JPWO2015159811A1 - 光学材料用組成物及びその製造方法並びに光学材料用組成物から得られる光学材料 - Google Patents

Abstract

本発明によれば、アセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下のエピスルフィド化合物を含有することを特徴とする光学材料用組成物を提供することができる。更に、本発明の好ましい態様によれば、下記（１）式で表される構造を有し、アセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下である（ａ）化合物（エピスルフィド化合物）、（ｂ）ポリイソシアネート化合物、及び（ｃ）ポリチオール化合物を含む光学材料用組成物を提供することができる。【化１】（式中、ｍは０〜４の整数を表し、ｎは０または１の整数を表す。）

Description

本発明は、光学材料用組成物等に関し、特に、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター等の光学材料、中でもプラスチックレンズに好適である光学材料用組成物等に関する。

プラスチック材料は軽量かつ靭性に富み、また染色が容易であることから、各種光学材料、特に眼鏡レンズに近年多用されている。光学材料、中でも眼鏡レンズに特に要求される性能は、物理的性質としては、低比重、高透明性及び低黄色度、高耐熱性、高強度等であり、光学性能としては高屈折率と高アッベ数である。高屈折率はレンズの薄肉化を可能とし、高アッベ数はレンズの色収差を低減するが、屈折率が上昇するほどアッベ数は低くなるため、両者を同時に向上させる検討が実施されている。これらの検討の中で最も代表的な方法は、特許文献１に示されるエピスルフィド化合物を使用する方法である。
さらに高屈折率を目指した検討も行われており、特許文献２や３に示される硫黄とエピスルフィド化合物とチオールからなる組成物が提案されている。
さらに、ポリエピスルフィド化合物に、強度を向上させるためにチオウレタンを導入させた光学材料が報告されている（特許文献４、５）。
しかしながらチオウレタンを導入した場合、耐熱性の低下、切削加工時の臭気の発生、及び脈理と呼ばれる重合ムラが発生することから、組成比を限定したり、粘度を限定したりする手法が報告されている（特許文献６〜８）。
しかしながら、これらエピスルフィド化合物を含む組成物は、重合硬化した際に白濁する場合があった。光学材料用途であるため、硬化後に白濁が生じるとすべて不良となり膨大な損失が生じることになる。したがって、硬化前の段階において、硬化後の白濁の発生の有無を予測し、良否の判断を可能にする手法が望まれていた。

特開平９−１１０９７９号公報 特開２００１−２７８３号公報 特開２００４−１３７４８１号公報 特開平１１−３５２３０２号公報 特開２００１−１３１２５７号公報 特開２００１−３３０７０１号公報 特開２００５−２２０１６２号公報 特開２００７−０９０５７４号公報

本発明が解決しようとする課題は、重合硬化前の段階で、硬化後の白濁の発生の有無を予測、判別し、良否の判断が可能なエピスルフィド化合物を含む光学材料用組成物等を提供することにある。

本発明者らは、このような状況に鑑み鋭意研究を重ねた結果、エピスルフィド化合物をアセトンに溶解させた際の溶液濁度値（アセトン濁度値）が３．０ｐｐｍ以下であるエピスルフィド化合物を含む光学材料用組成物等により本課題を解決し、本発明に至った。
すなわち、本発明は以下の通りである。
＜１＞ アセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下のエピスルフィド化合物を含有することを特徴とする光学材料用組成物である。
＜２＞ さらに硫黄を含有する、上記＜１＞に記載の光学材料用組成物である。
＜３＞ 前記エピスルフィド化合物と前記硫黄とが予備的に重合されている、上記＜２＞に記載の光学材料用組成物である。
＜４＞ 前記硫黄の１０％以上がエピスルフィド化合物と予備的に重合されている、上記＜２＞または＜３＞に記載の光学材料用組成物である。
＜５＞ さらにポリチオール化合物を含有する、上記＜２＞から＜４＞のいずれかに記載の光学材料用組成物である。
＜６＞ 脱気処理されている、上記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光学材料用組成物である。
＜７＞ 前記エピスルフィド化合物が、下記（１）式で表される構造を有する（ａ）化合物である、上記＜１＞に記載の光学材料用組成物である。

（式中、ｍは０〜４の整数を表し、ｎは０または１の整数を表す。）
＜８＞ 更に、（ｂ）ポリイソシアネート化合物、および（ｃ）ポリチオール化合物を含む、上記＜７＞に記載の光学材料用組成物である。
＜９＞ 前記（ｂ）化合物が、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ｐ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアネナートメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、ビス（イソシアネートメチル）ノルボルネン、および２，５−ジイソシアナートメチル−１，４−ジチアンからなる群より選ばれる少なくとも１種以上の化合物であり、
前記（ｃ）化合物が、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、４、８−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、４、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、５、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、１、１、３、３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート）、およびトリメチロールプロパントリスメルカプトプロピオネートからなる群より選ばれる少なくとも１種以上の化合物である、上記＜８＞に記載の光学材料用組成物である。
＜１０＞ （ａ）化合物、（ｂ）化合物、および（ｃ）化合物の総量を１００重量％とした時、（ａ）化合物が５０〜９５重量％、（ｂ）化合物が１〜２５重量％、（ｃ）化合物が１〜２５重量％であり、かつ（ｂ）化合物のＮＣＯ基に対する（ｃ）化合物のＳＨ基の割合、即ち［（ｃ）化合物のＳＨ基数／（ｂ）化合物のＮＣＯ基数］（ＳＨ基／ＮＣＯ基）が、１．０〜２．５である、上記＜８＞または＜９＞に記載の光学材料用組成物である。
＜１１＞ 上記＜１＞から＜１０＞のいずれかに記載の光学材料用組成物を重合硬化することを特徴とする光学材料の製造方法である。
＜１２＞ 上記＜８＞から＜１０＞のいずれかに記載の光学材料用組成物に、重合触媒としてオニウム塩を（ａ）〜（ｃ）化合物の全量に対して０．０００１重量％〜１０重量％添加し、重合硬化する光学材料の製造方法である。
＜１３＞ 光学材料用組成物の重合硬化後にアニール処理を施す、上記＜１１＞または＜１２＞に記載の光学材料の製造方法である。
＜１４＞ 上記＜１１＞から＜１３＞のいずれかに記載の光学材料の製造方法により得られる光学材料である。
＜１５＞ 上記＜１４＞に記載の光学材料を含む光学レンズである。
＜１６＞ エピスルフィド化合物製造品から光学材料用原料を製造する方法であって、アセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下であるエピスルフィド化合物製造品を選別して光学材料用原料とすることを特徴とする光学材料用原料の製造方法である。
＜１７＞ 前記エピスルフィド化合物が、下記（１）式で表される構造を有する（ａ）化合物である、上記＜１６＞に記載の光学材料用原料の製造方法である。

（式中、ｍは０〜４の整数を表し、ｎは０または１の整数を表す。）

本発明により、従来技術では困難であった、重合硬化前の段階における重合硬化後の白濁発生の有無の予測、良否の判断を可能にする、エピスルフィド化合物を含む光学材料用組成物等を提供することが可能となった。

本発明の第１の態様について説明する。
本発明の第１の態様は、アセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下のエピスルフィド化合物を含有することを特徴とする光学材料用組成物である。
本発明の第１の態様（及び後述する第２の態様）におけるエピスルフィド化合物は、必ずしも純品を意味するわけではなく公知の方法で製造されたエピスルフィド化合物製造品を包含する。すなわち、本発明におけるエピスルフィド化合物とは、少量の不純物を含むエピスルフィド化合物製造品をも包含する。

本発明の第１の態様で用いられるエピスルフィド化合物は、すべてのエピスルフィド化合物を包括するが、具体例として鎖状脂肪族骨格、脂肪族環状骨格、または芳香族骨格を有する化合物に分けて列挙する。
鎖状脂肪族骨格を有する化合物としては、下記（１）式で表される化合物が挙げられる。

（ただし、ｍは０〜４の整数、ｎは０または１の整数を表す。）

脂肪族環状骨格を有する化合物としては、下記（２）式または（３）式で表される化合物が挙げられる。

（ｐ、ｑはそれぞれ０〜４の整数を表す。）

（ｐ、ｑはそれぞれ０〜４の整数を表す。）
芳香族骨格を有する化合物としては、下記（４）式で表される化合物が挙げられる。

（ｐ、ｑはそれぞれ０〜４の整数を表す。）

中でも好ましい化合物は、鎖状脂肪族骨格を有する上記（１）式で表される化合物であり、具体的にはビス（β−エピチオプロピル）スルフィド、ビス（β−エピチオプロピル）ジスルフィド、ビス（β−エピチオプロピル）トリスルフィド、ビス（β−エピチオプロピルチオ）メタン、１，２−ビス（β−エピチオプロピルチオ）エタン、１，３−ビス（β−エピチオプロピルチオ）プロパン、１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ブタン、ビス（β−エピチオプロピルチオエチル）スルフィドである。特に好ましい化合物は、ビス（β−エピチオプロピル）スルフィド（上記（１）式でｎ＝０）、ビス（β−エピチオプロピル）ジスルフィド（上記（１）式でｍ＝０、ｎ＝１）であり、最も好ましい化合物は、ビス（β−エピチオプロピル）スルフィド（上記（１）式でｎ＝０）である。
また、脂肪族環状骨格を有するエピスルフィド化合物としては、１，３および１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオ）シクロヘキサン（上記（２）式でｐ＝０、ｑ＝０）、１，３および１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）シクロヘキサン（上記（２）式でｐ＝１、ｑ＝１）、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）シクロヘキシル〕メタン、２，２−ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）シクロヘキシル〕プロパン、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）シクロヘキシル〕スルフィド、２，５−ビス（β−エピチオプロピルチオ）−１，４−ジチアン（上記（３）式でｐ＝０、ｑ＝０）、２，５−ビス（β−エピチオプロピルチオエチルチオメチル）−１，４−ジチアン等を挙げることができる。
また、芳香族骨格を有するエピスルフィド化合物としては、１，３および１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ベンゼン（上記（４）でｐ＝０、ｑ＝０）、１，３および１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオメチル）ベンゼン（上記（４）式でｐ＝１、ｑ＝１）、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）フェニル〕メタン、２，２−ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）フェニル〕プロパン、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）フェニル〕スルフィド、ビス〔４−（β−エピチオプロピルチオ）フェニル〕スルフィン、４，４−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ビフェニル等を挙げることができる。

本発明の第１の態様（及び後述する第２の態様）においては、アセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下のエピスルフィド化合物を用いる。本発明の第１の態様（及び後述する第２の態様）におけるアセトン濁度値とは下記測定方法により得られた濁度値である。
エピスルフィド化合物をアセトンに溶解させた際の溶液濁度（アセトン濁度）はＪＩＳ Ｋ０１０１に従い、カオリン標準液を標準とし積分球濁度計を用いて測定する。
具体的にはエピスルフィド化合物１０ｇにアセトン４０ｇを加え、十分攪拌後１０分静置し、この溶液の濁度測定を行う。
アセトン：特級アセトン ９９．５％以上（関東化学品）
濁度計：東京電色製 Ｔ-２６００ＤＡ
これら測定を行い、アセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下であるエピスルフィド化合物が用いられる。好ましくは、アセトン濁度値が１．５ｐｐｍ以下で、より好ましくは０．８ｐｐｍ以下であり、特に好ましくは０．６ｐｐｍ以下である。
アセトン濁度値が３．０ｐｐｍを超えた場合、重合硬化後のレンズのような光学材料は白濁して使用不可となる。したがって、濁度値を測定することで、重合硬化せずに白濁の発生の有無を予測、判別することができ、エピスルフィド化合物の良否の判断が可能となる。
実際の運用としては、まずアセトン濁度値を測定し、アセトン濁度値が上記の範囲内に収まれば白濁が発生しないので、このエピスルフィド化合物は使用可能と判断される。

以上のように本発明の第１の態様（及び後述する第２の態様）ではアセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下のエピスルフィド化合物を選別して光学材料用原料とするが、アセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下のエピスルフィド化合物を選別できる限りにおいてその選別方法は特に制限は無い。例えば、上記のようにアセトン濁度値を直接測定して選別しても良いし、適当な濃度のエピスルフィド化合物のアセトン溶液の濁度値を参考にしてアセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下のエピスルフィド化合物を選別しても良い。すなわち実質的にアセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下のエピスルフィド化合物を選別できる方法であれば構わない。

本発明の第１の態様では、光学材料用組成物に硫黄を加えても良い。硫黄を用いる場合は、あらかじめエピスルフィド化合物と硫黄とを予備的に反応させておくことが好ましい。この予備的な重合反応の条件は、好ましくは−１０℃〜１２０℃で０．１〜２４０時間、より好ましくは０〜１００℃で０．１〜１２０時間、特に好ましくは２０〜８０℃で０．１〜６０時間である。予備的な反応を進行させるために触媒を用いることは効果的であり、好ましい例として２−メルカプト−１−メチルイミダゾール、トリフェニルホスフィン、３，５−ジメチルピラゾール、Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾリルスルフィンアミド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、１，２，３−トリフェニルグアニジン、１，３−ジフェニルグアジニン、１，１，３，３−テトラメチレングアニジン、アミノグアニジン尿素、トリメチルチオ尿素、テトラエチルチオ尿素、ジメチルエチルチオ尿素、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、ピペコリルジチオカルバミン酸ピペコリウム等が挙げられる。さらには、この予備的な重合反応により硫黄を１０％以上（反応前を１００％とする）消費させておくことが好ましく、２０％以上消費させておくことがより好ましい。予備的な反応は、大気、窒素等の不活性ガス下、常圧もしくは加減圧による密閉下等、任意の雰囲気下で行ってよい。なお、予備的な反応の進行度を検知するために液体クロマトグラフィーや屈折率計を用いることも可能である。

本発明の好ましい態様として使用される硫黄は、エピスルフィド化合物を１００重量部とした場合、通常は０．１〜４０重量部使用するが、好ましくは０．５〜３０重量部、特に好ましくは５〜２５重量部である。

本発明の第１の態様では、光学材料用組成物にポリチオール化合物を加えても良い。本発明の第１の態様で用いられるポリチオール化合物は、すべてのポリチオール化合物を包含するが、具体的には、メタンジチオール、１，２−ジメルカプトエタン、２，２−ジメルカプトプロパン、１，３−ジメルカプトプロパン、１，２，３−トリメルカプトプロパン、１，４−ジメルカプトブタン、１，６−ジメルカプトヘキサン、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）エタン、１，５−ジメルカプト−３−オキサペンタン、１，８−ジメルカプト−３，６−ジオキサオクタン、２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジチオール、３，４−ジメトキシブタン−１，２−ジチオール、２−メルカプトメチル−１，３−ジメルカプトプロパン、２−メルカプトメチル１，４−ジメルカプトプロパン、２−（２−メルカプトエチルチオ）−１，３−ジメルカプトプロパン、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）−３−メルカプトプロパン、１，１，１−トリス（メルカプトメチル）プロパン、テトラキス（メルカプトメチル）メタン、４、８−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、４、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、５、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、１、１、３、３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、エチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−ブタンジオールビス（２−メルカプトアセテート）、１，４−ブタンジオールビス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、１，１−ジメルカプトシクロヘキサン、１，２−ジメルカプトシクロヘキサン、１，３−ジメルカプトシクロヘキサン、１，４−ジメルカプトシクロヘキサン、１，３−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、２，５−ビス（メルカプトエチル）−１，４−ジチアン、１，２−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、ビス（４−メルカプトフェニル）スルフィド、ビス（４−メルカプトフェニル）エーテル、２，２−ビス（４−メルカプトフェニル）プロパン、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）スルフィド、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）エーテル、２，２−ビス（４−メルカプトメチルフェニル）プロパン等を挙げることができる。

以上の中で好ましい化合物の具体例としては、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、２，５−ビス（メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）−３−メルカプトプロパン、４、８−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、４、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、５、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、１、１、３、３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼンが挙げられる。さらに好ましい化合物の具体例としては、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼンであり、最も好ましい化合物はビス（２−メルカプトエチル）スルフィドである。

本発明の第１の態様で使用するポリチオール化合物は、エピスルフィド化合物と硫黄の合計を１００重量部とした場合、通常は１〜３０重量部使用するが、好ましくは２〜２０重量部、特に好ましくは３〜１５重量部である。

本発明の第１の態様では、光学材料用組成物に対し、あらかじめ脱気処理を行うことが好ましい。脱気処理は、組成成分の一部もしくは全部と反応可能な化合物、重合触媒、添加剤の混合前、混合時あるいは混合後に、減圧下で行う。好ましくは、混合時あるいは混合後に、減圧下で行う。処理条件は、０．００１〜５０ｔｏｒｒの減圧下、１分間〜２４時間、０℃〜１００℃で行う。減圧度は、好ましくは０．００５〜２５ｔｏｒｒであり、より好ましくは０．０１〜１０ｔｏｒｒであり、これらの範囲で減圧度を可変しても構わない。脱気時間は、好ましくは５分間〜１８時間であり、より好ましくは１０分間〜１２時間である。脱気の際の温度は、好ましくは５℃〜８０℃であり、より好ましくは１０℃〜６０℃であり、これらの範囲で温度を可変しても構わない。脱気処理の際に、撹拌、気体の吹き込み、超音波などによる振動などによって、光学材料用組成物の界面を更新することは、脱気効果を高める上で好ましい操作である。脱気処理により、除去される成分は、主に硫化水素等の溶存ガスや低分子量のチオール等の低沸点物等であるが、本発明の効果を発現するのであれば、特に、除去の対象成分の種類は限定されない。
さらには、これらの光学材料用組成物および／または混合前の各原料を０．０５〜１０μｍ程度の孔径を有するフィルターで不純物等を濾過し精製することは、本発明の光学材料の品質をさらに高める上からも好ましい。

以下、本発明の第１の態様の光学材料用組成物を重合して光学材料を製造する方法について説明する。
本発明の第１の態様の光学材料用組成物を重合硬化する触媒としては、アミン、オニウム塩やホスフィン化合物が用いられる。具体例としてはアミン、第４級アンモニウム塩、第４級ホスホニウム塩、第３級スルホニウム塩、第２級ヨードニウム塩、ホスフィン化合物が挙げられる。中でも組成物との相溶性の良好な第４級アンモニウム塩および第４級ホスホニウム塩、ホスフィン化合物がより好ましく、さらに好ましくは第４級ホスホニウム塩である。より好ましい化合物の具体例としては、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラフェニルアンモニウムブロマイド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、セチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、１−ｎ−ドデシルピリジニウムクロライド等の第４級アンモニウム塩、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド等の第４級ホスホニウム塩、トリフェニルホスフィン等のホスフィン化合物が挙げられる。これらの中で、さらに好ましい化合物は、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロマイドであり、最も好ましい化合物は、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロマイドである。重合触媒は単独でも、２種類以上を混合して使用してもかまわない。
重合触媒の添加量は、組成物の成分、混合比および重合硬化方法によって変化するため一概には決められないが、通常は光学材料用組成物全量に対して０．００１ｗｔ％以上５ｗｔ％以下、好ましくは、０．０１ｗｔ％以上１ｗｔ％以下、最も好ましくは、０．０１ｗｔ％以上０．５ｗｔ％以下使用する。重合触媒の添加量が５ｗｔ％より多いと硬化物の屈折率、耐熱性が低下し、着色する場合がある。また、０．００１ｗｔ％より少ないと十分に硬化せず耐熱性が不十分となる場合がある。

光学材料用組成物を重合硬化させる際に、ポットライフの延長や重合発熱の分散化などを目的として、必要に応じて重合調整剤を添加することができる。重合調整剤としては、例えば、長期周期律表における第１３〜１６族のハロゲン化物を挙げることができる。これらのうち好ましい化合物は、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、アンチモンのハロゲン化物であり、より好ましい化合物はアルキル基を有するゲルマニウム、スズ、アンチモンの塩化物である。さらに好ましい化合物は、具体的にはジブチルスズジクロライド、ブチルスズトリクロライド、ジオクチルスズジクロライド、オクチルスズトリクロライド、ジブチルジクロロゲルマニウム、ブチルトリクロロゲルマニウム、ジフェニルジクロロゲルマニウム、フェニルトリクロロゲルマニウム、トリフェニルアンチモンジクロライドであり、最も好ましい化合物の具体例は、ジブチルスズジクロライドである。重合調整剤は、単独でも、２種類以上を混合して使用しても良い。
重合調整剤の添加量は、通常は光学材料用組成物全量に対して、０．０００１〜５．０ｗｔ％であり、好ましくは０．０００５〜３．０ｗｔ％であり、より好ましくは０．００１〜２．０ｗｔ％である。

また、本発明の第１の態様の光学材料用組成物を重合硬化して光学材料を得るに際して、公知の酸化防止剤、紫外線吸収剤、ブルーイング剤等の添加剤を加えて、得られる材料の実用性をより向上せしめることはもちろん可能である。
酸化防止剤の好ましい例としてはフェノール誘導体が挙げられる。中でも好ましい化合物は多価フェノール類、ハロゲン置換フェノール類であり、より好ましい化合物はカテコール、ピロガロール、アルキル置換カテコール類であり、最も好ましい化合物はカテコール、ピロガロールである。紫外線防止剤の好ましい例としては、ベンゾトリアゾール系化合物が挙げられる。中でも好ましい化合物の具体例は、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２H−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２H−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロ−２H−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチル−２−ヒドロキシフェニル）−２H−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２H−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２H−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−２H−ベンゾトリアゾールである。ブルーイング剤の好ましい例としてはアントラキノン系化合物が挙げられる。

また、本発明の第１の態様の光学材料用組成物が重合中に型から剥がれやすい場合は、公知の外部および／または内部密着性改善剤を使用または添加して、得られる硬化物と型の密着性を制御、向上せしめることも可能である。密着性改善剤としては、公知のシランカップリング剤やチタネート化合物類などが挙げられ、これらは単独でも、２種類以上を混合して用いてもかまわない。添加量は通常、光学材料用組成物全量に対して０．０００１〜５ｗｔ％である。逆に、本発明の第１の態様の光学材料用組成物が重合後に型から剥がれにくい場合は、公知の外部および／または内部離型剤を使用または添加して、得られる硬化物の型からの離型性を向上せしめることも可能である。離型剤とは、フッ素系ノニオン界面活性剤、シリコン系ノニオン界面活性剤、燐酸エステル、酸性燐酸エステル、オキシアルキレン型酸性燐酸エステル、酸性燐酸エステルのアルカリ金属塩、オキシアルキレン型酸性燐酸エステルのアルカリ金属塩、高級脂肪酸の金属塩、高級脂肪酸エステル、パラフィン、ワックス、高級脂肪族アミド、高級脂肪族アルコール、ポリシロキサン類、脂肪族アミンエチレンオキシド付加物などが挙げられ、これらは単独でも、２種類以上を混合して用いてもかまわない。添加量は通常、光学材料用組成物全量に対して０．０００１〜５ｗｔ％である。

本発明の第１の態様の光学材料用組成物を重合硬化して光学材料を製造する方法は、さらに詳しく述べるならば以下の通りである。前述した各組成成分、酸化防止剤、紫外線吸収剤、重合触媒、ラジカル重合開始剤、密着性改善剤、離型剤などの添加剤を、全て同一容器内で同時に撹拌下に混合しても、各原料を段階的に添加混合しても、数成分を別々に混合後さらに同一容器内で再混合しても良い。各原料および副原料はいかなる順序で混合してもかまわない。混合にあたり、設定温度、これに要する時間等は基本的には各成分が十分に混合される条件であれば良い。

上述の反応、処理がなされた光学材料用組成物は、ガラスや金属製の型に注入され、加熱や紫外線などの活性エネルギー線の照射によって重合硬化反応が進められた後、型から外される。このようにして、光学材料が製造される。光学材料用組成物は、好ましくは加熱によって重合硬化され、光学材料が製造される。この場合、硬化時間は０．１〜２００時間、通常１〜１００時間であり、硬化温度は−１０〜１６０℃、通常−１０〜１４０℃である。重合は、所定の重合温度で所定時間のホールド、０．１℃〜１００℃／時間の昇温、０．１℃〜１００℃／時間の降温およびこれらの組み合わせで行うことができる。また、本発明の光学材料の製造方法において、重合終了後に、硬化物に対して５０〜１５０℃の温度で１０分〜５時間程度アニール処理を施すことは、光学材料の歪を除くために好ましい処理である。さらに必要に応じて染色、ハードコート、耐衝撃性コート、反射防止、防曇性付与等表面処理を行うことができる。
本発明の光学材料は例えば光学レンズとして使用できる。

次に、本発明の第２の態様（好ましい態様）について説明する。
本発明の第２の態様は、下記（１）式で表される構造を有し、アセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下である（ａ）化合物（エピスルフィド化合物）、（ｂ）ポリイソシアネート化合物、及び（ｃ）ポリチオール化合物を含む光学材料用組成物である。

（式中、ｍは０〜４の整数を表し、ｎは０または１の整数を表す。）
以下、本発明の第２の態様に用いる原料、即ち（ａ）化合物、（ｂ）ポリイソシアネート化合物、及び（ｃ）ポリチオール化合物について詳細に説明する。
本発明の第２の態様で使用する（ａ）化合物は、上記（１）式で表される構造を有する化合物である。（ａ）化合物の添加量は、（ａ）〜（ｃ）化合物の合計を１００重量％とした場合、通常は５０〜９５重量％であり、好ましくは５５〜９０重量％、特に好ましくは６０〜８５重量％である。（ａ）化合物の添加量が５０重量％を下回ると耐熱性が低下する場合があり、９５重量％を超えると強度が低下する場合がある。
（ａ）化合物の具体例としては、ビス（β−エピチオプロピル）スルフィド、ビス（β−エピチオプロピル）ジスルフィド、ビス（β−エピチオプロピルチオ）メタン、１，２−ビス（β−エピチオプロピルチオ）エタン、１，３−ビス（β−エピチオプロピルチオ）プロパン、１，４−ビス（β−エピチオプロピルチオ）ブタンなどのエピスルフィド類が挙げられる。（ａ）化合物は単独でも、２種類以上を混合して用いてもかまわない。
中でも好ましい化合物は、ビス（β−エピチオプロピル）スルフィド（（１）式でｎ＝０）、ビス（β−エピチオプロピル）ジスルフィド（（１）式でｍ＝０、ｎ＝１）であり、最も好ましい化合物は、ビス（β−エピチオプロピル）スルフィド（（１）式でｎ＝０）である。

本発明の第２の態様で使用する（ｂ）ポリイソシアネート化合物の添加量は、（ａ）〜（ｃ）化合物の合計を１００重量％とした場合、通常は１〜２５重量％であり、好ましくは２〜２５重量％、特に好ましくは５〜２０重量％である。（ｂ）化合物の添加量が１重量％を下回ると強度が低下する場合があり、２５重量％を超えると色調が低下する場合がある。本発明の第２の態様で使用する（ｂ）化合物は単独でも、２種類以上を混合して用いてもかまわない。
（ｂ）化合物の具体例としては、ジエチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、イソホロンジイソシアネート、２，６−ビス（イソシアネートメチル）デカヒドロナフタレン、リジントリイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ｏ−トリジンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ジフェニルエーテルジイソシアネート、３−（２’−イソシアネートシクロヘキシル）プロピルイソシアネート、イソプロピリデンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、２，２’−ビス（４−イソシアネートフェニル）プロパン、トリフェニルメタントリイソシアネート、ビス（ジイソシアネートトリル）フェニルメタン、４，４’，４’’−トリイソシアネート−２，５−ジメトキシフェニルアミン、３，３’−ジメトキシベンジジン−４，４’−ジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート、４，４’−ジイソシアネートビフェニル、４，４’−ジイソシアネート−３，３’−ジメチルビフェニル、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート、１，１’−メチレンビス（４−イソシアネートベンゼン）、１，１’−メチレンビス（３−メチル−４−イソシアネートベンゼン）、ｍ−キシリレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ｐ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、１，３−ビス（２−イソシアネート−２−プロピル）ベンゼン、２，６−ビス（イソシアネートメチル）ナフタレン、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ビス（イソシアネートメチル）テトラヒドロジシクロペンタジエン、ビス（イソシアネートメチル）ジシクロペンタジエン、ビス（イソシアネートメチル）テトラヒドロチオフェン、ビス（イソシアネートメチル）ノルボルネン、ビス（イソシアネートメチル）アダマンタン、チオジエチルジイソシアネート、チオジプロピルジイソシアネート、チオジヘキシルジイソシアネート、ビス〔（４−イソシアネートメチル）フェニル〕スルフィド、２，５−ジイソシアネート−１，４−ジチアン、２，５−ジイソシアネートメチル−１，４−ジチアン、２，５−ジイソシアネートメチルチオフェン、ジチオジエチルジイソシアネート、およびジチオジプロピルジイソシアネートを挙げることができる。
好ましい（ｂ）化合物としては、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ｐ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、ビス（イソシアネートメチル）ノルボルネン、および２，５−ジイソシアナートメチル−１，４−ジチアンが挙げられる。特に好ましい（ｂ）化合物としては、イソホロンジイソシアネートｍ−キシリレンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、ビス（イソシアネートメチル）ノルボルネン、２，５−ジイソシアナートメチル−１，４−ジチアンが挙げられる。

本発明の第２の態様で使用する（ｃ）ポリチオール化合物の添加量は、（ａ）〜（ｃ）化合物の合計を１００重量％とした場合、通常は１〜２５重量％であり、好ましくは２〜２５重量％、特に好ましくは５〜２０重量％である。（ｃ）化合物の添加量が１重量％を下回ると耐酸化性が低下する場合があり、２５重量％を超えると耐熱性が低下する場合がある。本発明の第２の態様で使用する（ｃ）化合物は単独でも、２種類以上を混合して用いてもかまわない。
（ｃ）化合物の具体例としては、メタンジチオール、メタントリチオール、１，２−ジメルカプトエタン、１，２−ジメルカプトプロパン、１，３−ジメルカプトプロパン、２，２−ジメルカプトプロパン、１，４−ジメルカプトブタン、１，６−ジメルカプトヘキサン、ビス（２−メルカプトエチル）エーテル、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、１，２−ビス（２−メルカプトエチルオキシ）エタン、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）エタン、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール、１，３−ジメルカプト−２−プロパノール、１，２，３−トリメルカプトプロパン、２−メルカプトメチル−１，３−ジメルカプトプロパン、２−メルカプトメチル−１，４−ジメルカプトブタン、２−（２−メルカプトエチルチオ）−１，３−ジメルカプトプロパン、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、２，４−ジメルカプトメチル−１，５−ジメルカプト−３−チアペンタン、４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、１，１，１−トリス（メルカプトメチル）プロパン、テトラキス（メルカプトメチル）メタン、エチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ジエチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−ブタンジオールビス（２−メルカプトアセテート）、１，４−ブタンジオールビス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスメルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、１，２−ジメルカプトシクロヘキサン、１，３−ジメルカプトシクロヘキサン、１，４−ジメルカプトシクロヘキサン、１，３−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（メルカプトメチル）シクロヘキサン、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン、２，５−ビス（２−メルカプトエチルチオメチル）−１，４−ジチアン、２，５−ジメルカプトメチル−１−チアン、２，５−ジメルカプトエチル−１−チアン、２，５−ジメルカプトメチルチオフェン、１，２−ジメルカプトベンゼン、１，３−ジメルカプトベンゼン、１，４−ジメルカプトベンゼン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、２，２’−ジメルカプトビフェニル、４、４’−ジメルカプトビフェニル、ビス（４−メルカプトフェニル）メタン、２，２−ビス（４−メルカプトフェニル）プロパン、ビス（４−メルカプトフェニル）エーテル、ビス（４−メルカプトフェニル）スルフィド、ビス（４−メルカプトフェニル）スルホン、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）メタン、２，２−ビス（４−メルカプトメチルフェニル）プロパン、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）エーテル、ビス（４−メルカプトメチルフェニル）スルフィド、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、３，４−チオフェンジチオール、１、１、３、３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパンを挙げることができる。
これらのなかで好ましい具体例は、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、４、８−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、４、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、５、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、１、１、３、３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート）、トリメチロールプロパントリスメルカプトプロピオネートであり、より好ましくは、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、２，５−ビス（２−メルカプトメチル）−１，４−ジチアン、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレートであり、最も好ましい化合物は、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンである。

さらに、（ｂ）化合物のＮＣＯ基に対する（ｃ）化合物中のＳＨ基の割合、即ち［（ｃ）化合物のＳＨ基数／（ｂ）化合物のＮＣＯ基数］（ＳＨ基／ＮＣＯ基）は、好ましくは１．０〜２．５であり、より好ましくは１．２５〜２．２５であり、さらに好ましくは１．５〜２．０である。上記割合が１．０を下回ると硬化物が黄色く着色する場合があり、２．５を上回ると耐熱性が低下する場合がある。

本発明の第２の態様の光学材料用組成物を重合硬化して光学材料を得るに際して、（ａ）化合物、（ｂ）化合物、及び（ｃ）化合物に重合触媒を添加することが好ましい。重合触媒としてはオニウム塩、特に第４級アンモニウム塩、第４級ホスホニウム塩、第３級スルホニウム塩、第２級ヨードニウム塩が好ましく、中でも光学材料用樹脂組成物との相溶性の良好な第４級アンモニウム塩および第４級ホスホニウム塩がより好ましく、第４級ホスホニウム塩がさらに好ましい。より好ましい重合触媒としては、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、セチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、１−ｎ−ドデシルピリジニウムクロライド等の第４級アンモニウム塩、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド等の第４級ホスホニウム塩が挙げられる。これらの中で、さらに好ましい重合触媒は、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロマイドであり、最も好ましい重合触媒は、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロマイドである。
重合触媒の添加量は、組成物の成分、混合比および重合硬化方法によって変化するため一概には決められないが、（ａ）化合物、（ｂ）化合物、及び（ｃ）化合物の合計１００重量％に対して、通常は０．０００１重量％〜１０重量％、好ましくは０．００１重量％〜５重量％、より好ましくは０．０１重量％〜１重量％、最も好ましくは０．０１重量％〜０．５重量％である。重合触媒の添加量が１０重量％より多いと急速に重合し着色が生じる場合がある。また、重合触媒の添加量が０．０００１重量％より少ないと光学材料用樹脂組成物が十分に硬化せず耐熱性が不良となる場合がある。

また、本発明の製造方法で光学材料を製造する際、（ａ）化合物、（ｂ）化合物、及び（ｃ）化合物に公知の酸化防止剤、紫外線吸収剤、黄変防止剤、ブルーイング剤、顔料等の添加剤を加え、得られる光学材料の実用性をより向上せしめることはもちろん可能である。
酸化防止剤の好ましい例としてはフェノール誘導体が挙げられる。中でも好ましい化合物は多価フェノール類、ハロゲン置換フェノール類であり、より好ましい化合物はカテコール、ピロガノール、アルキル置換カテコール類であり、最も好ましい化合物はカテコールである。
紫外線吸収剤の好ましい例としてはベンゾトリアゾール系化合物であり、特に好ましい化合物は、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールである。
これら酸化防止剤および紫外線吸収剤の添加量は、通常、（ａ）〜（ｃ）化合物の合計１００重量％に対してそれぞれ０．０１〜５重量％である。

本発明の第２の態様の光学材料用樹脂組成物を重合硬化させる際に、ポットライフの延長や重合発熱の分散化などを目的として、必要に応じて（ａ）化合物、（ｂ）化合物、及び（ｃ）化合物に重合調整剤を添加することができる。重合調整剤は、長期周期律表における第１３〜１６族のハロゲン化物を挙げることができる。これらのうち好ましいものは、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、アンチモンのハロゲン化物であり、より好ましいものはアルキル基を有するゲルマニウム、スズ、アンチモンの塩化物である。さらに好ましい化合物は、ジブチルスズジクロライド、ブチルスズトリクロライド、ジオクチルスズジクロライド、オクチルスズトリクロライド、ジブチルジクロロゲルマニウム、ブチルトリクロロゲルマニウム、ジフェニルジクロロゲルマニウム、フェニルトリクロロゲルマニウム、トリフェニルアンチモンジクロライドであり、最も好ましい化合物は、ジブチルスズジクロライドである。重合調整剤は単独でも２種類以上を混合して使用してもかまわない。
重合調整剤の添加量は、（ａ）〜（ｃ）化合物の総計１００重量％に対して、０．０００１〜５．０重量％であり、好ましくは０．０００５〜３．０重量％であり、より好ましくは０．００１〜２．０重量％である。重合調整剤の添加量が０．０００１重量％よりも少ない場合、得られる光学材料において充分なポットライフが確保できず、重合調整剤の添加量が５．０重量％よりも多い場合は、光学材料用樹脂組成物が充分に硬化せず、得られる光学材料の耐熱性が低下する場合がある。

このようにして得られた光学材料用樹脂組成物はモールド等の型に注型し、重合させて光学材料とする。
本発明の第２の態様の光学材料用樹脂組成物の注型に際し、０．１〜５μｍ程度の孔径のフィルター等で不純物を濾過し除去することは、本発明の光学材料の品質を高める上からも好ましい。
本発明の第２の態様の光学材料用樹脂組成物の重合は通常、以下のようにして行われる。即ち、硬化時間は通常１〜１００時間であり、硬化温度は通常−１０℃〜１４０℃である。重合は所定の重合温度で所定時間保持する工程、０．１℃〜１００℃／ｈの昇温を行う工程、０．１℃〜１００℃／ｈの降温を行う工程によって、又はこれらの工程を組み合わせて行う。
また、硬化終了後、得られた光学材料を５０〜１５０℃の温度で１０分〜５時間程度アニール処理を行うことは、本発明の光学材料の歪を除くために好ましい処理である。さらに得られた光学材料に対して、必要に応じて染色、ハードコート、耐衝撃性コート、反射防止、防曇性付与等の表面処理を行ってもよい。
本発明の光学材料は例えば光学レンズとして使用できる。

以下、実施例により本発明（第１の態様及び第２の態様）を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、評価は以下の方法で行った。
アセトン濁度値：東京電色製 Ｔ−２６００ＤＡ濁度計を用い、エピスルフィド化合物をアセトンに溶解させた際の溶液濁度（アセトン濁度）値を測定した。
透明性：光学材料用組成物の重合により製造された光学材料により、レンズ径が７０ｍｍ、度数が＋５Ｄのレンズを１０枚作製し、暗室内で蛍光灯下、観察した。すべて白濁が観測されないものをE(Excellent)、９枚白濁が観測されないものをG(Good)、７または８枚白濁が観測されないものをF(Fair)、白濁が観測されないものが６枚以下をP(Poor)とした。F以上が合格である。
（ａ）化合物（エピスルフィド化合物）：選別によりアセトン濁度値が０．４９ｐｐｍ、１．１ｐｐｍ、２．７ｐｐｍ、５．１ｐｐｍであるビス（β−エピチオプロピル）スルフィドを用いた。

実施例１Ａ
アセトン濁度値が０．４９ｐｐｍであったビス（β−エピチオプロピル）スルフィドを用いて、下記の製法Ａに従って、本発明の光学材料用組成物および光学材料を作製した。得られた光学材料の透明性の結果は良好でありEであった。結果を表１にまとめた。

実施例２Ａ〜６Ａ
アセトン濁度値が表１に示す値であったビス（β−エピチオプロピル）スルフィドを用いて、表１に示す製法によって本発明の光学材料用組成物および光学材料を作製した。結果を表１に示す。

比較例１Ａ〜２Ａ
アセトン濁度値が表１に示す値であったビス（β−エピチオプロピル）スルフィドを用いて、表１に示す製法によって光学材料用組成物および光学材料を作製した。結果を表１に示す。

なお、上記実施例および比較例で用いた光学材料組成物ならびに光学材料の製法の詳細は以下の通りである。
製法Ａ：ビス（β−エピチオプロピル）スルフィド７８重量部、及び硫黄１４重量部にメルカプトメチルイミダゾール０．５重量部を加え、６０℃で予備的に重合反応させた。この時の硫黄の消費率は、ＨＰＬＣ分析（ＧＰＣモード）の結果５０％であった。その後２０℃に冷却したのち、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド７重量部、ジブチルスズジクロライド０．２重量部、及びテトラメチルホスホニウムブロマイド０．０３重量部の混合液を加え、均一に混合したのち脱気処理を行い、光学材料用組成物を調製した。そして、その光学材料用組成物をモールドへ注入し、２０℃から１００℃まで２０時間かけて加熱し重合硬化させた。その後脱型アニール処理を行い、光学材料を得た。
製法Ｂ：ビス（β−エピチオプロピル）スルフィド７８重量部、及び硫黄１４重量部にメルカプトメチルイミダゾール０．５重量部を加え、６０℃で予備的に重合反応させた。この時の硫黄の消費率は、ＨＰＬＣ分析（ＧＰＣモード）の結果４６％であった。その後２０℃に冷却したのち、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン７重量部、ジブチルスズジクロライド０．２重量部、及びテトラメチルホスホニウムブロマイド０．０３重量部の混合液を加え、均一に混合したのち脱気処理を行い、光学材料用組成物を調製した。そして、その光学材料用組成物をモールドへ注入し、２０℃から１００℃まで２０時間かけて加熱し重合硬化させた。その後脱型アニール処理を行い、光学材料を得た。

実施例１Ｂ
アセトン濁度値が０．４９ｐｐｍの（ａ）ビス（β−エピチオプロピル）スルフィド １３２０ｇ、（ｂ）イソホロンジイソシアネート３４０ｇ、及び（ｃ）ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド３４０ｇに、紫外線吸収剤として、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール２０ｇ、離型剤のゼレックＵＮ（Ｓｔｅｐａｎ社製）０．２ｇ、重合触媒としてテトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロマイド２ｇを加え、２０℃でよく混合し、均一とした。ついで４ｋＰａの真空度で脱気を行い、２枚のガラス板とテープから構成される、モールド径７５ｍｍ、中心厚７ｍｍ、コバ厚１５ｍｍのセミレンズ用モールドに光学材料用樹脂組成物を注入し、３０℃で３０時間加熱し、１００℃まで１０時間かけて一定速度で昇温させ、最後に１００℃で１時間加熱し、重合硬化させた。放冷後、モールドから離型し、１１０℃で６０分アニール処理したのち、透明性を目視で観察した。得られた光学材料の透明性の評価を表２に示した。なお、（ｂ）化合物のＮＣＯ基に対する（ｃ）化合物のＳＨ基の割合、即ち［（ｃ）化合物のＳＨ基数／（ｂ）化合物のＮＣＯ基数］（ＳＨ基／ＮＣＯ基）は、１．４であった。

実施例２Ｂ〜６Ｂ
アセトン濁度値が表２に示す値であった（ａ）化合物を用いて実施例１Ｂを繰り返した。得られた光学材料の透明性の評価を表２に示した。

比較例１Ｂ〜２Ｂ
アセトン濁度値が表２に示す値であった（ａ）化合物を用いて実施例１Ｂを繰り返した。得られた光学材料の透明性の評価を表２に示した。

上述の実施例においては、アセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下であるという条件を満たすエピスルフィド化合物を用いた光学材料用組成物を重合させることにより、硬化後の白濁を防止し、良好な透明度を実現することができた。従って本発明によれば、重合反応の前に、予め、重合硬化後における白濁発生の有無の予測、良否を判断し、良好な性状の光学材料のみを選択的に製造できる。このため、光学材料用組成物の有効活用と、優れた光学材料の製造とがいずれも可能である。

Claims (17)

1. アセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下のエピスルフィド化合物を含有することを特徴とする光学材料用組成物。
2. さらに硫黄を含有する、請求項１に記載の光学材料用組成物。
3. 前記エピスルフィド化合物と前記硫黄とが予備的に重合されている、請求項２に記載の光学材料用組成物。
4. 前記硫黄の１０％以上がエピスルフィド化合物と予備的に重合されている、請求項２または３に記載の光学材料用組成物。
5. さらにポリチオール化合物を含有する、請求項２から４のいずれかに記載の光学材料用組成物。
6. 脱気処理されている、請求項１から５のいずれかに記載の光学材料用組成物。
7. 前記エピスルフィド化合物が、下記（１）式で表される構造を有する（ａ）化合物である、請求項１に記載の光学材料用組成物。
   

   

   （式中、ｍは０〜４の整数を表し、ｎは０または１の整数を表す。）
8. 更に、（ｂ）ポリイソシアネート化合物、および（ｃ）ポリチオール化合物を含む、請求項７に記載の光学材料用組成物。
9. 前記（ｂ）化合物が、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ｐ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアネナートメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、ビス（イソシアネートメチル）ノルボルネン、および２，５−ジイソシアナートメチル−１，４−ジチアンからなる群より選ばれる少なくとも１種以上の化合物であり、
   前記（ｃ）化合物が、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン、１，３−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、４、８−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、４、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、５、７−ジメルカプトメチル−１、１１−ジメルカプト−３、６、９−トリチアウンデカン、１、１、３、３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート）、およびトリメチロールプロパントリスメルカプトプロピオネートからなる群より選ばれる少なくとも１種以上の化合物である、請求項８に記載の光学材料用組成物。
10. （ａ）化合物、（ｂ）化合物、および（ｃ）化合物の総量を１００重量％とした時、（ａ）化合物が５０〜９５重量％、（ｂ）化合物が１〜２５重量％、（ｃ）化合物が１〜２５重量％であり、かつ（ｂ）化合物のＮＣＯ基に対する（ｃ）化合物のＳＨ基の割合、即ち［（ｃ）化合物のＳＨ基数／（ｂ）化合物のＮＣＯ基数］（ＳＨ基／ＮＣＯ基）が、１．０〜２．５である、請求項８または９に記載の光学材料用組成物。
11. 請求項１から１０のいずれかに記載の光学材料用組成物を重合硬化することを特徴とする光学材料の製造方法。
12. 請求項８から１０のいずれかに記載の光学材料用組成物に、重合触媒としてオニウム塩を（ａ）〜（ｃ）化合物の全量に対して０．０００１重量％〜１０重量％添加し、重合硬化する光学材料の製造方法。
13. 光学材料用組成物の重合硬化後にアニール処理を施す、請求項１１または１２に記載の光学材料の製造方法。
14. 請求項１１から１３のいずれかに記載の光学材料の製造方法により得られる光学材料。
15. 請求項１４に記載の光学材料を含む光学レンズ。
16. エピスルフィド化合物製造品から光学材料用原料を製造する方法であって、アセトン濁度値が３．０ｐｐｍ以下であるエピスルフィド化合物製造品を選別して光学材料用原料とすることを特徴とする光学材料用原料の製造方法。
17. 前記エピスルフィド化合物が、下記（１）式で表される構造を有する（ａ）化合物である、請求項１６に記載の光学材料用原料の製造方法。
    

    

    （式中、ｍは０〜４の整数を表し、ｎは０または１の整数を表す。）