JPWO2016017709A1 - 真空複層ガラスの製造方法、および真空複層ガラス - Google Patents

真空複層ガラスの製造方法、および真空複層ガラス Download PDF

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Abstract

【解決手段】第１ガラス板、第２ガラス板、シール材、およびゲッター材を含む組立体を組み立てる工程と、前記組立体を搬送する搬送台を加熱炉内に搬入する工程と、前記加熱炉内の減圧空間において、前記組立体を加熱して前記シール材を溶融させると共に前記ゲッター材を活性化させた後、前記シール材を固化させて前記第１ガラス板と前記第２ガラス板とを前記シール材で接合すると共に前記第１ガラス板と前記第２ガラス板との間に形成される減圧空間を前記ゲッター材を含んだ状態で前記シール材で封止し、前記ゲッター材に前記減圧空間内のガスを吸着させる工程と、を有する真空複層ガラスの製造方法。

Description

本発明は、真空複層ガラスの製造方法、および真空複層ガラスに関する。
真空複層ガラスは、第１ガラス板、第２ガラス板、および第１ガラス板と第２ガラス板との間に形成される減圧空間を有する。減圧空間は、大気圧よりも低い気圧の空間である。真空複層ガラスは、断熱性に優れ、例えば建築物用の窓ガラスとして用いられる。
真空複層ガラスの製造方法は、第１ガラス板と第２ガラス板との周辺をシール材でシールする工程と、第１ガラス板の段付き孔にガラス管を取り付け、ガラス管を真空引きする工程と、ガラス管の端部を溶融して閉じる工程とを有する（例えば特許文献１参照）。
日本国特開平１０−２１６１号公報
別の真空複層ガラスの製造方法として、第１ガラス板と第２ガラス板とシール材とを含む組立体を加熱炉内に搬入し、加熱炉内の減圧空間において接合と封止とを両方行う方法がある。
真空複層ガラスは、ゲッター材を内部に有してよい。ゲッター材は、加熱によって活性化され、真空複層ガラス内のガスを吸着する。真空複層ガラス内の真空度を維持することができ、その断熱効果を維持することができる。
従来、ゲッター材は、接合・封止工程後に、誘導加熱やレーザー等による非接触の局所加熱によって活性化されていた。そのため、真空複層ガラスの生産効率が悪かった。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、加熱炉内の減圧空間において接合と封止とを両方行う場合の生産効率を改善した、真空複層ガラスの製造方法の提供を主な目的とする。
上記課題を解決するため、本発明の一態様によれば、
第１ガラス板、第２ガラス板、シール材、およびゲッター材を含む組立体を組み立てる工程と、
前記組立体を搬送する搬送台を加熱炉内に搬入する工程と、
前記加熱炉内の減圧空間において、前記組立体を加熱して前記シール材を溶融させると共に前記ゲッター材を活性化させた後、前記シール材を固化させて前記第１ガラス板と前記第２ガラス板とを前記シール材で接合すると共に前記第１ガラス板と前記第２ガラス板との間に形成される減圧空間を前記ゲッター材を含んだ状態で前記シール材で封止し、前記ゲッター材に前記減圧空間内のガスを吸着させる工程と、を有する真空複層ガラスの製造方法が提供される。
本発明の一態様によれば、加熱炉内の減圧空間において接合と封止とを両方行う場合の生産効率を改善した、真空複層ガラスの製造方法が提供される。
第１実施形態による真空複層ガラスの製造方法を示すフローチャートである。 第１実施形態による組立工程における組立体を示す断面図である。 第１実施形態による接合・封止工程における組立体を示す断面図である。 第１実施形態による真空複層ガラスを示す断面図である。 第２実施形態による真空複層ガラスを示す断面図である。
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。各図面において、同一の又は対応する構成には、同一の又は対応する符号を付して説明を省略する。本明細書において、数値範囲を表す「〜」はその前後の数値を含む範囲を意味する。
［第１実施形態］
図１は、第１実施形態による真空複層ガラスの製造方法を示すフローチャートである。図２は、第１実施形態による組立工程における組立体を示す断面図である。図３は、第１実施形態による接合・封止工程における組立体を示す断面図である。
図１に示すように、真空複層ガラスの製造方法は、組立工程（ステップＳ１１）と、搬入工程（ステップＳ１３）と、接合・封止工程（ステップＳ１５）と、搬出工程（ステップＳ１７）と、切断工程（ステップＳ１９）とを有する。組立工程（ステップＳ１１）では、図２に示すように組立体２０を組み立てる。組立体２０は、第１ガラス板としての上ガラス板２１と、第２ガラス板としての下ガラス板２２と、シール材２５と、ゲッター材２６と、脱気用スペーサ２７とを含む。脱気用スペーサ２７は、真空複層ガラスの一部とはならなくてよい。
上ガラス板２１、下ガラス板２２は、建築物用の一般的なガラス板であってよい。上ガラス板２１または下ガラス板２２の少なくとも一方は、熱線反射膜が形成されたものであってよい。熱線反射膜は、銀や酸化スズなどで形成される。熱線反射膜は、Ｌｏｗ−Ｅ（Low Emissivity）膜とも呼ばれる。
上ガラス板２１と、下ガラス板２２とは、同じ種類のガラスで形成されるが、異なる種類のガラスで形成されてもよい。上ガラス板２１は、下ガラス板２２よりも大きくてよく、上方視において下ガラス板２２からはみ出してよい。
シール材２５は、枠状に形成され、上ガラス板２１と下ガラス板２２との間に配設される。シール材２５は、例えばペーストであってよい。尚、シール材２５は、ペーストを熱処理したものでもよい。
ペーストは、例えば、ガラスフリット、溶剤、有機バインダーなどを含む。ガラスフリットは、例えば、ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３系のガラス、ＺｎＯ−ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系のガラス、ＴｅＯ２−Ｖ２Ｏ５系のガラスなどで構成される。溶剤は、ペーストの粘度を調整するものであり、熱処理によって除去される。有機バインダーは、乾燥後にガラスフリットを結合するものであり、熱処理によって除去される。ペーストは、フィラーとしてセラミック粒子等をさらに含んでもよい。
ペーストは、例えば下ガラス板２２における上ガラス板２１との対向面に塗布される。その後、熱処理によって溶剤や有機バインダーを除去した後で、ガラスフリットを溶融させることにより、ガラス層が得られる。
ペーストは、本実施形態では下ガラス板２２における上ガラス板２１との対向面に塗布されるが、上ガラス板２１における下ガラス板２２との対向面に塗布されてもよい。この場合、上ガラス板２１における下ガラス板２２との対向面を上に向けた状態で、ペーストの塗布、熱処理が予め行われてよい。
シール材２５の溶融温度は、例えばシール材２５がＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３系のガラスまたはＺｎＯ−ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系のガラスを含む場合は４５０〜５２０℃、好ましくは４６０〜５２０℃、より好ましくは４６０〜５００℃である。シール材２５の溶融温度は、シール材２５がＴｅＯ２−Ｖ２Ｏ５系のガラスを含む場合は３５０〜４５０℃、好ましくは３６０〜３８０℃である。シール材２５の溶融温度とは、シール材２５が溶融する温度である。シール材２５がガラスを含む場合、シール材２５の溶融温度とは、シール材２５の封着時の組成物の流動性を示すもので、フローボタン径が１７ｍｍ以上になる温度を言う。フローボタン径とは、シール材２５を構成するペーストと同じ量かつ同じ割合でガラスフリットとフィラーとを混合した混合粉末の成形体を、設定温度で３０分間保持したときの直径である。上記成形体は、上記混合粉末を直径１２．７ｍｍの円柱状に荷重５０〜１００ｋｇ重／ｃｍ２で加圧成形したものである。
尚、本実施形態のシール材２５は、ガラスフリットなどで形成されるが、ロウ材または半田材で形成されてもよい。
ゲッター材２６は、ゲッター材２６の製造工程において形成される不動態膜を有し、大気中でハンドリングできる。ゲッター材２６が加熱されると、不動態膜が内部に拡散し、ゲッター材２６が活性化される。活性化されたゲッター材２６は、ガスを吸着する。ゲッター材２６としては、例えば一般的な非蒸発型ゲッター材が用いられる。具体的には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｆｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｙの内の１種類以上の金属または合金からなる多孔質焼結体などが用いられる。
ゲッター材２６の総使用量は、減圧空間２３の体積をＶ（ｃｃ）とすると、例えばＶ×４ｍｇ以上である。
ゲッター材２６は、例えば下ガラス板２２の上面に形成される凹部２２ａにセットされる。凹部２２ａは、枠状のシール材２５の内側に形成される。尚、ゲッター材２６の位置は、特に限定されない。例えば、ゲッター材２６は下ガラス板２２の上面または上ガラス板２１の下面に貼り付けられてもよく、凹部２２ａがなくてもよい。また、ゲッター材２６の数、形状なども特に限定されない。
脱気用スペーサ２７は、例えば搬送台５０に載置され、上ガラス板２１を支持し、上ガラス板２１とシール材２５との間に隙間２８を形成する。隙間２８は、図２に示すように、シール材２５の少なくとも一部に形成されればよく、シール材２５の全体に亘って形成されなくてもよい。
脱気用スペーサ２７は、上面視において上ガラス板２１の下ガラス板２２からはみ出す部分を支持し、上ガラス板２１を下ガラス板２２に対して傾斜させる。尚、脱気用スペーサ２７は、上ガラス板２１を下ガラス板２２に対して平行に支持してもよい。
脱気用スペーサ２７は、加圧によって高さを変えるものであってよい。例えば、脱気用スペーサ２７は、加圧によって潰れる断面形状（図２では逆Ｖ字状）の金属片であってよい。金属片の断面形状は波状でもよく特に限定されない。
尚、脱気用スペーサ２７は、ガラス片であってもよい。ガラス片は、金属片よりも低い温度で溶融させられ、加圧によって潰れる。また、脱気用スペーサ２７は、バネなどの弾性体であってもよい。
搬入工程（ステップＳ１３）では、組立体２０を搬送する搬送台５０を加熱炉内に搬入する。搬送台５０は、加熱炉の入口から搬入され、加熱炉内の複数のゾーンを経由し、加熱炉の出口から搬出されてよい。
搬送台５０が加熱炉内を移動するにつれ、シール材２５がペーストの場合ではペーストが熱処理され、溶剤や有機バインダーが除去され、ガラス層が得られる。その後、加熱炉内の減圧空間で接合・封止工程が行われる。
接合・封止工程（ステップＳ１５）では、図３に示すように加熱炉６０内の減圧空間６１において、組立体２０を加熱してシール材２５を溶融させると共に、ゲッター材２６を活性化させる。組立体２０の加熱温度は、シール材２５の溶融温度以上とされる。尚、ゲッター材２６の活性化は、シール材２５の温度が溶融温度に達する前に、ある程度進む。
減圧空間６１は、大気圧よりも低い気圧の空間である。減圧空間６１の気圧は、例えば１×１０−５Ｐａ〜１０Ｐａであってよく、好ましくは１×１０−５Ｐａ〜０．１Ｐａである。
[機械加圧による接合・封止プロセス]
シール材２５の溶融後、加熱炉６０内の減圧空間６１において、搬送台５０の上方に配設される加圧部材６２と搬送台５０とが組立体２０を加圧する。加圧部材６２は、例えば、複数の流体圧シリンダ６３と、加圧板６４とで構成される。各流体圧シリンダ６３の本体は加熱炉６０の天井に固定され、各流体圧シリンダ６３のロッドの先端は加圧板６４に固定される。加圧板６４は、搬送台５０に対して昇降自在とされる。
複数の流体圧シリンダ６３は、加圧板６４を下降させ、加圧板６４と搬送台５０とで組立体２０を挟んで加圧する。これにより、脱気用スペーサ２７の高さが縮まり、脱気用スペーサ２７による隙間２８の形成が解除される。そうして、上ガラス板２１および下ガラス板２２の両方とシール材２５とが密着し、上ガラス板２１と下ガラス板２２との間に形成される減圧空間２３がシール材２５で取り囲まれる。
続いて、加熱炉６０内の減圧空間６１において、加圧板６４と搬送台５０とで組立体２０を加圧した状態のまま、加熱炉６０内の温度をシール材２５の溶融温度以下に下げ、シール材２５の流動性を消失させる。その後、シール材２５を固化させることで、上ガラス板２１と下ガラス板２２とを接合すると共に、上ガラス板２１と下ガラス板２２との間に形成される減圧空間２３を封止する。
減圧空間２３内部のゲッター材２６は、活性化されており、減圧空間２３内のガスを吸着する。減圧空間２３内のガスは、シール材２５から放出されるガスや減圧空間２３内部の吸着物由来のガスを含む。シール材２５から放出されるガスは、シール材２５の加熱時に有機物からＣＯ、ＣＯ２等に分解されており、ゲッター材２６に吸着されやすい。
その後、複数の流体圧シリンダ６３は、加圧板６４を上昇させ、組立体２０の加圧を解除する。その解除タイミングは、本実施形態ではシール材２５の流動性を消失させた後であるが、上ガラス板２１および下ガラス板２２の両方とシール材２５との接触後であれば、いつでもよい。但し、脱気用スペーサ２７として弾性体が用いられる場合、上記解除タイミングはシール材２５の流動性消失後とされる。
[気圧差による接合・封止プロセス]
上述した[機械加圧による接合・封止プロセス]に代わり、[気圧差による接合・封止プロセス]を用いてもよい。[気圧差による接合・封止プロセス]とは、加熱炉６０内の温度をシール材２５の溶融温度以下に下げ、シール材２５の流動性を低下させた状態で組立体２０を減圧空間２３から減圧空間２３よりも気圧が高い空間（例えば大気圧空間）に導入し、その気圧差により組立体２０の全面を均一に加圧するプロセスである。[気圧差による接合・封止プロセス]により、[機械加圧による接合・封止プロセス]における機械加圧機構が不要になる。よって、例えば多段棚に組立体２０を多数配置し、多数の組立体２０を一括で接合・封止することが可能である。
尚、減圧空間２３よりも気圧が高い空間は、必ずしも大気圧空間である必要はなく、接合・封止に十分な高い気圧の空間であればよい。
搬出工程（ステップＳ１７）では、組立体２０を搬送する搬送台５０を加熱炉６０内から搬出する。加熱炉６０内から搬出される前に、加熱炉６０内で組立体２０が徐冷される。
切断工程（ステップＳ１９）では、加熱炉６０内から搬出された各組立体２０を切断して、真空複層ガラスを得る。例えば、切断工程では、上面視において上ガラス板２１の下ガラス板２２からはみ出す部分を切除して、真空複層ガラスを得る。
切断工程では、１つの組立体２０を切断することにより、複数の真空複層ガラスを得てもよい。この場合、各組立体２０はシール材２５を複数含み、シール材２５同士の間で切断が行われる。
切断工程は、任意の工程であって、行われなくてもよい。
以上説明したように、本実施形態によれば、加熱炉６０内の減圧空間６１においてシール材２５を溶融させると共にゲッター材２６を活性化させた後、接合と封止を行い減圧空間２３を形成する。減圧空間２３内にゲッター材２６が閉じ込められ、ゲッター材２６が減圧空間２３内のガスを吸着する。ゲッター材２６の活性化が接合・封止工程において行われるので、接合・封止工程の後にゲッター材２６を誘導加熱やその他手段による局所加熱をする工程が省略できる。
また、本実施形態によれば、ゲッター材２６の活性化が接合・封止工程において行われるので、ゲッター材２６とシール材２５の少なくとも一部との間の距離Ｄを２０ｍｍ以下にすることができ、ゲッター材２６を真空複層ガラスの端部に配置することができる。よって、真空複層ガラスの見栄えが良い。尚、ゲッター材２６を誘導加熱やその他手段による局所加熱によって活性化させる場合、距離Ｄを２０ｍｍ以下にすることはできない。距離Ｄが２０ｍｍ以下の場合にゲッター材２６を誘導加熱やその他手段による局所加熱によって活性化させると、シール材２５が溶けて、封止が破れる。
図４は、第１実施形態による真空複層ガラスを示す断面図である。図４に示す真空複層ガラス１０は、図１〜図３に示す製造方法で製造される。真空複層ガラス１０は、第１ガラス板１１、第２ガラス板１２、減圧空間１３、シール材１５、および、ゲッター材１６を有する。尚、第１ガラス板１１と第２ガラス板１２との間には、その間隔を保持する間隔保持用スペーサが配設されてもよい。
第１ガラス板１１、第２ガラス板１２は、建築物用の一般的なガラス板であってよい。第１ガラス板１１または第２ガラス板１２の少なくとも一方は、熱線反射膜が形成されたものであってよい。熱線反射膜は、銀や酸化スズなどで形成される。熱線反射膜は、Ｌｏｗ−Ｅ（Low Emissivity）膜とも呼ばれる。
第１ガラス板１１と、第２ガラス板１２とは同じ種類のガラスで形成されるが、異なる種類のガラスで形成されてもよい。第１ガラス板１１と、第２ガラス板１２とは同じ大きさであってよく、第１ガラス板１１と、第２ガラス板１２とは厚さが異なってもよい。第１ガラス板１１と、第２ガラス板１２との間には減圧空間１３が形成される。
シール材１５は、第１ガラス板１１と第２ガラス板１２とを接合すると共に減圧空間１３を封止する。シール材１５は、第１ガラス板１１の外縁、第２ガラス板１２の外縁、またはその両外縁に沿って枠状に形成され、減圧空間１３を取り囲む。減圧空間１３は、大気圧よりも低い気圧の空間である。減圧空間１３の気圧は、例えば０．００１〜０．２Ｐａである。
シール材１５は、例えばガラス層で構成される。ガラス層は、ガラスフリットを含むペーストを熱処理することにより形成される。ガラスフリットは、例えば、ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３系のガラス、ＺｎＯ−ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系のガラス、ＴｅＯ２−Ｖ２Ｏ５系のガラスなどで構成される。ガラス層は、セラミック粒子を含んでもよい。尚、シール材１５は、ロウ材または半田材で形成されてもよい。
ゲッター材１６は、真空複層ガラス１０の製造工程において活性化されており、減圧空間１３内のガスを吸着する。ゲッター材１６としては、例えば一般的な非蒸発型ゲッター材が用いられる。具体的には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｆｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｙの内の１種類以上の金属または合金からなる多孔質焼結体などが用いられる。
ゲッター材１６は、第２ガラス板１２における第１ガラス板１１との対向面に形成される凹部１２ａにセットされる。凹部１２ａは、枠状のシール材１５の内側に形成される。
尚、ゲッター材１６の位置は、特に限定されない。例えば、ゲッター材１６は、第２ガラス板１２における第１ガラス板１１との対向面または第１ガラス板１１における第２ガラス板１２との対向面に貼り付けられてもよく、凹部１２ａがなくてもよい。また、ゲッター材１６の数、形状なども特に限定されない。
シール材１５を溶融させると共にゲッター材１６を活性化させた後、接合と封止を行い減圧空間１３を形成する。減圧空間１３内にゲッター材１６が閉じ込められ、ゲッター材１６が減圧空間１３内のガスを吸着する。ゲッター材１６の活性化が接合・封止工程において行われるので、接合・封止工程の後にゲッター材１６を誘導加熱やその他手段による局所加熱をする工程が省略できる。
ゲッター材１６の活性化が接合・封止工程において行われるので、接合・封止工程の後にゲッター材１６を活性化する工程が省略できる。よって、ゲッター材１６とシール材１５の少なくとも一部との間の距離Ｅを２０ｍｍ以下にすることができ、ゲッター材１６を真空複層ガラス１０の端部に配置することができ、真空複層ガラス１０の見栄えがよい。尚、接合・封止工程の後にゲッター材１６を誘導加熱によって活性化させる場合、距離Ｅを２０ｍｍ以下にすることはできない。距離Ｅが２０ｍｍ以下の場合にゲッター材１６を誘導加熱によって活性化させると、シール材１５が溶けて、封止が破れる。
［第２実施形態］
図５は、第２実施形態による真空複層ガラスを示す断面図である。真空複層ガラス１０Ａは、第１ガラス板１１Ａ、第２ガラス板１２Ａ、減圧空間１３Ａ、第１シール材１５Ａａ、第２シール材１５Ａｂ、金属部材１５Ａｃ、およびゲッター材１６Ａを有する。ゲッター材１６Ａは、第２ガラス板１２Ａにおける第１ガラス板１１Ａとの対向面に形成される凹部１２Ａａにセットされる。
図５に示す真空複層ガラス１０Ａは、図４に示す真空複層ガラス１０とは、応力緩和構造を有する点で異なる。以下、主に相違点について説明する。
第１シール材１５Ａａ、第２シール材１５Ａｂは、例えばガラス層で構成される。ガラス層は、ガラスフリットを含むペーストを熱処理することにより形成される。ガラス層は、セラミック粒子を含んでもよい。尚、第１シール材１５Ａａ、第２シール材１５Ａｂは、ロウ材または半田材で形成されてもよい。
第１シール材１５Ａａは、第１ガラス板１１Ａの外縁に沿って枠状に形成され、第１ガラス板１１Ａと金属部材１５Ａｃとを結合する。第１シール材１５Ａａは、第２ガラス板１２Ａとは接触しておらず、第２ガラス板１２Ａとは結合されない。
第２シール材１５Ａｂは、第２ガラス板１２Ａの外縁に沿って枠状に形成され、第２ガラス板１２Ａと金属部材１５Ａｃとを結合する。第２シール材１５Ａｂは、第１ガラス板１１Ａとは接触しておらず、第１ガラス板１１Ａとは結合されない。
金属部材１５Ａｃは、第１シール材１５Ａａと結合される部分と、第２シール材１５Ａｂと結合される部分との間に、変形する部分を有する。よって、第１ガラス板１１Ａと第２ガラス板１２Ａ間で生じる応力を、金属部材１５Ａｃの変形によって吸収することができる。
第１シール材１５Ａａおよび第２シール材１５Ａｂの溶融温度は、例えば第１シール材１５Ａａおよび第２シール材１５ＡｂがＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３系のガラスまたはＺｎＯ−ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系のガラスの場合は４５０〜５２０℃、好ましくは４６０〜５２０℃、より好ましくは４６０〜５００℃である。第１シール材１５Ａａおよび第２シール材１５Ａｂの溶融温度は、第１シール材１５Ａａおよび第２シール材１５ＡｂがＴｅＯ２−Ｖ２Ｏ５系のガラスの場合は３５０〜４５０℃、好ましくは３６０〜３８０℃である。尚、第１シール材１５Ａａおよび第２シール材１５Ａｂは、同じ材料で形成されてもよいが、異なる材料で形成されてもよい。
第１シール材１５Ａａおよび第２シール材１５Ａｂの溶融温度以上の温度で第１シール材１５Ａａおよび第２シール材１５Ａｂを加熱するとき、ゲッター材１６Ａを活性化できる。よって、接合・封止工程の後にゲッター材１６Ａを誘導加熱やその他手段による局所加熱をする工程が省略できる。
ゲッター材１６Ａの活性化が接合・封止工程において行われるので、第１シール材１５Ａａおよび第２シール材１５Ａｂのうち内側の第１シール材１５Ａａの少なくとも一部とゲッター材１６Ａとの間の距離ＥＡを２０ｍｍ以下にすることができ、ゲッター材１６Ａを真空複層ガラス１０Ａの端部に配置することができる。よって、真空複層ガラス１０Ａの見栄えがよい。尚、ゲッター材１６Ａを誘導加熱やその他手段による局所加熱によって活性化させる場合、距離ＥＡを２０ｍｍ以下にすることはできない。なぜなら、距離ＥＡが２０ｍｍ以下の場合にゲッター材１６Ａを誘導加熱やその他手段による局所加熱によって活性化させると、第１シール材１５Ａａが溶けて封止が破れるからである。
図５に示す真空複層ガラス１０Ａは、図４に示す真空複層ガラス１０と同様に図１〜図３に示す製造方法で製造することができる。
以上、真空複層ガラスの製造方法の実施形態などについて説明したが、本発明は上記実施形態などに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、改良が可能である。
例えば、脱気用スペーサ２７の数や配置は多種多様であってよい。脱気用スペーサ２７は、上ガラス板２１および下ガラス板２２の少なくとも一方とシール材２５との間に隙間を形成するものであればよい。
脱気用スペーサ２７は、上記実施形態では加圧によって高さを変化するものであるが、高さを変化しないものでもよい。この場合、搬送台５０に対する脱気用スペーサ２７の位置または向きを変えることにより、脱気用スペーサ２７による隙間２８の形成を解除できる。
脱気用スペーサ２７は、必ずしも使用しなくても良い。脱気用スペーサ２７を使用しない場合、上ガラス板と下ガラス板とは同じ大きさであってよく、切断工程はなくてもよい。
上記実施形態の加熱炉６０は、連続式であるが、バッチ式でもよい。
本出願は、２０１４年７月３０日に日本国特許庁に出願された特願２０１４−１５４８１３号に基づく優先権を主張するものであり、特願２０１４−１５４８１３号の全内容を本出願に援用する。
１０ 真空複層ガラス
１１ 第１ガラス板
１２ 第２ガラス板
１３ 減圧空間
１５ シール材
１６ ゲッター材
２０ 組立体
２１ 上ガラス板
２２ 下ガラス板
２３ 減圧空間
２５ シール材
２６ ゲッター材
２７ 脱気用スペーサ
５０ 搬送台
６０ 加熱炉
６１ 減圧空間
６２ 加圧部材
６３ 流体圧シリンダ
６４ 加圧板

Claims (4)

  1. 第１ガラス板、第２ガラス板、シール材、およびゲッター材を含む組立体を組み立てる工程と、
    前記組立体を搬送する搬送台を加熱炉内に搬入する工程と、
    前記加熱炉内の減圧空間において、前記組立体を加熱して前記シール材を溶融させると共に前記ゲッター材を活性化させた後、前記シール材を固化させて前記第１ガラス板と前記第２ガラス板とを前記シール材で接合すると共に前記第１ガラス板と前記第２ガラス板との間に形成される減圧空間を前記ゲッター材を含んだ状態で前記シール材で封止し、前記ゲッター材に前記減圧空間内のガスを吸着させる工程と、を有する真空複層ガラスの製造方法。
  2. 前記シール材は、ガラスフリットを含むペーストで形成され、
    前記シール材の溶融温度は、３５０〜５２０℃である、請求項１に記載の真空複層ガラスの製造方法。
  3. 前記シール材は枠状に形成され、
    前記ゲッター材と、前記シール材の少なくとも一部との間の距離が２０ｍｍ以下である、請求項１または２に記載の真空複層ガラスの製造方法。
  4. 第１ガラス板と、
    第２ガラス板と、
    前記第１ガラス板と前記第２ガラス板との間に形成される減圧空間と、
    前記第１ガラス板と前記第２ガラス板とを接合すると共に前記減圧空間を封止するシール材と、
    前記減圧空間内のガスを吸着するゲッター材とを有し、
    前記シール材は枠状に形成され、
    前記ゲッター材と、前記シール材の少なくとも一部との間の距離が２０ｍｍ以下である、真空複層ガラス。
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