JPWO2018123815A1 - レンズ駆動装置 - Google Patents

Abstract

ベース部材に、第１金属片と第２金属片および第３金属片がインサート成形法により埋設されている。ベース部材の第１表面から第２表面にかけて、複数の導電パターンが形成されており、導電パターンがそれぞれ第１金属片の導通部に導通している。

Description

本発明は、ベース部材に埋設された金属片で形成された外部端子部からコイルに通電されて、レンズ保持部材が移動させられるレンズ駆動装置に関する。

特許文献１にレンズ駆動装置に関する発明が記載されている。

特許文献１に記載されたレンズ駆動装置は、下側ケースに４本のサスペンションワイヤが固定され、サスペンションワイヤでオートフォーカス用アクチュエータがレンズの光軸と交差する方向へ移動できるように支持されている。

オートフォーカス用アクチュエータでは、レンズ体を保持するレンズホルダに第１コイルが巻かれている。レンズホルダは、磁石を有する外側ヨークの内部に設けられ、レンズホルダは、上側板ばねと下側板ばねによって、外側ヨークの内部で光軸方向へ移動自在に支持されている。

下側ケースに、ＦＰＣ（フレキシブルプリント基板）が重ねられ、ＦＰＣの下面に磁気検知素子が固定されている。ＦＰＣの上に第２コイル保持部材が重ねられており、第２コイル保持部材にプリントコイルである第２コイルが設けられている。ＦＰＣに延出部が設けられており、ＦＰＣの引き回しパターンを介して、第２コイルと磁気検知素子に配線されている。また、ＦＰＣの引き回しパターンからサスペンションワイヤおよび上側板ばね介して第１コイルにも通電されている。

このレンズ駆動装置は、サスペンションワイヤで支持されているオートフォーカス用アクチュエータの光軸と交差する向きの動きが磁気検知素子で検知され、その移動を打ち消すべき電流が第２コイルに与えられて、いわゆる手振れ補正が行われる。また第１コイルに与えられる電流によって、レンズホルダが光軸方向へ駆動されて、フォーカス補正が行われる。

特開２０１４−８５６２４号公報

この種のレンズ駆動装置は、第２コイルへの配線経路と磁気検知素子への配線経路および第１コイルへの配線経路の多種の配線経路を設けることが必要である。特許文献１では、下側ケースにＦＰＣを重ねて設けることで、複数の配線経路を構成できるようにしている。

しかし、ＦＰＣは高価な部品であるため、ＦＰＣを設けることで製造コストが増加する課題がある。特に、特許文献１では、第１コイルへの配線経路の一部となっているサスペンションワイヤがＦＰＣに半田付けされているため、ＦＰＣの材料として耐熱性のあるポリイミド樹脂を使用することが必要となっており、材料費がさらに高くなっている。

また、組立作業においても、下側ケースにＦＰＣと第２コイル保持部材を順に重ねる工程が必要になるため、工数が多く、これによっても製造コストが高くなる。

本発明は、上記従来の課題を解決するものであり、コイルや磁気検知素子などへの複数の配線経路を少ない部品点数によって実現できるようにしたレンズ駆動装置を提供することを目的としている。

本発明は、ベース部材と、レンズ体を保持可能なレンズ保持部材と、前記レンズ保持部材を移動させる駆動機構とを有し、前記駆動機構が磁石とコイルとを有して構成されているレンズ駆動装置において、
前記ベース部材が絶縁材料で形成されて、前記ベース部材に第１金属片が埋設され、前記第１金属片に外部端子部と導通部とが形成されており、
前記外部端子部が前記ベース部材から外部に露出し、
前記ベース部材の表面に導電パターンが形成され、前記導電パターンが前記導通部に導通しているとともに、前記コイルが前記導電パターンに導通していることを特徴とするものである。

本発明のレンズ駆動装置は、前記ベース部材の表面は、第１表面と、第１表面よりも高い位置にある第２表面とを有しており、
前記第１表面で、前記第１金属片の前記導通部と前記導電パターンとが接続され、前記導電パターンが、前記第１表面から第２表面にかけて形成されていることが好ましい。

本発明のレンズ駆動装置は、第１表面と前記第２表面との間に斜面が形成されており、前記導電パターンが、第１表面から前記斜面を経て前記第２表面に形成されていることが好ましい。

この場合に、前記第１表面からの前記斜面の立ち上がり角度が４５度以下であることが好ましい。

本発明のレンズ駆動装置は、前記レンズ保持部材を搭載した可動部が、弾性支持部材を介して前記ベース部材に支持されて、前記可動部に前記磁石が搭載され、前記磁石に対向する前記コイルを有する絶縁基板が、前記ベース部材に重ねられており、
前記導電パターンと、前記絶縁基板に形成された接続導電部とが接合されて、前記導電パターンが、前記絶縁基板の配線パターンを介して前記コイルに導通しているものである。

または、本発明のレンズ駆動装置は、前記レンズ保持部材を搭載した可動部が、弾性支持部材を介して前記ベース部材に支持されて、前記可動部に前記磁石が搭載され、前記磁石に対向する前記コイルおよび前記磁石に対向する磁気検知素子を有する絶縁基板が、前記ベース部材に重ねられており、
前記第２表面に形成された前記導電パターンと、前記絶縁基板に形成された接続導電部とが接合されて、一部の前記導電パターンが、前記絶縁基板の配線パターンを介して前記コイルに導通し、他の一部の前記導電パターンが、前記絶縁基板の配線パターンを介して前記磁気検知素子に導通しているものである。

本発明のレンズ駆動装置では、前記磁気検知素子が、前記ベース部材の前記第１表面に対向していることが好ましい。

本発明のレンズ駆動装置は、前記絶縁基板は、複数枚の絶縁シートが積層された積層基板であり、それぞれの前記絶縁シートに形成されたコイル導体によって前記コイルが構成されているものとして構成できる。

さらに、本発明のレンズ駆動装置は、前記絶縁基板は複数に分割されており、前記ベース部材の前記表面に設けられた中継用導電パターンを介して、それぞれの前記絶縁基板に設けられた中継導電部が互いに導通しているものであってもよい。

本発明のレンズ駆動装置は、前記レンズ保持部材を搭載した可動部が、サスペンションワイヤを介して前記ベース部材に支持されて、前記可動部に前記磁石が搭載され、前記ベース部材側に前記コイルが設けられており、
前記ベース部材に、前記サスペンションワイヤを支持する第２金属片が埋設されており、前記第２金属片が、前記第１金属片と同じ金属板で形成され、前記第２金属片と前記第１金属片の前記導通部とが、同じ高さの面に位置しているものである。

本発明のレンズ駆動装置は、ベース部材の内部に埋設された金属片と、ベース部材の表面に形成された導電パターンを組み合わせることによって配線経路が構成されている。そのため、ＦＰＣなどを使用することなく、多数の配線経路を効果的に構成することが可能になる。

また、ベース部材の第１表面を低くして、第１表面で導電パターンと金属片とを接続し、高い位置にある第２表面に形成された導電パターンを絶縁基板などに導通させることにより、ベース部材の第１表面に露出する金属片の導通部が絶縁基板などに当たるのを防止できるようになる。

本発明の実施の形態のレンズ駆動装置を上方から示す斜視図、 図１に示すレンズ駆動装置を、カバーを取り外した状態で示す斜視図、 カバーを取り外したレンズ駆動装置を、各構成部材毎に分解して示す分解斜視図、 レンズ駆動装置のベース部材とサスペンションワイヤおよびコイルを有する絶縁基板を示す分解斜視図、 ベース部材に埋設されている第１金属片および第２金属片と、ベース部材表面の導電パターンとの位置関係を示す分解斜視図、 図４に示すベース部材を含む基台構造部をＶＩ−ＶＩ線で切断した断面図、である。

以下に、本発明の実施例を添付の図面を用いて詳細に説明する。

図１に示すレンズ駆動装置１は、携帯用電話機や携帯用情報端末装置などに撮像素子と共に搭載される。以下の実施の形態では省略されているが、レンズ駆動装置１のレンズホルダ３１には前記撮像素子に対向するレンズ体（レンズバレル）が搭載可能である。レンズホルダ３１がレンズ体の光軸方向へ駆動されて自動焦点調整が行われ、またレンズホルダ３１が光軸と交差する方向へ駆動されて手振れ補正が行われる。レンズホルダ３１は、レンズ保持部材である。

各図では、Ｚ１方向がレンズ駆動装置１の上方であり、Ｚ２方向がレンズ駆動装置１の下方である。Ｚ１方向は、撮像素子で撮影すべき対象物が存在する前方であり、Ｚ２方向は撮像素子が存在する後方である。

図１にはレンズ駆動装置１の全体構造が示されており、図２にはカバー２を外した状態のレンズ駆動装置１が示され、図３には主要部別に分解されたレンズ駆動装置１が示されている。各図には、レンズ駆動装置１の中心線Ｏが示されている。レンズ駆動装置１にレンズ体が搭載されると、前記中心線Ｏはレンズ体（レンズ）の光軸と一致する。また、Ｚ１−Ｚ２方向は光軸に沿った方向である。

図３に示すように、レンズ駆動装置１は、基台構造部１０を有している。基台構造部１０には合成樹脂製のベース部材１１が設けられている。図４ないし図６にベース部材１１の詳細が示されている。ベース部材１１には、リン青銅板などの導電性を有する金属板で形成された第１金属片１２，１３と第２金属片１４Ａ，１４Ｂおよび第３金属片１９ａ，１９ｂが埋設されている。図５に示すように、第１金属片１２，１３は、複数に分割されており、第２金属片１４Ａ，１４Ｂは２つに分割されている。第３金属片１９ａ，１９ｂも２箇所に設けられている。

第１金属片１２，１３と第２金属片１４Ａ，１４Ｂ、および第３金属片１９ａ，１９ｂは、１枚の金属板から切り出されたものであり、これら金属片１２，１３，１４Ａ，１４Ｂ，１９ａ，１９ｂは、ベース部材１１にいわゆるインサート成形法で一体化されている。第１金属片１２，１３と第２金属片１４Ａ，１４Ｂおよび第３金属片１９ａ，１９ｂの構造の詳細は後に説明する。

図５に示すように、第２金属片１４Ａ，１４Ｂには、光軸と直交するＸ−Ｙ平面と平行な平坦部１４ａが形成されており、平坦部１４ａの端部の合計４箇所にサスペンション固定部１４ｂが形成されている。図４に示すように、サスペンション固定部１４ｂは、四角形状のベース部材１１の４箇所の角部から露出している。レンズ駆動装置１に、弾性支持部材として４本のサスペンションワイヤ８が設けられている。それぞれのサスペンションワイヤ８の基端部（下端部）が、サスペンション固定部１４ｂに半田付けにより固定されている。サスペンションワイヤ８の上端部８ａによって可動ユニット（可動部）３０が光軸に沿ったＺ軸と交差する方向（直交する方向）へ動作自在に支持されている。

サスペンションワイヤ８は、導電性を有し且つ弾性に優れた金属材料で形成されており、例えば銅合金で形成されている。サスペンションワイヤ８は、断面が円形で光軸に沿って直線状に延びている。

図３に示すように、可動ユニット（可動部）３０は可動ベース３２を有している。可動ベース３２は合成樹脂材料で形成されている。

図３に示すように、可動ベース３２は、平面視が矩形状（ほぼ正方形状）であり、Ｘ方向に対向する側部に磁石３３ｘ，３３ｘが固定され、Ｙ方向に対向する側部に磁石３３ｙ，３３ｙが固定されている。磁石３３ｘ，３３ｘは互いに平行に配置され、磁石３３ｙ，３３ｙは互いに平行に配置されている。

それぞれの磁石３３ｘ，３３ｘ，３３ｙ，３３ｙは、中心線Ｏに対向する内面が同じ磁極に着磁されている。それぞれの磁石３３ｘ，３３ｘ，３３ｙ，３３ｙは、外面が同じ磁極に着磁されており、それぞれの内面とそれぞれの外面とが逆磁極である。例えば内面がＮ極で、外面部がＳ極である。

可動ユニット３０では、前記レンズホルダ３１が、枠形状の可動ベース３２の内側に配置されている。レンズホルダ３１は、合成樹脂製であり、中央部に上下方向（Ｚ方向）に貫通する円形の保持穴３１ａが開口して、筒状に形成されている。撮像用のレンズは鏡筒に保持され、レンズを保持した鏡筒（レンズ体）が保持穴３１ａに装着可能となっている。そのため、レンズホルダ３１の保持穴３１ａには、レンズ体を取り付けるためのネジ溝（図示せず）が設けられているが、レンズ体のレンズホルダ３１への保持は接着によるものでもよい。なお、実施の形態ではレンズと鏡筒の図示を省略している。

レンズホルダ３１の中心軸はこれに保持されるレンズ（レンズ体）の光軸と一致しており、且つ前記中心線Ｏに一致している。

図２と図３に示すように、可動ベース３２の上側に、２枚に分割された第１板ばね３４Ａ，３４Ｂが固定されている。第１板ばね３４Ａ，３４Ｂは銅合金やリン青銅板などの導電性のばね性金属板で形成されている。第１板ばね３４Ａ，３４Ｂのそれぞれには、外側固定部３４ａと内側固定部３４ｂ、ならびに外側固定部３４ａと内側固定部３４ｂとを連結するばね変形部３４ｃが一体に形成されている。

第１板ばね３４Ａ，３４Ｂのそれぞれの外側固定部３４ａは、可動ベース３２の上面に熱かしめや接着などの手段で固定されている。第１板ばね３４Ａ，３４Ｂの上に合成樹脂製の押え部材３５が設置されている。押え部材３５は、四角形状（矩形状）の枠状であり、可動ベース３２の上面に第１板ばね３４Ａ，３４Ｂとともに熱かしめや接着などの手段で固定されている。すなわち、第１板ばね３４Ａ，３４Ｂの外側固定部３４ａは、可動ベース３２の上面と押え部材３５との間に挟まれて固定されている。

第１板ばね３４Ａ，３４Ｂの内側固定部３４ｂは、レンズホルダ３１の上面に熱かしめや接着などの手段で固定されている。

なお、可動ベース３２の上面には、第１板ばね３４Ａ，３４Ｂの外側固定部３４ａに形成された取付穴および押え部材３５に形成された取付穴に挿通される固定用の突起が設けられている。また、レンズホルダ３１の上面には、第１板ばね３４Ａ，３４Ｂの内側固定部３４ｂに形成された取付穴に挿通される固定用の突起が設けられている。

図３に示すように、可動ベース３２の下側に第２板ばね３６が設けられている。第２板ばね３６はばね性を有する金属板で形成されている。第２板ばね３６には、外側固定部３６ａと内側固定部３６ｂ、および外側固定部３６ａと内側固定部３６ｂとを連結するばね変形部３６ｃが一体に形成されている。

第２板ばね３６の外側固定部３６ａは、前記可動ベース３２の４箇所の角部から下向きに（Ｚ２方向に向けて）突出して形成された脚部３２ａの下端面に接着や熱かしめ加工などで固定されている。第２板ばね３６の内側固定部３６ｂは、レンズホルダ３１の下面に接着剤などで固定されている。

レンズホルダ３１は、可動ベース３２の内部に配置され、可動ベース３２の上面とレンズホルダ３１の上面に第１板ばね３４Ａ，３４Ｂが固定され、可動ベース３２の下部とレンズホルダ３１の下面に第２板ばね３６が固定されている。よって、第１板ばね３４Ａ，３４Ｂと第２板ばね３６とによって、可動ベース３２の内部でレンズホルダ３１がＺ１−Ｚ２方向、すなわち光軸方向へ移動自在に支持されている。

図３に示すように、レンズホルダ３１の外周には、第１コイル４１が設けられている。第１コイル４１は、被覆導線が中心線Ｏを巻き中心として、レンズホルダ３１の外周に巻かれて構成されている。第１コイル４１は、磁石３３ｘ，３３ｘ，３３ｙ，３３ｙの内面に隙間を空けて対向している。第１コイル４１と、磁石３３ｘ，３３ｘ，３３ｙ，３３ｙとで、レンズホルダ３１を光軸方向であるＺ１−Ｚ２方向へ移動させる第１駆動機構が構成されている。

図３に示すように、レンズホルダ３１の上部に一対の突部３１ｂ，３１ｃが一体に形成されており、第１コイル４１を構成する被覆導線の一方の端末部４２ａが突部３１ｂに巻き付けられ、他方の端末部４２ｂが突部３１ｃに巻き付けられている。端末部４２ａ，４２ｂでは、被覆導線の被覆が除去されており、一方の端末部４２ａは、第１板ばね３４Ａに半田付けてされて導通しており、他方の端末部４２ｂは、第１板ばね３４Ｂに半田付けされて導通している。

図３に示すように、第１板ばね３４Ａ，３４Ｂの角部に、固定穴３４ｄが形成されている。図２に示すように、サスペンションワイヤ８の上端部８ａは、固定穴３４ｄに挿入され、半田付けで第１板ばね３４Ａ，３４Ｂに固定されている。

図５に示す一方の第２金属片１４Ａのサスペンション固定部１４ｂに固定された２個のサスペンションワイヤ８の上端部８ａは（図４参照）、可動ベース３２の上面に固定された第１板ばね３４Ａに固定されおり（図３参照）、第１板ばね３４Ａは、第１コイル４１の一方の端末部４２ａに導通している。図５に示す他方の第２金属片１４Ｂのサスペンション固定部１４ｂに固定された２個のサスペンションワイヤ８の上端部８ａは（図４参照）、可動ベース３２の上面に固定された第１板ばね３４Ｂに固定されおり（図３参照）、第１板ばね３４Ｂは、第１コイル４１の他方の端末部４２ｂに導通している。

図５に示すように、第２金属片１４Ａの端部に外部端子部１４ｃが下向きに折り曲げられ、第２金属片１４Ｂの端部に外部端子部１４ｃが下向きに折り曲げられており、それぞれの外部端子部１４ｃ，１４ｃが、ベース部材１１から下側へ突出している。一対の外部端子部１４ｃ，１４ｃと第２金属片１４Ａ，１４Ｂおよびサスペンションワイヤ８を介して、さらに第１板ばね３４Ａ，３４Ｂを経て第１コイル４１に通電可能である。

図３と図４に示すように、基台構造部１０では、ベース部材１１の上面の複数箇所に支持***部１１ａが形成されており、２つに分割された絶縁基板５０Ａ，５０Ｂが支持***部１１ａの上に設置され、ベース部材１１と絶縁基板５０Ａ，５０Ｂとが接着剤で固定されている。絶縁基板５０Ａ，５０Ｂのそれぞれは、複数枚の絶縁シートが積層された積層基板である。それぞれの絶縁シートに、銅箔などによって渦巻き状の周回パターンのコイル導体が形成されている。コイル導体を有する絶縁シートが複数枚積層されて、上下のコイル導体が導通させられることによって、コイル導体がスパイラル状に接続された第２コイル５１ｘ，５１ｘ，５１ｙ，５１ｙが構成されている。

第２コイル５１ｘ，５１ｘ，５１ｙ，５１ｙは、Ｘ−Ｙ平面に沿って周回する平面巻きコイルである。第２コイル５１ｘ，５１ｘはＸ方向に間隔を空けて互いに平行に配置されており、第２コイル５１ｙ，５１ｙはＹ方向に間隔を空けて互いに平行に配置されている。

図２に示すように、第２コイル５１ｘ、５１ｘは、可動ベース３２に固定された磁石３３ｘ，３３ｘの下端面に間隔を空けて対向し、第２コイル５１ｙ、５１ｙは、可動ベース３２に固定された磁石３３ｙ，３３ｙの下端面に間隔を空けて対向している。第２コイル５１ｘ，５１ｘ，５１ｙ，５１ｙと、磁石３３ｘ，３３ｘ，３３ｙ，３３ｙとで、レンズホルダ３１を含む可動ユニット３０をＸ方向とＹ方向へ移動させるための第２駆動機構が構成されている。この第２駆動機構が、レンズホルダ３１をベース部材１１に対して、光軸と交差する方向へ移動させる駆動機構である。なお、可動部である可動ユニット３０は、第１コイル４１、レンズホルダ３１、可動ベース３２、磁石３３ｘ，３３ｘ，３３ｙ，３３ｙ、第１板ばね３４Ａ，３４Ｂ、第２板ばね３６、および押え部材３５を有して構成されている。

図４と図５に示すように、基台構造部１０に、磁気検知素子４５ｘ，４５ｙが設けられている。磁気検知素子４５ｘ，４５ｙはホール素子とこれに付随する回路部品を搭載している。図６にも示すように、磁気検知素子４５ｘは、絶縁基板５０Ｂの下面に半田付けで固定され、磁気検知素子４５ｙは、絶縁基板５０Ａの下面に半田付けで固定されている。図２に示す組立状態では、１つの磁石３３ｘの下方の磁界が磁気検知素子４５ｘで検知され、１つの磁石３３ｙの下方の磁界が磁気検知素子４５ｙで検知される。なお、磁気検知素子４５ｘは、絶縁基板５０Ｂを介して磁石３３ｘと対向しており、磁気検知素子４５ｙは、絶縁基板５０Ａを介して磁石３３ｙと対向している。

図４に示すように、一方の絶縁基板５０Ａに、合計６か所の接続導電部２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ，２１ｅ，２１ｆが形成されており、他方の絶縁基板５０Ｂにも、合計６か所の接続導電部２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄ，２２ｅ，２２ｆが形成されている。

一方の絶縁基板５０Ａには、他方の絶縁基板５０Ｂとの対向部に中継導電部２３ａ，２４ａが形成されており、他方の絶縁基板５０Ｂでは、一方の絶縁基板５０Ａとの対向部に中継導電部２３ｂ，２４ｂが形成されている。中継導電部２３ａと中継導電部２３ｂは、ベース部材１１の表面に形成された中継用導電パターン２８ａを介して導通させられ、中継導電部２４ａと中継導電部２４ｂは中継用導電パターン２８ｂを介して導通させられる。

絶縁基板５０Ａ，５０Ｂの合計１２か所に形成された接続導電部２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ，２１ｅ，２１ｆと、接続導電部２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄ，２２ｅ，２２ｆのうちの、２個の接続導電部は、絶縁基板５０Ａ，５０Ｂに形成された配線パターン（図示せず）を介して、Ｘ方向に対向する第２コイル５１ｘ，５１ｘに接続されている。第２コイル５１ｘ，５１ｘは、別々の絶縁基板５０Ａ，５０Ｂに設けられているため、絶縁基板５０Ａ，５０Ｂに形成された直列接続用の配線パターン（図示せず）が中継導電部２３ａ，２３ｂを介して導通されることで、２つの第２コイル５１ｘ，５１ｘが直列に接続されている。

他の２個の接続導電部は、絶縁基板５０Ａ，５０Ｂに形成された配線パターン（図示せず）を介して、Ｙ方向に対向する第２コイル５１ｙ，５１ｙに接続されている。２つの第２コイル５１ｙ，５１ｙも、別々の絶縁基板５０Ａ，５０Ｂに設けられているため、絶縁基板５０Ａ，５０Ｂに形成された直列接続用の配線パターン（図示せず）が中継導電部２４ａ，２４ｂを介して導通されることで、２つの第２コイル５１ｙ，５１ｙが直列に接続されている。

絶縁基板５０Ａに設けられた６か所の接続導電部２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ，２１ｅ，２１ｆのうちの４つの接続導電部は、絶縁基板５０Ａに形成された配線パターン（図示せず）を介して磁気検知素子４５ｙの４つの端子部にそれぞれ導通している。すなわち、４つの配線パターンの一部が、絶縁基板５０Ａの下面に露出しており、この露出した部分（半田付け部、ランド部）に磁気検知素子４５ｙの端子部がそれぞれ半田付けされている。絶縁基板５０Ｂに設けられた６か所の接続導電部２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄ，２２ｅ，２２ｆのうちの４つの接続導電部は、絶縁基板５０Ｂに形成された配線パターン（図示せず）を介して磁気検知素子４５ｘの４つの端子部にそれぞれ導通している。すなわち、４つの配線パターンの一部が、絶縁基板５０Ｂの下面に露出しており、この露出した部分（半田付け部、ランド部）に磁気検知素子４５ｘの端子部がそれぞれ半田付けされている。

実施の形態のレンズ駆動装置１は、平面形状がＬ字状の２個の絶縁基板５０Ａ，５０Ｂを組み合わせて使用することで、材料の歩留まりを良好にできる。

図４には、第１金属片１２，１３と第２金属片１４Ａ，１４Ｂとが内部に埋設されたベース部材１１が示され、図５には、第１金属片１２，１３と第２金属片１４Ａ，１４Ｂが、ベース部材１１から分離した状態で示されている。なお、ベース部材１１には、第３金属片１９ａ，１９ｂも埋設されている。

図５に示すように、ベース部材１１のＺ１側に向く上部に、第１表面１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄと第２表面１６が形成されている。第１表面１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄは、第２表面１６よりも低く形成されている。第１表面１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄは、ベース部材１１の厚さ方向（光軸方向）において同じ高さ位置に形成されている。第２表面１６は、支持***部１１ａを除いてベース部材１１のＺ１側の上部において同一平面を形成している。支持***部１１ａは、絶縁基板５０Ａ，５０Ｂが、ベース部材１１上に重ねられた際に、絶縁基板５０Ａ，５０Ｂを支持する部分である。この支持***部１１ａの上面（表面）も、第１表面１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄよりも高い位置、すなわち、Ｚ１側（磁石３３ｘ，３３ｙ側）にあるため、第２表面の一部を構成している。

第１表面１５Ａと第２表面１６との境界部に斜面１７Ａが形成されている。第１表面１５Ｂと第２表面１６との境界部に斜面１７Ｂが形成されている。第１表面１５Ｃと第２表面１６との境界部に斜面１７Ｃが形成されている。同様にして、第１表面１５Ｄと第２表面１６との境界部に斜面１７Ｄが形成されている。図６の断面図には、第１表面１５Ｃと第２表面１６および斜面１７Ｃが現れている。第１表面１５Ｃからの斜面１７Ｃの立ち上がり角度θは４５度以下が好ましい。さらに好ましくは、１０度以上で４０度以下である。

図６に示すように、絶縁基板５０Ｂの下面に固定された磁気検知素子４５ｘは、第１表面１５Ｃが形成された凹部内に入り込んで第１表面１５Ｃに対向している。同様に、絶縁基板５０Ａの下面に固定された磁気検知素子４５ｙは、第１表面１５Ｅが形成された凹部内に位置し、第１表面１５Ｅに対向している。第１表面１５Ｅは、前記第１表面１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄと同じ高さ位置に形成されている。磁気検知素子４５ｘ，４５ｙを、第１表面１５Ｃ，１５Ｅが形成された凹部内に配置することで、基台構造体１０の高さ寸法を小さく構成することが可能になる。

図５に示すように、第１金属片１２には、互いに分離された導通部１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，１２ｆが設けられている。第１金属片１３には、互いに分離された導通部１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄ，１３ｅ，１３ｆが設けられている。導通部１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，１２ｆと導通部１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄ，１３ｅ，１３ｆはＸ−Ｙ平面と平行な平坦面である。また、導通部１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，１２ｆと導通部１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄ，１３ｅ，１３ｆは、ベース部材１１において、同じ高さ位置にあり、これら導通部と、第２金属片１４Ａ，１４Ｂの平坦部１４ａ，１４ａも、ベース部材１１において同じ高さ位置にある。すなわち、第１金属片１２の導通部１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，１２ｆ及び第１金属片１３の導通部１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄ，１３ｅ，１３ｆと、第２金属片１４Ａ，１４Ｂの平坦部１４ａ，１４ａとは、光軸方向における同じ高さの面に位置している。

そこで、第１金属片１２の導通部１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，１２ｆと、第１金属片１３の導通部１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄ，１３ｅ，１３ｆと、第２金属片１４Ａ，１４Ｂの平坦部１４ａ，１４ａは、同じ金属板の同じ平板部から分離されて形成され、インサート成形法でベース部材１１に埋設される。

図５に示すように、第１金属片１２の導通部１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，１２ｆからは、外部端子部１２ｇ，１２ｈ，１２ｉ，１２ｊ，１２ｋ，１２ｍが下向きに折り曲げられており、これら外部端子部が、ベース部材１１から下向きに突出して、ベース部材１１の外部に露出している。第１金属片１３の導通部１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄ，１３ｅ，１３ｆからは、外部端子部１３ｇ，１３ｈ，１３ｉ，１３ｊ，１３ｋ，１３ｍが下向きに折り曲げられており、これら外部端子部が、ベース部材１１から下向きに突出して、ベース部材１１の外部に露出している。

図５に示すように、第１表面１５Ａに、４箇所の露出部１８Ａが設けられ、インサート成形されている第１金属片１２の導通部１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，が、露出部１８Ａにおいて第１表面１５Ａに露出している。なお、図５では、３箇所の露出部１８Ａが現れている。第１表面１５Ｂには、２箇所の露出部１８Ｂが設けられ、導通部１２ｅ，１２ｆが、露出部１８Ｂにおいて第１表面１５Ｂに露出している。

同様に、第１表面１５Ｃに、４箇所の露出部１８Ｃが設けられ、インサート成形されている第１金属片１３の導通部１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄ，が、露出部１８Ｃにおいて第１表面１５Ｃに露出している。第１表面１５Ｄには、２箇所の露出部１８Ｄが設けられ、導通部１３ｅ，１３ｆが、露出部１８Ｄにおいて第１表面１５Ｄに露出している。

図４と図５に示すように、第１表面１５Ａから斜面１７Ａを経て第２表面１６にかけて、導電パターン２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄが形成されている。第１表面１５Ａに露出している導通部１２ａは導電パターン２５ａに接続され、導通部１２ｂは導電パターン２５ｂに接続されている。導通部１２ｃ，１２ｄは、導電パターン２５ｃ，２５ｄにそれぞれ接続されている。第１表面１５Ｂから斜面１７Ｂを経て第２表面１６にかけて、導電パターン２５ｅ，２５ｆが形成されている。第１表面１５Ｂに露出している導通部１２ｅ，１２ｆは、それぞれ導電パターン２５ｅ，２５ｆに接続されている。

第１表面１５Ｃから斜面１７Ｃを経て第２表面１６にかけて、導電パターン２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄが形成されている。第１表面１５Ｃに露出している導通部１３ａは導電パターン２６ａに接続され、導通部１３ｂは導電パターン２６ｂに接続されている。導通部１３ｃ，１３ｄは、導電パターン２６ｃ，２６ｄにそれぞれ接続されている。第１表面１５Ｄから斜面１７Ｄを経て第２表面１６にかけて、導電パターン２６ｅ，２６ｆが形成されている。第１表面１５Ｄに露出している導通部１３ｅ，１３ｆは、それぞれ導電パターン２６ｅ，２６ｆに接続されている。

図６は、図４のＶＩ−ＶＩ線の断面図であるが、図６においては、ベース部材１１とともに基台構造部１０を構成する絶縁基板５０Ｂおよび磁気検知素子４５ｘも分解しない状態で示している。図６には、第１金属片１３の導通部１３ｄおよび外部端子部１３ｊと、導電パターン２６ｄが示されている。導電パターン２６ｄは印刷層の表面にメッキが施された導電層であり、第１表面１５Ｃから斜面１７Ｃを経て第２表面１６まで連続して形成されている。印刷層の印刷方式はインクジェット方式、ディスペンサを使用した塗布方式、オフセット印刷方式などである。印刷はその他どのような方式であってもよい。または印刷層以外に、ベース部材１１の上面に銅箔層などを形成し、エッチングで導電パターン２６ｄを形成してもよい。

導電パターン２６ｄの印刷層は、銀と樹脂バインダーとを含有した銀ペーストを印刷して焼成（加熱）した銀パターンからなる。本実施の形態においては、印刷層の表面にメッキ層を設けている。メッキ層は、銀パターンからなる印刷層の上に、銅メッキ層、ニッケルメッキ層、金メッキ層がこの順に形成されたものであり、導電パターン２６ｄの最表面（外面）が金のメッキ層となっている。さらに、導電パターン２６ｄの印刷層の表面から導通部１３ｄの表面にかけて銅およびニッケルを下地層とした金のメッキ層を設けることが好ましい。なお、導電パターン２６ｄが、印刷ではなく、エッチングで形成される場合には、メッキ層の下側の層は銅箔などとなる。

前述のように、斜面１７ｃの角度θを４５度以下とし、好ましくは１０〜４０度の範囲に設定すると、第１表面１５Ｃから斜面１７Ｃを経て第２表面１６にかけて導電パターン２６ｄを途切れることなく連続して形成しやすくなる。

なお、前記導電パターン２６ｄ以外の全ての導電パターンの形成、および導電パターンと導通部との接続も、図６に示した構造と同じである。すなわち、導電パターンは、一部が導通部の上面に重ねられており、この重ねられた部分で、導電パターンと導通部とが電気的に接続されている。

図５に示すように、ベース部材１１の第２表面１６に２箇所の露出部１８Ｅ，１８Ｅが形成されており、図４に示すように、露出部１８Ｅ，１８Ｅに第３金属片１９ａ，１９ｂが露出している。第３金属片１９ａ，１９ｂは、第１金属片１２，１３および第２金属片１４Ａ，１４Ｂと同じ金属板から切り出されている。

ベース部材１１の第２表面１６には、中継用導電パターン２８ａ，２８ｂが形成されている。中継用導電パターン２８ａは、一部が第３金属片１９ａ上に重ねられることで第３金属片１９ａに接続されており、中継用導電パターン２８ｂは、一部が第３金属片１９ｂ上に重ねられることで第３金属片１９ｂに接続されている。中継用導電パターン２８ａ，２８ｂは、前記導電パターンと同じ工程で同じ導電性材料で形成される。第３金属片１９ａ，１９ｂを電極として使用することで、中継用導電パターン２８ａ，２８ｂの印刷層の表面に、銅およびニッケルを下地とした金メッキを施すことが可能となっている。

なお、図５に示す第２金属片１４Ａ，１４Ｂの平坦部１４ａは、各導通部１２ａ，１２ｂ，・・・および各導通部１３ａ，１３ｂ，・・・と同じ高さ位置に形成されているため、平坦部１４ａも、第１表面１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄ，１５Ｅのいずれかに一部が露出している。

ベース部材１１の上に絶縁基板５０Ａが載せられて接着剤で固定された後に、第２表面１６に現れている導電パターン２５ａが、絶縁基板５０Ａの接続導電部２１ａに半田付けされる。また、導電パターン２５ｂ，２５ｃ，２５ｄ，２５ｅ，２５ｆも、接続導電部２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ，２１ｅ，２１ｆと個別に半田付けされる。同様に、ベース部材１１の上に絶縁基板５０Ｂが載せられて接着剤で固定された後に、第２表面１６に現れている導電パターン２６ａが、絶縁基板５０Ｂの接続導電部２２ａに半田付けされる。同様に、導電パターン２６ｂ，２６ｃ，２６ｄ，２６ｅ，２６ｆも、接続導電部２２ｂ，２２ｃ，２２ｄ，２２ｅ，２２ｆと個別に半田付けされる。

さらに、中継導電部２３ａ，２３ｂとその下の中継用導電パターン２８ａとが半田付けされて、中継導電部２３ａ，２３ｂが互いに導通させられる。また、中継導電部２４ａ，２４ｂとその下の中継用導電パターン２８ｂとが半田付けされて、中継導電部２４ａ，２４ｂが互いに導通させられる。なお、絶縁基板５０Ａ，５０Ｂがベース部材１１に固定される前に、磁気検知素子４５ｙ，４５ｘは、絶縁基板５０Ａ，５０Ｂの下面に実装されている。

上記構造により、第１金属片１２で形成された外部端子部１２ｇ，１２ｈ，１２ｉ，１２ｊ，１２ｋ，１２ｍと、第１金属片１３で形成された外部端子部１３ｇ，１３ｈ，１３ｉ，１３ｊ，１３ｋ，１３ｍとが、導電パターン２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄ，２５ｅ，２５ｆおよび導電パターン２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄ，２６ｅ，２６ｆを経て、第２コイル５１ｘ，５１ｘ，５１ｙ，５１ｙと、磁気検知素子４５ｘ、４５ｙの端子部とに個別に導通される。

次に、レンズ駆動装置１の動作を説明する。

図５に示す外部端子部１４ｃ，１４ｃから、サスペンションワイヤ８と第１板ばね３４Ａ，３４Ｂを介して第１コイル４１に駆動電流が与えられると、第１駆動機構では、中心線Ｏの周囲を流れるコイル電流と、磁石３３ｘ，３３ｘ，３３ｙ，３３ｙの内面からの磁界とで、レンズホルダ３１が光軸方向であるＺ１−Ｚ２方向へ駆動され、レンズホルダ３１に保持されているレンズの自動焦点調整が行われる。

可動ユニット３０がＸ方向とＹ方向へ位置ずれすると、磁気検知素子４５ｘによって、絶縁基板５０Ｂを挟んで対向する磁石３３ｘの動きが検知され、磁気検知素子４５ｙによって、絶縁基板５０Ａを挟んで対向する磁石３３ｙの動きが検知され、その検知信号が、外部端子部１２ｇ，１２ｈ，１２ｉ，１２ｊ，１２ｋ，１２ｍと、外部端子部１３ｇ，１３ｈ，１３ｉ，１３ｊ，１３ｋ，１３ｍのいずれかから検知される。制御部では、可動ユニット３０のＸ−Ｙ方向の動きを補正する駆動電流が生成され、いずれかに外部端子部から、導電パターンを経て第２コイル５１ｘ，５１ｘ，５１ｙ，５１ｙに与えられる。

第２駆動機構では、磁石３３ｘ，３３ｘの下部において、磁石の内面から外面に至る磁束と、第２コイル５１ｘ，５１ｘにおいてＹ方向に流れる電流とによる電磁力で、可動ユニット３０がＸ方向へ駆動される。また、磁石３３ｙ，３３ｙの下部において、磁石の内面から外面に至る磁束と、第２コイル５１ｙ，５１ｙにおいてＸ方向に流れる電流とによる電磁力で、可動ユニット３０がＹ方向へ駆動される。これにより手振れ補正が行われる。

前記レンズ駆動装置１では、基台構造部１０において、ベース部材１１に埋設された第１金属片１２，１３と、ベース部材１１の表面に形成された導電パターンとを組み合わせることで、絶縁基板５０Ａ，５０Ｂと電気的に接続されているため、多数の配線経路を効率よく構成できる。またＦＰＣを使用する必要がないため、部品点数を削減できる。さらに、ベース部材１１に埋設される金属片を上下に重ねて絶縁するなどの複雑な構造を採用する必要がなく、全ての金属片を同じ金属板の平面部から切り出して、インサート成形でベース部材１１を構成できるようになる。

実施の形態のレンズ駆動装置１では、低い位置にある第１表面１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄにおいて、導通部と導電パターンとを接続し、高い位置にある第２表面１６で、導電パターンと、絶縁基板５０Ａ，５０Ｂの接続導電部を半田付けしている。したがって、金属板で形成された導通部が絶縁基板５０Ａ，５０Ｂに当たることがなく、絶縁基板５０Ａ，５０Ｂに形成された配線パターンと導通部との短絡を防止できる。

また、第１表面よりも高い位置にある第２表面を形成することで、ベース部材１１を部分的に厚くでき、第１金属片と第２金属片および第３金属片を、インサート成形法によりベース部材内に強固に埋設することが可能になる。

なお、前述した実施の形態では、第２コイル５１ｘ，５１ｙがコイル導体を有する絶縁シートを複数枚積層した積層基板で構成されているが、第２コイルはこれに限定されない。例えば、第２コイルが、導線を所定の形状に巻いたもので構成され、この第２コイルが、絶縁基板の表面に実装されていてもよい。この場合には、第２コイルの端部が、絶縁基板の配線パターンに接続され、配線パターンが絶縁基板に形成された接続導電部と導通しているものとする。

また前述した実施の形態においては、ベース部材１１が絶縁基板５０Ａ，５０Ｂを載置して支持する支持***部１１ａを有するもので説明したが、本発明はこれに限定されない。すなわち、ベース部材１１には支持***部１１ａが形成されておらず、絶縁基板５０Ａ，５０Ｂが、ベース部材１１の第２表面１６上に載置されてベース部材１１に重ねられるものでもよい。

以上、本発明を実施の形態に基づいて説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載の範囲内で様々な変形が可能である。

本願は、日本特許庁に２０１６年１２月２８日に出願された基礎出願2016-254991号の優先権を主張するものであり、その全内容を参照によりここに援用する。

１ レンズ駆動装置
８ サスペンションワイヤ（弾性支持部材）
１０ 基台構造部
１１ ベース部材
１２ 第１金属片
１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，１２ｅ，１２ｆ 導通部
１２ｇ，１２ｈ，１２ｉ，１２ｊ，１２ｋ，１２ｍ 外部端子部
１３ 第１金属片
１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄ，１３ｅ，１３ｆ 導通部
１３ｇ，１３ｈ，１３ｉ，１３ｊ，１３ｋ，１３ｍ 外部端子部
１４Ａ，１４Ｂ 第２金属片
１４ａ 平坦部
１４ｂ サスペンション固定部
１４ｃ 外部端子部
１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄ 第１表面
１６ 第２表面
１７Ａ，１７Ｂ，１７Ｃ，１７Ｄ 斜面
１９ａ，１９ｂ 第３金属片
２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ，２１ｅ，２１ｆ 接続導電部
２２ａ，２２ｂ，２２ｃ，２２ｄ，２２ｅ，２２ｆ 接続導電部
２３ａ，２３ｂ，２４ａ，２４ｂ 中継導電部
２５ａ，２５ｂ，２５ｃ，２５ｄ，２５ｅ，２５ｆ 導電パターン
２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄ，２６ｅ，２６ｆ 導電パターン
２８ａ，２８ｂ 中継用導電パターン
３０ 可動ユニット（可動部）
３１ レンズホルダ（レンズ保持部材）
３２ 可動ベース
３３ｘ，３３ｙ 磁石
３４Ａ，３４Ｂ 第１板ばね
３６ 第２板ばね
４１ 第１コイル
４５ｘ，４５ｙ 磁気検知素子
５０Ａ，５０Ｂ 絶縁基板
５１ｘ，５１ｙ 第２コイル（コイル）

本発明は、ベース部材と、レンズ体を保持可能なレンズ保持部材と、前記レンズ保持部材を移動させる駆動機構とを有し、前記駆動機構が磁石とコイルとを有して構成されているレンズ駆動装置において、
前記ベース部材が絶縁材料で形成されて、前記ベース部材に第１金属片が埋設され、前記第１金属片に外部端子部と導通部とが形成されており、
前記外部端子部が前記ベース部材から外部に露出し、
前記ベース部材の表面に導電パターンが形成され、前記導電パターンが前記導通部に導通しているとともに、前記コイルが前記導電パターンに導通しており、
前記ベース部材の表面は、第１表面と、第１表面よりも高い位置にある第２表面とを有しており、
前記第１表面で、前記第１金属片の前記導通部と前記導電パターンとが接続され、前記導電パターンが、前記第１表面から第２表面にかけて形成されていることを特徴とするものである。

本発明のレンズ駆動装置は、前記レンズ保持部材を搭載した可動部が、サスペンションワイヤを介して前記ベース部材に支持されて、前記可動部に前記磁石が搭載され、前記ベース部材側に前記コイルが設けられており、
前記ベース部材に、前記サスペンションワイヤを支持する第２金属片が埋設されており、前記第２金属片が、前記第１金属片と同じ金属板で形成され、前記第２金属片と前記第１金属片の前記導通部とが、同じ高さの面に位置しているものである。
本発明は、ベース部材と、レンズ体を保持可能なレンズ保持部材と、前記レンズ保持部材を移動させる駆動機構とを有し、前記駆動機構が磁石とコイルとを有して構成されているレンズ駆動装置において、
前記ベース部材が絶縁材料で形成されて、前記ベース部材に第１金属片が埋設され、前記第１金属片に外部端子部と導通部とが形成されており、
前記外部端子部が前記ベース部材から外部に露出し、
前記ベース部材の表面に導電パターンが形成され、前記導電パターンが前記導通部に導通しているとともに、前記コイルが前記導電パターンに導通しており、
前記レンズ保持部材を搭載した可動部が、弾性支持部材を介して前記ベース部材に支持されて、前記可動部に前記磁石が搭載され、前記磁石に対向する前記コイルを有する絶縁基板が、前記ベース部材に重ねられており、
前記導電パターンと、前記絶縁基板に形成された接続導電部とが接合されて、前記導電パターンが、前記絶縁基板の配線パターンを介して前記コイルに導通しており、
前記絶縁基板は複数に分割されており、前記ベース部材の前記表面に設けられた中継用導電パターンを介して、それぞれの前記絶縁基板に設けられた中継導電部が互いに導通していることを特徴とする。

Claims (10)

1. ベース部材と、レンズ体を保持可能なレンズ保持部材と、前記レンズ保持部材を移動させる駆動機構とを有し、前記駆動機構が磁石とコイルとを有して構成されているレンズ駆動装置において、
   前記ベース部材が絶縁材料で形成されて、前記ベース部材に第１金属片が埋設され、前記第１金属片に外部端子部と導通部とが形成されており、
   前記外部端子部が前記ベース部材から外部に露出し、
   前記ベース部材の表面に導電パターンが形成され、前記導電パターンが前記導通部に導通しているとともに、前記コイルが前記導電パターンに導通していることを特徴とするレンズ駆動装置。
2. 前記ベース部材の表面は、第１表面と、第１表面よりも高い位置にある第２表面とを有しており、
   前記第１表面で、前記第１金属片の前記導通部と前記導電パターンとが接続され、前記導電パターンが、前記第１表面から第２表面にかけて形成されている請求項１記載のレンズ駆動装置。
3. 前記第１表面と前記第２表面との間に斜面が形成されており、前記導電パターンが、第１表面から前記斜面を経て前記第２表面に形成されている請求項２記載のレンズ駆動装置。
4. 前記第１表面からの前記斜面の立ち上がり角度が４５度以下である請求項３記載のレンズ駆動装置。
5. 前記レンズ保持部材を搭載した可動部が、弾性支持部材を介して前記ベース部材に支持されて、前記可動部に前記磁石が搭載され、前記磁石に対向する前記コイルを有する絶縁基板が、前記ベース部材に重ねられており、
   前記導電パターンと、前記絶縁基板に形成された接続導電部とが接合されて、前記導電パターンが、前記絶縁基板の配線パターンを介して前記コイルに導通している請求項１ないし４のいずれかに記載のレンズ駆動装置。
6. 前記レンズ保持部材を搭載した可動部が、弾性支持部材を介して前記ベース部材に支持されて、前記可動部に前記磁石が搭載され、前記磁石に対向する前記コイルおよび前記磁石に対向する磁気検知素子を有する絶縁基板が、前記ベース部材に重ねられており、
   前記第２表面に形成された前記導電パターンと、前記絶縁基板に形成された接続導電部とが接合されて、一部の前記導電パターンが、前記絶縁基板の配線パターンを介して前記コイルに導通し、他の一部の前記導電パターンが、前記絶縁基板の配線パターンを介して前記磁気検知素子に導通している請求項２ないし４のいずれかに記載のレンズ駆動装置。
7. 前記磁気検知素子は、前記ベース部材の前記第１表面に対向している請求項６記載のレンズ駆動装置。
8. 前記絶縁基板は、複数枚の絶縁シートが積層された積層基板であり、それぞれの前記絶縁シートに形成されたコイル導体によって前記コイルが構成されている請求項５ないし７のいずれかに記載のレンズ駆動装置。
9. 前記絶縁基板は複数に分割されており、前記ベース部材の前記表面に設けられた中継用導電パターンを介して、それぞれの前記絶縁基板に設けられた中継導電部が互いに導通している請求項５ないし８のいずれかに記載のレンズ駆動装置。
10. 前記レンズ保持部材を搭載した可動部が、サスペンションワイヤを介して前記ベース部材に支持されて、前記可動部に前記磁石が搭載され、前記ベース部材側に前記コイルが設けられており、
    前記ベース部材に、前記サスペンションワイヤを支持する第２金属片が埋設されており、前記第２金属片が、前記第１金属片と同じ金属板で形成され、前記第２金属片と前記第１金属片の前記導通部とが、同じ高さの面に位置している請求項１ないし４のいずれかに記載のレンズ駆動装置。

Images