KR100311492B1 - 고체촬상소자 - Google Patents
고체촬상소자 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100311492B1 KR100311492B1 KR1019980056115A KR19980056115A KR100311492B1 KR 100311492 B1 KR100311492 B1 KR 100311492B1 KR 1019980056115 A KR1019980056115 A KR 1019980056115A KR 19980056115 A KR19980056115 A KR 19980056115A KR 100311492 B1 KR100311492 B1 KR 100311492B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- charge transfer
- regions
- region
- vertical charge
- photodiode
- Prior art date
Links
- 239000007787 solid Substances 0.000 title 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 32
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002513 implantation Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/148—Charge coupled imagers
- H01L27/14806—Structural or functional details thereof
- H01L27/14812—Special geometry or disposition of pixel-elements, address lines or gate-electrodes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
본 발명은 전하전송 채널의 유효 면적을 균일하게 확보할 수 있도록하여 전하전송효율을 높일 수 있도록한 고체 촬상 소자에 관한 것으로,일정 간격으로 분리되어 매트릭스 형태로 구성되는 복수개의 포토다이오드 영역들과,상기 포토다이오드 영역들에 대응하여 그들 사이에 선택적으로 확장 영역을 갖고 수직 방향으로 형성되는 수직 전하 전송 영역들과,상기 포토다이오드 영역들 및 수직전하 전송 영역들의 둘레에 수직 전하 전송 영역의 확장 영역과 동일한 부분에 동일 면적으로 구성되는 축소 영역을 갖고 각 영역들을 전기적으로 분리하기 위하여 형성되는 채널 스톱층을 포함하여 구성된다.
Description
본 발명은 고체 촬상 소자에 관한 것으로, 특히 전하전송 채널의 유효 면적을 균일하게 확보할 수 있도록하여 전하전송효율을 높일 수 있도록한 고체 촬상 소자에 관한 것이다.
일반적으로 전하 결합 소자(CCD)는 반도체 기판에 매트릭스 형태로 배열되어빛에 관한 영상 신호를 전기적인 신호로 변환하는 복수개의 광전 변환 영역(PD)과, 상기 광전 변환 영역에서 생성되어진 영상 전하를 수직 방향으로 전송하는 복수개의 수직 전하 전송 영역(VCCD)과, 상기 수직 방향으로 전송되어진 영상 전하를 수평 방향으로 전송하는 수평 전하 전송 영역(HCCD)과, 상기 수평 방향으로 전송되어진 영상 전하를 센싱하여 외부의 주변 회로로 출력하는 센싱 앰프를 포함하여 구성된다.
이와 같은 구성을 갖는 고체 촬상 소자의 포토다오드 영역 및 수직 전하 전송 영역이 구성되는 부분의 상세 구성은 다음과 같다.
도 1은 종래 기술의 고체 촬상 소자의 구조 단면도이고, 도 2a와 도 2b는 종래 기술의 고체 촬상 소자의 평면 구성 및 전위 분포도이다.
먼저, N형 반도체 기판(1)의 표면내에 형성되는 제 1 P형 웰 영역(2)과 제 1 p형 웰 영역(2)내에 선택적으로 형성되는 제 2 p형 웰 영역(3)과, 제 2 p형 웰 영역(3)들에 대응하여 그 상측에 수직 방향으로 일정 간격으로 분리 형성되어 전하 전송 채널로 사용되는 수직 전하 전송 영역(5)들과, 상기 수직 전하 전송 영역(5)들 사이에 각각 분리되어 복수개가 대응 구성되어 영상 전하를 생성하는 PDN,PDP 영역으로 이루어진 포토 다이오드 영역(6)(7)들과, 상기 포토다이오드 영역(6)(7)들의 주위에 고농도의 p형 불순물 주입으로 형성되어 각각의 포토다이오드 영역(6)(7)들을 분리하는 채널 스톱층(4)과, 전면에 형성되는 게이트 절연층(8)과, 상기 수직 전하 전송 영역(5)들 상측에 절연층(10)에 의해 서로 분리 구성되어 인가되는 클럭 신호에 의해 영상 전하를 일방향으로 이동시키는 복수개의 제 1,2 폴리 게이트(9)(제 1,2 폴리 게이트에서 어느 한 폴리 게이트는 도시되지 않음)들과, 상기 제 1,2 폴리 게이트(9)들 을 포함하는 전면에 형성되는 층간 절연층(11)과, 상기 층간 절연층(11)상에 형성되어 포토 다이오드 영역(6)(7)들 이외의 영역에 빛이 조사되는 것을 막는 차광 금속층(12)과, 상기 차광 금속층(12)을 포함하는 전면에 형성되는 평탄화 절연층(13)을 포함하여 구성된다.
여기서, 상기 제 1,2 폴리 게이트(9)들은 서로 오버랩되고 트랜스퍼 클럭인 인가되는 게이트는 포토다이오드 영역에 일부분이 오버랩되게 형성한다.
이와 같은 단면 구조를 갖는 종래 기술의 고체 촬상 소자의 평면 구성은 다음과 같다.
포토다이오드 영역(13)들 사이에 수직 방향으로 수직 전하 전송 영역(14)이 구성되고 포토다이오드 영역(13)들과 수직 전하 전송 영역(14)들 사이에 채널 스톱층(15)이 구성된다.
이때, 수직 전하 전송 영역(14)들의 주위에 형성되는 채널 스톱층(15)이 균일한 너비로 형성되는 것이 아니라 포토다이오드 영역(13)과 포토다이오드 영역(13)사이의 채널 스톱층(15)은 ㉮부분에서보다 ㉯부분에서 더 넓은 너비로 형성된다. 이는 ㉯부분에서의 채널스톱층의 측면확산이 더 크기때문이다.
이와 같이 채널 스톱층(15)이 균일한 너비를 갖지 못하여 실제 소자 동작시에 수직 전하 전송 영역(14)의 포텐셜 프로파일은 도 2b에서와 같이 평면상에서 보면 굴곡을 갖는다.
이와 같은 종래 기술의 고체 촬상 소자는 다음과 같은 문제가 있다.
채널 스톱층의 측면 확산에 의해 수직 전하 전송 영역의 유효 채널 영역이 줄어들어 전하 전송 효율이 저하된다.
이는 소자가 고집적화할수록 그에 따른 악영향이 더 증가하여 고화소의 소자 제조를 어렵게 한다.
본 발명은 이와 같은 종래 기술의 고체 촬상 소자의 제조 방법의 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 전하전송 채널의 유효 면적을 균일하게 확보할 수 있도록하여 전하전송효율을 높일 수 있도록한 고체 촬상 소자를 제공하는데 그 목적이 있다.
도 1은 종래 기술의 고체 촬상 소자의 구조 단면도
도 2a와 도 2b는 종래 기술의 고체 촬상 소자의 평면 구성 및 전위 분포도
도 3은 본 발명에 따른 고체 촬상 소자의 구조 단면도
도 4a와 도 4b는 본 발명에 따른 고체 촬상 소자의 평면 구성 및 전위 분포도
도 5a와 도 5b는 본 발명에 따른 다른 실시예들의 평면 구성도
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
51. 수직 전하 전송 영역 52. 포토 다이오드 영역
53. 채널 스톱층
전하전송 채널의 유효 면적을 균일하게 확보할 수 있도록하여 전하전송효율을 높일 수 있도록한 본 발명에 고체 촬상 소자는 일정 간격으로 분리되어 매트릭스 형태로 구성되는 복수개의 포토다이오드 영역들과,상기 포토다이오드 영역들에 대응하여 그들 사이에 선택적으로 확장 영역을 갖고 수직 방향으로 형성되는 수직 전하 전송 영역들과,상기 포토다이오드 영역들 및 수직전하 전송 영역들의 둘레에 수직 전하 전송 영역의 확장 영역과 동일한 부분에 동일 면적으로 구성되는 축소 영역을 갖고 각 영역들을 전기적으로 분리하기 위하여 형성되는 채널 스톱층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명에 따른 고체 촬상 소자에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 3은 본 발명에 따른 고체 촬상 소자의 구조 단면도이다.
본 발명의 고체 촬상 소자는 먼저, N형 반도체 기판(31)의 표면내에 형성되는 제 1 P형 웰 영역(32)과 제 1 p형 웰 영역(32)내에 선택적으로 형성되는 제 2 p형 웰 영역(33)과, 제 2 p형 웰 영역(33)들에 대응하여 그 상측에 수직 방향으로 일정 간격으로 분리되고 부분적으로 확장형성되어 전하 전송 채널로 사용되는 수직 전하 전송 영역(35)들과, 상기 수직 전하 전송 영역(35)들 사이에 각각 분리되어 복수개가 대응 구성되어 영상 전하를 생성하는 PDN,PDP 영역으로 이루어진 포토 다이오드 영역(36)(37)들과, 상기 포토다이오드 영역(36)(37)들의 주위에 고농도의 p형 불순물 주입으로 형성되어 각각의 포토다이오드 영역(36)(37)들을 분리하는 채널 스톱층(34)과, 전면에 형성되는 게이트 절연층(38)과, 상기 수직 전하 전송 영역(35)들 상측에 절연층(40)에 의해 서로 분리 구성되어 인가되는 클럭 신호에 의해 영상 전하를 일방향으로 이동시키는 복수개의 제 1,2 폴리 게이트(39)(제 1,2 폴리 게이트에서 어느 한 폴리 게이트는 도시되지 않음)들과, 상기 제 1,2 폴리 게이트(39)들을 포함하는 전면에 형성되는 층간 절연층(41)과, 상기 층간 절연층(41)상에 형성되어 포토 다이오드 영역(36)(37)들 이외의 영역에 빛이 조사되는 것을 막는 차광 금속층(42)과, 상기 차광 금속층(42)을 포함하는 전면에 형성되는 평탄화 절연층(43)을 포함하여 구성된다.
여기서, 상기 제 1,2 폴리 게이트(39)들은 서로 오버랩되고 트랜스퍼 클럭인 인가되는 게이트는 포토다이오드 영역에 일부분이 오버랩되게 형성한다.
이와 같은 구성을 갖는 본 발명에 따른 고체 촬상 소자의 평면 구성 및 포텐셜 프로파일은 다음과 같다.
도 4a와 도 4b는 본 발명에 따른 고체 촬상 소자의 평면 구성 및 전위 분포도이고, 도 5a와 도 5b는 본 발명에 따른 다른 실시예들의 평면 구성도이다.
본 발명에 따른 고체 촬상 소자는 수직 전하 전송 영역(51)의 포텐셜 프로파일을 조정하기 위하여 특정 부분에서 확장 형성한 것으로, 일정 간격으로 분리되어 매트릭스 형태로 구성되는 복수개의 포토다이오드 영역(52)들과, 상기 포토다이오드 영역(52)들 사이에 선택적으로 확장 영역(도 4a의 ㉰부분)을 갖고 수직 방향으로 형성되는 수직 전하 전송 영역(51)들과, 상기 포토다이오드 영역(52)들 및 수직전하 전송 영역(51)들의 둘레에 선택적으로 축소 영역을 갖고 각 영역들을 전기적으로 분리하기 위하여 형성되는 채널 스톱층(53)을 포함하여 구성된다.
여기서, 채널 스톱층(53)의 축소 영역은 수직 전하 전송 영역(51)의 확장 영역과 동일한 부분에 동일 면적으로 구성된다.
도 4a의 ㉰부분의 수직 전하 전송 영역(51)은 그 상측에 제 1 폴리 게이트가 형성된다.
이와 같이 수직 전하 전송 영역(51)이 확장 영역을 갖고 형성되어 그만큼 채널 스톱층(53)이 축소 형성되어 도 4b에서와 같이 수직 전하 전송 영역(51)의 포텐셜 프로파일이 균일하게 형성된다.
이는 측면 확산이 심하게 일어나는 채널 스톱층(53) 형성 영역으로 수직 전하 전송 영역(51)이 더 확장 형성되어 채널 스톱층(53)에 의한 포텐셜 변화를 줄일 수 있도록한 것이다.
도 5a는 수직 전하 전송 영역(51)의 형성 너비를 그대로 두고 채널 스톱층(53)의 축소 영역만을 구성한것이고, 도 5b는 채널 스톱층(53)의 형성 너비는 그대로 두고 수직 전하 전송 영역(51)의 확장 영역만을 형성한 것이다.
이와 같은 본 발명에 따른 고체 촬상 소자는 다음과 같은 효과가 있다.
소자 동작중에 수직 전하 전송 영역의 포텐셜이 채널 스톱층의 측면 확산에 의해 변화하는 것을 막아 영상 전하의 전송 효율을 높이는 효과가 있다.
그리고 수직 전하 전송 영역의 채널폭을 충분히 확보할 수 있으므로 포화전하량의 크기를 증대시킬 수 있다.
또한, 채널 스톱층의 측면확산에 영향을 많이 받는 제 1 폴리 게이트 하측에 충분한 채널 영역이 확보되므로 제 1 폴리 게이트와 제 2 폴리 게이트의 포화 전하량을 균일하게하여 소자 동작 특성을 높이는 효과가 있다.
Claims (2)
- 일정 간격으로 분리되어 매트릭스 형태로 구성되는 복수개의 포토다이오드 영역들과,상기 어느 하나의 포토다이오드 영역과 그에 수직 방향으로 대응하는 다른 포토다이오드 영역과의 분리 영역에 확장 영역을 갖고 수직 방향으로 형성되는 수직 전하 전송 영역들과,상기 포토다이오드 영역들 및 수직전하 전송 영역들의 둘레에 수직 전하 전송 영역의 확장 영역과 동일한 부분에 동일 면적으로 구성되는 축소 영역을 갖고 각 영역들을 전기적으로 분리하기 위하여 형성되는 채널 스톱층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 고체 촬상 소자.
- 제 1 항에 있어서, 수직 전하 전송 영역들상에는 제 1,2 폴리 게이트들이 반복적으로 형성되고 수직 전하 전송 영역들의 확장영역은 제 1 폴리 게이트 하측에 구성되는 것을 특징으로 하는 고체 촬상 소자.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019980056115A KR100311492B1 (ko) | 1998-12-18 | 1998-12-18 | 고체촬상소자 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019980056115A KR100311492B1 (ko) | 1998-12-18 | 1998-12-18 | 고체촬상소자 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20000040462A KR20000040462A (ko) | 2000-07-05 |
KR100311492B1 true KR100311492B1 (ko) | 2001-11-30 |
Family
ID=19563693
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019980056115A KR100311492B1 (ko) | 1998-12-18 | 1998-12-18 | 고체촬상소자 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100311492B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4214066B2 (ja) * | 2004-03-01 | 2009-01-28 | シャープ株式会社 | 固体撮像装置 |
-
1998
- 1998-12-18 KR KR1019980056115A patent/KR100311492B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20000040462A (ko) | 2000-07-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100192954B1 (ko) | 수직형 전달게이트를 가지는 전하결합형 고체촬상소자 및 그 제조방법 | |
US6765246B2 (en) | Solid-state imaging device with multiple impurity regions and method for manufacturing the same | |
US6177293B1 (en) | Method and structure for minimizing white spots in CMOS image sensors | |
US8593553B2 (en) | Solid-state imaging device and electronic apparatus | |
JP4960058B2 (ja) | 増幅型固体撮像素子 | |
JP5194419B2 (ja) | 固体撮像装置及びその製造方法 | |
US5051798A (en) | Solid state image sensing device having an overflow drain structure | |
US9502465B2 (en) | Solid-state image pickup device | |
JP2007110133A (ja) | Cmosイメージセンサ及びその製造方法 | |
JP2005347759A (ja) | 暗電流を減少させるためのイメージセンサー及びその製造方法 | |
US20110084316A1 (en) | Pickup device and method for manufacturing the same | |
US8823125B2 (en) | Solid-state image pickup device and method for manufacturing the same | |
KR20010021375A (ko) | 고체 촬상 소자 및 그 제조 방법 | |
US5548142A (en) | Solid-state imaging device capable of removing influence by false signals | |
KR100311492B1 (ko) | 고체촬상소자 | |
US20220199663A1 (en) | Saddle-gate source follower for imaging pixels | |
US20070145440A1 (en) | CMOS Image Sensor and Method for Fabricating the Same | |
JP3284986B2 (ja) | 光電変換素子およびそれを用いた固体撮像装置 | |
EP0487989B1 (en) | Solid-state imaging device | |
WO2004055896A1 (ja) | 固体撮像素子及び固体撮像素子の製造方法 | |
JP4198277B2 (ja) | 固体撮像素子 | |
US6114718A (en) | Solid state image sensor and its fabrication | |
KR100263468B1 (ko) | 고체 촬상 소자 | |
KR100259084B1 (ko) | 고체촬상소자및이의제조방법 | |
KR100262006B1 (ko) | 고체촬상소자 및 그 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20050824 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |