller and a nitrogen injector were installed and reacted at 59 ° C. for 3 hours. .
실온 냉각하여 6 wt%의 공중합체가 얻어졌고 점도는 180 cps 이다.Cooling to room temperature yielded 6 wt% of copolymer with a viscosity of 180 cps.
실시예 2Example 2
실시에 1에서 아크릴아마이드 대신에 디메틸아크릴아마이드 30 g 을 사용하여, 실시에 1과 동일한 방법으로 실시하여 6wt%의 공중합체가 얻어졌고 점도는 150 cps 이다.In Example 1, using 30 g of dimethylacrylamide instead of acrylamide, the copolymer was obtained in the same manner as in Example 1 to obtain 6 wt% of a copolymer with a viscosity of 150 cps.
실시예 3Example 3
실시예 1에서 얻어진 6 wt% HEA 고분자 100 g, 3 % DAS 30 g, 5 % GR 5M 2 g, 흑연 40 g, 순수 108 g을 함유하는 감광성 흑연 슬러리를 전면글라스에 스핀 코팅하여 건조하고, 노광 현상하여 흑연 패턴을 형성하였다. A photosensitive graphite slurry containing 100 g of 6 wt% HEA polymer obtained in Example 1, 30 g of 3% DAS, 2 g of 5% GR 5M, 40 g of graphite, and 108 g of pure water was spin-coated onto the front glass, and dried. It was developed to form a graphite pattern.
실시예 4Example 4
실시예 2에서 얻어진 6 wt% HEA 고분자 100 g, 3 % DAS 30 g, 5 % GR 5M 2 g, 흑연 40 g, 순수 108 g을 함유하는 감광성 흑연 슬러리를 전면글라스에 스핀 코팅하여 건조하고, 노광 현상하여 흑연 패턴을 형성하였다.A photosensitive graphite slurry containing 100 g of 6 wt% HEA polymer obtained in Example 2, 30 g of 3% DAS, 5 g GR 5M 2 g, 40 g of graphite, and 108 g of pure water was spin-coated onto the front glass, and dried. It was developed to form a graphite pattern.
이상에서 설명된 구성 및 작용을 통하여 알 수 있는 바와 같이, 본 발명은 HEA 고분자 및 비스아지도계 감광제를 함유하는 감광성 포토레지스트 흑연 슬러리를 사용함에 따라 도포 건조 공정이 감축되어 제조공정에서의 생산성을 향상시킬 수 있는 것이다.As can be seen from the above-described configuration and operation, the present invention is reduced by the drying process of the photosensitive photoresist graphite slurry containing the HEA polymer and bisazido-based photosensitive agent to improve the productivity in the manufacturing process It can be done.
도 1은 전계 방출 표시소자의 구조를 도시하는 측단면도.1 is a side cross-sectional view showing the structure of a field emission display device;
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| KR20000033222A KR20000033222A (en) | 2000-06-15 |
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| KR10-1998-0049990A KR100467677B1 (en) | 1998-11-20 | 1998-11-20 | Graphite Pattern Formation Method of Field Emission Display Device |
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| KR (1) | KR100467677B1 (en) |
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| KR19990015850A (en) * | 1997-08-11 | 1999-03-05 | 손욱 | Triode type field emission display device |
-
1998
- 1998-11-20 KR KR10-1998-0049990A patent/KR100467677B1/en not_active IP Right Cessation
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| KR20000033222A (en) | 2000-06-15 |
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