JPWO2015080098A1 - 半導体用樹脂組成物および半導体用樹脂フィルムならびにこれらを用いた半導体装置 - Google Patents
半導体用樹脂組成物および半導体用樹脂フィルムならびにこれらを用いた半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2015080098A1 JPWO2015080098A1 JP2014557638A JP2014557638A JPWO2015080098A1 JP WO2015080098 A1 JPWO2015080098 A1 JP WO2015080098A1 JP 2014557638 A JP2014557638 A JP 2014557638A JP 2014557638 A JP2014557638 A JP 2014557638A JP WO2015080098 A1 JPWO2015080098 A1 JP WO2015080098A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- semiconductor
- resin composition
- weight
- polyimide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L79/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
- C08L79/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08L79/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1003—Preparatory processes
- C08G73/1007—Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines
- C08G73/101—Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines containing chain terminating or branching agents
- C08G73/1017—Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines containing chain terminating or branching agents in the form of (mono)amine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1042—Copolyimides derived from at least two different tetracarboxylic compounds or two different diamino compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1046—Polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1057—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain
- C08G73/106—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1057—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain
- C08G73/1064—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain containing sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1067—Wholly aromatic polyimides, i.e. having both tetracarboxylic and diamino moieties aromatically bound
- C08G73/1071—Wholly aromatic polyimides containing oxygen in the form of ether bonds in the main chain
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1075—Partially aromatic polyimides
- C08G73/1082—Partially aromatic polyimides wholly aromatic in the tetracarboxylic moiety
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/20—Manufacture of shaped structures of ion-exchange resins
- C08J5/22—Films, membranes or diaphragms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L21/00—Compositions of unspecified rubbers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D179/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09D161/00 - C09D177/00
- C09D179/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C09D179/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J163/00—Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J179/00—Adhesives based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09J161/00 - C09J177/00
- C09J179/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C09J179/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J9/00—Adhesives characterised by their physical nature or the effects produced, e.g. glue sticks
- C09J9/02—Electrically-conducting adhesives
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L21/6836—Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L24/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
- C09J2203/326—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for bonding electronic components such as wafers, chips or semiconductors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
- C09J2301/40—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components
- C09J2301/408—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components additives as essential feature of the adhesive layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2463/00—Presence of epoxy resin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2479/00—Presence of polyamine or polyimide
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2221/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
- H01L2221/67—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L2221/683—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L2221/68304—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L2221/68327—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/29198—Material with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials in the form of a matrix with a filler, i.e. being a hybrid material, e.g. segmented structures, foams
- H01L2224/29199—Material of the matrix
- H01L2224/2929—Material of the matrix with a principal constituent of the material being a polymer, e.g. polyester, phenolic based polymer, epoxy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
Description
a:半導体用樹脂組成物中で無機粒子の分散性が悪く、無機粒子同士が凝集する。
b:半導体用樹脂組成物を離型性プラスチックフィルム上に形成して半導体用樹脂フィルムとする場合に、ロール状に巻き取ると、半導体用樹脂フィルムの割れや離型性プラスチックフィルムから脱落する。
スチレン共重合物からなる“パラロイド(登録商標)”EXL−2655(呉羽化学工業
(株)製)、アクリル酸エステル・メタクリル酸エステル共重合体からなる“スタフィロ
イド(登録商標)”AC−3355、TR−2122(以上、武田薬品工業(株)製)、
アクリル酸ブチル・メタクリル酸メチル共重合物からなる“PARALOID(登録商標
)”EXL−2611、EXL−3387(以上、Rohm&Haas社製)、“カネエ
ース(登録商標)”MX113(カネカ(株)製)等を使用することができる。
式中、R1は2価の炭化水素基である。R1は、好ましくは炭素数1〜5のアルキレン基、またはフェニレン基である。R2は1価の炭化水素基である。R2は、好ましくは炭素数1〜5のアルキル基、またはフェニル基である。(c)ポリイミドは1種類のR1および1種類のR2を含むポリイミドでも良いし、複数種類のR1および/または複数種類のR2を含むポリイミドでも良い。また、(c)ポリイミドは異なる構造のR1および/または異なる構造のR2を含む複数種類のポリイミドを混合していても良い。また、複数種類のR1および/または複数種類のR2を含むポリイミドにおいて、複数種類のR1の比および/または複数種類のR2の比が異なる複数種類のポリイミドを混合していても良い。
式中、R3は4〜14価の有機基であり、R4は2〜12価の有機基であって、R3、R4の少なくとも一つは1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロピル基、イソプロピル基、エーテル基、チオエーテル基およびSO2基からなる群より選ばれる基(以下、この群より選ばれる基を「特定基」という)を少なくとも一つ含有する。またR3、R4は芳香族基を含有することが好ましい。R5およびR6は、フェノール性水酸基、スルホン酸基およびチオール基からなる群より選ばれる基を少なくとも一つ有する有機基を示す。
ケトン系溶剤のアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン。
エーテル系溶剤の1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジグライム。
グリコールエーテル系溶剤のメチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル。
その他の溶剤のベンジルアルコール、N−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミド。
検出器:Waters996
システムコントローラー:Waters2690
カラムオーブン:Waters HTR−B
サーモコントローラー:Waters TCM
カラム:TOSOH grard comn
カラム:TOSOH TSK−GEL α−4000
カラム:TOSOH TSK−GEL α−2500などが挙げられる。
実施例1〜9で得られた半導体用樹脂組成物1〜9および比較例1〜4で得られた比較用樹脂組成物1〜4を、4インチのシリコンウエハ上にアプリケータで塗工し、100℃のホットプレート上で10分間乾燥させ、膜厚およそ40μmの半導体用樹脂層をシリコンウエハ上に形成した。半導体用樹脂層を形成したウエハの一部をエポキシ樹脂に包埋、研磨することで評価サンプルを作製した。包埋樹脂にはストルアス社製Claro Cit PowderおよびClaro Cit Liquidの5:3混合物を用いた。この混合物に塗膜を形成したウエハの一部を入れ、約1時間静置して樹脂を硬化させた。樹脂包埋したウエハの断面が出るように研磨を行い評価サンプルとした。研磨装置はストルアス社製TegraPol−21を用いた。研磨紙にはDP−Nap、研磨剤にはDP−懸濁液P(1μm)、潤滑剤にはDP−ルーブリカントを用いた。得られた評価サンプルを走査型電子顕微鏡(SEM、日本電子株式会社製JSM−6510A)で観察した。得られたSEM像において、一辺がウエハ面と隣接しており各辺の長さが膜厚の10分の1である正方形で囲まれたエリアの面積における無機粒子の断面積の割合と、ウエハと反対側の膜上部面と隣接しており各辺の長さが膜厚の10分の1である正方形で囲まれたエリアの面積における無機粒子の断面積の割合を比較し、その差が5倍以内である場合は無機粒子の分布が均一、5倍より大きい場合には無機粒子の分布が不均一と判断できる。
実施例1〜9で得られた半導体用樹脂組成物1〜9および比較例1〜4で得られた比較用樹脂組成物1〜4を、スリットダイコーター(塗工機)を用いて、剥離性基材として厚さ37.5μmのポリイミドフィルム(商品名、カプトン150EN−C)に乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布し、80℃で10分間乾燥を行った。得られた半導体用樹脂フィルム上に表面保護用剥離性基材として厚さ8μmのポリプロピレンフィルム(商品名、トレファンBO型番YK57、片面コロナ放電処理品)の未処理面を、加熱ロール温度35℃でラミネートし、外径9.6cmの紙管上に剥離性基材が内側になるようロール状に巻き取り、半導体用樹脂フィルムの両面に剥離性基材を有する原反(剥離性基材、半導体用樹脂フィルム、表面保護用剥離性基材の3層構造)を得た。
前記評価で得られた原反を8cm角サイズに切断し、真空ラミネート装置MVLP−500/600((株)名機製作所製)を用いて厚さ2mmになるまで繰り返し積層した。積層条件は、上熱盤と下熱盤の温度を90℃、真空時間を20秒、加圧力を0.3MPa、加圧時間を30秒とした。得られた積層物を200℃で15分加熱処理を行った。加熱処理した積層物をダイシング装置DAD3350((株)ディスコ製)を用いて切断し、幅2mm、長さ15mm、高さ2.5mmの直方体を作製した。直方体の線膨張係数の評価を熱・応力・歪測定装置(TMA/SS6100、エスアイアイ・ナノテクノロジーズ(株)製)を用いて行った。測定温度範囲は−50〜300℃、昇温速度は10℃/分で行った。線膨張係数はガラス転移温度(Tg)以下の温度範囲で算出した。
乾燥窒素気流下、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン(以下、APB−Nとする)4.82g(0.0165モル)、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン(以下、ABPSとする)3.08g(0.011モル)、ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン(以下、SiDAとする)4.97g(0.02モル)、末端封止剤としてアニリン0.47g(0.005モル)をNMP130gに溶解した。ここに2,2−ビス{4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル}プロパン二無水物(以下、BSAAとする)26.02g(0.05モル)をNMP20gとともに加えて、25℃で1時間反応させ、次いで50℃で4時間撹拌した。その後、180℃で5時間撹拌した。撹拌終了後、溶液を水3Lに投入し、ろ過して沈殿を回収し、水で3回洗浄した後、真空乾燥機を用いて80℃20時間乾燥した。得られたポリマー固体の赤外吸収スペクトルを測定したところ、1780cm−1付近、1377cm−1付近にポリイミドに起因するイミド構造の吸収ピークが検出された。このようにしてエポキシ基と反応可能な官能基を有し、一般式(1)で表される構造がポリイミド全量に対し11.6重量%含まれるポリイミドAを得た。4gのポリイミドAにテトラヒドロフラン6gを加え、23℃で撹拌したところ溶解した。すなわち有機溶剤可溶性であった。
固形エポキシ化合物:NC3000−H(日本化薬(株)製)
液状エポキシ化合物:YL980(三菱化学(株)製)
(b)無機粒子
SE2050((株)アドマテックス製シリカ粒子、平均粒子径0.5μm)
SE5100((株)アドマテックス製シリカ粒子、平均粒径1.5μm)
YA100C−SP3((株)アドマテックス製シリカ粒子、平均粒径0.1μm)
FB−5LDX(電気化学工業(株)製シリカ粒子、平均粒径4.2μm)
(d)溶剤
PGMEA(KHネオケム(株)製)
エチルジグリコール((株)ダイセル製)
(e)ゴム粒子
カネエースMX−113((株)カネカ製、コアシェルゴム粒子30重量%含有液状エポキシ樹脂(液状エポキシ樹脂70重量%)、コアシェルゴム粒子の平均粒子径0.1μm)
(f)エポキシ硬化剤
2PZ(四国化成工業(株)製)。
NC3000−H(日本化薬(株)製)を11.35g、SE2050((株)アドマテックス製シリカ粒子、平均粒子径0.5ミクロン)を54.60g、カネエースMX−113((株)カネカ製、コアシェルゴム粒子30重量%含有エポキシ樹脂)を4.68g、合成例1で得られたポリイミドAを6.90gおよびPGMEA(KHネオケム(株)製)を22.00g、250mLポリ容器に添加し、室温下、ボールミル架台上で96時間攪拌した。その後、2PZ(四国化成工業(株)製)を0.47gを加えさらに24時間攪拌した。保留粒子径10μmのフィルターを用いて、得られた混合液の加圧ろ過を行い、半導体用樹脂組成物1を得た。全固形分の重量(ポリイミドA、カネエースMX−113、NC3000−H、SE2050、2PZの合計の重量)のうち、SE2050の割合は70重量%である。
カネエースMX−113を4.68g用いる代わりに、カネエースMX−113を2.34gおよびYL980を2.34g用いた以外は実施例1と同様にして、半導体用樹脂組成物2を得た。
カネエースMX−113を4.68g用いる代わりに、カネエースMX−113を1.17gおよびYL980を3.51g用いた以外は実施例1と同様にして、半導体用樹脂組成物3を得た。
PGMEAをすべてエチルジグリコール((株)ダイセル製)に置き換えた以外は実施例1と同様にして、半導体用樹脂組成物4を得た。
SE2050をすべてSE5100((株)アドマテックス製シリカ粒子、平均粒径1.5μm)に置き換えた以外は実施例1と同様にして、半導体用樹脂組成物5を得た。
SE2050をすべてYA100C−SP3((株)アドマテックス製シリカ粒子、平均粒径0.1μm)に置き換えた以外は実施例1と同様にして、半導体用樹脂組成物6を得た。
SE2050をすべてFB−5LDX(電気化学工業(株)製シリカ粒子、平均粒径4.2μm)に置き換えた以外は実施例1と同様にして、半導体用樹脂組成物7を得た。
各成分の配合量を表2のとおりとして、全固形分の重量のうち、SE2050の割合が60重量%になるようにした以外は実施例1と同様にして、半導体用樹脂組成物8を得た。
各成分の配合量を表2のとおりとして、全固形分の重量のうち、SE2050の割合が90重量%になるようにした以外は実施例1と同様にして、半導体用樹脂組成物9を得た。
カネエースMX−113をすべてYL980に置き換えた以外は実施例1と同様にして、比較用樹脂組成物1を得た。
カネエースMX−113をすべてYL980に、PGMEAをすべてエチルジグリコールに置き換えた以外は実施例1と同様にして、比較用樹脂組成物2を得た。
各成分の配合量を表2のとおりとして、全固形分の重量のうち、SE2050の割合が50重量%になるようにした以外は実施例1と同様にして、比較用樹脂組成物3を得た。
各成分の配合量を表2のとおりとして、全固形分の重量のうち、SE2050の割合が95重量%になるようにした以外は実施例1と同様にして、比較用樹脂組成物4を得た。
2 半導体用樹脂層
3 比較用樹脂層
4 無機粒子が不足している領域
Claims (17)
- (a)エポキシ化合物、(b)無機粒子、(c)ポリイミドおよび(d)溶剤を含有する半導体用樹脂組成物であって、前記半導体用樹脂組成物の全重量から前記(d)溶剤の重量を除いた全固形分の重量のうち、前記(b)無機粒子の割合が60重量%以上92重量%以下であり、さらに(e)ゴム粒子を含有することを特徴とする半導体用樹脂組成物。
- 前記(c)ポリイミドが、一般式(2)または一般式(3)で表される構造を有し、かつエポキシ基と反応可能な官能基を側鎖に少なくとも一つ有し、かつ一般式(1)で表される構造を一般式(2)および一般式(3)中のR4として有し、一般式(1)で表される構造は(c)ポリイミド全量に対し5〜15重量%であることを特徴とする請求項1に記載の半導体用樹脂組成物。
- 前記(c)ポリイミドが、有機溶剤可溶性であることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体用樹脂組成物。
- 前記(b)無機粒子の平均粒子径が10nm以上、5μm以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の半導体用樹脂組成物。
- 前記(e)ゴム粒子の平均粒子径が、前記(b)無機粒子の平均粒子径以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の半導体用樹脂組成物。
- 前記(a)エポキシ化合物が、液状エポキシ化合物および固形エポキシ化合物を含有し、(a)エポキシ化合物の重量のうち、液状エポキシ化合物の割合が10〜50重量%であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の半導体用樹脂組成物。
- 前記液状エポキシ化合物100重量部に対して、前記(e)ゴム粒子が2〜100重量部であることを特徴とする請求項6に記載の半導体用樹脂組成物。
- 前記(e)ゴム粒子がコアシェルゴム粒子であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の半導体用樹脂組成物。
- 支持体上に(a)エポキシ化合物、(b)無機粒子、(c)ポリイミドを含有する半導体用樹脂層を有する半導体用樹脂フィルムであって、前記半導体用樹脂層の重量のうち、前記(b)無機粒子の割合が60重量%以上92重量%以下であり、さらに前記半導体用樹脂層が(e)ゴム粒子を含有することを特徴とする半導体用樹脂フィルム。
- 前記(c)ポリイミドが、一般式(2)または一般式(3)で表される構造を有し、かつエポキシ基と反応可能な官能基を側鎖に少なくとも一つ有し、かつ一般式(1)で表される構造を一般式(2)および一般式(3)中のR4として有し、一般式(1)で表される構造は前記(c)ポリイミド全量に対し5〜15重量%であることを特徴とする請求項9に記載の半導体用樹脂フィルム。
- 前記(c)ポリイミドが、有機溶剤可溶性であることを特徴とする請求項9または10に記載の半導体用樹脂フィルム。
- 前記(b)無機粒子の平均粒子径が10nm以上、5μm以下であることを特徴とする請求項9〜11のいずれかに記載の半導体用樹脂フィルム。
- 前記(e)ゴム粒子の平均粒子径が、前記(b)無機粒子の平均粒子径以下であることを特徴とする請求項9〜12のいずれかに記載の半導体用樹脂フィルム。
- 前記(a)エポキシ化合物が、液状エポキシ化合物および固形エポキシ化合物を含有し、前記(a)エポキシ化合物の重量のうち、液状エポキシ化合物の割合が10〜50重量%であることを特徴とする請求項9〜13のいずれかに記載の半導体用樹脂フィルム。
- 前記液状エポキシ化合物100重量部に対して、前記(e)ゴム粒子が2〜100重量部であることを特徴とする請求項14に記載の半導体用樹脂フィルム。
- 前記(e)ゴム粒子がコアシェルゴム粒子であることを特徴とする請求項9〜15のいずれかに記載の半導体用樹脂フィルム。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の半導体用樹脂組成物から(d)溶剤を除去した組成物の硬化物または請求項9〜16のいずれかに記載の半導体用樹脂層の硬化物を有する半導体装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013244675 | 2013-11-27 | ||
JP2013244675 | 2013-11-27 | ||
PCT/JP2014/081097 WO2015080098A1 (ja) | 2013-11-27 | 2014-11-25 | 半導体用樹脂組成物および半導体用樹脂フィルムならびにこれらを用いた半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2015080098A1 true JPWO2015080098A1 (ja) | 2017-03-16 |
JP6528404B2 JP6528404B2 (ja) | 2019-06-12 |
Family
ID=53199038
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014557638A Active JP6528404B2 (ja) | 2013-11-27 | 2014-11-25 | 半導体用樹脂組成物および半導体用樹脂フィルムならびにこれらを用いた半導体装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10050005B2 (ja) |
JP (1) | JP6528404B2 (ja) |
KR (1) | KR102256525B1 (ja) |
CN (1) | CN105745274B (ja) |
TW (1) | TWI648342B (ja) |
WO (1) | WO2015080098A1 (ja) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9862828B2 (en) | 2014-09-23 | 2018-01-09 | The Boeing Company | Polymer nanoparticle additions for resin modification |
US10808123B2 (en) | 2014-09-23 | 2020-10-20 | The Boeing Company | Nanoparticles for improving the dimensional stability of resins |
US9587076B2 (en) | 2014-09-23 | 2017-03-07 | The Boeing Company | Polymer nanoparticles for controlling resin reaction rates |
US10160840B2 (en) | 2014-09-23 | 2018-12-25 | The Boeing Company | Polymer nanoparticles for controlling permeability and fiber volume fraction in composites |
US10662302B2 (en) * | 2014-09-23 | 2020-05-26 | The Boeing Company | Polymer nanoparticles for improved distortion capability in composites |
US10072126B2 (en) | 2014-09-23 | 2018-09-11 | The Boeing Company | Soluble nanoparticles for composite performance enhancement |
US9845556B2 (en) | 2014-09-23 | 2017-12-19 | The Boeing Company | Printing patterns onto composite laminates |
US10472472B2 (en) | 2014-09-23 | 2019-11-12 | The Boeing Company | Placement of modifier material in resin-rich pockets to mitigate microcracking in a composite structure |
JP6728680B2 (ja) * | 2014-10-10 | 2020-07-22 | 東レ株式会社 | 耐熱性不織布およびその製造方法 |
TWI561558B (en) * | 2015-12-09 | 2016-12-11 | Taiflex Scient Co Ltd | Polyimide polymer, polyimide film, and flexible copper-coated laminate |
JP7046477B2 (ja) * | 2016-07-01 | 2022-04-04 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
US10961412B2 (en) | 2016-11-07 | 2021-03-30 | Shikoku Research Institute Incorporated | Coating composition, coating film, and coating method |
CN107916090B (zh) * | 2017-11-03 | 2020-07-28 | 浙江福斯特新材料研究院有限公司 | 一种低模量、高粘结能力的热塑性聚酰亚胺组合物及其应用和制备方法 |
KR102100016B1 (ko) * | 2017-11-20 | 2020-04-10 | 주식회사 엘지화학 | 폴리이미드 필름의 모노머 정량분석법 |
EP3807337B1 (en) * | 2018-06-15 | 2024-06-12 | Dow Global Technologies Llc | Toughened epoxy compositions |
WO2020015665A1 (zh) * | 2018-07-19 | 2020-01-23 | 东丽先端材料研究开发(中国)有限公司 | 一种半导体器件及太阳能电池 |
JP7135970B2 (ja) * | 2019-03-27 | 2022-09-13 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
JP7440224B2 (ja) * | 2019-08-21 | 2024-02-28 | 太陽ホールディングス株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
JP7387400B2 (ja) * | 2019-11-15 | 2023-11-28 | ヘンケルジャパン株式会社 | Uv熱硬化型接着剤組成物 |
CN111925765B (zh) * | 2020-08-14 | 2022-01-25 | 深圳先进电子材料国际创新研究院 | 一种环氧树脂组合物及其应用 |
JP2022060800A (ja) * | 2020-10-05 | 2022-04-15 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
TWI789796B (zh) * | 2021-06-23 | 2023-01-11 | 律勝科技股份有限公司 | 聚合物及其應用 |
WO2023276814A1 (ja) * | 2021-06-29 | 2023-01-05 | ナミックス株式会社 | エポキシ樹脂組成物、半導体装置および半導体装置の製造方法 |
CN114395149B (zh) * | 2021-11-26 | 2022-12-02 | 西安交通大学 | 苝-3,4,9,10-四羧酸二酐接枝改性聚丙烯薄膜的制备方法 |
CN116496623A (zh) * | 2023-04-06 | 2023-07-28 | 瑞声科技(南京)有限公司 | 树脂组合物、聚酰亚胺的制备方法及相关产品 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007138149A (ja) * | 2005-10-20 | 2007-06-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 接着剤組成物及び該接着剤からなる接着層を備えたシート |
JP2008308618A (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 接着剤組成物及び接着フィルム |
WO2010137442A1 (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-02 | 日立化成工業株式会社 | 接着剤組成物、接着剤シート及び半導体装置の製造方法 |
JP2010287884A (ja) * | 2009-05-15 | 2010-12-24 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 半導体チップの製造方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1895580B1 (en) * | 2005-06-06 | 2016-09-07 | Toray Industries, Inc. | Adhesive composition for semiconductor, semiconductor device making use of the same and process for producing semiconductor device |
TWI384046B (zh) * | 2005-10-20 | 2013-02-01 | Shinetsu Chemical Co | An adhesive composition and a sheet having an adhesive layer made of an adhesive |
JP2007135149A (ja) | 2005-11-14 | 2007-05-31 | Nec Corp | 移動携帯端末 |
JP2008138124A (ja) | 2006-12-04 | 2008-06-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 接着剤組成物及び接着性フィルム |
JP2008308615A (ja) | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | タイヤ用ゴム組成物 |
JP5245526B2 (ja) | 2008-05-09 | 2013-07-24 | 日立化成株式会社 | 絶縁樹脂組成物、及び支持体付絶縁フィルム |
JP2010132793A (ja) | 2008-12-05 | 2010-06-17 | Toray Ind Inc | 熱硬化性樹脂組成物、それを用いたアンダーフィル剤および半導体装置 |
JP2010287684A (ja) | 2009-06-10 | 2010-12-24 | Sharp Corp | インダクタ素子、このインダクタ素子を備えたDC(directcurrent)/DCコンバータモジュール、DC/DCコンバータモジュールの製造方法、及び電子機器 |
EP2452964A4 (en) | 2009-07-10 | 2014-06-11 | Toray Industries | LAYER COMPOSITION, ADHESIVE, PCB AND SEMICONDUCTOR DEVICE THEREFORE MADE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR |
US20120111621A1 (en) * | 2009-07-24 | 2012-05-10 | Sumitomo Bakelite Company, Ltd. | Resin composition, resin sheet, prepreg, metal-clad laminate, printed wiring board and semiconductor device |
CN102191004B (zh) * | 2010-12-31 | 2014-02-05 | 莱芜金鼎电子材料有限公司 | 一种挠性基材用的热固胶及制备方法 |
KR101863111B1 (ko) * | 2012-07-06 | 2018-06-01 | 한국생산기술연구원 | 노볼락계 에폭시 화합물, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 조성물, 경화물 및 이의 용도 |
JP6322885B2 (ja) * | 2012-11-01 | 2018-05-16 | 味の素株式会社 | プリント配線板の製造方法 |
JP2015209477A (ja) | 2014-04-25 | 2015-11-24 | 東レ株式会社 | 半導体実装用樹脂組成物およびそれからなる半導体実装用樹脂組成物シートならびにそれらを用いた半導体装置およびその製造方法 |
-
2014
- 2014-11-25 KR KR1020167015587A patent/KR102256525B1/ko active IP Right Grant
- 2014-11-25 JP JP2014557638A patent/JP6528404B2/ja active Active
- 2014-11-25 WO PCT/JP2014/081097 patent/WO2015080098A1/ja active Application Filing
- 2014-11-25 CN CN201480063798.2A patent/CN105745274B/zh active Active
- 2014-11-25 US US15/038,266 patent/US10050005B2/en active Active
- 2014-11-27 TW TW103141106A patent/TWI648342B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007138149A (ja) * | 2005-10-20 | 2007-06-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 接着剤組成物及び該接着剤からなる接着層を備えたシート |
JP2008308618A (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 接着剤組成物及び接着フィルム |
JP2010287884A (ja) * | 2009-05-15 | 2010-12-24 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 半導体チップの製造方法 |
WO2010137442A1 (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-02 | 日立化成工業株式会社 | 接着剤組成物、接着剤シート及び半導体装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20160091925A (ko) | 2016-08-03 |
TWI648342B (zh) | 2019-01-21 |
WO2015080098A1 (ja) | 2015-06-04 |
US10050005B2 (en) | 2018-08-14 |
TW201527430A (zh) | 2015-07-16 |
CN105745274A (zh) | 2016-07-06 |
US20160300810A1 (en) | 2016-10-13 |
KR102256525B1 (ko) | 2021-05-26 |
CN105745274B (zh) | 2018-06-29 |
JP6528404B2 (ja) | 2019-06-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6528404B2 (ja) | 半導体用樹脂組成物および半導体用樹脂フィルムならびにこれらを用いた半導体装置 | |
TWI571501B (zh) | 黏著劑組成物、黏著劑片及使用其之半導體裝置 | |
JP5740979B2 (ja) | 接着組成物、接着シート、それらを用いた回路基板および半導体装置ならびにそれらの製造方法 | |
TWI640593B (zh) | 接著劑、接著劑膜、半導體裝置及其製造方法 | |
JP6947032B2 (ja) | 樹脂組成物、それを用いたシート、積層体、パワー半導体装置、プラズマ処理装置および半導体の製造方法 | |
JP2013197441A (ja) | 硬化物層付き回路基板の製造方法 | |
JP6112013B2 (ja) | バンプ電極付き半導体装置製造用接着剤シートおよび半導体装置の製造方法 | |
US9617451B2 (en) | Adhesive composition and adhesive film having same, substrate provided with adhesive composition, and semiconductor device and method for manufacturing same | |
JP5103870B2 (ja) | 半導体用接着組成物、それを用いた半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
JP7192674B2 (ja) | 樹脂シート | |
JP6716939B2 (ja) | 接着剤、それからなる接着フィルム、それらの硬化物を含む半導体装置およびその製造方法 | |
TW202045614A (zh) | 樹脂組成物 | |
JP2014067789A (ja) | 未硬化接着剤層付配線基板および半導体装置の製造方法 | |
TW202233731A (zh) | 樹脂組成物、片狀組成物、片硬化物、積層體、積層構件、晶圓保持體及半導體製造裝置 | |
CN114479349A (zh) | 树脂组合物 | |
TW202421722A (zh) | 樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171020 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180710 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180903 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181226 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190416 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190429 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6528404 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |