JPWO2015052877A1 - Nail molding apparatus and nail molding method - Google Patents
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Abstract
爪(または付け爪)の表面に、光硬化性樹脂を用いて描画パターンを形成するネイル成形装置である。ネイル成形装置が、光源と、光源から射出された光線を用いて光硬化性樹脂を部分的に硬化させる光描画部と、光源および光描画部を制御する制御部とを備えることを特徴とする。このネイル成形装置では、描画パターンを容易に形成することができる。This is a nail molding apparatus that forms a drawing pattern on the surface of a nail (or an artificial nail) using a photocurable resin. A nail molding apparatus includes a light source, a light drawing unit that partially cures a photocurable resin using light emitted from the light source, and a control unit that controls the light source and the light drawing unit. . With this nail forming apparatus, a drawing pattern can be easily formed.
Description
本発明は、爪もしくは付け爪に描画を施すネイル成形装置およびネイル成形方法に関する。 The present invention relates to a nail molding apparatus and a nail molding method for drawing on a nail or an artificial nail.
爪の表面に描画を施すネイルアートは、利用者がネイルサロンで施術者に所望のデザインを描画してもらうことが一般的である。ネイル材料としては、光硬化性樹脂を材料とするジェルネイルが普及している。そして、ジェルネイルの普及に伴い、ネイルアートの需要者が増加している。 In nail art for drawing on the surface of a nail, it is common for a user to have a practitioner draw a desired design at a nail salon. As a nail material, a gel nail using a photocurable resin as a material is widespread. And with the spread of gel nails, consumers of nail art are increasing.
最近、ジェルネイルの手軽さから利用者自身でネイルアートを施す人が増えている。そして、このような利用者自身によるネイルアートをサポートする商品として、ジェルと樹脂硬化ランプをセットとするスターターキットが販売されている。 Recently, the number of users who apply nail art by themselves is increasing due to the ease of gel nails. As a product that supports such nail art by the user, a starter kit including a gel and a resin curing lamp as a set is sold.
例えば、特許文献1、2には、樹脂がされた指(爪)を樹脂硬化ランプの開口部に挿入し、開口部内に挿入した指全体に樹脂硬化ランプを照射する方法が開示されている。特許文献3には、樹脂硬化用のUV光の人体への影響を考慮し、光線の照射領域が小さいペン型の樹脂硬化ランプの構成が開示されている。特許文献4には光硬化性樹脂の種類に応じて2波長光源を有する構造が開示されている。
For example,
本発明の一態様は、ネイル成形装置として、爪または付け爪の表面に光硬化性樹脂を用いて描画パターンを形成するネイル成形装置であって、光源と、光源から射出された光線を用いて光硬化性樹脂を部分的に硬化させる光描画部と、光源および光描画部を制御する制御部と、を備える。 One embodiment of the present invention is a nail molding device that forms a drawing pattern using a photocurable resin on a surface of a nail or an artificial nail as a nail molding device, using a light source and a light beam emitted from the light source. An optical drawing unit that partially cures the photocurable resin, and a control unit that controls the light source and the optical drawing unit.
また本発明の一態様は、ネイル成形方法として、爪または付け爪の表面に光硬化性樹脂を用いて描画パターンを形成するネイル成形方法である。そして、爪または付け爪の表面に光硬化性樹脂を塗布する樹脂塗布ステップと、光硬化性樹脂を部分的に硬化させる硬化ステップと、光硬化性樹脂の未硬化部分を除去する除去ステップと、を備える。そして、硬化ステップにおいて、光源と、光源から射出された光線を用いて光硬化性樹脂を部分的に硬化させる光描画部と、光源および光描画部を制御する制御部と、を有するネイル成形装置を用いて、光硬化性樹脂を部分的に硬化させることを特徴とする。 One embodiment of the present invention is a nail molding method in which a drawing pattern is formed on a surface of a nail or an artificial nail using a photocurable resin. And a resin application step of applying a photocurable resin to the surface of the nail or artificial nail, a curing step of partially curing the photocurable resin, a removal step of removing an uncured portion of the photocurable resin, Is provided. In the curing step, the nail molding apparatus includes a light source, a light drawing unit that partially cures the photocurable resin using light emitted from the light source, and a control unit that controls the light source and the light drawing unit. Is used to partially cure the photocurable resin.
上記構成により、爪または付け爪の表面に描画パターンを容易に形成できる。 With the above configuration, a drawing pattern can be easily formed on the surface of the nail or the artificial nail.
実施の形態の説明に先立ち、従来のネイルアートの課題について説明する。 Prior to the description of the embodiment, problems of conventional nail art will be described.
従来、利用者自身によるネイルアートの描画は、利用者の描画スキルが大きく影響する。また、描画スキルが高くても、利用者自身の爪に対する描画の場合、利き手の爪に対する描画と、利き手と反対の手の爪に対する描画では描画の精度を同じにすることは難しい。 Conventionally, a user's drawing skill greatly affects the drawing of nail art by the user himself / herself. Even if the drawing skill is high, it is difficult to make the drawing accuracy the same between the drawing on the nail of the dominant hand and the drawing on the nail of the hand opposite to the dominant hand.
また、ネイルサロンで施術者が描画を行う場合であっても、描画スキルに限界がある。しかしながら、更なる高精度な描画が求められている。 Moreover, even if a practitioner performs drawing in a nail salon, there is a limit in drawing skills. However, further highly accurate drawing is required.
(実施の形態)
以下、本発明の実施の形態について図1〜図5を参照しながら説明する。(Embodiment)
Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS.
<ネイル成形装置2の構成>
図1は、爪1にネイルアートを描画する(描画パターンを形成する)ネイル成形装置2を示す模式図である。ネイル成形装置2は、爪1(または付け爪)の表面に光硬化性樹脂3を用いた描画パターンを形成するネイル成形装置2であって、光源4と、光源4から射出される光線を用いて光硬化性樹脂3を部分的に硬化させる光描画部5と、光源4および光描画部5を制御する制御部6とを備える。<Configuration of Nail Forming Apparatus 2>
FIG. 1 is a schematic diagram showing a nail forming apparatus 2 for drawing nail art on a nail 1 (forming a drawing pattern). The nail molding apparatus 2 is a nail molding apparatus 2 that forms a drawing pattern using a
本実施の形態では、紫外線硬化型の光硬化性樹脂3が用いられる。
In the present embodiment, an ultraviolet curable
光源4は、光硬化性樹脂3を硬化させる波長の光線を射出する。現在市販されているジェルネイル(光硬化性樹脂3)の大半は、硬化させるために、およそ365nm〜410nmの範囲の波長が必要である。そこで、本実施の形態では、光源4として、405nm付近に波長ピークを有する半導体レーザを用いる。また、光描画部5として、制御部6により反射角を制御する走査型の反射ミラー7を用いる。
The
走査型の反射ミラー7としては、ポリゴンミラーやガルバノミラーなど既知のミラーが用いられる。
As the
<反射ミラー7の構成>
次に、反射ミラー7の構成の詳細について図2を参照しながら説明する。<Configuration of
Next, details of the configuration of the
反射ミラー7は、アクチュエータ8とミラー部12で構成されている。アクチュエータ8は2軸駆動であり、Si基板と圧電膜を用いたMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)デバイスである。光描画部5をアクチュエータ8で形成することにより、ネイル成形装置2を小型化することができる。
The
アクチュエータ8は、矩形状の支持枠9と、支持枠9の内側に配置される矩形状の可動枠10と、可動枠10の内側に配置される矩形状の可動部11と、第1の振動部14と、第2の振動部16とを有する。可動枠10は第1の振動部14を介して支持枠9に接続される。一対の第1の振動部14は、第1の回動軸13を回動中心とする捩れ動作を行う。可動部11は第2の振動部16を介して可動枠10に接続される。第2の振動部16は、第1の回動軸13と直交する第2の回動軸15を回動中心とする捩れ動作を行う。なお、第1の振動部14には第1の駆動部17が設けられている。第1の駆動部17は制御部6と接続されている。第1の駆動部17は、制御部6からの制御信号により捩れ動作が制御される。第1の駆動部17は、図示していないがTiやAu等からなる上下電極間にPZT等からなる圧電体層を介在させた積層構造である。そして、第1の駆動部17の上下電極間に電位差を与えることで第1の振動部14に第1の回動軸13周りの捩れ動作を励起する。
The actuator 8 includes a rectangular support frame 9, a rectangular
第1の振動部14と同様に、第2の振動部16には第2の駆動部18が設けられている。第2の駆動部18は制御部6と接続されている。第2の駆動部18は、第2の振動部16に第2の回動軸15周りの捩れ動作を励起する。
Similar to the
以上のように構成されるアクチュエータ8の可動部11の表面にミラー部12が配置されており、反射ミラー7は光源4から射出された光線を2軸方向に走査することができる。
The
<ネイル成形装置2の動作>
次にネイル成形装置2の動作について図1を参照しながら説明する。<Operation of Nail Forming Apparatus 2>
Next, the operation of the nail forming apparatus 2 will be described with reference to FIG.
制御部6は、光源4と光描画部5とを制御する。制御部6は、光源4から射出される光線の照射量や照射時間、および、アクチュエータ8に設けられたミラー部12の反射角度等を制御する。そして、爪1の表面に塗布された光硬化性樹脂3の表面に光線が走査され、光硬化性樹脂3が部分的に硬化する。このようにして、描画パターンが形成される。
The
なお、描画パターンを形成するにあたり、図3に示すように、描画パターンに粗密がある場合、描画パターンが密な領域は粗な領域に比べパターン潰れが発生しやすい。このパターン潰れは、照射される光線が光硬化性樹脂3の内部で拡散することによる滲みが原因と考えられる。したがって、密な描画パターンが形成される時と、粗な描画パターンが形成される時とで、同様の制御を行うと、次のような問題が発生する。もし、密な描画パターンに適した描画条件を設定して、粗な描画パターンを形成すると、露光が足りずに粗な描画パターンがうまく形成できない。
In forming a drawing pattern, as shown in FIG. 3, when the drawing pattern is dense and dense, a region where the drawing pattern is dense is more likely to be crushed than a rough region. This pattern collapse is considered to be caused by bleeding due to diffusion of irradiated light inside the
しかしながら、上述した走査型の反射ミラー7を用いたネイル成形装置2は、制御部6が光源4と光描画部5を制御し、光硬化性樹脂3を部分的に硬化させることができる。フォトマスクでの露光とは異なり、本実施の形態のネイル成形装置2は、描画領域を細分化した単位区画ごとに制御条件を設定することができる。これによって、描画パターンに粗密がある場合でも、密な描画パターンが形成される描画領域と粗な描画パターンが形成される描画領域とで、制御条件を異ならせることができる。つまり、制御部6は、描画パターンの粗密に応じて、光源4および光描画部5を制御することにより、最適な描画パターンを形成することができる。描画パターンの粗密に応じた最適な描画パターンの形成は以下の通りに実現できる。
However, in the nail molding apparatus 2 using the scanning
光源4から描画パターンが形成される描画領域に射出される光線の照射時間は、制御部6によって制御される。そして、照射時間は、細分化された描画領域の単位区画ごと決定される。
The irradiation time of the light beam emitted from the
また、光源4から描画パターンが形成される描画領域に射出される光線の出力の大きさは、制御部6によって制御される。そして、光線の出力の大きさは、描画領域の単位区画ごと決定される。
Further, the
光線の照射時間と光線の出力の大きさの制御条件の組み合わせによって、細分化された単位区画ごとに最適な制御を実現できる。 Optimal control can be realized for each subdivided unit section by combining the control conditions of the light irradiation time and the light output size.
また、上記のように、単位区画ごとに制御を行う場合、制御部6に描画パターンを認識させる必要が有る。そこで、ネイル成形装置2においては、描画パターンを外部から入手する通信部19が設けられることが好ましい。通信部19としては、USBなどの有線通信部や無線LAN、Bluetooth(登録商標)などの無線通信部を用いることができる。なお、本実施の形態では、通信部19として無線LANを用いる。
Further, as described above, when the control is performed for each unit section, it is necessary to make the
なお、描画パターンは、例えばスマートフォンやパソコンを用いて予め選択された描画パターンを通信部19である無線LANを用いて制御部6に転送する。外部からネイル成形装置2に描画パターンを入力することによって、デザインが頻繁に更新されても、最新のデザインを容易に取り込むことができる。よって多くのデザインから描画パターンを選択できる。場合によっては、ユーザ同士が繋がりながらコミュニティを形成することが可能である。
The drawing pattern is transferred to the
<ネイル成形装置2の構成の詳細>
ネイル成形装置2は、描画する爪1の位置を決める位置決め部20を有することが好ましい。本実施の形態では、爪1の先が接触することで指の挿入量を規制し爪1の位置を固定するガイドを記載している。爪1の位置を固定する目的を達成できればよく、上記方法に限られるものではない。位置決め部20を設けることにより、爪1の位置を固定することができるので、精細な描画を施すことが可能となる。<Details of the configuration of the nail molding apparatus 2>
The nail forming apparatus 2 preferably has a
爪1の表面は、図4に示すように、凸状の湾曲形状である。よって、爪1の端部1aと中央部1bでは反射ミラー7からの照射距離が異なる。しかしながら、ネイル成形装置2では、光源4として照射光の直進性が高い半導体レーザを用い、且つ、この直進性の高い光線を、反射ミラー7を介して爪1に照射する構造としたことから、光源4からの距離差に起因するビームスポット径の変動が小さく、湾曲面における描画精度の劣化を抑制した構成としている。このため、より精密な描画が可能となる。
The surface of the nail |
また、湾曲した爪1の端部1aの接平面1cに対する光線の入射角θ1が爪の中央部1bの接平面1dの入射角θ2より小さくなるため、光線の照射面積が端部1aの方が中央部1bより大きくなる。そのため、端部1aの方が中央部1bより光線に対する単位面積あたりの受光量が小さくなる。したがって、爪1の端部1aに出力する光線を爪1の中央部1bに出力する光線よりに比べ強くすることが好ましい。出力する光線の強さで調整する方法以外に、爪1の端部1aへの光線の照射時間を爪1の中央部1bへの光線の照射時間より長くすることでも調整できる。
Further, since the incident angle θ1 of the light beam with respect to the tangent plane 1c of the end 1a of the
なお、照射時間の調節は、反射ミラー7の反射角の変位速度を調整することで制御することができる。しかしながら反射角の緻密な制御は困難である。そこで反射角の制御を行なわず照射時間を制御する方法としては、光源の発光制御がある。光制御は、光線が単位面積あたりを走査する時間内における光源の点灯回数を制御するものである。半導体レーザを用いれば、半導体レーザーの発光制御を行うクロック信号を制御することによって、点灯回数を制御できる。光源として、半導体レーザを用いることで、照射時間の調節が容易になる。
The adjustment of the irradiation time can be controlled by adjusting the displacement speed of the reflection angle of the
また、上述したネイル成形装置2は、光源4として光直進性の高い半導体レーザを用いた場合について説明したが、光源4として射出光線の発散性が大きい紫外線ランプや半導体発光素子を用いても良い。紫外線ランプや半導体発光素子を用いた場合、光源4と反射ミラー7との間にコリメータレンズ(図示せず)を介在させることで、射出光線の光直進性を得ることができる。射出光線の光直進性を得ることができれば、半導体レーザを用いた場合と同様の効果を得ることが出来る。
In the above-described nail forming apparatus 2, the case where a semiconductor laser having high light rectilinearity is used as the
また、描画手段として上述したような走査型の反射ミラー7を用いるのではなく、デジタルミラーデバイスや液晶デバイスといった投影デバイスを走査手段として用いても良い。
Further, instead of using the scanning
また、制御部6に記憶部21を設け、記憶部21に予め代表的な描画パターンを記憶させておけば、保持されている描画パターンに基づいて描画を行うことが可能である。制御部6に記憶部21が設けられていれば、通信部19を用いることなく描画パターンが選択でき、描画パターンの転送時間を短縮出来る。
Further, if the
また、爪1の湾曲形状に対して制御条件を決定するために、ネイル成形装置2は爪1の立体形状を検出する爪検出部22を更に有し、爪検出部22で検出する第1の情報に応じて制御部6は光源4または反射ミラー7の少なくともいずれか一方を制御する。
Further, in order to determine a control condition for the curved shape of the
爪検出部22で検出した情報(第1の情報)を、随時、制御部6に入力することで、フィードバック制御が可能となる。よって、ネイル成形装置2において反射ミラー7の反射角や光源4の照射タイミングの修正制御が可能となる。なお、爪検出部22としては、カメラなどの画像を用いるものや、光反射などの光学的な方法を用いるものなど様々な方法を用いることが可能である。爪検出部22を用いてフィードバック制御を行うことで、描画対象の爪1が動いた場合でも精密な描画が可能となる。
Feedback control is possible by inputting information (first information) detected by the
さらに、ネイル成形装置2は光源4から射出される光線の出力の大きさを測定する光源出力測定部23を更に有し、光源出力測定部23で測定する第2の情報に応じて制御部6は光源4または反射ミラー7の少なくともいずれか一方を制御する。
Further, the nail forming apparatus 2 further includes a light source
光源出力測定部23で測定した情報(第2の情報)をフィードバック制御することで、ネイル成形装置2はより高い精度での描画が可能となる。
By performing feedback control on the information (second information) measured by the light source
なお、光源出力測定部23の一例としては、光路中に設けたビームスプリッタ23aと受光素子23bで構成することができる。
An example of the light source
<ネイル成形方法>
以上で説明したネイル成形装置2を用いたネイル成形方法を、図5を参照しながら説明する。<Nail molding method>
A nail molding method using the nail molding apparatus 2 described above will be described with reference to FIG.
先ず、利用者は、ネイルアートを施す自身の爪1の表面にネイル材料である光硬化性樹脂3を塗布する(樹脂塗布ステップS1)。この樹脂塗布ステップでは、光硬化性樹脂3で描画パターンを形成する必要はなく、爪全体に塗布するだけでよい。
First, the user applies a
次に、描画パターンを選択し、制御部6によって描画パターン、爪1の立体形状や出力の大きさなどフィードバック情報に応じて光線の照射位置や照射時間の制御を行い、描画領域3aの光硬化性樹脂を部分的に硬化させる(硬化ステップS2)。なお、この硬化ステップでは、図1を参照しながら説明したネイル成形装置2が使用され、制御部6は、描画パターンの粗密に応じて光源4または反射ミラー7の少なくともいずれか一方を制御する。ネイル成形装置2の照射時間や、光線の出力の大きさなどの制御に関しては上述した説明と同様であるので、ここでは説明を省略する。
Next, a drawing pattern is selected, and the light irradiation position and irradiation time are controlled by the
次に、光線が照射されず硬化しなかった未硬化領域3bの光硬化性樹脂3を除去する(除去ステップS3)。このように樹脂塗布ステップS1、硬化ステップS2、除去ステップS3の一連の流れを経ることで、所望の描画パターンを形成することが出来る。
Next, the
また、上述した樹脂塗布ステップS1、硬化ステップS2、除去ステップS3を繰り返し行えば、積層構造からなる立体的な描画パターンを形成することができる。また、層毎に色の違うジェルネイルを用いることで多彩な描画パターンを形成することも可能となる。 Further, if the above-described resin application step S1, curing step S2, and removal step S3 are repeated, a three-dimensional drawing pattern having a laminated structure can be formed. Moreover, it is possible to form various drawing patterns by using gel nails having different colors for each layer.
なお、光硬化性樹脂3の種類により硬化波長が異なるため、光源4として波長が異なる複数の光源4を有することが好ましい。光源4が制御部6により制御される時、それぞれの異なる波状に応じて、制御条件が異なることが好ましい。
Since the curing wavelength varies depending on the type of the
また、上述した実施の形態においては、ネイルアートが爪1の表面に施される例を挙げて説明したが、本実施の形態のネイル成形装置2でネイルアートが付け爪に施されても同様の効果が得られる。
Further, in the above-described embodiment, an example in which nail art is applied to the surface of the
また、本実施の形態では、利用者がネイル成形装置2を利用者自身の爪1にネイルアートを施す例を説明したが、ネイルサロンにネイル成形装置2を設置し、施術者が本実施の形態のネイル成形装置2を使用しても良い。施術者が本実施の形態のネイル成形装置2を使用すると、施術者に依存するスキルによる描画精度のバラツキを防止出来たり、施術時間を短縮出来たりする。
In the present embodiment, an example in which the user applies nail art to the user's
本発明のネイル成形装置は、容易に爪または付け爪に描画パターンを形成することができる。利用者が利用者自身の爪に描画パターンを形成する場合に、特に有効である。 The nail molding apparatus of the present invention can easily form a drawing pattern on a nail or an artificial nail. This is particularly effective when the user forms a drawing pattern on the user's own nails.
1 爪
2 ネイル成形装置
3 光硬化性樹脂
3a 描画領域
3b 未硬化領域
4 光源
5 光描画部
6 制御部
7 反射ミラー
8 アクチュエータ
9 支持枠
10 可動枠
11 可動部
12 ミラー部
13 第1の回動軸
14 第1の振動部
15 第2の回動軸
16 第2の振動部
19 通信部
20 位置決め部
21 記憶部
22 爪検出部
23 光源出力測定部
23a ビームスプリッタ
23b 受光素子DESCRIPTION OF
なお、照射時間の調節は、反射ミラー7の反射角の変位速度を調整することで制御することができる。しかしながら反射角の緻密な制御は困難である。そこで反射角の制御を行なわず照射時間を制御する方法としては、光源の発光制御がある。発光制御は、光線が単位面積あたりを走査する時間内における光源の点灯回数を制御するものである。半導体レーザを用いれば、半導体レーザーの発光制御を行うクロック信号を制御することによって、点灯回数を制御できる。光源として、半導体レーザを用いることで、照射時間の調節
が容易になる。
The adjustment of the irradiation time can be controlled by adjusting the displacement speed of the reflection angle of the
Claims (12)
光源と、
前記光源から射出された光線を用いて前記光硬化性樹脂を部分的に硬化させる光描画部と、
前記光源および前記光描画部を制御する制御部と、
を備えたことを特徴とするネイル成形装置。A nail molding device for forming a drawing pattern using a photocurable resin on the surface of a nail or an artificial nail,
A light source;
A light drawing section for partially curing the photocurable resin using light emitted from the light source;
A control unit for controlling the light source and the light drawing unit;
A nail molding apparatus comprising:
ことを特徴とする請求項1に記載のネイル成形装置。The nail forming apparatus according to claim 1, wherein the control unit controls the light source and the light drawing unit according to the density of the drawing pattern.
前記照射時間は、前記描画領域の単位区画ごと決定される
ことを特徴とする請求項2に記載のネイル成形装置。The irradiation time of the light beam emitted from the light source to the drawing area where the drawing pattern is formed is controlled by the control unit,
The nail forming apparatus according to claim 2, wherein the irradiation time is determined for each unit section of the drawing area.
前記光線の出力の大きさは、前記描画領域の単位区画ごと決定される
ことを特徴とした請求項2に記載のネイル成形装置。The magnitude of the output of the light beam emitted from the light source to the drawing area where the drawing pattern is formed is controlled by the control unit,
The nail forming apparatus according to claim 2, wherein the magnitude of the output of the light beam is determined for each unit section of the drawing area.
前記爪検出部で検出した第1の情報に応じて前記制御部は前記光源または前記反射ミラーの少なくともいずれか一方を制御する
ことを特徴とする請求項2に記載のネイル成形装置。A nail detector for detecting the three-dimensional shape of the nail or artificial nail;
The nail forming apparatus according to claim 2, wherein the control unit controls at least one of the light source and the reflection mirror in accordance with first information detected by the nail detection unit.
前記光源出力測定部で測定した第2の情報に応じて前記制御部は前記光源または前記反射ミラーの少なくともいずれか一方を制御する
ことを特徴とする請求項5に記載のネイル成形装置。A light source output measuring unit for measuring the magnitude of the output of the light source;
The nail forming apparatus according to claim 5, wherein the control unit controls at least one of the light source and the reflection mirror in accordance with second information measured by the light source output measurement unit.
ことを特徴とする請求項1に記載のネイル成形装置。The nail molding apparatus according to claim 1, wherein the light source includes a plurality of light sources having different wavelengths.
前記光描画部が反射ミラーで構成されている
ことを特徴とする請求項1に記載のネイル成形装置。The light source comprises a semiconductor laser;
The nail forming apparatus according to claim 1, wherein the light drawing unit is configured by a reflection mirror.
前記爪または前記付け爪の表面に前記光硬化性樹脂を塗布する樹脂塗布ステップと、
前記光硬化性樹脂を部分的に硬化させる硬化ステップと、
前記光硬化性樹脂の未硬化部分を除去する除去ステップと、
を備え、
前記硬化ステップにおいて、
光源と、
前記光源から射出された光線を用いて前記光硬化性樹脂を部分的に硬化させる光描画部と、
前記光源および前記光描画部を制御する制御部と、
を有するネイル成形装置を用いて、前記光硬化性樹脂を部分的に硬化させる
ことを特徴とするネイル成形方法。A nail molding method for forming a drawing pattern using a photocurable resin on the surface of a nail or an artificial nail,
A resin application step of applying the photocurable resin to the surface of the nail or the artificial nail;
A curing step of partially curing the photocurable resin;
A removing step of removing an uncured portion of the photocurable resin;
With
In the curing step,
A light source;
A light drawing section for partially curing the photocurable resin using light emitted from the light source;
A control unit for controlling the light source and the light drawing unit;
A nail molding method, wherein the photocurable resin is partially cured using a nail molding apparatus having the following:
ことを特徴とする請求項9に記載のネイル成形方法。The nail forming method according to claim 9, wherein the control unit controls the light source and the light drawing unit according to the density of the drawing pattern.
前記照射時間は、前記描画領域の単位区画ごと決定される
ことを特徴とする請求項10に記載のネイル成形方法。The irradiation time of the light beam emitted from the light source to the drawing area where the drawing pattern is formed is controlled by the control unit,
The nail forming method according to claim 10, wherein the irradiation time is determined for each unit section of the drawing region.
前記光線の出力の大きさは、前記描画領域の単位区画ごと決定される
ことを特徴とする請求項10に記載のネイル成形方法。The magnitude of the output of the light beam emitted from the light source to the drawing area where the drawing pattern is formed is controlled by the control unit,
The nail forming method according to claim 10, wherein the magnitude of the light output is determined for each unit section of the drawing area.
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