KR100394775B1 - 와이어본딩 방법 및 이를 이용한 반도체패키지 - Google Patents

와이어본딩 방법 및 이를 이용한 반도체패키지 Download PDF

Info

Publication number
KR100394775B1
KR100394775B1 KR10-2000-0076328A KR20000076328A KR100394775B1 KR 100394775 B1 KR100394775 B1 KR 100394775B1 KR 20000076328 A KR20000076328 A KR 20000076328A KR 100394775 B1 KR100394775 B1 KR 100394775B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
semiconductor chip
input
wire
circuit
circuit pattern
Prior art date
Application number
KR10-2000-0076328A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20020047746A (ko
Inventor
조영윤
Original Assignee
앰코 테크놀로지 코리아 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 filed Critical 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사
Priority to KR10-2000-0076328A priority Critical patent/KR100394775B1/ko
Publication of KR20020047746A publication Critical patent/KR20020047746A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100394775B1 publication Critical patent/KR100394775B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/60Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05553Shape in top view being rectangular
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32135Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
    • H01L2224/32145Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
    • H01L2224/48465Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • H01L2224/7825Means for applying energy, e.g. heating means
    • H01L2224/783Means for applying energy, e.g. heating means by means of pressure
    • H01L2224/78301Capillary
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/8512Aligning
    • H01L2224/85148Aligning involving movement of a part of the bonding apparatus
    • H01L2224/85169Aligning involving movement of a part of the bonding apparatus being the upper part of the bonding apparatus, i.e. bonding head, e.g. capillary or wedge
    • H01L2224/8518Translational movements
    • H01L2224/85181Translational movements connecting first on the semiconductor or solid-state body, i.e. on-chip, regular stitch
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1015Shape
    • H01L2924/1016Shape being a cuboid
    • H01L2924/10162Shape being a cuboid with a square active surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

이 발명은 와이어본딩 방법 및 이를 이용한 반도체패키지에 관한 것으로, 반도체칩이 수직방향으로 다수개로 적층되어 탑 와이어와 바텀 와이어의 접속에 의해 상호 신호 교환이 이루어지는 반도체 패키지에서 상기 탑 와이어와 바터 와이어의 갭을 최대한 확보할 수 있도록, 회로기판의 중앙부에 각각 다수의 입출력 패드가 구비된 제 1 반도체 칩과 제 2 반도체칩이 차례로 수직방향으로 적층형성되고, 상기 반도체 칩 외주연에 다수의 본드 핑거가 형성된 회로 패턴이 형성되어 상기 제 1 반도체 칩과 제 2 반도체 칩의 입출력 패드와 상기 회로패턴의 본드 핑거를 도전성 와이어로 본딩하여 상호 신호 교환이 이루어지도록 도전성와이어로 본딩하는 방법에 있어서, 상기 하부쪽의 제 1 반도체 칩의 입출력패드와 회로 패턴을 접속하는 바텀 와이어가 상부쪽의 제 2 반도체 칩의 입출력 패드와 회로 패턴을 접속하는 탑 와이어 보다 두께가 얇게 형성시키는 것을 특징으로 한다.

Description

와이어본딩 방법 및 이를 이용한 반도체패키지{wire bonding method and semiconductor package using it}
본 발명은 와이어본딩 방법 및 이를 이용한 반도체패키지에 관한 것으로, 더욱 상세하게 설명하면 반도체칩이 수직방향으로 다수개로 적층되어 탑 와이와 바텀 와이어의 접속에 의해 상호 신호 교환이 이루어지는 반도체 패키지에서 상기 탑 와이어와 바터 와이어의 갭을 최대한 확보하는 것에 의해, 몰딩 공정시 스위핑에 의한 와이어 쇼트를 방지할 수 있는 와이어 본딩 방법 및 이를 이용한 반도체 패키지에 관한 것이다.
통상 인쇄회로기판, 리드프레임 또는 써킷필름(이하 인쇄회로기판에 한하여 설명함) 등에 다수의 반도체칩이 적층되어(이를 Multi Chip Module이라고도 함) 봉지재로 봉지된 반도체패키지를 적층형 반도체패키지, 또는 MCM(Multi Chip Module)이라고 한다.
이러한 반도체패키지는 통상 봉지재 내측의 적층형성된 반도체칩이 인쇄회로기판의 회로패턴에 탑 와이어(상부쪽의 와이어) 및 바텀 와이어(하부쪽의 와이어)로 연결되어 있다.
이러한 반도체패키지중에서 인쇄회로기판(20)을 이용한 적층형 반도체패키지(100') 및 봉지되기 전의 상태를 도1a 및 도1b에 도시하였다.
도1a 및 도1b에 도시된 바와 같이 상면에 다수의 열(예를 들면 2열)로 입출력패드(2a)가 구비된 제1반도체칩(2)이 구비되어 있고, 상기 제1반도체칩(2)의 상면에는 역시 다수의 입출력패드(4a)가 구비된 제2반도체칩(4)이 접착수단(6)으로 접착되어 있다.
상기 제1반도체칩(2)의 저면에는 접착수단(6)으로 인쇄회로기판(20)이 접착되어 있다.
주지된 바와 같이 상기 인쇄회로기판(20)은 수지층(22)을 중심으로 그 상,하면에 다수의 회로패턴(24)이 형성되어 있다. 즉, 상기 제1반도체칩(2)을 중심으로 그 외주연에 다수의 본드핑거(24a)를 포함하는 회로패턴(24)이 방사상으로 형성되어 있고, 상기 회로패턴(24)은 비어홀(25)을 통하여 수지층(22) 저면의 볼랜드(24b)를 포함하는 회로패턴(24)에 연결되어 있다. 상기 수지층(22) 상면에는 상기 본드핑거(24a)를 제외한 회로패턴(24)이 커버코트(26) 등으로 코팅되어 있고, 상기 수지층(22) 저면의 볼랜드(24b)를 제외한 회로패턴(24) 역시 커버코트(26) 등으로 코팅되어 있다. 상기 제1반도체칩(2)은 바텀 와이어(8b)에 의해 인쇄회로기판(20)의 본드핑거(24a)에 전기적으로 접속되어 있고, 상기 제2반도체칩(4)의 입출력패드(4a)는 다른 도전성와이어 즉, 탑 와이어 (8a)에 의해 인쇄회로기판(20)의 다른 본드핑거(24a)에 전기적으로 접속되어 있다.
참고로, 상기와 같이 제1반도체칩(2)과 제2반도체칩(4)을 연결하는 도전성와이어(8a,8b)는 주로 접지용 또는 파워용이다.
한편, 상기 제1반도체칩(2), 제2반도체칩(4) 및 탑 와이어, 바텀 도전성와이어(8a,8b) 등은 외부 환경으로부터 보호되도록 봉지재(30)로 봉지되어 있다.
또한, 상기 인쇄회로기판(20) 저면의 볼랜드(24b)에도 도전성볼(40)이 융착되어 입출력 단자로 사용될 수 있도록 되어 있다.
하지만, 종래에는 상기와 같은 적층형 반도체 패키지에 있어서는, 상기 탑 와이어(8a)와 바텀 와이어(8b)사이의 갭(gab)이 충분히 확보가 되지 않아서,몰딩시 용융수지충진압에 의해 상기 도전성 와이어의 스위핑(sweeping) 불량의 발생가능성이 증가되고, 이에 의해 와이어가 쇼트될 우려가 있다.
따라서 본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 본 발명의 목적은 반도체칩이 수직방향으로 다수개로 적층되어 탑 와이와 바텀 와이어의 접속에 의해 상호 신호 교환이 이루어지는 반도체 패키지에서 상기 탑 와이어를 바텀 와이어 보다 강성이 크고 두께를 뚜껍게 형성하여 상기 탑 와이어와 바텀 와이어의 갭을 최대한 확보하는 것에 의해, 몰딩 공정시 스위핑에 의한 와이어 쇼트를 방지할 수 있는 와이어 본딩 방법 및 이를 이용한 반도체 패키지의 제공에 있다.
도1a 및 도1b는 종래 반도체칩과 반도체칩이 도전성와이어로 본딩되어 봉지된 반도체패키지의 일례를 도시한 단면도 및 봉지되기 전의 상태를 도시한 평면도이다.
도2a 내지 도2c는 본 발명에 와이어본딩 방법을 도시한 설명도이다.
도3a 및 도 3b는 본 발명에 의한 와이어본딩 방법이 적용된 반도체패키지의 일례와 봉지되기 전의 패키지의 상태를 도시한 평면도이다.
- 도면중 주요 부호에 대한 설명 -
100; 본 발명에 의한 반도체패키지
2; 제1반도체칩 2a,4a; 제1반도체칩의 입출력패드
4; 제2반도체칩 6; 접착수단
8a,8b; 탑 와이어, 바텀 와이어 20; 인쇄회로기판
22; 수지층 24; 회로패턴
24a; 본드핑거 24b; 볼랜드
25; 비어홀 26; 커버코트
30; 봉지재 40; 도전성볼
50; 캐필러리
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 와이어 본딩방법은 회로기판의 중앙부에 각각 다수의 입출력 패드가 구비된 제 1 반도체 칩과 제 2 반도체칩이 차례로 수직방향으로 적층형성되고, 상기 반도체 칩 외주연에 다수의 회로 패턴이 형성되어 상기 제 1 반도체 칩과 제 2 반도체 칩의 입출력 패드와 상기 회로패턴을 도전성 와이어로 본딩하여 상호 신호 교환이 이루어지도록 도전성와이어로 본딩하는 방법에 있어서, 상기 하부쪽의 제 1 반도체 칩의 입출력패드와 회로 패턴을 접속하는 바텀 와이어가 상부쪽의 제 2 반도체 칩의 입출력 패드와 회로 패턴을 접속하는 탑 와이어 보다 두께가 얇게 형성시키는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 와이어 본딩 방법에 있엇, 상기 바텀 와이어의 두께는 바람직하게는 1.0 mil 이하이고. 상기 탑 와이어의 두께는 1.2 mil 이상인 것이 바람직하다.
또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 패키지는 수직 방향으로 차례로 적층형성되는 각각 다수의 입출력 패드가 구비된 제 1 반도체 칩과 제 2 반도체칩과; 상기 제 1반도체 칩의 저면에 접착수단으로 접착되어 있되, 수지층을 중심으로 상기 적층형성된 제 1 반도체칩 및 제 2 반도체 칩의 외주연에 다수의 회로패턴이 형성되어 있으며, 상기 수지층의 상면 또는 저면에는 상기 회로패턴과 연결된 다수의 볼랜드를 포함하여 이루어진 회로기판과;상기 제1반도체칩의 입출력패드와 상기 회로 패턴을 전기적으로 접속시키는 바텀와이어 및 상기 제2반도체칩의 입출력패드와 상기 회로패턴을 전기적으로 접속시키는 탑 와이어와; 상기 제1반도체칩, 제2반도체칩, 도전성와이어 등을 외부환경으로부터 보호하기 위해 감싸는 봉지재와; 상기 회로기판의 볼랜드에 융착된 다수의 도전성볼을 포함하여 이루어지되, 상기 하부쪽의 제 1 반도체 칩의 입출력패드와 회로 패턴을 접속하는 바텀 와이어가 상부쪽의 제 2 반도체 칩의 입출력 패드와 회로 패턴을 접속하는 탑 와이어 보다 두께가 얇게 형성시키는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 반도체 패키지에 있어, 상기 바텀 와이어의 두께는 1.0 mil이하이고. 상기 탑 와이어의 두께는 1.2 mil 이상인 것이 바람직하다.
이하 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.
도2a 내지 도2c는 본 발명에 의한 와이어 본딩 방법의 일례를 도시한 설명도이다.
먼저, 회로기판상에 다수의 반도체칩이 적층된 반도체패키지 자재(또는 평면상에 다수의 반도체칩이 분포된 반도체패키지 자재)를 구비하되, 상기 반도체칩의 외주연에는 다수의 본더 핑거(24a)가 형성된 회로패턴이 구비된 회로기판을 구비한다. 여기서 상기 반도체칩은 편의상 제1반도체칩(2) 및 제2반도체칩(4)으로 구분한다.
다음, 와이어본더(도시되지 않음)의 캐필러리(50)를 이용하여 제1반도체칩(2)의 입출력패드(2a)에 대략 1.0 mil 이하의 얇은 두께를 갖는 바텀 와이어(8b)의 일단을 본딩한 후 타단을 본드 핑거(24a)에 본딩한다.(도2a)
계속해서, 대략 1.2 mil 이상의 비교적 두꺼운 두께를 갖는 탑 와이어(8a)의 일단을 제2반도체칩(4)의 입출력패드(4a)에 본딩한 후 타단을 상기 다른 본드 핑거(24a)에 본딩한다.(도2b)
따라서, 제1반도체칩(2) 및 제2반도체칩(4))의 전기적 신호는 각각 탑 및 바텀 와이어(8a)(8b)를 통해 회로패턴으로 전달된다.
여기서, 본 발명에서는 바텀 와이어(8b)부터 본딩하고 그 후, 탑 와이어(8a)를 본딩하였으나, 그 순서를 바꾸어도 무방하다.
도3a 및 도 3b는 본 발명에 의한 와이어본딩 방법이 적용된 반도체패키지(100)의 일례와 봉지되기 전의 반도체 패키지의 상태를 도시한 평면도이다.
먼저 상면에 다수의 열로 입출력패드(2a)가 형성된 제1반도체칩(2)이 구비되어 있다. 상기 제1반도체칩(2)의 상면에는 역시 상부에 입출력패드(4a)가 형성된 제2반도체칩(4)이 접착수단(6)으로 접착되어 있다.
상기 제1반도체칩(2)의 저면에는 접착수단(6)으로 회로기판(20)이 접착되어 있다. 상기 회로기판(20)은 주지된 바와 같이 수지층(22)을 중심으로 상기 제1반도체칩(2)의 외주연에 본드핑거(24a)를 포함하는 다수의 도전성 회로패턴(24)이 방사상으로 형성되어 있다. 또한 상기 수지층(22) 저면에는 볼랜드(24b)를 포함하는 다수의 도전성 회로패턴(24)이 형성되어 있다. 상기 본드핑거(24a)에는 차후 도전성 와이어와의 본딩력을 향상시키기 위해 은(Ag) 또는 금(Au)이 도금되어 있고, 상기 볼랜드(24b)에는 차후 도전성볼(40)과의 융착력을 향상시키기 위해 은(Ag), 니켈(Ni) 및 팔라디엄(Pd) 등이 도금되어 있다. 또한, 상기 본드핑거(24a) 및 볼랜드(24b)를 포함하는 회로패턴(24)은 구리(Cu) 또는 얼로이(alloy) 42 등으로 형성되어 있다. 또한, 상기 본드핑거(24a) 및 볼랜드(24b)를 제외한 회로패턴(24)은 커버코트(26) 등으로 코팅되어 외부 환경으로부터 보호되도록 되어 있다.
여기서, 상기 본드핑거(24a)를 포함하는 회로패턴(24)과 볼랜드(24b)를 포함하는 회로패턴(24)은 수지층(22)을 관통하는 도전성 비어홀(25)에 의해 상호 연결되어 있다.
계속해서, 상기 제1반도체칩(2)의 입출력패드(2a)와 상기 본드 핑거(24a)는 대략 1.0 mil 이하의 비교적 작은 두께를 갖는 바텀 와이어(8b)에 의해 상호 전기적으로 접속되어 있다. 또한, 상기 제2반도체칩(4)의 입출력패드(2a,4a)는 대략 1.2 mil 이상의 상기 바텀 와이어보다는 두꺼운 두께를 갖는 탑 와이어(8a)에 의해 본드핑거(24a)에 접속되어 있다.
계속해서, 상기 제1반도체칩(2), 제2반도체칩(4) 및 다수의 탑 및 바텀 와이어(8a,8b)와 본드핑거(24a) 등을 포함하는 회로기판(20)의 일면은 에폭시 몰딩 컴파운드 또는 액상 봉지재 등의 봉지재(30)로 봉지되어 있다.
또한, 상기 회로기판(20)의 저면에 구비된 회로패턴(24)중 볼랜드(24b)에 솔더볼과 같은 다수의 도전성볼(40)이 융착되어 차후 마더보드에 실장가능하게 되어 있다.
여기서, 본 발명의 실시예에 있어서는, 제 1 및 제 2 반도체 칩을 수직으로 적층한 구조에 대해서만 설명하였지만, 2개 이상의 반도체 칩을 수직으로 적층할 수 있음은 물론이다.
따라서, 상술한 바와 같이, 바텀 와이어(8b)를 1.0 mil의 비교적 얇은 두께로 와이어 본딩함으로써 바텀 와이어의 루프(loop)의 높이를 낮게함과 동시에, 탑 와이어(8a)의 두께를 1.2 mil 이상의 비교적 두꺼운 두께로 와이어 본딩함으로써 스위핑에 좋은 강도를 가지면서 그 루프 높이를 높임으로써 탑 와이어와 바텀와이의 갭(gab)을 최대한 확보하게 되어, 제조공정시, 특히 몰딩고정의 몰드 주입시에상부의 탑 몰드가 몰딩 주입력에 의한 스위핑에 견고히 지탱될 수 있고, 이것에 의해 와이어 쇼트를 방지할 수가 있게 된다.
여기서, 상기 반도체패키지는 일반적인 인쇄회로기판이 포함된 것에 한하여 설명하였지만 이것으로 한정되는 것은 아니다. 즉, 상기 회로기판은 수지층과 회로패턴 등으로 구성되는 써킷필름을 이용할 수도 있고 심지어 리드프레임을 이용할 수도 있다.
이상에서와 같이 본 발명은 비록 상기의 실시예에 한하여 설명하였지만 여기에만 한정되지 않으며, 본 발명의 범주 및 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러가지로 변형된 실시예도 가능할 것이다.
이와 같이 하여 본 발명에 의한 와이어 본딩 방법 및 이를 이용한 반도체패키지에 의하면, 반도체칩이 수직방향으로 다수개로 적층되어 탑 와이와 바텀 와이어의 접속에 의해 상호 신호 교환이 이루어지는 반도체 패키지에서 상기 탑 와이어를 바텀 와이어 보다 강성이 크고 두께를 뚜껍게 형성하여 상기 탑 와이어와 바터 와이어의 갭을 최대한 확보하는 것에 의해, 몰딩 공정시 스위핑에 의한 와이어 쇼트를 방지할 수 있는 효과가 있다.

Claims (4)

  1. 회로기판의 중앙부에 각각 다수의 입출력 패드가 구비된 제 1 반도체 칩과 제 2 반도체칩이 차례로 수직방향으로 적층형성되고, 상기 반도체 칩 외주연에 다수의 회로 패턴이 형성되어 상기 제 1 반도체 칩과 제 2 반도체 칩의 입출력 패드와 상기 회로패턴을 도전성 와이어로 본딩하여 상호 신호 교환이 이루어지도록 도전성와이어로 본딩하는 방법에 있어서,
    상기 하부쪽의 제 1 반도체 칩의 입출력패드와 회로 패턴을 접속하는 바텀 와이어가 상부쪽의 제 2 반도체 칩의 입출력 패드와 회로 패턴을 접속하는 탑 와이어 보다 두께가 얇게 형성시키는 것을 특징으로 하는 와이어 본딩 방법.
  2. (삭제)
  3. 수직 방향으로 차례로 적층형성되는 각각 다수의 입출력 패드가 구비된 제 1 반도체 칩과 제 2 반도체칩과;
    상기 제 1반도체 칩의 저면에 접착수단으로 접착되어 있되, 수지층을 중심으로 상기 적층형성된 제 1 반도체칩 및 제 2 반도체 칩의 외주연에 다수의 회로패턴이 형성됨과 동시에, 상기 제 1 반도체칩 및 제 2 반도체 칩의 외주연에 다수의 회로패턴이 형성되어 있으며, 상기 수지층의 상면 또는 저면에는 상기 회로패턴과 연결된 다수의 볼랜드를 포함하여 이루어진 회로기판과;
    상기 제1반도체칩의 입출력패드와 상기 전달 패턴을 전기적으로 접속시키는 바텀 와이어 및 상기 제2반도체칩의 입출력패드와 상기 전달패턴을 전기적으로 접속시키는 탑 와이어와;
    상기 제1반도체칩, 제2반도체칩, 도전성와이어 등을 외부환경으로부터 보호하기 위해 감싸는 봉지재와;
    상기 회로기판의 볼랜드에 융착된 다수의 도전성볼을 포함하여 이루어되, 상기 하부쪽의 제 1 반도체 칩의 입출력패드와 회로 패턴을 접속하는 바텀 와이어가 상부쪽의 제 2 반도체 칩의 입출력 패드와 회로 패턴을 접속하는 탑 와이어 보다 두께가 얇게 형성시키는 것을 특징으로 반도체 패키지.
  4. (삭제)
KR10-2000-0076328A 2000-12-14 2000-12-14 와이어본딩 방법 및 이를 이용한 반도체패키지 KR100394775B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2000-0076328A KR100394775B1 (ko) 2000-12-14 2000-12-14 와이어본딩 방법 및 이를 이용한 반도체패키지

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2000-0076328A KR100394775B1 (ko) 2000-12-14 2000-12-14 와이어본딩 방법 및 이를 이용한 반도체패키지

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20020047746A KR20020047746A (ko) 2002-06-22
KR100394775B1 true KR100394775B1 (ko) 2003-08-19

Family

ID=27681713

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR10-2000-0076328A KR100394775B1 (ko) 2000-12-14 2000-12-14 와이어본딩 방법 및 이를 이용한 반도체패키지

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100394775B1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100871709B1 (ko) 2007-04-10 2008-12-08 삼성전자주식회사 칩 스택 패키지 및 그 제조방법
CN108878408A (zh) * 2017-05-10 2018-11-23 叶秀慧 薄型化双芯片的叠接封装结构

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04221837A (ja) * 1990-12-21 1992-08-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
KR930011182A (ko) * 1991-11-13 1993-06-23 김광호 반도체 장치 및 그 제조방법
JPH0697218A (ja) * 1992-09-14 1994-04-08 Hitachi Ltd 半導体装置
JPH10135399A (ja) * 1996-10-31 1998-05-22 Hitachi Ltd 半導体装置およびその製造方法並びにそれに使用されるリードフレーム

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04221837A (ja) * 1990-12-21 1992-08-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
KR930011182A (ko) * 1991-11-13 1993-06-23 김광호 반도체 장치 및 그 제조방법
JPH0697218A (ja) * 1992-09-14 1994-04-08 Hitachi Ltd 半導体装置
JPH10135399A (ja) * 1996-10-31 1998-05-22 Hitachi Ltd 半導体装置およびその製造方法並びにそれに使用されるリードフレーム

Also Published As

Publication number Publication date
KR20020047746A (ko) 2002-06-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5615089A (en) BGA semiconductor device including a plurality of semiconductor chips located on upper and lower surfaces of a first substrate
KR20010064907A (ko) 와이어본딩 방법 및 이를 이용한 반도체패키지
KR970000214B1 (ko) 반도체 장치 및 그 제조방법
KR100344927B1 (ko) 적층 패키지 및 그의 제조 방법
KR100559664B1 (ko) 반도체패키지
US6423580B2 (en) Method for manufacturing a dual chip package
JPH10199924A (ja) 半導体チップパッケージとその製造方法及びそれを用いた積層パッケージ
US20050253284A1 (en) Semiconductor package and method for fabricating the same
KR100292033B1 (ko) 반도체칩패키지및그제조방법
US20040070948A1 (en) Cavity-down ball grid array semiconductor package with heat spreader
KR100394775B1 (ko) 와이어본딩 방법 및 이를 이용한 반도체패키지
JPH11265964A (ja) 半導体装置とその製造方法
KR100610916B1 (ko) 반도체패키지
KR100610917B1 (ko) 반도체칩과 섭스트레이트 사이의 와이어 본딩 구조 및이를 이용한 반도체패키지, 그리고 그 반도체패키지의제조 방법
KR100401019B1 (ko) 반도체패키지 및 그 제조방법
KR100218633B1 (ko) 캐리어 프레임이 장착된 볼 그리드 어레이 반도체 패키지
KR100456482B1 (ko) 패터닝된 리드 프레임을 이용한 볼 그리드 어레이 패키지
KR100473336B1 (ko) 반도체패키지
KR100247641B1 (ko) 적층형 볼 그리드 어레이 패키지 및 그의 제조방법
KR100218634B1 (ko) 캐리어 프레임을 갖는 볼 그리드 어레이 반도체 패키지
KR20070019359A (ko) 밀봉 수지 주입용 개구부를 구비하는 양면 실장형 기판 및그를 이용하는 멀티 칩 패키지의 제조방법
KR100337459B1 (ko) 반도체패키지의 제조 방법
KR100406447B1 (ko) 반도체패키지 및 그 제조방법
US20020135059A1 (en) Chip packaging structure
KR100381839B1 (ko) 반도체패키지

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120801

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130729

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140728

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150727

Year of fee payment: 13

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160801

Year of fee payment: 14

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170728

Year of fee payment: 15

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190725

Year of fee payment: 17