KR100375520B1 - 선형화기 - Google Patents

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KR100375520B1
KR100375520B1 KR10-2000-0033203A KR20000033203A KR100375520B1 KR 100375520 B1 KR100375520 B1 KR 100375520B1 KR 20000033203 A KR20000033203 A KR 20000033203A KR 100375520 B1 KR100375520 B1 KR 100375520B1
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Abstract

그 회로를 소형화 할 수 있으며 경량화할 수 있고, 전력소비를 낮추고 입-출력조정을 용이하게 할 수 있는 선형화기가 제공된다. 이 선형화기는 제1저항기가 제2저항기에 직렬로 연결되며, 제3저항기가 제1 및 제2저항기들 사이의 접속점에 연결되며, 가변저항소자인 전계효과트랜지스터(FET)는 제3저항기에 연결되며, 인덕터는 FET 및 GND 사이에 연결되고, 제1, 제2 및 제3저항기들과 FET는 T형 감쇠기를 구성한다.

Description

선형화기{Linearizer}
본 발명은 선형화기에 관한 것으로, 보다 상세하게는 보상되는 회로(compensated circuit)의 앞단에 연결되며 보상되는 회로의 입-출력특성을 보상할 수 있는 선형화기에 관한 것이다.
휴대용 통신기기와 같이 마이크로파 주파수대역에서 동작하는 이동통신장비로서, 위성통신기기 등이 근년에 광범위하게 사용되며, 특히, 낮은 왜곡특성은 그러한 이동통신장비에 채용된 고주파증폭기에 필수 불가결한 것이 되고 있다. 그러나, 이 유형의 고주파증폭기는, 입력전력이 포화영역레벨에 접근할 때 이득이 감소되고 통과(passing)위상이 그것의 양의 쪽(위상이 앞서는(lead) 쪽)으로 바뀌는 비선형특성을 나타내므로, 고주파증폭기에서는 낮은 왜곡특성을 성취하기가 어렵다. 화합물반도체로 이루어진 금속반도체트랜지스터(MES)는, 전계효과트랜지스터(FET)의 일종으로 고주파영역에서 고속동작 및 고효율동작을 제공할 수 있는 것으로서, 고주파증폭기를 구성하는 증폭기기로서 광범위하게 채용된다.
고주파증폭기에서 낮은 왜곡특성을 성취하기 위하여, 기존에는, 고주파증폭기의 비선형성은 보상하는 회로(compensating circuit)를 연결함으로써 보상된다. 보상회로인 선형화기는, 고주파증폭기의 앞단에서, 전술한 것과 거의 반대인 특성, 즉 입력전력이 포화영역레벨에 접근할 때 이득이 증가하고 통과위상은 그것의 음의 쪽(위상이 뒤쳐지는 쪽)으로 바뀌는 특성을 나타낸다.
도 6은 기존 고주파증폭기(보상되는 회로)의 비선형성이 선형화기(보상하는 회로)에 의해 보상되는 원리를 설명하는 도면이다. 선형화기(60)는 FET(51)를 증폭기기로서 사용하는 고주파증폭기(50)의 앞단에 연결된다. FET(51)는 이것의 소스전극(51S)이 접지(GND)에 연결되는 소스접지방식으로 사용된다. 게이트전극(51G)에는 게이트저항기(53)가 연결되고, 이 게이트저항기는 게이트전원(52, 예를 들면, -0.2V 내지 -0.1V를 공급)에 연결된다. 드레인전극(51D)에는 인덕터(55)가 연결되고, 인덕터는 드레인전원(54, 예를 들면, +5.0V 내지 +7.0V를 공급)에 연결된다.
도 7a는 고주파증폭기(50)의 비선형성이 도 6의 선형화기(60)에 의해 보상되는 원리를 설명하는 도면이다. 도 7a에 보인 것처럼, 고주파증폭기(50)는 입력전력(가로축의 Pin)이 포화영역레벨에 접근할 때 이득(G)이 감소되는 특성을 나타낸다.
그러므로, 입력전력(Pin)이 도 7b에 보인 것 처럼 포화영역레벨에 접근할 때 이득(G)이 증가되는 특성을 나타내는 선형화기(60)를 고주파증폭기(50)의 앞단에 연결함으로써, 그것의 종합적인 이득특성은 도 7c에 보인 것처럼 거의 선형적이게 된다.
도 8a, 8b 및 8c는 고주파증폭기(50)의 비선형성이 선형화기(60)에 의해 보상되는 원리를 설명하는 도면들이다. 도 8a는, 고주파증폭기(50)에서,입력전력(Pin)이 포화영역레벨에 접근할 때 통과위상(P)이 그것의 양의 쪽으로 바뀜을 보여준다. 그러므로, 입력전력(Pin)이 도 8b에 보인 것처럼 포화영역레벨에 접근할 때 통과위상(P)이 그것의 음의 쪽으로 바뀌는 특성을 나타내는 선형화기(60)를 고주파증폭기(50)의 앞단에 연결함으로써, 그것의 종합적인 이득특성은 도 8c에 보인 것처럼 선형화 되어진다. 이는 보상되는 회로로서 소용되는 고주파증폭기(50)의 비선형성이 보상하는 회로로서 소용되는 선형화기(60)에 의해 보상되어지게 한다. 이는 또한 고주파증폭기(50)의 낮은 왜곡을 성취하는 데에도 소용된다.
기존의 선형화기(60)는 도 5에 보여진 것과 같은 구성을 가지며, 이 구성은 "The Institute of Electronic Information and Communication Engineers, MW94-133, IDC94-208, 1995-01"에서 발행된 기술보고서인 보고서 "A simple-type linearizer loaded with a feedback device using a GaAsFET(Gallium Arsenide Field Effect Transistor)"에 개시되어 있다. 도 5에 보인 선형화기(60)에는, 소스접지형 FET(40)가 사용되고, 이것의 게이트전극(40G)은 입력단자로서 사용되며 그 드레인전극(40D)은 출력단자로서 사용되고 인덕터(41)는 소스전극(40S) 및 GND 사이에 연결된다. 이 선형화기(60)에서는, 상호컨덕턴스 "gm" 및 드레인컨덕턴스 "gd"의 비선형성을 비선형영역에서 얻도록 FET(40)를 능동소자로서 동작시키고 또 인덕터(41)를 이용함으로써, 이득은 그 입력전력이 포화영역레벨에 접근할수록 증가되고 그 통과위상은 뒤쳐지게 되어, 그 뒷단의 고주파증폭기(50)의 비선형성을 보상할 수 있다.
그러나, 전술한 문헌에서 설명된 기존의 선형화기(60)는, FET(40)를 능동소자로서 사용하는 것이 전력소비를 야기한다는 문제를 갖는다. 즉, 기존의 선형화기(60)에서는, 비선형영역에서의 상호컨덕턴스 "gm" 및 드레인컨덕턴스 "gd"의 비선형성이 FET(40)를 능동소자로서 동작시킴으로써 얻어지므로, 이것은 전력소비를 방지할 수 없어 낮은 전원사용률을 야기한다.
더욱이, 전술의 선형화기(60)는, 이것이 나쁜 입-출력임피던스를 가지고 또 그 입-출력임피던스가 입력전력레벨에 의해 심하게 바뀌므로, 그것의 반사(reflection)특성에 열화가 일어난다는 문제가 생기게 한다. 그 결과, 분리(isolating)회로 등과 같은 정합회로를 그것의 입-출력단자에 연결하는 것이 필요하여, 회로 규모가 더 커지게 한다. 이는 선형화기(60) 및 고주파증폭기(50)와 함께 내장(embedded)되는 회로의 규모를 줄이는 것과 이 회로의 경량화를 어렵게 할 뿐만 아니라 회로들 간의 조정(calibration)에 의해 야기되는 비용 상승을 야기한다.
전술한 바를 고려하여, 본 발명의 목적은 회로 규모를 줄이고 경량화할 수 있으며, 전력소비를 낮추고 입-출력조정을 용이하게 할 수 있는 선형화기를 제공함에 있다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 선형화기의 구성을 보여주는 개략적인 회로도,
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 선형화기에 의해 얻어진 입-출력특성을 보여주는 도면,
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 선형화기에 의해 얻어진 반사손실특성을 보여주는 도면,
도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 선형화기의 구성을 보여주는 개략적인 회로도,
도 5는 기존의 선형화기의 구성을 보여주는 개략도,
도 6은 기존 고주파증폭기의 비선형성이 선형화기에 의해 보상되는 원리를 설명하는 개략적인 블록도,
도 7a, 7b 및 7c는 기존의 고주파증폭기의 비선형성이 도 6에 보여진 기존의 예와같은 기존의 선형화기에 의해 보상되는 원리를 설명하는 도면들,
도 8a, 8b 및 8c는 기존의 고주파증폭기의 비선형성이 도 6에 보여진 기존의 예와같은 기존의 선형화기에 의해 보상되는 원리를 설명하는 도면들.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1, 2, 3 : 저항기 5 : 가변저항소자
6 : 리액턴스소자 10, 60 : 선형화기
50 : 고주파증폭기
본 발명의 제1양태에 의하면, 보상되는 회로의 입-출력특성에 거의 반대인 특성을 가지며 상기 보상되는 회로의 앞단에 연결되어 보상되는 회로의 특성을 보상하기 위한 선형화기가 제공되며, 이 선형화기는,
가변저항소자의 한 단자 및 접지(GND) 사이에 연결된 리액턴스소자; 및
그 션트(shunt)가 상기 가변저항소자의 다른 단자에 연결된 T형 감쇠기를 포함한다.
본 발명의 제2양태에 의하면, 보상되는 회로의 입-출력특성에 거의 반대인 특성을 가지며 상기 보상되는 회로의 앞단에 연결되어 보상되는 회로의 특성을 보상하기 위한 선형화기가 제공되며, 이 선형화기는,
가변저항소자의 한 단자 및 GND 사이에 연결된 리액턴스소자; 및
그 션트가 상기 가변저항소자의 다른 단자에 연결된 π형 감쇠기를 포함한다.
본 발명의 제3양태에 의하면, 보상되는 회로의 입-출력특성에 거의 반대인 특성을 가지며 상기 보상되는 회로의 앞단에 연결되어 보상되는 회로의 특성을 보상하기 위한 선형화기로서,
각각이 직렬로 연결된 제1 및 제2 저항기들;
상기 제1 및 제2 저항기들 사이의 접속점에 연결된 제3저항기;
상기 제3저항기에 연결된 가변저항소자; 및
상기 가변저항소자 및 GND 사이에 연결된 리액턴스소자를 포함하여,
상기 제1저항기의 비접속단자는 입력단자로서 사용되고 상기 제2저항기의 비접속단자는 출력단자로서 사용되는 선형화기가 제공된다.
본 발명의 제4양태에 의하면, 보상되는 회로의 입-출력특성에 거의 반대인특성을 가지며 상기 보상되는 회로의 앞단에 연결되어 보상되는 회로의 특성을 보상하기 위한 선형화기로서,
각각이 서로 직렬로 연결된 제2 및 제3 저항기들 둘 다에 평행하게 연결된 제1저항기;
상기 제1저항기 및 상기 제2저항기 사이의 접속점에 연결된 가변저항소자; 및
상기 가변저항소자 및 GND 사이에 연결된 리액턴스소자를 포함하여,
상기 제1저항기의 한 단자는 입력단자로서 사용되고 상기 제1저항기의 다른 단자는 출력단자로서 사용되는 선형화기가 제공된다.
전술한 바에서, 바람직한 모드는 가변저항소자가 비선형소자로 이루어지는 것이다.
또한, 바람직한 모드는 리액턴스소자가 비선형소자 및 GND 사이에 연결되는 것이다.
또한, 바람직한 모드는 금속반도체트랜지스터가 비선형소자로서 사용되는 것이다.
게다가, 바람직한 모드는, 금속반도체트랜지스터가 포화영역에서 동작하게 하기에 충분히 큰 바이어스전압이 금속반도체트랜지스터의 게이트전극에 인가되고 금속반도체트랜지스터가 동작하는 동안에 얻어진 비선형성이 이용되는 것이다.
본 발명의 전술한 및 다른 목적들, 이점들 및 특징들은 첨부 도면들에 관련하여 취해진 다음의 설명으로부터 보다 명확해질 것이다.
[제1실시예]
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 선형화기의 구성을 보여주는 개략적인 회로도이다. 도 2는 제1실시예에 따른 선형화기에 의해 얻어진 입-출력특성을 보여주는 도면이다. 도 3은 제1실시예에 따른 선형화기에 의해 얻어진 반사손실(reflection loss)특성을 보여주는 도면이다. 도 1에 보인 것처럼, 선형화기(10)에서는, 제1저항기(1)가 제2저항기(2)에 직렬로 연결되며, 제3저항기(3)는 제1 및 제2 저항기들(1 및 2)의 접속점(4)에 연결되며, FET(5)는 가변저항소자로서 제3저항기(3)에 연결되며, 리액턴스소자인 인덕터(6)는 FET(5) 및 접지(GND) 사이에 연결되고, 제1저항기(1)의 비접속단자 및 제2저항기(2)의 비접속단자는 입력단자(7) 및 출력단자(8)로서 각각 사용된다. 고주파영역에서 고속동작 및 고효율동작을 제공할 수 있는 혼합물반도체로 이루어진 금속반도체트랜지스터(MES)는 FET(5)로서 사용된다.
전술의 선형화기(10)에서, 제1저항기(1), 제2저항기(2) 및 제3저항기(3)와 FET(5)는 T형 감쇠기(attenuator)를 구성하고, FET(5)는 이 T형 감쇠기의 션트(shunt)에 연결된다. 따라서, 전술의 선형화기(10)에서는, T형 감쇠기가 구성되므로, 우수한 반사특성이 얻어지고 입력전력레벨의 변화에 대한 반사특성은 작게 된다.
게이트전극(5G)에는 게이트저항기(9)를 통해 FET(5)가 포화영역에서 가장 안정되게 동작하도록 하기에 충분히 큰 게이트바이어스전압(Vg)이 인가되고, 그래서 FET(5)는 비선형성을 나타내는 소자로서 사용된다. 제1 및 제2 저항기들(1 및 2)의저항값(R1), 제3저항기의 저항값(R2) 및 게이트바이어스전압(Vg)은 다음의 범위들로 설정된다.
R1 : 10Ω 내지 20Ω
R2 : 0.01Ω 내지 100Ω
Vg : 0V 내지 -1V
게다가, FET(5)의 게이트폭(Wg)은 50㎛에서 400㎛까지로 설정된다.
FET(5)의 게이트바이어스전압(Vg)을 전술한 범위들로 설정함으로써, FET(5)는 포화영역에서 가장 안정되게 동작될 수 있다. FET(5)의 내부저항이 포화영역에서 증가하므로, FET(5)로 이루어진 T형 감쇠기의 션트저항 또한 증가된다. 그 결과, 통과손실(passing loss)이 감소(이득이 증가)되므로, 이득은 입력전력레벨이 상승할 때 증가한다.
즉, 입력전력이 낮은 레벨에 있다면, 입력단자(7)로 입력되는 신호는, 제1저항기(1) 및 제2저항기(2)의 저항값(R1) 및 FET(5)의 내부저항에 근거하여 감쇠된 양만큼 감쇠된 이후에, 출력단자(8)로 출력된다. 이때, 이득은 일정하게 된다. 그러나, 입력전력이 증가하여 FET(5)의 포화영역에 접근할수록, 내부저항은 FET(5)의 비선형성에 기인하여 증가한다. 일반적으로, 감쇠기의 스루(through)회로의 저항값(R1)이 일정하고 션트저항(저항값(R2) 및 FET의 내부저항)이 증가한다면 감쇠의 량은 감소하므로, 이득이 입력전력의 증가로 유발된 FET(5) 내부저항의 증가로 증가하는 특성이 얻어질 수 있다.
한편, FET(5)의 내부저항이 증가되므로 통과위상은 뒤쳐지고(음의 쪽으로 바뀌고), 이 통과위상은 입력전력에서의 변화에 대응하게 변화된다. 즉, 통과위상은 상호컨덕턴스(gm)의 비선형성과 게이트 및 소스 사이의 용량(Cgs)에 기인하여 음의 쪽으로 바뀐다.
게다가, 리액턴스로서 사용되는 인덕터(6)를 바꿈으로써 제1저항기(1)를 제2저항기(2)와 연결시키는 접속점(4) 및 GND 사이의 임피던스가 바뀌므로, 왜곡(이득 및 통과위상의 뒤쳐짐의 증가를 포함)의 량을 조절하는 것이 가능하다.
더욱이, 반사를 감소시킬 수 있는 임피던스가 제1저항기(1)의 저항값(R1), 제2저항기(2)의 저항값(R1) 및 제3저항기(3)의 저항값(R2)에 의해 그리고 내부저항에 의해 정해지므로, 적당한 임피던스값은 이러한 저항들을 적절한 범위 내로 설정함으로써 얻어질 수 있다. 또한, FET(5)가 수동소자로서 사용되고 드레인 및 소스 사이의 전압(Vds)이 '0(영)'으로 설정되므로, 전력소비는 약 '0(영)'이 되도록 낮추어질 수 있다.
도 2는 이 실시예에 구현된 선형화기(10)의 입-출력특성의 시뮬레이션 결과를 보여준다. 도 2에서, 왼쪽 축은 이득(G)을 나타내고 오른쪽 축은 통과위상(P)을 나타낸다. 도 2로부터 명확한 것처럼, 입력전력이 포화영역레벨에 접근할 때 이득(G)이 증가하고 통과위상(P)이 그것의 음의 쪽으로 바뀌는 특성이 얻어질 수 있다. 그러므로, 선형화기(10)를 보상되는 회로로 소용되는 고주파증폭기의 앞단에 연결함으로써, 고주파증폭기의 비선형성이 보상될 수 있으므로, 고주파수의 낮은 왜곡 특질(property)이 쉽사리 성취될 수 있다.
도 3은 이 실시예에 구현된 선형화기(10)의 반사손실특성의 시뮬레이션 결과를 보여준다. 도 3에서, 입력전력레벨에 대응하는 반사손실특성은 스미스챠트로 그려진다. 입-출력임피던스부분(12)은 스미스챠트의 중심위치에 그려져 우수한 반사손실특성이 얻어질 수 있음을 표시한다.
게다가, 도 2 및 도 3에 보여진 특성들은 다음의 설정조건들 하에서 얻어진다.
R1 : 16Ω
R2 : 6Ω
Vg : -0.5V
Wg : 100㎛
따라서, 이 실시예의 선형화기(10)의 구성에 의하면, 제1저항기(1)는 제2저항기(2)에 직렬로 연결되며 제3저항기(3)는 제1저항기(1) 및 제2저항기(2) 사이의 접속점(4)에 연결되며 가변저항소자인 FET(5)는 제3저항기(3)에 연결되며 리액턴스소자인 인덕터(6)는 FET(5) 및 GND 사이에 연결되고 제1, 제2 및 제3 저항기들(1, 2 및 3)과 FET(5)는 T형 감쇠기를 구성하므로, 보상되는 회로의 비선형성은 소규모 회로 구성에 의해서도 보상될 수 있다. 그러므로, 전술한 회로를 소규모 및 경량으로 만들어 전력소비를 낮추는 것과 입-출력조정을 쉽사리 행하는 것이 가능하다.
[제2실시예]
도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 선형화기(20)의 구성을 보여주는 개략적인 회로도이다. 제2실시예의 선형화기(20)의 구성은, π형 감쇠기가 제2실시예에 구성된다는 점에서 제1실시예의 구성과는 크게 다르다. 도 4에 보인 것처럼, 제2실시예에 따른 선형화기(20)에서는, 각각이 직렬로 연결된 제2저항기(22) 및 제3저항기(23)가 제1저항기(21)에 병렬로 연결되므로, 가변저항소자인 FET(5)는 제2저항기(22) 및 제3저항기(23) 사이의 접속점(24)에 연결되며, 리액턴스소자인 인덕터(6)는 FET(5) 및 GND 사이에 연결되고, 제1저항기(21)의 양 단자들은 입력단자(7) 및 출력단자(8)로서 각각 사용된다. 게다가, 전술의 선형화기(20)에서는, 제1저항기(21), 제2저항기(22) 및 제3저항기(23)와 FET(5)가 π형 감쇠기를 구성하고, FET(5)는 이 π형 감쇠기의 션트에 연결된다.
전술한 선형화기(20)에서, 제1저항기(21)의 저항값(R10), 제2저항기(22) 및 제3저항기(23)의 저항값(R20)과 게이트바이어스전압(Vg)은 다음의 범위들 내로 설정된다.
R10 : 20Ω 내지 50Ω
R20 : 100Ω 내지 200Ω
Vg : 0V 내지 -1V
Wg : 50㎛ 내지 400㎛
FET(5)의 게이트바이어스전압(Vg)을 전술한 범위 내로 설정함으로써, 선형화기(20)의 경우 제1실시예에서와 거의 동일한 동작을 수행하는 것이 가능하다. 그러므로, 제2실시예에서는, 제1실시예에 따른 도 2의 입-출력특성들 및 도 3의 반사손실특성들을 보여주는 도면들에서 보여진 것과 거의 동일한 특성들이 얻어질 수 있다.
제2실시예의 선형화기(20)의 구성은 전술한 점들을 제외하면 제1실시예의 구성과 동일하고, 그래서, 도 4에 보인 동일한 참조번호들이 도 1에 보여진 대응 부분들을 가리키고 그것들의 설명이 생략된다.
따라서, 선형화기(20)를 제2실시예에 제공된 것처럼 구성함으로써, 제1실시예에서 얻어진 것들과 동일한 효과들이 성취될 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 선형화기에 의하면, 제1저항기 및 제2저항기가 직렬로 연결되며, 제3저항기는 제1 및 제2 저항기들 사이의 접속점에 연결되며, 가변저항소자는 제3저항기에 연결되며, 리액턴스소자는 가변저항소자 및 GND 사이에 연결되며, 제1, 제2 및 제3 저항기들과 FET는 T형 감쇠기를 구성하므로, 보상되는 회로의 비선형성은 소규모 회로 구성에 의해서도 보상될 수 있다.
게다가, 전술한 바와 같이, 본 발명의 선형화기에 의하면, 가변저항소자는 제2 및 제3 저항기들 사이의 접속점에 연결되며 리액턴스소자는 가변저항소자 및 GND 사이에 연결되고, 제1, 제2 및 제3 저항기들과 FET는 π형 감쇠기를 구성하므로, 보상되는 회로의 비선형성은 소규모 회로 구성으로도 보상될 수 있다. 그러므로, 본 발명에 의하면, 선형화기의 회로는 소규모 및 경량으로 만들어질 수 있고 증가되는 전력소비를 방지할 수 있고 그것의 입-출력조정을 용이하게 할 수 있다.
본 발명은 전술한 실시예들로 제한되지 않으며 본 발명의 범위 및 정신을 벗어남 없이 변경되고 변형될 수 있음이 명백하다. 예를 들면, 가변저항소자는 FET로 제한되지 않고, 바이폴라트랜지스터, 다이오드 등과 같은 비선형소자들이 가변저항으로서 사용될 수 있다. 게다가, 리액턴스소자는 인덕터로 제한되지 않고, 다른 비선형소자들이 리액턴스소자로서 사용될 수 있다.

Claims (20)

  1. 보상되는 회로의 입-출력특성에 반대인 특성을 가지며 상기 보상되는 회로의 앞단에 연결되어 보상되는 회로의 특성을 보상하기 위한 선형화기에 있어서,
    가변저항소자의 한 단자 및 접지(GND) 사이에 연결된 리액턴스소자; 및
    그 션트(shunt)가 상기 가변저항소자의 다른 단자에 연결된 T형 감쇠기를 포함하는 선형화기.
  2. 제1항에 있어서, 상기 가변저항소자는 비선형소자로 구성된 선형화기.
  3. 삭제
  4. 제2항에 있어서, 금속반도체트랜지스터가 상기 비선형소자로서 사용되는 선형화기.
  5. 제4항에 있어서, 상기 금속반도체트랜지스터가 포화영역에서 동작하게 하기에 충분히 큰 바이어스전압이 상기 금속반도체트랜지스터의 게이트전극에 인가되고 상기 금속반도체트랜지스터가 동작하는 동안에 얻어진 비선형성이 이용되는 선형화기.
  6. 보상되는 회로의 입-출력특성에 반대인 특성을 가지며 상기 보상되는 회로의 앞단에 연결되어 보상되는 회로의 특성을 보상하기 위한 선형화기에 있어서,
    가변저항소자의 한 단자 및 접지(GND) 사이에 연결된 리액턴스소자; 및
    그 션트(shunt)가 상기 가변저항소자의 다른 단자에 연결된 π형 감쇠기를 포함하는 선형화기.
  7. 제6항에 있어서, 상기 가변저항소자는 비선형소자로 구성된 선형화기.
  8. 삭제
  9. 제7항에 있어서, 금속반도체트랜지스터가 상기 비선형소자로서 사용되는 선형화기.
  10. 제9항에 있어서, 상기 금속반도체트랜지스터가 포화영역에서 동작하게 하기에 충분히 큰 바이어스전압이 상기 금속반도체트랜지스터의 게이트전극에 인가되고 상기 금속반도체트랜지스터가 동작하는 동안에 얻어진 비선형성이 이용되는 선형화기.
  11. 보상되는 회로의 입-출력특성에 반대인 특성을 가지며 상기 보상되는 회로의 앞단에 연결되어 보상되는 회로의 특성을 보상하기 위한 선형화기에 있어서,
    각각이 직렬로 연결된 제1 및 제2 저항기들;
    상기 제1 및 제2 저항기들 사이의 접속점에 연결된 제3저항기;
    상기 제3저항기에 연결된 가변저항소자; 및
    상기 가변저항소자 및 접지(GND) 사이에 연결된 리액턴스소자를 포함하여,
    상기 제1저항기의 비접속단자는 입력단자로서 사용되고 상기 제2저항기의 비접속단자는 출력단자로서 사용되는 선형화기.
  12. 제11항에 있어서, 상기 가변저항소자는 비선형소자로 구성된 선형화기.
  13. 삭제
  14. 제12항에 있어서, 금속반도체트랜지스터가 상기 비선형소자로서 사용되는 선형화기.
  15. 제14항에 있어서, 상기 금속반도체트랜지스터가 포화영역에서 동작하게 하기에 충분히 큰 바이어스전압이 상기 금속반도체트랜지스터의 게이트전극에 인가되고 상기 금속반도체트랜지스터가 동작하는 동안에 얻어진 비선형성이 이용되는 선형화기.
  16. 보상되는 회로의 입-출력특성에 반대인 특성을 가지며 상기 보상되는 회로의 앞단에 연결되어 보상되는 회로의 특성을 보상하기 위한 선형화기에 있어서,
    각각이 서로 직렬로 연결된 제2 및 제3 저항기들 둘 다에 평행하게 연결된 제1저항기;
    상기 제1저항기 및 상기 제2저항기 사이의 접속점에 연결된 가변저항소자; 및
    상기 가변저항소자 및 접지(GND) 사이에 연결된 리액턴스소자를 포함하여,
    상기 제1저항기의 한 단자는 입력단자로서 사용되고 상기 제1저항기의 다른 단자는 출력단자로서 사용되는 선형화기.
  17. 제16항에 있어서, 상기 가변저항소자는 비선형소자로 구성된 선형화기.
  18. 삭제
  19. 제17항에 있어서, 금속반도체트랜지스터가 상기 비선형소자로서 사용되는 선형화기.
  20. 제19항에 있어서, 상기 금속반도체트랜지스터가 포화영역에서 동작하게 하기에 충분히 큰 바이어스전압이 상기 금속반도체트랜지스터의 게이트전극에 인가되고 상기 금속반도체트랜지스터가 동작하는 동안에 얻어진 비선형성이 이용되는 선형화기.
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