KR100302326B1 - 폴리비닐알콜-실란커플링제를 이용한 무-유기 공중합체 및 그의제조방법 - Google Patents
폴리비닐알콜-실란커플링제를 이용한 무-유기 공중합체 및 그의제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100302326B1 KR100302326B1 KR1019990021425A KR19990021425A KR100302326B1 KR 100302326 B1 KR100302326 B1 KR 100302326B1 KR 1019990021425 A KR1019990021425 A KR 1019990021425A KR 19990021425 A KR19990021425 A KR 19990021425A KR 100302326 B1 KR100302326 B1 KR 100302326B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- acid
- group
- polyvinyl alcohol
- organic
- coupling agent
- Prior art date
Links
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims abstract description 54
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 10
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 title description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 title 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims abstract description 25
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 50
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 49
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 11
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 10
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 9
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 9
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000013522 chelant Substances 0.000 claims description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 6
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 claims description 4
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 claims description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 4
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N fluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)CF QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N p-toluic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 claims description 4
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 claims description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 claims description 3
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GAWAYYRQGQZKCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloropropionic acid Chemical compound CC(Cl)C(O)=O GAWAYYRQGQZKCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NSTREUWFTAOOKS-UHFFFAOYSA-N 2-fluorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1F NSTREUWFTAOOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GDDNTTHUKVNJRA-UHFFFAOYSA-N 3-bromo-3,3-difluoroprop-1-ene Chemical compound FC(F)(Br)C=C GDDNTTHUKVNJRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 2
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 claims description 2
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims description 2
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl formate Chemical compound CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229960004275 glycolic acid Drugs 0.000 claims description 2
- QFWPJPIVLCBXFJ-UHFFFAOYSA-N glymidine Chemical compound N1=CC(OCCOC)=CN=C1NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 QFWPJPIVLCBXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 claims description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940005657 pyrophosphoric acid Drugs 0.000 claims description 2
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 claims description 2
- 125000005346 substituted cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 24
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 8
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 abstract description 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 abstract description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 3
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 2
- 239000007888 film coating Substances 0.000 abstract description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 abstract description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 2
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 abstract description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 31
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 25
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 13
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 6
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 6
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 6
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 5
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 5
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DZGCGKFAPXFTNM-UHFFFAOYSA-N ethanol;hydron;chloride Chemical compound Cl.CCO DZGCGKFAPXFTNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940093858 ethyl acetoacetate Drugs 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 6-[3-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-3-oxopropyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)C(CCC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)=O DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N alpha-ketodiacetal Natural products O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- FUXUUPOAQMPKOK-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCOCC1CO1 FUXUUPOAQMPKOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- YAVJSVDUZGIQPQ-UHFFFAOYSA-N heptyl 3-oxobutanoate Chemical compound CCCCCCCOC(=O)CC(C)=O YAVJSVDUZGIQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 229910003471 inorganic composite material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012702 metal oxide precursor Substances 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- 125000005918 1,2-dimethylbutyl group Chemical group 0.000 description 1
- CVBUKMMMRLOKQR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylbutane-1,3-dione Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 CVBUKMMMRLOKQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSZMEVZPFPOJIT-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxyethoxy(ethenyl)silane Chemical compound COC(CO[SiH2]C=C)OC LSZMEVZPFPOJIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYXNLVMBIHVDRH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpropyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(C)COC(=O)CC(C)=O ZYXNLVMBIHVDRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNVLANCFUDHVBO-UHFFFAOYSA-N 3,3-diethoxypropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCOC(OCC)CC[Si](OCC)(OCC)OCC FNVLANCFUDHVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLXLQGPXPXIVKM-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](CCCCl)(OCCC)OCCC PLXLQGPXPXIVKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DACWUGOLTNQROR-UHFFFAOYSA-N 3-diethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[SiH](OCC)CCCOC(=O)C=C DACWUGOLTNQROR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNVMCAHOYIOFAQ-UHFFFAOYSA-N 3-dimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[SiH](OC)CCCOC(=O)C=C HNVMCAHOYIOFAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDRGLOHPKIPSOW-UHFFFAOYSA-N 3-dipropoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCCO[SiH](CCCOC(=O)C=C)OCCC QDRGLOHPKIPSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003542 3-methylbutan-2-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUZVALKTSQQLCH-UHFFFAOYSA-N 3-tripropoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCCO[Si](CCCN)(OCCC)OCCC XUZVALKTSQQLCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGEKXQRHZRDGKO-UHFFFAOYSA-N 3-tripropoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)CCCOC(=O)C=C HGEKXQRHZRDGKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQUAOOVBLUPSCW-UHFFFAOYSA-N CCCCO.CCCCO.CCOC(CC(C)=O)=O Chemical compound CCCCO.CCCCO.CCOC(CC(C)=O)=O NQUAOOVBLUPSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNMMAHXJNWQNQ-UHFFFAOYSA-N C[O-].C[O-].C[O-].C[O-].[Cs+].[Cs+].[Cs+].[Cs+] Chemical compound C[O-].C[O-].C[O-].C[O-].[Cs+].[Cs+].[Cs+].[Cs+] JKNMMAHXJNWQNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVLBXNICXUCXTA-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-(3-triethoxysilylpropylamino)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCC(O)COC(=O)C=C PVLBXNICXUCXTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTKACMBVEOKTGC-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-(3-trimethoxysilylpropylamino)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCC(O)COC(=O)C=C LTKACMBVEOKTGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKTVFRTYGPCWKY-UHFFFAOYSA-N [Ge+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] Chemical compound [Ge+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] QKTVFRTYGPCWKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLTQWFNBVCLQBC-UHFFFAOYSA-N [O-]CC.[O-]CC.[O-]CC.[O-]CC.[Cs+].[Cs+].[Cs+].[Cs+] Chemical compound [O-]CC.[O-]CC.[O-]CC.[O-]CC.[Cs+].[Cs+].[Cs+].[Cs+] MLTQWFNBVCLQBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIMDBPWOUDWCAI-UHFFFAOYSA-N [O-]CCC.[O-]CCC.[O-]CCC.[O-]CCC.[Cs+].[Cs+].[Cs+].[Cs+] Chemical compound [O-]CCC.[O-]CCC.[O-]CCC.[O-]CCC.[Cs+].[Cs+].[Cs+].[Cs+] QIMDBPWOUDWCAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANSWSOUWCHWEMB-UHFFFAOYSA-N [W+6].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] Chemical compound [W+6].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] ANSWSOUWCHWEMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHZFYDXXWXXVRM-UHFFFAOYSA-N [W+6].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] Chemical compound [W+6].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JHZFYDXXWXXVRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCXDNCKWFAAAII-UHFFFAOYSA-N [W+6].[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C Chemical compound [W+6].[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C BCXDNCKWFAAAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 125000004036 acetal group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N aluminium triethoxide Chemical compound CCO[Al](OCC)OCC JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001593 boehmite Inorganic materials 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- HOLVDVSATQLJNW-UHFFFAOYSA-N diethoxy-ethyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)CC(C)OCC1CO1 HOLVDVSATQLJNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODADONMDNZJQMW-UHFFFAOYSA-N diethoxy-ethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)CCCOCC1CO1 ODADONMDNZJQMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJYZOSQIDYKOM-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]-propylsilane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)CCOCC1CO1 LQJYZOSQIDYKOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWPGWRIGYKWLEV-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCOCC1CO1 PWPGWRIGYKWLEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- CTCOPPBXAFHGRB-UHFFFAOYSA-N ethanolate;germanium(4+) Chemical compound [Ge+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] CTCOPPBXAFHGRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASBGGHMVAMBCOR-UHFFFAOYSA-N ethanolate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] ASBGGHMVAMBCOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNBRCHPBPDRPIT-UHFFFAOYSA-N ethenyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)C=C NNBRCHPBPDRPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSJWBNAOYWNTBI-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CCOCC1CO1 CSJWBNAOYWNTBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYDBOMXUCPLLSK-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 YYDBOMXUCPLLSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound O=C.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- IBENSVMKFVWLLF-UHFFFAOYSA-N germanium(4+) methanolate Chemical compound [Ge+4].[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C IBENSVMKFVWLLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M hydroxidooxidoaluminium Chemical compound O[Al]=O FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- QASMZJKUEABJNR-UHFFFAOYSA-N methanolate;tantalum(5+) Chemical compound [Ta+5].[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C QASMZJKUEABJNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLSPJHYWJWISSU-UHFFFAOYSA-N n'-[2-(3-tributoxysilylpropylamino)ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)CCCNCCNCCN MLSPJHYWJWISSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNRDAMBPFDPXSM-UHFFFAOYSA-N n'-[2-(3-triethoxysilylpropylamino)ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCNCCN VNRDAMBPFDPXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHBRUUFBSBSTHM-UHFFFAOYSA-N n'-[2-(3-trimethoxysilylpropylamino)ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCNCCN NHBRUUFBSBSTHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IKYDDBGYKFPTGF-UHFFFAOYSA-N octyl 3-oxobutanoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)CC(C)=O IKYDDBGYKFPTGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- IDZAUPYMMSSVHP-UHFFFAOYSA-N pentyl 3-oxobutanoate Chemical compound CCCCCOC(=O)CC(C)=O IDZAUPYMMSSVHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- LJTHRDIGXSIYMM-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate tantalum(5+) Chemical compound [Ta+5].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] LJTHRDIGXSIYMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound CCCO[Ti](OCCC)(OCCC)OCCC HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006225 propoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DHGFMVMDBNLMKT-UHFFFAOYSA-N propyl 3-oxobutanoate Chemical compound CCCOC(=O)CC(C)=O DHGFMVMDBNLMKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- HSXKFDGTKKAEHL-UHFFFAOYSA-N tantalum(v) ethoxide Chemical compound [Ta+5].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] HSXKFDGTKKAEHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGDLUMVLBPRBIV-UHFFFAOYSA-N tributoxy(2-chloropropyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](CC(C)Cl)(OCCCC)OCCCC MGDLUMVLBPRBIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWQGROTKMBNKN-UHFFFAOYSA-N tributoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] MYWQGROTKMBNKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNXDCSVNCSSUNB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCOCC1CO1 ZNXDCSVNCSSUNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTVULPNMIHOVRU-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)OCC1CO1 HTVULPNMIHOVRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N tripropoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/10—Block or graft copolymers containing polysiloxane sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/42—Introducing metal atoms or metal-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/442—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing vinyl polymer sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/58—Metal-containing linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
본 발명은 폴리비닐알콜-실란커플링제를 이용한 무-유기 공중합체 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 무-유기 공중합체는 히드록시기와 실란기를 포함하는 실란커플링제 화합물과 유기 금속화합물과 반응시켜 제조할 수 있다. 본 발명에 의한 무-유기 공중합체는 용해성 고분자의 수분 저항성을 향상시키면서 친수성을 유지시켜 수지, 필름 코팅등의 형태로 김서림 방지제, 소포제, 윤활제, 도료, 내부식성 코팅, 방수코팅, 플라스틱 및 금속의 보호 코팅 등에 사용할 수 있다.
Description
본 발명은 폴리비닐알콜-실란커플링제를 이용한 무-유기 공중합체 및 그의 제조방법에 관한 것으로 보다 상세하게는 폴리비닐알콜, 에틸렌-비닐알콜 공중합체, 테트라 플루오르에틸렌-비닐 공중합체, 또는 폴리(비닐 부탄알-비닐알콜-비닐아세테이트) 공중합체와 같이 히드록시기와 실란기를 포함하는 실란커플링제 화합물을 유기물과 결합되어 있는 금속알콕사이드와 산이나 염기 촉매하에서 반응시킨 무-유기 공중합체 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
폴리비닐알콜은 친수성이 우수하며 수분이 없는 조건하에서는 우수한 산소 차단성 및 일반 유기 용매에 대한 차단성을 보여주지만 습도가 높은 조건하에서는 쉽게 용해될 뿐만 아니라 코팅층의 손상, 접촉시 감촉의 나빠짐, 산소 차단성이 급격히 떨어지는 단점을 가지고 있다. 따라서 높은 습도하에서 폴리비닐알콜을 사용하기 위해서는 수분에 대한 저항성을 높일 필요가 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 무-유기 재료를 혼성화시키려는 시도가 활발히 진행되고 있다.
무-유기 혼성 재료는 무기재료와 유기재료가 나노단위로 복합체를 형성하는 것으로 무기재료가 갖는 단점인 건조시에 생기는 균열을 방지할 뿐만 아니라 유기물이 갖는 낮은 열안정성 및 기계적 강도를 향상시킬 수 있는 장점을 가지고 있다. 그러나, 이들 무기물과 유기물을 혼합하여 제조된 복합재료는 물성을 어느 정도 향상시킬 수는 있지만 유기물내의 무기물 함량이 증가하게되면 쉽게 상분리가 일어남으로써 혼성재료 제조에 제한적일 수밖에 없다.
본 발명에서는 이러한 상분리 문제를 커플링제를 이용하여 실란기내에 유기물과 반응할 수 있는 유기 관능기를 도입하는 동시에 무기물과 축합반응을 할 수 있는 알콕사이드를 갖는 치환체를 동시에 가짐으로서 무-유기 혼성 재료가 갖는 상분리 문제를 해결할 수 있는 잇점을 제공한다.
본 발명과 관련된 종래기술로서 미합중국 특허 제 5,604,042호와 제 5,512,338호에서는 폴리비닐알콜에 멜라민-포름알데히드를 반응시킨 용액을 폴리우레탄이나 폴리에틸렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름에 코팅시켜 이들 필름의 산소 차단성을 향상시켰지만 수분 저항성이 낮아 이들 필름의 코팅면에 셀룰로오스나 폴리비닐리덴 클로라이드 막을 입혀 산소 차단성과 수분 저항성을 향상시키고 있다. 또한 미합중국 특허 제 5,547,764호, 제 5,496,649호, 제 4,416,938호, 제 4,262,067호에서는 글리옥살, 글루타릭다이알데히드를 사용하여 폴리비닐알콜 내의 히드록시 그룹을 알데히드와 서로 가교(crosslinking)시켜 산소 차단성을 향상시키고 있다. 이 경우 폴리비닐알콜의 히드록시기와 알데히드가 반응하여 아세탈기가 형성되나, 폴리비닐알콜 고분자 체인간의 커플링제로는 이용할 수 없다.
대한민국 공개특허 제 95-23518호에는 폴리비닐알콜과 폴리(메타)아크릴산의 혼합물을 사용하여 수분에 대한 저항성이 좋은 가스 차단성 필름이 기재되어있다. 이들 공지된 기술은 유기물만을 사용하기 때문에 기계적 물성에 있어서도 한계를 가지고 있다.
미합중국 특허 제 3,773,776호, 제 4,016,129호, 제 4,478,909호, 제 5,134,021호에 따르면 폴리비닐알콜과 실리카를 이용한 김 서림 방지용 필름이 기재되어 있다. 제조된 폴리비닐알콜-실리카 화합물은 단순한 수소결합을 이용하였으며, 여기에 김 서림 방지 효과를 높이기 위해 표면활성제로 플로린 화합물과 알루미늄 리간드 전구체를 혼합하여 제조하였다. 또한, 국제특허(PCT) WO 94/07947호에 의하면 테트라알콕시실란을 개미산 존재하에서 폴리비닐알콜과 반응하면 SiO2결합 뿐만 아니라 폴리비닐알콜 체인내의 수산화기가 개미산과 커플링하여 인성(toughness)을 향상시키는 것으로 나타났다. 그러나, 테트라알콕시실란과 폴리비닐알콜과의 반응인 SiO2-폴리비닐알콜 결합은 형성되지 않고 무기물 네트워크내에 폴리비닐알콜이 분산되는 것으로 설명하고 있다. 이러한 복합재료들은 무기물과 고분자간의 미세한 상분리가 일어남으로서 투명도가 크게 감소할 뿐만 아니라 필름내에 과량의 산이 존재함으로서 건조 과정에서 유기물이 쉽게 분해되는 문제점을 가지고 있다.
본 발명은 고분자-무기 복합 재료가 갖는 근본적인 문제점인 상분리 현상을 해결하여 투명하고 열에 안정하며 수분 저항성 및 기계적 성질이 우수한 공중합체를 제공하는 것을 목적으로 한다.
도 1은 실시예 2에서 제조한 무-유기 공중합체의 무게 손실계수를 측정한 그래프.
도 2는 비교예 2에서 제조한 무-유기 복합 재료의 손실계수를 측정한 그래프.
도 3은 비교예 1에서 제조한 폴리비닐알콜의 손실계수를 측정한 그래프.
본 발명은 상분리 문제를 해결하기 위해 무기물과 유기 고분자간에 실란커플링제를 이용하여 무기물 네트워크와 유기 고분자 사슬을 공유결합으로 연결시켜줌으로서 높은 투명성을 갖는 무-유기 공중합체를 제조한다.
본 발명에서 하기 구조식 1로 나타낼 수 있는 무-유기 공중합체의 제조방법으로는 일반식 3으로 나타내거나 시판되는 실리카 졸이나 테트라에톡시실란(알드리치사)과 같은 무기물 전구체를 메탄올이나 에탄올과 같은 저급알콜 바람직하게는1N 염산-에탄올 용액으로 0∼90℃ 바람직하게는 상온에서 1 내지 5시간 바람직하게는 3시간 동안 용해시킨 후, 산이나 염기촉매하에서 물을 첨가하여 0∼90℃ 바람직하게는 상온에서 1 내지 5시간 바람직하게는 3시간 동안 가수분해 및 축합반응이 일어난 상태로 구조식 2와 반응시켜 제조할 수 있다. 제조된 용액을 건조시키면 이들 미 반응물이 축합반응을 더 일어나게 할 수 있다. 그러나, 단순히 실란 전구체만을 사용하게 되면 과량의 수용액하에서 반응하기 때문에 수용액 상에서 충분한 축합반응이 일어나지 않는다. 또한, 건조시 높은 온도하에서는 폴리비닐알콜이 분해되어 착색되는 현상을 나타냄으로써 분자량이 큰 무기물 네트워크를 형성하기 어렵다. 따라서 이들 실란 전구체에 티타늄이나 알루미늄 전구체들을 리간드와 반응시켜 사용하게되면 이들 전구체가 촉매 역할을 함으로서 축합반응이 더 잘 일어나 분자량이 큰 무기물 네트워크를 형성한다.
한편 상기에서 언급한 산촉매로는 유기산이나 무기산을 사용할 수 있는데 유기산으로는 아세트산, 포름산, 브로모아세트산, 클로로아세트산, 플루오로아세트산, α-클로로프로피온산, o-프루오로벤조산, 히드록시아세트산, 락트산(lactic acid), 살리실산, 타르탄산(tartaric acid), 파라톨루인산, 폴리인산 또는 피로인산을 사용할 수 있고 무기산으로는 인산, 황산, 염산, 질산, 요오드산, 주석산 또는 과염소산을 사용할 수 있다. 염기 촉매로는 가성소다, 암모니아, 수산화칼륨, 수산화나트륨, n-부틸아민, 디-n-부틸아민, 트리-n-부틸아민, 트리에틸아민, 이미다졸, 피리딘 또는 과염소산 암모늄을 사용할 수 있다.
또한 무-유기 공중합체의 유용성을 증가시키기 위해 계면활성제, 자외선 흡수제, 산화방지제, 증점제 또는 레벨링제 등을 첨가할 수 있다.
< 구조식 1 > < 구조식 2 >
ML(OR4)nR5 mXp s
< 일반식 3 >
상기에서 R1은 H 또는 F이며, Q는 H, F 또는 알데히드나 에스테르 그룹을 가진 탄화수소, R2는 탄소수 1-22개인 직쇄 또는 측쇄 알킬기, R3, R4는 메틸, 에틸, 프로필, 부틸기 이거나 이들 그룹이 산촉매하에서 가수분해된 수소원자이며, R5은 탄소수가 1-22개이며 산소, 질소, 황 등의 헤테로 원자를 한 개 이상 포함하거나 포함하지 않는 직쇄 또는 측쇄 알킬기, M은 중심원자로 Ti, Zr, Si, Al, Cs, W, Ge 또는 Ta를 가진다(n+m=3∼5), L은 코디네이션 수로서 4∼6을 나타내며, X는 킬레이트 리간드를 나타내며 P=1 또는 2(P=0일 경우 M=Si, Cs, Ge), S는 리간드의 킬레이트 능력에 대응, 2(bidentate) 또는 3(tridentate)이다. x, y, z는 몰분율로 x=0.5∼0.99, y=0.01∼0.2, z=0∼0.5를 나타내며 x, y, z의 합은 1을 만족시킨다. a, b,c는 중량 퍼센트로서 a는 전체중량의 0.001∼10%이며 b와 c는 0.1∼50%이다. d와 e는 2 또는 3/2이다. M1또는 M2는 중심금속을 나타내며 Ti, Zr, Si, Al, Cs, W, Ge 또는 Ta을 한 개 이상 포함한다.
한편 상기에서 언급된 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 측쇄 알킬기는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, n-헥실기, 시클로헥실기, 1,3-디메틸부틸기, 1-이소프로필프로필기, 1,2-디메틸부틸기, n-헵틸기, 1,4-디메틸펜틸기, 2-메틸-1-이소프로필프로필기, 1-에틸-3-메틸부틸기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 3-메틸-1-이소프로필부틸기, 2-메틸-1-이소프로필부틸기, 1-t-부틸-2-메틸프로필기 n-노닐기, 이소시아노프로필기, 스틸릴기, 비닐기, 아릴기, 클로로알릴기, 사이클로헥센닐기와 같은 탄화수소기;
메톡시메틸기, 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 프로폭시에틸기, 부톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 디메톡시메틸기, 디에톡시메틸기, 디메톡시에톡시 및 디에톡시에틸기와 같은 알콕시알킬기;
클로로메틸기, 2,2,2-트리클로로메틸기, 트리플루오로메틸기, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로필기와 같은 할로겐화알킬기;
메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, sec-부톡시, t-부톡시기 또는 알콕시기를 들 수 있다.
구조식 2의 폴리비닐알콜-실란커플링제는 본 발명자들에 의한 1999년 1월 23일자 한국특허출원 제99-2073호에 기재된 방법으로 제조할 수 있으며, 일반식 3으로 나타낼 수 있는 금속 킬레이트 화합물은 공지된 방법(미합중국 특허 제 4,438,039호 또는 Dagobert Hoebbel, Thomas Reinert, Helmet Schmidt, Journal of Sol-Gel Science and Technology, 10, 115-126, 1997)에 따라 제조하거나 킬레이트 리간드와 알콕시실란 화합물의 혼합용액에서 1N 염산-에탄올 용액의 산촉매로 가수분해 후 반응성을 저하시켜 제조할 수 있다.
일반식 3의 무기물 전구체로는 중심금속이 실란, 티타늄, 지르코늄, 알루미늄, 세슘 또는 텅스텐의 금속산화물을 이용하며 이들 금속산화물을 단독 또는 조합하여 사용할 수 있다. 이러한 무기물 전구체의 예로는 티타늄 테트라에톡사이드, 티타늄 테트라프로폭사이드, 티타늄 테트라부톡사이드, 지르코늄 테트라에톡사이드, 지르코늄 테트라프로폭사이드, 지르코늄 테트라부톡사이드, 알루미늄 트리에톡사이드, 알루미늄 트리프로폭사이드, 알루미늄 트리부톡사이드, 텅스텐 헥사에톡사이드, 텅스텐 헥사메톡사이드, 텅스텐 헥사프로폭사이드, 세슘 테트라메톡사이드, 세슘 테트라에톡사이드, 세슘 테트라프로폭사이드, 탄탈늄 펜타메톡사이드, 탄탈늄 펜타에톡사이드, 탄탈늄 펜타프로폭사이드, 게르마늄 테트라메톡사이드, 게르마늄 테트라에톡사이드, 게르마늄 테트라프로폭사이드, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라프로폭시실란, 테트라부톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리프로폭시실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐디메톡시에톡시실란, 아미노프로필트리에톡시실란, 아미노프로필트리메톡시실란, 아미노프로필트리프로폭시실란, N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리에톡시실란,N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필디메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필디에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필디프로폭시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리프로폭시실란, N-(2-아미노에틸-3-아미노프로필)-트리메톡시실란(DIAMO), N-(2-아미노에틸-3-아미노프로필)-트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸-3-아미노프로필)-트리프로폭시실란, N-(2-아미노에틸-3-아미노프로필)-트리부톡시실란, 트리메톡시실릴프로필디에틸렌트리아민(TRIAMO), 트리에톡시실릴프로필디에틸렌트리아민, 트리프로폭시실릴프로필디에틸렌트리아민, 트리부톡시실릴프로필디에틸렌트리아민, 2-글리시독시에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 2-글리시독시프로필트리메톡시실란, 2-글리시독시에틸메틸디메톡시실란, 2-글리시독시에틸메틸디에톡시실란, 2-글리시독시에틸메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 2-글리시독시에틸에틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필에틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필에틸디에톡시실란, 2-글리시독시프로필에틸디에톡시실란, 2-글리시독시에틸프로필디메톡시실란, 2-(3,4-에톡시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에톡시사이클로헥실)에틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-클로로프로필트리프로폭시실란, 2-클로로프로필트리부톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란, 디메틸디메톡시실란 또는 3-클로로프로필메틸디메톡시실란 이다. 한편, 이들 무기물 전구체 대신 실리카, 보헤마이트, 알루미나, 지르코니아 또는 타이타니아의 금속산화물 입자를 이용할 수 있다.
실란 화합물을 제외한 금속산화물 전구체들은 반응성이 좋기 때문에 하기 구조식 4로 나타낼 수 있는 킬레이트 리간드와 함께 사용한다.
< 구조식 4 >
R6은 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 측쇄 알킬기로서 일가 탄화수소이며, R7은 수소, 알킬, 할로알킬, 아실기로부터 선택된 탄소수 8 이하이거나 R6과 함께 탄소수 12 이하인 치환된 사이클로 알킬기를 나타내며 이들 화합물은 클로로기, 니트로기, 아실기, 시아노기 또는 카르복시 에스테르로 치환된 기를 하나이상 포함할 수 있다. R8은 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 측쇄 알킬기로서 할로겐기, 시아노기, 아미노기로 치환된 탄소수 8 이하인 탄화수소이거나 화학식 OR9로 표현될 수 있다. R9은 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 측쇄 알킬기로서 탄소수 8 이하인 탄화수소를 나타내거나 폴리에테르(polyether) 또는 에테르기를 포함한 일가 탄화수소를 나타낸다.
구체적인 킬레이트 리간드의 예로는 아세틸아세토네이트, 메틸아세토아세테이트, 프로필아세토아세테이트, i-부틸아세토아세테이트, 펜틸아세토아세테이트, 헥틸아세토아세테이트, 헵틸아세토아세테이트, 옥틸아세토아세테이트, 에틸아세토아세테이트, 비스아세틸아세토네이트, 비스에틸아세토아세테이트, 디-n-부톡사이드 모노에틸아세토아세테이트, 디-i--프로폭사이드 모노메틸아세토아세테이트, 아세틸아세톤 또는 벤조일아세톤을 이용한다.
이하 본 발명을 다음의 실시예, 비교예 및 시험예에 의하여 설명하고자 한다. 그러나 이들이 본 발명의 기술적 범위를 한정하는 것은 아니다.
< 실시예 1 > 폴리비닐알콜-실란커플링제 제조
폴리비닐알콜(평균 분자량=89,000∼98,000, 검화도 99%이상, 알드리치사) 12.5g을 중량비로 5% 용액이 되게 증류수 237.5g에 넣고 80℃에서 3시간동안 반응시켜 용해하고 상온으로 냉각시킨 후 여기에 실란커플링제로 3,3-디에톡시프로필트리에톡시실란 0.625g(폴리비닐알콜 중량대비 5%)을 에탄올 20㎖에 용해시킨 용액을 첨가한다. 첨가 후 침전된 폴리비닐알콜을 용해시키기 위해 80℃에서 3시간동안 반응시켜 용해시킨 후 0.01N 황산 용액 5㎖를 넣고 80℃에서 3시간동안 반응시켜 폴리비닐알콜-실란커플링제 용액을 제조하였다.
< 실시예 2 > 폴리비닐알콜-실리카-티타늄 산화물로 구성된 무-유기 공중합체 제조
15㎖ 에탄올에 에틸아세토아세테이트(알드리치사) 0.4㎖와 테트라에틸올소실리케이트(TEOS, Si(OEt)4,알드리치사) 1.8g을 용해시킨 용액에 티타늄 이이소프로폭사이드(Ti(OiPr)4, 알드리치사) 0.2g을 넣고 상온에서 2시간동안 반응시킨다. 여기에 1N 염산 에탄올 용액 1㎖를 적가한 후 상온에서 2시간 반응시키고 증류수 5㎖를 1㎖씩 5번 나눠 5시간씩 반응시키고 10㎖ 증류수를 추가로 첨가한 후 1시간동안 반응시킨다. 그런 다음 실시예 1에서 제조한 폴리비닐알콜(10g)- 실란커플링제 (0.5g, 폴리비닐알콜대비 5% 중량비)에 넣고 상온 대기압하에서 3시간동안 반응시켜 무-유기 공중합체 용액을 제조한다.
< 실시예 3 > 폴리비닐알콜-알킬실리카-티타늄 산화물로 구성된 무-유기 공중합체 제조
테트라에틸올소실리케이트 대신 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(GPTS, 알드리치사) 1.8g을 사용한 것을 제외하곤 실시에 2와 같은 방법으로 무-유기 공중합체 용액을 제조한다.
< 실시예 4 > 산성 촉매하에서 제조한 폴리비닐알콜-실리카 공중합체 제조.
테트라에틸올소실리케이트 2.5g(폴리비닐알콜 대비 20% 중량비)을 에탄올 30㎖에 용해시킨 후 여기에 0.01N 황산 30㎖를 넣고 3시간동안 상온에서 반응시킨다. 이 반응 혼합물을 실시예 1에서 제조한 폴리비닐알콜-실란커플링제 용액 270㎖에 넣고 80℃에서 3시간동안 반응시켜 폴리비닐알콜-실리카 공중합체 용액을 제조하였다.
< 실시예 5 > 염기 촉매하에서 제조한 폴리비닐알콜-실리카 공중합체 제조
테트라에틸올소실리케이트 2.5g(폴리비닐알콜 대비 20% 중량비)을 에탄올 30㎖에 용해시킨 후 이것을 실시예 1에서 제조한 폴리비닐알콜-실란커플링제 용액 270㎖에 넣고 암모니아수(알드리치사)를 적가하여 pH=10이 되도록 만든 다음 상온에서 3시간동안 반응시켜 폴리비닐알콜-실리카 공중합체 용액을 제조하였다.
< 실시예 6 > 폴리비닐알콜-실리카 공중합체 제조
실리카 졸 2.40g(알드리치사, SiO230% 수용액, 폴리비닐알콜 대비 20% 중량비)을 사용하는 것을 제외하곤 실시예 3과 같은 방법으로 폴리비닐알콜-실리카 공중합체 용액을 제조하였다.
< 실시예 7 > 폴리비닐알콜-알킬실리카 공중합체 제조
메틸트리에톡시실란(MTES) 2.5g(폴리비닐알콜 대비 20% 중량비)을 사용하는 것을 제외하곤 실시예 3과 같은 방법으로 폴리비닐알콜-알킬실리카 공중합체 용액을 제조하였다.
< 비교예 1 > 폴리비닐알콜 수용액 제조
폴리비닐알콜(평균 분자량=89,000∼98,000, 검화도 99%이상, 알드리치사) 12.5g을 중량비로 5% 용액이 되게 증류수 237.5g에 넣고 80℃에서 3시간동안 반응시켜 용해시켰다. 이것을 상온으로 냉각시킨 후 에탄올 20㎖와 0.01N 황산 용액 5㎖를 넣고 80℃에서 3시간동안 반응시켜 폴리비닐알콜 용액을 제조한다.
< 비교예 2 > 폴리비닐알콜-실리카 산화물 복합재료 제조
미합중국 특허 제 4,016,129호 및 제 5,134,021호의 제조방법을 이용하여 테트라에틸올소실리케이트 2.5g(폴리비닐알콜 대비 20% 중량비)을 에탄올 30㎖에 녹인후 여기에 0.01N 황산 30㎖를 넣고 3시간동안 상온에서 반응시킨다. 이 반응 혼합물에 5% 폴리비닐알콜 수용액 250㎖에 넣고 80℃에서 3시간동안 반응시켜 폴리비닐알콜-실리카 산화물 복합재료 용액을 제조하였다.
< 시험예 1 >
무-유기 공중합체의 성분 변화에 따른 수분 저항성을 측정하기 위해 상기 실시예 2∼7과 비교예 2의 방법을 이용하고 아래의 표 1의 조성으로 제조한 무-유기 공중합체 용액 50㎖를 지름 8.5cm인 패트리디쉬에 넣고 대기압, 50℃에서 24시간동안 건조한 후, 90℃에서 24시간 더 건조하였다. 물에 대한 저항성을 측정하기 위해 최종적으로 무-유기 공중합체를 60℃ 물에 1시간동안 침지시킨 후 90℃에서 24시간동안 건조시켰으며 물에 담그기 전후의 무게를 측정하여 손실무게(%)를 하기 표 1(Ⅰ)(Ⅱ)에 각각 기재하였다.
표 1(Ⅰ). 무-유기 공중합체의 수분 저항성
실시예 2 | 실시예 3 | 실시예 4 | |
5% 폴리비닐알콜 수용액(㎖) | 50 | 50 | 50 |
실란커플링제(g) | 0.125 | 0.125 | 0.125 |
촉매양 | 0.01N 황산 1㎖ | 0.01N 황산 1㎖ | 0.01N 황산 1㎖ |
무기물 전구체 | Ti(O-i-Pr)4; 50㎎에틸아세토아세테이트; 45㎕TEOS; 0.45g | Ti(O-i-Pr)4; 50㎎에틸아세토아세테이트; 45㎕GPTS; 0.45g | TEOS; 0.5g |
무-유기 공중합체의 무게(g) | 2.131 | 2.147 | 1.961 |
60℃ 물에 1시간동안 담근후 무게감소(%) | 3 | 2.5 | 10 |
표 1(Ⅱ). 무-유기 공중합체의 수분 저항성
실시예 5 | 실시예 6 | 실시예 7 | 비교예 2 | |
5% 폴리비닐알콜수용액(㎖) | 50 | 50 | 50 | 50 |
실란커플링제(g) | 0.125 | 0.125 | 0.125 | - |
촉매양 | 25% NH4OH0.1㎖ | 0.01N황산 1㎖ | 0.01N황산 1㎖ | 0.01N황산 1㎖ |
무기물 전구체 | TEOS; 0.5g | 실리카졸 30% 수용액; 0.48g | MTES; 0.5g | TEOS; 0.5g |
무-유기 공중합체의 무게(g) | 2.115 | 1.974 | 2.045 | 1.925 |
60℃ 물에 1시간 동안 담근후 무게감소(%) | 10.5 | 7 | 12 | 23 |
< 시험예 2 >
무-유기 공중합체의 성분 변화에 따른 친수성 정도를 알아보기 위해 상기 실시예 2∼7과 비교예 2의 방법을 이용하고 아래의 표 2의 조성으로 제조한 무-유기 공중합체 용액을 20×20cm의 아크릴판에 붓고 대기압, 50℃에서 24시간동안 건조한후, 60℃에서 24시간동안 더 건조하여 필름화 하여 50∼100㎛ 정도의 두께로 유리판에 밀착시켰다. 필름의 친수성을 측정하기 위해 물방울을 떨어뜨린 후 30초 후에 접촉각을 측정하였으며 이의 결과를 아래의 표 2에 정리하여 나타내었다.
표 2. 무-유기 공중합체의 접촉각
실시예 2 | 실시예 3 | 실시예 4 | 실시예 5 | 실시예6 | 실시예 7 | 비교예 2 | |
폴리비닐알콜 수용액(%) | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 |
실란커플링제(PVA 대비 중량%) | 10 | 3 | 5 | 5 | 5 | 5 | - |
무기물 전구체(PVA 대비 중량%) | - | TEOS 10% | TEOS 20% | silica sol 20% | Ti(O-iPr)42%, TEOS 18% | MTES 20% | - |
접촉각(。) | 64±3 | 40±4 | 45±3 | 42±4 | 44±5 | 68±2 | 36±4 |
< 시험예 3 >
무-유기 공중합체의 성분 변화에 따른 흡습성을 측정하기 위해 상기 실시예 2∼7과 비교예 2의 방법을 이용하고 아래의 표 3의 조성으로 제조한 무-유기 공중합체 용액 40㎖를 지름 8.5cm인 패트리디쉬에 넣고 대기압하 50℃에서 24시간 동안 건조한 후, 90℃에서 24시간 더 건조하였다. 흡습성을 측정하기 위해 최종적으로 무-유기 공중합체를 12℃ 물에 24시간 동안 침지시킨 후 꺼내서 휴지로 공중합체 표면의 물을 제거한 후 물에 담그기 전후의 무게를 측정하였다. 실험 오차를 줄이기 위해 5번 실시한 값을 평균하여 손실무게(%)를 하기 표 3(Ⅰ)(Ⅱ)에 각각 기재하였다.
표 3(Ⅰ). 무-유기 공중합체의 흡습성
실시예 2 | 실시예 3 | 실시예 4 | 실시예 5 | 실시예 6 | |
5% 폴리비닐알콜수용액(g) | 40 | 40 | 40 | 40 | 40 |
실란커플링제(PVA 대비 중량%)(g) | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 |
무기물 전구체(PVA 대비 중량%)(g) | - | TEOS;5 | TEOS; 20 | MTES; 20 | GPTS; 20 |
시 료 무 게(g) | 1.81 | 1.685 | 1.691 | 1.77 | 1.868 |
흡 습 률(%) | 158 | 155 | 122 | 145 | 122 |
표 3(Ⅱ). 무-유기 공중합체의 흡습성
실시예 7 | 비교예 2 | |
5%폴리비닐알콜 수용액(g) | 40 | 40 |
실란커플링제(PVA 대비 중량%)(g) | 5 | - |
무기물 전구체(PVA 대비 중량%)(g) | Ti(OiPr)4;2, GPTS; 18 | - |
시 료 무 게(g) | 1.845 | 1.914 |
흡 습 률(%) | 131 | 169 |
< 시험예 4 >
무-유기 공중합체의 성분 변화에 따른 흐림도와 투광도를 알아보기 위해 상기 실시예 2∼7과 비교예 2의 방법을 이용하고 아래 표 4의 조성으로 제조한 무-유기 공중합체 용액을 20 ×20cm의 아크릴판에 붓고 대기압, 50℃에서 24시간동안 건조한 후 60℃에서 24시간동안 더 건조하여 필름화 하였다. 필름의 흐림도를 측정하기 위해 ASTM D 1003법에 따라 측정하였고, 투광도는 가시광선 영역의 빛을 투과하여 측정하였으며 이들의 측정값을 아래의 표 4(Ⅰ)(Ⅱ)에 나타내었다.
표 4(Ⅰ). 무-유기 공중합체의 흐림도와 투광도
실시예 2 | 실시예 3 | 실시예 4 | 실시예 5 | |
폴리비닐알콜(수용액 대비 중량%) | 5 | 5 | 5 | 5 |
실란커플링제(PVA 대비 중량%) | 10 | 3 | 5 | 5 |
무기물 전구체(PVA 대비 중량%) | - | TEOS 10% | TEOS 20% | silica sol 20% |
필름두께(㎛) | 77 | 69 | 30 | 48 |
흐 림 도(%) | 2.1 | 0.8 | 1.3 | 3.2 |
투 광 도(%) | 91.8 | 91.7 | 91.9 | 91.8 |
표 4(Ⅱ). 무-유기 공중합체의 흐림도와 투광도
실시예 6 | 실시예 7 | 비교예 1 | 비교예 2 | |
폴리비닐알콜(수용액 대비 중량%) | 5 | 5 | 5 | 5 |
실란커플링제(PVA 대비 중량%) | 5 | 5 | - | - |
무기물 전구체(PVA 대비 중량%) | Ti(O-iPr)42%, TEOS 18% | MTES 20% | - | TEOS 20% |
필름두께(㎛) | 118 | 61 | 80 | 69 |
흐 림 도(%) | 4.2 | 1.4 | 6.2 | 12.1 |
투 광 도(%) | 90.2 | 93.3 | 90.4 | 89.8 |
< 시험예 5 >
무-유기 공중합체를 물에 침지한 전후의 공중합체 무게 손실계수를 측정하기 위해 상기 실시예 2와 비교예 1, 2에서 제조한 무-유기 공중합체 용액을 20 ×20cm의 아크릴판에 붓고 대기압, 50℃에서 24시간 동안 건조한 후 다시 60℃에서 24시간 동안 더 건조하여 필름화 하였다. 제조된 필름을 1 ×3㎝의 크기로 절단한 다음 DMTA 장비(DMTA-MARK-4, Rheo Metric Scientifics사)를 이용하여 1 Herz, 분당 3℃ 속도로 0℃에서 150℃ 온도 범위에서 물에 침지한 후의 공중합체 무게 손실계수를 측정하였으며 이들의 결과를 도 1-3에 나타내었다.
본 발명에 의해 제조한 고분자-금속 산화물은 새로운 무-유기 공중합체로 용해성 고분자의 수분 저항성을 향상시키면서 친수성을 유지시켜 수지, 필름 코팅의 형태로 소포제, 윤활제, 도료, 내부식성 코팅, 방수코팅, 플라스틱 또는 금속의 보호 코팅, 전자 전기 부품코팅, 전기변색소자, 고굴절렌즈, 안경렌즈, 내열소재, 적외선 반사용 박막 및 김서림방지 코팅, 내오염 코팅, 가스차단 필름, 광경화형 소재, 자외선 경화잉크 및 도료, 전지 전해질 용액의 물품에 사용할 수 있다.
Claims (4)
- 하기 구조식 1로 표시되는 폴리비닐알콜 실란커플링제를 이용한 무-유기 공중합체< 구조식 1 >여기서 R1은 H 또는 F이며, Q는 H, F 또는 알데히드나 에스테르 그룹을 가진 탄화수소, R2는 탄소수 1-22개이며 산소, 질소, 황 등의 헤테로 원자를 한 개 이상 포함하거나 포함하지 않는 직쇄 또는 측쇄 알킬기, M1, M2은 중심금속으로서 Ti, Zr, Si, Al, Cs, W, Ge 또는 Ta를 가진다. x, y, z는 몰분율로서 x=0.5∼0.99, y=0.01∼0.2, z=0∼0.5을 나타내며 x,y,z의 합은 1을 만족시킨다. a, b, c는 중량 퍼센트로 a는 전체중량의 0.001∼10% 범위를 만족시키며 b와 c는 0.1∼50%를 만족시킨다. d와 e는 2 또는 3/2이다.
- 하기 구조식 2로 나타낼 수 있는 폴리비닐알콜-실란커플링제와 하기 일반식 3으로 나타낼 수 있는 무기물 전구체를 산이나 염기 촉매를 이용하여 0℃ 내지 90℃에서, 1 내지 5시간동안 반응시켜 상기 구조식 1로 나타낼 수 있는 공중합체를 제조하는 것을 특징으로 하는 폴리비닐알콜 실란커플링제를 이용한 무-유기 공중합체 제조방법.ML(OR4)nR5 mXp s< 구조식 2 > < 일반식 3 >R1, R2,x, y, z는 일반식 1에서 정의한바와 같다. R3, R4는 메틸, 에틸, 프로필 또는 부틸기 이거나 이들 그룹이 산촉매하에서 가수분해된 수소원자이며, R5은 탄소수 1-22개인 산소, 질소, 황등의 헤테로 원자를 한 개 이상 포함하거나 포함하지 않는 직쇄 또는 측쇄 알킬기, M은 중심원자을 나타내며 Ti, Zr, Si, Al, Cs, W, Ge 또는 Ta를 가진다(n+m=3∼5), L=코디네이션 수로서 4∼6을 나타내며, X는 킬레이트 리간드를 나타내며 P=1 또는 2(P=0일 경우 M=Si, Ge, Cs), S는 리간드의 킬레이트 능력에 대응, 2(bidentate) 또는 3(tridentate)이다.
- 제 2항에 있어서, 무기물 전구체는 구조식 2의 폴리비닐알콜-실란커플링제와 반응하기전 산이나 염기 촉매하에서 하기 일반식 4로 나타낼 수 있는 킬레이트 리간드로 화합물과 반응하는 것을 특징으로 하는 폴리비닐알콜-실란커플링제를 이용한 무-유기 공중합체의 제조방법.< 구조식 4 >R6은 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 측쇄 알킬기로서 일가 탄화수소이며, R7은 수소, 알킬, 할로알킬, 아실기로부터 선택된 탄소수 8이하이거나 R6과 함께 탄소수 12이하인 치환된 사이클로 알킬기를 나타내며, 이들 화합물은 클로로기, 니트로기, 아실기, 시아노기 또는 카르복시 에스터로 치환된 기를 하나이상 포함할 수 있다. R8은 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 측쇄 알킬기로서 할로겐기, 시아노기, 아미노기로 치환된 탄소수 8이하인 탄화수소이거나 일반식 OR9로 표현될 수 있다. R9은 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 측쇄 알킬기로서 탄소수 8이하인 탄화수소를 나타내거나 폴리에테르(polyether), 에테르기를 포함한 일가 탄화수소를 나타낸다.
- 제 2항 또는 3항에 있어서, 산이나 염기 촉매로는 아세트산, 포름산, 브로모아세트산, 클로로아세트산, 플루오로아세트산, α-클로로프로피온산, o-프루오로벤조산, 히드록시아세트산, 락트산(lactic acid), 살리실산, 타르탄산(tartaric acid), 파라톨루인산, 폴리인산, 피로인산, 인산, 황산, 염산, 질산, 요오드산, 주석산, 과염소산, 가성소다, 암모니아, 수산화칼륨, 수산화나트륨, n-부틸아민, 디-n-부틸아민, 트리-n-부틸아민, 트리에틸아민, 이미다졸, 피리딘, 과염소산 암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나임을 특징으로 하는 폴리비닐알콜-실란커플링제를 이용한 무-유기 공중합체의 제조방법.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990021425A KR100302326B1 (ko) | 1999-06-09 | 1999-06-09 | 폴리비닐알콜-실란커플링제를 이용한 무-유기 공중합체 및 그의제조방법 |
US09/585,866 US6337370B1 (en) | 1999-06-09 | 2000-06-01 | Inorganic-organic copolymer using polyvinylalcohol-silane coupling agent and preparation method thereof |
JP2000171732A JP2001011119A (ja) | 1999-06-09 | 2000-06-08 | ポリビニールアルコール−シランカップリング剤を用いた無機−有機共重合体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990021425A KR100302326B1 (ko) | 1999-06-09 | 1999-06-09 | 폴리비닐알콜-실란커플링제를 이용한 무-유기 공중합체 및 그의제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20010001925A KR20010001925A (ko) | 2001-01-05 |
KR100302326B1 true KR100302326B1 (ko) | 2001-09-22 |
Family
ID=19591184
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019990021425A KR100302326B1 (ko) | 1999-06-09 | 1999-06-09 | 폴리비닐알콜-실란커플링제를 이용한 무-유기 공중합체 및 그의제조방법 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6337370B1 (ko) |
JP (1) | JP2001011119A (ko) |
KR (1) | KR100302326B1 (ko) |
Families Citing this family (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090075083A1 (en) | 1997-07-21 | 2009-03-19 | Nanogram Corporation | Nanoparticle production and corresponding structures |
US7226966B2 (en) | 2001-08-03 | 2007-06-05 | Nanogram Corporation | Structures incorporating polymer-inorganic particle blends |
US6599631B2 (en) | 2001-01-26 | 2003-07-29 | Nanogram Corporation | Polymer-inorganic particle composites |
US8568684B2 (en) | 2000-10-17 | 2013-10-29 | Nanogram Corporation | Methods for synthesizing submicron doped silicon particles |
CN1206285C (zh) * | 1999-08-13 | 2005-06-15 | 旭化成株式会社 | 有机域/无机域复合材料 |
US20030187113A1 (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-02 | Jsr Corporation | Gas barrier coating composition and method for manufacturing same |
AU2003226307A1 (en) | 2002-04-15 | 2003-11-03 | Colormatrix Corporation | Coating composition containing an epoxide additive and structures coated therewith |
DE10223345A1 (de) * | 2002-05-25 | 2003-12-11 | Karlsruhe Forschzent | Verfahren zur Herstellung von Polymergerüsten mit daran gebundenen Übergangsmetallen |
DE10233936A1 (de) * | 2002-07-25 | 2004-02-12 | Wacker Polymer Systems Gmbh & Co. Kg | Silan-haltige Polymerisate |
DE10233934A1 (de) * | 2002-07-25 | 2004-02-12 | Wacker Polymer Systems Gmbh & Co. Kg | Silan-haltige Polyvinylalkohole und Polyvinylacetale |
CN1681869B (zh) * | 2002-09-24 | 2010-05-26 | E.I.内穆尔杜邦公司 | 用于电子器件用聚合物酸胶体制成的可水分散的聚苯胺 |
KR101021749B1 (ko) * | 2002-09-24 | 2011-03-15 | 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 | 전기 전도 유기 중합체/나노입자 복합체 및 이들의 이용방법 |
US7431866B2 (en) | 2002-09-24 | 2008-10-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Water dispersible polythiophenes made with polymeric acid colloids |
US7317047B2 (en) * | 2002-09-24 | 2008-01-08 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Electrically conducting organic polymer/nanoparticle composites and methods for use thereof |
US20040079974A1 (en) * | 2002-10-24 | 2004-04-29 | Texas Instruments Incorporated | Method for manufacturing a semiconductor device using dummy openings in a photoresist material and an LDMOS device manufactured in accordance with the method |
US7390438B2 (en) * | 2003-04-22 | 2008-06-24 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Water dispersible substituted polydioxythiophenes made with fluorinated polymeric sulfonic acid colloids |
US7351358B2 (en) | 2004-03-17 | 2008-04-01 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Water dispersible polypyrroles made with polymeric acid colloids for electronics applications |
US8147962B2 (en) | 2004-04-13 | 2012-04-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Conductive polymer composites |
WO2007002740A2 (en) | 2005-06-28 | 2007-01-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Buffer compositions |
EP1897096A4 (en) | 2005-06-28 | 2009-08-12 | Du Pont | TRANSPARENT CONDUCTORS WITH HIGH EXTRACTION WORK |
GB2431659A (en) * | 2005-10-28 | 2007-05-02 | Sun Chemical Ltd | Gas barrier coating having high thermal resistance |
US8216680B2 (en) | 2006-02-03 | 2012-07-10 | E I Du Pont De Nemours And Company | Transparent composite conductors having high work function |
US20080191172A1 (en) * | 2006-12-29 | 2008-08-14 | Che-Hsiung Hsu | High work-function and high conductivity compositions of electrically conducting polymers |
US8241526B2 (en) | 2007-05-18 | 2012-08-14 | E I Du Pont De Nemours And Company | Aqueous dispersions of electrically conducting polymers containing high boiling solvent and additives |
JP4936069B2 (ja) * | 2007-10-31 | 2012-05-23 | 株式会社デンソー | モータ制御装置 |
US20110114925A1 (en) * | 2007-12-27 | 2011-05-19 | Che-Hsiung Hsu | Buffer bilayers for electronic devices |
US8216685B2 (en) * | 2008-05-16 | 2012-07-10 | E I Du Pont De Nemours And Company | Buffer bilayers for electronic devices |
US8461758B2 (en) * | 2008-12-19 | 2013-06-11 | E I Du Pont De Nemours And Company | Buffer bilayers for electronic devices |
US8766239B2 (en) | 2008-12-27 | 2014-07-01 | E I Du Pont De Nemours And Company | Buffer bilayers for electronic devices |
US8785913B2 (en) | 2008-12-27 | 2014-07-22 | E I Du Pont De Nemours And Company | Buffer bilayers for electronic devices |
US8945426B2 (en) | 2009-03-12 | 2015-02-03 | E I Du Pont De Nemours And Company | Electrically conductive polymer compositions for coating applications |
CN102395628B (zh) | 2009-04-21 | 2016-01-20 | E.I.内穆尔杜邦公司 | 导电聚合物组合物和由其制得的膜 |
TW201100482A (en) | 2009-04-24 | 2011-01-01 | Du Pont | Electrically conductive polymer compositions and films made therefrom |
SE533995C2 (sv) | 2009-06-22 | 2011-03-22 | Stefan Persson | Regnskyddsanordning för utomhusläktarstol samt användning av en sådan anordning vid en läktarstol |
US8895962B2 (en) | 2010-06-29 | 2014-11-25 | Nanogram Corporation | Silicon/germanium nanoparticle inks, laser pyrolysis reactors for the synthesis of nanoparticles and associated methods |
RU2573901C2 (ru) * | 2010-10-12 | 2016-01-27 | Таркетт Гдл | Способ получения поверхностного покрытия, имеющего защитный слой |
CN102020769B (zh) * | 2010-11-24 | 2012-06-06 | 华东理工大学 | 一种硅氧共聚物的用途 |
KR101958056B1 (ko) | 2013-05-24 | 2019-03-13 | 데이진 가부시키가이샤 | 고점도 알콜 용매 및 실리콘/게르마늄계 나노입자를 포함하는 인쇄용 잉크 |
IN2013CH04853A (ko) * | 2013-10-28 | 2015-05-08 | Empire Technology Dev Llc | |
GB2521405B (en) * | 2013-12-18 | 2015-12-02 | Dublin Inst Of Technology | A surface coating |
KR102244700B1 (ko) * | 2014-03-25 | 2021-04-23 | 주식회사 엘지생활건강 | 수용성 필름 및 이를 제조하기 위한 조성물 |
CN108091411B (zh) * | 2018-01-19 | 2020-02-21 | 东华理工大学 | 一种利用碳基杯芳烃冠醚杂化材料同时分离铯和铷的方法 |
CN110396197B (zh) * | 2019-08-09 | 2024-07-23 | 雅思汀娜(北京)科技有限公司 | 一种硅油接枝聚合物以及一种疏水镀膜液及其制备方法和一种疏水膜 |
WO2021171745A1 (ja) * | 2020-02-27 | 2021-09-02 | ユニマテック株式会社 | 含フッ素アルコールコンポジット |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3773776A (en) | 1971-03-31 | 1973-11-20 | Du Pont | Aqueous acidic polyvinyl alcoholsilica solution |
GB1521305A (en) | 1974-07-30 | 1978-08-16 | Kansai Paint Co Ltd | Hardenable coating compositions |
US4262067A (en) | 1980-01-18 | 1981-04-14 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | In-situ cross linking of polyvinyl alcohol |
US4478909A (en) | 1980-10-24 | 1984-10-23 | Toray Industries, Inc. | Anti-fogging coating film |
US4416938A (en) | 1981-09-14 | 1983-11-22 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Inorganic films with poly(vinyl alcohol) |
US5134021A (en) | 1990-01-04 | 1992-07-28 | Toray Industries, Inc. | Anti-fogging film |
US5604042A (en) | 1991-12-23 | 1997-02-18 | Mobil Oil Corporation | Cellulose material containing barrier film structures |
US5512338A (en) | 1991-12-23 | 1996-04-30 | Mobil Oil Corp. | Oxygen, flavor/odor, grease/oil and moisture barrier film structures |
US5412016A (en) | 1992-09-28 | 1995-05-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making polymeric inorganic-organic compositions |
US5496649A (en) | 1994-07-21 | 1996-03-05 | Mobil Oil Corp. | Cross-linked PVOH coatings having enhanced barrier characteristics |
US5547764A (en) | 1994-12-22 | 1996-08-20 | Mobil Oil Corporation | Method of producing PVOH coatings with enhanced properties |
EP0918061B1 (en) * | 1997-11-21 | 2007-10-31 | Orient Chemical Industries, Ltd. | Organic-inorganic hybrid polymer material and process for preparing the same |
-
1999
- 1999-06-09 KR KR1019990021425A patent/KR100302326B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-06-01 US US09/585,866 patent/US6337370B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-06-08 JP JP2000171732A patent/JP2001011119A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6337370B1 (en) | 2002-01-08 |
JP2001011119A (ja) | 2001-01-16 |
KR20010001925A (ko) | 2001-01-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100302326B1 (ko) | 폴리비닐알콜-실란커플링제를 이용한 무-유기 공중합체 및 그의제조방법 | |
US4753827A (en) | Abrasion-resistant organosiloxane/metal oxide coating | |
EP0486469B1 (en) | Organic-inorganic hybrid polymer | |
US4754012A (en) | Multi-component sol-gel protective coating composition | |
US4731264A (en) | Sol-gel compositions containing silane and alumina | |
US6635735B1 (en) | Coating composition | |
CN102655953B (zh) | 磺酸根官能涂层和方法 | |
US6106605A (en) | Silica-free UV-absorbing abrasion resistant coatings | |
KR920004191B1 (ko) | 유기 알콕시 실란/금속 산화물의 중합 생성물과 이것의 코우팅 및 그 제조방법 | |
US4799963A (en) | Optically transparent UV-protective coatings | |
JP3846545B2 (ja) | コーティング剤組成物、コーティング方法及び被覆物品 | |
EP0782015B1 (en) | Non-fogging antireflection film and optical member, and production process thereof | |
US20110003142A1 (en) | Nanoparticle sol-gel composite hybrid transparent coating materials | |
JP4803857B2 (ja) | 硼素−および/またはアルミニウム−含有混合物、混成材料およびコーティング | |
KR101021659B1 (ko) | 태양전지 모듈용 글래스에 사용하기 위하여 광투과율을 증대시켜 주는 코팅액을 제조하는 방법과 이에 의하여 제조된 코팅액 조성물 | |
CN112094422B (zh) | 一种高透光性阻隔膜及其应用 | |
JP4971608B2 (ja) | 光触媒担持構造体 | |
JP2000026610A5 (ko) | ||
KR101081431B1 (ko) | 유무기 하이브리드 하드 코팅제의 제조방법 | |
EP1854854A1 (en) | Coating composition and coated article | |
CN103589339A (zh) | 聚硅氮烷涂覆溶液及制备含金属氧化物-SiO2复合涂层的方法 | |
JP2016505162A (ja) | シロキサン化合物を含む超親水性反射防止コーティング組成物、それを用いた超親水性反射防止フィルムおよびその製造方法 | |
JP2013107926A (ja) | 被膜形成用組成物およびその製造方法ならびにそれを用いた太陽電池モジュール | |
TW202003778A (zh) | 撥水性被膜形成用組成物及撥水性被膜 | |
KR101772549B1 (ko) | 고투명성 유기-무기 복합 코팅제 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |