JPWO2016129588A1 - コーティング部材、コーティング用材料、及び、コーティング部材の製造方法 - Google Patents

コーティング部材、コーティング用材料、及び、コーティング部材の製造方法 Download PDF

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Abstract

水蒸気が存在する高温環境で優れた特性を示す遮熱コーティング層が形成されたコーティング部材を提供する。希土類ダイシリケート、希土類モノシリケート及びこれらの混合相である母相にYb2O3で安定化されたZrO2が分散相として析出したジルコニア分散シリケートからなる遮熱コーティング層(102)が形成されたコーティング部材(100)であって、希土類ダイシリケートが(Y1−a[Ln1]a)2Si2O7固溶体(Ln1はSc,Yb,Luのいずれか)または(Y1−c[Ln2]c)2Si2O7固溶体(Ln2はNd,Sm,Eu,Gdのいずれか)であり、希土類モノシリケートがY2SiO5、[Ln1’]2SiO5、(Y1−b[Ln1’]b)2SiO5固溶体(Ln1’はSc,Yb,Luのいずれか)または(Y1−d[Ln2’]d)2SiO5固溶体(Ln2’はNd,Sm,Eu,Gdのいずれか)である。

Description

本発明は、コーティング部材及び該コーティング部材の製造方法、コーティング用材料に関し、特に高温環境下で使用され、遮熱コーティング層が施された部材に関する。
Al繊維強化Al複合材料と言った酸化物系セラミックス繊維強化酸化物系セラミックス基複合材料(酸化物CMC)、SiC繊維強化SiC複合材料(CMC)、または、SiC及びSiなどのシリコン基セラミックスは、軽量且つ高温での機械的特性が良好であることから、航空機エンジンまたは産業用ガスタービンなどの高温部材として有望な材料である。特にAl繊維強化Al複合材料はSiC繊維強化SiC複合材料よりも低コストであるので、航空機エンジン用部材として有望な材料である。
しかし、特にAl繊維強化Al複合材料は耐熱温度が1000℃程度であるため、航空機エンジンまたは産業用ガスタービンなどに適用する場合には最表面に遮熱コーティング層を形成する必要がある。
一般的な遮熱コーティング層には、イットリア安定化ジルコニア(Y−ZrO)が使用されている。イットリア安定化ジルコニアは熱伝導率が1.5W/mKと低いことが特徴である。しかしながら、イットリア安定化ジルコニアは、高温での相安定性が十分ではなく、長期間の使用後に体積変化を伴う相変態を起こして遮熱コーティング層の破壊が発生するという問題がある。
特許文献1は、イットリア安定化ジルコニアよりも高温での相安定性に優れるイッテルビア安定化ジルコニア(Yb−ZrO)を遮熱コーティング層に用いることを提案している。
特許文献2は、酸化物CMCの表面に、ZrO粒子が母相であるYSiOの表面に分散した遮熱コーティング層を形成することを開示する。
例えばガスタービン燃焼環境は高温高圧の水蒸気酸化環境で運転されるため、シリコン基セラミックスまたはセラミック繊維強化セラミック複合材料が酸化されるとともに水蒸気によって腐食減肉され、耐久性が著しく低下する。
そこで、シリコン基セラミックスまたはセラミック繊維強化セラミック複合材料の表面に耐環境コーティングが施される。特許文献3は、イットリウムケイ酸塩からなるコーティングを開示する。特許文献4は、LuSiからなるコーティングを開示する。
特許文献5は、Lu,Yb,Yといった希土類の一ケイ酸塩(希土類モノシリケート)、二ケイ酸塩(希土類ダイシリケート)またはこれらの組み合わせからなるコーティングを開示する。特許文献5の技術では、基板上に希土類一ケイ酸の皮膜を形成した後に酸素を含む環境で加熱処理することにより、部分的に希土類二ケイ酸塩へ変換させている。
特開2003−160852号公報 米国特許第7348287号明細書 特許第3866002号公報 特許第4060709号公報 特開2006−28015号公報
イッテルビア安定化ジルコニアの熱膨張係数は10.3×10−6/K(Yb添加量16wt%)である。一方、Al繊維強化Al複合材料の熱膨張係数は6×10−6/Kから8×10−6/K、SiC繊維強化SiC複合材料の熱膨張係数は3.5×10−6/Kから4.5×10−6/Kなどであり、イッテルビア安定化ジルコニアに比べて大幅に小さい。このため、Al繊維強化Al複合材料またはSiC繊維強化SiC複合材料を基材として、基材表面にイッテルビア安定化ジルコニアからなる遮熱コーティング層を直接施工して高温部材を作製した場合、高温部材を繰り返し使用することにより遮熱コーティング層が剥離することが問題となっていた。
希土類ダイシリケートの熱膨張係数は上記基材に近い(例えばYSiの場合、1000℃において3.7×10−6/K)。このため、上記基材上に希土類ダイシリケートの層を積層させる場合には高温での使用中における熱応力を緩和し、コーティングの剥離を防止することが可能である。しかしながら希土類ダイシリケートはSiOの活量が高いため、高温高圧の水蒸気酸化環境下では水蒸気と反応して侵食を受けやすい。
Siは希土類ダイシリケートの中では比較的安価な材料であり、航空機エンジンまたはガスタービンなどの大面積基板にコーティングを施工するにはコスト面で有利である。しかし、1300℃近傍で体積変化を伴う相変態(γ→β)があるため、高温での使用中にコーティングが破損する恐れがあった。
希土類モノシリケートは希土類ダイシリケートに比べて耐水蒸気性に優れるものの、長期間高温で使用することにより水蒸気と反応し、SiOが揮発することによるコーティングの侵食が無視できなくなる。希土類モノシリケートは熱膨張係数が高いために、希土類モノシリケートの層を基材上に設けた場合は熱応力に起因する剥離が発生する恐れがある。
希土類シリケートは、高温での耐エロージョン特性が十分でないという問題もあった。
本発明は、良好な遮熱特性を示し、高温環境で皮膜の損傷が抑制され、水蒸気耐性及び耐エロージョン性に優れる遮熱コーティング層が形成されたコーティング部材及びその製造方法を提供することを目的とする。また本発明は、上記遮熱コーティング層の原料となるコーティング用材料を提供することを目的とする。
本発明の第1の態様は、シリコン基セラミックスまたはセラミックス繊維で強化されたセラミックス基複合材料からなる基材上に遮熱コーティング層を備え、該遮熱コーティング層が、希土類ダイシリケート、希土類モノシリケート、及び、前記希土類モノシリケートと前記希土類ダイシリケートとの混合相のいずれかである母相に、イッテルビア安定化ジルコニアが分散相として析出したジルコニア分散シリケートからなる層であり、前記希土類ダイシリケートが、(Y1−a[LnSi固溶体(LnはSc,Yb,Luのうちのいずれかであり、aはLnがScの場合0.05以上1未満、LnがYbまたはLuの場合0.2以上1未満)、ScSi、YbSi及びLuSiのうちのいずれかであり、前記希土類モノシリケートが、YSiO、[Ln’]SiOまたは(Y1−b[Ln’]SiO固溶体(Ln’はSc,Yb,Luのうちのいずれかであり、0<b≦0.5)であり、前記イッテルビア安定化ジルコニア中のイッテルビア含有量が8wt%以上27wt%以下であるコーティング部材である。
本発明の第2の態様は、希土類ダイシリケート、希土類モノシリケート、及び、前記希土類モノシリケートと前記希土類ダイシリケートとの混合相のいずれかである母相に、イッテルビア安定化ジルコニアが分散相として析出したジルコニア分散シリケートからなり、前記希土類ダイシリケートが、(Y1−a[LnSi固溶体(LnはSc,Yb,Luのうちのいずれかであり、aはLnがScの場合0.05以上1未満、LnがYbまたはLuの場合0.2以上1未満)、ScSi、YbSi及びLuSiのうちのいずれかであり、前記希土類モノシリケートが、YSiO、[Ln’]SiOまたは(Y1−b[Ln’]SiO固溶体(Ln’はSc,Yb,Luのうちのいずれかであり、0<b≦0.5)であり、前記イッテルビア安定化ジルコニア中のイッテルビア含有量が8wt%以上27wt%以下であるコーティング用材料である。
本発明の第3の態様は、シリコン基セラミックスまたはセラミックス繊維で強化されたセラミックス基複合材料からなる基材上に遮熱コーティング層を備え、該遮熱コーティング層が、希土類ダイシリケート、希土類モノシリケート、及び、前記希土類モノシリケートと前記希土類ダイシリケートとの混合相のいずれかである母相に、イッテルビア安定化ジルコニアが分散相として析出したジルコニア分散シリケートからなる層であり、前記希土類ダイシリケートが、(Y1−c[LnSi固溶体(LnはNd,Sm,Eu,Gdのうちのいずれかであり、cはLnがNd,Sm,Euの場合0.1以上1未満、LnがGdの場合0.2以上1未満)、NdSi、SmSi、EuSi及びGdSiのうちのいずれかであり、前記希土類モノシリケートが、YSiOまたは(Y1−d[Ln’]SiO固溶体(Ln’はNd,Sm,Eu,Gdのうちのいずれかであり、0<d≦0.5)であり、前記イッテルビア安定化ジルコニア中のイッテルビア含有量が8wt%以上27wt%以下であるコーティング部材である。
本発明の第4の態様は、希土類ダイシリケート、希土類モノシリケート、及び、前記希土類モノシリケートと前記希土類ダイシリケートと混合相のいずれかである母相に、イッテルビア安定化ジルコニアが分散相として析出したジルコニア分散シリケートからなり、前記希土類ダイシリケートが、(Y1−c[LnSi固溶体(LnはNd,Sm,Eu,Gdのうちのいずれかであり、cはLnがNd,Sm,Euの場合0.1以上1未満、LnがGdの場合0.2以上1未満)、NdSi、SmSi、EuSi及びGdSiのうちのいずれかであり、前記希土類モノシリケートが、YSiO、[Ln’]SiOまたは(Y1−d[Ln’]SiO固溶体(Ln’はNd,Sm,Eu,Gdのうちのいずれかであり、0<d≦0.5)であり、前記イッテルビア安定化ジルコニア中のイッテルビア含有量が8wt%以上27wt%以下であるコーティング用材料である。
第1及び第3の態様において、前記基材と前記遮熱コーティング層との熱膨張係数差が3×10−6/K未満であることが好ましい。
希土類ダイシリケート及び希土類モノシリケートは、イッテルビア安定化ジルコニアに比べて熱膨張係数が小さい。従って、希土類シリケートとイッテルビア安定化ジルコニアの混合相とすることにより、基材と遮熱コーティング層との熱膨張係数を小さくし、熱応力を十分に緩和し遮熱コーティング層の剥離を防止している。特に基材と遮熱コーティング層との熱膨張係数差が3×10−6/K未満となるように各成分の混合比率を変えることにより、遮熱コーティング層の損傷を確実に防止することができる。
希土類ダイシリケートは一般に、イッテルビア安定化ジルコニア及び希土類モノシリケートよりも熱膨張係数が小さく、基材であるシリコン基セラミックスまたはセラミックス繊維強化セラミックス基複合材料の熱膨張係数に近い。このため、希土類ダイシリケート単独、または、希土類ダイシリケートと希土類モノシリケートとの混合相を母相に適用すれば、熱応力の緩和による剥離損傷防止の効果が高まる。
SiのYの一部を上記の割合でSc,Yb,Luで置換することにより、β相の安定領域が広がるので、1300℃から1400℃程度の高温であっても相変態が起こらない。(Y1−a[LnSi固溶体(LnはSc,Yb,Luのうちのいずれかであり、aはLnがScの場合0.05以上1未満、LnがYbまたはLuの場合0.2以上1未満)、ScSi、YbSi及びLuSiのうちのいずれかである希土類ダイシリケートを母相に用いることによって、高温使用環境での相安定性を確保できる。
SiのYの一部を上記の割合でNd,Sm,Eu,Gdで置換することにより、α相の安定領域が広がり、高温での相変態が発生しない。(Y1−c[LnSi固溶体(LnはNd,Sm,Eu,Gdのうちのいずれかであり、cはLnがNd,Sm,Euの場合0.1以上1未満、LnがGdの場合0.2以上1未満)、NdSi、SmSi、EuSi及びGdSiのうちのいずれかである希土類ダイシリケートを母相に用いることにより、高温使用環境での相安定性を確保できる。
希土類モノシリケートは水蒸気耐性が良好であるため、希土類モノシリケート単独、または、希土類ダイシリケートと希土類モノシリケートとの混合相を母相に適用することによって、遮熱コーティング層の水蒸気耐性を向上させることができる。
本発明ではイッテルビア安定化ジルコニアを分散相としているため、1300℃から1400℃程度の高温で長時間使用した場合でも相変態が発生せず、遮熱コーティング層の破壊を防止することができる。イッテルビア安定化ジルコニアを含むことにより、遮熱コーティング層の耐エロージョン性を高めることができる。
本発明の第5の態様は、希土類ダイシリケートの粉末、希土類モノシリケートの粉末、及び、前記希土類モノシリケートと前記希土類ダイシリケートとの混合粉末のいずれかと、イッテルビア含有量が8wt%以上27wt%以下であるイッテルビア安定化ジルコニアの粉末とが混合された後、100℃以上1700℃以下の条件で熱処理された粒子が、シリコン基セラミックスまたはセラミックス繊維で強化されたセラミックス基複合材料からなる基材に向かって溶射されて、前記基材上に遮熱コーティング層が形成される工程を含み、前記希土類ダイシリケートが(Y1−a[LnSi固溶体(LnはSc,Yb,Luのうちのいずれかであり、aはLnがScの場合0.05以上1未満、LnがYbまたはLuの場合0.2以上1未満)、ScSi、YbSi及びLuSiのうちのいずれかであり、前記希土類モノシリケートがYSiO、[Ln’]SiOまたは(Y1−b[Ln’]SiO固溶体(Ln’はSc,Yb,Luのうちのいずれかであり、0<b≦0.5)であるコーティング部材の製造方法である。
本発明の第6の態様は、希土類ダイシリケートの粉末、希土類モノシリケートの粉末、及び、前記希土類モノシリケートと前記希土類ダイシリケートとの混合粉末のいずれかと、イッテルビア含有量が8wt%以上27wt%以下であるイッテルビア安定化ジルコニアの粉末とが混合された後、100℃以上1700℃以下の条件で熱処理された粒子が、シリコン基セラミックスまたはセラミックス繊維で強化されたセラミックス基複合材料からなる基材に向かって溶射されて、前記基材上に遮熱コーティング層が形成される工程を含み、前記希土類ダイシリケートが(Y1−c[LnSi固溶体(LnはNd,Sm,Eu,Gdのうちのいずれかであり、cはLnがNd,Sm,Euの場合0.1以上1未満、LnがGdの場合0.2以上1未満)、NdSi、SmSi、EuSi及びGdSiのうちのいずれかであり、前記希土類モノシリケートがYSiOまたは(Y1−d[Ln’]SiO固溶体(Ln’はNd,Sm,Eu,Gdのうちのいずれかであり、0<d≦0.5)であるコーティング部材の製造方法である。
本態様では上記組成のジルコニア分散シリケート粒子を予め作製し、この粒子を溶射粒子に用いているので、組成が均一な遮熱コーティング層を形成することが可能である。
第5及び第6の態様において、前記基材と前記遮熱コーティング層との熱膨張係数差が3×10−6/K未満となる比率で、前記希土類ダイシリケートの粉末、前記希土類モノシリケートの粉末、または、前記混合粉末と、前記イッテルビア安定化ジルコニアの粉末とが混合されることが好ましい。
こうすることにより、形成した遮熱コーティング層の損傷を確実に防止することができる。
第1、第3、第5、第6の態様において、前記基材が、酸化物系セラミックス繊維強化酸化物系セラミックス基複合材料またはSiC繊維強化SiC複合材料であることが好ましい。この場合、前記酸化物系セラミックス繊維強化酸化物系セラミックス基複合材料が、Al繊維強化Al複合材料であることが好ましい。
これらのセラミックス繊維強化セラミックス基複合材料は軽量且つ高温での機械安定性に優れる。特に、Al繊維強化Al複合材料はSiC繊維強化SiC複合材料に比べて安価であるので、製造コストを削減することができるので有利である。
第1乃至第6の態様において、前記ジルコニア分散シリケート中の前記イッテルビア安定化ジルコニアの添加量が50vol%以上90vol%以下であることが好ましい。
遮熱特性を確保するためには、イッテルビア安定化ジルコニアの添加量が多い方が好ましい。一方で、上述のようにイッテルビア安定化ジルコニアは熱膨張係数が高いために添加量が多いとジルコニア分散シリケートの熱膨張係数が高くなる。
上記添加量のジルコニア分散シリケートからなる遮熱コーティング層は、シリコン基セラミックスまたはセラミックス繊維で強化されたセラミックス基複合材料からなる基材との熱膨張係数差が小さくなるために、遮熱コーティング層の損傷を抑制することができる。
本発明に依れば、遮熱特性、耐エロージョン性に優れ、熱応力が抑制された遮熱コーティング層を得ることができる。ジルコニア分散シリケート中の母相が希土類モノシリケートを含んでいる場合には、遮熱コーティングの水蒸気耐性を更に向上させることができる。
第1実施形態に係るコーティング部材の断面概略図である。 希土類ダイシリケートの温度と結晶構造との関係を説明するグラフである。 Si溶射皮膜の熱処理による結晶構造の変化を示す図である。 (Y0.8Yb0.2)Si固溶体溶射皮膜の熱処理による結晶構造の変化を示す図である。 (Y0.8Gd0.2)Si固溶体溶射皮膜の熱処理による結晶構造の変化を示す図である。 第2実施形態に係るコーティング部材の断面概略図である。
<第1実施形態>
図1は第1実施形態に係るコーティング部材の断面概略図である。コーティング部材100は、基材101上に遮熱コーティング層102を備える。
基材101は、航空機エンジンのタービン部材、シュラウド、燃焼ライナなどの発電用のガスタービン部材である。基材101は具体的に、シリコン基セラミックス、または、セラミックス繊維で強化されたセラミックス基複合材料である。シリコン基セラミックスとは、SiC、Siなど、シリコンを含むセラミックスである。セラミックス繊維で強化されたセラミックス基複合材料は、例えばSiC繊維強化SiC複合材料、Al繊維強化Al複合材料で例示される酸化物系セラミックス繊維強化酸化物系セラミックス基複合材料である。
本実施形態における遮熱コーティング層102は、希土類ダイシリケート、希土類モノシリケート、及び、希土類モノシリケートと希土類ダイシリケートとの混合相のいずれかである母相に、イッテルビア安定化ジルコニア(YbSZ)が分散相として析出したジルコニア分散シリケートからなる層である。遮熱コーティング層102の厚さは、50μm以上500μm以下である。
本実施形態におけるYbSZは、安定化剤としてイッテルビア(Yb)が8wt%以上27wt%以下の割合で添加されたジルコニア(ZrO)である。YbSZは、高温(例えば1300℃から1400℃程度)での高温安定性に優れ、遮熱コーティング層102に耐エロージョン性を付与する。イッテルビア添加量が8wt%未満の場合は相安定性が劣化する。イッテルビア添加量が27%より高い場合は機械的特性が劣化する。
希土類ダイシリケートは、(Y1−a[LnSi固溶体(LnはSc,Yb,Luの少なくとも1つであり、aはLnがScの場合0.05以上1未満、LnがYbまたはLuの場合0.2以上1未満)、ScSi、YbSi及びLuSiのうちのいずれかである。
あるいは、希土類ダイシリケートは、(Y1−c[LnSi固溶体(LnはNd,Sm,Eu,Gdの少なくとも1つであり、cはLnがNd,Sm,Euの場合0.1以上1未満、LnがGdの場合0.2以上1未満)、NdSi、SmSi、EuSi及びGdSiのうちのいずれかである。
図2は、希土類ダイシリケートの温度と結晶構造との関係を説明するグラフである(グラフの出典は、A.J.F.Carrion et al.,“Structural and kinetic study of phase transitions in LaYSi2O7”, Journal of the European Ceramic Society,Vol.32 (2012) P.2477-2486、結晶構造の境界線は発明者が追記)。図2において、横軸は希土類のイオン半径、縦軸は温度である。
3+のイオン半径は0.90Åであり、図2によると1280℃程度でγ相→β相の相転移が発生する。すなわち、コーティング部材の使用環境が1300℃を超える場合には、冷却及び加熱の繰り返しによって体積変化を伴い相変態が起こることになる。
図2を参照すると、1300℃におけるβ相とγ相との境界線上のイオン半径は0.897Åである。すなわち、希土類のイオン半径が0.897Å以下であれば、希土類ダイシリケートは1300℃まで結晶安定性を確保することができる。1400℃におけるβ相とγ相との境界線上のイオン半径は0.885Åである。すなわち、希土類のイオン半径が0.885Å以下であれば、希土類ダイシリケートは1400℃まで結晶安定性を確保することができる。
Yを別の希土類元素で置換した(Y1−a[LnSi固溶体の場合、置換量に応じて希土類元素(Y,Ln)の平均イオン半径が変化する。Yよりも平均イオン半径を小さくするためには、Yよりイオン半径が小さい希土類元素で置換する。図2によると、Yよりイオン半径が小さい元素はSc,Yb,Lu,Tm,Erである。特にSc,Yb,Luは、イオン半径がYに比べて小さく、高温までダイシリケートのβ相が安定して存在する。
表1は、(Y1−a[LnSi固溶体における置換元素(Sc,Yb,Lu)の置換量と希土類元素の平均イオン半径である。
Figure 2016129588
表1より平均イオン半径が0.897Å以下となるのは、Scの場合aが0.05以上、Yb,Luの場合aが0.1以上である。すなわち、上記aの範囲以上であれば、コーティング部材は1300℃の運転温度に耐えることができる。
更に、表1より平均イオン半径が0.885Å以下となるのは、Scの場合aが0.1以上、Yb,Luの場合はaが0.5以上である。すなわち、上記aの範囲以上であれば、コーティング部材は1400℃以上の運転温度に耐え得ることができる。
Yよりもイオン半径が大きい場合には、図2に示すようにα相とγ相との境界がある。図2を参照すると、1300℃におけるα相とγ相との境界線上のイオン半径は0.905Åである。すなわち、希土類のイオン半径が0.905Å以上であれば、希土類ダイシリケートは1300℃まで結晶安定性を確保することができる。1400℃におけるα相とγ相との境界線上のイオン半径は0.91Åである。すなわち、希土類のイオン半径が0.91Å以上であれば、希土類ダイシリケートは1400℃まで結晶安定性を確保することができる。
Yよりも平均イオン半径を大きくするためには、Yよりイオン半径が大きい希土類元素で置換する。Yとのイオン半径差が大きいほど希土類元素の平均イオン半径を変動させる効果が高いことから、図2においてGdよりもイオン半径が大きい元素を選択することが有利である。一方、Pr,Ce,Laは水蒸気との反応性が高く、皮膜の耐水蒸気性が劣化する。従って、Yの置換元素としてはGd,Eu,Sm,Ndが適切である。
表2は、(Y1−c[LnSiにおける置換元素(Gd,Eu,Sm,Nd)の置換量と希土類元素の平均イオン半径である。
Figure 2016129588
表2より平均イオン半径が0.905Å以上になるのは、Nd,Sm,Euの場合cが0.1以上、Gdの場合cが0.2以上である。すなわち、上記cの範囲以上であれば、コーティング部材は1300℃までの運転温度に耐えることができる。
更に、表2より平均イオン半径が0.91Å以上となるのは、Nd,Smの場合cが0.2以上、Eu,Gdの場合cが0.3以上である。すなわち、上記cの範囲以上であれば、コーティング部材は1400℃までの運転温度に耐え得ることができる。
希土類ダイシリケートが(Y1−a[LnSi(LnはSc,Yb,Luの少なくとも1つ)である場合、希土類モノシリケートは、YSiO、[Ln’]SiOまたは(Y1−b[Ln’]SiO固溶体(Ln’はSc,Yb,Luのうちのいずれか1つ、0<b≦0.5)である。
希土類ダイシリケートが(Y1−c[LnSi(LnはNd,Sm,Eu,Gdの少なくとも1つ)である場合、希土類モノシリケートはYSiOまたは(Y1−d[Ln’]SiO固溶体(Ln’はNd,Sm,Eu,Gdのうちのいずれか、0<d≦0.5)である。
希土類モノシリケートは希土類ダイシリケートに比べてSiO活量が低いので水蒸気耐性が高い。YSiOは希土類モノシリケートの中でも安価である。ScSiO、YbSiO,LuSiO,NdSiO,SmSiO,EuSiO,GdSiOは、YSiとほぼ同等の特性を有する。このため、希土類モノシリケートは、上記化合物をそれぞれ単独で用いても良いし、YをSc,Yb,Luの少なくとも1つ、または、Nd,Sm,Eu,Gdの少なくとも1つと置換しても良い。
希土類モノシリケートとしてYSiO(置換量b=0、d=0)を採用することができるが、混合相となったときに共存する希土類ダイシリケート(Y1−aLn1aSi、(Y1−c[LnSiとの相互拡散が起こり希土類元素の濃度変化が起こることを防止するため、置換量b,dは上記希土類ダイシリケートの置換量a,cと同じであることがより好ましい。置換量b,dの値が大きいと高コストとなるため、上限値は0.5とする。
積層体であるコーティング部材100では、基材101と遮熱コーティング層102との熱膨張係数差が大きい場合、遮熱コーティング層102内に熱応力が発生する。機器(航空機エンジンまたはガスタービン)の運転と停止とを繰り返すことにより、遮熱コーティング層102内に発生する熱応力が原因で遮熱コーティング層102に亀裂などが発生する。遮熱コーティング層102内の熱応力を緩和するためには、遮熱コーティング層102の熱膨張係数と基材101の熱膨張係数との差(室温から1200℃)が3×10−6/K未満、好ましくは2×10−6/K未満とする。
混合物の熱膨張係数は、各成分の混合比率によって変化する。上記熱膨張係数差を達成するように、基材101の種類に応じて、希土類シリケートとYbSZの混合比率、希土類ダイシリケート及び希土類モノシリケートの種類及び希土類元素の置換量、母相を希土類モノシリケートと希土類ダイシリケートとの混合相とした場合の希土類モノシリケートと希土類ダイシリケートとの混合比率を設定する。
例えば、基材101の熱膨張係数(室温から1200℃)は、Al繊維強化Al複合材料の場合6×10−6/Kから8×10−6/K、SiC繊維強化SiC複合材料の場合3.5×10−6/Kから4.5×10−6/K、SiCの場合4.5×10−6/K、Siの場合3.3×10−6/Kである。
YbSZ(8から27wt%Yb−ZrO)の熱膨張係数(室温から1200℃)は10.3×10−6/Kである。希土類モノシリケートの熱膨張係数(室温から1200℃)は7.1×10−6/Kから10.1×10−6/K(例えばYSiOで7.4×10−6/K)、希土類ダイシリケートの熱膨張係数(室温から1200℃)は3.7×10−6/Kから4.2×10−6/K(例えばYSiで3.7×10−6/K)である。
YbSZは基板に対して熱膨張係数が大きい。YbSZの添加量が多い場合には遮熱コーティング層102中に熱応力が発生する。一方、YbSZの添加量が少ない場合には、十分な耐エロージョン性を得ることができない。このことから、YbSZの添加量は50vol%以上90vol%以下であることが好ましい。
Al繊維強化Al複合材料を基材101とした場合、母相を希土類モノシリケートとしても基材101と遮熱コーティング層102との熱膨張係数差が小さいために、遮熱コーティング層102中の熱応力が抑制される。この組み合わせでは、水蒸気耐性に優れる遮熱コーティング層102を得ることができるので有利である。
一方、SiC繊維強化SiC複合材料またはシリコン基セラミックスのように、YbSZと熱膨張係数差が大きい基板101を選定した場合には、母相には熱膨張係数が小さい材料である希土類ダイシリケートを選定することにより遮熱コーティング層102中の熱応力を抑制することができる。更に、母相として希土類ダイシリケートと希土類モノシリケートとの混合相を用いれば、遮熱コーティング層102の熱膨張係数を低減させることができるとともに、遮熱コーティング層102に良好な水蒸気耐性を付与することができる。
本実施形態の遮熱コーティング層102は溶射法により形成される。溶射粒子は以下の方法により作製される。
母相である希土類ダイシリケート、希土類モノシリケートが以下の方法で作製される。
希土類ダイシリケートの原料粉末として、SiO粉末、Y粉末、[Ln(LnはSc,Yb,Luのいずれか)粉末、[Ln(LnはNd,Sm,Eu,Gdのいずれか)粉末を、所定の組成となるように秤量し、混合する。
希土類モノシリケートの原料粉末として、SiO粉末、Y粉末、[Ln’](Ln’はSc,Yb,Luのいずれか)粉末、[Ln’](Ln’はNd,Sm,Eu,Gdのいずれか)粉末を、所定の組成となるように秤量し、混合する。
混合粉末を熱処理し、希土類ダイシリケート粉末及び希土類モノシリケート粉末を得る。熱処理方法としては、電気炉を用いて1300℃以上で熱処理する方法、プラズマ加熱処理する方法、原料粉末を溶融した後粉砕する方法がある。
原料粉末として粒径1μm以下の微粉末を使用することにより、熱処理による反応を促進することができるため、未反応粒子をなくすとともに熱処理時間を短縮することができる。
熱処理後の粉末は粉砕され、1μmから50μm程度に分級される。
あるいは、市販されているYSi粉末、[LnSi粉末、[LnSi粉末、[Ln’]SiO粉末、[Ln’]Si粉末を、原料粉末に用いることもできる。
母相を希土類ダイシリケートと希土類モノシリケートの混合粉末とする場合は、上記方法で作製された希土類ダイシリケート粉末及び希土類モノシリケート粉末を、所定の組成比となるように秤量し、混合する。
YbSZは、ZrO粉末と所定の割合(8wt%以上27wt%以下)のYb粉末とを、適当なバインダー及び分散剤とともにボールミル中で混合してスラリーを作製する。このスラリーをスプレードライヤーにより粒状にして乾燥させ、100℃から1700℃で拡散熱処理することによりYbとZrOとを固溶化させ、YbSZ粉末が得られる。
熱処理後のYbSZ粉末は粉砕され、1μmから50μm程度に分級される。
希土類ダイシリケート粉末、希土類モノシリケート粉末、または、希土類ダイシリケートと希土類モノシリケートとの混合粉末と、YbSZ粉末とを、所定の割合で混合する。
混合された粉末を熱処理することにより、ジルコニア分散シリケート粉末を得る。熱処理方法としては、電気炉を用いて100℃以上で熱処理する方法、プラズマ加熱処理する方法、原料粉末を溶融した後粉砕する方法が採用される。
粒径1μm以下の微粉末を用いて混合粉末を作製することにより、熱処理による反応を促進することができ、未反応粒子をなくすとともに熱処理時間を短縮することができる。
熱処理後の粒子は粉砕・分級され、10μmから200μmの粒子がコーティング用材料として溶射に用いられる。
希土類ダイシリケートの相安定性を検証するため、上記の手法を用いてYSi、(Y0.8Yb0.2Si固溶体、(Y0.8Gd0.2Si固溶体の溶射粉末を作製した。さらに、それらの粉末を用いて溶射皮膜を作製した。
作製した溶射皮膜を1300℃×100h、1400℃×100hで熱処理し、結晶相の変化をX線回折(XRD)により求めた。図3に示すように、YSiの場合、溶射まま(As sprayed)の状態では皮膜は非晶質であり、1300℃×100hの熱処理後はβ−YSi相とX−YSiO相からなる。1400℃×100hの熱処理後は、γ−YSi相とX−YSiO相の2相になり、1300℃以上でβ−YSiからγ−YSiへの相変態がおこることがわかる。
一方、Yの一部をYbで置換した(Y0.8Yb0.2Si固溶体溶射皮膜を1300℃×100h、1400℃×100hで熱処理した結果を図4に示すが、1300℃×100hと1400℃×100hで熱処理した場合の回折ピークにほとんど変化がなく、相変態が抑制されていることがわかる。
また、Yの一部をGdで置換した(Y0.8Gd0.2Si固溶体溶射皮膜を1300℃×100h、1400℃×100hで熱処理した結果を図5に示すが、1300℃×100hと1400℃×100hで熱処理した場合の回折ピークにほとんど変化がなく、この場合も相変態が抑制されていることがわかる。
<第2実施形態>
図6は第2実施形態に係るコーティング部材の断面概略図である。コーティング部材200は、基材201に、ボンドコート202とトップコート203とが順次積層されて構成されている。トップコート203は3層構成である。トップコート203の最表層は遮熱コーティング層206である。
基材201は第1実施形態と同じ材質である。
ボンドコート202は基材201とトップコート203との良好な密着性を確保するものである。ボンドコート202は、Si、MoSi,LuSiなどのシリサイド、ムライト(3Al−2SiO)、バリウムストロンチウムアルミノケイ酸塩(BSAS,(Ba1−xSr)O-Al-SiO)などからなる。ボンドコート202は上記材料のうち1種類で形成されていても良いし、複数の材料を積層して構成されていても良い。ボンドコート202の厚さは20μm以上200μm以下である。
ボンドコート202は、溶射法、焼結法などにより形成される。
トップコートの第1層204は、希土類ダイシリケートと希土類モノシリケートとの混合相からなる。第1層204の厚さは20μm以上400μm以下である。
第1層204は具体的に、(Y1−e[LnSi固溶体(LnはSc,Yb,Luのうちのいずれかであり、eはLnがScの場合0.05以上0.5以下、LnがYbまたはLuの場合0.2以上0.5以下)で表される希土類ダイシリケートと、希土類モノシリケートが、YSiOまたは(Y1−f[Ln’]SiO固溶体(Ln’はSc,Yb,Luのうちのいずれかであり、fは0より大きく0.5以下)で表される希土類モノシリケートとの混合相である。
あるいは、第1層204は(Y1−g[LnSi固溶体(LnはNd,Sm,Eu,Gdのうちのいずれかであり、gはLnがNd,Sm,Euの場合0.1以上0.5以下、LnがGdの場合0.2以上0.5以下)で表される希土類ダイシリケートと、YSiOまたは(Y1−h[Ln’]SiO固溶体(Ln’はNd,Sm,Eu,Gdのうちのいずれかであり、hは0より大きく0.5以下)で表される希土類モノシリケートとの混合相である。
第1層204において、希土類ダイシリケートのe,gが上記範囲であれば、コーティング部材は1400℃以上の運転温度に耐え得ることができる。e,gの値が大きいことは置換元素の量が多くなることから、原料コストを考慮すると高価な元素であるSc,Yb,Lu、あるいは、Nd,Sm,Eu,Gdを用いることにより施行コストが高くなる。このことからSc,Yb,Lu、あるいは、Nd,Sm,Eu,Gdの置換量には上限がある。具体的にはe,gの上限値は0.5であることが好ましい。
希土類モノシリケートとしてYSiO(置換量f=0、h=0)を採用することができる。しかしながら、混合相となったときに共存する希土類ダイシリケートとの相互拡散による希土類元素濃度変化が起こるのを防止するため、置換量f,hは上記希土類ダイシリケートの置換量e,gと同じであることがより好ましい。一方、置換量f,hが上記範囲を超えると、原料コストが増加するので好ましくない。
トップコート203内の熱応力を緩和するためには、第1層204の熱膨張係数と下地(ボンドコート202を含む基材201)の熱膨張係数との差(室温から1200℃)が、3×10−6/K未満、好ましくは2×10−6/K未満である。上記熱膨張係数差を達成するように、基材201及びボンドコート202の種類に応じて、希土類ダイシリケートの組成、希土類モノシリケートの組成、及び、希土類ダイシリケートと希土類モノシリケートの混合比率が決定される。
第1層204は溶射法で形成される。第1層204を形成するための溶射粒子は、第1実施形態で説明した工程と同様の工程で作製される。すなわち、所定の組成の希土類ダイシリケート粉末及び希土類モノシリケート粉末が予め作製される。希土類ダイシリケート粉末及び希土類モノシリケート粉末を所定の割合で混合した後、第1実施形態で示した方法により熱処理を行う。熱処理後の粉末は粉砕され、1μmから50μm程度に分級される。
トップコート203の第2層205は、ReSiOで表される希土類モノシリケートである。Reは、希土類元素の中の1つであっても良いし、複数の希土類元素が選択されても良い。具体的に、第2層205は、YSiO,YbSiO,LuSiO、(Y,Yb)SiO、(Y,Lu)SiOなどである。原料コストを考慮すると、第2層205は、YSiO、または、Yの一部が他の希土類元素に置換された希土類モノシリケート(Y,Re’)SiO(Re’はY以外の希土類元素)であることが好ましい。置換元素Re’としては、希土類ダイシリケートとの相互拡散を考慮すると、Sc,Yb,Lu,Nd,Sm,Eu,Gdが好ましい。置換元素Re’は、第1層204に含まれる希土類元素と同一であることが特に好ましい。原料コストを考慮すると、Re’の置換量は0.5以下であることが好ましい。
第2層205は溶射法で形成される。第2層205の厚さは50μm以上300μm以下である。
複数の希土類元素から選択した複合酸化物を第2層205に適用する場合、溶射粒子としては、所定の置換割合となるように原料粉末が秤量され混合されたのち、熱処理により固溶体化された粒子を用いることができる。こうすることにより、第2層205内での組成の均一性が確保される。
第1層204と第2層205との熱膨張係数の差(室温から1200℃)は3×10−6/K未満、好ましくは2×10−6/K未満である。上記の熱膨張係数差を確保するように、第2層205の材質が選択される。
トップコート203の第3層206は遮熱コーティング層であり、第1実施形態と同じ材質が適用される。水蒸気耐性に優れるYbSZと希土類モノシリケートからなる第3層206を形成することによって、基材201が高温環境で水蒸気により浸食されるのを防止することができる。
使用環境におけるトップコート203の熱応力を考慮すると、第2層205と第3層206との熱膨張係数の差(室温から1200℃)は3×10−6/K未満、好ましくは2×10−6/K未満である。この熱膨張係数差を確保するように、第3層206の材質、すなわち、母相の組成、YbSZの添加量が選択される。
表3に、図1に示す構成のコーティング部材を形成した場合の基材と遮熱コーティング層との熱膨張係数差(室温から1200℃)を示す。基材としてAl繊維強化Al複合材料(COIC社製AS−N610、熱膨張係数:8×10−6/K(室温から1200℃)、または、COIC社製AS−N720、熱膨張係数:6.3×10−6/K(室温から1200℃)を用いた。
表3における「YbSZ」は、16wt%Ybを添加した安定化ジルコニアである。
Figure 2016129588
表3に示すように、実施例1から5は遮熱コーティング層と基材との熱膨張係数差が3×10−6/K以下であるので、トップコート内の熱応力が緩和される。特に、実施例2から5は熱膨張係数差が2×10−6/Kであり、比較例1,2に比べて熱サイクル耐久性が向上する。
表4に、図6に示す構成のコーティング部材を形成した場合の基材と遮熱コーティング層との熱膨張係数差(室温から1200℃)を示す。基材としてSiC繊維強化SiC複合材料(宇部興産製チラノヘックス、熱膨張係数:4×10−6/K(室温から1200℃))を用いた。
表4における「YbSZ」は、16wt%Ybを添加した安定化ジルコニアである。
Figure 2016129588
表4に示すように、実施例6から9は第1層と下地、第1層と第2層、および第2層と第3層間の熱膨張係数差が3×10−6/K以下であるので、トップコート内の熱応力が緩和される。特に、実施例6から9は熱膨張係数差が2×10−6/Kであり、比較例3に比べて熱サイクル耐久性が向上する。
100,200 コーティング部材
101,201 基材
102 遮熱コーティング層
202 ボンドコート
203 トップコート
204 第1層
205 第2層
206 第3層

Claims (15)

  1. シリコン基セラミックスまたはセラミックス繊維で強化されたセラミックス基複合材料からなる基材上に遮熱コーティング層を備え、
    該遮熱コーティング層が、希土類ダイシリケート、希土類モノシリケート、及び、前記希土類モノシリケートと前記希土類ダイシリケートとの混合相のいずれかである母相に、イッテルビア安定化ジルコニアが分散相として析出したジルコニア分散シリケートからなる層であり、
    前記希土類ダイシリケートが、(Y1−a[LnSi固溶体(LnはSc,Yb,Luのうちのいずれかであり、aはLnがScの場合0.05以上1未満、LnがYbまたはLuの場合0.2以上1未満)、ScSi、YbSi及びLuSiのうちのいずれかであり、
    前記希土類モノシリケートが、YSiO、[Ln’]SiOまたは(Y1−b[Ln’]SiO固溶体(Ln’はSc,Yb,Luのうちのいずれかであり、0<b≦0.5)であり、
    前記イッテルビア安定化ジルコニア中のイッテルビア含有量が8wt%以上27wt%以下であるコーティング部材。
  2. シリコン基セラミックスまたはセラミックス繊維で強化されたセラミックス基複合材料からなる基材上に遮熱コーティング層を備え、
    該遮熱コーティング層が、希土類ダイシリケート、希土類モノシリケート、及び、前記希土類モノシリケートと前記希土類ダイシリケートとの混合相のいずれかである母相に、イッテルビア安定化ジルコニアが分散相として析出したジルコニア分散シリケートからなる層であり、
    前記希土類ダイシリケートが、(Y1−c[LnSi固溶体(LnはNd,Sm,Eu,Gdのうちのいずれかであり、cはLnがNd,Sm,Euの場合0.1以上1未満、LnがGdの場合0.2以上1未満)、NdSi、SmSi、EuSi及びGdSiのうちのいずれかであり、
    前記希土類モノシリケートが、YSiOまたは(Y1−d[Ln’]SiO固溶体(Ln’はNd,Sm,Eu,Gdのうちのいずれかであり、0<d≦0.5)であり、
    前記イッテルビア安定化ジルコニア中のイッテルビア含有量が8wt%以上27wt%以下であるコーティング部材。
  3. 前記基材が、酸化物系セラミックス繊維強化酸化物系セラミックス基複合材料またはSiC繊維強化SiC複合材料である請求項1または請求項2に記載のコーティング部材。
  4. 前記酸化物系セラミックス繊維強化酸化物系セラミックス基複合材料が、Al繊維強化Al複合材料である請求項3に記載のコーティング部材。
  5. 前記ジルコニア分散シリケート中の前記イッテルビア安定化ジルコニアの添加量が50vol%以上90vol%以下である請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のコーティング部材。
  6. 前記基材と前記遮熱コーティング層との熱膨張係数差が3×10−6/K未満である請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のコーティング部材。
  7. 希土類ダイシリケート、希土類モノシリケート、及び、前記希土類モノシリケートと前記希土類ダイシリケートとの混合相のいずれかである母相に、イッテルビア安定化ジルコニアが分散相として析出したジルコニア分散シリケートからなり、
    前記希土類ダイシリケートが、(Y1−a[LnSi固溶体(LnはSc,Yb,Luのうちのいずれかであり、aはLnがScの場合0.05以上1未満、LnがYbまたはLuの場合0.2以上1未満)、ScSi、YbSi及びLuSiのうちのいずれかであり、
    前記希土類モノシリケートが、YSiO、[Ln’]SiOまたは(Y1−b[Ln’]SiO固溶体(Ln’はSc,Yb,Luのうちのいずれかであり、0<b≦0.5)であり、
    前記イッテルビア安定化ジルコニア中のイッテルビア含有量が8wt%以上27wt%以下であるコーティング用材料。
  8. 希土類ダイシリケート、希土類モノシリケート、及び、前記希土類モノシリケートと前記希土類ダイシリケートと混合相のいずれかである母相に、イッテルビア安定化ジルコニアが分散相として析出したジルコニア分散シリケートからなり、
    前記希土類ダイシリケートが、(Y1−c[LnSi固溶体(LnはNd,Sm,Eu,Gdのうちのいずれかであり、cはLnがNd,Sm,Euの場合0.1以上1未満、LnがGdの場合0.2以上1未満)、NdSi、SmSi、EuSi及びGdSiのうちのいずれかであり、
    前記希土類モノシリケートが、YSiO、[Ln’]SiOまたは(Y1−d[Ln’]SiO固溶体(Ln’はNd,Sm,Eu,Gdのうちのいずれかであり、0<d≦0.5)であり、
    前記イッテルビア安定化ジルコニア中のイッテルビア含有量が8wt%以上27wt%以下であるコーティング用材料。
  9. 前記ジルコニア分散シリケート中の前記イッテルビア安定化ジルコニアの添加量が50vol%以上90vol%以下である請求項7または請求項8に記載のコーティング用材料。
  10. 希土類ダイシリケートの粉末、希土類モノシリケートの粉末、及び、前記希土類モノシリケートと前記希土類ダイシリケートとの混合粉末のいずれかと、イッテルビア含有量が8wt%以上27wt%以下であるイッテルビア安定化ジルコニアの粉末とが混合された後、100℃以上1700℃以下の条件で熱処理された粒子が、シリコン基セラミックスまたはセラミックス繊維で強化されたセラミックス基複合材料からなる基材に向かって溶射されて、前記基材上に遮熱コーティング層が形成される工程を含み、
    前記希土類ダイシリケートが(Y1−a[LnSi固溶体(LnはSc,Yb,Luのうちのいずれかであり、aはLnがScの場合0.05以上1未満、LnがYbまたはLuの場合0.2以上1未満)、ScSi、YbSi及びLuSiのうちのいずれかであり、
    前記希土類モノシリケートがYSiO、[Ln’]SiOまたは(Y1−b[Ln’]SiO固溶体(Ln’はSc,Yb,Luのうちのいずれかであり、0<b≦0.5)であるコーティング部材の製造方法。
  11. 希土類ダイシリケートの粉末、希土類モノシリケートの粉末、及び、前記希土類モノシリケートと前記希土類ダイシリケートとの混合粉末のいずれかと、イッテルビア含有量が8wt%以上27wt%以下であるイッテルビア安定化ジルコニアの粉末とが混合された後、100℃以上1700℃以下の条件で熱処理された粒子が、シリコン基セラミックスまたはセラミックス繊維で強化されたセラミックス基複合材料からなる基材に向かって溶射されて、前記基材上に遮熱コーティング層が形成される工程を含み、
    前記希土類ダイシリケートが(Y1−c[LnSi固溶体(LnはNd,Sm,Eu,Gdのうちのいずれかであり、cはLnがNd,Sm,Euの場合0.1以上1未満、LnがGdの場合0.2以上1未満)、NdSi、SmSi、EuSi及びGdSiのうちのいずれかであり、
    前記希土類モノシリケートがYSiOまたは(Y1−d[Ln’]SiO固溶体(Ln’はNd,Sm,Eu,Gdのうちのいずれかであり、0<d≦0.5)であるコーティング部材の製造方法。
  12. 前記基材が、酸化物系セラミックス繊維強化酸化物系セラミックス基複合材料またはSiC繊維強化SiC複合材料である請求項10または請求項11に記載のコーティング部材の製造方法。
  13. 前記酸化物系セラミックス繊維強化酸化物系セラミックス基複合材料が、Al繊維強化Al複合材料である請求項12に記載のコーティング部材の製造方法。
  14. 前記ジルコニア分散シリケート粒子中の前記イッテルビア安定化ジルコニアの添加量が50vol%以上90vol%以下である請求項10乃至請求項13のいずれかに記載のコーティング部材の製造方法。
  15. 前記基材と前記遮熱コーティング層との熱膨張係数差が3×10−6/K未満となる比率で、前記希土類ダイシリケートの粉末、前記希土類モノシリケートの粉末、及び、前記混合粉末のいずれかと、前記イッテルビア安定化ジルコニアの粉末とが混合される請求項10乃至請求項14のいずれかに記載のコーティング部材の製造方法。
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