KR0171491B1 - 회전식 기판세정장치 - Google Patents

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KR0171491B1
KR0171491B1 KR1019950030253A KR19950030253A KR0171491B1 KR 0171491 B1 KR0171491 B1 KR 0171491B1 KR 1019950030253 A KR1019950030253 A KR 1019950030253A KR 19950030253 A KR19950030253 A KR 19950030253A KR 0171491 B1 KR0171491 B1 KR 0171491B1
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죠오이치 니시무라
다다시 사사키
마사미 오오타니
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이시다 아키라
다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤
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Abstract

지지암의 선단측 부분에 회전 가능하게 설치한 회전체에 세정브러쉬를 일체로 설치한 세정기구 지지체를 승강 가능하게 설치하고, 제2벨로즈로 형성되는 밀폐공간에 공기배관을 접속함과 동시에, 그 공기배관에 압력계와 레귤레이터를 끼워 설치하며, 기판(W)에 대한 세정기구의 압력 변화에 응해서 레귤레이터를 작동시켜 세정기구 지지체를 기판(W)에 대해서 승강하고, 기판에 대한 세정브러쉬의 압력을 설정범위내에 유지하며, 간단한 구성으로 기판의 휘어짐 변형에 세정브러쉬를 추종시키기 쉽게 해서 기판표면 전면을 균일하게 세정할 수 있도록 한다.

Description

회전식 기판세정장치
제1도는 본 발명의 회전식 기판세정장치의 실시예 1을 나타내는 전체 개략 종단면도.
제2도는 실시예 1의 평면도.
제3도는 실시예 1의 주요부 확대 종단면도.
제4도는 실시예 2의 주요부 확대 종단면도.
제5도는 실시예 3의 주요부 확대 종단면도.
제6도는 제5도의 횡단면도.
제7도는 실시예 4의 주요부 확대 종단면도.
제8도는 실시예 4의 개념도.
제9도는 실시예 5의 주요부 확대 종단면도.
제10도는 제9도의 주요부 측면도.
제11도는 제9도의 주요부 종단면도.
제12도는 실시예 6을 나타내는 전체 개략 종단면도.
제13도는 실시예 6의 평면도.
제14도는 실시예 6의 주요부 확대 종단면도.
제15도는 실시예 6의 제어구성을 나타내는 블록도.
제16도는 실시예 7의 주요부 확대 종단면도.
제17도는 실시예 7의 제어구성을 나타내는 블록도.
제18도는 실시예 8의 주요부 확대 종단면도.
제19도는 실시예 8의 일부 절개 정면도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 전동모터 2 : 회전축
3 : 회전대 4 : 기판지지수단
5 : 컵(cup) 6 : 노즐(nozzle)
7 : 지지암 8 : 세정브러쉬
9, 35 : 베어링(bearing) 10 : 회전체
11 : 풀리(pulley) 12 : 타이밍벨트
13 : 세정기구 지지체 14 : 제1벨로즈(bellows)
15 : 제2벨로즈 16 : 스토퍼(stopper)부재
17 : 공급/배기구멍 18 : 공기배관
19 : 압력계 20 : 레귤레이터
21 : 개폐밸브 22 : 자성유체실(seal)
23 : 래버린스기구 24 : 뚜껑부재
25 : 실(seal)부재 26 : 관통구멍
27 : 압축코일 스프링 28 : 에어실린더
30 : 가이드로울러 31, 32 : 스프링시트
34 : 중량균형수단 36 : 접촉부재
38 : 실린더로드 39 : 실린더
40 : 피스톤 41 : 컴프레서
42 : 릴리프밸브 43 : 제1공기배관
44 : 정량밸브 45 : 제2공기배관
46 : 센서용 암 47 : 나사부재
48 : 압력센서 49 : 콘트롤러
50 : 압력설정기 56 : 유량조절밸브
60 : 드라이버 63 : 제1비교수단
64 : 제2비교수단 67 : 코일
68 : 조작로드 69 : 리니어 액츄에이터
70 : 전원장치 77 : 링크
79 : 장치프레임 80 : 지지통체
W : 기판 S : 밀폐공간
본 발명은 반도체웨이퍼, 포토마스크용 글라스기판, 액정표시장치용 글라스기판, 광디스크용 기판 등의 기판에 순수 등의 세정액을 공급해서 세정처리하기 위해, 기판을 연직 방향의 축심주위로 회전 가능하게 지지하는 기판 지지수단과, 기판표면을 세정하는 세정기구와, 세정기구를 연직방향의 축심 주위로 회전시키는 세정기구 회전수단과, 세정기구를 기판표면에 따라서 수평방향으로 옮기는 세정기구 이동수단과, 기판표면의 세정기구에 의한 세정장소로 세정액을 공급하는 세정액 공급수단을 구비한 회전식 기판세정장치에 관한 것이다.
종래의 회전식 기판세정장치로서는, 예를 들면 일본실용공개 평 1-107129호 공보나 일본특허공개 평 3-52228호 공보에 개시되어 있는 것이 공지되어 있다. 이 종래예에 의하면, 기판을 연직방향의 축심 주위로 회전시키면서 그 기판 표면에 세정액을 공급하고, 세정기구(세정브러쉬나 스크러빙브러쉬)를 회전시키면서 기판표면을 따라 이동시켜 세정기구를 소정의 압력으로 기판에 누르면서 기판표면에 부착한 파티클(particle)이나 티끌을 제거함과 동시에, 그 제거한 파티클이나 티끌 등의 세정제거물을 세정액과 함께 기판회전에 의한 원심력을 이용하면서 기판의 바깥쪽으로 유출시키도록 하고 있었다.
또한, 세정기구를 기판표면을 따라서 수평방향으로 옮기기 위해, 세정기구나 그것을 구동회전하는 모터 등을 구비한 암(arm)을 연직방향의 축심 주위로 회전 가능한 지축에 일체로 설치하며, 그 지축에 모터 등을 연동 연결하여 지축을 회전하는 것에 의해 세정기구를 기판표면에 따라서 수평방향으로 옮기도록 구성하고 있다.
또, 지축을 승강 가능하게 설치하고, 상술한 지축의 회전구성을 이용하여 세정기구를, 기판을 세정가능한 위치와 그것보다 윗쪽으로 떨어진 위치로 승강시킴과 동시에, 세정기구를 기판상의 세정위치와 기판상에서 떨어진 대기위치로 옮기도록 구성하고 있다. 그리고, 상술한 지축의 승강구성을 이용해서 기판에 대한 세정기구의 위치를 설정할 수 있도록 구성하고 있다.
그러나, 종래예의 경우 세정위치에서 세정시 세정기구의 높이는 일정하고, 세정기구에서 기판으로 인가되는 압력은 초기설정에 의해 단지 한번만으로 결정되었다. 한편, 기판에서는 그것 자체의 중량, 냉각이나 가열 등 열처리의 영향을 받는 것에 기인해서 고저차로 0.5mm 정도의 휘어짐 변형을 생기게 하는 것이 많다. 그 결과, 휘어짐이 올라가고 있는 장소와 내려가고 있는 장소에서, 세정기구에서 기판으로 인가되는 압력에 상이함을 생기게하여 기판 표면에서의 세정성이 불균일하게 되는 결점이 있었다.
이와 같은 기판의 휘어짐 변형에 세정기구를 추종시키도록 하는 경우, 상술한 종래예라면, 지축을 승강시켜 세정기구를 승강하는 것으로 되지만, 세정기구 뿐만 아니라 지축이나 암이나 모터의 중량이 증강하여 중량이 큰 것을 승강시키는 것으로 되고, 무슨 일이 있어도 추종성이 저하하는 결점이 있었다.
또한, 세정기구의 칫수오차나 칫수변화, 세정기구 교환시 설치상태의 변화 등에 의해서도 세정성이 불균일하게 되는 결점이 있었다.
본 발명의 목적은, 간단한 구성으로 기판의 휘어짐 변형에 세정기구를 추종시키기 쉽게 하고, 기판 표면 전면을 균일하게 세정할 수 있도록 하는 것에 있고, 또한 다른 목적은 구성을 간단히 할 수 있으면서 기판에 대한 압력을 작은 힘으로 양호하게 설정할 수 있도록 하는 것에 있으며, 또 다른 목적은 기판에 대해서 세정기구를 균등하게 압압해서 세정성능을 향상시킬 수 있도록 하는 것에 있다. 또, 다른 목적은 기판에 대한 압력을 정밀도 좋게 감지해서 압력의 설정이나 조정을 정밀도 좋게 행하도록 하는 것에 있고, 또한 다른 목적은 세정기구가 기판에서 받는 반발력을 정밀도 좋게 감지해서 기판의 휘어짐 변형에 양호하게 추종하여 기판 표면 전면을 균일하게 세정할 수 있도록 하는 것에 있고, 또 다른 목적은 기판의 휘어짐 변형에 대해서 보다 빠르게 추종하여 세정성능을 더 한층 향상시킬 수 있도록 하는 것에 있으며, 또 다른 목적은 축 받침에서 발생한 파티클에 기인하는 기판의 오염을 장기간에 걸쳐 양호하게 방지할 수 있도록 하는 것에 있다. 또 다른 목적은, 후술하는 실시예에서 명백하게 될 것이다.
본 발명은 상술한 목적을 달성하기 위해 기판을 연직방향의 축심 주위로 회전 가능하게 지지하는 기판 지지수단과, 기판 표면을 세정하는 세정기구와, 세정기구를 연직방향의 축심 주위로 회전시키는 세정기구 회전수단과, 세정기구를 기판표면을 따라서 수평방향으로 옮기는 세정기구 이동수단과, 기판 표면의 세정기구에 의한 세정장소에 세정액을 공급하는 세정액 공급수단을 구비한 회전식 기판 세정장치에 있어서, 세정기구를 세정기구 이동수단에 압압수단을 통해서 승강 가능하게 설치해서 구성한다.
본 발명에 의하면, 압압수단으로 기판에 소정의 압력을 가하면서 세정기구 이동수단에 대해서 세정기구가 승강하는 것에 의해 세정기구를 기판의 휘어짐 변형에 추종시킬 수 있다.
따라서, 세정기구 이동수단에 대한 세정기구의 승강에 의해 세정기구를 기판의 휘어짐 변형에 추종시키므로 세정기구 이동수단과 함께 승강시키는 경우에 비해 승강시키는 관성질량이 작게 되어 세정기구를 기판의 휘어짐 변형에 추종시키기 쉽게 할 수 있고, 기판 표면 전면을 균일하게 세정할 수 있다.
또한, 중량균형 수단으로 세정기구의 자체중량과 균형을 맞추면서 압압수단에 의한 기판에 대한 압력을 압력인가 기구로 설정하는 것에 의해 기판에 대한 압력을 전체로 해서 작은 힘으로 양호하게 설정할 수 있다.
또, 세정기구의 자체중량과 균형을 맞추기 위해 중량균형 수단으로 세정기구를 지지하는 힘의 중심 및 세정기구를 기판에 압압하는 압력을 설정하기 위해 압력인가 기구로 세정기구에 인가하는 힘의 중심을 세정기구의 회전중심에 일치시키는 것에 의해 중량균형 수단에 의한 세정기구에 대한 지지력 및 압력 인가기구로 세정기구에 인가하는 힘의 어느 것도 회전하는 세정기구에 대해서 치우치지 않게 작용시킬 수 있고, 기판에 대해서 세정기구를 작용면 전면에 걸쳐 균등하게 압압할 수 있으며, 세정성을 향상시킬 수 있다.
또한, 압력 인가 기구로 기판에 대한 압력을 설정하기 위해 세정기구의 기판에 대한 압력을 센서로 감지하는 경우에 압력의 중심이 세정기구의 회전중심과 일치한 상태에서 압력을 감지하는 것에 의해 기판에 대한 압력을 정밀도 좋게 감지할 수 있고, 그것에 기초해서 압력의 설정이나 조정을 정밀도 좋게 행한다.
또한, 본 발명의 회전식 기판세정장치에서는 세정기구와 압압수단 사이에 기판 세정상태에서 세정기구가 기판에 인가하는 압력을 감지하는 압력센서를 설치함과 동시에, 그 압력센서로 감지한 압력이 설정범위내에 유지되도록 압압수단을 작동하는 제어수단을 설치해서 구성한다.
이와 같이 구성하면, 압압수단의 동작압력 없이 세정기구가 회전기판에서 받는 반발력, 즉 세정기구가 회전기판에 인가하는 압력을 세정기구와 압력수단 사이에 설치한 압력센서로 정밀도 좋게 감지한다. 본 발명자들은 압압수단의 동작압력을 감지해서 그 값이 일정하게 되도록 압압수단을 제어하는 것을 시도하였지만, 기판의 휘어짐 변형에 대해서 추종성에 부족한 문제가 있는 것을 발견하였다. 이것은, 세정기구가 기판에 인가하는 압력에 비해서 기판의 휘어짐 변형에 의해 생기는 압력의 변화가 사소하고, 그 압력의 변화가 압압수단에 전달되어도 그것이 동작압력에 반영되는 것에 지연이 생기기 쉽고, 또한 세정기구를 승강시키는 구성에서 저항 등에 기인하여 압압수단에 의해 가해지고 있는 동작압력과 기판에 인가되는 압력 사이에서 오차가 생기기 쉽다라는 것이 원인이 아닌가라고 미루어 생각된다.
이 발견에 기초해서, 압압수단을 통하지 않고 압력센서로 세정기구가 회전기판에서 받는 반발력을 직접적으로 감지하는 것에 의해 상술한 바와 같이 세정기구가 회전기판에 인가하는 압력을 정밀도 좋게 감지한다. 이 정밀도 좋게 감지되는 압력에 기초해서 기판의 휘어짐 변형에 기인하여 세정기구가 회전기판에 인가하는 압력이 설정범위에서 변화하면, 그것을 압압수단을 통하지 않고 직접적으로 압력센서가 감지하고, 그 감지한 압력이 설정범위보다도 크면, 압압수단으로 세정기구를 상승시키는 것에 의해 세정기구를 기판에서 떨어지는 측으로 상승시키고, 한편 감지한 압력이 설정범위보다도 작으면, 세정기구를 기판에 대해서 하강시키는 것에 의해 세정기구를 기판에 가까운 측으로 이동시켜 기판에 인가하는 세정기구의 압력을 항상 설정범위내에 정밀도 좋게 유지할 수 있다.
따라서, 기판의 휘어짐 변형에 기인하여 세정상태에서 세정기구가 회전기판에 인가하는 압력이 변화함에 따라 압력수단에 의해 세정기구를 기판에 대해서 승강시켜 기판에 인가하는 세정기구의 압력을 설정범위내에 유지하므로 기판 표면에서의 휘어짐 변형에 추종하고, 기판의 휘어짐 변형 여하에 관계없이 기판표면 전면을 항상 소정의 압력을 인가하면서 세정기구로 균일하게 세정할 수 있다.
압압수단을 리니어 액츄에이터(linear actuator)로 구성하면 회전기판에 대해서 세정기구가 인가하는 압력의 변화에 대해서 빠르게 응답하므로, 세정기구를 기판 표면에서의 휘어짐 변형에 한층 양호하게 추종시키기 쉽고, 세정성을 더 한층 향상할 수 있다.
또한, 본 발명의 회전식 기판세정장치에서는 세정기구를 설치한 세정기구 지지체를 축받침을 통해서 세정기구 이동수단에 회전 가능하게 설치하고, 축 받침의 아래쪽에 그 축 받침에서 발생하는 파티클의 낙하를 방지하는 자성유체실(seal)을 설치하며, 또 자성유체실로 수분의 침입을 방지하는 래버린스실(labyrinth seal)을 설치해서 구성한다.
이렇게 구성하면, 축 받침에서 발생한 파티클의 낙하를 자성유체실로 방지하면서 세정에 따라 발생하는 부딪혀 튀는 물방울에 기인해서 수분이 자성유체실로 침입하는 것을 래버린스실로 방지할 수 있다.
따라서, 축 받침에서 발생한 파티클이 기판상에 낙하하는 것을 양호하게 방지할 수 있음과 동시에, 자성유체실의 열화를 억제해서 내구성을 향상할 수 있고, 축 받침에서 발생한 파티클에 기인하는 기판의 오염을 장기간에 걸쳐 양호하게 방지할 수 있다.
본 발명을 설명하기 위해 현재 바람직하다고 생각되는 형태가 도시되어 있지만, 본 발명은 도시되어 있는 구성 및 방법에 한정되는 것이 아님을 이해해야 된다.
이하, 본 발명의 일실시예를 도면을 참조해서 설명한다.
[실시예 1]
제1도는 본 발명의 회전식 기판세정장치의 실시예 1을 나타내는 전체 개략종단면도, 제2도는 평면도이다.
전동모터(1)의 구동에 의해 연직방향의 축심 주위로 회전하는 회전축(2)의 상단에 기판(W)을 진공흡착해서 지지하는 회전대(3)가 일체로 회전 가능하게 설치되고, 기판(W)을 연직방향의 축심 주위로 회전가능하게 지지하는 지판 지지수단(4)이 구성되어 있다.
또, 본 실시예에 있어서는 회전대(3)를 진공흡착식의 것으로 해서 기판 지지수단(4)을 구성하고 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 회전대(3)상에 기판(W)의 바깥 테두리를 지지하는 기판 지지부재를 복수 설치함과 동시에, 이 기판 지지부재의 상단에 기판(W)의 수평방향의 위치를 규제하는 위치 결정핀을 설치해서 기판 지지수단을 구성하고, 기판(W)을 회전대(3)의 상면에서 이간시킨 상태에서 회전 가능하게 지지하도록 하여도 된다.
지판 지지수단(4) 및 그것에 의해 지지된 기판(W)의 주위는 승강구동기구(미도시)에 의해 승강가능한 컵(cup)(5)으로 덮어져 있다. 컵(5)의 옆 바깥측에 기판(W)의 회전중심측으로 향해서 순수 등의 세정액을 분출 공급하는 세정액 공급수단으로서 노즐(6)이 설치되어 있다.
또한, 컵(5)의 옆 바깥측에 앵글(angle) 형상의 지지암(7)이 전동모터(미도시)에 의해 연직방향의 제1축심(P1) 주위로 회전 가능하게 설치되고, 그 지지암(7)의 선단측 암부분(7a)의 하부에 연직방향의 제2축심(P2) 주위로 회전 가능하게 기판표면을 세정하는 세정브러쉬(8)가 설치되어 있다.
제3도의 주요부 확대 종단면도에 나타낸 바와 같이, 선단측 암부분(7a) 내에는 베어링(bearing)(9)을 통해서 속이 빈 파이프(pipe) 형태의 회전체(10)가 상기 제2축심(P2) 주위로 회전 가능하게 설치되고, 그 회전체(10)의 긴 길이방향 중간에 풀리(pulley)(11)가 일체로 회전 자유로이 설치됨과 동시에, 풀리(11)와 지지암(7)의 회전중심측에 설치된 세정기구 회전수단으로서 전동모터(M) 등이 타이밍 벨트(belt)(12)를 통해서 연동 연결되어 있다.
상기 세정브러쉬(8)가 세정기구 지지체(13)에 일체로 설치되고, 세정기구 지지체(13)가 회전체(10)내에 삽입되며, 세정기구 지지체(13)의 중간보다 약간 상부측과 회전체(10)의 상부측 및 세정기구 지지체(13)의 중간보다 약간 하부측과 회전체(10)의 하부측 각각이 신축 가능한 스테인레스제의 제1벨로즈(bellows)(14)를 통해서 일체로 회전 가능하게연결되어 있다.
상기 세정기구 지지체(13)의 상단에 대향하는 장소에서 선단측 암부분(7a)내에 신축 가능한 스테인레스제의 제2벨로즈(15)를 통해서 스토퍼(stopper) 부재(16)가 설치되고, 그 스토퍼부재(16)에 세정기구 지지체(13)의 상단측이 회전 및 상대승강 가능하게 삽입지지되어 있다. 선단측 암부분(7a)과 제2벨로즈(15)와 스토퍼부재(16)에 의해 밀폐공간(S)이 형성됨과 동시에, 선단측 암부분(7a)의 상부에 밀폐공간(S)에 연결되는 공급/배기구멍(17)이 설치되어 있다. 제1 및 제2벨로즈(14, 15)와, 밀폐공간(S)과, 그 밀폐공간(S)에 공기를 공급/배기하는 구성등으로 이루어지는 것을, 공기를 구동원으로 하는 압압수단이라 부른다. 제1 및 제2벨로즈(14, 15) 각각으로서는 플라스틱제의 것도 좋다. 또한, 선단측 암부분(7a)과 제2벨로즈(15)와 스토퍼부재(16)에 의해 밀폐공간(S)을 형성하는 구성을 압력 인가기구라 부른다.
공급/배기구멍(17)에는 공기배관(18)을 통해서 가압공기의 공급원(미도시)이 접속되고, 공기배관(18)의 중간장소에 압력계(19)와 레귤레이터(20)와 개폐밸브(21)가 끼워 설치되며, 공기배관(18)내의 압력을 설정범위내에 자동적으로 유지하도록 구성되어 있다.
선단측 암부분(7a)과 회전체(10)의 하부측 사이에 자성유체실(22)과 래버린스기구(23)가 설치되고, 그 상부의 베어링(9)에서 회전에 따라 마찰에 의해 발생하는 티끌이 기판(W) 상에 낙하한다든지, 세정액이 침입한다든지 하는 것을 회피할 수 있도록 구성되어 있다.
이상의 구성에 의해 기판(W)의 표면을, 세정액을 공급함과 동시에 세정브러쉬(8)를 기판(W)의 표면에 압압해서 세정하는 것에 즈음해서, 기판(W)에 휘어짐 변형이 생기고 있는 경우, 기판(W)의 회전과 세정브러쉬(8)의 이동에 따라 세정브러쉬(8)에 의한 기판(W)에 대한 압력에 변화가 생긴다. 기판(W)의 휘어짐이 올라가고 있는 장소에 있어서는, 압력계(19)에 의해 설정범위보다도 높은 압력이 감지된다. 그래서, 레귤레이터(20)는 공기배관(18)내의 압력을 감소시키고, 공기배관(18)내의 압력이 설정범위내가 되도록 작용하여 제2벨로즈(15)를 수축시킨다. 이것에 의해 세정기구 지지체로 지지된 세정브러쉬(8)를 상승시켜 기판(W)에 대한 세정브러쉬(8)의 압력을 설정범위내로 유지할 수 있다. 한편, 기판(W)의 휘어짐이 내려가고 있는 장소에 있어서는, 압력계(19)에 의해 설정범위보다도 낮은 압력이 감지된다. 그래서, 레귤레이터(20)는 공기배관(18)내의 압력을 증가시켜 공기배관(18)내의 압력이 설정범위내가 되도록 제2벨로즈(15)를 신장시킨다. 이것에 의해 세정기구 지지체로 지지된 세정브러쉬(8)를 하강시켜 기판(W)에 대한 세정브러쉬(8)의 압력을 설정범위내로 유지할 수 있다.
[실시예 2]
제4도는 실시예 2의 주요부 확대 종단면도이고, 실시예 1과 다른 것은 다음과 같다.
즉, 제2벨로즈(15) 없이 상측의 제1벨로즈(14)의 상방측이 뚜껑부재(24)로 밀폐되어 밀폐공간(S1)으로 구성되고, 뚜껑부재(24)가 선단측 암부분(7a)에 실(seal) 부재(25)를 통해서 회전 가능하게 설치되어 있다. 선단측 암부분(7a)에 형성된 공급/배기구멍(17)과 밀폐공간(S1)이 뚜껑부재(24)에 형성된 관통구멍(26)을 통해서 접속되어 있다. 제1벨로즈(14)와, 밀폐공간(S1)과, 그 밀폐공간(S1)에 공기를 공급/배기하는 구성에 의해 공기를 구동원으로 하는 압아수단이 구성되어 있다. 상측의 제1벨로즈(14)와 뚜껑부재(24)에 의해 밀폐공간(S1)을 구성하는 것을 압력 인가기구라 부른다.
공급/배기구멍(17)에는 공기배관(18a)을 통해서 진공흡인원(미도시)이 접속되고, 공기배관(18a)의 중간장소에 압력계(19a)와 진공용 레귤레이터(20a)가 끼워 설치되며, 공기배관(18a)내의 압력을 설정범위내에 자동적으로 유지하도록 구성되어 있다. 다른 구성은 실시예 1과 동일하고, 동일 도면부호를 붙이는 것에 의해 그 설명은 생략한다.
이 실시예 2에 의하면, 세정브러쉬(8) 및 세정기구 지지체(13)의 중량 자체로 기판(W)에 가하는 압력이 설정압력보다도 크게되는 경우에 내부공간(S1)내의 압력을 감압하는 것으로 끌어올리고, 상기 중량분의 일부를 제거하여 설정압력을 얻을 수 있는 이점을 가지고 있다. 설정압력이 상기 중량분보다도 크게되는 경우에 실시예 1과 같은 공기배관(18a)을 가압공기원에 접속하면 좋다.
[실시예 3]
제5도는 실시예 3의 주요부 확대 종단면도, 제6도는 횡단면도이며, 실시예 1과 다른 것은 다음과 같다.
즉, 세정기구 지지체(13)의 긴 길이방향의 중간장소가 횡단면 형태의 트랙(track) 형태로 구성되고, 그 트랙형태 부분에 의해 회전체(10)에 승강만 가능하게 설치되어 있다. 세정기구 지지체(13)의 상단과 선단측 암부분(7a)의 상부가 세정기구 지지체(13)를 하강시키는 측에 압력을 인가하도록 압축코일 스프링(27)을 통해서 끼워 설치한 압력 인가기구로서의 단동식(單動式)에 어실린더(28)를 통해서 연결되고, 그 단동식 에어실린더(28)에 공기배관(18)이 접속되어 있다. 단동식 에어실린더(28)에 공기배관(18)을 접속하는 구성으로 해서 공기를 구동원으로 하는 압압수단이라 부른다. 또한, 회전체(10)의 하부와 세정기구 지지체(13)의 하부측 사이에 신축가능한 실부재(29)가 열용착에 의해 일체로 설치되고, 회전체(10)와 세정기구 지지체(13) 사이에서 미끄러짐 운동에 따라 발생하는 티끌이 기판(W)상에 낙하한다든지, 세정액이 침입한다든지 하는 것을 회피할 수 있도록 구성되어 있다. 다른 구성은 실시예 1과 동일하고, 동일 도면부호를 붙이는 것에 의해 그 설명은 생략한다.
또, 상기 실시예에 있어서, 공기배관(18)내의 압력을 설정범위 내에 유지하도록 해서 기판(W)에 대한 세정브러쉬(8)의 압력을 설정범위 내에 유지하는 경우로는 설정치에 폭을 설정하지 않고, 소정의 일점의 압력만을 설정치로 하는 것과 같은 경우도 포함하는 것이다.
[실시예 4]
제7도는 실시예 4의 주요부 확대 종단면도이고, 실시예 1과 다른 것은 다음과 같다.
즉, 제1축심(P1) 주위로 회전하는 지지암(7)의 선단측 암부분(7a)에 제2축심(P2) 주위로 회전 가능하게 회전체(10)가 설치되고, 회전체(10)에 일체로 회전 가능하게 설치된 풀리(11)와 모터(M)가 타이밍 벨트(12)를 통해서 연동 연결되어 있다. 회전체(10)의 풀리(11)를 사이에 두는 양측장소 각각에 1쌍씩의 가이드로울러(30)가 설치되고, 그 가이드로울러(30)가 세정기구 지지체의 중간장소에 형성한 스플라인(spline)부(13a)에 작용하도록 구성되며, 회전체(10)와 일체로 회전하면서 저항이 작은 세정기구 지지체(13)를 승강할 수 있도록 구성되어 있다. 벨로즈(15)는 회전체(10)와 스플라인부(13a) 사이에서 미끄러짐 운동에 따라 발생하는 티끌이 기판(W)상에 낙하한다든지, 세정액이 침입하는 것을 방지하기 위해서 설치되어 있다.
세정기구 지지체(13)에 일체로 회전 가능하게 스프링시트(seat)(31)가 설치되고, 그 스프링시트(31)와 회전체(10)에 설치된 스프링시트(31)에 걸쳐서 압축코일 스프링(33)이 설치되며, 세정브러쉬(8) 및 세정기구 지지체(13)의 중량에 균형을 맞추어 세정브러쉬(8)를 선단측 암부분(7a)에 대해서 소정높이로 유지시키도록 중량균형수단((34)이 구성되어 있다.
세정기구 지지체(13)의 상단에 베어링(35)을 통해서 상대회전만 가능하게 접촉부재(36)가 설치되고, 그 접촉부재(36)의 상단에 대응하도록 선단측 암부분(7a)의 상부측에 압력 인가기구로 해서 에어실린더(37)가 설치되며, 그 에어실린더(37)의 실린더로드(rod)(38)의 하단이 접촉부재(36)에 접촉되어 있다.
에어실린더(37)는 제8도의 개념도에 나타낸 바와 같이, 그 실린더(39)의 내주면과 피스톤(40) 및 실린더로드(38) 각각의 외주면 사이에 미소한 공간을 형성해서 구성되고, 그리고 피스톤(40)을 사이에 둔 실린더로드(38)와는 반대측의 공간과 컴프레서(compressor)(41)를, 릴리프(relief) 압력을 설정변경 가능한 릴리프(relief) 밸브(42)를 끼워 설치한 제1공기배관(43)을 통해서 접속하고, 한편 피스톤(40)을 사이에 둔 실린더로드(38)측의 공간과 컴프레서(41)를 정량밸브(44)를 끼워 설치한 제2공기배관(45)을 통해서 접속하여 압압수단이 구성되고, 에어실린더(37)를 공급 공기로 중심에 두면서 미끄러짐 운동이 없는 상태로 저항을 작게해서 신축할 수 있도록 구성되어 있다.
상기 스프링시트(31, 32)와 압축코일 스프링(33)으로 이루어지는 중량균형수단(34) 및 에어실린더(37) 각각의 평면도에서의 중심이 세정브러쉬(8)의 회전중심(P2)에 일치하도록 설치되어 있다.
제7도에 나타낸 바와 같이, 접촉부재(36)에 일체로 센서용 암(46)이 설치됨과 동시에, 그 센서용 암(46)이 지지암(7)의 종벽에 의해 승강만 가능하게 설치되며, 그리고 센서용 암(46)의 선단측에 나사부재(47)가 설치되어 있다. 지지암(7)내의 소정장소에 왜곡게이지형의 압력센서(48)가 설치되고, 나사부재(47)가 하강에 의해 압력센서(48)에 접촉하도록 구성되어 있다.
제8도에 나타낸 바와 같이, 릴리프 밸브(42)에 콘트롤러(49)가 접속되고, 그 콘트롤러(49)에 압력센서(48)와 압력설정기(50) 등이 접속되어 있다.
상기 구성에 의해 기판(W)의 세정에 앞서, 기판(W)상에 형성된 막의 종류(알루미늄, 산화막, 질화막, 폴리실리콘막, 패턴막, 베어(bare)실리콘막 등)라든가 기판에 부착하고 있는 오염물의 성질 등의 종류 등에 응해서 그것에 대응하는 세정압력을 압력설정기(50)에서 설정 입력하고, 다음에 세정브러쉬(8)를 기판(W)상에서 떨어지게 위치시킨 상태에서 콘트롤러(49)에 의해 릴리프 밸브(42)가 열려지고, 압력센서(48)로 감지하는 압력을 콘트롤러(49)에 입력하며, 그 감지압력과 압력설정기(50)에서 설정된 압력을 콘트롤러(49)에서 비교하고, 감지압력이 설정압력으로 된 시점에서 릴리프 밸브(42)의 릴리프 압력을 기억한다. 계속해서, 세정브러쉬(8)를 기판(W)상에 위치시켜 세정을 개시하는 경우에 상술과 같이해서 기억한 릴리프 압력으로 릴리프 밸브(42)를 유지하도록 초기 설정하고, 기판(W)의 휘어짐 변형에 관계없이 설정압력에 대응하는 압력을 기판(W)에 인가하면서 세정처리할 수 있도록 되어 있다.
선단측 암부분(7a)과 회전체(10)의 하부측 사이에 자성유체실(22)과 래버린스기구(23)가 설치되고, 그 상부의 베어링(9)에서 회전에 따라 마찰에 의해 발생하는 티끌이 기판(W)상에 낙하한다든지, 세정액이 침입한다든지 하는 것을 회피할 수 있도록 구성되어 있다. 다른 구성은 실시예 1과 동일하고, 동일 도면부호를 붙이는 것에 의해 그 설명은 생략한다.
[실시예 5]
제9도는 실시예 5의 주요부 확대 종단면도, 제10도는 제9도의 측면도, 제11도는 횡단면도이고, 실시예 4와 다른 것은 다음과 같다.
즉, 세정기구 지지체(13)와 회전체(10) 등이 상하 1쌍씩 링크(link)(51)를 통해서 평행 4변형 링크기구를 구성하도록 연결됨과 동시에, 세정기구 지지체(13)의 상단에 상대회전 가능하게 설치된 접촉부재(52)와 실린더로드(38) 등이 로드셀(load cell)형의 압력센서(53)를 통해서 접촉되어 있다. 압력센서(53)의 평면도에서 중심이 세정브러쉬(8)의 회전중심(P2)에 일치하도록 설치되어 있다. 다른 구성은 실시예 4와 동일하고, 동일 도면부호를 붙이는 것에 의해 그 설명은 생략한다.
이 실시예 5에 의한 경우, 초기의 압력 설정에 즈음해서 세정브러쉬(8)를 세정해야 할 기판(W)에 압압해서 세정을 행하고, 설정압력을 얻는데 필요한 릴리프 압력을 구할 수 있으며, 릴리프 압력의 설정을 실제의 처리기판(W)에 기초해서 정밀도 좋게 행할 수 있는 이점을 가지고 있다.
상술한 실시예 4 및 5에서 압축코일 스프링(33) 대신에 탄성변위의 정도에 관계 없이 반발력이 일정한 비선형 스프링을 사용하도록 하여도 좋다.
[실시예 6]
제12도는 실시예 6을 나타내는 전체 개략 종단면도, 제13도는 평면도, 제14도는 주요부 확대 종단면도이고, 실시예 4와 다른 것은 다음과 같다.
세정기구 지지체(13)의 상단에 베어링(35)을 통해서 베어링(35)을 통해서 상대회전만 가능하게 접촉부재(36)가 설치되고, 그 접촉부재(36)의 상단에 대응하도록 선단측 암부분(7a)의 상부측에 기판세정시에 기판(W)에서 반발력을 받음과 동시에 세정브러쉬(8)를 기판(W)에 대해서 승강 가능하게 지지하는 압압수단으로서 에어실린더(37)가 설치되고, 그 에어실린더(37)의 실린더로드(38)의 하단이 압력센서(54)를 사이에 두고 접촉부재(36)에 접촉되어 있다.
에어실린더(37)는 제15도의 개념도에 나타낸 바와 같이, 그 실린더(39)의 내주면과 피스톤(40) 및 실린더로드(38) 각각의 외주면 사이에 미소한 공간을 형성해서 구성되고, 그리고 피스톤(40)을 사이에 둔 실린더로드(38)와는 반대측의 공간과 컴프레서(55)를 유량조절밸브(56)를 통해서 끼워 설치한 제3공기배관(57)을 통해서 접속하고, 한편 피스톤(40)을 사이에 둔 실린더로드(38)측의 공간과 컴프레서(55)를 정량밸브(58)를 끼워 설치한 제4공기배관(59)을 통해서 접속되고, 에어실린더(37)를 공급공기로 중심에 두면서 미끄러짐 운동이 없는 상태로 저항을 작게 신축할 수 있도록 구성되어 있다.
상기 스프링시트(31, 32)와 압축코일 스프링(33)으로 이루어지는 중량균형 수단(34) 및 에어실린더(37) 각각의 평면도에서의 중심이 세정브러쉬(8)의 회전중심(P2)에 일치하도록 설치되어 있다.
제15도에 나타낸 바와 같이, 유량조절밸브(56)의 드라이버(60)에 제어수단으로서 콘트롤러(61)가 접속되고, 그 콘트롤러(61)에 압력센서(54)와 압력설정기(62)가 접속되어 있다.
콘트롤러(61)에는 제1비교수단(63)과 제2비교수단(64)과 열림신호 출력수단(65)과 닫힘신호 출력수단(66)이 구비되어 있다.
제1비교수단(63)에서는 압력센서(54)로 감지되는 압력과 압력설정기(62)에서 설정된 설정압력을 입력하고, 감지압력과 설정압력에서 미소량 감산한 설정하한 압력을 비교하며, 감지압력이 설정하한 압력보다도 작게된 경우에 열림신호 출력수단(65)에 지령신호를 출력하고, 열림신호 출력수단(65)에서 드라이버(60)에 열림신호를 출력해서 유량조절밸브(56)를 열림측으로 조작하며, 에어실린더(37)에 인가하는 동작압력이 커지게 되도록 구성되어 있다.
제2비교수단(64)에서는 압력센서(54)로 감지되는 압력과 압력설정기(62)에서 설정된 설정압력을 입력하고, 감지압력과 설정압력에 미소량 가산한 설정상한 압력을 비교하며, 감지압력이 설정상한 압력보다도 크게된 경우에 닫힘신호 출력수단(66)에 지령신호를 출력하고, 닫힘신호 출력수단(66)에서 드라이버(60)에 닫힘신호를 출력해서 유량조절밸브(56)를 닫힘측으로 조작하며, 에어실린더에 인가하는 동작압력이 작아지게 되도록 구성되어 있다.
상기 구성에 의해, 기판(W)의 세정에 앞서 기판(W)상에 형성된 막의 종류(알루미늄, 산화막, 질화막, 폴리실리콘막, 패턴막, 베어실리콘막 등)라든가 기판에 부착하고 있는 오염물의 성질 등의 종류 등에 응해서 그것에 대응하는 세정압력을 압력설정기(62)에서 설정 입력한다. 그것에 의해 지지암(7)을 세정위치에 위치시켜 세정브러쉬(8)를 회전기판(W)에 압압함에 따라 세정상태에서 세정브러쉬(8)가 기판(W)에 인가하는 압력을 압력센서(37)가 감지하고, 감지압력의 변화에 기초해서 유량조절밸브(56)를 자동적으로 개폐 제어하며, 세정브러쉬(8)가 기판(W)에 인가하는 압력을 상술한 설정상한 압력과 설정하한 압력의 설정범위 내로 유지하고, 소정의 압력을 기판(W)에 인가하면서 처리할 수 있도록 되어 있다. 다른 구성은 실시예 4와 동일하고, 동일 도면부호를 붙이는 것에 의해 그 설명은 생략한다.
[실시예 7]
제16도는 실시예 7의 주요부 확대 종단면도이고, 실시예 6과 다른 것은 다음과 같다.
즉, 압압수단으로서 에어실린더(37) 대신에 코일(67)내에 조작로드(68)를 직선적으로 이동 가능하게 설치한 리니어 액츄에이터(69)와 전원장치(70) 등이 선단측 암부분(7a)에 설치되어 있다.
제17도의 블록도에 나타낸 바와 같이, 전원장치(70)는 전원(70a)과 가변저항기(70b)로 구성되고, 가변저항기(70b)에서 저항을 조정하는 것에 의해 코일(67)에 흐르는 전류를 변화시키고, 리니어 액츄에이터(69)의 전자력을 제어할 수 있도록 되어 있다.
가변저항기(70b)의 드라이버(71)에 제어수단으로서 콘트롤러(72)가 접속되고, 그 콘트롤러(72)에 상술한 실시예 6과 같이 조작로드(68)와 세정기구 지지체(13)의 사이에 설치된 압력센서(54)와 압력설정기(62)가 접속되어 있다.
콘트롤러(72)에는 제1비교수단(73)과 제2비교수단(74)과 감소신호 출력수단(75)과 증가신호 출력수단(76)이 구비되어 있다.
제1비교수단(73)에서는 압력센서(54)로 감지되는 압력과 압력설정기(62)에서 설정된 설정압력을 입력하고, 감지압력과 설정압력에서 미소량 감산한 설정하한 압력을 비교하며, 감지압력이 설정하한 압력보다도 작게된 경우에 증가신호 출력수단(76)에 지령신호를 출력하고, 증가신호 출력수단(76)에서 드라이버(71)에 증가신호를 출력해서 리니어 액츄에이터(69)에 대한 전자력을 강하게 하여 세정브러쉬(8)가 기판(W)에 인가하는 동작압력이 높아지게 되도록 구성되어 있다.
제2비교수단(74)에서는 압력센서(54)로 감지되는 압력과 압력설정기(62)에서 설정된 설정압력을 입력하고, 감지압력과 설정압력에 미소량 가산한 설정상한 압력을 비교하며, 감지압력이 설정상한 압력보다도 크게된 경우에 감소신호 출력수단(75)에 지령신호를 출력하고, 감소신호 출력수단(75)에서 드라이버(71)에 감소신호를 출력해서 리니어 액츄에이터(69)에 대한 전자력을 약하게 하여 세정브러쉬(8)가 기판(W)에 인가하는 동작압력이 작아지게 되도록 구성되어 있다. 다른 구성은 실시예 6과 동일하고, 동일 도면부호를 붙이는 것에 의해 그 설명은 생략한다.
상기 구성에 의해, 세정상태에서 세정브러쉬(8)가 기판(W)에 인가하는 압력을 압력센서(54)가 감지하고, 감지압력의 변화에 기초해서 리니어 액츄에이터(69)의 전자력을 자동적으로 제어하며, 세정브러쉬(8)가 기판(W)에 인가하는 압력을 상술한 설정상한 압력과 설정하한 압력의 설정범위내로 유지하고, 소정의 압력을 기판(W)에 인가하면서 처리할 수 있도록 되어 있다.
[실시예 8]
제18도는 실시예 8의 주요부 확대 종단면도이고, 실시예 7과 다른 것은 다음과 같다.
즉, 세정기구 지지체(13)와 회전체(10) 등이 상하 1쌍씩 링크(77)를 통해서 평행 4변형 링크기구를 구성하도록 연결됨과 동시에, 세정기구 지지체(13)의 상단에 상대회전 가능하게 설치된 접촉부재(78)와 조작로드(68)가 로드셀형의 압력센서(54)를 통해서 접촉되어 있다. 압력센서(54)의 평면도에서 중심이 세정브러쉬(8)의 회전중심(P2)에 일치하도록 설치되어 있다. 다른 구성은 실시예 7과 동일하고, 동일 도면부호를 붙이는 것에 의해 그 설명은 생략한다. 또한, 상기 링크(77)의 연결구성은 실시예 5와 동일하다.
상기 실시예에서는 세정브러쉬(8)와 그것에 일체인 세정기구 지지체(13)를 회전체(10)에 대해서 승강하도록 구성하였지만, 지지암(7)의 선단측 암부분(7a)에 대해서 세정브러쉬(8)와 세정기구 지지체(13)에 회전체(10)를 더한 것을 승강하도록 구성하여도 좋다.
[실시예 9]
제19도는 본 발명의 회전식 기판세정장치의 실시예 9를 나타내는 전체 개략 종단면도이고, 장치 프레임(79)에 지지통체(80)가 베어링(81)을 통해서 회전 가능하게 설치되고, 그 지지통체(80)에 지지암(7)의 일단측에 일체의 회전지축(82)이 승강만 가능하게 설치되어 있다. 지지통체(80)에 풀리(83)가 일체로 설치되고, 그 풀리(83)와 정역회전가능한 전동모터(84)등이 전동벨트(85)를 통해서 연동 연결되어 있다.
지지암(7)의 타단측에 세정브러쉬(8)를 설치한 세정기구 지지체(13)가 회전만 가능하게 설치되고, 그 세정기구 지지체(13)와 지지암(7)에 설치한 전동모터(M)등이 벨트식 전동기구(86)를 통해서 연동 연결되어 있다.
회전지축(82)의 중간장소에 스프링시트(87)가 설치되고, 그 스프링시트(87)와 지지통제(80)의 사이에 회전지축(82)을 상승시키는 측으로 힘을 가하는 압축코일 스프링(88)이 설치되며, 자연상태에서 약간의 지지력으로 세정브러쉬(8)를 기판(W)에 대한 세정위치에 유지할 수 있도록 중량균형 수단(89)이 구성되어 있다.
회전지축(82)의 아래쪽에 대응 위치시켜 압압 지지수단으로서 리니어 액츄에이터(90)가 설치되고, 그 코일(91)내의 조작로드(92)에 회전지축(82)이 압력센서(93)를 통해서 지지되어 있다. 이 구성에 의해, 그 압력센서(93)에 의한 감지압력이 설정범위보다도 크게된 경우에는 전자력을 크게 해서 지지암(7)을 상승하도록 리니어 액츄에이터(90)를 제어하고, 한편, 압력센서(93)에 의한 감지압력이 설정범위보다도 작게된 경우에는 전자력을 작게해서 지지암(7)을 하강하도록 리니어 액츄에이터(90)를 제어하며, 세정브러쉬(8)가 기판(W)에 인가하는 압력이 설정범위 내에 유지되도록 한다. 다른 구성은 실시예 1과 동일하다.
상술한 실시예에서 압축코일 스프링(27, 88) 대신에 탄성변위의 정도에 관계 없이 반발력이 일정한 비선형 스프링을 사용하도록 하여도 좋다.
본 발명으로서는 세정브러쉬(8)로서 나일론 브러쉬와 모헤어(mohair) 브러쉬와 스폰지제와 페놀제 등과 같이 경질재료의 것을 사용하는 경우에 보다 바람직하게 실시될 수 있지만, 플라스틱제의 것을 사용하는 경우에도 적용할 수 있다.
또한, 상기 실시예에서는 세정브러쉬(8)를 기판(W)의 표면을 따라서 수평방향으로 옮기는데 전동모터에 의한 지지암(7)을 연직방향의 제1축심(P1) 주위로 회전시키도록 구성되어 있지만, 에어실린더 등에 의해 지지암(7)을 직선방향으로 이동시키도록 구성해도 좋고, 지지암(7)과 전동모터로 이루어지는 구성이나 지지암(7)과 에어실린더 등으로 이루어지는 구성 등을 세정기구 이동수단이라 총칭한다.
상술한 실시예에서는 세정브러쉬(8)와 그것에 일체인 세정기구 지지체(13)를 회전체(10)에 대해서 승강하도록 구성하였지만, 지지암(7)의 선단측 암부분(7a)에 대해서 세정브러쉬(8)와 세정기구 지지체(13) 등에 회전체(10)를 더한 것을 승강하도록 구성하는 것이어도 좋고, 승강하는 세정브러쉬(8)와 세정기구 지지체(13)등으로 이루어지는 것 및 세정브러쉬(8)와 세정기구 지지체(13)와 회전체(10)등으로 이루어지는 것 각각을 세정기구라 총칭한다.
본 발명으로서는 상술의 실시예와 같은 원형기판에 한정되지 않고, 사각형 기판에 대한 회전식 기판세정장치에도 적용할 수 있다.
본 발명은 그 사상 또는 본질에서 이탈하지 않는 한 다른 구체적인 형태로 실시할 수 있고, 따라서 본 발명의 범위를 나타내는 것으로서 이상의 설명이 아닌 부가된 청구항을 참조해야 한다.

Claims (17)

  1. 기판을 연직방향의 축심주위로 회전 가능하게 지지하는 기판지지수단과, 상기 기판표면을 세정하는 세정기구와, 상기 세정기구를 연직방향의 축심 주위로 회전시키는 세정기구 회전수단과, 상기 세정기구를 기판표면에 따라서 수평방향으로 옮기는 세정기구 이동수단과, 상기 기판표면의 상기 세정기구에 의한 세정장소에 세정액을 공급하는 세정액 공급수단을 구비하고, 상기 세정기구 이동수단에 압압수단을 통해서 상기 세정기구를 승강 가능하게 설치한 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 압압수단은 그 압력을 변경 가능하게 설정하는 압력 인가기구를 구비하는 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 세정기구의 기판에 대한 압력을 감지하는 센서를 그 평면도에서의 중심이 상기 세정기구의 회전중심에 일치하도록 설치하는 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 세정기구 회전수단에 의해 회전되는 회전체에 상기 세정기구를 일체로 설치한 세정기구 지지체를 상기 압압수단을 통해서 승강 가능하게 설치하는 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 세정기구 지지체를 축 받침을 통해서 상기 세정기구 이동수단에 회전 가능하게 설치하고, 상기 축 받침의 아래쪽에서 그 축 받침에서 발생한 파티클의 낙하를 방지하는 자성유체실로 설치하며, 또 상기 자성유체실로 수분의 침입을 방지하는 래버린스실을 설치하는 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
  6. 제4항에 있어서, 상기 회전체와 상기 세정기구 지지체 사이에 상기 세정기구의 자체중량과 균형을 맞추어 상기 세정기구를 소정 높이로 유지하는 중량균형 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 중량균형수단 및 상기 압력 인가기구 각각의 평면도에서의 중심을 상기 세정기구의 회전중심에 일치시키고 있는 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 세정기구 지지체를 축 받침을 통해서 상기 세정기구 이동수단에 회전 가능하게 설치하고, 상기 축 받침의 아래쪽에서 그 축 받침에서 발생한 파티클의 낙하를 방지하는 자성유체실로 설치하며, 또 상기 자성유체실로 수분의 침입을 방지하는 래버린스실을 설치하는 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 세정기구와 상기 압압수단 사이에 기판 세정상태에서 상기 세정기구가 상기 기판에 인가하는 압력을 감지하는 압력센서를 설치함과 동시에, 상기 압력센서로 감지한 압력이 설정범위내에 유지되도록 상기 압압수단을 작동하는 제어수단을 설치하는 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 압압수단을 세정기구 회전수단에 의해 회전되는 회전체와, 상기 세정기구를 일체로 설치한 세정기구 지지체 사이에 설치하고, 상기 세정기구 지지체를 상기 압압수단을 통해 상기 기판에 대해 승강하는 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 세정기구 지지체를 축 받침을 통해서 상기 세정기구 이동수단에 회전 가능하게 설치하고, 상기 축 받침의 아래쪽에서 그 축 받침에서 발생한 파티클의 낙하를 방지하는 자성유체실로 설치하며, 또 상기 자성유체실로 수분의 침입을 방지하는 래버린스실을 설치하는 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
  12. 제10항에 있어서, 상기 회전체와 상기 세정기구 지지체 사이에 상기 세정기구의 자체중량과 조화해서 상기 세정기구를 소정 높이로 유지하는 중량균형 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 중량균형수단, 상기 압압수단 및 상기 압력센서 각각의 평면시에서의 중심을 세정기구의 회전중심에 일치시키고 있는 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
  14. 제13항에 있어서, 상기 세정기구 지지체를 축 받침을 통해서 상기 세정기구 이동수단에 회전 가능하게 설치하고, 상기 축 받침의 아래쪽에서 그 축 받침에서 발생한 파티클의 낙하를 방지하는 자성유체실로 설치하며, 또 상기 자성유체실로 수분의 침입을 방지하는 래버린스실을 설치하는 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
  15. 제9항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 압압수단은 전자력을 구동원으로 하는 리니어 액츄에이터로 구성하는 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
  16. 제1항에 있어서, 상기 세정기구 이동수단을 장치 프레임에 압압지지수단을 통해서 승강 가능하게 설치하고, 기판 세정상태에서 상기 세정기구가 상기 기판에 인가하는 압력을 감지하는 압력센서를 설치함과 동시에, 상기 압력센서로 감지한 압력이 설정범위내에 유지되도록 상기 압압지지수단을 작동하는 제어수단을 설치하는 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
  17. 제16항에 있어서, 상기 압압지지수단은 전자력을 구동원으로 하는 리니어 액츄에이터로 구성하는 것을 특징으로 하는 회전식 기판세정장치.
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