JPWO2014112463A1 - スルホンアミド構造を有するヌクレオシドおよびヌクレオチド - Google Patents
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Abstract
本発明は、核酸医薬品を合成するための材料として利用可能な、新規のヌクレオシドまたはヌクレオチドである、次式式(I):(式中、Y1−Y2はS(=O)2−NR6、NR6−S(=O)2等であり、R6は水素原子、置換若しくは非置換のアルキル等であり、Bxは核酸塩基部分であり、Z1およびZ2はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基保護基または反応性リン基であり、R1〜R5はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル等であり、nは0〜3の整数である)で示される化合物、またはその塩を提供する。
Description
本発明は、新規な架橋型ヌクレオシドまたはヌクレオチドに関する。より詳細には、スルホンアミド構造を含む架橋を有するヌクレオシド若しくはヌクレオチド、または該ヌクレオシド若しくはヌクレオチドから調製されるオリゴヌクレオチドに関する。
核酸医薬品による疾患の治療法として、アンチセンスオリゴヌクレオチド、siRNA、リボザイム、アンチジーン、アプタマー、デコイ核酸等を用いる方法がある。
アンチセンスオリゴヌクレオチドは、標的遺伝子のmRNA、mRNA前駆体またはリボソームRNA、転移RNA、miRNA等のncRNA(ノンコーディングRNA)に対して相補的なオリゴヌクレオチドであり、約8〜30塩基からなる1本鎖のDNA、RNAおよび/またはそれらの構造類似体である。該アンチセンスオリゴヌクレオチドが標的とするmRNA、mRNA前駆体、またはncRNAと二本鎖を形成することによりmRNA、mRNA前駆体またはncRNAの働きを抑制する。
siRNAは、標的遺伝子と相同な約19〜25塩基対からなる低分子二本鎖RNAである。RNA干渉と呼ばれる現象に関与しており、塩基配列特異的にmRNAを分解することによって、遺伝子の発現を抑制する。
リボザイムは、核酸を切断する酵素活性を持つRNAである。標的遺伝子のmRNAと二重鎖を形成し、特異的に該mRNAを切断する。
アンチジーンは、標的遺伝子の二重鎖DNA部位に対応するオリゴヌクレオチドである。該DNA部位とオリゴヌクレオチドで三重鎖を形成させることにより、DNAからmRNAへの転写を抑制する。
アプタマーは、特定の分子と特異的に結合するDNA、RNAおよび/またはそれらの構造類似体である。標的タンパク質と結合することにより該タンパク質の機能を阻害する。
デコイ核酸は、特定の転写調節因子の結合部位と同じ配列を含む短いDNAである。該転写調節因子と遺伝子の結合を阻害し、該転写調節因子によって活性化される遺伝子群の発現を抑制する。
アンチジーンは、標的遺伝子の二重鎖DNA部位に対応するオリゴヌクレオチドである。該DNA部位とオリゴヌクレオチドで三重鎖を形成させることにより、DNAからmRNAへの転写を抑制する。
アプタマーは、特定の分子と特異的に結合するDNA、RNAおよび/またはそれらの構造類似体である。標的タンパク質と結合することにより該タンパク質の機能を阻害する。
デコイ核酸は、特定の転写調節因子の結合部位と同じ配列を含む短いDNAである。該転写調節因子と遺伝子の結合を阻害し、該転写調節因子によって活性化される遺伝子群の発現を抑制する。
上記核酸医薬品を合成するための材料として利用するために、様々なヌクレオシドまたはヌクレオチドが開発されている。例えば、ヌクレオチドのリン酸部分が修飾されているS−オリゴ(ホスホロチオエート)、ヌクレオシドまたはヌクレオチドの糖部分が修飾されている2´,4´−BNA(bridged nucleic acid)/LNA(locked nucleic acid)(特許文献1〜5および非特許文献1〜6参照)等がある。
Proc. Natl. Acad. Sci. USA,2000年,97巻,10号,5633−5638頁
Bioorg. Med. Chem.,2006年,14巻,1029−1038頁
Chem. Commun.,2007年,3765−3767頁
J. Am. Chem. Soc.,2008年,130巻,14号,4886−4896頁
Nucleic Acids Res.,2008年,36巻,13号,4257−4265頁
Bioorg. Med. Chem.,2001年,9巻,1001−1011頁
本発明の目的は、アンチセンスオリゴヌクレオチド、siRNA、リボザイム、アンチジーン、アプタマー、デコイ核酸等の核酸医薬品を合成するための材料として利用可能な、新規のヌクレオシドまたはヌクレオチドを提供することにある。
本発明者らは、鋭意研究の結果、優れた一本鎖RNAに対する結合親和性とヌクレアーゼ耐性を有する新規な架橋型ヌクレオシドまたはヌクレオチドの合成に成功した。該ヌクレオシドまたはヌクレオチドは、アンチセンスオリゴヌクレオチド等の核酸医薬品を合成するための材料として非常に有用である。
すなわち、本発明は、以下に関する。
(1)式(I):
(式中、
Y1−Y2はS(=O)−NR6、S(=O)2−NR6、NR6−S(=O)またはNR6−S(=O)2であり、
R6は水素原子、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Bxは核酸塩基部分であり、
Z1およびZ2はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基保護基または反応性リン基であり、
R1およびR2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R3はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R5は水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
nは0〜3の整数である)
で示される化合物、またはその塩。
(2)Y1−Y2がS(=O)2−NR6であり、R6が水素原子またはアルキルである、(1)記載の化合物、またはその塩。
(3)Bxが置換若しくは非置換のプリン−9−イルまたは置換若しくは非置換の2−オキソ−ピリミジン−1−イルである、(1)または(2)記載の化合物、またはその塩。
(4)Z1が水素原子または水酸基保護基である、(1)〜(3)いずれかに記載の化合物、またはその塩。
(5)該水酸基保護基がアセチル、t−ブチル、t−ブトキシメチル、メトキシメチル、テトラヒドロピラニル、1−エトキシエチル、1−(2−クロロエトキシ)エチル、2−トリメチルシリルエチル、p−クロロフェニル、2,4−ジニトロフェニル、ベンジル、ベンゾイル、p−フェニルベンゾイル、2,6−ジクロロベンジル、レブリノイル、ジフェニルメチル、p−ニトロベンジル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、トリフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、ギ酸ベンゾイル、クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、ピバロイル、イソブチリル、9−フルオレニルメチルオキシカルボニル、メタンスルホニル、p−トルエンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル、トリメトキシトリチル、9−フェニルキサンチン−9−イルまたは9−(p−メトキシフェニル)キサンチン−9−イルである、(4)記載の化合物、またはその塩。
(6)Z2が水素原子または反応性リン基である、(1)〜(5)いずれかに記載の化合物、またはその塩。
(7)該反応性リン基がジイソプロピルシアノエトキシホスホロアミダイトまたはH−ホスホネートである、(6)記載の化合物、またはその塩。
(8)式(II):
(式中、
Y1−Y2はS(=O)−NR6、S(=O)2−NR6、NR6−S(=O)またはNR6−S(=O)2であり、
R6は水素原子、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Bxは核酸塩基部分であり、
R1およびR2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R3はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R5は水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
nは0〜3の整数である)
で示されるヌクレオシド構造を1以上含有するオリゴヌクレオチドまたはその製薬上許容される塩。
(1)式(I):
Y1−Y2はS(=O)−NR6、S(=O)2−NR6、NR6−S(=O)またはNR6−S(=O)2であり、
R6は水素原子、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Bxは核酸塩基部分であり、
Z1およびZ2はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基保護基または反応性リン基であり、
R1およびR2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R3はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R5は水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
nは0〜3の整数である)
で示される化合物、またはその塩。
(2)Y1−Y2がS(=O)2−NR6であり、R6が水素原子またはアルキルである、(1)記載の化合物、またはその塩。
(3)Bxが置換若しくは非置換のプリン−9−イルまたは置換若しくは非置換の2−オキソ−ピリミジン−1−イルである、(1)または(2)記載の化合物、またはその塩。
(4)Z1が水素原子または水酸基保護基である、(1)〜(3)いずれかに記載の化合物、またはその塩。
(5)該水酸基保護基がアセチル、t−ブチル、t−ブトキシメチル、メトキシメチル、テトラヒドロピラニル、1−エトキシエチル、1−(2−クロロエトキシ)エチル、2−トリメチルシリルエチル、p−クロロフェニル、2,4−ジニトロフェニル、ベンジル、ベンゾイル、p−フェニルベンゾイル、2,6−ジクロロベンジル、レブリノイル、ジフェニルメチル、p−ニトロベンジル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、トリフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、ギ酸ベンゾイル、クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、ピバロイル、イソブチリル、9−フルオレニルメチルオキシカルボニル、メタンスルホニル、p−トルエンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル、トリメトキシトリチル、9−フェニルキサンチン−9−イルまたは9−(p−メトキシフェニル)キサンチン−9−イルである、(4)記載の化合物、またはその塩。
(6)Z2が水素原子または反応性リン基である、(1)〜(5)いずれかに記載の化合物、またはその塩。
(7)該反応性リン基がジイソプロピルシアノエトキシホスホロアミダイトまたはH−ホスホネートである、(6)記載の化合物、またはその塩。
(8)式(II):
Y1−Y2はS(=O)−NR6、S(=O)2−NR6、NR6−S(=O)またはNR6−S(=O)2であり、
R6は水素原子、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Bxは核酸塩基部分であり、
R1およびR2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R3はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R5は水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
nは0〜3の整数である)
で示されるヌクレオシド構造を1以上含有するオリゴヌクレオチドまたはその製薬上許容される塩。
本発明のヌクレオチドまたはヌクレオシドから調製されるオリゴヌクレオチドは、優れた一本鎖RNAに対する結合親和性とヌクレアーゼ耐性を示す。該オリゴヌクレオチドは体内での持続性が非常によいと考えられることから、核酸医薬品への応用が期待される。
本明細書において使用される用語は、特に言及する場合を除いて、当該分野で通常用いられる意味で用いられる。
以下に本明細書中で使用する各用語を説明する。なお、本明細書中、各用語は単独で使用されている場合も、または他の用語と一緒になって使用されている場合も、特に記載の無い限り、同一の意義を有する。
以下に本明細書中で使用する各用語を説明する。なお、本明細書中、各用語は単独で使用されている場合も、または他の用語と一緒になって使用されている場合も、特に記載の無い限り、同一の意義を有する。
「核酸塩基部分」とは、核酸塩基またはその類縁体を含む置換基を意味する。天然の核酸塩基としては、アデニン(A)、グアニン(G)、チミン(T)、シトシン(C)またはウラシル(U)が挙げられる。本発明の核酸塩基は、それらに限定されず、他の人工または天然の核酸塩基も含まれる。例えば、5−メチルシトシン(5−me−C)、5−ヒドロキシメチルシトシン、キサンチン、ヒポキサンチン、2−アミノアデニン、7−デアザ−アデニン、7−デアザグアノシン、2−アミノピリジン、2−ピリドン等が挙げられる。
つまり、本発明における「核酸塩基部分」とは、核酸(DNA、RNA)の塩基部分を構成する置換若しくは非置換の複素環式基または置換若しくは非置換の炭素環式基である。
該複素環は、O、SおよびNから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に1以上有する単環または縮合環を含む。例えば、プリン、ピリミジン、チオフェン、チアントレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサチイン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、イソチアゾール、イソキサゾール、ピリダジン、インドリジン、インドール、イソインドール、イソキノリン、キノリン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、プテリジン、カルバゾール、フェナントリジン、アクリジン、ペリミジン、フェナジン、フェナルサジン、フェノチアジン、フラザン、フェノキサジン、ピロリジン、ピロリン、イミダゾリジン、イミダゾリン、ピラゾリジン等が挙げられる。好ましくはプリンまたはピリミジンである。
該炭素環は、単環または縮合環の炭化水素環を含む。例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インダン、インデン、テトラヒドロナフチレン、ビフェニレン等が挙げられる。好ましくは、ベンゼンまたはナフタレンである。
該複素環または炭素環式基の置換基としては、置換基群αに含まれる置換基が挙げられる。任意の位置の炭素原子が置換基群αから選択される1以上の置換基と結合していてもよい。
置換基群α:ハロゲン、ヒドロキシ、核酸合成に用いられる保護基で保護された水酸基、アルキル、アルキルオキシ、アルキルチオ、アルキルアミノ、アルケニル、アルキニル、メルカプト、核酸合成に用いられる保護基で保護されたメルカプト、アミノ、核酸合成に用いられる保護基で保護されたアミノ。
つまり、本発明における「核酸塩基部分」とは、核酸(DNA、RNA)の塩基部分を構成する置換若しくは非置換の複素環式基または置換若しくは非置換の炭素環式基である。
該複素環は、O、SおよびNから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に1以上有する単環または縮合環を含む。例えば、プリン、ピリミジン、チオフェン、チアントレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサチイン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、イソチアゾール、イソキサゾール、ピリダジン、インドリジン、インドール、イソインドール、イソキノリン、キノリン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、プテリジン、カルバゾール、フェナントリジン、アクリジン、ペリミジン、フェナジン、フェナルサジン、フェノチアジン、フラザン、フェノキサジン、ピロリジン、ピロリン、イミダゾリジン、イミダゾリン、ピラゾリジン等が挙げられる。好ましくはプリンまたはピリミジンである。
該炭素環は、単環または縮合環の炭化水素環を含む。例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インダン、インデン、テトラヒドロナフチレン、ビフェニレン等が挙げられる。好ましくは、ベンゼンまたはナフタレンである。
該複素環または炭素環式基の置換基としては、置換基群αに含まれる置換基が挙げられる。任意の位置の炭素原子が置換基群αから選択される1以上の置換基と結合していてもよい。
置換基群α:ハロゲン、ヒドロキシ、核酸合成に用いられる保護基で保護された水酸基、アルキル、アルキルオキシ、アルキルチオ、アルキルアミノ、アルケニル、アルキニル、メルカプト、核酸合成に用いられる保護基で保護されたメルカプト、アミノ、核酸合成に用いられる保護基で保護されたアミノ。
「核酸合成に用いられる保護基で保護された水酸基」の保護基とは、核酸合成の際に安定して水酸基を保護し得るものであれば、特に限定されない。具体的には、酸性または中性条件で安定であり、加水素分解、加水分解、電気分解および光分解のような化学的方法により開裂し得る保護基である。例えば、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、ホルミルまたは以下の保護基が挙げられる。
脂肪族アシル:アルキルカルボニル(例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、3−メチルノナノイル、8−メチルノナノイル、3−エチルオクタノイル、3,7−ジメチルオクタノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、1−メチルペンタデカノイル、14−メチルペンタデカノイル、13,13−ジメチルテトラデカノイル、ヘプタデカノイル、15−メチルヘキサデカノイル、オクタデカノイル、1−メチルヘプタデカノイル、ノナデカノイル、アイコサノイル、ヘナイコサノイル等)、カルボキシアルキルカルボニル(例えば、スクシノイル、グルタロイル、アジポイル等)、ハロアルキルカルボニル(例えば、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル等)、アルキルオキシアルキルカルボニル(例えば、メトキシアセチル等)、不飽和アルキルカルボニル(例えば、(E)−2−メチル−2−ブテノイル等)等。
芳香族アシル:芳香族炭素環式基カルボニル(例えば、ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイル等)、ハロゲンで置換された芳香族炭素環式基カルボニル(例えば、2−ブロモベンゾイル、4−クロロベンゾイル等)、アルキルで置換された芳香族炭素環式基カルボニル(例えば、2,4,6−トリメチルベンゾイル、4−トルオイル等)、アルキルオキシで置換された芳香族炭素環式基カルボニル(例えば、4−アニソイル等)、カルボキシで置換された芳香族炭素環式基カルボニル(2−カルボキシベンゾイル、3−カルボキシベンゾイル、4−カルボキシベンゾイル等)、ニトロで置換された芳香族炭素環式基カルボニル(4−ニトロベンゾイル、2−ニトロベンゾイル等)アルキルオキシカルボニルで置換された芳香族炭素環式基カルボニル(2−(メトキシカルボニル)ベンゾイル等)、芳香族炭素環式基で置換された芳香族炭素環式基カルボニル(4−フェニルベンゾイル等)等。
テトラヒドロピラニル:テトラヒドロピラン−2−イル、3−ブロモテトラヒドロピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒドロピラン−4−イル等。
テトラヒドロチオピラニル:テトラヒドロチオピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒドロチオピラン−4−イル等。
テトラヒドロフラニル:テトラヒドロフラン−2−イル等。
テトラヒドロチオフラニル:テトラヒドロチオフラン−2−イル等。
シリル:トリアルキルシリル(トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−t−ブチルシリル、トリイソプロピルシリル等)、1〜2個の芳香族炭素環式基で置換されたトリアルキルシリル(ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプロピルシリル等)等。
アルキルオキシメチル:メトキシメチル、1,1−ジメチル−1−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、t−ブトキシメチル等。
アルキルオキシ化アルキルオキシメチル:2−メトキシエトキシメチル等。
ハロゲノアルキルオキシメチル:2,2,2−トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロロエトキシ)メチル等。
アルキルオキシ化エチル:1−エトキシエチル、1−(イソプロポキシ)エチル等。
ハロゲン化エチル:2,2,2−トリクロロエチル等。
1〜3個の芳香族炭素環式基で置換されたメチル:ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、9−アンスリルメチル等。
アルキル、アルキルオキシ、ハロゲンまたはシアノで芳香族炭素環が置換された1〜3個の芳香族炭素環式基で置換されたメチル:4−メチルベンジル、2,4,6−トリメチルベンジル、3,4,5−トリメチルベンジル、4−メトキシベンジル、4−メトキシフェニルジフェニルメチル、4,4’−ジメトキシトリフェニルメチル、2−ニトロベンジル、4−ニトロベンジル、4−クロロベンジル、4−ブロモベンジル、4−シアノベンジル等。
アルキルオキシカルボニル:メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル等。
ハロゲン、アルキルオキシまたはニトロで置換された芳香族炭素環式基:4−クロロフェニル、2−フロロフェニル、4−メトキシフェニル、4−ニトロフェニル、2,4−ジニトロフェニル等。
ハロゲンまたはトリアルキルシリル基で置換されたアルキルオキシカルボニル:2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、2−トリメチルシリルエトキシカルボニル等。
アルケニルオキシカルボニル:ビニルオキシカルボニル、芳香族炭素環式基オキシカルボニル等。
1〜2個のアルキルオキシまたはニトロで芳香族炭素環が置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル:ベンジルオキシカルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、2−ニトロベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニル等。
好ましい保護基としては、アルキル、アルケニル、「脂肪族アシル」、「芳香族アシル」、「1〜3個の芳香族炭素環式基で置換されたメチル」、「ハロゲン、アルキルオキシまたはニトロで置換された芳香族炭素環式基」等が挙げられる。さらに好ましくは、ベンゾイル、ベンジル、2−クロロフェニル、4−クロロフェニル、2−プロペニル等が挙げられる。
脂肪族アシル:アルキルカルボニル(例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ノナノイル、デカノイル、3−メチルノナノイル、8−メチルノナノイル、3−エチルオクタノイル、3,7−ジメチルオクタノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、1−メチルペンタデカノイル、14−メチルペンタデカノイル、13,13−ジメチルテトラデカノイル、ヘプタデカノイル、15−メチルヘキサデカノイル、オクタデカノイル、1−メチルヘプタデカノイル、ノナデカノイル、アイコサノイル、ヘナイコサノイル等)、カルボキシアルキルカルボニル(例えば、スクシノイル、グルタロイル、アジポイル等)、ハロアルキルカルボニル(例えば、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル等)、アルキルオキシアルキルカルボニル(例えば、メトキシアセチル等)、不飽和アルキルカルボニル(例えば、(E)−2−メチル−2−ブテノイル等)等。
芳香族アシル:芳香族炭素環式基カルボニル(例えば、ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイル等)、ハロゲンで置換された芳香族炭素環式基カルボニル(例えば、2−ブロモベンゾイル、4−クロロベンゾイル等)、アルキルで置換された芳香族炭素環式基カルボニル(例えば、2,4,6−トリメチルベンゾイル、4−トルオイル等)、アルキルオキシで置換された芳香族炭素環式基カルボニル(例えば、4−アニソイル等)、カルボキシで置換された芳香族炭素環式基カルボニル(2−カルボキシベンゾイル、3−カルボキシベンゾイル、4−カルボキシベンゾイル等)、ニトロで置換された芳香族炭素環式基カルボニル(4−ニトロベンゾイル、2−ニトロベンゾイル等)アルキルオキシカルボニルで置換された芳香族炭素環式基カルボニル(2−(メトキシカルボニル)ベンゾイル等)、芳香族炭素環式基で置換された芳香族炭素環式基カルボニル(4−フェニルベンゾイル等)等。
テトラヒドロピラニル:テトラヒドロピラン−2−イル、3−ブロモテトラヒドロピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒドロピラン−4−イル等。
テトラヒドロチオピラニル:テトラヒドロチオピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒドロチオピラン−4−イル等。
テトラヒドロフラニル:テトラヒドロフラン−2−イル等。
テトラヒドロチオフラニル:テトラヒドロチオフラン−2−イル等。
シリル:トリアルキルシリル(トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ−t−ブチルシリル、トリイソプロピルシリル等)、1〜2個の芳香族炭素環式基で置換されたトリアルキルシリル(ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニルジイソプロピルシリル等)等。
アルキルオキシメチル:メトキシメチル、1,1−ジメチル−1−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、t−ブトキシメチル等。
アルキルオキシ化アルキルオキシメチル:2−メトキシエトキシメチル等。
ハロゲノアルキルオキシメチル:2,2,2−トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロロエトキシ)メチル等。
アルキルオキシ化エチル:1−エトキシエチル、1−(イソプロポキシ)エチル等。
ハロゲン化エチル:2,2,2−トリクロロエチル等。
1〜3個の芳香族炭素環式基で置換されたメチル:ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、9−アンスリルメチル等。
アルキル、アルキルオキシ、ハロゲンまたはシアノで芳香族炭素環が置換された1〜3個の芳香族炭素環式基で置換されたメチル:4−メチルベンジル、2,4,6−トリメチルベンジル、3,4,5−トリメチルベンジル、4−メトキシベンジル、4−メトキシフェニルジフェニルメチル、4,4’−ジメトキシトリフェニルメチル、2−ニトロベンジル、4−ニトロベンジル、4−クロロベンジル、4−ブロモベンジル、4−シアノベンジル等。
アルキルオキシカルボニル:メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル等。
ハロゲン、アルキルオキシまたはニトロで置換された芳香族炭素環式基:4−クロロフェニル、2−フロロフェニル、4−メトキシフェニル、4−ニトロフェニル、2,4−ジニトロフェニル等。
ハロゲンまたはトリアルキルシリル基で置換されたアルキルオキシカルボニル:2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、2−トリメチルシリルエトキシカルボニル等。
アルケニルオキシカルボニル:ビニルオキシカルボニル、芳香族炭素環式基オキシカルボニル等。
1〜2個のアルキルオキシまたはニトロで芳香族炭素環が置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル:ベンジルオキシカルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、2−ニトロベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニル等。
好ましい保護基としては、アルキル、アルケニル、「脂肪族アシル」、「芳香族アシル」、「1〜3個の芳香族炭素環式基で置換されたメチル」、「ハロゲン、アルキルオキシまたはニトロで置換された芳香族炭素環式基」等が挙げられる。さらに好ましくは、ベンゾイル、ベンジル、2−クロロフェニル、4−クロロフェニル、2−プロペニル等が挙げられる。
「核酸合成に用いられる保護基で保護されたメルカプト」の保護基としては、核酸合成の際に安定してメルカプトを保護し得るものであれば、特に限定されない。具体的には、酸性または中性条件で安定であり、加水素分解、加水分解、電気分解および光分解のような化学的方法により開裂し得る保護基である。
例えば、上記水酸基の保護基として挙げられたものの他、以下も含まれる。
ジスルフィドを形成する基:アルキルチオ(メチルチオ、エチルチオ、tert−ブチルチオ等)、芳香族炭素環式基チオ(ベンジルチオ等)等。
好ましい保護基としては、「脂肪族アシル」、「芳香族アシル」等が挙げられる。さらに好ましくは、ベンゾイル等が挙げられる。
例えば、上記水酸基の保護基として挙げられたものの他、以下も含まれる。
ジスルフィドを形成する基:アルキルチオ(メチルチオ、エチルチオ、tert−ブチルチオ等)、芳香族炭素環式基チオ(ベンジルチオ等)等。
好ましい保護基としては、「脂肪族アシル」、「芳香族アシル」等が挙げられる。さらに好ましくは、ベンゾイル等が挙げられる。
「核酸合成の保護基で保護されたアミノ」の保護基としては、核酸合成の際に安定してアミノを保護し得るものであれば、特に限定されない。具体的には、酸性または中性条件で安定であり、加水素分解、加水分解、電気分解および光分解のような化学的方法により開裂し得る保護基である。
例えば、ホルミル、上記水酸基の保護基として挙げられた「脂肪族アシル」、「芳香族アシル」、「アルキルオキシカルボニル」、「ハロゲンまたはトリアルキルシリル基で置換されたアルキルオキシカルボニル」、「アルケニルオキシカルボニル」、「1〜2個のアルキルオキシまたはニトロで芳香族炭素環が置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル」が挙げられる。
好ましい保護基としては、「脂肪族アシル」、「芳香族アシル」等が挙げられる。さらに好ましくは、ベンゾイル等が挙げられる。
例えば、ホルミル、上記水酸基の保護基として挙げられた「脂肪族アシル」、「芳香族アシル」、「アルキルオキシカルボニル」、「ハロゲンまたはトリアルキルシリル基で置換されたアルキルオキシカルボニル」、「アルケニルオキシカルボニル」、「1〜2個のアルキルオキシまたはニトロで芳香族炭素環が置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル」が挙げられる。
好ましい保護基としては、「脂肪族アシル」、「芳香族アシル」等が挙げられる。さらに好ましくは、ベンゾイル等が挙げられる。
「核酸塩基部分」として、好ましくは、置換若しくは非置換のプリン−9−イル、または、置換若しくは非置換の2−オキソ−ピリミジン−1−イル等が挙げられる。核酸塩基部分に含まれる環の置換基としては、上記置換基群αに含まれる置換基が挙げられる。任意の位置の炭素原子が置換基群αから選択される1以上の置換基と結合していてもよい。さらに好ましくは、上記置換基群αから選択される1以上の置換基で置換された、プリン−9−イルまたは2−オキソ−ピリミジン−1−イルである。特に好ましくは、上記置換基群αから選択される1または2の置換基で置換された、プリン−9−イルまたは2−オキソ−ピリミジン−1−イルである。
例えば、6−アミノプリン−9−イル(即ち、アデニニル)、アミノが核酸合成の保護基で保護された6−アミノプリン−9−イル、2,6−ジアミノプリン−9−イル、6−クロロプリン−9−イル、2−アミノ−6−クロロプリン−9−イル、アミノが核酸合成の保護基で保護された2−アミノ−6−クロロプリン−9−イル、6−フルオロプリン−9−イル、2−アミノ−6−フルオロプリン−9−イル、アミノが核酸合成の保護基で保護された2−アミノ−6−フルオロプリン−9−イル、6−ブロモプリン−9−イル、2−アミノ−6−ブロモプリン−9−イル、アミノが核酸合成の保護基で保護された2−アミノ−6−ブロモプリン−9−イル、2−アミノ−6−ヒドロキシプリン−9−イル(即ち、グアニニル)、アミノが核酸合成の保護基で保護された2−アミノ−6−ヒドロキシプリン−9−イル、6−アミノ−2−メトキシプリン−9−イル、6−アミノ−2−クロロプリン−9−イル、6−アミノ−2−フルオロプリン−9−イル、2,6−ジメトキシプリン−9−イル、2,6−ジクロロプリン−9−イル、6−メルカプトプリン−9−イル、2−オキソ−4−アミノ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル(即ち、シトシニル)、アミノが核酸合成の保護基で保護された2−オキソ−4−アミノ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル、2−オキソ−4−アミノ−5−フルオロ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル、アミノが核酸合成の保護基で保護された2−オキソ−4−アミノ−5−フルオロ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル、4−アミノ−2−オキソ−5−クロロ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル、2−オキソ−4−メトキシ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル、2−オキソ−4−メルカプト−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル、2−オキソ−4−ヒドロキシ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル(即ち、ウラシニル)、2−オキソ−4−ヒドロキシ−5−メチル−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル(即ち、チミニル)、4−アミノ−5−メチル−2−オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル(即ち、5−メチルシトシニル)、または、アミノが核酸合成の保護基で保護された4−アミノ−5−メチル−2−オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル等が挙げられる。
例えば、6−アミノプリン−9−イル(即ち、アデニニル)、アミノが核酸合成の保護基で保護された6−アミノプリン−9−イル、2,6−ジアミノプリン−9−イル、6−クロロプリン−9−イル、2−アミノ−6−クロロプリン−9−イル、アミノが核酸合成の保護基で保護された2−アミノ−6−クロロプリン−9−イル、6−フルオロプリン−9−イル、2−アミノ−6−フルオロプリン−9−イル、アミノが核酸合成の保護基で保護された2−アミノ−6−フルオロプリン−9−イル、6−ブロモプリン−9−イル、2−アミノ−6−ブロモプリン−9−イル、アミノが核酸合成の保護基で保護された2−アミノ−6−ブロモプリン−9−イル、2−アミノ−6−ヒドロキシプリン−9−イル(即ち、グアニニル)、アミノが核酸合成の保護基で保護された2−アミノ−6−ヒドロキシプリン−9−イル、6−アミノ−2−メトキシプリン−9−イル、6−アミノ−2−クロロプリン−9−イル、6−アミノ−2−フルオロプリン−9−イル、2,6−ジメトキシプリン−9−イル、2,6−ジクロロプリン−9−イル、6−メルカプトプリン−9−イル、2−オキソ−4−アミノ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル(即ち、シトシニル)、アミノが核酸合成の保護基で保護された2−オキソ−4−アミノ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル、2−オキソ−4−アミノ−5−フルオロ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル、アミノが核酸合成の保護基で保護された2−オキソ−4−アミノ−5−フルオロ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル、4−アミノ−2−オキソ−5−クロロ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル、2−オキソ−4−メトキシ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル、2−オキソ−4−メルカプト−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル、2−オキソ−4−ヒドロキシ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル(即ち、ウラシニル)、2−オキソ−4−ヒドロキシ−5−メチル−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル(即ち、チミニル)、4−アミノ−5−メチル−2−オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル(即ち、5−メチルシトシニル)、または、アミノが核酸合成の保護基で保護された4−アミノ−5−メチル−2−オキソ−1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル等が挙げられる。
さらに具体的には、以下に記載の式:(B−1)〜(B−4)で示される基が挙げられる。
式(B−1):
(式中、Raは、水素原子またはアルキルである
Rbは、水素原子またはアルキルである。)
で示される基。
Raは、好ましくは、水素原子またはC1−C5アルキルである。さらに好ましくは水素原子またはメチルである。
Rbは、好ましくは、水素原子である。
式(B−1):
Rbは、水素原子またはアルキルである。)
で示される基。
Raは、好ましくは、水素原子またはC1−C5アルキルである。さらに好ましくは水素原子またはメチルである。
Rbは、好ましくは、水素原子である。
式(B−2):
(式中、
Rcは、水素原子、ハロゲンまたはアルキルであり、
Rdは、アミノ、メルカプト、アルキルオキシ、NHCORe、NHCOCH2OReまたはN=NRfであり、
Reは、置換若しくは非置換のアルキルまたは置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基であり、
Rfは、水素原子またはアルキルである)
で示される基。
Rcは、好ましくは、水素原子またはC1−C5アルキルである。さらに好ましくは水素原子またはメチルである。
Rdは、好ましくは、NHCOPh、NHCOCH3、NHCOCH2OPh、NHCOCH2O−(4−tBu)Phである。
Rcは、水素原子、ハロゲンまたはアルキルであり、
Rdは、アミノ、メルカプト、アルキルオキシ、NHCORe、NHCOCH2OReまたはN=NRfであり、
Reは、置換若しくは非置換のアルキルまたは置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基であり、
Rfは、水素原子またはアルキルである)
で示される基。
Rcは、好ましくは、水素原子またはC1−C5アルキルである。さらに好ましくは水素原子またはメチルである。
Rdは、好ましくは、NHCOPh、NHCOCH3、NHCOCH2OPh、NHCOCH2O−(4−tBu)Phである。
式(B−3):
(式中、
Rgは、ハロゲン、アミノ、メルカプト、アルキルオキシ、NHCORi、NHCOCH2ORiまたはN=NRjであり、
Rhは、水素原子、ハロゲン、アミノまたはアルキルオキシであり、
Riは、置換若しくは非置換のアルキルまたは置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基であり、
Rjは、水素原子またはアルキルである)
で示される基。
Rgは、好ましくは、NHCOPh、NHCOCH3、NHCOCH2OPh、NHCOCH2O−(4−tBu)Phである。
Rhは、好ましくは、水素原子である。
Rgは、ハロゲン、アミノ、メルカプト、アルキルオキシ、NHCORi、NHCOCH2ORiまたはN=NRjであり、
Rhは、水素原子、ハロゲン、アミノまたはアルキルオキシであり、
Riは、置換若しくは非置換のアルキルまたは置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基であり、
Rjは、水素原子またはアルキルである)
で示される基。
Rgは、好ましくは、NHCOPh、NHCOCH3、NHCOCH2OPh、NHCOCH2O−(4−tBu)Phである。
Rhは、好ましくは、水素原子である。
式(B−4):
(式中、
Rkは、アミノ、NHCORm、NHCOCH2ORmまたはN=NRnであり、
Rmは、置換若しくは非置換のアルキルまたは置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基であり、
Rnは、水素原子またはアルキルである)
で示される基。
Rkは、好ましくは、NHCOPh、NHCOCH3、NHCOCH(CH3)2、NHCOCH2OPh、NHCOCH2O−(4−tBu)Phである。
Rkは、アミノ、NHCORm、NHCOCH2ORmまたはN=NRnであり、
Rmは、置換若しくは非置換のアルキルまたは置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基であり、
Rnは、水素原子またはアルキルである)
で示される基。
Rkは、好ましくは、NHCOPh、NHCOCH3、NHCOCH(CH3)2、NHCOCH2OPh、NHCOCH2O−(4−tBu)Phである。
Z1およびZ2の「水酸基保護基」としては、上記「核酸合成に用いられる保護基で保護された水酸基」の保護基として挙げた保護基が挙げられる。好ましくは、アルキル、アルケニル、「脂肪族アシル」、「芳香族アシル」等が挙げられる。
さらに好ましくは、アセチル、t−ブチル、t−ブトキシメチル、メトキシメチル、テトラヒドロピラニル、1−エトキシエチル、1−(2−クロロエトキシ)エチル、2−トリメチルシリルエチル、p−クロロフェニル、2,4−ジニトロフェニル、ベンジル、ベンゾイル、p−フェニルベンゾイル、2,6−ジクロロベンジル、レブリノイル、ジフェニルメチル、p−ニトロベンジル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、トリフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、ギ酸ベンゾイル、クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、ピバロイル、イソブチリル、9−フルオレニルメチルオキシカルボニル、メタンスルホニル、p−トルエンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、トリフェニルメチル(トリチル)、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル(DMTr)、トリメトキシトリチル、9−フェニルキサンチン−9−イル(Pixyl)または9−(p−メトキシフェニル)キサンチン−9−イル(MOX)である。特に好ましくは、ベンジル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル、トリメトキシトリチル等が挙げられる。
さらに好ましくは、アセチル、t−ブチル、t−ブトキシメチル、メトキシメチル、テトラヒドロピラニル、1−エトキシエチル、1−(2−クロロエトキシ)エチル、2−トリメチルシリルエチル、p−クロロフェニル、2,4−ジニトロフェニル、ベンジル、ベンゾイル、p−フェニルベンゾイル、2,6−ジクロロベンジル、レブリノイル、ジフェニルメチル、p−ニトロベンジル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、トリフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、ギ酸ベンゾイル、クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、ピバロイル、イソブチリル、9−フルオレニルメチルオキシカルボニル、メタンスルホニル、p−トルエンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、トリフェニルメチル(トリチル)、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル(DMTr)、トリメトキシトリチル、9−フェニルキサンチン−9−イル(Pixyl)または9−(p−メトキシフェニル)キサンチン−9−イル(MOX)である。特に好ましくは、ベンジル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル、トリメトキシトリチル等が挙げられる。
「反応性リン基」としては、ホスホジエステルおよびホスホロチオエートヌクレオシド間結合が含まれるヌクレオシド間結合を形成するために有用なリン原子を含有する基を意味する。当該分野で公知の反応性リン基を用いることができ、例えば、ホスホロアミダイト、H−ホスホネート、リン酸ジエステル、リン酸トリエステル、リン含有キラル補助剤等が挙げられる。
具体的には、以下に記載の式:(Z2−1)〜(Z2−3)で示される基が挙げられる。
式(Z2−1):−P(ORX1)(NRX2)(式中、RX1は置換若しくは非置換のアルキルであり、RX2は置換若しくは非置換のアルキルである。)で示される基。RX1は好ましくは、アルキルまたはシアノアルキルである。RX2は好ましくは、アルキルである。
式(Z2−2):−P(=RX3)(ORX4)2(式中、RX3はOまたはSであり、RX4は、それぞれ独立して、水素原子、核酸合成に用いられる保護基、置換若しくは非置換のアルキル、または置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基である。)で示される基。RX3は好ましくは、Oであり、RX4は好ましくは水素原子である。
式(Z2−3):−P(=RX5)H(ORX6)(式中、RX5はOまたはSであり、RX6は水素原子、核酸合成に用いられる保護基、または置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基である。)で示される基。RX5は好ましくは、Oであり、RX6は好ましくは水素原子である。
具体的には、以下に記載の式:(Z2−1)〜(Z2−3)で示される基が挙げられる。
式(Z2−1):−P(ORX1)(NRX2)(式中、RX1は置換若しくは非置換のアルキルであり、RX2は置換若しくは非置換のアルキルである。)で示される基。RX1は好ましくは、アルキルまたはシアノアルキルである。RX2は好ましくは、アルキルである。
式(Z2−2):−P(=RX3)(ORX4)2(式中、RX3はOまたはSであり、RX4は、それぞれ独立して、水素原子、核酸合成に用いられる保護基、置換若しくは非置換のアルキル、または置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基である。)で示される基。RX3は好ましくは、Oであり、RX4は好ましくは水素原子である。
式(Z2−3):−P(=RX5)H(ORX6)(式中、RX5はOまたはSであり、RX6は水素原子、核酸合成に用いられる保護基、または置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基である。)で示される基。RX5は好ましくは、Oであり、RX6は好ましくは水素原子である。
RX4およびRX6の「核酸合成に用いられる保護基」とは、上記水酸基の保護基を意味する。好ましい保護基としては、アルキル、アルケニル、「脂肪族アシル」、「芳香族アシル」、「1〜3個の芳香族炭素環式基で置換されたメチル」、「ハロゲン、アルキルオキシまたはニトロで置換された芳香族炭素環式基」等が挙げられる。さらに好ましくは、ベンゾイル、ベンジル、2−クロロフェニル、4−クロロフェニル、2−プロペニル等が挙げられる。
反応性リン基として、特に好ましくは、ジイソプロピルシアノエトキシホスホロアミダイト(式:−P(OC2H4CN)(N(i−Pr)2)で示される基)またはH−ホスホネート(式:−P(=O)H(OH)で示される基)等が挙げられる。
「ハロゲン」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子を包含する。特にフッ素原子、および塩素原子が好ましい。
「アルキル」とは、炭素数1〜15、好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜6、さらに好ましくは炭素数1〜4の直鎖または分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、n−へプチル、イソヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、n−ノニル、n−デシル等が挙げられる。
「アルキル」の好ましい態様として、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチルが挙げられる。さらに好ましい態様として、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、tert−ブチルが挙げられる。
「アルキル」の好ましい態様として、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチルが挙げられる。さらに好ましい態様として、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、tert−ブチルが挙げられる。
「アルケニル」とは、任意の位置に1以上の二重結合を有する、炭素数2〜15、好ましくは炭素数2〜10、より好ましくは炭素数2〜6、さらに好ましくは炭素数2〜4の直鎖または分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、プレニル、ブタジエニル、ペンテニル、イソペンテニル、ペンタジエニル、ヘキセニル、イソヘキセニル、ヘキサジエニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル等が挙げられる。
「アルケニル」の好ましい態様として、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニルが挙げられる。
「アルケニル」の好ましい態様として、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニルが挙げられる。
「アルキニル」とは、任意の位置に1以上の三重結合を有する、炭素数2〜10、好ましくは炭素数2〜8、さらに好ましくは炭素数2〜6、さらに好ましくは炭素数2〜4の直鎖または分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、ノニニル、デシニル等を包含する。これらはさらに任意の位置に二重結合を有していてもよい。
「アルキニル」の好ましい態様として、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニルが挙げられる。
「アルキニル」の好ましい態様として、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニルが挙げられる。
「芳香族炭素環式基」とは、単環または2環以上の、環状芳香族炭化水素基を意味する。例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル等が挙げられる。
「芳香族炭素環式基」の好ましい態様として、フェニルが挙げられる。
「芳香族炭素環式基」の好ましい態様として、フェニルが挙げられる。
「非芳香族炭素環式基」とは、単環または2環以上の、環状飽和炭化水素基または環状非芳香族不飽和炭化水素基を意味する。2環以上の非芳香族炭素環式基は、単環または2環以上の非芳香族炭素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」における環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族炭素環式基」は、以下のように架橋している基、またはスピロ環を形成する基も包含する。
単環の非芳香族炭素環式基としては、炭素数3〜16が好ましく、より好ましくは炭素数3〜12、さらに好ましくは炭素数4〜8である。例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロヘキサジエニル等が挙げられる。
2環以上の非芳香族炭素環式基としては、例えば、インダニル、インデニル、アセナフチル、テトラヒドロナフチル、フルオレニル等が挙げられる。
さらに、「非芳香族炭素環式基」は、以下のように架橋している基、またはスピロ環を形成する基も包含する。
2環以上の非芳香族炭素環式基としては、例えば、インダニル、インデニル、アセナフチル、テトラヒドロナフチル、フルオレニル等が挙げられる。
「芳香族複素環式基」とは、O、SおよびNから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に1以上有する、単環または2環以上の、芳香族環式基を意味する。
2環以上の芳香族複素環式基は、単環または2環以上の芳香族複素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」における環が縮合したものも包含する。
単環の芳香族複素環式基としては、5〜8員が好ましく、より好ましくは5員または6員である。例えば、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、フリル、チエニル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル等が挙げられる。
2環の芳香族複素環式基としては、例えば、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、インドリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、プリニル、プテリジニル、ベンズイミダゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、ベンズイソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジル、トリアゾロピリジル、イミダゾチアゾリル、ピラジノピリダジニル、オキサゾロピリジル、チアゾロピリジル等が挙げられる。
3環以上の芳香族複素環式基としては、例えば、カルバゾリル、アクリジニル、キサンテニル、フェノチアジニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、ジベンゾフリル等が挙げられる。
2環以上の芳香族複素環式基は、単環または2環以上の芳香族複素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」における環が縮合したものも包含する。
単環の芳香族複素環式基としては、5〜8員が好ましく、より好ましくは5員または6員である。例えば、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、フリル、チエニル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル等が挙げられる。
2環の芳香族複素環式基としては、例えば、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、インドリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、プリニル、プテリジニル、ベンズイミダゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、ベンズイソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジル、トリアゾロピリジル、イミダゾチアゾリル、ピラジノピリダジニル、オキサゾロピリジル、チアゾロピリジル等が挙げられる。
3環以上の芳香族複素環式基としては、例えば、カルバゾリル、アクリジニル、キサンテニル、フェノチアジニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、ジベンゾフリル等が挙げられる。
「非芳香族複素環式基」とは、O、SおよびNから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に1以上有する、単環または2環以上の、非芳香族環式基を意味する。
2環以上の非芳香族複素環式基は、単環または2環以上の非芳香族複素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」、および/または「芳香族複素環式基」におけるそれぞれの環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族複素環式基」は、以下のように架橋している基、またはスピロ環を形成する基も包含する。
単環の非芳香族複素環式基としては、3〜8員が好ましく、より好ましくは5員または6員である。例えば、ジオキサニル、チイラニル、オキシラニル、オキセタニル、オキサチオラニル、アゼチジニル、チアニル、チアゾリジニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジル、ピペラジニル、モルホリニル、モルホリノ、チオモルホリニル、チオモルホリノ、ジヒドロピリジル、テトラヒドロピリジル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、ジヒドロチアゾリル、テトラヒドロチアゾリル、テトラヒドロイソチアゾリル、ジヒドロオキサジニル、ヘキサヒドロアゼピニル、テトラヒドロジアゼピニル、テトラヒドロピリダジニル、ヘキサヒドロピリミジニル、ジオキソラニル、ジオキサジニル、アジリジニル、ジオキソリニル、オキセパニル、チオラニル、チイニル、チアジニル等が挙げられる。
2環以上の非芳香族複素環式基としては、例えば、インドリニル、イソインドリニル、クロマニル、イソクロマニル等が挙げられる。
2環以上の非芳香族複素環式基は、単環または2環以上の非芳香族複素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」、および/または「芳香族複素環式基」におけるそれぞれの環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族複素環式基」は、以下のように架橋している基、またはスピロ環を形成する基も包含する。
2環以上の非芳香族複素環式基としては、例えば、インドリニル、イソインドリニル、クロマニル、イソクロマニル等が挙げられる。
「アルキルオキシ」とは、上記「アルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、n−ブチルオキシ、tert−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、sec−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、へキシルオキシ等が挙げられる。
「アルキルオキシ」の好ましい態様として、メトキシ、エトキシ、n−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、tert−ブチルオキシが挙げられる。
「アルキルオキシ」の好ましい態様として、メトキシ、エトキシ、n−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、tert−ブチルオキシが挙げられる。
「ハロアルキル」とは、1以上の上記「ハロゲン」が上記「アルキル」に結合した基を意味する。例えば、モノフルオロメチル、モノフルオロエチル、モノフルオロプロピル、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル、モノクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、2,2,2−トリフルオロエチル、2,2,2−トリクロロエチル、1,2−ジブロモエチル、1,1,1−トリフルオロプロパン−2−イル等が挙げられる。
「ハロアルキル」の好ましい態様として、トリフルオロメチル、トリクロロメチルが挙げられる。
「ハロアルキル」の好ましい態様として、トリフルオロメチル、トリクロロメチルが挙げられる。
「アルキルアミノ」には、モノアルキルアミノとジアルキルアミノが含まれる。
「モノアルキルアミノ」とは、上記「アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子1個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、イソプロピルアミノ等が挙げられる。好ましくは、メチルアミノ、エチルアミノが挙げられる。
「ジアルキルアミノ」とは、上記「アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子2個と置き換わった基を意味する。2個のアルキル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、N,N−ジイソプロピルアミノ、N−メチル−N−エチルアミノ、N−イソプロピル−N−エチルアミノ等が挙げられる。好ましくは、ジメチルアミノ、ジエチルアミノが挙げられる。
「モノアルキルアミノ」とは、上記「アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子1個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、イソプロピルアミノ等が挙げられる。好ましくは、メチルアミノ、エチルアミノが挙げられる。
「ジアルキルアミノ」とは、上記「アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子2個と置き換わった基を意味する。2個のアルキル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、N,N−ジイソプロピルアミノ、N−メチル−N−エチルアミノ、N−イソプロピル−N−エチルアミノ等が挙げられる。好ましくは、ジメチルアミノ、ジエチルアミノが挙げられる。
「置換若しくは非置換のアルキル」、「置換若しくは非置換のアルケニル」、「置換若しくは非置換のアルキニル」の置換基としては、次の置換基が挙げられる。任意の位置の炭素原子が次の置換基から選択される1以上の基と結合していてもよい。
置換基:ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、モノアルキルカルボニルアミノ、ジアルキルカルボニルアミノ、モノアルキルスルホニルアミノ、ジアルキルスルホニルアミノ、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、モノアルキルカルバモイル、ジアルキルカルバモイル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、芳香族炭素環式基、非芳香族炭素環式基、芳香族複素環式基、非芳香族複素環式基、芳香族炭素環オキシ、非芳香族炭素環オキシ、芳香族複素環オキシ、非芳香族複素環オキシ、芳香族炭素環カルボニル、非芳香族炭素環カルボニル、芳香族複素環カルボニル、非芳香族複素環カルボニル、芳香族炭素環オキシカルボニル、非芳香族炭素環オキシカルボニル、芳香族複素環オキシカルボニル、非芳香族複素環オキシカルボニル、芳香族炭素環アルキルオキシ、非芳香族炭素環アルキルオキシ、芳香族複素環アルキルオキシ、非芳香族複素環アルキルオキシ、芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、芳香族炭素環アルキルアミノ、非芳香族炭素環アルキルアミノ、芳香族複素環アルキルアミノ、非芳香族複素環アルキルアミノ、芳香族炭素環スルファニル、非芳香族炭素環スルファニル、芳香族複素環スルファニル、非芳香族複素環スルファニル、非芳香族炭素環スルホニル、芳香族炭素環スルホニル、芳香族複素環スルホニル、および非芳香族複素環スルホニル。
置換基:ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、モノアルキルカルボニルアミノ、ジアルキルカルボニルアミノ、モノアルキルスルホニルアミノ、ジアルキルスルホニルアミノ、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、モノアルキルカルバモイル、ジアルキルカルバモイル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、芳香族炭素環式基、非芳香族炭素環式基、芳香族複素環式基、非芳香族複素環式基、芳香族炭素環オキシ、非芳香族炭素環オキシ、芳香族複素環オキシ、非芳香族複素環オキシ、芳香族炭素環カルボニル、非芳香族炭素環カルボニル、芳香族複素環カルボニル、非芳香族複素環カルボニル、芳香族炭素環オキシカルボニル、非芳香族炭素環オキシカルボニル、芳香族複素環オキシカルボニル、非芳香族複素環オキシカルボニル、芳香族炭素環アルキルオキシ、非芳香族炭素環アルキルオキシ、芳香族複素環アルキルオキシ、非芳香族複素環アルキルオキシ、芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、芳香族炭素環アルキルアミノ、非芳香族炭素環アルキルアミノ、芳香族複素環アルキルアミノ、非芳香族複素環アルキルアミノ、芳香族炭素環スルファニル、非芳香族炭素環スルファニル、芳香族複素環スルファニル、非芳香族複素環スルファニル、非芳香族炭素環スルホニル、芳香族炭素環スルホニル、芳香族複素環スルホニル、および非芳香族複素環スルホニル。
「置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基」の「芳香族炭素環」の環上の置換基としては、次の置換基が挙げられる。環上の任意の位置の原子が次の置換基から選択される1以上の基と結合していてもよい。
置換基:ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルオキシアルキル、アルキルオキシアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、モノアルキルカルボニルアミノ、ジアルキルカルボニルアミノ、モノアルキルスルホニルアミノ、ジアルキルスルホニルアミノ、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、モノアルキルカルバモイル、ジアルキルカルバモイル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、芳香族炭素環式基、非芳香族炭素環式基、芳香族複素環式基、非芳香族複素環式基、芳香族炭素環オキシ、非芳香族炭素環オキシ、芳香族複素環オキシ、非芳香族複素環オキシ、芳香族炭素環カルボニル、非芳香族炭素環カルボニル、芳香族複素環カルボニル、非芳香族複素環カルボニル、芳香族炭素環オキシカルボニル、非芳香族炭素環オキシカルボニル、芳香族複素環オキシカルボニル、非芳香族複素環オキシカルボニル、芳香族炭素環アルキル、非芳香族炭素環アルキル、芳香族複素環アルキル、非芳香族複素環アルキル、芳香族炭素環アルキルオキシ、非芳香族炭素環アルキルオキシ、芳香族複素環アルキルオキシ、非芳香族複素環アルキルオキシ、芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、芳香族炭素環アルキルアミノ、非芳香族炭素環アルキルアミノ、芳香族複素環アルキルアミノ、非芳香族複素環アルキルアミノ、芳香族炭素環スルファニル、非芳香族炭素環スルファニル、芳香族複素環スルファニル、非芳香族複素環スルファニル、非芳香族炭素環スルホニル、芳香族炭素環スルホニル、芳香族複素環スルホニル、および非芳香族複素環スルホニル。
置換基:ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルオキシアルキル、アルキルオキシアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、モノアルキルカルボニルアミノ、ジアルキルカルボニルアミノ、モノアルキルスルホニルアミノ、ジアルキルスルホニルアミノ、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、モノアルキルカルバモイル、ジアルキルカルバモイル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、芳香族炭素環式基、非芳香族炭素環式基、芳香族複素環式基、非芳香族複素環式基、芳香族炭素環オキシ、非芳香族炭素環オキシ、芳香族複素環オキシ、非芳香族複素環オキシ、芳香族炭素環カルボニル、非芳香族炭素環カルボニル、芳香族複素環カルボニル、非芳香族複素環カルボニル、芳香族炭素環オキシカルボニル、非芳香族炭素環オキシカルボニル、芳香族複素環オキシカルボニル、非芳香族複素環オキシカルボニル、芳香族炭素環アルキル、非芳香族炭素環アルキル、芳香族複素環アルキル、非芳香族複素環アルキル、芳香族炭素環アルキルオキシ、非芳香族炭素環アルキルオキシ、芳香族複素環アルキルオキシ、非芳香族複素環アルキルオキシ、芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、芳香族炭素環アルキルアミノ、非芳香族炭素環アルキルアミノ、芳香族複素環アルキルアミノ、非芳香族複素環アルキルアミノ、芳香族炭素環スルファニル、非芳香族炭素環スルファニル、芳香族複素環スルファニル、非芳香族複素環スルファニル、非芳香族炭素環スルホニル、芳香族炭素環スルホニル、芳香族複素環スルホニル、および非芳香族複素環スルホニル。
以下に、本発明の式(I)で示される化合物の好ましい様態を説明する。
Y1−Y2はS(=O)−NR6、S(=O)2−NR6、NR6−S(=O)またはNR6−S(=O)2である。好ましくは、S(=O)2−NR6またはNR6−S(=O)2である。さらに好ましくは、S(=O)2−NR6である。
R6は水素原子、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルである。好ましくは、水素原子または置換若しくは非置換のアルキルである。さらに好ましくは、水素原子またはアルキルである。
R6は水素原子、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルである。好ましくは、水素原子または置換若しくは非置換のアルキルである。さらに好ましくは、水素原子またはアルキルである。
Bxは核酸塩基部分である。より好ましくは、置換若しくは非置換のプリン−9−イルまたは置換若しくは非置換の2−オキソ−ピリミジン−1−イルである。
Z1はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基保護基または反応性リン基である。好ましくは、水素原子または水酸基保護基である。より好ましくは、水素原子、アセチル、t−ブチル、t−ブトキシメチル、メトキシメチル、テトラヒドロピラニル、1−エトキシエチル、1−(2−クロロエトキシ)エチル、2−トリメチルシリルエチル、p−クロロフェニル、2,4−ジニトロフェニル、ベンジル、ベンゾイル、p−フェニルベンゾイル、2,6−ジクロロベンジル、レブリノイル、ジフェニルメチル、p−ニトロベンジル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、トリフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、ギ酸ベンゾイル、クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、ピバロイル、イソブチリル、9−フルオレニルメチルオキシカルボニル、メタンスルホニル、p−トルエンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、トリフェニルメチル(トリチル)、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル(DMTr)、トリメトキシトリチル、9−フェニルキサンチン−9−イル(Pixyl)または9−(p−メトキシフェニル)キサンチン−9−イル(MOX)である。特に好ましくは、水素原子、ベンジル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル、トリメトキシトリチル等である。
Z2はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基保護基または反応性リン基である。好ましくは、水素原子または反応性リン基である。より好ましくは、水素原子、ジイソプロピルシアノエトキシホスホロアミダイトまたはH−ホスホネートである。
R1およびR2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルである。好ましくは、水素原子またはアルキルである。
R3はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルである。好ましくは、水素原子、ハロゲン、シアノまたはアルキルである。
R4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルである。好ましくは、水素原子、ハロゲン、シアノまたはアルキルである。
R4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルである。好ましくは、水素原子、ハロゲン、シアノまたはアルキルである。
R5は水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルである。好ましくは、水素原子、ハロゲン、シアノ、またはアルキルである。
nは0〜3の整数である。好ましくは、0または1である。
式(I)で示される化合物は、特定の異性体に限定するものではなく、全ての可能な異性体(例えば、ケト−エノール異性体、イミン−エナミン異性体、ジアステレオ異性体、光学異性体、回転異性体等)、ラセミ体またはそれらの混合物を含む。
式(I)で示される化合物の一つ以上の水素、炭素および/または他の原子は、それぞれ水素、炭素および/または他の原子の同位体で置換され得る。そのような同位体の例としては、それぞれ2H、3H、11C、13C、14C、15N、18O、17O、31P、32P、35S、18F、123Iおよび36Clのように、水素、炭素、窒素、酸素、リン、硫黄、フッ素、ヨウ素および塩素が包含される。式(I)で示される化合物は、そのような同位体で置換された化合物も包含する。該同位体で置換された化合物は、医薬品としても有用であり、式(I)で示される化合物のすべての放射性標識体を包含する。また該「放射性標識体」を製造するための「放射性標識化方法」も本発明に包含され、代謝薬物動態研究、結合アッセイにおける研究および/または診断のツールとして有用である。
式(I)で示される化合物の放射性標識体は、当該技術分野で周知の方法で調製できる。例えば、式(I)で示される化合物のトリチウム標識化合物は、例えば、トリチウムを用いた触媒的脱ハロゲン化反応によって、式(I)で示される特定の化合物にトリチウムを導入することで調製できる。この方法は、適切な触媒、例えばPd/Cの存在下、塩基の存在下または非存在下で、式(I)で示される化合物が適切にハロゲン置換された前駆体とトリチウムガスとを反応させることを包含する。他のトリチウム標識化合物を調製するための適切な方法としては、文書Isotopes in the Physical and Biomedical Sciences,Vol.1,Labeled Compounds (Part A),Chapter 6 (1987年)を参照にできる。14C−標識化合物は、14C炭素を有する原料を用いることによって調製できる。
本発明は、式(I)で示される化合物の生成可能な塩を含有する。該塩としては、例えば、アルカリ金属塩(ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩等)、アルカリ土類金属塩(カルシウム塩、マグネシウム塩等)、金属塩(アルミニウム塩、鉄塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル塩、コバルト塩等)、アンモニウム塩、アミン塩(t−オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、N−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N,N’−ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノールアミン塩、N−ベンジル−フェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン塩等)、無機酸塩(フッ化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩等のハロゲン原子化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等)、アルカンスルホン酸塩(メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩等)、芳香族炭素環式基スルホン酸塩(ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩等)、有機酸塩(酢酸塩、リンゴ酸塩、フマル酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、シュウ酸塩、マレイン酸塩等)、アミノ酸塩(グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩等)等が挙げられる。これらの塩は、通常行われる方法によって形成させることができる。
本発明の式(I)で示される化合物またはその塩は、溶媒和物(例えば、水和物等)および/または結晶多形を形成する場合があり、本発明はそのような各種の溶媒和物および結晶多形も包含する。「溶媒和物」は、式(I)で示される化合物に対し、任意の数の溶媒分子(例えば、水分子等)と配位していてもよい。式(I)で示される化合物またはその製薬上許容される塩を、大気中に放置することにより、水分を吸収し、吸着水が付着する場合や、水和物を形成する場合がある。また、式(I)で示される化合物またはその製薬上許容される塩を、再結晶することでそれらの結晶多形を形成する場合がある。
本発明に係る式(I)で示される化合物は、当該分野において公知の手法を参酌しながら合成することができる。例えば、下記に示す一般的合成法によって製造することができる。また、抽出、精製等は、通常の有機化学の実験で行う処理を行えばよい。
(上記反応式中、P1およびP2は、それぞれ独立して、水酸基保護基であり、好ましくは、ベンジル、ナフチル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリルまたはベンゾイルである。Z1は、水酸基保護基であり、好ましくは、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルまたはトリメトキシトリチルである。Z2は、反応性リン基であり、好ましくは、ジイソプロピルシアノエトキシホスホロアミダイトまたはH−ホスホネートである。その他各記号は、式(I)で示される化合物における各記号と同意義である。)
化合物(a)の水酸基をチオアセチル基へ変換して化合物(b)を得る。チオアセチル基をスルホニルクロライドまたはスルフィニルクロライドへと変換して化合物(c)を得る。ついで置換アミンを反応させて化合物(d)とした後、アセトニドの脱保護と水酸基、スルホンアミド基の保護を同時に行い、化合物(e)を得る。塩基部を導入して化合物(f)を得た後、アセチル基を除去して化合物(g)を得る。化合物(g)の2´位水酸基をメシル基として化合物(h)とする。化合物(h)を酢酸ナトリウムまたは安息香酸ナトリウムなどと反応させた後、加水分解を行うことで化合物(i)を得る。2´位水酸基をトリフラート化して化合物(j)へ変換した後、塩基で処理することで化合物(k)を得る。続いて、3´位および5´位水酸基の保護基をはずし、必要に応じてR5に置換基を導入し、化合物(l)を得る。5´位水酸基に保護基(特に、メトキシ基で置換されていてもよいトリチル基)を導入し、化合物(m)を得る。3´位水酸基に反応性リン基(特にジイソプロピルシアノエトキシホスホロアミダイト)を導入して化合物(I−a)を得る。
また、例えば、本願明細書記載の実施例1のように、上記方法でBxがチミン、P1およびP2がベンジルの化合物(化合物k−1)を得た場合、以下の方法を用いて他の核酸塩基に変換することも可能である。
(上記反応式中、Bxは、チミン以外の核酸塩基であり、好ましくは、グアニンまたはアデニンである。Z1は、水酸基保護基であり、好ましくは、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルまたはトリメトキシトリチルである。Z2は、反応性リン基であり、好ましくは、ジイソプロピルシアノエトキシホスホロアミダイトまたはH−ホスホネートである。その他各記号は、式(I)で示される化合物における各記号と同意義である。)
工程1 化合物(n)の合成
上記方法で得られた化合物(k−1)をアセトニトリル、1,2−ジクロロエタン、トルエン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホン酸や四塩化スズ等の酸存在下で、シリル化された核酸塩基部分と25℃〜140℃で、1時間〜24時間反応させることにより化合物(n)を得ることができる。
工程2 化合物(o)の合成
化合物(n)をメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、パラジウム−炭素粉末や水酸化パラジウム−炭素粉末を加え、水素気流下、0℃〜40℃で、1時間〜24時間反応させることにより化合物(o)を得ることができる。必要に応じてR5に置換基を導入してもよい。
工程3 化合物(p)の合成
化合物(o)をピリジン中、4,4´‐ジメトキシトリチルクロリド等を加え、0℃〜80℃で、1時間〜24時間反応させることにより化合物(p)を得ることができる。
工程4 化合物(I‐b)の合成
化合物(p)をアセトニトリル、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン等の塩基の存在下で、2−シアノエチル−N,N−ジイソプロピルクロロホスホロアミダイト等あるいはテトラゾール、ジシアノイミダゾール等の酸存在下で2-シアノエチル−N,N,N´,N´−テトライソプロピルホスフォロアミダイト等を加え、0℃〜60℃で、1時間〜24時間反応させることにより化合物(I‐b)を得ることができる。
上記方法で得られた化合物(k−1)をアセトニトリル、1,2−ジクロロエタン、トルエン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホン酸や四塩化スズ等の酸存在下で、シリル化された核酸塩基部分と25℃〜140℃で、1時間〜24時間反応させることにより化合物(n)を得ることができる。
工程2 化合物(o)の合成
化合物(n)をメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、パラジウム−炭素粉末や水酸化パラジウム−炭素粉末を加え、水素気流下、0℃〜40℃で、1時間〜24時間反応させることにより化合物(o)を得ることができる。必要に応じてR5に置換基を導入してもよい。
工程3 化合物(p)の合成
化合物(o)をピリジン中、4,4´‐ジメトキシトリチルクロリド等を加え、0℃〜80℃で、1時間〜24時間反応させることにより化合物(p)を得ることができる。
工程4 化合物(I‐b)の合成
化合物(p)をアセトニトリル、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン等の塩基の存在下で、2−シアノエチル−N,N−ジイソプロピルクロロホスホロアミダイト等あるいはテトラゾール、ジシアノイミダゾール等の酸存在下で2-シアノエチル−N,N,N´,N´−テトライソプロピルホスフォロアミダイト等を加え、0℃〜60℃で、1時間〜24時間反応させることにより化合物(I‐b)を得ることができる。
上記の工程において、以下の中間体は有用である。
式:
(式中、Z1およびZ2はそれぞれ独立して、水素原子または水酸基保護基である。その他各記号は、式(I)で示される化合物における各記号と同意義である。)で示される化合物。
Z1は、好ましくは、水素、ベンジル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルまたはトリメトキシトリチルである。特に好ましくは、水素、ベンジル、ジメトキシトリチルである。
Z2は、好ましくは、水素、ベンジルまたはトリエチルシリルである。
式:
Z1は、好ましくは、水素、ベンジル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチルまたはトリメトキシトリチルである。特に好ましくは、水素、ベンジル、ジメトキシトリチルである。
Z2は、好ましくは、水素、ベンジルまたはトリエチルシリルである。
本発明のヌクレオシドとは、化合物(I)のZ1およびZ2が水素である化合物を意味する。
本発明のヌクレオチドとは、化合物(I)のZ2が反応性リン基である化合物を意味する。
本発明には、式(I)で示される化合物から調製される以下のオリゴヌクレオチドまたはその製薬上許容される塩も含まれる。
式(II):
(式中、
Y1−Y2はS(=O)−NR6、S(=O)2−NR6、NR6−S(=O)またはNR6−S(=O)2であり、
R6は水素原子、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Bxは核酸塩基部分であり、
R1およびR2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R3はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R5は水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
nは0〜3の整数である)
で示されるヌクレオシド構造を1以上含有するオリゴヌクレオチドまたはその製薬上許容される塩。
式(II):
Y1−Y2はS(=O)−NR6、S(=O)2−NR6、NR6−S(=O)またはNR6−S(=O)2であり、
R6は水素原子、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Bxは核酸塩基部分であり、
R1およびR2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R3はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R5は水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
nは0〜3の整数である)
で示されるヌクレオシド構造を1以上含有するオリゴヌクレオチドまたはその製薬上許容される塩。
式中の各記号は式(I)で示される化合物と同様である。
本発明のオリゴヌクレオチドは、式(II)で示されるヌクレオシド構造を任意の位置に少なくとも1つ含有する2〜50塩基、好ましくは8〜30塩基の長さのオリゴヌクレオチドである。その位置および数は特に限定されず、目的に応じて適宜設計され得る。例えば式(II)で示されるヌクレオシド構造を、オリゴヌクレオチドの3´末端または5´末端に含有してもよい。3´末端に含まれる場合、以下の形となる。
(式中、各記号は、式(I)で示される化合物における各記号と同意義である。)
5´末端に含まれる場合、以下の形となる。
(式中、各記号は、式(I)で示される化合物における各記号と同意義である。)
5´末端に含まれる場合、以下の形となる。
本発明のオリゴヌクレオチドの3´末端および/または5´末端は修飾されていてもよい。オリゴヌクレオチドの追跡を可能にするため、オリゴヌクレオチドの薬物動態または薬力学を改善するため、あるいはオリゴヌクレオチドの安定性または結合親和性を向上させるために、当該分野で公知の修飾基を利用することができる。例えば、水酸基の保護基、レポーター分子、コレステロール、リン脂質、色素、蛍光分子等が挙げられる。
また、本発明のオリゴヌクレオチドの3´末端および/または5´末端はリン酸エステル部分を含んでいてもよい。「リン酸エステル部分」とは、リン酸エステル並びに修飾リン酸エステルが含まれる、末端リン酸基を意味する。リン酸エステル部分は、いずれの末端に位置してもよいが、5’−末端ヌクレオシドであることが好ましい。具体的には、式:−O−P(=O)(OH)OHで示される基またはその修飾基である。つまり、OおよびOHの1以上が、H、O、S、N(RX)、またはアルキル(ここでRXは、H、アミノ保護基、または置換若しくは非置換のアルキルである)で置換されていてもよい。5’および/または3’−末端基は、それぞれ独立して置換または非置換の、1〜3のリン酸エステル部分を含んでいてもよい。
また、本発明のオリゴヌクレオチドの3´末端および/または5´末端はリン酸エステル部分を含んでいてもよい。「リン酸エステル部分」とは、リン酸エステル並びに修飾リン酸エステルが含まれる、末端リン酸基を意味する。リン酸エステル部分は、いずれの末端に位置してもよいが、5’−末端ヌクレオシドであることが好ましい。具体的には、式:−O−P(=O)(OH)OHで示される基またはその修飾基である。つまり、OおよびOHの1以上が、H、O、S、N(RX)、またはアルキル(ここでRXは、H、アミノ保護基、または置換若しくは非置換のアルキルである)で置換されていてもよい。5’および/または3’−末端基は、それぞれ独立して置換または非置換の、1〜3のリン酸エステル部分を含んでいてもよい。
本発明のオリゴヌクレオチドは、式(II)で示されるヌクレオシド構造を少なくとも1つ含有していれば、他の部分が天然の核酸と同じであっても、当該分野で公知のヌクレオチドの修飾を有していてもよい。
本発明のオリゴヌクレオチドのリン酸部分としては、天然の核酸が有するリン酸ジエステル結合、S−オリゴ(ホスホロチオエート)、M−オリゴ(メチルフォスフォネート)、ボラノホスフェート等が挙げられる。
本発明のオリゴヌクレオチド中の式(II)で示されるヌクレオシド構造以外の塩基部分は、上記「Bx」について定義した任意の核酸塩基であってよい。
本発明のオリゴヌクレオチド中の式(II)で示されるヌクレオシド構造以外の糖部分としては、天然のリボース若しくはデオキシリボース、公知の修飾を有するリボース若しくはデオキシリボース等が挙げられる。公知の修飾としては、例えば、2´−O−CH2−CH2−O−CH3(2´MOE)、4´−CH2−O−2´(LNA、Locked nucleic acid)、AmNA(アミドBNA)(Bridged nucleic acid、WO2011/052436参照)等による修飾が挙げられる。
本発明のオリゴヌクレオチドのリン酸部分としては、天然の核酸が有するリン酸ジエステル結合、S−オリゴ(ホスホロチオエート)、M−オリゴ(メチルフォスフォネート)、ボラノホスフェート等が挙げられる。
本発明のオリゴヌクレオチド中の式(II)で示されるヌクレオシド構造以外の塩基部分は、上記「Bx」について定義した任意の核酸塩基であってよい。
本発明のオリゴヌクレオチド中の式(II)で示されるヌクレオシド構造以外の糖部分としては、天然のリボース若しくはデオキシリボース、公知の修飾を有するリボース若しくはデオキシリボース等が挙げられる。公知の修飾としては、例えば、2´−O−CH2−CH2−O−CH3(2´MOE)、4´−CH2−O−2´(LNA、Locked nucleic acid)、AmNA(アミドBNA)(Bridged nucleic acid、WO2011/052436参照)等による修飾が挙げられる。
また、本発明のオリゴヌクレオチドに含有されるヌクレオシド間の結合は、当該分野で公知の結合であれば、リン原子を有していない結合であってもよい。アルキル、非芳香族炭素環、ハロアルキル、ハロゲンで置換された非芳香族炭素環等を含むが、これらに限定されない。例えば、シロキサン、スルフィド、スルホキシド、スルホン、アセチル、ギ酸アセチル、チオギ酸アセチル、メチレンギ酸アセチル、チオギ酸アセチル、アルケニル、スルファマート、メチレンイミノ、メチレンヒドラジノ、スルホナート、スルホンアミド、アミドを含む。
本発明のオリゴヌクレオチドは、特定の異性体に限定するものではなく、全ての可能な異性体(例えば、ケト−エノール異性体、イミン−エナミン異性体、ジアステレオ異性体、光学異性体、回転異性体等)、ラセミ体またはそれらの混合物を含む。
本発明のオリゴヌクレオチドの一つ以上の水素、炭素および/または他の原子は、それぞれ水素、炭素および/または他の原子の同位体で置換され得る。そのような同位体の例としては、それぞれ2H、3H、11C、13C、14C、15N、18O、17O、31P、32P、35S、18F、123Iおよび36Clのように、水素、炭素、窒素、酸素、リン、硫黄、フッ素、ヨウ素および塩素が包含される。本発明のオリゴヌクレオチドは、そのような同位体で置換された化合物も包含する。該同位体で置換されたオリゴヌクレオチドは、医薬品としても有用であり、本発明のオリゴヌクレオチドのすべての放射性標識体を包含する。また該「放射性標識体」を製造するための「放射性標識化方法」も本発明に包含され、代謝薬物動態研究、結合アッセイにおける研究および/または診断のツールとして有用である。
本発明のオリゴヌクレオチドの放射性標識体は、当該技術分野で周知の方法で調製できる。例えば、トリチウムで標識した本発明のオリゴヌクレオチドは、トリチウムを用いた触媒的脱ハロゲン化反応によって、本発明のオリゴヌクレオチドにトリチウムを導入することで調製できる。この方法は、適切な触媒、例えばPd/Cの存在下、塩基の存在下または非存在下で、本発明のオリゴヌクレオチドが適切にハロゲン置換された前駆体とトリチウムガスとを反応させることを包含する。他のトリチウム標識化合物を調製するための適切な方法としては、文書Isotopes in the Physical and Biomedical Sciences,Vol.1,Labeled Compounds (Part A),Chapter 6 (1987年)を参照にできる。14C−標識化合物は、14C炭素を有する原料を用いることによって調製できる。
本発明は、本発明のオリゴヌクレオチドの製薬上許容される塩を含有する。該塩としては、例えば、アルカリ金属塩(ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩等)、アルカリ土類金属塩(カルシウム塩、マグネシウム塩等)、金属塩(アルミニウム塩、鉄塩、亜鉛塩、銅塩、ニッケル塩、コバルト塩等)、アンモニウム塩、アミン塩(t−オクチルアミン塩、ジベンジルアミン塩、モルホリン塩、グルコサミン塩、フェニルグリシンアルキルエステル塩、エチレンジアミン塩、N−メチルグルカミン塩、グアニジン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N,N’−ジベンジルエチレンジアミン塩、クロロプロカイン塩、プロカイン塩、ジエタノールアミン塩、N−ベンジル−フェネチルアミン塩、ピペラジン塩、テトラメチルアンモニウム塩、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン塩等)、無機酸塩(フッ化水素酸塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩のようなハロゲン原子化水素酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等)、アルカンスルホン酸塩(メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩)、芳香族複素環式基スルホン酸塩(ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩等)、有機酸塩(酢酸塩、リンゴ酸塩、フマル酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、シュウ酸塩、マレイン酸塩等)、アミノ酸塩(グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニチン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩等)等が挙げられる。これらの塩は、通常行われる方法によって形成させることができる。
本発明のオリゴヌクレオチドまたはその製薬上許容される塩は、溶媒和物(例えば、水和物等)および/または結晶多形を形成する場合があり、本発明はそのような各種の溶媒和物および結晶多形も包含する。「溶媒和物」は、本発明のオリゴヌクレオチドに対し、任意の数の溶媒分子(例えば、水分子等)と配位していてもよい。本発明のオリゴヌクレオチドまたはその製薬上許容される塩を、大気中に放置することにより、水分を吸収し、吸着水が付着する場合や、水和物を形成する場合がある。また、本発明のオリゴヌクレオチドまたはその製薬上許容される塩を、再結晶することでそれらの結晶多形を形成する場合がある。
本発明のオリゴヌクレオチドまたはその製薬上許容される塩は、プロドラッグを形成する場合があり、本発明はそのような各種のプロドラッグも包含する。プロドラッグは、化学的または代謝的に分解できる基を有する本発明化合物の誘導体であり、加溶媒分解によりまたは生理学的条件下でインビボにおいて薬学的に活性な本発明のオリゴヌクレオチドとなる化合物である。プロドラッグは、生体内における生理条件下で酵素的に酸化、還元、加水分解等を受けて本発明のオリゴヌクレオチドに変換される化合物、胃酸等により加水分解されて本発明のオリゴヌクレオチドに変換される化合物等を包含する。適当なプロドラッグ誘導体を選択する方法および製造する方法は、例えばDesign of Prodrugs, Elsevier, Amsterdam 1985に記載されている。プロドラッグは、それ自身が活性を有する場合がある。
本発明のオリゴヌクレオチドまたはその製薬上許容される塩がヒドロキシル基を有する場合は、例えば、ヒドロキシル基を有する化合物と適当なアシルハライド、適当な酸無水物、適当なスルホニルクロライド、適当なスルホニルアンハイドライドおよびミックスドアンハイドライドとを反応させることにより或いは縮合剤を用いて反応させることにより製造されるアシルオキシ誘導体やスルホニルオキシ誘導体のようなプロドラッグが例示される。例えば、CH3COO−、C2H5COO−、tert−BuCOO−、C15H31COO−、PhCOO−、(m−NaOOCPh)COO−、NaOOCCH2CH2COO−、CH3CH(NH2)COO−、CH2N(CH3)2COO−、CH3SO3−、CH3CH2SO3−、CF3SO3−、CH2FSO3−、CF3CH2SO3−、p−CH3O−PhSO3−、PhSO3−、p−CH3PhSO3−が挙げられる。
本発明のオリゴヌクレオチドは、式(I)で示される化合物を用いて、常法によって合成することができる。例えば、市販の核酸自動合成装置(例えば、AppliedBiosystems社製、(株)大日本精機製等)によって容易に合成することができる。合成法はホスホロアミダイトを用いた固相合成法、ハイドロジェンホスホネートを用いた固相合成法等がある。例えば、Tetrahedron Letters 22,1859−1862 (1981)、国際公開第2011/052436号等に開示されている。
式(II)で示されるヌクレオシド構造中のBxは、置換基が保護基で保護されていないことが好ましい。例えば、以下で示される基が挙げられる。
よって、式(I)で示される化合物中のBxが、保護基で保護された置換基を有する場合、オリゴヌクレオチド合成の際に、脱保護を行う。
本発明のオリゴヌクレオチドは、優れた一本鎖RNAに対する結合親和性とヌクレアーゼ耐性を示す。従って、該オリゴヌクレオチドは体内での持続性が非常によいと考えられる。よって、本発明の化合物(I)は、アンチセンスオリゴヌクレオチド等の核酸医薬品を合成するための材料として非常に有用である。本発明のオリゴヌクレオチドを利用した核酸医薬品は、無修飾の核酸医薬品と比較して、標的分子への親和性が高く、生体内で分解されにくくなり、より安定して効果を発揮する。
本発明のオリゴヌクレオチドを利用した核酸医薬品は、局所的あるいは全身的な治療のいずれが望まれるのか、または治療すべき領域に応じて、様々な方法により投与することができる。投与方法としては、例えば、局所的(点眼、膣内、直腸内、鼻腔内、経皮を含む)、経口的、または、非経口的であってもよい。非経口的投与としては、静脈内注射もしくは点滴、皮下、腹腔内もしくは筋肉内注入、吸引もしくは吸入による肺投与、硬膜下腔内投与、脳室内投与等が挙げられる。
本発明のオリゴヌクレオチドを利用した核酸医薬品を局所投与する場合、経皮パッチ、軟膏、ローション、クリーム、ゲル、滴下剤、坐剤、噴霧剤、液剤、散剤等の製剤を用いることができる。
経口投与用組成物としては、散剤、顆粒剤、水もしくは非水性媒体に溶解させた懸濁液または溶液、カプセル、粉末剤、錠剤等が挙げられる。
非経口、硬膜下腔、または、脳室内投与用組成物としては、バッファー、希釈剤およびその他の適当な添加剤を含む無菌水溶液等が挙げられる。
経口投与用組成物としては、散剤、顆粒剤、水もしくは非水性媒体に溶解させた懸濁液または溶液、カプセル、粉末剤、錠剤等が挙げられる。
非経口、硬膜下腔、または、脳室内投与用組成物としては、バッファー、希釈剤およびその他の適当な添加剤を含む無菌水溶液等が挙げられる。
本発明のオリゴヌクレオチドを利用した核酸医薬品は、核酸の有効量にその剤型に適した賦形剤、結合剤、湿潤剤、崩壊剤、滑沢剤、希釈剤等の各種医薬用添加剤を必要に応じて混合して得ることができる。注射剤の場合には適当な担体と共に滅菌処理を行なって製剤とすればよい。
賦形剤としては乳糖、白糖、ブドウ糖、デンプン、炭酸カルシウムまたは結晶セルロース等が挙げられる。結合剤としてはメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ゼラチンまたはポリビニルピロリドン等が挙げられる。崩壊剤としてはカルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテン末またはラウリル硫酸ナトリウム等が挙げられる。滑沢剤としてはタルク、ステアリン酸マグネシウムまたはマクロゴール等が挙げられる。坐剤の基剤としてはカカオ脂、マクロゴールまたはメチルセルロース等を用いることができる。また、液剤または乳濁性、懸濁性の注射剤として調製する場合には通常使用されている溶解補助剤、懸濁化剤、乳化剤、安定化剤、保存剤、等張剤等を適宜添加しても良い。経口投与の場合には嬌味剤、芳香剤等を加えても良い。
投与は、治療される病態の重度と反応度に依存し、治療コースは、数日から数ヶ月、あるいは、治癒が実現されるまで、または、病状の減退が達成されるまで持続する。最適投与スケジュールは、生体における薬剤蓄積の測定から計算が可能である。当該分野の当業者であれば、最適用量、投与法、および、繰り返し頻度を定めることができる。最適用量は、個々の核酸医薬品の相対的効力に応じて変動するが、一般に、インビトロおよびインビボの動物実験におけるIC50またはEC50に基づいて計算することが可能である。例えば、核酸の分子量(核酸配列および化学構造から導かれる)と、例えば、IC50のような効果的用量(実験的に導かれる)が与えられたならば、mg/kgで表される用量が通例に従って計算される。
なお、本明細書中で用いる略語は以下の意味を表す。
Ac:アセチル
Bn:ベンジル
DMTr:ジメトキシトリチル
Et:エチル
Hal:ハロゲン
i−Pr:イソプロピル
Me:メチル
Ms:メタンスルホニル
Nap:ナフチルメチル
Pac:フェノキシアセチル
Ph:フェニル
t−Bu:tert−ブチル
TES:トリエチルシリル
Tf:トリフルオロメタンスルホニル
Ac:アセチル
Bn:ベンジル
DMTr:ジメトキシトリチル
Et:エチル
Hal:ハロゲン
i−Pr:イソプロピル
Me:メチル
Ms:メタンスルホニル
Nap:ナフチルメチル
Pac:フェノキシアセチル
Ph:フェニル
t−Bu:tert−ブチル
TES:トリエチルシリル
Tf:トリフルオロメタンスルホニル
以下に本発明の実施例および参考例、ならびに試験例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
実施例で得られた化合物のNMR分析は162MHz、300MHz、400MHzで行い、CD3OD、CDCl3を用いて測定した。
工程1 化合物2の合成
窒素気流下、トリフェニルホスフィン(508mg,1.94mmol)のテトラヒドロフラン溶液(6.5mL)に氷冷下、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート(376μL,1.94mmol)を加えて25分間撹拌した。氷冷下、反応液に、化合物1(J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 4886参照)(646mg,1.61mmol)とチオ酢酸(139μL,1.94mmol)のテトラヒドロフラン溶液(3.25mL)を加えて室温下、4時間半撹拌した。溶媒を減圧留去した後、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=90:10→70:30)で精製し、化合物2(682mg,92%)を無色油状物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.32 (3H, s), 1.58 (3H, s), 2.32 (3H, s), 3.36-3.40 (2H, m), 3.46 (1H, d, J = 10.5 Hz), 3.68 (1H, d, J = 14.3 Hz), 4.23 (1H, d, J = 5.1 Hz), 4.39 (1H, d, J = 11.9 Hz), 4.49 (1H, d, J = 11.9 Hz), 4.56-4.62 (2H, m), 4.76 (1H, d, J = 11.9 Hz), 5.72 (1H, d, J = 3.8 Hz), 7.22-7.37 (10H, m).
工程2 化合物3の合成
室温下、2mol/L塩酸水溶液(0.36ml)とアセトニトリル(1.8ml)の混合溶液にN−クロロスクシンイミド(533mg,3.99mmol)を加えたのち氷冷した。反応液に化合物2(457mg,0.997mmol)のアセトニトリル溶液(1.2ml)を加えて氷冷し、30分間撹拌した。反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=90:10→70:30)で精製し、化合物3(372mg,77%)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.34 (3H, s), 1.70 (3H, s), 3.73 (1H, d, J = 10.4 Hz), 3.79 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.21-4.27 (2H, m), 4.54-4.60 (4H, m), 4.74 (1H, d, J = 11.9 Hz), 4.80 (1H, d, J = 14.8 Hz), 5.77 (1H, d, J = 3.6 Hz), 7.26-7.37 (13H, m).
窒素気流下、トリフェニルホスフィン(508mg,1.94mmol)のテトラヒドロフラン溶液(6.5mL)に氷冷下、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート(376μL,1.94mmol)を加えて25分間撹拌した。氷冷下、反応液に、化合物1(J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 4886参照)(646mg,1.61mmol)とチオ酢酸(139μL,1.94mmol)のテトラヒドロフラン溶液(3.25mL)を加えて室温下、4時間半撹拌した。溶媒を減圧留去した後、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=90:10→70:30)で精製し、化合物2(682mg,92%)を無色油状物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.32 (3H, s), 1.58 (3H, s), 2.32 (3H, s), 3.36-3.40 (2H, m), 3.46 (1H, d, J = 10.5 Hz), 3.68 (1H, d, J = 14.3 Hz), 4.23 (1H, d, J = 5.1 Hz), 4.39 (1H, d, J = 11.9 Hz), 4.49 (1H, d, J = 11.9 Hz), 4.56-4.62 (2H, m), 4.76 (1H, d, J = 11.9 Hz), 5.72 (1H, d, J = 3.8 Hz), 7.22-7.37 (10H, m).
工程2 化合物3の合成
室温下、2mol/L塩酸水溶液(0.36ml)とアセトニトリル(1.8ml)の混合溶液にN−クロロスクシンイミド(533mg,3.99mmol)を加えたのち氷冷した。反応液に化合物2(457mg,0.997mmol)のアセトニトリル溶液(1.2ml)を加えて氷冷し、30分間撹拌した。反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=90:10→70:30)で精製し、化合物3(372mg,77%)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.34 (3H, s), 1.70 (3H, s), 3.73 (1H, d, J = 10.4 Hz), 3.79 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.21-4.27 (2H, m), 4.54-4.60 (4H, m), 4.74 (1H, d, J = 11.9 Hz), 4.80 (1H, d, J = 14.8 Hz), 5.77 (1H, d, J = 3.6 Hz), 7.26-7.37 (13H, m).
工程3 化合物4の合成
氷冷下、40%メチルアミン水溶液(0.85mL)に化合物3(167mg,0.347mmol)のテトラヒドロフラン溶液(1.7mL)を滴下し30分間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物4の粗製物(156mg)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.35 (3H, s), 1.62 (3H, s), 2.80 (3H, d, J = 5.1 Hz), 3.41 (1H, d, J = 15.4 Hz), 3.64 (1H, d, J = 10.6 Hz), 3.90-3.94 (2H, m), 4.24 (1H, d, J = 5.3 Hz), 4.45-4.55 (4H, m), 4.67 (1H, br s), 4.75 (1H, d, J = 11.6 Hz), 5.82 (1H, d, J = 3.5 Hz), 7.24-7.33 (10H, m).
工程4および工程5 化合物6の合成
室温下、化合物4の粗製物(51mg)を0.1%(v/v)濃硫酸−酢酸溶液(1.5mL)に溶解し、無水酢酸(121μL,1.28mmol)を加えて2時間撹拌した。反応液を飽和重曹水と酢酸エチルの混合液に注いだ後、有機層を分離した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、化合物5の粗製物(65mg)を得た。室温下、化合物5の粗製物(64mg)のアセトニトリル溶液(1.0mL)にシリル化チミン(46mg,0.170mmol)、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホン酸(20μL,0.113mmol)を加え、90℃下2時間撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=60:40→30:70)で精製し、化合物6(50mg,74%(工程3〜工程5の通算収率))を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.57 (3H, s), 2.14 (3H, s), 2.33 (3H, s), 3.20 (3H, s), 3.42 (1H, d, J = 15.4 Hz), 3.65 (1H, d, J = 10.1 Hz), 4.14 (1H, d, J = 10.1 Hz), 4.33 (1H, d, J = 15.4 Hz), 4.43-4.48 (2H, m), 4.53-4.63 (3H, m), 5.45 (1H, br s), 5.97 (1H, d, J = 2.3 Hz), 7.20 (1H, s), 7.26-7.35 (10H, m), 8.00 (1H, s).
氷冷下、40%メチルアミン水溶液(0.85mL)に化合物3(167mg,0.347mmol)のテトラヒドロフラン溶液(1.7mL)を滴下し30分間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物4の粗製物(156mg)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.35 (3H, s), 1.62 (3H, s), 2.80 (3H, d, J = 5.1 Hz), 3.41 (1H, d, J = 15.4 Hz), 3.64 (1H, d, J = 10.6 Hz), 3.90-3.94 (2H, m), 4.24 (1H, d, J = 5.3 Hz), 4.45-4.55 (4H, m), 4.67 (1H, br s), 4.75 (1H, d, J = 11.6 Hz), 5.82 (1H, d, J = 3.5 Hz), 7.24-7.33 (10H, m).
工程4および工程5 化合物6の合成
室温下、化合物4の粗製物(51mg)を0.1%(v/v)濃硫酸−酢酸溶液(1.5mL)に溶解し、無水酢酸(121μL,1.28mmol)を加えて2時間撹拌した。反応液を飽和重曹水と酢酸エチルの混合液に注いだ後、有機層を分離した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、化合物5の粗製物(65mg)を得た。室温下、化合物5の粗製物(64mg)のアセトニトリル溶液(1.0mL)にシリル化チミン(46mg,0.170mmol)、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホン酸(20μL,0.113mmol)を加え、90℃下2時間撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=60:40→30:70)で精製し、化合物6(50mg,74%(工程3〜工程5の通算収率))を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.57 (3H, s), 2.14 (3H, s), 2.33 (3H, s), 3.20 (3H, s), 3.42 (1H, d, J = 15.4 Hz), 3.65 (1H, d, J = 10.1 Hz), 4.14 (1H, d, J = 10.1 Hz), 4.33 (1H, d, J = 15.4 Hz), 4.43-4.48 (2H, m), 4.53-4.63 (3H, m), 5.45 (1H, br s), 5.97 (1H, d, J = 2.3 Hz), 7.20 (1H, s), 7.26-7.35 (10H, m), 8.00 (1H, s).
工程6 化合物7の合成
氷冷下、化合物6(47mg,0.075mmol)のテトラヒドロフラン溶液(0.47mL)に、40%メチルアミン水溶液(0.24mL)を加えて、氷冷下35分間撹拌した。テトラヒドロフランを減圧留去した後、残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物7の粗製物(42mg)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.57 (3H, s), 2.76 (3H, d, J = 5.3 Hz), 2.76 (1H, br s), 3.20 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.69 (1H, d, J = 10.4 Hz), 3.87 (1H, d, J = 15.2 Hz), 4.16 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.32 (1H, d, J = 5.8 Hz), 4.39 (1H, br s), 4.52-4.59 (3H, m), 4.64 (1H, d, J = 11.4 Hz), 4.75 (1H, d, J = 11.4 Hz), 5.92 (1H, d, J = 4.8 Hz), 7.28-7.41 (11H, m), 8.44 (1H, br s).
工程7 化合物8の合成
室温下、化合物7の粗製物(42mg)のピリジン溶液(0.4mL)にメタンスルホニルクロライド(14μL,0.180mmol)を加えて2時間撹拌した。反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を10%クエン酸水溶液、飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、化合物8の粗製物(46mg)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.44 (3H, s), 2.73 (3H, d, J = 5.3 Hz), 3.15 (3H, s), 3.26 (1H, d, J = 15.1 Hz), 3.67-3.71 (2H, m), 4.23 (1H, d, J = 10.5 Hz), 4.30 (1H, q, J = 5.3 Hz), 4.48-4.56 (4H, m), 4.90 (1H, d, J = 11.3 Hz), 5.38 (1H, dd, J = 5.2, 4.2 Hz), 6.19 (1H, d, J = 4.2 Hz), 7.24-7.40 (10H, m), 7.49 (1H, s), 8.19 (1H, s).
氷冷下、化合物6(47mg,0.075mmol)のテトラヒドロフラン溶液(0.47mL)に、40%メチルアミン水溶液(0.24mL)を加えて、氷冷下35分間撹拌した。テトラヒドロフランを減圧留去した後、残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物7の粗製物(42mg)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.57 (3H, s), 2.76 (3H, d, J = 5.3 Hz), 2.76 (1H, br s), 3.20 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.69 (1H, d, J = 10.4 Hz), 3.87 (1H, d, J = 15.2 Hz), 4.16 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.32 (1H, d, J = 5.8 Hz), 4.39 (1H, br s), 4.52-4.59 (3H, m), 4.64 (1H, d, J = 11.4 Hz), 4.75 (1H, d, J = 11.4 Hz), 5.92 (1H, d, J = 4.8 Hz), 7.28-7.41 (11H, m), 8.44 (1H, br s).
工程7 化合物8の合成
室温下、化合物7の粗製物(42mg)のピリジン溶液(0.4mL)にメタンスルホニルクロライド(14μL,0.180mmol)を加えて2時間撹拌した。反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を10%クエン酸水溶液、飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、化合物8の粗製物(46mg)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.44 (3H, s), 2.73 (3H, d, J = 5.3 Hz), 3.15 (3H, s), 3.26 (1H, d, J = 15.1 Hz), 3.67-3.71 (2H, m), 4.23 (1H, d, J = 10.5 Hz), 4.30 (1H, q, J = 5.3 Hz), 4.48-4.56 (4H, m), 4.90 (1H, d, J = 11.3 Hz), 5.38 (1H, dd, J = 5.2, 4.2 Hz), 6.19 (1H, d, J = 4.2 Hz), 7.24-7.40 (10H, m), 7.49 (1H, s), 8.19 (1H, s).
工程8 化合物9の合成
室温下、化合物8の粗製物(46mg)のテトラヒドロフラン−エタノール溶液(3/2、0.5mL)に2mol/L水酸化ナトリウム水溶液(0.15mL,0.300mmol)を加えて20時間撹拌した。氷冷下、反応液へ2mol/L塩酸水溶液を加えて中和した後、溶媒を減圧留去した。残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=50:50→20:80)で精製し、化合物9(28mg,68%(工程6〜工程8の通算収率))を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.71 (3H, s), 2.66 (3H, d, J = 5.1 Hz), 3.35 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.61 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.87 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.17-4.29 (4H, m), 4.46 (1H, d, J = 7.8 Hz), 4.53-4.65 (3H, m), 4.77 (1H, d, J = 11.1 Hz), 6.16 (1H, d, J = 2.3 Hz), 7.26-7.36 (16H, m), 7.44 (1H, s), 8.62 (1H, s).
工程9 化合物10の合成
窒素気流下、化合物9(29mg,0.054mmol)のピリジン溶液(0.3mL)に、氷冷下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(27μL,0.161mmol)を加えて5時間撹拌した。さらに室温下、2時間撹拌した後、反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物10の粗製物(39mg)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.81 (3H, s), 2.68 (3H, d, J = 5.1 Hz), 3.40 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.68 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.76 (1H, d, J = 9.9 Hz), 3.87 (1H, d, J = 9.9 Hz), 4.24 (1H, q, J = 5.1 Hz), 4.52-4.59 (4H, m), 4.76 (1H, d, J = 11.4 Hz), 5.46 (1H, dd, J = 4.4, 2.6 Hz), 6.33 (1H, d, J = 4.4 Hz), 7.20 (1H, s), 7.26-7.38 (10H, m), 8.05 (1H, s).
室温下、化合物8の粗製物(46mg)のテトラヒドロフラン−エタノール溶液(3/2、0.5mL)に2mol/L水酸化ナトリウム水溶液(0.15mL,0.300mmol)を加えて20時間撹拌した。氷冷下、反応液へ2mol/L塩酸水溶液を加えて中和した後、溶媒を減圧留去した。残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=50:50→20:80)で精製し、化合物9(28mg,68%(工程6〜工程8の通算収率))を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.71 (3H, s), 2.66 (3H, d, J = 5.1 Hz), 3.35 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.61 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.87 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.17-4.29 (4H, m), 4.46 (1H, d, J = 7.8 Hz), 4.53-4.65 (3H, m), 4.77 (1H, d, J = 11.1 Hz), 6.16 (1H, d, J = 2.3 Hz), 7.26-7.36 (16H, m), 7.44 (1H, s), 8.62 (1H, s).
工程9 化合物10の合成
窒素気流下、化合物9(29mg,0.054mmol)のピリジン溶液(0.3mL)に、氷冷下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(27μL,0.161mmol)を加えて5時間撹拌した。さらに室温下、2時間撹拌した後、反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物10の粗製物(39mg)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.81 (3H, s), 2.68 (3H, d, J = 5.1 Hz), 3.40 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.68 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.76 (1H, d, J = 9.9 Hz), 3.87 (1H, d, J = 9.9 Hz), 4.24 (1H, q, J = 5.1 Hz), 4.52-4.59 (4H, m), 4.76 (1H, d, J = 11.4 Hz), 5.46 (1H, dd, J = 4.4, 2.6 Hz), 6.33 (1H, d, J = 4.4 Hz), 7.20 (1H, s), 7.26-7.38 (10H, m), 8.05 (1H, s).
工程10 化合物11の合成
窒素気流下、化合物10の粗製物(39mg)のアセトニトリル溶液(0.7mL)に室温下、炭酸カリウム(19mg,0.135mmol)を加えて、40℃下5時間半撹拌した。反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=70:30→40:60)で精製し、化合物11(24mg,86%(工程9〜工程10の通算収率))を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.46 (3H, s), 2.99 (3H, s), 3.22 (1H, d, J = 12.9 Hz), 3.52 (1H, d, J = 10.6 Hz), 3.61 (1H, d, J = 12.9 Hz), 3.71 (1H, d, J = 3.8 Hz), 3.76 (1H, d, J = 10.6 Hz), 4.13 (1H, d, J = 3.8 Hz), 4.54-4.61 (3H, m), 4.66 (1H, d, J = 11.4 Hz), 6.31 (1H, s), 7.24-7.37 (10H, m), 7.84 (1H, s), 8.16 (1H, br s).
工程11 化合物12の合成
化合物11(21mg,0.040mmol)のテトラヒドロフラン−メタノール溶液(1:1,0.6mL)に20%水酸化パラジウム−炭素粉末(5.3mg)を加え、水素気流下室温で20時間撹拌した。反応溶液をろ過した後、溶媒を留去して化合物12(17mg)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (MeOD) δ: 1.86 (3H, s), 3.01 (3H, s), 3.29 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.51 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.66 (1H, d, J = 12.3 Hz), 3.77 (1H, d, J = 12.3 Hz), 3.81 (1H, d, J = 4.5 Hz), 4.27 (1H, d, J = 4.5 Hz).
窒素気流下、化合物10の粗製物(39mg)のアセトニトリル溶液(0.7mL)に室温下、炭酸カリウム(19mg,0.135mmol)を加えて、40℃下5時間半撹拌した。反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=70:30→40:60)で精製し、化合物11(24mg,86%(工程9〜工程10の通算収率))を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.46 (3H, s), 2.99 (3H, s), 3.22 (1H, d, J = 12.9 Hz), 3.52 (1H, d, J = 10.6 Hz), 3.61 (1H, d, J = 12.9 Hz), 3.71 (1H, d, J = 3.8 Hz), 3.76 (1H, d, J = 10.6 Hz), 4.13 (1H, d, J = 3.8 Hz), 4.54-4.61 (3H, m), 4.66 (1H, d, J = 11.4 Hz), 6.31 (1H, s), 7.24-7.37 (10H, m), 7.84 (1H, s), 8.16 (1H, br s).
工程11 化合物12の合成
化合物11(21mg,0.040mmol)のテトラヒドロフラン−メタノール溶液(1:1,0.6mL)に20%水酸化パラジウム−炭素粉末(5.3mg)を加え、水素気流下室温で20時間撹拌した。反応溶液をろ過した後、溶媒を留去して化合物12(17mg)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (MeOD) δ: 1.86 (3H, s), 3.01 (3H, s), 3.29 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.51 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.66 (1H, d, J = 12.3 Hz), 3.77 (1H, d, J = 12.3 Hz), 3.81 (1H, d, J = 4.5 Hz), 4.27 (1H, d, J = 4.5 Hz).
工程12 化合物13の合成
窒素気流下、化合物12(31mg,0.090mmol)のピリジン溶液(0.6mL)に、室温下、4,4´‐ジメトキシトリチルクロリド(46mg,0.135mmol)を加えて15時間半撹拌した。室温下、4,4´‐ジメトキシトリチルクロリド(46mg,0.135mmol)を加えて7時間半撹拌した。さらに室温下、4,4´‐ジメトキシトリチルクロリド(46mg,0.135mmol)を加えて14時間半撹拌した後、反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=100:0→95:5)で精製し、化合物13(59mg)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.36 (3H, s), 2.82 (1H, d, J = 7.7 Hz), 3.09 (3H, s), 3.33-3.41 (3H, m), 3.49 (1H, d, J = 13.6 Hz), 3.80 (6H, s), 3.85 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.44 (1H, dd, J = 7.0, 5.0 Hz), 6.36 (1H, s), 6.85 (4H, d, J = 8.0 Hz), 7.24-7.33 (5H, m), 7.40 (2H, d, J = 7.2 Hz), 7.64 (1H, s), 8.28 (1H, br s).
工程13 化合物I−1の合成
窒素気流下、化合物13(59mg,0.091mmol)の無水ジクロロメタン溶液(0.9mL)にジイソプロピルエチルアミン(63μL,0.363mmol)、2−シアノエチル−N,N−ジイソプロピルクロロホスホロアミダイト(61μL,0.272mmol)を加え、3時間撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=34:66)で精製し、化合物I−1(47mg,61%)を白色固体物質として得た。
31P-NMR (CDCl3)δP: 149.2, 150.7.
窒素気流下、化合物12(31mg,0.090mmol)のピリジン溶液(0.6mL)に、室温下、4,4´‐ジメトキシトリチルクロリド(46mg,0.135mmol)を加えて15時間半撹拌した。室温下、4,4´‐ジメトキシトリチルクロリド(46mg,0.135mmol)を加えて7時間半撹拌した。さらに室温下、4,4´‐ジメトキシトリチルクロリド(46mg,0.135mmol)を加えて14時間半撹拌した後、反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=100:0→95:5)で精製し、化合物13(59mg)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.36 (3H, s), 2.82 (1H, d, J = 7.7 Hz), 3.09 (3H, s), 3.33-3.41 (3H, m), 3.49 (1H, d, J = 13.6 Hz), 3.80 (6H, s), 3.85 (1H, d, J = 5.0 Hz), 4.44 (1H, dd, J = 7.0, 5.0 Hz), 6.36 (1H, s), 6.85 (4H, d, J = 8.0 Hz), 7.24-7.33 (5H, m), 7.40 (2H, d, J = 7.2 Hz), 7.64 (1H, s), 8.28 (1H, br s).
工程13 化合物I−1の合成
窒素気流下、化合物13(59mg,0.091mmol)の無水ジクロロメタン溶液(0.9mL)にジイソプロピルエチルアミン(63μL,0.363mmol)、2−シアノエチル−N,N−ジイソプロピルクロロホスホロアミダイト(61μL,0.272mmol)を加え、3時間撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=34:66)で精製し、化合物I−1(47mg,61%)を白色固体物質として得た。
31P-NMR (CDCl3)δP: 149.2, 150.7.
工程1 化合物14の合成
窒素気流下、実施例1−1で合成した化合物13(191mg,0.294mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド溶液(1.0mL)に、室温下、イミダゾール(160mg,2.35mmol)とクロロトリエチルシラン(199μL,1.18mmol)を加えて3時間撹拌した。反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=75:25→50:50)で精製し、化合物14(214mg,95%)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.48-0.63 (6H, m), 0.87 (9H, t, J = 7.9 Hz), 1.23 (3H, s), 3.04 (3H, s), 3.15 (1H, d, J = 10.4 Hz), 3.24 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.45 (1H, d, J = 10.4 Hz), 3.46 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.70 (1H, d, J = 4.4 Hz), 3.80 (3H, s), 3.80 (3H, s), 4.40 (1H, d, J = 4.4 Hz), 6.32 (1H, s), 6.82-6.85 (4H, m), 7.23-7.32 (7H, m), 7.37 (2H, d, J = 6.9 Hz), 7.86 (1H, s), 8.10 (1H, s).
窒素気流下、実施例1−1で合成した化合物13(191mg,0.294mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド溶液(1.0mL)に、室温下、イミダゾール(160mg,2.35mmol)とクロロトリエチルシラン(199μL,1.18mmol)を加えて3時間撹拌した。反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=75:25→50:50)で精製し、化合物14(214mg,95%)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.48-0.63 (6H, m), 0.87 (9H, t, J = 7.9 Hz), 1.23 (3H, s), 3.04 (3H, s), 3.15 (1H, d, J = 10.4 Hz), 3.24 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.45 (1H, d, J = 10.4 Hz), 3.46 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.70 (1H, d, J = 4.4 Hz), 3.80 (3H, s), 3.80 (3H, s), 4.40 (1H, d, J = 4.4 Hz), 6.32 (1H, s), 6.82-6.85 (4H, m), 7.23-7.32 (7H, m), 7.37 (2H, d, J = 6.9 Hz), 7.86 (1H, s), 8.10 (1H, s).
工程2 化合物15の合成
窒素気流下、化合物14(206mg,0.269mmol)のアセトニトリル溶液(2.0mL)に、室温下、トリエチルアミン(149μL,1.08mmol)、N,N−ジメチルアミノピリジン(6.6mg,0.054mmol)と2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルホニルクロライド(122mg,0.403mmol)を加えて20時間撹拌した。室温下、反応液へ28%アンモニア水(2.0mL)を加えて2時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=100:0→95:5)で精製し、化合物15(180mg,88%)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.45-0.60 (6H, m), 0.84 (9H, t, J = 7.9 Hz), 1.22 (3H, s), 3.09 (3H, s), 3.13 (1H, d, J = 10.4 Hz), 3.21 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.45-3.48 (2H, m), 3.80 (3H, s), 3.81 (3H, s), 3.85 (1H, d, J = 4.4 Hz), 4.36 (1H, d, J = 4.4 Hz), 6.34 (1H, s), 6.82-6.85 (4H, m), 7.24-7.32 (7H, m), 7.39 (2H, d, J = 6.9 Hz), 7.96 (1H, s).
窒素気流下、化合物14(206mg,0.269mmol)のアセトニトリル溶液(2.0mL)に、室温下、トリエチルアミン(149μL,1.08mmol)、N,N−ジメチルアミノピリジン(6.6mg,0.054mmol)と2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルホニルクロライド(122mg,0.403mmol)を加えて20時間撹拌した。室温下、反応液へ28%アンモニア水(2.0mL)を加えて2時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=100:0→95:5)で精製し、化合物15(180mg,88%)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.45-0.60 (6H, m), 0.84 (9H, t, J = 7.9 Hz), 1.22 (3H, s), 3.09 (3H, s), 3.13 (1H, d, J = 10.4 Hz), 3.21 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.45-3.48 (2H, m), 3.80 (3H, s), 3.81 (3H, s), 3.85 (1H, d, J = 4.4 Hz), 4.36 (1H, d, J = 4.4 Hz), 6.34 (1H, s), 6.82-6.85 (4H, m), 7.24-7.32 (7H, m), 7.39 (2H, d, J = 6.9 Hz), 7.96 (1H, s).
工程3および工程4 化合物17の合成
氷冷下、フェノキシアセチルクロライド(38μL,0.276mmol)のジクロロメタン溶液(2.1mL)に1−メチルイミダゾール(25μL,0.313mmol)を加えて10分間撹拌した。得られた懸濁液を化合物15のピリジン溶液(1.4mL)へ加えて1時間半撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物16の粗製物(171mg)を得た。室温下、化合物16の粗製物のテトラヒドロフラン溶液(2.1mL)に1Mフッ化テトラ−n−ブチルアンモニウムテトラヒドロフラン溶液を(221μL,0.221mmol)を加えて15分間撹拌した。反応液に酢酸エチルを加えた後、溶媒を留去した。得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=60:40→15:85)で精製し、化合物17(77mg,53%)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.39 (3H, s), 3.09 (4H, br s), 3.33-3.42 (3H, m), 3.50 (1H, d, J = 13.6 Hz), 3.80 (3H, s), 3.81 (3H, s), 3.95 (1H, s), 4.46 (1H, d, J = 4.8 Hz), 4.84 (2H, br s), 6.39 (1H, s), 6.84-6.87 (4H, m), 6.93-7.01 (3H, m), 7.24-7.33 (9H, m), 7.40 (2H, d, J = 7.3 Hz), 7.91 and 8.06 (1H, br s).
氷冷下、フェノキシアセチルクロライド(38μL,0.276mmol)のジクロロメタン溶液(2.1mL)に1−メチルイミダゾール(25μL,0.313mmol)を加えて10分間撹拌した。得られた懸濁液を化合物15のピリジン溶液(1.4mL)へ加えて1時間半撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物16の粗製物(171mg)を得た。室温下、化合物16の粗製物のテトラヒドロフラン溶液(2.1mL)に1Mフッ化テトラ−n−ブチルアンモニウムテトラヒドロフラン溶液を(221μL,0.221mmol)を加えて15分間撹拌した。反応液に酢酸エチルを加えた後、溶媒を留去した。得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=60:40→15:85)で精製し、化合物17(77mg,53%)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.39 (3H, s), 3.09 (4H, br s), 3.33-3.42 (3H, m), 3.50 (1H, d, J = 13.6 Hz), 3.80 (3H, s), 3.81 (3H, s), 3.95 (1H, s), 4.46 (1H, d, J = 4.8 Hz), 4.84 (2H, br s), 6.39 (1H, s), 6.84-6.87 (4H, m), 6.93-7.01 (3H, m), 7.24-7.33 (9H, m), 7.40 (2H, d, J = 7.3 Hz), 7.91 and 8.06 (1H, br s).
工程5 化合物I−2の合成
窒素気流下、化合物17(100mg,0.127mmol)の無水ジクロロメタン溶液(1.5mL)にジイソプロピルエチルアミン(89μL,0.509mmol)、2−シアノエチル−N,N−ジイソプロピルクロロホスホロアミダイト(85μL,0.382mmol)を加え、2時間半撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=60:40→35:65)で精製し、化合物I−2(69mg,55%)を白色固体物質として得た。
31P-NMR (CDCl3)δP: 149.1, 150.9.
窒素気流下、化合物17(100mg,0.127mmol)の無水ジクロロメタン溶液(1.5mL)にジイソプロピルエチルアミン(89μL,0.509mmol)、2−シアノエチル−N,N−ジイソプロピルクロロホスホロアミダイト(85μL,0.382mmol)を加え、2時間半撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=60:40→35:65)で精製し、化合物I−2(69mg,55%)を白色固体物質として得た。
31P-NMR (CDCl3)δP: 149.1, 150.9.
工程1 化合物18の合成
窒素気流下、化合物3(16.8g,34.8mmol)のテトラヒドロフラン溶液(120mL)に氷冷下、トリエチルアミン(12.1mL,87.0mmol)、2−ナフチルメチルアミン塩酸塩(J. Carbohydr. Chem. 30, 559−574 (2011))(7.41g,38.3mmol)を加え、1時間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=90:10→60:40)で精製し、化合物18(16.6g,79%)を淡黄色泡状物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.37 (3H, s), 1.65 (3H, s), 3.54 (1H, d, J = 15.6 Hz), 3.68 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.95 (1H, d, J = 10.8 Hz), 4.04 (1H, d, J = 15.6 Hz), 4.27 (1H, d, J = 5.6 Hz), 4.44-4.55 (5H, m), 4.69 (1H, dd, J = 5.6, 4.0 Hz), 4.75 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.94 (1H, dd, J = 6.8, 5.6 Hz), 5.85 (1H, d, J = 4.0 Hz), 7.23-7.35 (10H, m), 7.44-7.49 (3H, m), 7.79-7.83 (4H, m).
窒素気流下、化合物3(16.8g,34.8mmol)のテトラヒドロフラン溶液(120mL)に氷冷下、トリエチルアミン(12.1mL,87.0mmol)、2−ナフチルメチルアミン塩酸塩(J. Carbohydr. Chem. 30, 559−574 (2011))(7.41g,38.3mmol)を加え、1時間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=90:10→60:40)で精製し、化合物18(16.6g,79%)を淡黄色泡状物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.37 (3H, s), 1.65 (3H, s), 3.54 (1H, d, J = 15.6 Hz), 3.68 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.95 (1H, d, J = 10.8 Hz), 4.04 (1H, d, J = 15.6 Hz), 4.27 (1H, d, J = 5.6 Hz), 4.44-4.55 (5H, m), 4.69 (1H, dd, J = 5.6, 4.0 Hz), 4.75 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.94 (1H, dd, J = 6.8, 5.6 Hz), 5.85 (1H, d, J = 4.0 Hz), 7.23-7.35 (10H, m), 7.44-7.49 (3H, m), 7.79-7.83 (4H, m).
工程2および工程3 化合物21および22の合成
化合物18(16.6g,27.4mmol)の酢酸溶液(80mL)に室温下、濃硫酸(80μL,1.44mmol)、無水酢酸(31.1mL,329mmol)を加えて4時間撹拌した。反応液を飽和重曹水に注いだ後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物19および20の混合物(18.3g)を得た。窒素気流下、化合物19および20の混合物(18.3g)のアセトニトリル溶液(150mL)に室温下、チミン(5.18g,41.1mmol)、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド(23.5mL,96.0mmol)を加え、40℃下20分間撹拌した。室温下、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホン酸(4.95mL,27.4mmol)を加え、5時間加熱還流した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=70:30→45:55)で精製し、化合物21および22の混合物(18.6g)を白色固体物質として得た。
化合物18(16.6g,27.4mmol)の酢酸溶液(80mL)に室温下、濃硫酸(80μL,1.44mmol)、無水酢酸(31.1mL,329mmol)を加えて4時間撹拌した。反応液を飽和重曹水に注いだ後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物19および20の混合物(18.3g)を得た。窒素気流下、化合物19および20の混合物(18.3g)のアセトニトリル溶液(150mL)に室温下、チミン(5.18g,41.1mmol)、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド(23.5mL,96.0mmol)を加え、40℃下20分間撹拌した。室温下、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホン酸(4.95mL,27.4mmol)を加え、5時間加熱還流した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=70:30→45:55)で精製し、化合物21および22の混合物(18.6g)を白色固体物質として得た。
工程4 化合物23の合成
化合物21および22の混合物(18.6g)のテトラヒドロフラン溶液(90mL)に氷冷下、40%メチルアミン水溶液(45mL)を加えて、40分間撹拌した。テトラヒドロフランを減圧留去した後、残渣へ水を加えて酢酸エチル/メタノール(5/1)で抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物23の粗製物(16.7g)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.53 (3H, s), 2.80 (2H, d, J = 4.8 Hz), 3.13 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.62 (1H, d, J = 10.4 Hz), 3.69 (1H, d, J = 15.2 Hz), 4.08 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.19 (1H, d, J = 5.6 Hz), 4.34-4.56 (6H, m), 5.15 (1H, br s), 5.88 (1H, d, J = 5.2 Hz), 7.18-7.35 (11H, m), 7.44-7.49 (3H, m), 7.80-7.83 (4H, m), 8.22 (1H, br s).
化合物21および22の混合物(18.6g)のテトラヒドロフラン溶液(90mL)に氷冷下、40%メチルアミン水溶液(45mL)を加えて、40分間撹拌した。テトラヒドロフランを減圧留去した後、残渣へ水を加えて酢酸エチル/メタノール(5/1)で抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物23の粗製物(16.7g)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.53 (3H, s), 2.80 (2H, d, J = 4.8 Hz), 3.13 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.62 (1H, d, J = 10.4 Hz), 3.69 (1H, d, J = 15.2 Hz), 4.08 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.19 (1H, d, J = 5.6 Hz), 4.34-4.56 (6H, m), 5.15 (1H, br s), 5.88 (1H, d, J = 5.2 Hz), 7.18-7.35 (11H, m), 7.44-7.49 (3H, m), 7.80-7.83 (4H, m), 8.22 (1H, br s).
工程5 化合物24の合成
窒素気流下、化合物23の粗製物(16.7g)のピリジン溶液(80mL)に室温下、メタンスルホニルクロライド(4.79mL,61.5mmol)を加えて1時間半撹拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物24の粗製物(18.7g)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.42 (3H, s), 3.08 (3H, s), 3.25 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.62-3.70 (2H, m), 4.19 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.33-4.53 (6H, m), 4.76-4.82 (2H, m), 5.37 (1H, t, J = 4.8 Hz), 6.16 (1H, d, J = 4.0 Hz), 7.23-7.40 (12H, m), 7.48-7.50 (2H, m), 7.73 (1H, s), 7.82-7.84 (3H, m), 8.13 (1H, br s).
窒素気流下、化合物23の粗製物(16.7g)のピリジン溶液(80mL)に室温下、メタンスルホニルクロライド(4.79mL,61.5mmol)を加えて1時間半撹拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物24の粗製物(18.7g)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.42 (3H, s), 3.08 (3H, s), 3.25 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.62-3.70 (2H, m), 4.19 (1H, d, J = 10.4 Hz), 4.33-4.53 (6H, m), 4.76-4.82 (2H, m), 5.37 (1H, t, J = 4.8 Hz), 6.16 (1H, d, J = 4.0 Hz), 7.23-7.40 (12H, m), 7.48-7.50 (2H, m), 7.73 (1H, s), 7.82-7.84 (3H, m), 8.13 (1H, br s).
工程6 化合物25の合成
化合物24の粗製物(18.7g)のテトラヒドロフラン−エタノール溶液(3/2、150mL)に室温下、2mol/L水酸化ナトリウム水溶液(61.5mL,123mmol)を加えて22時間撹拌した。氷冷下、反応液へ濃塩酸(10.2mL,123mmol)を加えて中和した後、飽和重曹水を加えてテトラヒドロフラン、エタノールを減圧留去した。残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=60:40→30:70)で精製し、化合物25(11.9g,64%(工程2〜工程6の通算収率))を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.62 (3H, s), 3.33 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.58 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.82 (1H, d, J = 10.0 Hz), 4.11 (1H, d, J = 10.0 Hz), 4.14-4.20 (2H, m), 4.29 (1H, dd, J = 14.8, 5.6 Hz), 4.32-4.39 (2H, m), 4.42 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.53 (1H, d, J = 11.2 Hz), 4.58 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.62 (1H, d, J = 11.2 Hz), 4.88 (1H, t, J = 6.0 Hz), 6.14 (1H, d, J = 4.0 Hz), 7.21-7.35 (12H, m), 7.45-7.48 (2H, m), 7.64 (1H, s), 7.76-7.81 (3H, m), 8.83 (1H, s).
化合物24の粗製物(18.7g)のテトラヒドロフラン−エタノール溶液(3/2、150mL)に室温下、2mol/L水酸化ナトリウム水溶液(61.5mL,123mmol)を加えて22時間撹拌した。氷冷下、反応液へ濃塩酸(10.2mL,123mmol)を加えて中和した後、飽和重曹水を加えてテトラヒドロフラン、エタノールを減圧留去した。残渣へ水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=60:40→30:70)で精製し、化合物25(11.9g,64%(工程2〜工程6の通算収率))を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.62 (3H, s), 3.33 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.58 (1H, d, J = 15.2 Hz), 3.82 (1H, d, J = 10.0 Hz), 4.11 (1H, d, J = 10.0 Hz), 4.14-4.20 (2H, m), 4.29 (1H, dd, J = 14.8, 5.6 Hz), 4.32-4.39 (2H, m), 4.42 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.53 (1H, d, J = 11.2 Hz), 4.58 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.62 (1H, d, J = 11.2 Hz), 4.88 (1H, t, J = 6.0 Hz), 6.14 (1H, d, J = 4.0 Hz), 7.21-7.35 (12H, m), 7.45-7.48 (2H, m), 7.64 (1H, s), 7.76-7.81 (3H, m), 8.83 (1H, s).
工程7および工程8 化合物27の合成
窒素気流下、化合物25(11.9g,17.7mmol)のピリジン溶液(60mL)に、氷冷下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(8.95mL,53.0mmol)を加えて15時間撹拌した。反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物26の粗製物(22.6g)を得た。窒素気流下、化合物26の粗製物(22.6g)のアセトニトリル溶液(220mL)に室温下、炭酸カリウム(6.10g,44.2mmol)を加えて、40℃下4時間半撹拌した。反応液へ水を加えて、アセトニトリルを減圧留去した。残渣を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=65:35→50:50)で精製し、化合物27(8.73g,76%)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.39 (3H, s), 3.33 (1H, d, J = 12.8 Hz), 3.53 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.77 (1H, d, J = 12.8 Hz), 3.80 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.89 (1H, d, J = 4.4 Hz), 3.92 (1H, d, J = 11.6 Hz), 3.98 (1H, d, J = 4.4 Hz), 4.02 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.37 (1H, d, J = 14.0 Hz), 4.52 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.57 (1H, d, J = 11.6 Hz), 5.07 (1H, d, J = 14.0 Hz), 6.51 (1H, s), 6.98-7.00 (2H, m), 7.18-7.20 (2H, m), 7.23-7.30 (6H, m), 7.43-7.48 (2H, m), 7.58 (1H, dd, J = 8.4, 1.6 Hz), 7.69-7.73 (2H, m), 7.76-7.80 (2H, m), 7.95 (1H, s), 8.35 (1H, s).
窒素気流下、化合物25(11.9g,17.7mmol)のピリジン溶液(60mL)に、氷冷下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物(8.95mL,53.0mmol)を加えて15時間撹拌した。反応液へ水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、化合物26の粗製物(22.6g)を得た。窒素気流下、化合物26の粗製物(22.6g)のアセトニトリル溶液(220mL)に室温下、炭酸カリウム(6.10g,44.2mmol)を加えて、40℃下4時間半撹拌した。反応液へ水を加えて、アセトニトリルを減圧留去した。残渣を酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=65:35→50:50)で精製し、化合物27(8.73g,76%)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.39 (3H, s), 3.33 (1H, d, J = 12.8 Hz), 3.53 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.77 (1H, d, J = 12.8 Hz), 3.80 (1H, d, J = 10.8 Hz), 3.89 (1H, d, J = 4.4 Hz), 3.92 (1H, d, J = 11.6 Hz), 3.98 (1H, d, J = 4.4 Hz), 4.02 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.37 (1H, d, J = 14.0 Hz), 4.52 (1H, d, J = 11.6 Hz), 4.57 (1H, d, J = 11.6 Hz), 5.07 (1H, d, J = 14.0 Hz), 6.51 (1H, s), 6.98-7.00 (2H, m), 7.18-7.20 (2H, m), 7.23-7.30 (6H, m), 7.43-7.48 (2H, m), 7.58 (1H, dd, J = 8.4, 1.6 Hz), 7.69-7.73 (2H, m), 7.76-7.80 (2H, m), 7.95 (1H, s), 8.35 (1H, s).
工程9 化合物28の合成
窒素気流下、化合物27(4.00g,6.12mmol)のジクロロメタン溶液(40mL)に−78℃下、三塩化ホウ素(1mol/Lジクロロメタン溶液、61.2mL,61.2mmol)を滴下し、徐々に室温まで昇温して40時間撹拌した。−78℃下、反応液にメタノール(40mL)を滴下し、室温下、20分攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=96:4→85:15)で精製し、化合物28(1.59g,78%)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (MeOD) δ: 1.86 (3H, s), 3.20 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.43 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.66 (1H, d, J = 12.4 Hz), 3.75 (1H, d, J = 12.4 Hz), 3.78 (1H, d, J = 4.0 Hz), 4.24 (1H, d, J = 4.0 Hz), 6.34 (1H, s), 8.29 (1H, s).
窒素気流下、化合物27(4.00g,6.12mmol)のジクロロメタン溶液(40mL)に−78℃下、三塩化ホウ素(1mol/Lジクロロメタン溶液、61.2mL,61.2mmol)を滴下し、徐々に室温まで昇温して40時間撹拌した。−78℃下、反応液にメタノール(40mL)を滴下し、室温下、20分攪拌した。溶媒を減圧留去し、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=96:4→85:15)で精製し、化合物28(1.59g,78%)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (MeOD) δ: 1.86 (3H, s), 3.20 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.43 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.66 (1H, d, J = 12.4 Hz), 3.75 (1H, d, J = 12.4 Hz), 3.78 (1H, d, J = 4.0 Hz), 4.24 (1H, d, J = 4.0 Hz), 6.34 (1H, s), 8.29 (1H, s).
工程10 化合物29の合成
窒素気流下、化合物28(1.76g,5.28mmol)のピリジン溶液(18mL)に、室温下、4,4´‐ジメトキシトリチルクロリド(3.04g,8.98mmol)を加えて15時間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=100:0→94:6)で精製し、化合物29(3.30g,98%)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.37 (3H, s), 3.33-3.43 (3H, m), 3.52 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.72 (3H, s), 3.73 (3H, s), 4.15 (1H, s), 4.29 (1H, br s), 4.38 (1H, s), 6.04 (1H, br s), 6.17 (1H, s), 6.81 (4H, d, J = 8.8 Hz), 7.17 (1H, t, J = 7.2 Hz), 7.24-7.30 (6H, m), 7.41 (2H, d, J = 7.6 Hz), 7.49 (1H, s), 9.90 (1H, br s).
窒素気流下、化合物28(1.76g,5.28mmol)のピリジン溶液(18mL)に、室温下、4,4´‐ジメトキシトリチルクロリド(3.04g,8.98mmol)を加えて15時間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=100:0→94:6)で精製し、化合物29(3.30g,98%)を白色固体物質として得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.37 (3H, s), 3.33-3.43 (3H, m), 3.52 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.72 (3H, s), 3.73 (3H, s), 4.15 (1H, s), 4.29 (1H, br s), 4.38 (1H, s), 6.04 (1H, br s), 6.17 (1H, s), 6.81 (4H, d, J = 8.8 Hz), 7.17 (1H, t, J = 7.2 Hz), 7.24-7.30 (6H, m), 7.41 (2H, d, J = 7.6 Hz), 7.49 (1H, s), 9.90 (1H, br s).
工程11 化合物III−4の合成
窒素気流下、化合物29(21mg,0.033mmol)のアセトニトリル溶液(0.4mL)に室温下、2-シアノエチル-N,N,N’,N’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト(21μL,0.065mmol)、5-エチルチオ-1H-テトラゾール(6.4mg,0.049mmol)を加え、7時間撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=50:50→25:75)で精製し、化合物III−4(18mg,65%)を白色固体物質として得た。
31P-NMR (CDCl3)δP: 148.7, 151.9.
窒素気流下、化合物29(21mg,0.033mmol)のアセトニトリル溶液(0.4mL)に室温下、2-シアノエチル-N,N,N’,N’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト(21μL,0.065mmol)、5-エチルチオ-1H-テトラゾール(6.4mg,0.049mmol)を加え、7時間撹拌した。反応液へ飽和重曹水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去して得られた粗製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=50:50→25:75)で精製し、化合物III−4(18mg,65%)を白色固体物質として得た。
31P-NMR (CDCl3)δP: 148.7, 151.9.
実施例2 本発明のオリゴヌクレオチドの合成
実施例1で得られた化合物I−1から調製されるオリゴヌクレオチド(1)〜(5)(表4)およびIII−4から調製されるオリゴヌクレオチド(6)及び(7)(表5)を、nS−8(ジーンデザイン社製)により0.2μmolスケールで合成した。化合物I−1およびIII−4(アミダイトユニット)は、アセトニトリルに溶解して用いた。なお、表4において、Xaは化合物I−1のヌクレオシド構造(下記式II−1)を意味する。表5においてXbは化合物III−4のヌクレオシド構造(下記式II−2)を意味する。アミダイトユニット(化合物I−1、III−4)と5´−末端の水酸基とのカップリング時間は32秒(標準)から16分に延長した。5´−末端がDMTr基により保護され、かつ固相に支持されたオリゴヌクレオチドを28%アンモニア水:40%メチルアミン水溶液(1:1)で処理し、溶媒を留去した。得られた粗製物をSep−Pak C18 Plus Short Cartridge(Waters社製)により粗精製した後、逆相HPLC(オリゴヌクレオチド(1)〜(5)に関してはGilson PLC2020、分取カラムとしてWatersXBridgeTM Shield RP18 Column 5.0 μm (10mm x 50mm)、オリゴヌクレオチド(6)及び(7)に関してはYMC Hydrosphere C18 Column 5.0 μm (10mm x 150mm))により精製した。
合成したオリゴヌクレオチドの純度は、逆相HPLC(オリゴヌクレオチド(1)〜(5)に関してはWatersXBridgeTM C18 Column 5.0μm(4.6mm x 50mm)、オリゴヌクレオチド(6)及び(7)に関してはYMC Hydrosphere C18 Column 5.0μm (4.6mm x 100mm))により確認した(オリゴヌクレオチド(1)〜(5)に関してはWatersXBridgeTM C18 Column条件:0.1Mトリエチルアンモニウム酢酸バッファー(pH7.0)中、1mL/分で30分の6→10%(v/v)アセトニトリルのグラジエント、オリゴヌクレオチド(6)及び(7)に関してはYMC Hydrosphere C18 Column条件:0.01Mトリエチルアンモニウム酢酸バッファー(pH7.0)中、1mL/分で30分の6→10%(v/v)アセトニトリルのグラジエント)。また、分子量は、MALDI−TOF−MASS測定(オリゴヌクレオチド(1)〜(5))またはESI−TOF−MASS測定(オリゴヌクレオチド(6)及び(7))により決定した。結果を表4および表5に示す。
実施例1で得られた化合物I−1から調製されるオリゴヌクレオチド(1)〜(5)(表4)およびIII−4から調製されるオリゴヌクレオチド(6)及び(7)(表5)を、nS−8(ジーンデザイン社製)により0.2μmolスケールで合成した。化合物I−1およびIII−4(アミダイトユニット)は、アセトニトリルに溶解して用いた。なお、表4において、Xaは化合物I−1のヌクレオシド構造(下記式II−1)を意味する。表5においてXbは化合物III−4のヌクレオシド構造(下記式II−2)を意味する。アミダイトユニット(化合物I−1、III−4)と5´−末端の水酸基とのカップリング時間は32秒(標準)から16分に延長した。5´−末端がDMTr基により保護され、かつ固相に支持されたオリゴヌクレオチドを28%アンモニア水:40%メチルアミン水溶液(1:1)で処理し、溶媒を留去した。得られた粗製物をSep−Pak C18 Plus Short Cartridge(Waters社製)により粗精製した後、逆相HPLC(オリゴヌクレオチド(1)〜(5)に関してはGilson PLC2020、分取カラムとしてWatersXBridgeTM Shield RP18 Column 5.0 μm (10mm x 50mm)、オリゴヌクレオチド(6)及び(7)に関してはYMC Hydrosphere C18 Column 5.0 μm (10mm x 150mm))により精製した。
合成したオリゴヌクレオチドの純度は、逆相HPLC(オリゴヌクレオチド(1)〜(5)に関してはWatersXBridgeTM C18 Column 5.0μm(4.6mm x 50mm)、オリゴヌクレオチド(6)及び(7)に関してはYMC Hydrosphere C18 Column 5.0μm (4.6mm x 100mm))により確認した(オリゴヌクレオチド(1)〜(5)に関してはWatersXBridgeTM C18 Column条件:0.1Mトリエチルアンモニウム酢酸バッファー(pH7.0)中、1mL/分で30分の6→10%(v/v)アセトニトリルのグラジエント、オリゴヌクレオチド(6)及び(7)に関してはYMC Hydrosphere C18 Column条件:0.01Mトリエチルアンモニウム酢酸バッファー(pH7.0)中、1mL/分で30分の6→10%(v/v)アセトニトリルのグラジエント)。また、分子量は、MALDI−TOF−MASS測定(オリゴヌクレオチド(1)〜(5))またはESI−TOF−MASS測定(オリゴヌクレオチド(6)及び(7))により決定した。結果を表4および表5に示す。
実施例3 本発明のオリゴヌクレオチドの融解温度(Tm)の測定
実施例2で合成したオリゴヌクレオチド(1)〜(4)および(6)(アンチセンス鎖)とセンス鎖(3´−CGC AAA AAA CGA−5´)とをアニーリング処理した後、Tm値を測定することにより、オリゴヌクレオチド(1)〜(4)および(6)のハイブリッド形成能を調べた。オリゴヌクレオチドのヌクレオシド部分が非修飾であるヌクレオチド(0)をコントロールとして利用した。
塩化ナトリウム100mM、リン酸ナトリウム緩衝液(pH7.2)10mM、オリゴヌクレオチド(アンチセンス鎖)4.0μM、およびセンス鎖4.0μMを含むサンプル溶液(150μM)をヒートブロック(95℃)で5分間、加熱した後、12時間かけて室温まで冷却した。分光高度計(SHIMADZU UV−1800)のセル室内に結露防止のために窒素気流を通し、サンプル溶液を15℃まで徐々に冷却し、さらに15分間15℃に保った後、測定を開始した。温度は90℃まで毎分0.5℃ずつ上昇させ、0.5℃間隔で260nmにおける紫外部吸収を測定した。なお、温度上昇による濃度変化を防止するため、セルは蓋付きのものを用いた。結果を表6に示す。
表6から明らかなように、本発明のオリゴヌクレオチドは、RNA相補鎖に対して、天然オリゴヌクレオチドと比較してTm値を上昇させた。一方で、DNA相補鎖に対しては、天然オリゴヌクレオチドと比較してTm値を低下させた。また、本発明のヌクレオシド構造(II−1)の割合が高いほどTm値の上昇が見られた。従って、本発明のヌクレオチドから調製されるオリゴヌクレオチドは、一本鎖RNAに対する親和性が高いので、mRNAに作用しやすい。また、一本鎖DNAに対する親和性が低いのでDNA複製への影響は小さく、毒性の懸念が低いと考えられるため、核酸医薬品を合成するための材料として有用であると考えられる。
実施例2で合成したオリゴヌクレオチド(1)〜(4)および(6)(アンチセンス鎖)とセンス鎖(3´−CGC AAA AAA CGA−5´)とをアニーリング処理した後、Tm値を測定することにより、オリゴヌクレオチド(1)〜(4)および(6)のハイブリッド形成能を調べた。オリゴヌクレオチドのヌクレオシド部分が非修飾であるヌクレオチド(0)をコントロールとして利用した。
塩化ナトリウム100mM、リン酸ナトリウム緩衝液(pH7.2)10mM、オリゴヌクレオチド(アンチセンス鎖)4.0μM、およびセンス鎖4.0μMを含むサンプル溶液(150μM)をヒートブロック(95℃)で5分間、加熱した後、12時間かけて室温まで冷却した。分光高度計(SHIMADZU UV−1800)のセル室内に結露防止のために窒素気流を通し、サンプル溶液を15℃まで徐々に冷却し、さらに15分間15℃に保った後、測定を開始した。温度は90℃まで毎分0.5℃ずつ上昇させ、0.5℃間隔で260nmにおける紫外部吸収を測定した。なお、温度上昇による濃度変化を防止するため、セルは蓋付きのものを用いた。結果を表6に示す。
表6から明らかなように、本発明のオリゴヌクレオチドは、RNA相補鎖に対して、天然オリゴヌクレオチドと比較してTm値を上昇させた。一方で、DNA相補鎖に対しては、天然オリゴヌクレオチドと比較してTm値を低下させた。また、本発明のヌクレオシド構造(II−1)の割合が高いほどTm値の上昇が見られた。従って、本発明のヌクレオチドから調製されるオリゴヌクレオチドは、一本鎖RNAに対する親和性が高いので、mRNAに作用しやすい。また、一本鎖DNAに対する親和性が低いのでDNA複製への影響は小さく、毒性の懸念が低いと考えられるため、核酸医薬品を合成するための材料として有用であると考えられる。
実施例4 本発明のオリゴヌクレオチドのヌクレアーゼ耐性の評価
実施例2で合成したオリゴヌクレオチド(5)(Sulfonamide−NMe)及びオリゴヌクレオチド(7)(Sulfonamide−NH)について、オリゴヌクレオチドを3´側から分解するエキソヌクレアーゼに対する耐性を検討した。オリゴヌクレオチド(5)のXa部分が非修飾であるヌクレオチド(nature)、オリゴヌクレオチド(5)のXa部分が下記2´,4´‐BNA/LNAであるヌクレオチド(LNA)、オリゴヌクレオチド(5)のXa部分が下記2´,4´‐BNA−amideであるヌクレオチド(AmNA(Amide−BNA))および、オリゴヌクレオチド(5)のXa部分が下記2´,4´‐BNANC−Meであるヌクレオチド(BNANC−Me)をコントロールとして利用した。
実施例2で合成したオリゴヌクレオチド(5)(Sulfonamide−NMe)及びオリゴヌクレオチド(7)(Sulfonamide−NH)について、オリゴヌクレオチドを3´側から分解するエキソヌクレアーゼに対する耐性を検討した。オリゴヌクレオチド(5)のXa部分が非修飾であるヌクレオチド(nature)、オリゴヌクレオチド(5)のXa部分が下記2´,4´‐BNA/LNAであるヌクレオチド(LNA)、オリゴヌクレオチド(5)のXa部分が下記2´,4´‐BNA−amideであるヌクレオチド(AmNA(Amide−BNA))および、オリゴヌクレオチド(5)のXa部分が下記2´,4´‐BNANC−Meであるヌクレオチド(BNANC−Me)をコントロールとして利用した。
750pmolのオリゴヌクレオチドを含むバッファー溶液(80μL)を37℃で5分間保持した後、0.4μgのホスホジエステラーゼI(Worthington Biochemical Corporation社)を含むバッファー溶液(20μL)を混合した。オリゴヌクレオチドの分解を逆相HPLC(WatersXBridgeTM Shield RP18 Column 2.5μm(3.0mm x 50mm))によって経時的に測定した。用いたバッファーの組成(終濃度)はTris HCl(pH8.0)50mM、MgCl2 10mMであり、測定前に十分に脱気した。HPLCによる定量条件は以下に示すとおりである。
(HPLC定量条件)
移動相 A液: 0.1Mトリエチルアンモニウム酢酸バッファー(pH7.0)
B液: 0.1Mトリエチルアンモニウム酢酸バッファー:アセトニトリル =1:1(v/v)(pH7.0)
グラジエント
オリゴヌクレオチド(5)及び(7):B液濃度 16%−20%(16min)
その他のオリゴヌクレオチド:B液濃度 14%−22%(16min)
カラム WatersXBridgeTM Shield RP18 Column 2.5μm(3.0mm x 50mm)
流速 0.8mL/min
カラム温度 50℃
検出 UV(254nm)
移動相 A液: 0.1Mトリエチルアンモニウム酢酸バッファー(pH7.0)
B液: 0.1Mトリエチルアンモニウム酢酸バッファー:アセトニトリル =1:1(v/v)(pH7.0)
グラジエント
オリゴヌクレオチド(5)及び(7):B液濃度 16%−20%(16min)
その他のオリゴヌクレオチド:B液濃度 14%−22%(16min)
カラム WatersXBridgeTM Shield RP18 Column 2.5μm(3.0mm x 50mm)
流速 0.8mL/min
カラム温度 50℃
検出 UV(254nm)
結果を図1に示す。図1中、「残存オリゴヌクレオチド(%)」とは、0時点における未分解オリゴヌクレオチド(10mer)に対する、測定時点における未分解オリゴヌクレオチド(10mer)の残存率を示す。
この結果、ヌクレオチド(nature)およびヌクレオチド(LNA)は10分後にはすべて分解している。ヌクレオチド(AmNA(Amide−BNA))は40分後の残存率は50%以下であり、ヌクレオチド(BNANC−Me)は40分後の残存率は70%以下であるが、オリゴヌクレオチド(5)(Sulfonamide−NMe)は40分後においても残存率が80%以上である。また、オリゴヌクレオチド(7)(Sulfonamide−NH)は40分後においても残存率が95%以上である。よって、本発明のスルホンアミド構造を有するオリゴヌクレオチドは、非修飾のオリゴヌクレオチドや公知の人工ヌクレオチドから調製されるオリゴヌクレオチド(LNA、AmNA(Amide−BNA)、BNANC−Me)を大きく上回る酵素耐性を有することが分かった。従って、本発明のオリゴヌクレオチドは体内での持続性が非常によいと考えられることから、核酸医薬品を合成するための材料として有用であると考えられる。
この結果、ヌクレオチド(nature)およびヌクレオチド(LNA)は10分後にはすべて分解している。ヌクレオチド(AmNA(Amide−BNA))は40分後の残存率は50%以下であり、ヌクレオチド(BNANC−Me)は40分後の残存率は70%以下であるが、オリゴヌクレオチド(5)(Sulfonamide−NMe)は40分後においても残存率が80%以上である。また、オリゴヌクレオチド(7)(Sulfonamide−NH)は40分後においても残存率が95%以上である。よって、本発明のスルホンアミド構造を有するオリゴヌクレオチドは、非修飾のオリゴヌクレオチドや公知の人工ヌクレオチドから調製されるオリゴヌクレオチド(LNA、AmNA(Amide−BNA)、BNANC−Me)を大きく上回る酵素耐性を有することが分かった。従って、本発明のオリゴヌクレオチドは体内での持続性が非常によいと考えられることから、核酸医薬品を合成するための材料として有用であると考えられる。
以上の実施例から明らかなように、本発明のヌクレオチドまたはヌクレオシドから調製されるオリゴヌクレオチドは、優れた一本鎖RNAに対する結合親和性とヌクレアーゼ耐性を示す。従って、該オリゴヌクレオチドは体内での持続性が非常によいと考えられることから、本発明のヌクレオシドまたはヌクレオチドは、アンチセンスオリゴヌクレオチド等の核酸医薬品を合成するための材料として非常に有用である。
Claims (8)
- 式(I):
Y1−Y2はS(=O)−NR6、S(=O)2−NR6、NR6−S(=O)またはNR6−S(=O)2であり、
R6は水素原子、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Bxは核酸塩基部分であり、
Z1およびZ2はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基保護基または反応性リン基であり、
R1およびR2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R3はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R5は水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
nは0〜3の整数である)
で示される化合物、またはその塩。 - Y1−Y2がS(=O)2−NR6であり、R6が水素原子またはアルキルである、請求項1記載の化合物、またはその塩。
- Bxが置換若しくは非置換のプリン−9−イルまたは置換若しくは非置換の2−オキソ−ピリミジン−1−イルである、請求項1または2記載の化合物、またはその塩。
- Z1が水素原子または水酸基保護基である、請求項1〜3いずれかに記載の化合物、またはその塩。
- 該水酸基保護基がアセチル、t−ブチル、t−ブトキシメチル、メトキシメチル、テトラヒドロピラニル、1−エトキシエチル、1−(2−クロロエトキシ)エチル、2−トリメチルシリルエチル、p−クロロフェニル、2,4−ジニトロフェニル、ベンジル、ベンゾイル、p−フェニルベンゾイル、2,6−ジクロロベンジル、レブリノイル、ジフェニルメチル、p−ニトロベンジル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニルシリル、トリフェニルシリル、トリイソプロピルシリル、ギ酸ベンゾイル、クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、ピバロイル、イソブチリル、9−フルオレニルメチルオキシカルボニル、メタンスルホニル、p−トルエンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル、トリメトキシトリチル、9−フェニルキサンチン−9−イルまたは9−(p−メトキシフェニル)キサンチン−9−イルである、請求項4記載の化合物、またはその塩。
- Z2が水素原子または反応性リン基である、請求項1〜5いずれかに記載の化合物、またはその塩。
- 該反応性リン基がジイソプロピルシアノエトキシホスホロアミダイトまたはH−ホスホネートである、請求項6記載の化合物、またはその塩。
- 式(II):
Y1−Y2はS(=O)−NR6、S(=O)2−NR6、NR6−S(=O)またはNR6−S(=O)2であり、
R6は水素原子、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
Bxは核酸塩基部分であり、
R1およびR2はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R3はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R4はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
R5は水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニルまたは置換若しくは非置換のアルキニルであり、
nは0〜3の整数である)
で示されるヌクレオシド構造を1以上含有するオリゴヌクレオチドまたはその製薬上許容される塩。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013004735 | 2013-01-15 | ||
JP2013004735 | 2013-01-15 | ||
PCT/JP2014/050429 WO2014112463A1 (ja) | 2013-01-15 | 2014-01-14 | スルホンアミド構造を有するヌクレオシドおよびヌクレオチド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2014112463A1 true JPWO2014112463A1 (ja) | 2017-01-19 |
Family
ID=51209553
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014557454A Pending JPWO2014112463A1 (ja) | 2013-01-15 | 2014-01-14 | スルホンアミド構造を有するヌクレオシドおよびヌクレオチド |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20150337002A1 (ja) |
JP (1) | JPWO2014112463A1 (ja) |
WO (1) | WO2014112463A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018140938A (ja) * | 2015-07-24 | 2018-09-13 | 日産化学株式会社 | 人工ヌクレオシド及び人工ヌクレオチド並びに人工オリゴヌクレオチド |
EP3507367A4 (en) | 2016-07-05 | 2020-03-25 | Aduro BioTech, Inc. | CYCLIC DINUCLEOTID COMPOUNDS WITH INCLUDED NUCLEIC ACIDS AND USES THEREOF |
CA3029772A1 (en) | 2016-07-05 | 2018-01-11 | Biomarin Technologies B.V. | Pre-mrna splice switching or modulating oligonucleotides comprising bicyclic scaffold moieties, with improved characteristics for the treatment of genetic disorders |
CA3043864A1 (en) | 2016-11-16 | 2018-05-24 | Biomarin Technologies B.V. | Substances for targeting various selected organs or tissues |
JP7016170B2 (ja) * | 2016-12-16 | 2022-02-04 | 国立大学法人東海国立大学機構 | ヌクレオシド誘導体及びその利用 |
JP7095893B2 (ja) | 2017-02-21 | 2022-07-05 | 国立大学法人大阪大学 | アンチセンスオリゴ核酸 |
EP3587432A4 (en) | 2017-02-21 | 2021-01-06 | Osaka University | COMPOUND OF NUCLEIC ACID AND OLIGONUCLEOTIDE |
JP7190794B2 (ja) | 2017-03-29 | 2022-12-16 | 塩野義製薬株式会社 | 核酸医薬及び多分岐脂質の複合体 |
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- 2014-01-14 WO PCT/JP2014/050429 patent/WO2014112463A1/ja active Application Filing
- 2014-01-14 JP JP2014557454A patent/JPWO2014112463A1/ja active Pending
- 2014-01-14 US US14/759,099 patent/US20150337002A1/en not_active Abandoned
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20150337002A1 (en) | 2015-11-26 |
WO2014112463A1 (ja) | 2014-07-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170113 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170905 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20180227 |