KR0179359B1 - 안정화된 3-이소티아졸론 조성물 - Google Patents

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윌리암 이 램버트 3세
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Abstract

본 발명은 안정화 3-이소티아졸론 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 안정화 3-이소티아졸론 조성물은 (a) 하나 이상의 하기 일반식(I)의 3-이소티아졸론 ; 및 (b) 헥사메틸렌테트라아민(HMT)를, 포함하여 구성된다.
Figure kpo00001
상기 일반식에서, Y는 수소; 비치환 또는 치환(C1-C18) 알킬; 비치환 또는 할로겐-치환, (C2-C8) 알케닐 또는 (C2-C8) 알키닐; 비치환 또는 치환(C3-C12) 시클로알킬; 탄소수 10개 이하(≤C10)의 아랄킬; 할로겐-, 저급알킬-, 또는 저급알콕시-치환(≤C10)아랄킬; (≤C10)아릴; 및 할로겐-, 저급알킬-, 또는 저급 알콕시-치환(≤C10)아릴로 구성된 군으로부터 선택된 기이며; X와 X1은 각각 수소, 할로겐, 및 (C1-C4)알킬로 구성된 군으로부터 선택된 기이다.
본 조성물은 일반적으로 용매 내에 용해된 용액의 형태로 사용된다. 바람직한 용매는 폴리올류이다. 조성물네 HMT와 3-이소티아졸론의 중량비는 일반적으로 약 50:1 내지 1:50이다.

Description

[발명의 명칭]
안정화 된 3-이소티아졸론 조성물
[발명의 상세한 설명]
[발명의 목적]
[발명이 속하는 기술분야 및 그 분야의 종래기술]
본 발명은 헥사메틸렌테트라아민과의 혼합에 의해 3-이소티아졸론 화합물을 안정화시키는 것에 관한 것이다.
이소티아졸론은 미생물에 의해 발생되는 특정 수성 및 비-수성 생성물의 손상을 방지하는 살균제로서 상당한 상업적 관심의 대상이 되어 왔다. 이소티아졸론은 매우 효과적인 살균제(본 명세서에서 사용된, 살균제(microbicides)는 박테리아 살균제, 곰팡이 살균제 및 살조제(algicides)를 포함하며 살균 활성은 박테리아, 곰팡이 및 조류와 같은 미생물을 제거하고 그 성장을 저해 또는 억제하는 것 모두를 의미하도록 한다)이며, 기능기의 적당한 선택에 의해, 이들은 광범위한 적용처에서 유용하다. 그러나, 이들은 실질적인 장기간의 저장 조건하에서는 안정하지 못하므로 처리될 기질에 첨가 전 또는 첨가 후 보관시 그 효과가 감소될 수 있다는 것으로 알려져 있다. 따라서 이소티아졸론의 안정성을 개선시키기 위한 방법들이 연구되어 왔다.
미국특허 제3,870,795와 4,067,878에는 금속 아질산염 또는 금속 질산염의 첨가로써 화학적 분해에 대한 이소티아졸론의 안정화를 가르치나, 탄산염, 황산염, 염소산염, 과염소산염 및 염화물을 포함하는 다른 일반 금속 염들은 이소티아졸론 용액(이러한 용액은 보토 물 또는 히드록실 용매를 사용한다)을 안정화하는데 효과적이지 않다고 가르친다.
미국특허 제4,150,026과 4,242,214에는 이소티아졸론의 금속염 착물이 생물학적 활성을 유지하면서도, 증대된 열안정성을 가지므로 유용하다고 가르치고 있다.
통상적으로 금속염들이 부식, 라텍스 응고, 비수성 매체에서의 불용성, 안정화 될 기질과의 상호반응 등과 같은 문제점들을 야기할 수 있는 사용 환경에 있어, 이소티아졸론에 특정 유기 안정화제를 사용하는 것이 알려져 있다. 염기 조건하에 포름알데히드 또는 포름알데히드-방출 화학물질인 헥사메틸렌테트라아민의 4차염들(미국특허 제4,165,318과 4,129,448)과, 오르소에스테르 같은 특정 유기 화학물질(미국특허출원 118,366) 및 에폭시드(미국특허출원 194,234)등이 안정화제로서 알려져 있다. 그 4차염들과는 달리, 헥사메틸렌테트라아민은 염기 조건하에서 포름알데히드를 방출하지 않는 것으로 밝혀졌다(H.W.Rossmore and M. Sondossi의 Advances in Applied Microbiology, 33,230(1988)).
그런, 특정 적용처에서는 이들의 휘발성,고열하에서의 분해, 고비용, 취급의 어려움, 및 잠재적 독성 등으로 인해 특정 유기 안정화제의 첨가를 피하는 것이 바람직하다.
실제 사용에서, 황산구리와 같은 구리 염류는 이소티아졸론의 안정화에 효과적인 것으로 밝혀졌다. 그러나, 구리염류는 안정화된 이소티아졸론의 제조 또는 제품 내로의 이들의 혼합 또는 그 제품의 사용 등과 같은 일련의 작업에서 용출류에서 바람직하지 않다. 구리염, 특히 그 염화물은 부식의 가능성이 있으며, 또는 수성 분산액 내에 중합체가 존재하면 분산액의 응고를 일으킬 수 있다.
일본 공개 54-132203은 목제 보존재로서의 헥사메틸렌테트라아민의 사용과 장식용 보드 살균 시스템의 살균제로서의 벤즈이소티아졸론의 사용을 가르치고 있으나, 3-이소티아졸론 용 안정화제로서의 헥사메틸렌테트라아민의 사용 및 3-이소티아졸론 에 대해서는 전혀 제안하거나 개시하지 않았다.
헝가리 특허 제46721 A2에는 페인트 조성물에서의 사용을 위한 살균 배합물의 일부로서 헥사메틸렌테트라아민의 사용을 개시하였으며; 또한 페인트 조성물에서의 사용을 위한 초기(primer) 배합물의 일부로서 2-옥틸-3-이소티아졸론의 사용을 개시하였다.
[발명이 이루고자 하는 기술적 과제]
본 발명은 종래 시스템이 갖는 결점의 일부 또는 전부를 극복한 이소티아졸론에 대한 안정화 시스템을 제공하고자 한다. 본 발명은 또한 이소티아졸론이 살균제로 사용되는 시스템에서 다른 성분들을 방해하지 않도록 매우 낮은 수준의 안정화제에 의해 안정화된 이소티아졸론을 제공하고자 한다.
[발명의 구성 및 작용]
본 발명자는 이소티아졸론을 함유하는 조성물에 헥사메틸렌테트라아민(이하 HMT라 한다)을 첨가함으로써 분해에 대하여 이소티아졸론을 안정화시킬 수 있다는 것을 놀랍게도 발견하였다.
따라서, 본 발명은 (a) 하기식 1을 갖는 최소 하나의 3-이소티아졸론 ; 및 (b) 헥사메틸렌테트라아민(HMT); 으로 구성되는 안정화된 조성물을 제공한다.
Figure kpo00002
단, 상기식에서, Y는 수소; 1~18개의 탄소원자를 갖는 알킬 또는 치환된 알킬; 2~8개의 탄소원자를 갖는 치환되지 않았거나 할로겐-치환된 알케닐 또는 알키닐; 3~12개의 탄소원자를 갖는 시클로알킬 또는 치환된 시클로알킬; 최대 10개의 탄소원자를 갖는 아랄킬 또는 할로겐-, 저급 알킬-, 또는 저급 알콕시-치환된 아랄킬; 및 최대 10개의 탄소원자를 갖는 아릴, 할로겐-, 저급 알킬-, 또는 저급 알콕시-치환된 아릴로 이루어지는 그룹으로부터 선택되며; X와 X1는 독립적으로 수소, 할로겐, 및 (C1-C4)알킬로 이루어지는 그룹으로부터 선택되며; 상기 HMT 대 3-이소티아졸론의 중량비는 1:50~20:1이다.
다른 견지에서, 본 발명은 상기 조성물을, 박테리아, 곰팡이, 이스트, 또는 조류의 성장에 역효과를 주는데 효과적인 양으로 서식처에 또는 그 내부에 혼합하는 것을 포함하는, 박테리아, 곰팡이, 이스트, 또는 조류에 의한 오염에 영향을 받기 쉬운 서식처에서 박테리아, 곰팡이, 이스트, 또는 조류의 성장을 저해하거나 억제하는 방법을 포함한다.
본 발명의 3-이소티아졸론으로는 미국특허 제3,523,121과 3,761,488에 개시된 것들로서, 하기식으로 나타내어진다.
Figure kpo00003
단, 상기식에서, Y는 수소; 1~18개, 바람직하게는 4~10개의 탄소원자를 갖는 알킬 또는 치환된 알킬; 2~8개의 탄소원자, 바람직하게는 2~4개의 탄소원자를 갖는 치환되지 않은 또는 할로겐-치환된 알케닐이나 알키닐; 3~12개의 탄소원자, 바람직하게는 5~8개의 탄소원자를 갖는 시클로알킬 또는 치환된 시클로알킬; 최대 10개의 탄소원자를 갖는 아랄킬 또는 할로겐-, 저급 알킬-, 또는 저급 알콕시-치환된 아랄킬; 및 최대 10개의 탄소원자를 갖는 아릴 또는 할로겐-, 저급 알킬-, 또는 저급 알콕시-치환된 아릴이며; X와 X1는 수소, 할로겐, 또는 (C1-C4)알킬이다.
대표적인 Y 치환체로는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 헥실, 옥틸, 시클로헥실, 벤질, 3,4-디클로로페닐, 4-메톡시벤질, 4-클로로벤질, 4-메톡시페닐, 4-클로로페닐, 펜에틸, 2-(4-클로로페닐)에틸, 히드록시메틸, 클로로메틸, 클로로프로필, 수소 등을 포함한다.
저급이란 표현은 알킬, 알콕시 등과 같은 용어와 결부되어 사용될 경우, 알킬 또는 이들의 알킬부가 1~4개의 탄소, 즉(C1-C4)를 갖는 것을 의미한다.
치환된 알킬기는 하나 이상의 수소 원자들이 다른 치환기로 된 치환된 알킬기를 의미한다. 본 발명의 3-이소티아졸론을 특정시키는 치환된 알킬기의 예로는 히드록시알킬, 할로알킬, 사이노알킬, 알킬아미노알킬, 디알킬아미노알킬, 아릴아미노알킬, 카르복시알킬, 카르발콕시알킬, 알콕시알킬, 아릴옥시알킬, 알킬티오알킬, 아릴티오알킬, 할로알콕시알킬, 몰폴리노알킬, 피페리디노알킬, 피롤리도닐알킬 등과 같은 시클로알킬아미노알킬, 카르밤옥시알킬, 알케닐, 할로알케닐, 알키닐, 할로알키닐, 이소티아졸로닐알킬 등을 포함한다.
치환된 아랄킬기는 아릴 고리 또는 알킬 사슬상의 하나 이상의 수소 원자가 다른 치환기로 치환된 아랄킬기를 의미한다. 본 발명의 3-이소티아졸론을 특정 지우는 치환된 아랄킬기의 예로는 할로겐-, 저급알킬- 또는 저급 알콕시-치환된 아랄칼기 등을 포함한다.
치환된 아릴기는 아릴 고리상의 하나 이상의 수소 원자가 다른 치환기로 치환된 벤젠, 나프탈렌, 또는 피리딘과 같은 아릴기를 의미한다. 이러한 치환기의 예로는 할로겐, 니트로, 저급 알킬, 저급알킬-아실아미노, 저급 카발콕시, 술파킬 등을 포함한다.
특히 바람직한 이소티아졸론으로는 5-클로로-2-메틸-3-이소티아졸론, 2-메틸-3-이소티아졸론, 2-n-옥틸-3-이소티아졸론, 4,5-디클로로-2-시클로헥실-3-이소티아졸론 및 4,5-디클로로-2-옥틸-3-이소티아졸론을 들 수 있다.
가장 바람직한 이소티아졸론은 단일 화합물로서 또는2-메틸-3-이소티아졸론과 혼합된 형태의 5-클로로-2-메틸-3-이소틸아졸론이다. 혼합된 경우, 5-클로로-2-메틸-3-이소티아졸론/2-메틸-3-이소티아졸론의 바람직한 비는 약 70:30 ~ 85:15이며, 특히 바람직한 비는 70:30~80:20이다. 두 번째로 특히 바람직한 이소티아졸론은 낮은 수준의 5-클로로-2-메틸-3-이소티아졸론과 혼합된 2-메틸-3-이소티아졸론이며, 바람직한 비는 약 98:2 ~ 약 96:4이며, 특히 바람직한 비는 약 97:3이다. 세 번째로 바람직한 이소티아졸론은 2-n-옥틸-3-이소티아졸론이다.
본 발명의 조성물은 하나 이상의 이소티아졸론 약 0.00001 ~ 99부와, HMT 약 0.00001 ~ 99부를 함유한다.
일반적으로, 본 발명의 조성물은 용액의 형태이다. 이소티아졸론의 농축 용액 및 묽은 용액 모두에 대한 전형적인 조성비의 범위를 하기표에 나타내었다(모든 백분율은 중량부임). 대량 선적과 같은, 특정 용도에 있어서는, 보다 농축된 용액도 사용할 수 있다.
이소티아졸론을 용해시키는데 용매를 사용할 수 있으며, 이소티아졸론을 용해시키며, 의도된 용도에 부합하며, 이소티아졸론을 탈안정화하지 않으며, HMT와 반응하여 그 안정화 작용을 제거시키지 않는 어떠한 유기 용매도 가능하다.
예를 들어 글리콜, 알코올 등과 같은 폴리올과 같은 히드록실 용매를 사용할 수 있다. 높은 희석 조건 및 안정화제 대 이소티아졸론의 비가 높은 조건하에서는 글리콜이 성공적으로 사용될 수 있다. 특정 조성물에서는 탄화수소(지방족 또는 방향족)가 유용한 용매이다.
바람직한 용매로는 자유 히드록실기가 에테르 또는 에스테르 가능기로 치환된 캐핑된 폴리올이다. 특히 바람직한 것은 보통 상업적으로 트리에틸렌 글리콜 디메틸 에테르로 알려진 2,5,8,11-테트라옥사도데칸과, 상업적으로 디에틸 글리콜 부틸 에테르 아세테이트로 알려진 4,7-디옥사운데칸올-1-아세테이트이다.
바람직한 이소티아졸론에 대해서는 물이 용매이며, HMT는 수성 배합물에 사용할 수 있다.
사용되는 HMT의 양은 사용 조건 및 혼합물 내의 이소티아졸론의 농도에 따라 변하며; 이소티아졸론을 기준으로 한 HMT의 효과적인 양은 안정화제 대 이소티아졸론이 약 1:100~약 1000:1의 범위이다. 농축 용액에서는, 비율이 통상적으로 약 1:50~50:1이다. 보다 많은 양을 사용할 수도 있으나, 비용이 추가된다. 높은 수준의 이소티아졸론 희석 용액(용매 내에 이소티아졸론이 1~10,000ppm(0.0001~1%)와 같은 경우)에서, 안정화제 대 이소티아졸론의 비는 약 1:10 ~ 20:1의 범위일 수 있다. 바람직한 범위로는 1:1 ~20:1이다.
본 발명의 HMT의 안정화의 잇점은 미국특허 제3,870,795, 4,067,878, 4,150,026 및 4,241,214에 기재된 다른 염 안정화제를 함유하는 경우에도 뛰어나다.
이와 같은 새로운 유기적으로 안정화된 살균제는 전형적으로 박테리아, 곰팡이, 이스트, 또는 조류에 의해 오염되는 어떠한 서식처에도 사용된다. 전형적인 서식처로는 수냉각, 세탁수와 같은 수성 시스템, 절각유, 유전 같은 오일 시스템 및 미생물이 살균되거나 그 성장이 억제될 필요가 있는 기타 시스템이다. 그러나, 이들 안정화된 살균제는 또한 살균 조성물이 유용한 모든 공지의 적용처에서도 또한 사용할 수 있다; 본 조성물의 바람직한 용도로는 미생물로부터 목재, 페인트, 접착제, 풀, 종이, 직물, 가죽, 플라스틱, 카드보오드, 윤활제, 화장품, 음식, 코오크, 식품 및 산업용 냉각수 등을 보호하는 것이다.
다음은 본 조성물의 전형적인 공업분야 및 적용처이다;
Figure kpo00005
Figure kpo00006
Figure kpo00007
Figure kpo00008
Figure kpo00009
Figure kpo00010
이소티아졸론은 살균제로서 매우 활성적이며 안정화를 이루는데 단지 낮은 수준의 HMT를 필요로 하기 때문에, 처리될 시스템 내의 HMT의 양은 매우 적을 것이며, 따라서 보호가 필요한 시스템 내의 다른 성분들 또는 보호된 시스템이 적용되는 시스템을 방해하지 않을 것이다. 일반적인 적용처의 범위로는 금속-가공 유체, 페인트, 냉각수 및 공기 청정기를 포함한다.
본 발명의 조성물의 한 가지 중요한 적용처로는 금속가공 유체 내의 살균제로서이다. 금속 가공유체는 화학물질들의 혼합물이며, 이는 알칸올아민, 석유 술포네이트 표면활성제, 오일(나프텐계, 파라핀계 등), 염소화 파라핀류 및 지방산 에스테르, 황화 지방산 화합물, 인산 에스테르, 지방산 및 이들의 아민염, 글리콜, 폴리글리콜, 붕산 에스테르 및 아미드와 같은 성분들을 함유할 수 있다. 이들은 윤활, 냉각, 표면 부식 방지 등의 목적을 위해 분쇄, 기계가공, 천공 및 기타 금속 제조를 위한 가공기술에서 사용된다. 이들은 활성 금속 가공 유체(MWF) 농축물이 형태로 판매되며, 사용시 1~10%의 활성 성분 수용액으로 희석된다.
금속가공 유체는 재순환 되어 저장되기 때문에, 미생물의 성장이 용이하다. 이소티아졸론은 이러한 미생물의 성장을 방지하는데 효과적인 것으로 밝혀졌다. 금속 가공 유체 내의 어떤 성분들은 이소티아졸론을 파괴하여 그 살충 보호 활성을 저하시키는 경향이 있으므로, 그러한 성능 저하에 대한 이소티아졸론 안정화제가 필요하다.
살균제의 성능은 하나 이상의 다른 살균제들과 혼합함으로써 증대될 수 있다는 것이 이 기술분야에서 알려져 있다. 따라서, 알려진 살균제들을 본 발명의 조성물과 유리하게 혼합할 수 있다.
이하 실시예들을 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 다른 표시가 없으면, 모든 퍼센트는 중량%이며, 모든 시약들은 양호한 상업용 등급의 품질이다. 하기 실시예에서 금속-가공 유체내의 이소티아졸론의 정량적인 분석 방법은 1988년, Rohm and Haas Company의 Kathon886MW Microbicide and Kathon893MW Fungicide; Analysis in Metalworking Fluids by High-Performance Liquid Chromatography에 상세히 기술되어 있다.
[실시예 1]
본 실시예는 금속가공 유체(MWF)에 첨가된 이소티아졸론에 대한 HMT의 안정화 효과를 나타낸다. MWF 농축액 A는 나프텐계/파라핀계 오일 약 10~15%, 물 약 50%, 에멀션화제, pH조절 아민, 부식방지제, 및 EP(극압)제를 함유하는 반-합성형이었다.
유리병 내로 다음의 순서로 넣었다: a) MWF 농축 용액 5 중량부, b) 용액 또는 분산액내의 안정화제 5부, c) 물 5부, d) 5-클로로-2-메틸-3-이소티아졸론과 2-메틸-3-이소티아졸론의 약 75:25 혼합물 14.4% 수용액을 희석하여 제조한, 활성 성분(AI) 80pm을 함유하는 수용부 5부; 또한 염화 마그네숨 9.2%와 질산 마그네슘 15.7%가 존재하였다. 따라서 최종 혼합물은 MWF 농축물 3~5%, 이소티아졸론 활성 성분 20ppm 및 안정화제 0(대조군)~2,000ppm을 함유하였다.
다음으로 유리병을 밀봉하고, 소정의 시간 동안 밀폐된 캐비넷에서 실온으로 저장한 다음, 0.45 미크론 필터를 통하여 다른 유리병으로 여과한 다음 동일자로 분석하였다. 활성 성분의 상대 농도는 Varian model 5500 크로마토그래프와 자외선 검지기를 사용하여 역상 고압 액체 크로마토그래피에 의해 측정하였다. 그 연구 결과를 표 1에 나타내었다.
Figure kpo00011
[실시예 2]
본 실시예는 페인트 조성물 내에 살균제로 사용되는 이소티아졸론의 안정화에 사용되는 HMT의 능력을 나타낸다. 수성 페인트 배합물은 종래의 안료, 분산제 등과 함께 상업용 아크릴-기초 라텍스를 사용하여, 표준 성분들로부터 제조하였다.
2개의 밀봉 가능한 용기에 페인트 배합물 100부를 장입하였다. 하나에는 원하는 최종 안정화제 농도의 2배를, 그리고 다른 것에는 원하는 이소티아졸론 농도의 2배를 장입하였다. 양쪽 부분 모두를 각각 15분간 균질화 한 다음 재혼합하였다.
밀봉된 용기들을 60℃에서 저장하고 시료들을 0일 및 15일에 제거하였다.
시료 1부에 프로필렌 글리콜 9부를 첨가하고, 희석된 시료를 1시간 동안 교반하고, 70,000rpm에서 30분간 원심분리하고, 상청액을 2배 부피의 메탄올로 희석한 다음 용액을 0.45 미크론 필터로 여과시켰다. 여과된 시료를 실시예 1에 기술된 HPLC로 직접 주입시켰다. 연구한 2-옥틸-3-이소티아졸론에 대해 적당한 분석 교정을 행하였다. 2-옥틸-3-이소티아졸론을 프로필렌 글리콜 내의 45.5 중량% 용액으로 첨가하였다. 하기 조성물은 미생물 활성에 대한 안정화 시험을 위한 전형적인 페인트 혼합물이다. Texanol(R)은 Eastman Chemical에 의하여 공급되는 트리메틸-1,3-펜탄디올 모노이소부틸이트이다. 라텍스는 부틸 아크릴레이트와 메틸 메타크릴레이트의 공중합체의 라텍스이다.
Figure kpo00012
표 3에는 60℃에서 15일간 노화에 대한 결과가 3에 나타나 있다.
Figure kpo00013

Claims (11)

  1. a) 하기식 1을 갖는 최소 하나의 3-이소티아졸론 ; 및 b) 헥사메틸렌테트라아민(HMT);를, 상기 HMT 대 3-이소티아졸론의 중량비가 1:50~20:1로 되게 포함하여 구성된 안정화된 3-이소티아졸론 조성물.
    Figure kpo00014
    단, 상기식에서, Y는 수소; 1~18개의 탄소원자를 갖는 알킬 또는 치환된 알킬; 2~8개의 탄소원자를 갖는 치환되지 않은 또는 할로겐-치환된 알케닐 또는 알키닐; 3~12개의 탄소원자를 갖는 시클로알킬 또는 치환된 시클로알킬; 최대 10개의 탄소원자를 갖는 아랄킬 또는 할로겐-, 저급 알킬-, 또는 저급 알콕시-치환된 아랄킬; 및 최대 10개의 탄소원자를 갖는 아릴, 할로겐-, 저급 알킬-, 또는 저급 알콕시-치환된 아릴이며 X와 X1은 수소, 할로겐, 및 (C1-C4)알킬로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 기이다.
  2. 제1항에 있어서, 상기 하나 이상의 각 3-이소티아졸론은 5-클로로-2-메틸-3-이소티아졸론, 2-메틸-3-이소티아졸론, 2-n-옥틸-3-이소티아졸론, 4,5-디클로로-2-시클로헥실-3-이소티아졸론 및 4,5-디클로로-2-옥틸-3-이소티아졸론으로 이루어 지는 그룹으로부터 선택됨을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제1항에 있어서, HMT 및 5-클로로-2-메틸-3-이소티아졸론과 2-메틸-3-이소티아졸론과의 혼합물로 구성됨을 특징으로 하는 조성물.
  4. 제1항에 있어서, HMT와 2-n-옥틸-3-이소티아졸론으로 구성됨을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 3-이소티아졸론 0.00001 ~ 99중량%, HMT 0.0001 ~ 99중량% 및 용매 99.99998 중량% 이하로 구성됨을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 상기 3-이소티아졸론 약 0.00001 ~ 5중량%, HMT 약 0.00001 ~ 5중량% 및 용매 90 ~ 99.99998 중량% 이하로 구성됨을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 상기 3-이소티아졸론 약 0.00001 ~ 1중량%, HMT 약 0.0001 ~ 1중량% 및 용매 98 ~ 99.9998 중량%로 구성됨을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 상기 HMT 대 3-이소티아졸론의 중량비는 1:1 ~ 20:1 임을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 추가로 폴리올 용매를 함유함을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제1항의 조성물을 박테리아, 곰팡이 또는 조류의 성장에 악영향을 주는데 효과적인 양으로 서식처 내에 또는 서식처상에 적용시키는 단계를 포함하여, 이들로 오염되기 쉬운 서식처 내의 박테리아, 곰팡이, 또는 조류의 성장을 저해하거나 방지하는 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 서식처는 금속가공 유체, 절삭유, 수냉각 시스템, 화장품 조성물, 페인트, 및 필름-성형제로부터 선택됨을 특징으로 하는 방법.
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