JPWO2010007945A1 - 照明光学系、露光装置、及び露光方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の態様は、このような事情に鑑み、照明領域の強度分布を一様でない分布に設定できるとともに、照明領域内の各点をほぼ同じ照明条件で(同じ開き角の分布の光束で)照明できる照明光学系、露光装置及び露光方法、並びにこの露光装置を用いるデバイス製造技術を提供することを目的とする。
本発明の第4の態様に従えば、本発明の露光装置または露光方法を用いて物体を露光することと、その露光された物体を処理することを含むデバイス製造方法が提供される。
本発明の露光装置及び露光方法によれば、複数の光学素子からの光束が重ねて照射される照明領域の強度分布は、走査方向に一様でなくなるとともに、その照明領域内の各点はほぼ同じ開き角の分布の光束で照明される。
図1は、本実施形態の露光用の照明光EL(露光光)として波長が100nm程度以下で3〜50nm程度の範囲内で例えば11nm又は13nm等のEUV光を用いる露光装置(EUV露光装置)100の全体構成を概略的に示す断面図である。図1において、露光装置100は、照明光ELをパルス発生するレーザプラズマ光源10と、照明光ELでレチクルR(マスク)のパターン面(ここでは下面)上の照明領域27Rを照明する照明光学系ILSと、レチクルRを移動するレチクルステージRSTと、レチクルRの照明領域27R内のパターンの像をレジスト(感光材料)が塗布されたウエハW(感光基板)上に投影する投影光学系POとを備えている。さらに、露光装置100は、ウエハWを移動するウエハステージWSTと、装置全体の動作を統括的に制御するコンピュータを含む主制御系31等とを備えている。
ウエハW上の1つのダイ(ショット領域)を露光するときには、照明光ELが照明光学系ILSによりレチクルRの照明領域27Rに照射され、レチクルRとウエハWとは投影光学系POに対して投影光学系POの縮小倍率に従った所定の速度比でY方向に同期して移動する(同期走査される)。このようにして、レチクルパターンはウエハW上の一つのダイに露光される。その後、ウエハステージWSTを駆動してウエハWをX方向、Y方向にステップ移動した後、ウエハW上の次のダイに対してレチクルRのパターンが走査露光される。このようにステップ・アンド・スキャン方式でウエハW上の複数のダイに対して順次レチクルRのパターンが露光される。
図3は、図1中の照明光学系ILSを示す図である。なお、図3においては、フライアイ光学系22及び23をそれぞれ構成する多数のミラー素子22a及び23aのうちで、レチクルRのパターン面上のY方向(走査方向)に対応する方向に配列された一列中の複数のミラー素子22a及び23aを拡大して代表的に表している。図3において、第1フライアイ光学系22を構成する多数のミラー素子22aの反射面はレチクルRのパターン面とほぼ共役であり、各ミラー素子22aの反射面上でレチクルRのパターン面上のY方向に対応する方向をy方向とする。各ミラー素子22aの反射面はy方向の幅がmy1で、一例として回転楕円面等の凹の非球面である。各ミラー素子22aの反射面は、後述するような加工が施されており、それにより照明光ELに対するy方向の反射率分布rm(y)は、y方向の中央部で一定の反射率を示す水平部HSと、y方向の両側で反射率が水平部より徐々に直線的に低下することを示す傾斜部ISを有する台形のパターンで表わされる。この台形パターンにおいて、水平部HSと二つの傾斜部ISからなる全体の幅がmy1で、両側の傾斜部ISの幅をそれぞれmy2とする。
また、図1の投影光学系POの投影倍率を例えば1/4とすると、照明領域27Rの強度分布IL(Y)をY方向に1/4に縮小した強度分布が、ウエハW上の露光領域27WのY方向の台形状の(パターンの)強度分布となる。
この場合、ウエハWが静止しており、その上を露光領域27WがY方向に目標とする相対速度で移動するものとすると、ウエハW上の照明光ELのパルス発光毎の露光量EWは、図6(A)に示すように、次第にY方向にシフトする台形状のパターンを示すパルス光の強度分布41A〜41Gで表される。これに応じて、走査露光後のウエハW上のY方向の各点の積算露光量AEWは、図6(B)の直線43で示すように平坦となる。また、ウエハステージWSTの走査速度のジッター等によって、例えば図6(A)のパルス光41Fの相対位置が位置42にずれたとしても、図6(B)の積算露光量AEWのむら(走査強度むら)は点線43Aで示すように小さく抑制される。これは、各パルス光の強度分布が傾斜部を有するために、パルス光がY方向にシフトしても、それに応じた強度変化(Y方向のシフト量×傾斜部の傾き)は傾斜部の傾きで緩和されるからである。図6(A)では、理解を容易にするために、強度分布41A〜41Gを縦軸そってずらして表示している。なお、各パルス光の強度(強度分布41A〜41Gの最大値(水平部の高さ))は、設定上は、いずれも同一である。
図4(A)は、図3のミラー素子22aの反射面を示す拡大図、図4(B)は図4(A)のIVB−IVB線に沿う断面図、図4(C)は図4(A)のIVB−IVB線に沿う反射面の表面粗さ分布rfn(y)を示す図、図4(D)は図4(A)のIVB−IVB線に沿う反射率分布rm(y)を示す図である。図4(A)に示すように、ミラー素子22aの反射面は照明領域27Rと相似な円弧状であり、非走査方向と対応する方向に細長く延在する。より詳細には、レチクルR上のY方向(走査方向)に対応するミラー素子22aのy方向(短手方向)の幅は、それに直交する長手方向(レチクルR上のX方向に対応する方向)の長さに対して例えば1/10程度以下に狭く設定されている。ミラー素子22aの反射面の形状は、レチクルR上の必要な照明領域27Rの形状に基づいて設定される。
図4(B)に示すように、ミラー素子22aの基本構造は、例えば石英(又は高耐熱性の金属等)よりなる部材の表面を所定の曲面に高精度に加工した後、その表面にEUV光を反射する多層膜35、例えば、モリブデンとシリコンとの多層膜を形成したものである。さらに本実施形態では、その反射率調整領域36A及び36B内の多層膜35の表面粗さ分布rfn(y)を、図4(C)に示すように端部に向かって次第に連続的に(又は段階的に)大きくしている。このような表面粗さ分布を得るには、ミラー素子22aの多層膜35の表面に例えばイオンビーム又は電子ビームを集束させて照射し、必要な表面粗さに応じてその照射時間を調整すればよい。
r(α)=k・exp(−c・α2) …(2)
従って、その反射率r(α)が図4(D)の台形状の反射率分布rm(y)となるように、ミラー素子22aの多層膜35の表面粗さαは図4(C)の表面粗さ分布rfn(y)で示すようにy方向の端部に向かって大きく設定されている。このように表面粗さ分布を制御することによって、ミラー素子22aの反射率分布を容易に目標とする台形状の分布に設定できる。
図5(A)は、図3のミラー素子22aの反射面を示す拡大図、図5(B)は図5(A)のVB−VB線に沿う断面図、図5(C)は図5(A)のVB−VB線に沿う反射面の吸収層の厚さ分布abs(y)を示す図、図5(D)は図5(A)のVB−VB線に沿う反射率分布rm(y)を示す図である。
(1)本実施形態の照明光学系ILSは、レーザプラズマ光源10からの照明光ELをフライアイ光学系22,23からなるオプティカルインテグレータに入射させ、このオプティカルインテグレータを構成する複数のミラー素子22aからの光束をレチクルR上の照明領域27Rに照射する照明光学系において、ミラー素子22aの照明光ELの入射面は、それぞれy方向(短手方向)の幅がそれに直交する方向の幅よりも狭く設定され、ミラー素子22aのy方向の反射率分布(広義の透過率分布)が一様でない分布、即ち本実施形態では台形状の分布に設定されている。
(3)また、本実施形態の露光装置100は、レーザプラズマ光源10からの照明光ELをフライアイ光学系22,23からなるオプティカルインテグレータに入射させ、このオプティカルインテグレータを構成する複数のミラー素子22aからの光束をレチクルRのパターン面の照明領域27Rに照射する照明光学系ILSと、そのパターンの像をウエハWの表面(第2面)に投影する投影光学系POとを備え、そのパターンの一部の像を投影光学系POを介してウエハW上に投影しつつ、照明領域27Rの短手方向であるY方向(走査方向)にレチクルR及びウエハWを同期して移動する露光装置であって、ミラー素子22aのY方向に対応するy方向の透過率分布が一様でない、即ち本実施形態では台形状であるものである。
図11(A)は、ブラインド(視野絞り)を用いた第1比較例の照明光学系を示す図である。図3に対応する部分に同一又は類似の符号を付した図11(A)において、図3の第1フライアイ光学系22の代わりに、反射率分布が全面で一様な多数のミラー素子22Daよりなる第1フライアイ光学系22Dが設置されている。さらに、レチクルRのパターン面の近傍に、照明領域27Rに照射される照明光ELのY方向の両端部を僅かに遮光するブラインド26A及び26Bが設置され、ブラインド26A及び26Bのデフォーカスしたエッジ部によって照明領域27RのY方向の強度分布IL(Y)を台形状に設定している。
次に、本発明の実施形態の変形例につき図7を参照して説明する。図3に対応する部分に同一又は類似の符号を付した図7の照明光学系ILSにおいて、図3の第1フライアイ光学系22の代わりに、レチクルRのY方向(走査方向)に対応するy方向の反射率分布rm(y)が、片側のみが傾斜した台形状に設定された多数のミラー素子22Aaよりなる第1フライアイ光学系22Aが設置されている。即ち、y方向の幅my1のミラー素子22Aaの反射率分布rm(y)は、−y方向の端部で0から最大値に急激に上昇し、+y方向の端部が幅my2で次第に最大値から0に減少している。この場合、幅(my1−my2)に対して、傾斜部の幅my2は、例えば2.5〜15%程度であり、好ましくは5〜10%程度である。
この図7の変形例によれば、照明領域27Rの+Y方向の端部の強度分布は、ミラー素子22Aaの反射率分布に応じて傾斜し、照明領域27Rの−Y方向の端部の強度分布は、ブラインド26Aのデフォーカスしたエッジ部の像によって傾斜する。従って、照明領域27RのY方向(走査方向)の強度分布IL(Y)は台形状となる。この変形例においては、照明領域27Rの中央部(例えば位置Rb)及び+Y方向の端部(例えば位置Rc)では、照明σの欠けは生じない。一方、照明領域27Rの−Y方向の端部(例えば位置Ra)では、ブラインド26Aで遮光されているため、照明σの欠けが生じる。しかしながら、この照明σの欠けの影響は、図11(A)の比較例のように照明光の両側にブラインド26A,26Bを設ける場合に比べて1/2であるため、走査露光による平均化効果によって、走査露光後にウエハ上で比較的良好な結像特性が得られる。
次に、本発明の実施形態の他の例につき図8を参照して説明する。この実施形態は透過照明を行う照明光学系に本発明を適用したものである。
Y方向に対応するフライアイレンズ51の入射面上での方向をy方向とすると、各レンズ素子51aの入射面のy方向の透過率分布(狭義の透過率分布)tf(y)は、図3のミラー素子22aの反射率分布rm(y)と同様の台形状である。
また、図1の実施形態では、露光ビームとしてEUV光を用い、6枚のミラーのみから成るオール反射の投影光学系を用いる場合について説明したが、これは一例である。例えば、特開平11−345761号公報に開示されるような4枚等のミラーのみから成る投影光学系を備えた露光装置は勿論、光源に波長100〜160nmのVUV光源、例えばAr2 レーザ(波長126nm)を用い、4〜8枚等のミラーを有する投影光学系を備えた露光装置などにも本発明を適用することができる。
同様に、照明光学系も特許請求の範囲の記載に対応する部材を組み込み光学調整を行うことによって製造できる。さらに、その露光装置及び照明光学系の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
Claims (20)
- 光源からの光束を被照射面に照射する照明光学系であって、
前記光源からの光束が入射して、そこから光束を出射する複数の光学素子を有するインテグレータを備え、
前記複数の光学素子の前記光束の入射面は、それぞれ一方向の幅がそれに直交する方向の幅よりも狭く、
前記光学素子の前記一方向の透過率分布が一様でない照明光学系。 - 前記光学素子の前記一方向の透過率は、少なくとも一方の端部に向かって次第に低下する請求項1に記載の照明光学系。
- 前記光学素子の前記一方向の透過率分布は台形状である請求項1に記載の照明光学系。
- 前記光学素子はミラー素子であり、
前記光学素子の入射面は、前記ミラー素子の反射面であり、
前記光学素子の透過率分布は、前記ミラー素子の反射率分布である請求項1に記載の照明光学系。 - 前記ミラー素子の前記反射面が前記一方向において表面粗さが異なる表面粗さ分布を有する請求項4に記載の照明光学系。
- 前記ミラー素子の前記反射面に光吸収層が形成されて、前記光吸収層はその厚さが位置によって異なる厚さ分布を有する請求項4に記載の照明光学系。
- 前記光源からの光束はEUV光である請求項4に記載の照明光学系。
- 前記光学素子は前記光束を透過する透過素子であり、
前記光学素子の透過率分布は、前記透過素子の透過率分布である請求項1に記載の照明光学系。 - さらに、前記光学素子から出射した光束を被照射面に導く光学系を備える請求項1に記載の照明光学系。
- パターンの一部の像を物体上に投影しつつ、所定の走査方向に前記パターン及び前記物体を同期して移動する露光装置であって、
光源からの光束が入射し、そこから光束を射出する複数の光学素子を含むインテグレータを有し、複数の光学素子からの光束で第1面を照射する照明光学系と、
前記第1面に配置されるパターンの像を第2面に配置される物体上に投影する投影光学系とを備え、
前記光学素子の前記走査方向に対応する方向の透過率分布が一様でない露光装置。 - 前記光学素子の透過率は、前記走査方向の少なくとも一方の端部に対応する方向に向かって次第に低下する請求項10に記載の露光装置。
- 前記光源はEUV光源であることを特徴とする請求項10に記載の露光装置。
- 前記照明光学系に開口絞りが設けられ、開口絞りの開口を通過した全ての光束が第1面に照射される請求項10に記載の露光装置。
- 前記光学素子の前記走査方向に対応する方向の透過率分布は、走査方向と対応する方向に延在する水平部と水平部から光強度が徐々に低下する傾斜部を有する形状で表される請求項10に記載の露光装置。
- 光学素子の前記走査方向に対応する方向の透過率分布を表わす形状は、前記第1面に照明光学系により形成された照明領域の形状及び投影光学系により第2面上に形成された露光領域の形状と相似である請求項10に記載の露光装置。
- 請求項10に記載の露光装置を用いて物体を露光することと、
前記露光された物体を処理することとを含むデバイス製造方法。 - パターンの像を物体上に投影することで前記物体を露光する露光方法であって、
所定方向に透過率が徐々に低下する透過率低下部を有する複数の光学素子が配列された光学系を用意し、
光源からの光束を上記光学系の複数の光学素子に入射して、各光学素子からの光を第1面に照射することと、
前記第1面に配置されるパターンの像を第2面に配置される物体上に投影しつつ、前記所定の方向と対応する走査方向に前記パターン及び前記物体を同期して移動することを含む露光方法。 - 前記第1面が、複数の光学素子により同じ開口数の光束で照明される請求項17に記載の露光方法。
- 前記光学素子の前記所定方向の透過率分布は、前記所定方向に延在する水平部と水平部から光強度が徐々に低下する傾斜部を有する形状で表される請求項17に記載の露光方法。
- 請求項17に記載の露光方法を用いて物体を露光することと、
前記露光された物体を処理することとを含むデバイス製造方法。
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