JPWO2012043606A1 - 太陽熱発電用フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用反射装置 - Google Patents

Abstract

ハードコート層、樹脂層および反射層を順に有し、該ハードコート層と該樹脂層が隣接する太陽熱発電用フィルムミラーにおいて、該ハードコート層がトリアジン系ＵＶ吸収剤または無機ＵＶ吸収剤を含有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。

Description

本発明は、太陽熱発電用フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用フィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置に関する。

近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わるエネルギーとしては現在、石炭エネルギー、バイオマスエネルギー、核エネルギー、風力エネルギー、太陽エネルギー等の自然エネルギーの検討がなされているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、且つ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられている。しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であること等が問題となると考えられる。

太陽エネルギーの上記課題に対し、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決する方法が提案されている。反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは、環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損すること、あるいは重いため、ミラーを設置する架台の強度を持たせる必要があり、その結果、プラントの建設費がかさむといった問題があった。

上記問題を解決するため、ガラス製ミラーを樹脂製反射シートに置き換える方法が検討されている。しかしながら、使用している樹脂が外部環境に対して弱く、また反射層に銀等の金属を用いると、長期間にわたる太陽光の照射により、正反射率が低下するという問題があった。

上記問題を解決して、太陽光を集光する目的において、高い反射率を得るという観点から、銀反射層よりも入射光側に位置している樹脂層に、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤（以下、ＵＶ吸収剤ともいう）を多量に添加することで、ハードコート層のＵＶ光による光劣化で生じる白化の抑制を行う方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。

しかしながら、上記特許文献１に記載されている方法では、耐候性としては決して十分でなく、太陽光の照射に伴い、樹脂層の劣化を防止できず、層間の剥離および反射率の低下が生じた。

米国特許第７５０７７７６号明細書

本発明の目的は、長期間太陽光を照射しても、層間の剥離が生じることがなく、正反射率の高いフィルムミラーを提供することであり、特にハードコート層と該ハードコート層に隣接する樹脂層との剥離がない太陽熱発電フィルムミラーを提供することである。

本発明者は上記課題に関し鋭意検討を行った結果、太陽熱発電用フィルムミラーを構成する樹脂層の劣化は、樹脂層に含まれる樹脂の低分子量成分、残留重合開始剤また残留モノマーの紫外線による分解が起因であることが判明した。さらには、上記各成分を分解させる光線としては、ＵＶ−Ａ領域（３２０〜４００ｎｍ）からＵＶ−Ｂ領域（２９０〜３２０ｎｍ）にわたる紫外光であり、とりわけＵＶ−Ｂ領域（２９０〜３２０ｎｍ）の光線であることが分かった。

そして、ＵＶ−Ｂ領域の光線をカットするには、ベンゾトリアゾール系のＵＶ吸収剤の使用では不十分であることが判明した。また、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤はＵＶ−Ｂ領域の光線で劣化しやすく、大量の紫外線が照射されることにより、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤のＵＶ−Ａ領域の光線カット能も低下していくことが分かった。そこで、ＵＶ−Ｂ領域（２９０〜３２０ｎｍ）の光線に対して高い吸収性を有し、ＵＶ−Ｂ領域の光線が当たっても劣化しにくいトリアジン系化合物をＵＶ吸収剤として用いる試みを行い、樹脂層の劣化を防止することが出来、ハードコート層と隣接する樹脂層との剥離を防止し、性反射率の低下を防止することが出来た。

本発明の課題は以下により解決された。

１．ハードコート層、樹脂層および反射層を順に有し、該ハードコート層と該樹脂層が隣接する太陽熱発電用フィルムミラーにおいて、該ハードコート層がトリアジン系ＵＶ吸収剤または無機ＵＶ吸収剤を含有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。

２．前記ハードコート層が酸化防止剤を樹脂固形分に対して０．１〜５質量％含有することを特徴とする前記１に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。

３．前記ハードコート層がトリアジン系ＵＶ吸収剤および無機ＵＶ吸収剤を含有することを特徴とする前記１又は２に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。

４．前記ハードコート層が樹脂固形分に対して０．１〜１０質量％のトリアジン系ＵＶ吸収剤を含有することを特徴とする前記１〜３の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。

５．前記ハードコート層が樹脂固形分に対して１〜５０質量％の無機ＵＶ吸収剤を含有し、該無機ＵＶ吸収剤が酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムまたは酸化鉄であることを特徴とする前記１〜４の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。

６．前記無機ＵＶ吸収剤が数平均粒径１０ｎｍ〜１００ｎｍの微粒子であることを特徴とする前記１〜５の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。

７．前記無機ＵＶ吸収剤の表面が被覆層を有することを特徴とする前記１〜６の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。

８．前記ハードコート層がアクリル系ＵＶ硬化性樹脂を硬化した樹脂を含有することを特徴とする前記１〜７の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。

９．前記酸化防止剤がヒンダードアミン系化合物であることを特徴とする前記２〜８の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。

１０．前記１〜９の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーが反射層を有し、該反射層は銀を蒸着することにより形成することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法。

１１．前記１〜９の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーと金属支持体が粘着剤層を介して貼合されてなることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。

長期間太陽光を照射しても、層間の剥離が生じることがなく、正反射率の高い太陽熱発電用フィルムミラーを提供することができた。また、その太陽熱発電用フィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができた。

（太陽熱発電用フィルムミラー）
前記太陽熱発電用フィルムミラーはハードコート層、樹脂層および反射層を順に有し、該ハードコート層と該樹脂層が隣接している。該反射層は基材上に形成される金属層であることが好ましいく、基材と金属層の密着性を向上するために基材上にアンカー層を設けた後、金属層を形成することが好ましい。また、金属層は太陽光や水分により腐蝕しやすいので金属層上には腐蝕防止剤を含有する腐蝕防止層を設けることが好ましい。

（太陽熱発電用反射装置）
目標の方向に太陽光を正反射するように設計されたアルミ板などからなる前記支持体上に、粘着剤などを用いて前記太陽熱発電用フィルムミラーを貼合することにより、前記太陽熱発電用反射装置を作製することが出来る。

（ハードコート層）
本発明の太陽熱発電用フィルムミラーにおいては、最外層として、ハードコート層を設ける。本発明に係るハードコート層は、傷防止と紫外線を遮蔽するために設けられる。

前記ハードコート層は、紫外線を遮蔽するために、トリアジン系ＵＶ吸収剤または無機ＵＶ吸収剤を含有する。

前記ハードコート層は、バインダーとして、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂等を用い、ＵＶ硬化または熱硬化で作製することができる。特に、本発明においては下層樹脂基材の平面性維持等の点で、ＵＶ硬化で作製するのが好ましい。また、特に本発明においては硬度と耐久性等の点で、アクリル系ＵＶ硬化性樹脂を用いるのが好ましい。

前記ハードコート層は、ＵＶ硬化または熱硬化で作製される樹脂のほかに、熱可塑性樹脂を含有しても良い。

前記ハードコート層において、樹脂固形分とは、ハードコート層に含まれる固体の樹脂および、ＵＶ硬化または熱硬化により固体の樹脂になる重合性成分である。重合性成分は重合性のモノマー、オリゴマーを意味する。

（アクリル系ＵＶ硬化性樹脂）
アクリル系ＵＶ硬化性樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。

前記多官能アクリレートとしては、たとえば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリス（ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート）、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、多官能ウレタン化（メタ）アクリレート等を主成分とする（メタ）アクリレート系樹脂などが例示される。

ここで、多官能ウレタン化（メタ）アクリレートとは、たとえば、イソホロンジイソシアネートやヘキサメチレンジイソシアネートのような、分子内に少なくとも２個のイソシアナト基（−ＮＣＯ）を有するポリイソシアネートに、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレートやペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートのような、分子内に１個の水酸基および少なくとも１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を付加反応させて得られる、ウレタン結合と少なくとも２個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。

前記多官能アクリレートは単独または２種以上混合して使用することができる。また、多官能ウレタン化（メタ）アクリレートに、上述したようなウレタン結合を有しない多官能（メタ）アクリレートを組み合わせて用いることも可能である。

前記多官能アクリレートとしては市販されているものを好適に用いることができる。多官能アクリレートの市販品としては、具体的には、カヤラッド ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）、カヤラッド ＤＰＣＡ−２０（日本化薬（株）製）、カヤラッド ＤＰＣＡ−３０（日本化薬（株）製）、カヤラッド ＤＰＣＡ−６０（日本化薬（株）製）、カヤラッド ＤＰＣＡ−１２０（日本化薬（株）製）、カヤラッド Ｄ−３１０（日本化薬（株）製）、カヤラッド Ｄ−３３０（日本化薬（株）製）、カヤラッド ＰＥＴ−３０（日本化薬（株）製）、カヤラッド ＧＰＯ−３０３（日本化薬（株）製）、カヤラッド ＴＭＰＴＡ（日本化薬（株）製）、カヤラッド ＴＨＥ−３３０（日本化薬（株）製）、カヤラッド ＴＰＡ−３３０（日本化薬（株）製）、アロニックスＭ−３１５（東亞合成（株）製）、アロニックスＭ−３２５（東亞合成（株）製）などが挙げられる。

上述したようなＵＶ硬化性樹脂は、通常、光重合開始剤と混合して使用される。光重合開始剤としては、たとえば、イルガキュアー ９０７（チバ・ジャパン社製）、イルガキュアー １８４（チバ・ジャパン社製）、ルシリン ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）などの市販品を好適に用いることができる。

また、充分な高硬度を有し、硬化収縮によるカールを充分に抑制し得るハードコート層を得る観点から、ＵＶ硬化樹脂中にシリカ微粒子を添加するようにしてもよい。この場合、シリカ微粒子としては、粉体状シリカまたはコロイダルシリカが挙げられ、平均粒子径が０．０１〜２０μｍの範囲内のものが好適に用いられる。また、シリカ微粒子は、ハードコートフィルムの光透過性に影響を与えないものであることが好ましく、そのためには、一次粒子径が１０〜３５０ｎｍの範囲内にあることが好ましく、１０〜５０ｎｍの範囲内にあることがより好ましい。なお、上述したシリカ微粒子の平均粒子径は、たとえば透過型電子顕微鏡で観察することにより測定することができ、また、シリカ微粒子の一次粒子径は、たとえばイソプロピルアルコールなどの溶媒に微粒子を分散させ、その分散液から、コールター粒度分布測定法、レーザー回折散乱法、動的光散乱法などにより測定することができ、これらの中でもコールター粒度分布測定法が一般的である。

シリカ微粒子の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、もしくは不定形状であってよいが、紫外線硬化性樹脂中で凝集することなく粒子を好適に分散させるためには、好ましくは球状である。また、ハードコート層３の硬度や平面性を維持する観点から、シリカ微粒子の比表面積は０．１〜３０００ｍ^２／ｇの範囲内であることが好ましく、さらには１ｍ^２／ｇ以上、とりわけ１０ｍ^２／ｇ以上、また１５００ｍ^２／ｇ以下であることがより好ましい。

このようなシリカ微粒子も市販されているものを好適に用いることができる。シリカ微粒子の市販品を例示すると、コロイダルシリカとしては、メタノールシリカゾル（日産化学工業（株）製）、ＩＰＡ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＭＥＫ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＮＢＡ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＸＢＡ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＤＭＡＣ−ＳＴ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−ＵＰ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−ＯＵＰ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−２０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−４０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−Ｃ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−Ｎ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−Ｏ（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−５０（日産化学工業（株）製）、ＳＴ−ＯＬ（日産化学工業（株）製）などを挙げることができる。

また粉体状シリカとしては、アエロジル１３０（日本アエロジル（株）製）、アエロジル３００（日本アエロジル（株）製）、アエロジル３８０（日本アエロジル（株）製）、アエロジルＴＴ６００（日本アエロジル（株）製）、アエロジルＯＸ５０（日本アエロジル（株）製）、シルデックスＨ３１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ３２（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ５１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ５２（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ１２１（旭硝子（株）製）、シルデックスＨ１２２（旭硝子（株）製）、Ｅ２２０Ａ（日本シリカ工業（株）製）、Ｅ２２０（日本シリカ工業（株）製）、サイリシア４７０（富士シリシア（株）製）、ＳＧフレーク（日本板硝子（株）製）などを挙げることができる。

（トリアジン系ＵＶ吸収剤）
前記トリアジン系ＵＶ吸収剤は下記一般式（Ｉ）で表わされる。

一般式（Ｉ） Ｑ^１−Ｑ^２−ＯＨ
式中、Ｑ^１は１，３，５−トリアジン環を表す。Ｑ^２は芳香族環を表し、好ましくはベンゼン環を表わす。

一般式（Ｉ）としてさらに好ましくは下記一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物である。

式中、Ｒ^１は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；フェニル基、ヒドロキシ基、炭素原子数１〜１８のアルコキシ基、炭素原子数５〜１２のシクロアルコキシ基、炭素原子数３〜１８のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ^４、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^５、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ^６、−ＣＯ−ＮＨ_２、−ＣＯ−ＮＨＲ^７、−ＣＯ−Ｎ（Ｒ^７）（Ｒ^８）、ＣＮ、ＮＨ_２、ＮＨＲ^７、−Ｎ（Ｒ^７）（Ｒ^８）、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ^５、フェノキシ基、炭素原子数１〜１８のアルキル基で置換されたフェノキシ基、フェニル−炭素原子数１〜４のアルコキシ基、炭素原子数６〜１５のビシクロアルコキシ基、炭素原子数６〜１５のビシクロアルキルアルコキシ基、炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニルアルコキシ基、または炭素原子数６〜１５のトリシクロアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜１８のアルキル基；ヒドロキシ基、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数２〜６のアルケニル基または−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^５で置換された炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；グリシジル基；−ＣＯ−Ｒ^９または−ＳＯ_２−Ｒ^１０を表すか；あるいはＲ^１は１以上の酸素原子で中断された及び／またはヒドロキシ基、フェノキシ基もしくは炭素原子数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換された炭素原子数３〜５０のアルキル基を表すか；あるいはＲ^１は−Ａ；−ＣＨ_２−ＣＨ（ＸＡ）−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^１２；−ＣＲ^１３Ｒ′^１３−（ＣＨ_２）_ｍ−Ｘ−Ａ；−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＡ）−Ｒ^１４；−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−ＸＡ；

−ＣＲ^１５Ｒ′^１５−Ｃ（＝ＣＨ_２）−Ｒ″^１５；−ＣＲ^１３Ｒ′^１３−（ＣＨ_２）_ｍ−ＣＯ−Ｘ−Ａ；−ＣＲ^１３Ｒ′^１３−（ＣＨ_２）_ｍ−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^１５Ｒ′^１５−Ｃ（＝ＣＨ_２）−Ｒ″^１５または−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^１５Ｒ′^１５−Ｃ（＝ＣＨ_２）−Ｒ″^１５（式中、Ａは−ＣＯ−ＣＲ^１６＝ＣＨ−Ｒ^１７を表す。）で表される定義の一つを表す。

Ｒ^２は、互いに独立して、炭素原子数６〜１８のアルキル基；炭素原子数２〜６のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；ＣＯＯＲ^４；ＣＮ；−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ^５；ハロゲン原子；トリフルオロメチル基；−Ｏ−Ｒ^３を表す。

Ｒ^３はＲ^１に対して与えられた定義を表す。

Ｒ^４は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基を表すか；あるいはＲ^４は１以上の−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ^７−、−Ｓ−で中断された及びＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素原子数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換されていてもよい、炭素原子数３〜５０のアルキル基を表す。

Ｒ^５はＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数２〜１８のアルケニル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニル基；炭素原子数６〜１５のトリシクロアルキル基を表す。

Ｒ^６はＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基を表す。

Ｒ^７及びＲ^８は互いに独立して炭素原子数１〜１２のアルキル基；炭素原子数３〜１２のアルコキシアルキル基；炭素原子数４〜１６のジアルキルアミノアルキル基を表すか；または炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基を表し；あるいはＲ^７及びＲ^８は一緒になって炭素原子数３〜９のアルキレン基、炭素原子数３〜９のオキサアルキレン基または炭素原子数３〜９のアザアルキレン基を表す。

Ｒ^９は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数２〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキルアルキル基、炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニル基；または炭素原子数６〜１５のトリシクロアルキル基を表す。

Ｒ^１０は炭素原子数１〜１２のアルキル基；フェニル基；ナフチル基；または炭素原子数７〜１４のアルキルフェニル基を表す。

Ｒ^１１は互いに独立してＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜６のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；ハロゲン原子；炭素原子数１〜１８のアルコキシ基を表す。

Ｒ^１２は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１８のアルケニル基；フェニル基；炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数３〜８のアルケノキシ基、ハロゲン原子またはトリフルオロメチル基で１〜３回置換されたフェニル基を表すか；または炭素原子数７〜１１のフェニルアルキル基；炭素原子数５〜１２のシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のトリシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルキルアルキル基；炭素原子数６〜１５のビシクロアルケニルアルキル基；−ＣＯ−Ｒ^５を表し；またはＲ^１２は１以上の−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ^７−、−Ｓ−で中断された及びＯＨ、フェノキシ基もしくは炭素原子数７〜１８のアルキルフェノキシ基で置換されていてもよい、炭素原子数３〜５０のアルキル基を表す。

Ｒ^１３及びＲ′^１３は互いに独立してＨ；炭素原子数１〜１８のアルキル基；フェニル基を表す。

Ｒ^１４は炭素原子数１〜１８のアルキル基；炭素原子数３〜１２のアルコキシアルキル基；フェニル基；フェニル−炭素原子数１〜４のアルキル基を表す。

Ｒ^１５、Ｒ′^１５及びＲ″^１５は互いに独立してＨまたはＣＨ_３を表す。

Ｒ^１６はＨ；−ＣＨ_２−ＣＯＯ−Ｒ^４；炭素原子数１〜４のアルキル基；またはＣＮを表す。

Ｒ^１７はＨ；−ＣＯＯＲ^４；炭素原子数１〜１７のアルキル基；またはフェニル基を表す。

Ｘは−ＮＨ−；−ＮＲ^７−；−Ｏ−；−ＮＨ−（ＣＨ_２）_ｐ−ＮＨ−；または−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｑ−ＮＨ−を表す。

指数ｍは数０〜１９を表し；ｎは数１〜８を表し；ｐは数０〜４を表し；ｑは数２〜４を表す。

ただし一般式（Ｉ−Ａ）中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^１１の少なくとも１つが２個以上の炭素原子を含む。

前記トリアジン系ＵＶ吸収剤の使用量は、前記ハードコート層の全質量に対し０．１〜１０質量％であることが好ましい。１０質量％以下であれば密着性が良好であり、１質量％以上であれば太陽光による劣化を強く抑制できる。

（無機ＵＶ吸収剤）
前記無機ＵＶ吸収剤は、好ましくは金属酸化物顔料であり、アクリル樹脂に２０質量％以上の濃度で分散させて、６μｍ厚のフィルムを形成したときに、ＵＶ−Ｂ域（２９０−３２０ｎｍ）域における光線透過率を１０％以下にする機能を備えた化合物である。本発明に適用可能な無機ＵＶ吸収剤としては、特に、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化セリウムまたはこれらの混合物から選択されることが好ましい。

また、無機ＵＶ吸収剤含有層の透明性を向上させる点から、数平均粒径が５ｎｍと１５０ｎｍとの間の平均基本粒子径であるものが好ましく、特に好ましくは１０ｎｍと１００ｎｍとの間の平均基本粒子径であって、粒径分布の最大粒径が１５０ｎｍ以下の金属酸化物粒子である。この種の被覆または非被覆金属酸化物顔料は、より詳細に、特許出願ＥＰ−Ａ−０ ５１８ ７７３に記載されている。

前記無機ＵＶ吸収剤としては、Ｓｉｃｏｔｒａｎｓ Ｒｅｄ Ｌ２８１５（酸化鉄；ＢＡＳＦ社製）、ＣｅＯ−Ｘ０１（酸化セリウム；株式会社イオックス製）、ＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０（酸化亜鉛；堺化学工業株式会社製）、ＳＴＲ−６０（酸化チタン；堺化学工業株式会社製）、ＣＭ−１０００（酸化鉄 ケミライト工業株式会社製）、ＣＥＲＩＧＵＡＲＤ Ｓ−３０１８−０２（酸化セリウム 大東化成工業株式会社製）、ＭＺ−３００（酸化亜鉛 テイカ株式会社製）、ＭＴ−７００Ｂ（酸化チタン テイカ株式会社製）などが市販されている。

前記無機ＵＶ吸収剤の粒子径は、動的光散乱式粒径分布測定装置であるＬＢ−５５０（株式会社堀場製作所製）により測定することができ、測定結果の出力より、数平均粒径を求めることができる。

前記無機ＵＶ吸収剤の使用量は、ハードコート層の全質量に対し１〜５０質量％が好ましく、更に好ましくは５〜２５質量％、最も好ましくは１５〜２０質量％である。５０質量％以下であれば密着性が良好であり、１質量％以上であれば太陽光による劣化を強く抑制できる。

また、無機ＵＶ吸収剤を後述する有機ＵＶ吸収剤と併用して用いる場合、ＵＶ吸収層の全質量に対し、無機ＵＶ吸収剤の使用量は３〜２０質量％、好ましくは５〜１０質量％であり、有機ＵＶ吸収剤の使用量は０．１〜１０質量％、好ましくは０．５〜５質量％である。前記の使用量の範囲で無機ＵＶ吸収剤と有機ＵＶ吸収剤とを併用すると、ＵＶ吸収層の透明度は高く、耐侯性も良好となる。

（被覆層）
また、本発明においては、無機酸化物の光触媒能による隣接樹脂の酸化劣化作用を抑える観点から、無機ＵＶ吸収剤が、表面に被覆層を有し、数平均粒径（被覆層を含む）が、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の無機ＵＶ吸収剤微粒子であることが好ましい。また、被覆層には無機ＵＶ吸収剤粒子の分散性を向上させる効果もあるため、被覆層を有することはなお好ましい。ここでいう被覆層とは、アミノ酸、蜜蝋、脂肪酸、脂肪アルコール、陰イオン界面活性剤、レシチン、脂肪酸のナトリウム塩、カリウム塩、亜鉛塩、鉄塩またはアルミニウム塩、金属アルコキシド（チタンまたはアルミニウムの）、ポリエチレン、シリコーン、タンパク質（コラーゲン、エラスチン）、アルカノールアミン、酸化ケイ素、金属酸化物あるいはヘキサメタリン酸ナトリウムのような化合物を含有し、化学的、電子工学的、メカノケミストリー的または機械的な１つまたは複数の手段により、無機ＵＶ吸収剤の表面に設けることが出来る。

（酸化防止剤）
また、ハードコート層と隣接する樹脂層との界面の密着性が太陽光照射により劣化するのを防止するために、酸化防止剤を含有することが好ましい。

本発明に適用可能な酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物の酸化防止剤群の中から選ぶことができるが、中でもヒンダードアミン系化合物が好ましい。

前記酸化防止剤は、前記ハードコート層の全質量に対し０．１〜５質量％含有されることが好ましい。０．１質量％以上であれば樹脂鎖の酸化的開裂やＵＶ吸収剤の分解を抑制することができ、５質量％以下であれば密着性が良好である。

（ヒンダードフェノール系化合物）
ヒンダードフェノール系化合物の具体例としては、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミドＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−ｌ−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、３，９−ビス−｛２−〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル７−（３−メチル−５−ｔブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオール−ビス［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトールテトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。上記タイプのフェノール化合物は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から、“ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６”及び“ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０”という商品名で市販されている。

（ヒンダードアミン系化合物）
ヒンダードアミン系化合物の具体例としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。

また、高分子タイプの化合物でもよく、具体例としては、Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″′−テトラキス−［４，６−ビス−〔ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ〕−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、１，６−ヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）とモルフォリン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルフォリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕］等の、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量ＨＡＬＳ；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物等の、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

これらの中でも、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜５，０００のものが好ましい。

上記タイプのヒンダードアミン化合物は、例えば、チバ・ジャパン株式会社から、“ＴＵＮＵＶＩＮ１４４”及び“ＴＵＮＵＶＩＮ７７０”、株式会社ＡＤＥＫＡから“ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＬＡ−５２”という商品名で市販されている。

上記ヒンダードアミン系化合物は、前記ハードコート層の全質量に対し０．１〜５質量％含有されることが好ましい。０．１質量％以上であれば樹脂鎖の酸化的開裂やＵＶ吸収剤の分解を抑制することができ、５質量％以下であれば密着性が良好である。

（リン系化合物）
リン系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物；４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）等のジホスファイト系化合物；トリフェニルホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４′−ジイルビスホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４′−ジイルビスホスホナイト等のホスホナイト系化合物；トリフェニルホスフィナイト、２，６−ジメチルフェニルジフェニルホスフィナイト等のホスフィナイト系化合物；トリフェニルホスフィン、トリス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィン等のホスフィン系化合物；等が挙げられる。

上記タイプのリン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ”、株式会社ＡＤＥＫＡから“ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−２４Ｇ”、“ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−３６”及び“ＡＤＫ ＳＴＡＢ ３０１０”、チバ・ジャパン株式会社から“ＩＲＧＡＦＯＳ Ｐ−ＥＰＱ”、堺化学工業株式会社から“ＧＳＹ−Ｐ１０１”という商品名で市販されている。

（樹脂層）
前記ハードコート層に隣接して前記樹脂層が設けられている。

前記樹脂層は、腐蝕防止剤を含有する腐蝕防止層であってもよく、ＵＶ吸収剤を含有するＵＶ吸収層であってもよく、ハードコート層と他の層との密着性を向上するための接着剤層であっても良い。該ＵＶ吸収層はＵＶ吸収剤を含有する樹脂フィルムであってもよい。該樹脂フィルムは、一方の面にハードコート層が設けられ、他方の面は接着剤により反射層を有するフィルムと接着されることが好ましい。該樹脂フィルムに用いられる樹脂としては、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂などが挙げられるが、アクリル系樹脂が好ましい。

前記樹脂層がＵＶ吸収剤を含有する場合、該ＵＶ吸収剤としては、トリアジン系ＵＶ吸収剤、トリアゾール系ＵＶ吸収剤、無機ＵＶ吸収剤などを用いることが出来る。

（腐蝕防止層）
前記腐食防止層は、反射層の腐食防止のために設けられる。

前記腐食防止層の構成としては、腐食防止剤を含有する樹脂層であることが好ましい。さらに好ましくは、腐食防止剤を０．０１〜１０質量％含有する樹脂層を用いるのがよい。

本発明に係る腐食防止層に使用する樹脂は、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。

本発明に係る腐食防止剤層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。

腐食防止剤層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。

（腐食防止剤）
本発明に係る腐食防止層に用いられる腐食防止剤としては、反射層が銀からなる場合、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。

ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか、もしくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ Ｚ０１０３−２００４参照）。

なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１〜１．０ｇ／ｍ^２の範囲内であることが好ましい。

〈銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤〉
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、例えば、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。

（反射層）
前記反射層は入射した太陽光を高い反射率で反射する機能を有する。該反射層は金属により形成されることが、反射率を高く出来ることから好ましい。金属のなかでも、特に銀により形成された反射層が好ましい。

銀反射層の形成方法としては、湿式法及び乾式法のいずれの方法も適用することができる。

湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させて銀膜を形成する方法であり、具体例としては、銀鏡反応等を挙げることができる。

一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的な方法としては、例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等が挙げられる。とりわけ、本発明においては、連続的に成膜するロールツーロール方式を適用することが可能な蒸着法が好ましく用いられる。

本発明に係る銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。

本発明において、銀反射層は基材に対して光線入射側にあっても、その反対側にあってもよいが、基材が樹脂であることから、光線による基材の樹脂劣化を防止する目的から、基材に対し光線入射側に位置する方が好ましい。

（基材）
前記基材は樹脂性であり、該基材としては従来公知の樹脂フィルムを用いることができる。

例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。

中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。特に、ポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。

樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍ、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。

《太陽熱発電用反射装置の作製》
〔試料１の作製〕
樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂としてエスペル９９４０Ａ（日立化成工業株式会社製）、メラミン樹脂、ジイソシアネート架橋剤としてトリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）（三井化学ファイン株式会社製）を質量比で２０：１：１：２に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍのアンカー層を形成し、銀反射層として真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成した。この銀反射層上に、エスペル９９４０Ａとトリレンジイソシアネートとを、樹脂固形分比率（質量比）で１０：２に混合した樹脂中に、腐食防止剤としてＴｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）を樹脂固形分に対して１０質量％となる量を添加し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの腐食防止層を形成した。

続いて、接着層としてビニロール９２Ｔ（アクリル樹脂接着剤；昭和高分子社製）を厚さ１０μｍの厚さでコートし、接着層の上にＵＶ吸収剤を含有するアクリル樹脂フィルム（ＫＯＲＡＤ ＣＬＲＡＲ０５００５，ポリマー・エクスクルーディドプロダクト社製）５０μｍを積層させた。続いてアクリル樹脂フィルムの上にハードコート層として、リオデュラスＬＣＨ（ＵＶ硬化性アクリル樹脂；東洋インキ社製）にトリアジン系ＵＶ吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ４７７（（チバ・ジャパン社製）を樹脂固形分に対して０．０５質量％、無機系ＵＶ吸収剤としてＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０（酸化亜鉛；数平均粒径２０ｎｍ；堺化学工業株式会社製）を１０質量％となる量添加し、グラビアコートによりウエット膜厚４０μｍで塗布し、ＵＶコンベア（光源；高圧水銀ランプ、照度；１００ｍＷ／ｃｍ^２）を用いてＵＶ照射することによりハードコート層を設けることで太陽熱発電用フィルムミラーを作製した。

さらに、基材樹脂に粘着層としてＳＥ−６０１０（アクリル樹脂接着剤；昭和高分子社製）を厚さ１０μｍの厚さでコートし、厚さ０．１ｍｍで、たて４ｃｍ×よこ５ｃｍのアルミ板（住友軽金属社製）上に、上記サンプルを、粘着層を介して貼り付け、太陽熱発電用反射装置である試料１を作製した。

〔試料２の作製〕
前記試料１の作製において、ハードコート層に添加するＴｉｎｕｖｉｎ４７７を樹脂固形分に対して０．１質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料２を作製した。

〔試料３の作製〕
前記試料１の作製において、ハードコート層に添加するＴｉｎｕｖｉｎ４７７を樹脂固形分に対して１．５質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料３を作製した。

〔試料４の作製〕
前記試料１の作製において、ハードコート層に添加するＴｉｎｕｖｉｎ４７７を樹脂固形分に対して６．５質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料４を作製した。

〔試料５の作製〕
前記試料１の作製において、ハードコート層に添加するＴｉｎｕｖｉｎ４７７を樹脂固形分に対して１０．０質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料５を作製した。

〔試料６の作製〕
前記試料１の作製において、ハードコート層に添加するＴｉｎｕｖｉｎ４７７を樹脂固形分に対して１１．０質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料６を作製した。

〔試料７の作製〕
前記試料２の作製において、ハードコート層に添加するＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０を樹脂固形分に対して２５質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料７を作製した。

〔試料８の作製〕
前記試料３の作製において、ハードコート層に添加するＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０を樹脂固形分に対して２５質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料８を作製した。

〔試料９の作製〕
前記試料４の作製において、ハードコート層に添加するＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０を樹脂固形分に対して２５質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料９を作製した。

〔試料１０の作製〕
前記試料５の作製において、ハードコート層に添加するＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０を樹脂固形分に対して２５質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料１０を作製した。

〔試料１１の作製〕
前記試料２の作製において、ハードコート層に添加するＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０を樹脂固形分に対して４０質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料１１を作製した。

〔試料１２の作製〕
前記試料３の作製において、ハードコート層に添加するＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０を樹脂固形分に対して４０質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料１２を作製した。

〔試料１３の作製〕
前記試料４の作製において、ハードコート層に添加するＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０を樹脂固形分に対して４０質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料１３を作製した。

〔試料１４の作製〕
前記試料５の作製において、ハードコート層に添加するＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０を樹脂固形分に対して４０質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料１４を作製した。

〔試料１５の作製〕
前記試料２の作製において、ハードコート層にＴｉｎｕｖｉｎ４７７は添加せず、ＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０の添加量を樹脂固形分に対して２５質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料１５を作製した。

〔試料１６の作製〕
前記試料２の作製において、ハードコート層にＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０は添加せず、Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７の添加量を樹脂固形分に対して１．５質量％に変えたほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料１６を作製した。

〔試料１７〜１９の作製〕
前記試料３、８、１２の作製において、ハードコート層に酸化防止剤としてヒンダードアミン系化合物のＴｉｎｕｖｉｎ１５２を樹脂固形分に対して１質量％添加したほかは同様に、太陽熱発電用反射装置である試料１７、１８、１９を作製した。

〔試料２０〜２３の作製〕
前記試料１５の作製において、ハードコート層に添加したＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０を、数平均粒径２０ｎｍの無機ＵＶ吸収剤である、Ｓｉｃｏｔｒａｎｓ Ｒｅｄ Ｌ２８１５（酸化鉄；ＢＡＳＦ社製）、ＣｅＯ−Ｘ０１（酸化セリウム；株式会社イオックス製）、ＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０（酸化亜鉛；堺化学工業株式会社製）、ＳＴＲ−６０（酸化チタン；堺化学工業株式会社製）に変え、その添加量を表２に記載のように樹脂固形分に対して１５質量％に変えた他は同様に、太陽熱発電用反射装置である試料２０〜２３を作製した。

〔試料２４〜２７の作製〕
前記試料１５の作製において、ハードコート層に添加したＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０を、数平均粒径１５０ｎｍの無機ＵＶ吸収剤である、ＣＭ−１０００（酸化鉄；ケミライト工業株式会社製）、ＣＥＲＩＧＵＡＲＤ Ｓ−３０１８−０２（酸化セリウム；大東化成工業株式会社製）、ＭＺ−３００（酸化亜鉛；テイカ株式会社製）、ＭＴ−７００Ｂ（酸化チタン；テイカ株式会社製）に変え、その添加量を表２に記載のように樹脂固形分に対して１５質量％に変えた他は同様に、太陽熱発電用反射装置である試料２４〜２７を作製した。

〔試料２８〜３１の作製〕
前記試料１５の作製において、ハードコート層に添加したＮＡＮＯＦＩＮＥ−５０を、数平均粒径２０ｎｍ（被覆厚さ５ｎｍを含む）のシリカ被覆無機ＵＶ吸収剤である、Ｃｏｎｃｅｌｉｇｈｔ ＢＰ−１０Ｓ（酸化鉄；日揮触媒化成株式会社製）、ＣＥＲＩＧＵＡＲＤＳＣ−６８３２（酸化セリウム；大東化成工業株式会社製）、ＦＩＮＥＸ−５０Ｗ−ＬＰ２（酸化亜鉛；堺化学工業株式会社製）、ＳＴＲ−１００Ａ−ＬＰ（酸化チタン；堺化学工業株式会社製）に変え、その添加量を表２に記載のように添加量を樹脂固形分に対して１５質量％に変えた他は同様に、太陽熱発電用反射装置である試料２８〜３１を作製した。

〔試料３２の作製〕
前記試料２の作製において、ハードコート層にＵＶ吸収剤を全く添加しなかった他は同様にして、太陽熱発電用反射装置である試料３２を作製した。

〔試料３３の作製〕
上記試料３２の作製において、ハードコート層にベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）を樹脂固形分に対して１．５質量％添加した他は同様にして、太陽熱発電用反射装置である試料３３を作製した。

〔試料３４の作製〕
前記試料３２の作製において、ハードコート層にベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤としてＴｉｎｕｖｉｎ２３４（チバ・ジャパン社製）を樹脂固形分に対して５質量％添加した他は同様にして、太陽熱発電用反射装置である試料３４を作製した。

《太陽熱発電用反射装置の評価》
上記作製した太陽熱発電用反射装置について、下記の方法に従って湿熱処理後の耐擦傷性およびＵＶ劣化処理後の耐擦傷性の評価を行った。

〔湿熱環境下ＵＶ照射後の耐擦傷性試験（スチールウール試験）〕
各試料を、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃相対湿度６０％の環境下で９６時間紫外線照射を行った後、フィルムミラーの最表層面を＃００００のスチールウールに５００ｇ／ｃｍ^２の荷重をかけて、ストローク５０ｍｍ、速度５００ｍｍ／ｍｉｎで１０回往復摩擦した後に下記の基準に従って、湿熱処理後及びＵＶ劣化処理後の耐擦傷性を評価した。

◎：傷本数が０本
○：傷本数が１本〜５本
△：傷本数が６本〜１０本
×：傷本数が１０本より多い
〔湿熱環境下ＵＶ照射後の正反射率の測定〕
各試料を、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、６５℃相対湿度６０％の環境下で９６時間紫外線照射を行ったのち、以下の測定を行った。

島津製作所社製の分光光度計Ｕ−４１００を、積分球反射付属装置を取り付けたものに改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、各試料の反射角５°での正反射率を測定した。４００ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定し、下記の基準に従ってＵＶ劣化処理後の正反射率を評価した。
６ ： 正反射率の平均値が、８５％以上である
５ ： 正反射率の平均値が、８０％以上８５％未満である
４ ： 正反射率の平均値が、７５％以上８０％未満である
３ ： 正反射率の平均値が、７０％以上７５％未満である
２ ： 正反射率の平均値が、６５％以上７０％未満である
１ ： 正反射率の平均値が、６５％未満である
上記測定結果を表１、２に記した。

表１、２より、ハードコート層がトリアジン系ＵＶ吸収剤または無機ＵＶ吸収剤を有する太陽熱発電用フィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置は、ハードコート層がトリアゾール系ＵＶ吸収剤を含有する太陽熱発電用フィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置より、紫外線照射後の正反射率が高く、また、紫外線照射後の耐擦傷性が良好であることが分かる。

以上のように、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーは、長期間太陽光を照射しても、層間の剥離が生じることがなく、高い正反射率を維持することができるので、優れた太陽熱発電用フィルムミラーとして利用できる。
尚、本発明の技術は、太陽熱発電用フィルムミラー以外にも、種々の機能性フィルムに適用することが可能である。特に屋外用の遮熱フィルム等、屋外で使用される機能性フィルムの場合、ハードコート層を設け耐傷性を有しながらも、長期間太陽光が照射されても層間の剥離が生じることがないという本願の効果を享受することができるため、好ましく適用することができる。遮熱フィルムの場合、銀層を有することが好ましく、特に好ましくは銀層の厚さが０．１ｎｍ以上、５０ｎｍ以下であることである。

本発明は、以上のように構成されていることから、太陽熱発電用フィルムミラー、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法及び太陽熱発電用フィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置として利用できる。

Claims (11)

1. ハードコート層、樹脂層および反射層を順に有し、該ハードコート層と該樹脂層が隣接する太陽熱発電用フィルムミラーにおいて、該ハードコート層がトリアジン系ＵＶ吸収剤または無機ＵＶ吸収剤を含有することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラー。
2. 前記ハードコート層が酸化防止剤を樹脂固形分に対して０．１〜５質量％含有することを特徴とする請求項１に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
3. 前記ハードコート層がトリアジン系ＵＶ吸収剤および無機ＵＶ吸収剤を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
4. 前記ハードコート層が樹脂固形分に対して０．１〜１０質量％のトリアジン系ＵＶ吸収剤を含有することを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
5. 前記ハードコート層が樹脂固形分に対して１〜５０質量％の無機ＵＶ吸収剤を含有し、該無機ＵＶ吸収剤が酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムまたは酸化鉄であることを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
6. 前記無機ＵＶ吸収剤が数平均粒径１０ｎｍ〜１００ｎｍの微粒子であることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
7. 前記無機ＵＶ吸収剤の表面が被覆層を有することを特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
8. 前記ハードコート層がアクリル系ＵＶ硬化性樹脂を硬化した樹脂を含有することを特徴とする請求項１〜７の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
9. 前記酸化防止剤がヒンダードアミン系化合物であることを特徴とする請求項２〜８の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラー。
10. 請求項１〜９の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーが反射層を有し、該反射層は銀を蒸着することにより形成することを特徴とする太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法。
11. 請求項１〜９の何れか一項に記載の太陽熱発電用フィルムミラーと金属支持体が粘着剤層を介して貼合されてなることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。