JPWO2020110276A1 - 荷電粒子線装置 - Google Patents

Abstract

試料を搬送するときや観察しているとき等に発生する異物を解析可能にする荷電粒子線装置を提供する。測定用試料が設置される試料ステージと、前記測定用試料に荷電粒子線を照射する荷電粒子線源と、前記荷電粒子線の照射によって放出される荷電粒子を検出する検出器と、を備える荷電粒子線装置であって、前記測定用試料とともに前記試料ステージに保持される異物観察用試料と、前記異物観察用試料の上の異物を観察する異物観察部と、を備えることを特徴とする。

Description

本発明は、荷電粒子線装置に係り、特に半導体デバイスの製造工程において発生する異物を解析する技術に関する。

電子顕微鏡やイオン顕微鏡等の荷電粒子線装置は、微細な構造を持つ様々な試料の観察に用いられ、特に半導体デバイスの製造工程では、半導体ウェハに形成されたパターンの寸法計測や欠陥検査等に利用される。半導体デバイスの歩留まりを維持するには、製造工程での異物の発生を防止する必要があり、異物が発生した場合には発生位置を解析し、発生位置に応じて異物対策を図らなければならない。

特許文献１には、半導体ウェハに付着する異物の解析を容易にするために、半導体ウェハの代わりに製造工程に流されるダミーウェハに、異物と区別可能な開孔を高精度に設けておき、異物が付着しやすい位置等の解析を開孔に基づいて行うことが開示されている。

特開平６−１２０３１１号公報

しかしながら特許文献１では、試料である半導体ウェハを荷電粒子線装置内に搬送するときや荷電粒子線装置によって観察しているとき等に発生する異物に対する配慮がなされていない。荷電粒子線装置内への搬送時には搬送機構の摩擦等により異物が発生し試料に付着する場合がある。また荷電粒子線装置による観察では、観察視野や観察倍率等の観察条件の変更に応じて試料周辺の電磁界が変動する。電磁界の変動は異物の発生要因となるので、試料を観察しているときに異物が試料に付着する場合がある。

そこで本発明は、試料を搬送するときや観察しているとき等に発生する異物を解析可能にする荷電粒子線装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために本発明は、測定用試料が設置される試料ステージと、前記測定用試料に荷電粒子線を照射する荷電粒子線源と、前記荷電粒子線の照射によって放出される荷電粒子を検出する検出器と、を備える荷電粒子線装置であって、前記測定用試料とともに前記試料ステージに保持される異物観察用試料と、前記異物観察用試料の上の異物を観察する異物観察部と、を備えることを特徴とする。

本発明によれば、試料を搬送するときや観察しているとき等に発生する異物を解析可能にする荷電粒子線装置を提供することができる。

荷電粒子線装置の一例である走査電子顕微鏡の全体構成図 実施例１の試料ステージを説明する図 実施例１の処理の流れの一例を示す図 実施例２の試料ステージを説明する図 実施例３の試料ステージを説明する図 実施例３の処理の流れの一例を示す図 実施例４の試料ステージを説明する図 実施例４の処理の流れの一例を示す図 実施例４のテーブルの一例を説明する図 実施例５の試料ステージを説明する図

以下、添付図面に従って本発明に係る荷電粒子線装置の実施例について説明する。荷電粒子線装置は、荷電粒子線を試料に照射することによって試料を観察したり加工したりする装置であり、走査電子顕微鏡や走査イオン顕微鏡、走査透過電子顕微鏡等の様々な装置がある。以下では、荷電粒子線装置の一例として、荷電粒子線の一つである電子線を用いて試料を観察する走査電子顕微鏡について説明する。

図１を用いて本実施例の走査電子顕微鏡の全体構成について説明する。なお図１中の鉛直方向をＺ方向、水平方向をＸ方向及びＹ方向とする。

走査電子顕微鏡の筐体１１０の中には、電子銃１０１、第一コンデンサレンズ１０２、絞り１０３、第二コンデンサレンズ１０４、検出器１０５、走査偏向器１０６、対物レンズ１０７、シールド電極１０８、試料ステージ１０９が設置される。試料ステージ１０９の上には、観察や検査、計測用の試料である測定用試料１２１が保持される。電子銃１０１から放出された電子線は、第一コンデンサレンズ１０２、絞り１０３、第二コンデンサレンズ１０４、走査偏向器１０６、対物レンズ１０７、シールド電極１０８などを通過して偏向や集束され、測定用試料１２１の測定位置に照射される。

筐体１１０には試料ステージ１０９が設置される試料室が含まれ、試料室内は図示しない真空ポンプによって排気される。電子銃１０１、第一コンデンサレンズ１０２、絞り１０３、第二コンデンサレンズ１０４、走査偏向器１０６、対物レンズ１０７、シールド電極１０８、試料ステージ１０９等の動作は制御部１１１によって制御される。

電子線の照射によって測定用試料１２１から放出される二次電子や反射電子といった荷電粒子は検出器１０５によって検出される。検出器１０５は荷電粒子の検出信号を制御部１１１へ出力する。制御部１１１は検出信号に基づいて測定用試料１２１の画像を形成し、入出力部１１２が備える表示部に表示させたり、記憶部１１３に格納したりする。なお表示部は入出力部１１２と分離された別体として配置されても良い。形成された画像は、測定用試料１２１の寸法計測や欠陥検査などの測定に用いられる。

測定用試料１２１を観察する際、ユーザは必要に応じて観察視野や観察倍率等の観察条件を変更する。観察条件の変更は測定用試料１２１の周辺の電磁界を変動させ、測定用試料１２１に異物を付着させる場合がある。しかし測定用試料１２１を観察中の操作者には、測定用試料１２１に付着している異物が、観察中に付着したのか、観察前から付着していたのかを区別することが困難である。

そこで本実施例では、測定用試料１２１とともに試料ステージ１０９に保持され、異物の観察に用いられる異物観察用試料１２２が備えられる。異物観察用試料１２２の観察には異物観察部１１５が用いられる。異物観察部１１５は例えば光学顕微鏡である。なお、異物観察部１１５は、測定用試料１２１の測定位置合わせ等に用いられても良い。

図２を用いて本実施例の試料ステージ１０９について説明する。本実施例の試料ステージ１０９は、図示しない移動機構によって試料室内を移動するとともに、静電チャック２０１と保持台２０８を備える。

静電チャック２０１は測定用試料１２１を保持し、例えば高抵抗アルミナ性の円盤の内部に静電チャック電極２０２、２０３を有する構造である。静電チャック電極２０２、２０３は、それぞれに接続される静電チャック電源２０４、２０５から電圧を印加され、双極型の静電チャックを構成する。なお、測定用試料１２１を保持できれば、双極型の静電チャックでなくても良く、例えば測定用試料１２１を機械的に保持するホルダタイプであっても良い。また、静電チャック電源２０４、２０５はいずれもリターディング電源２０６に接続されていても良い。静電チャック電源２０４、２０５がリターディング電源２０６に接続される場合は、測定用試料１２１、静電チャック電極２０２、２０３のそれぞれにリタ―ディング電圧が印加され、いわゆるリタ―ディング法が適用できる。リターディング電源２０６はグラウンド２０７に接続される。

保持台２０８は異物観察用試料１２２を保持し、測定用試料１２１の近傍、例えば測定用試料１２１に形成される電磁界と略同等の電磁界が形成される位置に配置される。すなわち異物観察用試料１２２と測定用試料１２１の環境は略同等にされる。また異物観察用試料１２２が帯電しないように、異物観察用試料１２２と保持台２０８は例えば導電性の接着剤で接着される。さらに短時間で観察できるように、異物観察用試料１２２は測定用試料１２１に比べて十分に小さな大きさであり、例えば欠片状のＳｉウェハで構成される。また異物観察用試料１２２の表面は、容易に観察できるように、鏡面であることが好ましい。なお、測定用試料１２１の観察に先立って、異物観察用試料１２２は異物が除去された状態、あるいは異物の位置や数等が確認された状態とされる。

走査電子顕微鏡の試料室内には、電子線の軌道制御や測定用試料１２１の保持等のために印加される電圧によって、電磁界が形成される。形成された電磁界は、試料室内の異物を飛散させ、測定用試料１２１に付着させる場合がある。このような場合であっても本実施例の構成によれば、試料ステージ１０９には測定用試料１２１とともに異物観察用試料１２２が保持されるので、異物観察用試料１２２上の異物の有無や異物の増加数等を観察することにより、測定用試料１２１に付着する異物を推測できる。

図３を用いて、図１及び図２を用いて説明した構成による本実施例の処理の流れの一例について説明する。

（Ｓ３０１）
制御部１１１が、異物観察部１１５によって異物観察用試料１２２を観察できる位置に試料ステージ１０９を移動させる。

（Ｓ３０２）
異物観察部１１５によって異物観察用試料１２２が観察される。異物観察部１１５が光学顕微鏡である場合には、暗視野観察や明視野観察、微分干渉観察、偏光観察、位相差観察等のいずれかの観察がなされる。なお異物観察用試料１２２は、測定用試料１２１を除く筐体１１０内の他の部材と異なる表面粗さを有したり、異なる材質であったりすることが好ましい。筐体１１０内の他の部材と表面粗さや材質が異なる異物観察用試料１２２が用いられることにより、本ステップでの観察による異物の検出が容易になる。

（Ｓ３０３）
制御部１１１は、Ｓ３０２での観察に基づいて異物の指標値を算出する。算出される異物の指標値としては、例えば、異物の総数、特定の形状に分類される異物の個数、ある粒径の範囲に分類される異物の個数、単位面積あたりの異物の専有面積等があげられる。また特定の操作、例えば測定用試料１２１の試料室内への搬送や一連の測定手順の実行によって、増加した異物の個数等を異物の指標値にしても良い。

（Ｓ３０４）
制御部１１１は、Ｓ３０３で算出された異物の指標値が基準値以上であるか否かを判定する。基準値以上であればＳ３０５へ処理を進め、基準値未満であれば終了となる。なお、基準値は、記憶部１１３に格納された予め定められた値でも良いし、ユーザによって設定された値でも良い。また基準値は、異物の検出感度やスループットに基づいて設定されても良い。すなわち極小さな異物でも検出できるように検出感度を高めたり、検出感度を低下させてもスループットを優先させたりするように基準値が設定されても良い。

（Ｓ３０５）
制御部１１１は、入出力部１１２の表示部にアラートを表示させる。アラートの表示により、異物観察用試料１２２の異物の指標値が基準値以上であることをユーザに知らせることができる。

以上説明した処理の流れにより、異物観察用試料１２２の異物の状態をユーザに知らせることができるので、異物観察用試料１２２の近傍に保持される測定用試料１２１の異物の状態をユーザは推測できるようになる。すなわち本実施例によれば、試料を搬送するときや観察しているとき等に発生する異物を解析可能にする荷電粒子線装置を提供することができる。

実施例１では、測定用試料１２１の近傍に配置される異物観察用試料１２２の異物を観察することにより、測定用試料１２１の異物の状態を推測することについて説明した。本実施例では、測定用試料１２１の異物をより高精度に推測するために、異物観察用試料１２２の環境を測定用試料１２１の環境により近づける。なお、実施例１に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情がない限り本実施例にも適用できる。

図４を用いて本実施例の試料ステージ１０９について説明する。なお、実施例１で参照した図と同一符号は同一または相当する部分を示すので説明を省略する。本実施例と実施例１との違いは、異物観察用試料１２２がリターディング電源２０６に接続されている点である。

このような構成により、測定用試料１２１に印加される電圧と同じ電圧が異物観察用試料１２２に印加される。すなわち、本実施例では異物観察用試料１２２の環境が測定用試料１２１の環境により近づけられるので、測定用試料１２１の異物をより高精度に推測することができる。

さらに異物観察用試料１２２の表面の高さは測定用試料１２１の高さのばらつきの範囲内に合わせられることが好ましい。異物観察用試料１２２と測定用試料１２１の表面の高さがより近づけられることにより、例えばシールド電極１０８との間に形成される電界は同等になるので、異物観察用試料１２２と測定用試料１２１の周辺では異物に作用する力も同等になる。すなわち異物観察用試料１２２と測定用試料１２１の環境がより近づくので、測定用試料１２１の異物をより高精度に推測することができる。

実施例１では、異物観察用試料１２２を測定用試料１２１に比べて十分に小さな大きさにすることにより、短時間で観察できるようにすることについて説明した。本実施例では、異物観察用試料１２２の観察に要する時間をより短縮できるようにする。なお、実施例１に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情がない限り本実施例にも適用できる。

図５を用いて本実施例の試料ステージ１０９について説明する。なお、実施例１で参照した図と同一符号は同一または相当する部分を示すので説明を省略する。本実施例と実施例１との違いは、異物観察用試料１２２に位置合わせ用のパターン５０１が設けられている点である。パターン５０１は異物と区別できる形状を有し、例えば十字、円、正方形等の人工的な形状や、それらの形状を組み合わせた形状でも良い。なおパターン５０１は図５に示すような異物観察用試料１２２の表面に対する凸型形状に限定されず、凹型形状であっても良い。また異物観察用試料１２２の異物の位置を把握しやすくするために、パターン５０１は異物観察用試料１２２の所定の位置、例えば中央に設けられたり、複数の位置に設けられたりすることが好ましい。

このような構成により、異物観察用試料１２２の観察に先立って行われる異物観察用試料１２２の位置合わせにパターン５０１が用いられるので、異物観察用試料１２２の位置合わせに要する時間を短縮することができる。すなわち、本実施例では異物観察用試料１２２の位置合わせを短時間でできるので、位置合わせを含めた観察に要する時間をより短縮することができる。なお、測定用試料１２１がなくても異物観察用試料１２２の位置合わせはできるので、図５に測定用試料１２１は図示されない。

またパターン５０１の位置を基準として異物観察用試料１２２を観察することにより、異物観察用試料１２２の異物の位置を高精度に把握できる。異物観察用試料１２２の異物の位置が高精度に把握できれば、測定用試料１２１の異物をより高精度に推測することができる。

図６を用いて、図１及び図５を用いて説明した構成による本実施例の処理の流れの一例について説明する。

（Ｓ６０１）
異物観察用試料１２２に設けられた位置合わせ用のパターン５０１を用いて、異物観察用試料１２２の位置合わせがなされる。位置合わせには例えば光が用いられ、異物観察用試料１２２のＸＹ座標やＺ方向の位置が合わせられる。なお、異物観察用試料１２２の表面の高さが測定用試料１２１の高さのばらつきの範囲内に合わせられていれば、異物観察用試料１２２の観察後に測定用試料１２１を観察する際、電子線の焦点合わせに要する時間を短縮できる。

Ｓ３０１からＳ３０５の処理の流れは実施例１と同じであるので説明を省略する。

以上説明した処理の流れにより、異物観察用試料１２２の位置合わせを含め、異物観察用試料１２２の観察に要する時間をより短縮することができる。また異物観察用試料１２２の異物の状態をユーザに知らせることができるので、異物観察用試料１２２の近傍に保持される測定用試料１２１の異物の状態をユーザは推測できるようになる。すなわち本実施例によれば、試料を搬送するときや観察しているとき等に発生する異物を解析可能にする荷電粒子線装置を提供することができる。

実施例１では、光学顕微鏡を用いて異物観察用試料１２２を観察することについて説明した。本実施例では、異物観察用試料１２２を詳細に観察するために荷電粒子線を用いる。なお、実施例１に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情がない限り本実施例にも適用できる。

図７を用いて本実施例の試料ステージ１０９について説明する。なお、実施例１で参照した図と同一符号は同一または相当する部分を示すので説明を省略する。本実施例と実施例１との違いは、荷電粒子線である電子線を照射可能な位置に異物観察用試料１２２を移動させる点である。すなわち電子銃１０１や検出器１０５、制御部１１１が異物観察部として機能する。また異物観察用試料１２２の環境を測定用試料１２１の環境により近づけるために、実施例２と同様に、異物観察用試料１２２がリターディング電源２０６に接続されても良い。

このような構成により、異物観察用試料１２２に電子線が照射されて放出される二次電子や反射電子が検出器１０５によって検出されて、異物観察用試料１２２の二次電子像や反射電子像が形成される。二次電子像には異物観察用試料１２２の異物の形状が反映され、反射電子像には異物の組成が反映されるので、異物観察用試料１２２の異物を詳細に観察することができ、詳細観察の結果から異物の発生要因を推定できる。例えば、異物の形状がフレーク状の場合には荷電粒子線装置内の部材等の接触や摩擦により異物が発生したことが推定できる。また異物の形状が球状の場合には放電等による部材の溶融により異物が発生したことが推定できる。このように、本実施例では異物観察用試料１２２の異物を詳細に観察できるので、測定用試料１２１の異物を高精度に推測することができる。

また異物観察用試料１２２に電子線が照射されて放出されるＸ線を検出することにより、異物を分析して組成を特定することができる。異物の組成が特定できれば、異物の発生個所を推定できるので、適切な異物対策を図ることができる。

図８を用いて、図１及び図７を用いて説明した構成による本実施例の処理の流れの一例について説明する。

（Ｓ８０１）
制御部１１１が、異物観察部によって観察できる位置、具体的には対物レンズ１０７の開口の直下に異物観察用試料１２２が配置されるように試料ステージ１０９を移動させる。

（Ｓ８０２）
荷電粒子線を用いて異物観察用試料１２２が観察される。すなわち荷電粒子線である電子線が照射されることによって異物観察用試料１２２から放出される二次電子や反射電子が検出器１０５で検出され、検出器１０５から出力される検出信号に基づいて異物観察用試料１２２の二次電子像や反射電子像が形成される。

なお、異物観察用試料１２２から放出されるＸ線を検出することにより異物観察用試料１２２の異物が分析されても良い。異物の分析結果や二次電子像、反射電子像は入出力部１１２の表示部に適宜表示される。

（Ｓ８０３）
制御部１１１は、Ｓ８０２での観察に基づいて異物の指標値を算出する。本ステップで算出される異物の指標値は、例えば、異物の位置、粒径、形状、組成等である。また異物の位置や粒径等を複数のレベルに分けて、レベル毎の異物を計数し、ヒストグラムを作成しても良い。算出された異物の指標値等は、必要に応じて入出力部１１２の表示部に表示される。

（Ｓ８０４）
制御部１１１は、Ｓ８０３で算出された異物の指標値を図９に例示されるテーブル９０１と照合する。テーブル９０１は、異物の位置、粒径、形状、組成のような指標値と異物の発生要因とを対応付けたものであり、事前に作成され記憶部１１３に格納される。本ステップでは、記憶部１１３から読み出される異物の指標値と発生要因とが対応付けられたテーブルと、Ｓ８０３で算出された異物の指標値が照合されることにより、異物の発生要因が推定される。

（Ｓ８０５）
制御部１１１は、Ｓ８０４で推定された異物の発生要因を入出力部１１２の表示部に表示させる。異物の発生要因の推定結果が表示されることにより、異物の発生要因に応じた適切な異物対策をユーザに促すことができる。なお記憶部１１３に格納されるテーブルは図９に例示されるものに限定されず、テーブルに含まれる異物の指標値は複数であっても単数であっても良い。また異物の発生要因に応じた異物対策をテーブルに含めるようにしても良い。テーブルに異物対策を含めることにより、ユーザが迅速に異物対策を図ることができる。

以上説明した処理の流れにより、異物観察用試料１２２の異物を詳細に観察することができるとともに、異物の発生要因の推定結果をユーザに知らせることができる。その結果、ユーザはより適切な異物対策を迅速に図ることができる。

実施例１乃至４では、測定用試料１２１の近傍に配置される異物観察用試料が単数である場合について説明した。本実施例では、異物観察用試料が複数である場合について説明する。なお、実施例１乃至４に記載され本実施例に未記載の事項は特段の事情がない限り本実施例にも適用できる。

図１０を用いて本実施例の試料ステージ１０９について説明する。なお、実施例１乃至４で参照した図と同一符号は同一または相当する部分を示すので説明を省略する。本実施例と実施例１乃至４との違いは、複数の異物観察用試料が測定用試料１２１の近傍に配置される点である。すなわち本実施例の試料ステージ１０９は、静電チャック２０１、保持台２０８とともに保持台１００２を備える。

保持台１００２は、保持台２０８が保持する異物観察用試料１２２とは別の異物観察用試料１００１を保持し、保持台２０８と異なる位置であって測定用試料１２１の近傍、例えば測定用試料１２１に形成される電磁界と略同等の電磁界が形成される位置に配置される。すなわち異物観察用試料１００１と測定用試料１２１の環境は略同等にされる。異物観察用試料１００１は、異物観察用試料１２２と同様に、測定用試料１２１に比べて十分に小さな大きさであり、測定用試料１２１の観察に先立って異物が除去された状態、あるいは異物の位置や数等が確認された状態とされる。また異物観察用試料１００１の表面は鏡面であることが好ましい。なお異物観察用試料の数は二つに限らず、三つ以上であっても良い。

このような構成により、測定用試料１２１の近傍であって異なる位置において異物を検出できるので、測定用試料１２１の観察中に発生する異物の空間的な分布を把握することが可能となる。異物の空間的な分布を把握することにより、異物の発生要因を正確に解析できるようになり、より適切な異物対策を図ることができる。

なお異物観察用試料１００１は、異物観察用試料１２２と異なる表面粗さを有していても良い。表面粗さが小さい表面には金属製の異物が付着しやすいので、例えば異物観察用試料１００１の表面粗さを異物観察用試料１２２よりも小さくすることにより、異物観察用試料１００１を用いて異物の発生状況を加速評価することができる。その一方で異物観察用試料１２２には異物観察用試料１００１よりも金属製の異物が付着しにくいので、異物観察用試料１２２をクリーニングすることなく長期的に利用することができる。また異物の付着のしやすさは材質にも依存するため、異物観察用試料１００１は、異物観察用試料１２２と異なる材質であっても良い。

さらに光の散乱や荷電粒子の検出信号は表面粗さや材質によって変化するので、異なる表面粗さ又は材質の異物観察用試料を観察して得られる画像同士を比較しても良い。例えば異物観察用試料１００１と異物観察用試料１２２を異なる材質とした状態で両者の反射電子像を取得し、異物観察用試料１００１の反射電子像と異物観察用試料１２２の反射電子像とを比較することにより異物の検出が容易になる。

以上、本発明の荷電粒子線装置の複数の実施例について説明した。本発明は上記実施例に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施例に開示されている複数の構成要素を適宜組み合わせても良い。さらに、上記実施例に示される全構成要素からいくつかの構成要素を削除しても良い。

１０１…電子銃、１０２…第一コンデンサレンズ、１０３…絞り、１０４…第二コンデンサレンズ、１０５…検出器、１０６…走査偏向器、１０７…対物レンズ、１０８…シールド電極、１０９…試料ステージ、１１０…筐体、１１１…制御部、１１２…入出力部、１１３…記憶部、１１５…異物観察部、１２１…測定用試料、１２２…異物観察用試料、２０１…静電チャック、２０２、２０３…静電チャック電極、２０４、２０５…静電チャック電源、２０６…リターディング電源、２０７…グラウンド、２０８…保持台、５０１…パターン、９０１…テーブル、１００１…異物観察用試料、１００２…保持台

Claims (11)

1. 測定用試料が保持される試料ステージと、
   前記測定用試料に荷電粒子線を照射する荷電粒子線源と、
   前記荷電粒子線の照射によって放出される荷電粒子を検出する検出器と、を備える荷電粒子線装置であって、
   前記測定用試料とともに前記試料ステージに保持される異物観察用試料と、
   前記異物観察用試料の上の異物を観察する異物観察部と、を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
2. 請求項１に記載の荷電粒子線装置であって、
   前記異物観察用試料には、前記測定用試料に印加される電圧と同じ電圧が印加されることを特徴とする荷電粒子線装置。
3. 請求項１に記載の荷電粒子線装置であって、
   前記異物観察用試料は、位置合わせ用のパターンを有することを特徴とする荷電粒子線装置。
4. 請求項１に記載の荷電粒子線装置であって、
   前記異物観察用試料は、前記測定用試料を除く他の部材と異なる表面粗さを有することを特徴とする荷電粒子線装置。
5. 請求項１に記載の荷電粒子線装置であって、
   前記異物観察用試料は、前記測定用試料を除く他の部材と異なる材質であることを特徴とする荷電粒子線装置。
6. 請求項１に記載の荷電粒子線装置であって、
   前記異物観察部は光学顕微鏡であることを特徴とする荷電粒子線装置。
7. 請求項１に記載の荷電粒子線装置であって、
   前記異物観察部は前記異物観察用試料に荷電粒子線を照射することにより前記異物を観察することを特徴とする荷電粒子線装置。
8. 請求項１に記載の荷電粒子線装置であって、
   異物の指標値と発生要因とが対応付けられたテーブルを記憶する記憶部と、
   前記異物観察部による観察の結果に基づいて前記異物の指標値を算出し、算出された指標値を前記テーブルと照合することにより、異物の発生要因の推定結果を出力する制御部をさらに備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
9. 請求項１に記載の荷電粒子線装置であって、
   前記異物観察用試料は、前記試料ステージに複数保持されることを特徴とする荷電粒子線装置。
10. 請求項９に記載の荷電粒子線装置であって、
    前記異物観察用試料はそれぞれ異なる表面粗さを有することを特徴とする荷電粒子線装置。
11. 請求項９に記載の荷電粒子線装置であって、
    前記異物観察用試料はそれぞれ異なる材質であることを特徴とする荷電粒子線装置。

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