JPWO2009090949A1 - グラフト共重合体を含有するエンジニアリングプラスチック系樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

グラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂組成物であって、該グラフト共重合体が以下の（ａ）〜（ｅ）を満たすグラフト共重合体である樹脂組成物。（ａ）グラフト率が１〜１５０質量％（ｂ）ＧＰＣで測定した重量平均分子量が５００〜４０００００（ｃ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５〜４（ｄ）主鎖が、エンジニアリングプラスチックと相互作用する官能基を有する単量体単位を１〜１００質量％含有する重合鎖（ｅ）側鎖が、炭素数３〜２８のα−オレフィンから選ばれる一種の単独重合鎖若しくは二種以上の共重合鎖、またはエチレン単位が５０質量％以下である、炭素数３〜２８のα−オレフィン単位およびエチレン単位からなる共重合鎖であり、かつメソペンタッド分率〔ｍｍｍｍ〕が３０〜８０モル％の重合鎖

Description

本発明はグラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂組成物に関し、より詳しくは、特定の単量体単位を含有する主鎖および特定のポリオレフィン連鎖である側鎖を有するグラフト共重合体と特定のエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂組成物に関する。

一般に、ポリアセタール、ポリアミド、ポリカーボネート等のエンジニアリングプラスチックは耐熱性および機械物性に優れるが、成形加工性や衝撃強度に劣るという欠点を有する。一方、ポリオレフィンは成形性に優れ、化学的に安定であるが、バリアー性等の機能に劣るという欠点を有する。
近年、ポリマーアロイ技術が発展し、エンジニアリングプラスチックとポリオレフィンの複合材等の材料開発が行われ、両者の欠点を補う試みがされている。当該複合材の開発においては相溶化成分の開発が重要であり、これまでにポリオレフィン系の変性ポリマーが開発され、相溶化成分として使用されている。

例えば特許文献１は、ポリアミドと不相溶性ポリオレフィンとアルキルカルボキシル置換ポリオレフィン相溶化剤との溶融混合ブレンドを含むパイプ等であって、ポリアミドがポリオレフィンマトリックス中に分散されている不連続相として存在するパイプ等を開示し、効果として、ポリエチレンと比べて炭化水素の浸透に対する強化された抵抗性を有することが記載されている。
特許文献２は、カルボン酸基等を含む酸化されたオレフィンポリマー物質とエンジニアリング熱可塑性樹脂を含む組成物を開示し、良好なバリアー性を示すことが記載されている。
特許文献３は、ポリブチレンテレフタラート、オレフィン系エラストマー等、エポキシ化合物を含む樹脂組成物を開示し、耐ヒートショック性が向上することが記載されている。
特許文献４は、ポリエステル樹脂とエチレン・（メタ）アクリル酸アルキルエステル・（メタ）アクリル酸グリシジル共重合体、エチレン共重合体からなるポリエステル系ポリマーアロイを開示し、機械特性と成形加工性の改良されたポリエステル系ポリマーアロイが得られることが記載されている。
特許文献５は、熱可塑性ポリエステルと変性エチレン重合体からなる熱可塑性ポリエステル樹脂組成物の製造方法を開示し、耐衝撃性や外観に優れる熱可塑性ポリエステル樹脂組成物が得られることが記載されている。
特許文献６は、ポリアミドと変性エチレン共重合体からなるポリアミド樹脂組成物の製造方法を開示し、耐衝撃性や外観に優れるポリアミド樹脂組成物が得られることが記載されている。
特許文献７は、熱可塑性ポリエステルマトリックス樹脂と特定のＥＰＤＭポリマーからなる熱可塑性組成物を開示し、衝撃性の改良された熱可塑性の成形用組成物が得られることが記載されている。
特許文献８は、飽和ポリエステル、変性オレフィン系エラストマーを含む飽和ポリエステル樹脂組成物を開示し、機械的強度及び成形品の外観が優れた熱可塑性樹脂組成物が得られることが記載されている。
特許文献９は、ポリフェニレンエーテル系樹脂とポリプロピレン系樹脂を含む樹脂組成物を開示し、樹脂組成物の黒点の発生を減少させ、機械的強度に優れた樹脂組成物が提供されることが記載されている。
特許文献１０は、ポリアミド類等の重縮合体において加工助剤や分散剤等としてポリオレフィンワックスを使用する方法を開示する。

上記のように、これまでに様々な相溶化成分が開示されている。しかしながら、これらの相溶化成分は必ずしも満足いく性能を有するものではなく、相溶化剤としての性能不足や、流動性、耐衝撃性、機械物性、金型表面へのワックスのブリード性等において問題が生じていた。したがって、さらに優れた性能を有する相溶化成分およびこれを含有する樹脂組成物の開発が望まれている。

特表２００６−５０４８２８号公報 特表２００６−５０８２１４号公報 特開２００５−２９０１７６号公報 特開２００５−２４７９７０号公報 特開昭５５−２１４３０号公報 特開昭５５−９６６２号公報 特開平２−１６０８１３号公報 特開平８−５９９７０号公報 特開２００１−３０２８７３号公報 特開２００６−３７１０３号公報

従来の相溶化成分は、ポリオレフィンを主鎖とし、変性剤が少量付加してなる側鎖を有するものや、変性剤が主鎖の末端に少量付加したものである。上記のように、このような構造の相溶化成分を使用した場合には性能面で問題があった。本発明はこのような状況でなされたもので、ポリオレフィン連鎖が十分に長く、かつエンジニアリングプラスチックと相互作用する官能基を主鎖に有するグラフト共重合体と特定のエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂組成物であって、相溶化による物性向上、溶融流動性の向上による成形性改良および薄肉軽量化、射出成形時の離型性向上、押出成形性の改良を可能にする樹脂組成物を提供することを目的とするものである。
なお、上記「エンジニアリングプラスチックと相互作用する官能基を主鎖に有する」とは、主鎖が、当該官能基を有する単量体単位を含有する重合鎖であることを意味する。

本発明者らは、鋭意研究の結果、特定の単量体単位を含有する主鎖および特定のポリオレフィン連鎖である側鎖を有するグラフト共重合体と特定のエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂組成物により上記目的が達成されることを見出した。本発明はかかる知見に基いて完成したものである。すなわち、本発明は以下の樹脂組成物を提供するものである。
（１） グラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂組成物であって、該グラフト共重合体が以下の（ａ）〜（ｅ）を満たすグラフト共重合体である樹脂組成物。
（ａ）グラフト率が１〜１５０質量％
（ｂ）ＧＰＣで測定した重量平均分子量が５００〜４０００００
（ｃ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５〜４
（ｄ）主鎖が、エンジニアリングプラスチックと相互作用する官能基を有する単量体単位を１〜１００質量％含有する重合鎖
（ｅ）側鎖が、炭素数３〜２８のα−オレフィンから選ばれる一種の単独重合鎖若しくは二種以上の共重合鎖、またはエチレン単位が５０質量％以下である、炭素数３〜２８のα−オレフィン単位およびエチレン単位からなる共重合鎖であり、かつメソペンタッド分率〔ｍｍｍｍ〕が３０〜８０モル％の重合鎖
（２） グラフト共重合体が、以下の（Ａ）〜（Ｃ）を満たす反応性ポリオレフィンと、グラフト共重合体の主鎖を形成する単量体との共重合反応によって形成されたものである、上記１に記載の樹脂組成物、
（Ａ）一分子あたりの末端不飽和基量が０．５〜１．０個
（Ｂ）メソペンタッド分率〔ｍｍｍｍ〕が３０〜８０モル％
（Ｃ）炭素数３〜２８のα−オレフィンから選ばれる一種の単独重合体若しくは二種以上の共重合体、またはエチレンが５０質量％以下である、炭素数３〜２８のα−オレフィンから選ばれる一種以上の単量体とエチレンの共重合体
（３） 反応性ポリオレフィンがメタロセン触媒によって製造されたものである、上記２に記載の樹脂組成物、
（４） メタロセン触媒が一般式（Ｉ）

〔式中、Ｍは周期律表第３〜１０族の金属元素を示し、Ｅ¹及びＥ²はそれぞれシクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエニル基，インデニル基，置換インデニル基，ヘテロシクロペンタジエニル基，置換ヘテロシクロペンタジエニル基，アミド基，ホスフィン基，炭化水素基及びケイ素含有基の中から選ばれた配位子を示し、Ａ¹及びＡ²を介して架橋構造を形成している。Ｅ¹及びＥ²は互いに同一でも異なっていてもよく、また、Ｅ¹及びＥ²のうちの少なくとも一つは、シクロペンタジエニル基、置換シクロペンタジエニル基、インデニル基又は置換インデニル基である。Ｘはσ結合性の配位子を示し、Ｘが複数ある場合、複数のＸは同じでも異なっていてもよく、他のＸ，Ｅ¹，Ｅ²又はＹと架橋していてもよい。Ｙはルイス塩基を示し、Ｙが複数ある場合、複数のＹは同じでも異なっていてもよく、他のＹ，Ｅ¹，Ｅ²又はＸと架橋していてもよい。Ａ¹及びＡ²は二つの配位子を結合する二価の架橋基であって、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−Ｓｅ−、−ＮＲ¹−、−ＰＲ¹−、−Ｐ（Ｏ）Ｒ¹−、−ＢＲ¹−又は−ＡｌＲ¹−を示し、Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基又は炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基を示し、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。ｑは１〜５の整数で〔（Ｍの原子価）−２〕を示し、ｒは０〜３の整数を示す。〕
で表される二架橋錯体である、上記３に記載の樹脂組成物、
（５） エンジニアリングプラスチックと相互作用する官能基が、エステル基、カルボキシル基、カルボン酸無水物残基、芳香環含有基、水酸基、エポキシ基、アミノ基、イソシアナート基から選ばれる官能基である、上記１に記載の樹脂組成物、
（６） グラフト共重合体の主鎖を形成する単量体が、式（ＩＩＩ）

〔式中、Ｒ¹は、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１〜１２の炭化水素基を示し、Ｒ²は、（ＩＶ）式〜（ＶＩＩ）式

で表されるいずれかの基である。また、Ｒ³は水素原子、炭素数１〜１２の炭化水素基、または酸素原子、窒素原子および珪素原子のいずれかの原子を含む炭素数１〜１２の基を示し、Ｒ⁴は水素原子または炭素数１〜１２の炭化水素基を示し、Ｒ⁵は水素原子、炭素数１〜１２の炭化水素基、またはエポキシ基、アミノ基、イソシアナート基、水酸基およびカルボキシル基のいずれかの基を有する炭素数１〜１２の基を示す。ｎは０〜５の整数である。〕
で表される単量体の一種または二種以上である、上記１に記載の樹脂組成物、
（７） グラフト共重合体の主鎖を形成する単量体が、［Ｉ］アクリル酸及びその誘導体、［ＩＩ］メタアクリル酸類及びその誘導体、［ＩＩＩ］ビニルエステル及びその誘導体またはアルコキシビニルシラン、［ＩＶ］スチレン及びその誘導体から選ばれる一種または二種以上である、上記１に記載の樹脂組成物、
（８） グラフト共重合体の主鎖を形成する単量体が、下記Ａ群から選択される一種以上と下記Ｂ群から選択される一種以上である、上記１に記載の樹脂組成物、
Ａ群；［Ｖ］無水マレイン酸及びその置換体、［ＶＩ］マレイン酸及びそのエステル、［ＶＩＩ］マレイミド及びその置換体
Ｂ群；［Ｉ］アクリル酸及びその誘導体、［ＩＩ］メタアクリル酸類及びその誘導体、［ＩＩＩ］ビニルエステル及びその誘導体またはアルコキシビニルシラン、［ＩＶ］スチレン及びその誘導体、［ＶＩＩＩ］α−オレフィン
（９） エンジニアリングプラスチックが、ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリフェニレンエーテル、シンジオタクチックポリスチレン、およびポリフェニレンスルフィドから選ばれるものである、上記１に記載の樹脂組成物、
（１０） 配合量が、グラフト共重合体１質量部に対して、エンジニアリングプラスチックが１〜１０００質量部である、上記１に記載の樹脂組成物、
（１１） さらに、ポリオレフィンを含む樹脂組成物であって、配合量が、エンジニアリングプラスチック１００質量部に対して、ポリオレフィン２〜５０質量部、グラフト共重合体０．００５〜２０質量部である、上記１に記載の樹脂組成物、
（１２） 上記１に記載の樹脂組成物を含むマスターバッチ、
（１３） 上記１に記載の樹脂組成物を用いてなる成形体。

本発明によれば、ポリオレフィン連鎖が十分に長く、かつエンジニアリングプラスチックと相互作用する官能基を主鎖に有するグラフト共重合体と特定のエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂組成物が得られる。上記グラフト共重合体は相溶化能が高く、少量の使用で優れた分散効果を得ることができ、ブリードを抑制することができる。また、反応性相溶化剤として使用可能であり、種々の用途において優れた相溶化能が発揮される。

本発明のグラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂組成物は、特定の単量体単位を含有する主鎖および特定のポリオレフィン連鎖である側鎖を有するグラフト共重合体と特定のエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂組成物である。上記グラフト共重合体は、特定の反応性ポリオレフィンを用いてグラフト共重合反応を行うことで得られる。
後述するように、本発明で使用されるグラフト共重合体の中にはエンジニアリングプラスチックと共有結合を形成するものがある。したがって、「グラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂組成物」とは、グラフト共重合体やエンジニアリングプラスチックを含む組成物を表すとともに、これらの反応生成物を含む組成物も表している。
また、本明細書において「反応性ポリオレフィン」とは、ラジカル開始剤により効率よくグラフト共重合体を生成させるポリオレフィンのことをいい、具体的には末端不飽和基を一分子あたり０．５個以上有するポリオレフィンのことを指す。
また、当該定義からわかるように、反応性ポリオレフィン中に含まれる全ての分子が末端不飽和基を有し、反応性を有するとは限らない。このためグラフト共重合反応終了時に未反応のポリオレフィンが存在することがあるが、末端不飽和基量の制御や精製過程により未反応のポリオレフィン量を低減化することができる。したがって、本明細書においては、グラフト共重合反応の生成物を「組成物」とは表現せず、「グラフト共重合体」と記載する。

［グラフト共重合体］
グラフト共重合体の主鎖は、エンジニアリングプラスチックと相互作用する官能基（本明細書において、「エンジニアリングプラスチックと相互作用する官能基」を「官能基Ｉ」と省略することがある。）を有する単量体単位を含有する。上記相互作用としては、直接反応して結合を形成するものと、空間を通して親和的に作用するものが挙げられる。直接反応して結合を形成する場合の具体例は共有結合の形成が挙げられ、空間を通して親和的に作用する場合の具体例は水素結合、静電的相互作用、芳香環等のスタッキング相互作用が挙げられる。また、本発明においてエンジニアリングプラスチックは、カルボキシル基、アミノ基、芳香環を有する基やアミド基を有するものが使用される。したがって、グラフト共重合体中の官能基Ｉとしては、エステル基、カルボキシル基、カルボン酸無水物残基、芳香環含有基、水酸基、エポキシ基、アミノ基、およびイソシアナート基等が挙げられる。本発明においては、これらの相互作用によりグラフト共重合体のエンジニアリングプラスチックに対する親和性を向上させることができる。なお、これらの相互作用は一種を単独で利用してもよく、また二種以上を併用してもよい。

上記の共有結合としては、グラフト共重合体の官能基Ｉとエンジニアリングプラスチック中の官能基（本明細書において、「エンジニアリングプラスチック中の官能基」を「官能基ＩＩ」と省略することがある。）等との縮合反応やエステル交換反応が挙げられる。なお、官能基ＩＩとしては、エンジニアリングプラスチック中の末端官能基や、変性処理をして得られた官能基を利用することができる。官能基ＩＩが水酸基の場合には、官能基Ｉはカルボキシル基、エポキシ基、イソシアナート基等が好ましく、官能基ＩＩがエポキシ基の場合には、官能基Ｉはアミノ基、水酸基等が好ましく、官能基ＩＩがアミノ基の場合には、官能基Ｉはカルボン酸無水物基、カルボキシル基が好ましく、官能基ＩＩがイソシアナート基の場合には、官能基Ｉは活性水素を有する基が好ましく、特に水酸基、フェノール性水酸基、カルボキシル基が好ましい。

上記の水素結合の具体例としては、水酸基間、カルボキシル基間、カルボニル基−水酸基間、アミド基−水酸基間等で生じる相互作用が挙げられる。静電的相互作用としては、ハロゲン原子のような電気陰性度の高い原子やカルボニル基の酸素原子等のδ−を有する原子とカルボニル基の炭素原子等のδ＋を有する原子間の相互作用等が挙げられる。芳香環等のスタッキング相互作用としては、フェニル基間、フェニル基−フェニレン基間の相互作用等が挙げられる。

グラフト共重合体中の官能基Ｉを有する単量体単位量は、主鎖に対して１〜１００質量％である。１質量％未満では、グラフト重合体のエンジニアリングプラスチックに対する親和性を向上させる効果が得られにくい。上記単量体単位量は好ましくは、相互作用が空間を通して親和的に作用する場合には５０〜１００質量％であり、より好ましくは７０〜１００質量％である。また、相互作用が直接反応して結合を形成することで生じる場合は、好ましくは２〜８０質量％であり、より好ましくは３〜７０質量％である。
なお、この単量体単位量は、側鎖である反応性オレフィン単位を除いた量を基準とした割合である。後述するように、グラフト共重合体の主鎖の単量体単位の種類や量は、グラフト共重合体の製造時に用いる単量体の種類や量を変えることで制御することができる。

グラフト共重合体の側鎖は、炭素数３〜２８のα−オレフィンから選ばれる一種の単独重合鎖若しくは二種以上の共重合鎖、またはエチレン単位が５０質量％以下である、炭素数３〜２８のα−オレフィン単位およびエチレン単位からなる共重合鎖である。
炭素数３〜２８のα−オレフィンとしては、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、４−メチルペンテン−１、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ウンデセン、１−ドデセン、１−トリデセン、１−テトラデセン、１−ペンタデセン、１−ヘキサデセン、１−ヘプタデセン、１−オクタデセン、１−ノナデセン及び１−イコセンなどが挙げられる。

グラフト共重合体の側鎖は、メソペンタッド分率〔ｍｍｍｍ〕が３０〜８０モル％の重合鎖である。上記メソペンタッド分率〔ｍｍｍｍ〕は、好ましくは３０〜７５モル％、より好ましくは３２〜７０モル％である。
メソペンタッド分率が３０モル％を下回ると、耐熱性、機械物性が低下し、８０モル％を超えると、成形加工性、衝撃強度が低下する。なお、グラフト共重合体の側鎖のメソペンタッド分率は、その製造時に用いた反応性ポリオレフィンの立体規則性から知ることができる。また、グラフト共重合体の反応性ポリオレフィンに由来するメチル基、メチン基、メチレン基の立体規則性を後述するＮＭＲ解析により決定することができる。さらに、グラフト共重合体を窒素雰囲気下、熱分解した後、側鎖を形成していた断片を集めてＮＭＲを測定することによっても調べることができる。

グラフト共重合体のグラフト率は、１〜１５０質量％であり、好ましくは２〜１３０質量％、より好ましくは５〜１００質量％である。グラフト率が１質量％未満であると、エンジニアリングプラスチックとの親和性が低下し、相溶化能が劣りやすく、１５０質量％を越えると、ポリオレフィンとの親和性が低下し、相溶化能が劣りやすい。
グラフト共重合体のグラフト率は、以下のようにして測定する。
溶媒によりグラフト共重合反応に関与しなかった主鎖を形成する単量体の重合物、可溶性の重合体成分を溶解除去した不溶のグラフト共重合体成分の質量（Ｗ２）と原料として用いた反応性ポリオレフィンの質量（Ｗ１）から以下のようにして算出する。
グラフト率（質量％）＝(Ｗ２−Ｗ１)／Ｗ１×１００
また、使用する溶媒は溶解条件下で、主鎖を形成する単量体からなる単独重合体または共重合体を溶解することが必要である。さらに使用する溶媒は反応性ポリオレフィンに対しては前述と同じ溶解条件下で、溶解性を示さないことが同時に必要である。溶解性を示さないとは１質量％以下の溶解量を示すことを言い、溶解するとは溶液の目視観察により不溶物が認められないことを言う。

グラフト共重合体は、重量平均分子量が５００〜４０００００であり、好ましくは７００〜３５００００、より好ましくは１０００〜３０００００、最も好ましくは１５００〜２５００００である。重量平均分子量が５００未満では、相溶化性能は示すものの組成物物性を低下させ、４０００００を超えると、組成物の溶融成形性が低下する。
グラフト共重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．５〜４であり、好ましくは１．５５〜３、より好ましくは１．６〜２．５である。分子量分布が１．５を下回るグラフト共重合体の製造は困難であり、また４を越えると、グラフト共重合体にばらつきが生じ、一定の相溶化性能が得られにくい。
なお、グラフト共重合体の重量平均分子量および分子量分布を求める場合においては、以下のようにゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法を用いることができる。

分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ＧＰＣ法により、下記の装置及び条件で、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）測定することにより求めることができる。
ＧＰＣ測定装置
検出器 ：液体クロマトグラフィー用ＲＩ検出器 ウオーターズ １５０Ｃ
カラム ：ＴＯＳＯ ＧＭＨＨＲ−Ｈ（Ｓ）ＨＴ
測定条件
溶媒 ：１，２，４−トリクロロベンゼン
測定温度 ：１４５℃
流速 ：１．０ｍｌ／分
試料濃度 ：０．３質量％
重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）はポリスチレン換算分子量を対応するポリマーの分子量に換算するため、Ｍａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋ−桜田の式の定数Ｋ及びαを用いてＵｎｉｖｅｒｓａｌ Ｃａｌｉｂｒａｔｉｏｎ法により求めた。
具体的には、「サイズ排除クロマトグラフィー、森定雄著、Ｐ６７〜６９、１９９２年、共立出版」に記載の方法によって決定した。
なお、Ｋ及びαは、「Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．」に記載されている。
また、新たに算出する絶対分子量に対する極限粘度の関係から定法によって決定することができる。

グラフト共重合体は、デカリン中、１３５℃において測定した極限粘度〔η〕が０．０１〜２．５ｄｌ／ｇが好ましく、より好ましくは０．０２〜２．２、さらに好ましくは０．０５〜２．０である。
極限粘度〔η〕が０．０１ｄｌ／ｇ以上であると、樹脂相溶化などの機能が上昇し、２．５ｄｌ／ｇ以下であると樹脂への分散性が向上し好ましい。

更に、グラフト共重合体は、ゲル成分を含まないことが好ましい。ゲル成分の低減化は末端不飽和基量が高い反応性ポリオレフィンであって、両末端に不飽和基を有する分子を実質上含まない反応性ポリオレフィンを使用し、効率よくグラフト重合反応を行うことで達成される。
（ゲル成分の測定方法）
グラフト共重合体の主鎖成分、側鎖成分の両者を溶解する溶媒を用い、攪拌装置付きガラス製セパラブルフラスコのステンレス製４００メッシュ（目開き０．０３４ｍｍ）の網でできた籠に、グラフト共重合体５０ｍｇを入れ、攪拌翼に固定する。
酸化防止剤（ＢＨＴ）０．１質量％を含む溶媒を投入し、沸点下で４時間攪拌しながら溶解する。
溶解後、回収した籠を十分真空乾燥し、秤量により不溶部を求める。
不溶部として定義するゲル成分は以下の式で算出する。
［メッシュ内残量（ｇ）／仕込試料量（ｇ）］×１００（単位：％）
溶媒としては、パラキシレン、トルエンなどが挙げられる。
通常、上記式において、０〜１．５質量％の範囲を持ってゲル成分を含まないと規定する。

［グラフト共重合体の製造方法］
グラフト共重合体は特定の反応性ポリオレフィンと主鎖を形成する単量体を重合させることで製造することができる。

（側鎖用反応性ポリオレフィン）
本発明で使用する反応性ポリオレフィンは、炭素数３〜２８のα−オレフィンから選ばれる一種の単独重合体若しくは二種以上の共重合体、またはエチレンが５０質量％以下である、炭素数３〜２８のα−オレフィンから選ばれる一種以上の単量体とエチレンの共重合体であって、メソペンタッド分率〔ｍｍｍｍ〕が３０〜８０モル％であり、一分子あたりの末端不飽和基量が０．５〜１．０個である反応性ポリオレフィンであることが好ましい。上記条件をみたすことで、本発明で使用するグラフト共重合体を製造することができる。

上記メソペンタッド分率〔ｍｍｍｍ〕は、好ましくは３０〜７５モル％、より好ましくは３２〜７０モル％である。

ポリプロピレンを主成分とする重合体の場合、以下のようにして立体規則性を決定する。
上記メソペンタッド分率〔ｍｍｍｍ〕、後述するラセミペンタッド分率〔ｒｒｒｒ〕及びラセミメソラセミメソ分率〔ｒｍｒｍ〕は、エイ・ザンベリ（Ａ．Ｚａｍｂｅｌｌｉ）などにより「Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，６，９２５（１９７３）」で提案された方法に準拠し、¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトルのメチル基のシグナルにより測定されるポリプロピレン分子鎖中のペンタッド単位でのメソ分率、ラセミ分率及びラセミメソラセミメソ分率である。
メソペンタッド分率〔ｍｍｍｍ〕が大きくなると、立体規則性が高くなる。
なお、¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトルの測定は、エイ・ザンベリ（Ａ．Ｚａｍｂｅｌｌｉ）などにより「Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，８，６８７（１９７５）」で提案されたピークの帰属に従い、下記の装置及び条件にて行うことができる。
また、後述するメソトリアッド分率〔ｍｍ〕、ラセミトリアッド分率〔ｒｒ〕及びメソラセミ分率［ｍｒ］も上記方法により算出した。

装置：日本電子（株）製ＪＮＭ−ＥＸ４００型¹³Ｃ−ＮＭＲ装置
方法：プロトン完全デカップリング法
濃度：２２０ｍｇ／ｍｌ
溶媒：１，２，４−トリクロロベンゼンと重ベンゼンの９０：１０（容量比）混合溶媒
温度：１３０℃
パルス幅：４５°
パルス繰り返し時間：４秒
積算：１００００回

＜計算式＞
Ｍ＝（ｍ／Ｓ）×１００
Ｒ＝（γ／Ｓ）×１００
Ｓ＝Ｐββ＋Ｐαβ＋Ｐαγ
Ｓ：全プロピレン単位の側鎖メチル炭素原子のシグナル強度
Ｐββ：１９．８〜２２．５ｐｐｍ
Ｐαβ：１８．０〜１７．５ｐｐｍ
Ｐαγ：１７．５〜１７．１ｐｐｍ
γ：ラセミペンタッド連鎖：２０．７〜２０．３ｐｐｍ
ｍ：メソペンタッド連鎖 ：２１．７〜２２．５ｐｐｍ

ポリブテンを主成分とする重合体の場合、以下のようにして立体規則性を決定する。
メソペンタッド分率（ｍｍｍｍ）及び異常挿入含有量（１，４挿入分率）は、朝倉らにより報告された「Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｊｏｕｒｎａｌ，１６，７１７（１９８４）」、Ｊ．Ｒａｎｄａｌｌらにより報告された「Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈｙｓ．，Ｃ２９，２０１（１９８９）」及びＶ．Ｂｕｓｉｃｏらにより報告された「Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．Ｐｈｙｓ．，１９８，１２５７（１９９７）」で提案された方法に準拠して求めた。
すなわち、¹³Ｃ核磁気共鳴スペクトルを用いてメチレン基、メチン基のシグナルを測定し、ポリ（１−ブテン）分子中のメソペンタッド分率及び異常挿入含有量を求めた。
¹³Ｃ核磁気共鳴スペクトルの測定は、前述の装置及び条件にて行った。
立体規則性指数｛（ｍｍｍｍ）／（ｍｍｒｒ＋ｒｍｍｒ）｝は、上記方法により、（ｍｍｍｍ）、（ｍｍｒｒ）及び（ｒｍｍｒ）を測定した値から算出した。
また、ラセミトリアッド分率（ｒｒ）も上記方法により算出できる。
１−ブテン単独及び共重合体は、立体規則性指数｛（ｍｍｍｍ）／（ｍｍｒｒ＋ｒｍｍｒ）｝が２０以下であり、好ましくは１８以下、より好ましくは１５以下である。
立体規則性指数が２０を超えると、柔軟性の低下が起こる。

炭素数５以上のα−オレフィンを主成分とする重合体の場合は、以下のようにして立体規則性を決定する。
この立体規則性指標値Ｍ₂は、Ｔ．Ａｓａｋｕｒａ，Ｍ．Ｄｅｍｕｒａ，Ｙ．Ｎｉｓｈｉｙａｍａにより報告された「Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２４，２３３４（１９９１）」で提案された方法に準拠して求めた。
すなわち、¹³ＣＮＭＲスペクトルで、高級α−オレフィンに由来する、側鎖α位のＣＨ₂炭素が立体規則性の違いを反映して***して観測されることを利用してＭ₂を求めることができる。
このＭ₂は本願発明においては、上記メソペンタッド分率〔ｍｍｍｍ〕に置き換えることができる。
この値が大きいほど、アイソタクティシティーが高いことを示す。
尚、¹³Ｃ核磁気共鳴スペクトルの測定装置、条件は上記と同じであり、以下のようにして立体規則性指標値Ｍ₂を求める。
混合溶媒に基づく大きな吸収ピークが、１２７〜１３５ｐｐｍに６本見られる。このピークのうち、低磁場側から４本目のピーク値を１３１．１ｐｐｍとし、化学シフトの基準とする。
このとき側鎖α位のＣＨ₂炭素に基づく吸収ピークが３４〜３７ｐｐｍ付近に観測される。
このとき、以下の式を用いてＭ₂（モル％）を求める。
Ｍ₂＝〔（３６．２〜３５．３ｐｐｍの積分強度）／（３６．２〜３４．５ｐｐｍの積分強度）〕×１００

上記反応性ポリオレフィンは、末端不飽和基を一分子当たり、０．５〜１．０個、好ましくは０．６〜１．０個、より好ましくは０．７〜１．０個、より好ましくは０．８〜１．０個、より好ましくは０．８２〜１．０個、さらに好ましくは０．８５〜１．０個、最も好ましくは０．９０〜１．０個有する。
末端不飽和基が０．５個以上では不飽和基の濃度が高く、グラフト共重合体の生成効率が上昇する。
末端不飽和基としては、ビニリデン基が好ましく、末端不飽和基に占めるビニリデン基は、通常、５０〜１００モル%、好ましくは６０〜１００モル%、より好ましくは７０〜１００モル%、更に好ましくは８０〜１００モル%である。
本発明に用いる反応性ポリオレフィンは、一分子当たり２個以上の不飽和基を有する成分、例えば両末端に不飽和基を含有するような成分を実質的に含有しないものである。
一分子当たり２個以上の不飽和基を有する成分は、所謂架橋剤として作用するため、グラフト重合時に架橋構造（Ｈ型）を形成し、ゲル成分が副生するため好ましくない。
従って、熱分解によって製造された不飽和ポリプロピレンなどは使用することができない。

上記末端不飽和基の測定は、一般的には、赤外線吸収スペクトル法、核磁気共鳴スペクトル法、臭素化法などが用いられ、何れの方法によっても測定することができる。
赤外線吸収スペクトル法は、「新版 高分子分析ハンドブック、日本分析化学会、高分子分析研究懇談会編」に記載された方法に準拠して行うことができる。
それによれば、赤外線吸収スペクトル法による末端不飽和基の定量方法においては、ビニル基、ビニリデン基、トランス（ビニレン）基などの不飽和基は、それぞれ、赤外線吸収スペクトルの９１０ｃｍ^-1、８８８ｃｍ^-1、９６３ｃｍ^-1の吸収から定量することができる。
また、核磁気共鳴スペクトル法によるビニリデン不飽和基の定量は、次のようにして行う。
末端不飽和基がビニリデン基である場合の個数は、常法に従った¹Ｈ−ＮＭＲの測定により求められる。
¹Ｈ−ＮＭＲ測定から得られたδ４．８〜４．６（２Ｈ）に出現するビニリデン基に基づいて、定法によりビニリデン基の含有量（Ｃ）（モル％）を算出する。
更に、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）より求めた数平均分子量（Ｍｎ）とモノマー分子量（Ｍ）から、次式によって一分子当たりのビニリデン基の個数を算出する。
一分子当たりの末端ビニリデン基（個）＝（Ｍｎ／Ｍ）×（Ｃ／１００）
また、核磁気共鳴スペクトル法による方法の例としては、末端基の定量に基づく方法がある。具体的には¹Ｈ−ＮＭＲと¹³Ｃ−ＮＭＲで重合反応により、生じた末端基とその存在量を測定し、全末端基量に対する末端ビニリデン基の存在割合から一分子当たりの末端ビニリデン基数を算出する方法である。
プロピレン重合体の場合を例示する。
（¹Ｈ−ＮＭＲによる不飽和末端量の分析）
プロピレン重合体には〔２〕ビニリデン基のメチレン基（４．８〜４．６ｐｐｍ）、〔１〕ビニル基のメチレン基（５．１０〜４．９０ｐｐｍ）が観測される。全プロピレン重合体に対する割合は次式で計算できる。また、〔３〕はプロピレン連鎖（０．６〜２．３ｐｐｍ）のメチン、メチレン、メチル基に相当するピーク強度に対応する。
末端ビニリデン基量（Ａ）＝（〔２〕／２）／［（〔３〕＋４×〔１〕／２＋３×〔２〕／２）／６］×１００ 単位：ｍｏｌ％
末端ビニル基量（Ｂ）＝（〔１〕／２）／［（〔３〕＋４×〔１〕／２＋３×〔２〕／２）／６］×１００ 単位：ｍｏｌ％
（¹³Ｃ−ＮＭＲによる末端分率の分析）
本願プロピレン重合体は〔５〕ｎ−プロピル末端の末端メチル基（１４．５ｐｐｍ付近）、〔６〕ｎ−ブチル末端の末端メチル基（１４．０ｐｐｍ付近）、〔４〕ｉｓｏ−ブチル末端のメチン基（２５．９ｐｐｍ付近）、〔７〕ビニリデン末端のメチレン基（１１１．７ｐｐｍ付近）が観察される。¹³Ｃ−ＮＭＲでの末端ビニル基量のピーク強度は¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルで求めた（Ａ）（Ｂ）を用いて以下のようにして算出した。
¹³Ｃ−ＮＭＲの末端ビニル基量ピーク強度＝（Ｂ）／（Ａ）×〔７〕
ここで末端基の全濃度（Ｔ）は以下のように表わされる。
Ｔ＝（Ｂ）／（Ａ）×〔７〕＋〔４〕＋〔５〕＋〔６〕＋〔７〕
従って、各末端の割合は
（Ｃ）末端ビニリデン基＝〔７〕／Ｔ ×１００ 単位：ｍｏｌ％
（Ｄ）末端ビニル基＝（Ｂ）／（Ａ） ×〔７〕×１００
（Ｅ）ｎ−プロピル末端＝〔５〕／Ｔ ×１００
（Ｆ）ｎ−ブチル末端＝〔６〕／Ｔ ×１００
（Ｇ）ｉｓｏ−ブチル末端＝〔４〕／Ｔ ×１００
となる。
一分子当たりの末端ビニリデン基の個数は２×（Ｃ） ／１００ 単位： 個／分子
となる。

上記反応性ポリオレフィンは、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が、好ましくは４以下、より好ましくは３．５以下、より好ましくは３以下、更に好ましくは２．５以下である。
分子量分布は狭いほど好ましく、これは、本発明で使用するグラフト共重合体において、反応性ポリオレフィンが連鎖を形成するため、側鎖長（連鎖長）にばらつきが少なく、構造が制御されたグラフト共重合体が生成するからである。なお、分子量分布の測定は上述のグラフト共重合体の製造で説明した方法を利用することができる。

上記反応性ポリオレフィンは、デカリン中、１３５℃において測定した極限粘度〔η〕が０．０１〜２．５ｄｌ／ｇ、好ましくは０．０５〜２．５、より好ましくは０．０５〜２．０、更に好ましくは０．１〜２．０、最も好ましく０．１５〜１．８ｄｌ／ｇである。
極限粘度〔η〕が上記範囲内であると、グラフト共重合体のポリオレフィン側鎖長（連鎖長）が十分であり、相溶化などの機能を十分に発揮する。また、グラフト重合の際、末端不飽和基の濃度が高いためラジカル重合性が上昇する。

極限粘度［η］は、１３５℃のデカリン中、ウベローデ型粘度計で還元粘度（η_SP／ｃ）を測定し、下記一般式（ハギンスの式）を用いて算出する。
η_SP／ｃ＝［η］＋Ｋ［η］²ｃ
η_SP／ｃ（ｄｌ／ｇ）：還元粘度
［η］（ｄｌ／ｇ）：極限粘度
ｃ（ｇ／ｄｌ）：ポリマー濃度
Ｋ＝０．３５（ハギンス定数）

反応性ポリオレフィンは、下記の式を満たすことが好ましい。
ラセミメソラセミメソ分率〔ｒｍｒｍ〕＞２．５モル％
上記反応性ポリオレフィンのラセミメソラセミメソ分率〔ｒｍｒｍ〕が２．５モル％を超えると、ランダム性が増加し、透明性が更に向上する。

反応性ポリオレフィンは、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）で観測される融点（Ｔｍ、単位：℃）と〔ｍｍｍｍ〕とが下記の関係を満たすことが好ましい。
１．７６〔ｍｍｍｍ〕−２５．０≦Ｔｍ≦１．７６〔ｍｍｍｍ〕＋５．０
示差走査型熱量計（ＤＳＣ）で観測される融点（Ｔｍ、単位：℃）と〔ｍｍｍｍ〕との上記関係式は、反応性ポリオレフィンのメソペンタッド分率の均一性を表すものである。
反応性ポリオレフィンの立体規則性の均一性が高い場合、すなわち、立体規則性分布が狭い場合は、グラフト共重合体の側鎖の均一性が高いことを示し、ポリプロピレン系樹脂などとの相溶性が上昇する。メソペンタッド分率の高いものと低いものが混在した場合やブロック結合した場合、すなわち、立体規則性分布が広い場合は、ポリプロピレン系樹脂などへの相溶性が低下し、好ましくない。上記〔ｍｍｍｍ〕は、平均値として測定されるものであり、立体規則性分布が広い場合と狭い場合とでは明確に区別することはできないが、上記のように融点（Ｔｍ）との関係を特定範囲に限定することによって、好ましい均一性の高い反応性のプロピレン系共重合体を規定することができる。
融点（Ｔｍ）が（１．７６〔ｍｍｍｍ〕＋５．０）を超える場合は、部分的に高い立体規則性部位と、立体規則性を持たない部位が存在することを示す。
また、融点（Ｔｍ）が（１．７６〔ｍｍｍｍ〕−２５．０）に達しない場合、耐熱性が十分ではないおそれがある。
上記観点から、好ましくは
１．７６〔ｍｍｍｍ〕−２０．０≦Ｔｍ≦１．７６〔ｍｍｍｍ〕＋３．０
より好ましくは
１．７６〔ｍｍｍｍ〕−１５．０≦Ｔｍ≦１．７６〔ｍｍｍｍ〕＋２．０
である。
上記融点（Ｔｍ）は、ＤＳＣ測定により求める。
試料１０ｍｇを窒素雰囲気下、３２０℃／分で２５℃から２２０℃に昇温し、２２０℃で５分間保持した後、３２０℃／分で２５℃まで降温し、２５℃で５０分間保持した。そして、１０℃／分で２５℃から２２０℃まで昇温した。この昇温過程で検出される融解熱吸収カーブの最も高温側に観測される吸熱ピークのピークトップを融点（Ｔｍ）とした。

反応性ポリオレフィンは、更に、下記の規定を満たすことが好ましい。
〔ｒｒｒｒ〕／（１−〔ｍｍｍｍ〕）≦０．１
上記関係を満足すると、べたつきが抑制される。
〔ｍｍ〕×〔ｒｒ］／〔ｍｒ〕²≦２．０
上記〔ｍｍ〕×〔ｒｒ〕／〔ｍｒ〕²の値が２．０以下であると、透明性の低下が抑制され、柔軟性と弾性回復率のバランスが良好となる。〔ｍｍ〕×〔ｒｒ］／〔ｍｒ〕²は、好ましくは１．８〜０．５、より好ましくは１．５〜０．５の範囲である。
２０≦昇温クロマトグラフィーにおける２５℃以下で溶出する成分量（Ｗ２５）≦１００（質量％）
上記昇温クロマトグラフィーにおける２５℃以下で溶出する反応性ポリオレフィンの成分量（Ｗ２５）は、好ましくは３０〜１００質量％、より好ましくは５０〜１００質量％である。
Ｗ２５は、反応性ポリオレフィンが軟質であるか否かを表す指標であり、この値が小さくなると、弾性率の高い成分が多くなったり、メソペンタッド分率〔ｍｍｍｍ〕の不均一さが広がる。
上記反応性ポリオレフィンにおいては、Ｗ２５が２０質量％以上であると、柔軟性が保たれる。
なお、Ｗ２５とは、以下のような操作法、装置構成及び測定条件の昇温クロマトグラフィーにより測定して求めた溶出曲線におけるＴＲＥＦ（昇温溶出分別）のカラム温度２５℃において充填剤に吸着されないで溶出する成分の量（質量％）である。

（１）操作法
試料溶液を温度１３５℃に調節したＴＲＥＦカラムに導入し、次いで降温速度５℃／時間にて徐々に０℃まで降温し、３０分間ホールドし、試料を充填剤表面に結晶化させる。
その後、昇温速度４０℃／時間にてカラムを１３５℃まで昇温し、溶出曲線を得る。
（２）装置構成
ＴＲＥＦカラム ：ＧＬサイエンス社製 シリカゲルカラム（４．６φ×１５０ｍｍ）
フローセル ：ＧＬサイエンス社製 光路長１ｍｍ ＫＢｒセル
送液ポンプ ：センシュウ科学社製 ＳＳＣ−３１００ポンプ
バルブオーブン ：ＧＬサイエンス社製 ＭＯＤＥＬ５５４オーブン（高温型）
ＴＲＥＦオーブン：ＧＬサイエンス社製
二系列温調器 ：理学工業社製 ＲＥＸ−Ｃ１００温調器
検出器 ：液体クロマトグラフィー用赤外検出器 ＦＯＸＢＯＲＯ社製 ＭＩＲＡＮ １Ａ ＣＶＦ
１０方バルブ ：バルコ社製 電動バルブ
ループ ：バルコ社製 ５００μｌループ
（３）測定条件
溶媒 ：ｏ−ジクロロベンゼン
試料濃度 ：７．５ｇ／Ｌ
注入量 ：５００μｌ
ポンプ流量 ：２．０ｍｌ／分
検出波数 ：３．４１μｍ
カラム充填剤 ：クロモソルブＰ（３０〜６０メッシュ）
カラム温度分布 ：±０．２℃以内

本発明の反応性ポリオレフィンは、メタロセン触媒により製造されるものが好ましい。
メタロセン触媒としては、（Ａ）シクロペンタジエニル基、置換シクロペンタジエニル基、インデニル基、置換インデニル基などを有する周期律表第３〜１０の金属元素からなる遷移金属化合物と（Ｂ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物を含む触媒であって、末端不飽和基を生成することのできる触媒が挙げられる。
遷移金属化合物としては、ジルコノセンクロリド、ペンタメチルシクロペンタジエニルジルコニウムジクロリドなどのビスシクロペンタジエニル配位子からなる化合物、エチレンビスインデニルジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン−ビス−［２−メチル−４−フェニルインデニル］ジルコニウムジクロリド、ジメチルシリレン−ビス−［２−メチル−４，５−ベンゾインデニル］ジルコニウムジクロリドなどの架橋インデニル配位子からなる化合物、ペンタメチルシクロペンタジエニルトリメトキシチタニウム、ペンタメチルシクロペンタジエニルトリクロルチタニウムなどのモノシクロペンタジエニル配位子からなる化合物、ジクロロ［ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（２，４−ジメチル−４Ｈ−１−アズレニル）］ハフニウム、ジクロロ［ジメチルゲルミレン（シクロペンタジエニル）（２，４−ジメチル−４Ｈ−１−アズレニル）］ハフニウム、ジクロロ［ジメチルシリレン（２−メチル−１−インデニル）（２，４−ジメチル−４Ｈ−１−アズレニル）］ハフニウムなどのアズレニウム配位子からなる化合物が挙げられる。

更に、下記一般式（Ｉ）で表される二重架橋遷移金属化合物が挙げられる。

上記一般式（Ｉ）において、Ｍは周期律表第３〜１０族の金属元素を示し、具体例としてはチタン，ジルコニウム，ハフニウム，イットリウム，バナジウム，クロム，マンガン，ニッケル，コバルト，パラジウム及びランタノイド系金属などが挙げられる。
これらの中ではオレフィン重合活性などの点からチタン，ジルコニウム及びハフニウムが好適であり、末端ビニリデン基の収率及び触媒活性の点から、ジルコニウムが最も好適である。
Ｅ¹及びＥ²はそれぞれ、置換シクロペンタジエニル基，インデニル基，置換インデニル基，ヘテロシクロペンタジエニル基，置換ヘテロシクロペンタジエニル基，アミド基（−Ｎ＜），ホスフィン基（−Ｐ＜），炭化水素基〔＞ＣＲ−，＞Ｃ＜〕及びケイ素含有基〔＞ＳｉＲ−，＞Ｓｉ＜〕（但し、Ｒは水素又は炭素数１〜２０の炭化水素基あるいはヘテロ原子含有基である）の中から選ばれた配位子を示し、Ａ¹及びＡ²を介して架橋構造を形成している。Ｅ¹及びＥ²は互いに同一でも異なっていてもよい。
このＥ¹及びＥ²としては、シクロペンタジエニル基、置換シクロペンタジエニル基，インデニル基及び置換インデニル基が好ましく、Ｅ¹及びＥ²のうちの少なくとも一つは、シクロペンタジエニル基、置換シクロペンタジエニル基、インデニル基又は置換インデニル基である。
Ｘはσ結合性の配位子を示し、Ｘが複数ある場合、複数のＸは同じでも異なっていてもよく、他のＸ，Ｅ¹，Ｅ²又はＹと架橋していてもよい。
このＸの具体例としては、ハロゲン原子，炭素数１〜２０の炭化水素基，炭素数１〜２０のアルコキシ基，炭素数６〜２０のアリールオキシ基，炭素数１〜２０のアミド基，炭素数１〜２０のケイ素含有基，炭素数１〜２０のホスフィド基，炭素数１〜２０のスルフィド基，炭素数１〜２０のアシル基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
炭素数１〜２０の炭化水素基として具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基などのアルキル基；ビニル基、プロペニル基、シクロヘキセニル基などのアルケニル基；ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基などのアリールアルキル基；フェニル基、トリル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基、アントラセニル基、フェナントニル基などのアリール基などが挙げられる。
なかでもメチル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基やフェニル基などのアリール基が好ましい。

炭素数１〜２０のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、フェニルメトキシ基、フェニルエトキシ基などが挙げられる。
炭素数６〜２０のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基などが挙げられる。
炭素数１〜２０のアミド基としては、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基、ジプロピルアミド基、ジブチルアミド基、ジシクロヘキシルアミド基、メチルエチルアミド基などのアルキルアミド基や、ジビニルアミド基、ジプロペニルアミド基、ジシクロヘキセニルアミド基などのアルケニルアミド基；ジベンジルアミド基、フェニルエチルアミド基、フェニルプロピルアミド基などのアリールアルキルアミド基；ジフェニルアミド基、ジナフチルアミド基などのアリールアミド基が挙げられる。
炭素数１〜２０のケイ素含有基としては、メチルシリル基、フェニルシリル基などのモノ炭化水素置換シリル基；ジメチルシリル基、ジフェニルシリル基などのジ炭化水素置換シリル基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、メチルジフェニルシリル基、トリトリルシリル基、トリナフチルシリル基などのトリ炭化水素置換シリル基；トリメチルシリルエーテル基などの炭化水素置換シリルエーテル基；トリメチルシリルメチル基などのケイ素置換アルキル基；トリメチルシリルフェニル基などのケイ素置換アリール基などが挙げられる。
なかでも、トリメチルシリルメチル基、フェニルジメチルシリルエチル基などが好ましい。

炭素数１〜２０のホスフィド基としては、ジメチルホスフィド基、ジエチルホスフィド基、ジプロピルホスフィド基、ジブチルホスフィド基、ジヘキシルホスフィド基、ジシクロヘキシルホスフィド基、ジオクチルホスフィド基などのジアルキルホスフィド基；ジベンジルホスフィド基、ジフェニルホスフィド基、ジナフチルホスフィド基などのジアリールホスフィド基が挙げられる。

炭素数１〜２０のスルフィド基としては、メチルスルフィド基、エチルスルフィド基、プロピルスルフィド基、ブチルスルフィド基、ヘキシルスルフィド基、シクロヘキシルスルフィド基、オクチルスルフィド基などのアルキルスルフィド基；ビニルスルフィド基、プロペニルスルフィド基、シクロヘキセニルスルフィド基などのアルケニルスルフィド基；ベンジルスルフィド基、フェニルエチルスルフィド基、フェニルプロピルスルフィド基などのアリールアルキルスルフィド基；フェニルスルフィド基、トリルスルフィド基、ジメチルフェニルスルフィド基、トリメチルフェニルスルフィド基、エチルフェニルスルフィド基、プロピルフェニルスルフィド基、ビフェニルスルフィド基、ナフチルスルフィド基、メチルナフチルスルフィド基、アントラセニルスルフィド基、フェナントニルスルフィド基などのアリールスルフィド基が挙げられる。
炭素数１〜２０のアシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、パルミトイル基、テアロイル基、オレオイル基などのアルキルアシル基、ベンゾイル基、トルオイル基、サリチロイル基、シンナモイル基、ナフトイル基、フタロイル基などのアリールアシル基、シュウ酸、マロン酸、コハク酸などのジカルボン酸からそれぞれ誘導されるオキサリル基、マロニル基、スクシニル基などが挙げられる。

一方、Ｙはルイス塩基を示し、Ｙが複数ある場合、複数のＹは同じでも異なっていてもよく、他のＹやＥ¹，Ｅ²又はＸと架橋していてもよい。
このＹのルイス塩基の具体例としては、アミン類，エーテル類，ホスフィン類，チオエーテル類などを挙げることができる。
アミン類としては、炭素数１〜２０のアミンが挙げられ、具体的には、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、メチルエチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、メチルエチルアミンなどのアルキルアミン；ビニルアミン、プロペニルアミン、シクロヘキセニルアミン、ジビニルアミン、ジプロペニルアミン、ジシクロヘキセニルアミンなどのアルケニルアミン；フェニルアミン、フェニルエチルアミン、フェニルプロピルアミンなどのアリールアルキルアミン；ジフェニルアミン、ジナフチルアミンなどのアリールアミンが挙げられる。

エーテル類としては、メチルエーテル、エチルエーテル、プロピルエーテル、イソプロピルエーテル、ブチルエーテル、イソブチルエーテル、ｎ−アミルエーテル、イソアミルエーテルなどの脂肪族単一エーテル化合物；メチルエチルエーテル、メチルプロピルエーテル、メチルイソプロピルエーテル、メチル−ｎ−アミルエーテル、メチルイソアミルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチルイソプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、エチルイソブチルエーテル、エチル−ｎ−アミルエーテル、エチルイソアミルエーテルなどの脂肪族混成エーテル化合物；ビニルエーテル、アリルエーテル、メチルビニルエーテル、メチルアリルエーテル、エチルビニルエーテル、エチルアリルエーテルなどの脂肪族不飽和エーテル化合物；アニソール、フェネトール、フェニルエーテル、ベンジルエーテル、フェニルベンジルエーテル、α−ナフチルエーテル、β−ナフチルエーテルなどの芳香族エーテル化合物、酸化エチレン、酸化プロピレン、酸化トリメチレン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサンなどの環式エーテル化合物が挙げられる。

ホスフィン類としては、炭素数１〜２０のホスフィンが挙げられる。
具体的には、メチルホスフィン、エチルホスフィン、プロピルホスフィン、ブチルホスフィン、ヘキシルホスフィン、シクロヘキシルホスフィン、オクチルホスフィンなどのモノ炭化水素置換ホスフィン；ジメチルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジプロピルホスフィン、ジブチルホスフィン、ジヘキシルホスフィン、ジシクロヘキシルホスフィン、ジオクチルホスフィンなどのジ炭化水素置換ホスフィン；トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリオクチルホスフィンなどのトリ炭化水素置換ホスフィンなどのアルキルホスフィンや、ビニルホスフィン、プロペニルホスフィン、シクロヘキセニルホスフィンなどのモノアルケニルホスフィンやホスフィンの水素原子をアルケニルが２個置換したジアルケニルホスフィン；ホスフィンの水素原子をアルケニルが３個置換したトリアルケニルホスフィン；ベンジルホスフィン、フェニルエチルホスフィン、フェニルプロピルホスフィンなどのアリールアルキルホスフィン；ホスフィンの水素原子をアリール又はアルケニルが３個置換したジアリールアルキルホスフィン又はアリールジアルキルホスフィン；フェニルホスフィン、トリルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、トリメチルフェニルホスフィン、エチルフェニルホスフィン、プロピルフェニルホスフィン、ビフェニルホスフィン、ナフチルホスフィン、メチルナフチルホスフィン、アントラセニルホスフィン、フェナントニルホスフィン；ホスフィンの水素原子をアルキルアリールが２個置換したジ（アルキルアリール）ホスフィン；ホスフィンの水素原子をアルキルアリールが３個置換したトリ（アルキルアリール）ホスフィンなどのアリールホスフィンが挙げられる。チオエーテル類としては、上記のスルフィドが挙げられる。

次に、Ａ¹及びＡ²は二つの配位子を結合する二価の架橋基であって、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−Ｓｅ−、−ＮＲ¹−、−ＰＲ¹−、−Ｐ（Ｏ）Ｒ¹−、−ＢＲ¹−又は−ＡｌＲ¹−を示し、Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基又は炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基を示し、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。ｑは１〜５の整数で〔（Ｍの原子価）−２〕を示し、ｒは０〜３の整数を示す。
このような架橋基のうち、少なくとも一つは炭素数１以上の炭化水素基からなる架橋基であることが好ましい。
このような架橋基としては、例えば一般式（ａ）

（Ｄは周期律表第１４族元素であり、例えば炭素，ケイ素，ゲルマニウム及びスズが挙げられる。Ｒ²及びＲ³はそれぞれ水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基で、それらは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに結合して環構造を形成していてもよい。ｅは１〜４の整数を示す。）

で表されるものが挙げられ、その具体例としては、メチレン基，エチレン基，エチリデン基，プロピリデン基，イソプロピリデン基，シクロヘキシリデン基，１，２−シクロヘキシレン基，ビニリデン基（ＣＨ₂＝Ｃ＝），ジメチルシリレン基，ジフェニルシリレン基，メチルフェニルシリレン基，ジメチルゲルミレン基，ジメチルスタニレン基，テトラメチルジシリレン基，ジフェニルジシリレン基などを挙げることができる。これらの中で、エチレン基，イソプロピリデン基及びジメチルシリレン基が好適である。

一般式（Ｉ）で表される二重架橋遷移金属化合物の具体例としては、（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−ジメチルシリレン）（３−メチルシクロペンタジエニル）（３'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−イソプロピリデン）（３−メチルシクロペンタジエニル）（３'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−エチレン）（３−メチルシクロペンタジエニル）（３'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−エチレン）（２，１'−メチレン）（３−メチルシクロペンタジエニル）（３'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−エチレン）（２，１'−イソプロピリデン）（３−メチルシクロペンタジエニル）（３'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−メチレン）（２，１'−メチレン）（３−メチルシクロペンタジエニル）（３'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−メチレン）（２，１'−イソプロピリデン）（３−メチルシクロペンタジエニル）（３'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−イソプロピリデン）（２，１'−イソプロピリデン）（３−メチルシクロペンタジエニル）（３'−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−ジメチルシリレン）（３，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３'，４'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−イソプロピリデン）（３，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３'，４'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−エチレン）（３，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３'，４'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，

（１，２'−エチレン）（２，１'−メチレン）（３，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３'，４'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−エチレン）（２，１'−イソプロピリデン）（３，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３'，４'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−メチレン）（２，１'−メチレン）（３，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３'，４'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−メチレン）（２，１'−イソプロピリデン）（３，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３'，４'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−イソプロピリデン）（２，１'−イソプロピリデン）（３，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３'，４'−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−ジメチルシリレン）（３−メチル−５−エチルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−ジメチルシリレン）（３−メチル−５−エチルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−ジメチルシリレン）（３−メチル−５−イソプロピルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−イソプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−ジメチルシリレン）（３−メチル−５−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−ジメチルシリレン）（３−メチル−５−フェニルシクロペンジエニル）（３'−メチル−５'−フェニルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，

（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−イソプロピリデン）（３−メチル−５−エチルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−イソプロピリデン）（３−メチル−５−イソプロピルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−イソプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−イソプロピリデン）（３−メチル−５−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−イソプロピリデン）（３−メチル−５−フェニルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−フェニルシクロペンジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−エチレン）（３−メチル−５−エチルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−エチレン）（３−メチル−５−イソプロピルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−イソプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−エチレン）（３−メチル−５−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−エチレン）（３−メチル−５−フェニルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−フェニルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−メチレン）（３−メチル−５−エチルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−エチルシクロペンジエニル）ジルコニウムジクロリド，

（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−メチレン）（３−メチル−５−イソプロピルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−イソプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−メチレン）（３−メチル−５−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−メチレン）（３−メチル−５−フェニルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−フェニルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−エチレン）（２，１'−メチレン）（３−メチル−５−イソプロピルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−イソプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−エチレン）（２，１'−イソプロピリデン）（３−メチル−５−イソプロピルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−イソプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−メチレン）（２，１'−メチレン）（３−メチル−５−イソプロピルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−イソプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２'−メチレン）（２，１'−イソプロピリデン）（３−メチル−５−イソプロピルシクロペンタジエニル）（３'−メチル−５'−イソプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリドなど及びこれらの化合物におけるジルコニウムをチタン又はハフニウムに置換したもの、及び後述する一般式（II）で表される化合物を挙げることができる。
また、他の族の金属元素の類似化合物であってもよい。
好ましくは周期律表第４族の遷移金属化合物であり、中でもジルコニウムの化合物が好ましい。
上記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物の中では、一般式（II）で表される化合物が好ましい。

上記一般式（II）において、Ｍは周期律表第３〜１０族の金属元素を示し、Ａ^1a及びＡ^2aは、それぞれ上記一般式（Ｉ）における一般式（ａ）で表される架橋基を示し、ＣＨ₂，ＣＨ₂ＣＨ₂，（ＣＨ₃）₂Ｃ，（ＣＨ₃）₂Ｃ（ＣＨ₃）₂Ｃ，（ＣＨ₃）₂Ｓｉ及び（Ｃ₆Ｈ₅）₂Ｓｉが好ましい。
Ａ^1a及びＡ^2aは、互いに同一でも異なっていてもよい。
Ｒ⁴〜Ｒ¹³はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基、ケイ素含有基又はヘテロ原子含有基を示す。
ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基及びケイ素含有基としては、上記一般式（Ｉ）において説明したものと同様のものが挙げられる。
炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基としては、ｐ−フルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、３，４，５−トリフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、３，５−ビス（トリフルオロ）フェニル基、フルオロブチル基などが挙げられる。
ヘテロ原子含有基としては、炭素数１〜２０のヘテロ原子含有基が挙げられ、具体的には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの窒素含有基；フェニルスルフィド基、メチルスルフィド基などの硫黄含有基；ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基などの燐含有基；メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基などの酸素含有基などが挙げられる。
なかでも、Ｒ⁴及びＲ⁵としてはハロゲン、酸素、ケイ素などのヘテロ原子を含有する基が、重合活性が高く好ましい。
Ｒ⁶〜Ｒ¹³としては、水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基が好ましい。
Ｘ及びＹは一般式（Ｉ）と同じである。ｑは１〜５の整数で〔（Ｍの原子価）−２〕を示し、ｒは０〜３の整数を示す。

上記一般式（II）で表される二重架橋遷移金属化合物のうち、両方のインデニル基が同一である場合、周期律表第４族の遷移金属化合物としては、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−エチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−イソプロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（４−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（４，７−ジメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（５，６−ジメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−エトキシメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−エトキシエチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、

（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−メトキシメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−メトキシエチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−フェニルメチルシリレン）（２，１’−フェニルメチルシリレン）ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−フェニルメチルシリレン）（２，１’−フェニルメチルシリレン）ビス（３−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）ビス（３−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）ビス（３−イソプロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）ビス（３−ｎ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）ビス（３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）ビス（３−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、

（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）ビス（３−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）ビス（３−イソプロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）ビス（３−ｎ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）ビス（３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジフェニルシリレン）（２，１’−メチレン）ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジフェニルシリレン）（２，１’−メチレン）ビス（３−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジフェニルシリレン）（２，１’−メチレン）ビス（３−ｎ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジフェニルシリレン）（２，１’−メチレン）ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジフェニルシリレン）（２，１’−メチレン）ビス（３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリドなど、及びこれらの化合物におけるジルコニウムをチタン又はハフニウムに置換したものを挙げることができるがこれらに限定されるものではない。
また、第４族以外の他の族の金属元素の類似化合物であってもよい。
好ましくは周期律表第４族の遷移金属化合物であり、中でもジルコニウムの化合物が好ましい。

一方、上記一般式（II）で表される二重架橋遷移金属化合物のうち、Ｒ⁵が水素原子で、Ｒ⁴が水素原子でない場合、周期律表第４族の遷移金属化合物としては、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３−ベンジルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３−ネオペンチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３−フェネチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）（インデニル）（３−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）（インデニル）（３−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）（インデニル）（３−ベンジルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）（インデニル）（３−ネオペンチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）（インデニル）（３−フェネチルインデニル）ジルコニウムジクロリドなど、及びこれらの化合物におけるジルコニウムをチタン又はハフニウムに置換したものを挙げることができるがこれらに限定されるものではない。
また、第４族以外の他の族の金属元素の類似化合物であってもよい。
好ましくは周期律表第４族の遷移金属化合物であり、中でもジルコニウムの化合物が好ましい。

本発明で用いる触媒を構成する（Ｂ）遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物としては、比較的低分子量の高純度末端不飽和オレフィン系重合体が得られる点、及び触媒高活性の点でボレート化合物が好ましい。
ボレート化合物としては、テトラフェニルホウ酸トリエチルアンモニウム，テトラフェニルホウ酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウム，テトラフェニルホウ酸トリメチルアンモニウム，テトラフェニルホウ酸テトラエチルアンモニウム，テトラフェニルホウ酸メチル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム，テトラフェニルホウ酸ベンジル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム，テトラフェニルホウ酸ジメチルジフェニルアンモニウム，テトラフェニルホウ酸トリフェニル（メチル）アンモニウム，テトラフェニルホウ酸トリメチルアニリニウム，テトラフェニルホウ酸メチルピリジニウム，テトラフェニルホウ酸ベンジルピリジニウム，テトラフェニルホウ酸メチル（２−シアノピリジニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸トリエチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸トリフェニルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸テトラエチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸ベンジル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸メチルジフェニルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸トリフェニル（メチル）アンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸メチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸ジメチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸トリメチルアニリニウム，

テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸メチルピリジニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸ベンジルピリジニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸メチル（２−シアノピリジニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸ベンジル（２−シアノピリジニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル)ホウ酸メチル(４−シアノピリジニウム) ，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸トリフェニルホスホニウム，テトラキス［ビス（３，５−ジトリフルオロメチル）フェニル］ホウ酸ジメチルアニリニウム，テトラフェニルホウ酸フェロセニウム，テトラフェニルホウ酸銀，テトラフェニルホウ酸トリチル，テトラフェニルホウ酸テトラフェニルポルフィリンマンガン，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸トリフェニルカルベニウム，テトラキス（パーフルオロフェニル）ホウ酸メチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸フェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸（１，１'−ジメチルフェロセニウム)，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸デカメチルフェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸銀、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸トリチル，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸リチウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸ナトリウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸テトラフェニルポルフィリンマンガン，テトラフルオロホウ酸銀などを挙げることができる。これらは一種を単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。後述する水素と遷移金属化合物とのモル比（水素／遷移金属化合物）が０である場合、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸ジメチルアニリニウム、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸トリフェニルカルベニウム及びテトラキス（パーフルオロフェニル）ホウ酸メチルアニリニウムなどが好ましい。

本発明の製造方法で用いる触媒は、上記（Ａ）成分と（Ｂ）成分との組み合わせでもよく、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分に加えて（Ｃ）成分として有機アルミニウム化合物を用いてもよい。
（Ｃ）成分の有機アルミニウム化合物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリノルマルへキシルアルミニウム、トリノルマルオクチルアルミニウム、ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、メチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、ジメチルアルミニウムフルオリド、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、ジエチルアルミニウムヒドリド及びエチルアルミニウムセスキクロリドなどが挙げられる。
これらの有機アルミニウム化合物は一種用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらのうち、本発明においては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリノルマルへキシルアルミニウム及びトリノルマルオクチルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウムが好ましく、トリイソブチルアルミニウム、トリノルマルへキシルアルミニウム及びトリノルマルオクチルアルミニウムがより好ましい。

（Ａ）成分の使用量は、通常０．１×１０^-6〜１．５×１０^-5モル／Ｌ、好ましくは０．１５×１０^-6〜１．３×１０^-5モル／Ｌ、より好ましくは０．２×１０^-6〜１．２×１０^-5モル／Ｌ、特に好ましくは０．３×１０^-6〜１．０×１０^-5モル／Ｌである。
（Ａ）成分の使用量が０．１×１０^-6モル／Ｌ以上であると、触媒活性が十分に発現され、１．５×１０^-5モル／Ｌ以下であると、重合熱を容易に除去することができる。
（Ａ）成分と（Ｂ）成分との使用割合（Ａ）／（Ｂ）は、モル比で好ましくは１０／１〜１／１００、より好ましくは２／１〜１／１０である。
（Ａ）／（Ｂ）が１０／１〜１／１００の範囲にあると、触媒としての効果が得られると共に、単位質量ポリマー当たりの触媒コストを抑えることができる。
また、目的とする反応性ポリオレフィン中にホウ素が多量に存在するおそれがない。
（Ａ）成分と（Ｃ）成分との使用割合（Ａ）／（Ｃ）は、モル比で好ましくは１／１〜１／１００００、より好ましくは１／５〜１／２０００、さらに好ましくは１／１０〜１／１０００である。
（Ｃ）成分を用いることにより、遷移金属当たりの重合活性を向上させることができる。（Ａ）／（Ｃ）が１／１〜１／１００００の範囲にあると、（Ｃ）成分の添加効果と経済性のバランスが良好であり、また、目的とする反応性ポリオレフィン中にアルミニウムが多量に存在するおそれがない。
本発明の製造方法においては、上述した（Ａ）成分及び（Ｂ）成分、あるいは（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を用いて予備接触を行うこともできる。
予備接触は、（Ａ）成分に、例えば（Ｂ）成分を接触させることにより行うことができるが、その方法に特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。
このような予備接触により触媒活性の向上や、助触媒である（Ｂ）成分の使用割合の低減など、触媒コストの低減に効果的である。

本発明の反応性ポリオレフィンは、上記触媒残渣が少ないものが好ましい。
特に、遷移金属の含有量が５質量ｐｐｍ以下、アルミニウムの含有量が３００質量ｐｐｍ以下、ホウ素の含有量が５質量ｐｐｍ以下のものである。
遷移金属としては、チタン、ジルコニウム及びハフニウムなどが挙げられ、これらの合計量が５質量ｐｐｍ以下である。
アルミニウムの含有量は、好ましくは２８０質量ｐｐｍ以下である。
これらの金属成分は、ＩＣＰ（高周波誘導結合プラズマ分光分析）測定装置により測定することができる。
触媒残渣が少ない反応性ポリオレフィンを用いると、得られるグラフト共重合体が高純度であり、好ましい。

（主鎖用単量体）
本発明で使用するグラフト共重合体の主鎖は、エンジニアリングプラスチックと相互作用する官能基を有する単量体単位を１〜１００質量％含有する。当該主鎖は、上記官能基を含有する単量体を用いて重合反応を行うことで形成することができる。

一般に官能基を有する単量体は、その官能基の存在により反応性が大きく異なる。したがって、本発明において所望の性質、長さを有する主鎖のグラフト共重合体を製造するためには適切な単量体または単量体の組み合わせを用いることが好ましく、例えばマレイン酸等の二塩基酸化合物を単量体として使用する場合は、以下のように特定の組み合わせで使用することが好ましい。

二塩基酸化合物を使用しない場合は式（ＩＩＩ）

〔式中、Ｒ¹は、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１〜１２の炭化水素基を示す。炭素数１〜１２の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アリールアルキル基が挙げられる。Ｒ²は、式（ＩＶ）〜式（ＶＩＩ）

で表されるいずれかの基である。また、Ｒ³は水素原子、炭素数１〜１２の炭化水素基、または酸素原子、窒素原子および珪素原子のいずれかの原子を含む炭素数１〜１２の基を示し、Ｒ⁴は水素原子または炭素数１〜１２の炭化水素基を示し、Ｒ⁵は水素原子、炭素数１〜１２の炭化水素基、またはエポキシ基、アミノ基、イソシアナート基、水酸基およびカルボキシル基のいずれかの基を有する炭素数１〜１２の基を示す。ｎは０〜５の整数である。〕
で表される単量体が好ましい。
なお、これらの一種または二種以上を用いて重合することができる。

特に、エンジニアリングプラスチックと共有結合を形成することができることから、水酸基、エポキシ基、アミノ基、イソシアナート基およびカルボキシル基のいずれかの官能基を有する単量体が好ましい。

単量体の具体例としては、以下の化合物［Ｉ］〜［ＩＶ］が挙げられる。

［Ｉ］アクリル酸及びその誘導体
（１）アクリル酸
（２）アクリル酸メチル，アクリル酸エチル，アクリル酸ブチル，アクリル酸ノルマルオクチル、アクリル酸２−エチルヘキシルなどのアクリル酸エステル類；ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールアクリレート、ポリ（エチレングリコール−ｎ−テトラメチレングリコール）モノアクリレート、プロピレングリコールポリブチレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノアクリレートなどの分子量３００００以下の長鎖ポリアルキレン型グリコール類
（３）アクリル酸ナトリウム、アクリル酸カリウム、アクリル酸マグネシウム、アクリル酸カルシウムなどのアクリル酸と典型金属元素からなるアクリル酸金属塩
（４）エステル残基に酸素、窒素、硫黄、珪素原子を含むアクリル酸エステル類、例えば、アクリル酸グリシジル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、アクリロイルオキシエチルイソシアナート、メタクリロイルオキシエチルイソシアナート、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、２−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）エチルイソシアネート、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシランなどの官能基を有するアクリル酸エステル類；ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールアクリレート、ポリ（エチレングリコール−ｎ−テトラメチレングリコール）モノアクリレート、プロピレングリコールポリブチレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノアクリレートなどの水酸基を有する分子量３００００以下の長鎖ポリアルキレングリコール類；水酸基を含むアクリル酸エステルと多価イソシアネート化合物の混合物、たとえば、水酸基を含むアクリル酸エステルとしてアクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、多価イソシアネート化合物として、フェニレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、４，４’−メチレンビスフェニルイソシアネート、４，４’−メチレンビスシクロへキシルイソシアネート
（５）アクリルアミド
（６）置換基に酸素、窒素、硫黄、珪素原子を含むＮ−置換アクリルアミド、例えば、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−シクロへキシルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジブチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジシクロへキシルアクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−アクリルアミド、Ｎ−(２−ヒドロキシプロピル)−アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミドなどのＮ−置換アクリルアミド
（７）アクリロニトリル

［ＩＩ］メタアクリル酸及びアクリル酸のα−アルキル置換体（以下、これらを合わせて「メタアクリル酸類」と省略する場合がある。）、並びにそれらの誘導体
上記［Ｉ］の単量体のα位にメチル基などのアルキル基（好ましくは、炭素数６以下のアルキル基）を有する単量体

［ＩＩＩ］ビニルエステル及びその誘導体またはアルコキシビニルシラン、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、イソラク酸ビニル、ピバリン酸ビニル、ウンデカン酸ビニル、パルミチン酸ビニルなどのビニルエステル及びその誘導体；トリメトキシビニルシランやトリエトキシビニルシランなどのアルコキシビニルシラン

［ＩＶ］スチレン、更には、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−プロピルスチレン、ｐ−イソプロピルスチレン、ｐ−ブチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、ｐ−フェニルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｏ−プロピルスチレン、ｏ−イソプロピルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｍ−イソプロピルスチレン、ｍ−ブチルスチレン、メシチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、３，５−ジメチルスチレンなどのアルキルスチレン類；ｐ−メトキシスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシスチレンなどのアルコキシスチレン類；ｐ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｏ−ブロモスチレン、ｐ−フルオロスチレン、ｍ−フルオロスチレン、ｏ−フルオロスチレン、ｏ−メチル−ｐ−フルオロスチレンなどのハロゲン化スチレン類；トリメチルシリルスチレン、ビニル安息香酸などのスチレン及びその誘導体

上記化合物の中で、エンジニアリングプラスチックと共有結合を形成することができることから、水酸基、エポキシ基、アミノ基、イソシアナート基およびカルボキシル基のいずれかの官能基を有する単量体が好ましい。

好ましい単量体及び好ましい単量体の組合せとしては以下のものが挙げられる。
［Ｉ］アクリル酸及びその誘導体としては、上記の化合物が全て好ましく、特に、アクリル酸金属塩を除く全ての化合物が好ましい。
［II］メタアクリル酸類及びその誘導体のみでもグラフト重合は可能であるが、［Ｉ］アクリル酸及びその誘導体／［II］メタアクリル酸類及びその誘導体を組合せることにより、［II］メタアクリル酸類及びその誘導体のグラフト重合量が上昇し好ましい。
特に、アクリル酸、アクリル酸エステル類とメタアクリル酸、メタアクリル酸エステル類の組合せが好ましい。
［Ｉ］アクリル酸及びその誘導体／［II］メタアクリル酸類及びその誘導体の好ましいモル比は、［Ｉ］／［II］（モル比）が０．１〜２、好ましくは０．２〜１．５、より好ましくは０．３〜１．２、更に好ましくは０．５〜１．０の範囲の範囲である。
［Ｉ］／［II］（モル比）が０．1以上であると、［II］メタアクリル酸類及びその誘導体のグラフト重合量が上昇し、２以下であるとグラフト重合に関与しない［Ｉ］アクリル酸及びその誘導体／［II］メタアクリル酸類及びその誘導体からなる共重合体が副生しないため好ましい。
また、スチレン及びその誘導体のみでもグラフト重合は可能であるが、［Ｉ］アクリル酸及びその誘導体/［VI］スチレン及びその誘導体を組合わせることにより、スチレン及びその誘導体のグラフト重合量が上昇し好ましい。
特に、アクリル酸、アクリル酸エステル類とスチレン及びその誘導体の組合せが好ましい。
［Ｉ］アクリル酸及びその誘導体/［VI］スチレン及びその誘導体の好ましいモル比は、［Ｉ］／［VI］（モル比）が０．１〜２、好ましくは０．２〜１．５、より好ましくは０．３〜１．２、更に好ましくは０．５〜１．０の範囲の範囲である。
［Ｉ］／［VI］（モル比）が０．1以上であると［VI］スチレン及びその誘導体のグラフト重合量が上昇し、２以下であるとグラフト重合に関与しない［Ｉ］アクリル酸誘導体及びその／［VI］スチレン及びその誘導体からなる共重合体が副生しないため好ましい。

二塩基酸化合物を使用する場合は、下記Ａ群から選択される一種以上と下記Ｂ群から選択される一種以上の単量体を併用することが好ましい。

Ａ群
［V］無水マレイン酸及びその置換体
［VI］マレイン酸及びそのエステル
［VII］マレイミド及びその置換体
Ｂ群
［Ｉ］アクリル酸及びその誘導体
［II］メタアクリル酸類及びその誘導体
［III］ビニルエステル及びその誘導体またはアルコキシビニルシラン
［IV］スチレン及びその誘導体
［VIII］α−オレフィン
なお、［I］、［II］、［III］及び［IV］で示される化合物は上記のとおりである。

すなわち、
［V］無水マレイン酸、メチル無水マレイン酸、ジメチル無水マレイン酸、フェニル無水マレイン酸、ジフェニル無水マレイン酸などの無水マレイン酸及びその置換体
［VI］マレイン酸、メチルマレイン酸、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸モノメチル、などマレイン酸及びそのエステル
［VII］マレイミド、Ｎ−アルキル置換マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドなどのマレイミド及びその置換体
［VIII］エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−へキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセン、１−ウンデセン、１−ドデセン、１−トリデセン、１−テトラデセン、１−ペンタデセン、１−ヘキサデセン、１−ヘプタデセン、１−オクタデセン、１−ノナデセン、１−エイコセンなどの炭素数２〜２８のα−オレフィン
上記Ａ群の単量体は二重結合の電子密度が小さいため、同種の単量体同士が重合しにくい単量体である。したがって、本発明においてはＢ群の単量体と併用して重合することで、Ａ群の単量体の含有量を向上させる。また、本発明においては、Ａ群の単量体を使用することで、反応性ポリオレフィンの反応性を高めることができるため、効率よくグラフト共重合体を製造できるという効果も得られる。
また、［VIII］炭素数２〜２８のα−オレフィンは、グラフト重合温度とその沸点の関係を考慮して選択される。
溶融グラフト重合では、温度が高いほど高沸点のα−オレフィンを用いるほうが反応操作上、取り扱いが容易である。
また、溶媒を用いるグラフト重合では、ガス状から高沸点のα−オレフィンまで使用可能である。

上記Ａ群の単量体の中で、好ましいものは無水マレイン酸である。上記Ｂ群の単量体の中で好ましいものは、水酸基、エポキシ基、アミノ基、イソシアナート基およびカルボキシル基のいずれかの官能基を有する単量体であり、エポキシ基、イソシアナート基およびカルボキシル基のいずれかの官能基を有する単量体がより好ましい。

Ａ群の化合物とＢ群の化合物の組合せは、Ａ群の化合物／Ｂ群の化合物（モル比）は、通常、０．１〜２程度、好ましくは０．５〜１．５、より好ましくは０．８〜１．２、更に好ましくは０．９〜１．１の範囲である。
モル比が０．１以上であると、Ａ群の化合物のグラフト重合量が上昇し、２以下であるとグラフト重合に関与しないＡ群の化合物／Ｂ群の化合物からなる共重合体が副生せず、好ましい。
Ａ群とＢ群の化合物の組合せは、Ａ群の［V］無水マレイン酸及びその置換体とＢ群の化合物からなる組合せが好ましく、Ａ群の［V］無水マレイン酸とＢ群の［Ｉ］アクリル酸及びその誘導体、［III］ビニルエステル及びその誘導体またはアルコキシビニルシラン、［VIII］α−オレフィンとの組合せがより好ましい。

本発明のグラフト共重合に用いられるラジカル開始剤としては、特に制限はなく、従来公知のラジカル開始剤、例えば、各種有機過酸化物、アゾ系化合物などの中から適宜選択して用いることができ、両化合物はともに好適なラジカル開始剤である。
有機過酸化物としては、例えば、ジベンゾイルパーオキシド，ジ−８，５，５−トリメチルヘキサノイルパーオキシド，ジラウロイルパーオキシド，ジデカノイルパーオキシド，ジ（２，４−ジクロロベンゾイル）パーオキシドなどのジアシルパーオキシド類、ｔ−ブチルヒドロパーオキシド，キュメンヒドロパーオキシド，ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキシド，２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジヒドロパーオキシドなどのヒドロパーオキシド類、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド，ジクミルパーオキシド，２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン，２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、α，α’ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼンなどのジアルキルパーオキシド類、１，１−ビス−ｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン，２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタンなどのパーオキシケタール類、ｔ−ブチルパーオキシオクトエート，ｔ−ブチルパーオキシピバレート，ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート，ｔ−ブチルパーオキシベンゾエートなどのアルキルパーエステル類、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート，ジイソプロピルパーオキシジカーボネート，ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート，ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネートなどのパーオキシカーボネート類などが挙げられ、これらの中で、ジアルキルパーオキシド類が好ましい。
アゾ系化合物としては、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリルなどが挙げられる。
ラジカル開始剤は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

グラフト共重合反応におけるラジカル開始剤の使用量としては、特に制限はなく、グラフト共重合体又は該共重合体を含む熱可塑性樹脂組成物の所望物性に応じて適宜選定される。
ラジカル開始剤は、反応性ポリオレフィン１００質量部に対し、０．００１〜１０質量部、好ましくは０．００５〜５質量部の範囲で用いられる。

上記の主鎖を形成するための単量体の使用量は目的に合わせて適宜決定することができるが、反応性ポリオレフィン１００質量部に対して、０．２〜３００質量部の範囲で選定される。その使用量は、好ましくは１〜２５０質量部、より好ましくは５〜２００質量部、更に好ましくは１０〜１８０質量部の範囲である。使用量が０．２質量部以上であると、グラフト重合体における共重合する単量体量が上昇し、相溶化などの機能を発現し易く、３００質量以下であるとグラフト反応に関与しない重合体が副生せず好ましい。

グラフト重合方法としては、特に制限はないが、例えば、反応性ポリオレフィン、上記の単量体及びラジカル開始剤とを、ロールミル、バンバリーミキサー、押出機などを用いて溶融混練して反応させることにより、グラフト共重合体を製造することができる。反応条件としては、６０〜１４０℃の温度で、０．０１〜０．５時間が挙げられる。
また、ブタン、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエンなどの炭化水素系溶剤、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系溶剤、液化α−オレフィンなどの適当な有機溶媒中、あるいは無溶媒の条件で、グラフト共重合体を製造することもできる。反応条件としては、４０〜１４０℃、好ましくは５０〜１４０℃、より好ましくは５０〜１００℃で、０．１〜１０時間が挙げられる。
通常用いられる高温条件でグラフト重合を行った場合、反応性ポリオレフィンの分解による分子量や粘度の低下や、架橋反応などによるゲルの発生が生じ易い。しかしながら、上記条件は、比較的低温であり、分子量や粘度の低下がなく、架橋反応などの副反応も抑制される。

本発明のグラフト共重合はルイス酸存在下で行ってもよく、ルイス酸としては、下記の化合物が挙げられる。
（１）周期律表２族〜４族元素のハロゲン化物（塩素、臭素、フッ素、ヨウ素）、アルキル化物（炭素数１〜２０の炭化水素基）、ハロゲン化アルキル物
（２）アルミニウム、硼素、亜鉛、スズ、マグネシウム、カルシウム原子からなるルイス酸
ルイス酸の具体例としては、塩化マグネシウム、塩化カルシゥム、塩化亜鉛、三塩化硼素、三塩化アルミニウム、三塩化ガリウム、四塩化珪素、四塩化珪素、及び塩素原子を臭素原子、フッ素原子に変換した化合物、ブチルエチルマグネシウム、ジエチル亜鉛、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリノルマルへキシルアルミニウム、トリメチル硼素、トリエチル硼素、トリエチルガリウム、トリメチルガリウム、ジエチルアルミニウムモノクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリドが挙げられ、中でも亜鉛化合物、アルミニウム化合物、硼素化合物が好ましい。

グラフト重合反応におけるルイス酸の使用量としては、ルイス酸／単量体（モル／モル）が０．０１〜１、好ましくは０．０５〜１、より好ましくは０．１〜０．５である。ここで上記単量体とは、上記主鎖用単量体として説明した、式（ＩＩＩ）で表される化合物または単量体［Ｉ］〜［ＶＩＩＩ］から選ばれる単量体を意味する。
ルイス酸／単量体（モル／モル）が０．０１以上であると、グラフト率が高く、１以下であると脱灰によるルイス酸残渣の除去が不必要なため、着色がないなどの理由で好ましい。
ルイス酸は、ラジカル開始剤を添加する前に添加し、グラフト重合反応を行うか、予め単量体［Ｉ］〜［VIII］とルイス酸を接触させたものを用いることによりグラフト重合反応を行う。

［エンジニアリングプラスチック］
本発明で用いるエンジニアリングプラスチックとしては、上記官能基Ｉと相互作用する官能基（官能基ＩＩ）を有するものが使用される。官能基ＩＩとしては、エンジニアリングプラスチック中の末端官能基や、変性処理をして得られた官能基を利用することができる。

エンジニアリングプラスチックとしては、ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリフェニレンエーテル、シンジオタクチックポリスチレン、ポリフェニレンスルフィド等が挙げられる。以下において具体的に説明する。

（ポリアミド）
ポリアミドは主鎖中にアミド結合を有する重合体であり、通常主鎖末端にアミノ基やカルボキシル基を有しており、これらが末端官能基として機能する。分子量調節剤またはモノカルボン酸等の添加によりアミノ基やカルボキシル基の含有量が低下する場合があるが、これらの基を有する限りグラフト共重合体と反応し共有結合を形成することができる。アミノ基又はカルボキシル基の濃度としては１０ミリモル／ｋｇであることが好ましく、より好ましくは３０ミリモル／ｋｇ以上である。アミノ基、カルボキシル基の定量においては、「新版 高分子分析ハンドブック」日本化学会、高分子分析研究懇談会編集ページ７０４に記載の方法を利用することができる。

ポリアミドの好ましい数平均分子量は５，０００〜１００，０００であり、より好ましくは１０，０００〜３０，０００である。また、メルトインデックスで表す分子量の指標はＡＳＴＭ Ｄ１２３８Ｇによる２３０〜２７５℃の決められた温度で測定した値が０．５〜２００ｇ／１０ｍｉｎの範囲である。

ポリアミドの具体例としては、ポリアミド６、ポリアミド６６、ポリアミド４６、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ポリアミド６１０、ポリアミド６１２、ポリアミド６／６６、ポリアミド６／６１２、ポリアミドＭＸＤ６（ＭＸＤ：ｍ−キシリレンジアミン）、ポリアミド６／ＭＸＤ６、ポリアミド６６／ＭＸＤ６、ポリアミド６Ｔ、ポリアミド６Ｉ、ポリアミド６／６Ｔ、ポリアミド６／６Ｉ、ポリアミド６６／６Ｔ、ポリアミド６６／６Ｉ、ポリアミド６／６Ｔ／６Ｉ、ポリアミド６６／６Ｔ／６Ｉ、ポリアミド６／１２／６Ｔ、ポリアミド６６／１２／６Ｔ、ポリアミド６／１２／６Ｉ、ポリアミド６６／１２／６Ｉなどが挙げられる。

ポリアミドと反応する官能基Ｉとしては、ポリアミドの末端カルボキシル基または末端アミノ基と反応する官能基である、カルボキシル基、水酸基、無水マレイン酸残基、イソシアナート基、エポキシ基が好ましく、末端アミノ基と反応する無水マレイン酸残基、イソシアナート基、エポキシ基がより好ましい。
また、ポリアミドのアミド基を利用して、水素結合や静電的相互作用により親和性を高めることもできる。

（ポリアセタール）
ポリアセタールは、ホルムアルデヒドの単独重合体やトリオキサンを主モノマーとして、エチレンオキシドや１，３−ジオキソラン等を共重合モノマーとする共重合体であって、エーテル基を有する化合物である。通常、共重合体はヒドロキシエチル末端を有しており、末端官能基として機能する。一方、単独重合体は末端水酸基がアセチル化により末端封止されているものがあるが、アセチル化されていないものが好適に使用できる。末端水酸基濃度は、１０ミリモル／ｋｇ以上であることが好ましく、より好ましくは３０ミリモル／ｋｇ以上である。水酸基の定量においては、Ｐｏｌｙｍ．Ｅｎｇ．Ｓｃｉ．，３０，１０５６（１９９０）に記載の方法を利用することができる。

ポリアセタールは、メルトインデックスが０．１〜１０００ｇ／ｌ０ｍｉｎ、好ましくは０．２〜５００ｇ／ｌ０ｍｉｎ（ＡＳＴＭ Ｄ１２３８Ｇ １９０℃）である。

ポリアセタールと反応する官能基Ｉとしては、ポリアセタールの末端水酸基と反応する官能基である、イソシアナート基、エポキシ基、無水マレイン酸残基、カルボキシル基が好ましい。

（ポリカーボネート）
ポリカーボネートは主鎖中に炭酸エステル結合を有する化合物であり、通常、主鎖末端はフェノール末端、クロロホーメイト末端、フェニル基末端、t-ブチルフェノール末端であり、これらの中で、フェノール末端のものが好ましく使用できる。フェノール末端は一分子あたり０．２から２個であることが好ましい。フェノール末端はＮＭＲ法、電位差滴定法や紫外線吸収法により定量することができ、例えば、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，８８，２１５（１９６５）Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｙｍｐ．，３４，１０３（１９７８）に記載の方法を利用できる。

ポリカーボネートの好ましい分子量は、粘度平均分子量（Ｍｖ）で１００００〜１０００００である。１００００未満では好ましい物性が充分発現せず、１０００００を超えると溶融流動性が低下し、好ましくない。粘度平均分子量（Ｍｖ）は塩化メチレン溶媒中、２０℃で極限粘度［η］を測定し、次の関係式により決定することができる。
［η］＝１．２３×１０^-5Ｍｖ^0.832
通常ポリカーボネート単体では粘度平均分子量（Ｍｖ）が５００００を超えると溶融流動性が低下するが、ポリプロピレン等のポリオレフィンとの樹脂組成物は溶融流動性に優れ、かつ耐薬品性などの高い化学的安定性を示すため好ましい。ポリカーボネートとポリプロピレンの組成物の場合、ポリカーボネート１００質量部に対してポリプロピレン１５質量部程度で溶融流動性が改善され、２０質量部〜４０質量部のポリプロピレンを添加すると、溶融流動性に加え、耐薬品性が著しく向上する。

ポリカーボネートと反応する官能基Ｉとしては、ポリカーボネートのフェノール末端と反応する官能基である、エポキシ基、イソシアナート基、無水マレイン酸残基、カルボキシル基が好ましく、特にエポキシ基、イソシアナート基が好ましい。
また、フェノール環や、カーボネート基等を利用して、水素結合、静電的相互作用、スタッキング相互作用により、親和性を高めることもできる。

（ポリエステル）
ポリエステルは、ジカルボン酸とジオールの縮重合反応で得られる重合体であり、通常、末端に水酸基やカルボキシル基を有しており、これらが末端官能基として機能する。水酸基又はカルボキシル基の濃度としては１０ミリモル／ｋｇであることが好ましく、より好ましくは３０ミリモル／ｋｇ以上である。カルボキシル基はポリエステルを溶媒に溶解後、標準アルカリ・ベンジルアルコール溶液で滴定により定量可能であり、例えばＡｎａｌ．Ｃｈｅｍ．，２６，１６１４（１９５４）やＡｃｔａ Ｐｏｌｙｍｅｒ，３０，５９８（１９７９）に記載の方法を利用することができる。また、水酸基はアセチル化末端の蛍光Ｘ線による定量などにより測定でき、例えばＡｎａｌ．Ｃｈｅｍ．，２９３，３９６（１９７８）に記載の方法を利用することができる。

通常、分子量は１００００〜１０００００であり、この範囲にあれば使用することができる。分子量はポリブチレンテレフタレート分子量の関係式を用いて測定された値で規定することができる。測定方法はフェノール混合液を溶媒として、温度３０℃で測定した極限粘度［η］と分子量（Ｍｗ）の関係から算出する。
［η］＝１．２９×１０^-4×Ｍｗ^0.871
または、溶融温度２２０〜２７０℃の範囲で溶融するものであれば使用することができる。

ポリエステルとしては、以下のジカルボン酸およびジオールの反応物が挙げられる。
ジカルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、ｏ−フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、ｐ−フェニレンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、スルホイソフタル酸ソーダ等が挙げられる。ジオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−へキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，４−シクロへキサンジメタノール、ビスフェノールＡ等が挙げられる。
より具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートが挙げられる。

ポリエステルと反応する官能基Ｉとしては、ポリエステルの末端水酸基またはカルボキシル基と反応する官能基である、イソシアナート基、エポキシ基、無水マレイン酸残基、カルボキシル基が好ましい。
また、ポリエステルのエステル基を利用して、水素結合や静電的相互作用により親和性を高めることもできる。

（ポリフェニレンエーテル）
ポリフェニレンエーテルは、式（ＶＩＩＩ）

で表される構造を有する重合体である。式（ＶＩＩＩ）において、Ｒ¹、Ｒ⁴は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、第一級もしくは第二級の低級アルキル基、フェニル基、ハロアルキル基、アミノアルキル基、炭化水素オキシ基、又はハロ炭化水素オキシ基を表わし、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、第一級もしくは第二級の低級アルキル基、フェニル基、ハロアルキル基、炭化水素オキシ基、又はハロ炭化水素オキシ基を表わす。

ポリフェニレンエーテルは末端にフェノール性水酸基を有するものが好ましく用いられる。水酸基の濃度は１０ミリモル／ｋｇ以上であることが好ましく、より好ましくは３０ミリモル／ｋｇ以上である。水酸基の定量法はポリカーボネートに関して説明した方法が利用できる。

ポリフェニレンエーテルは、還元粘度（０．５ｇ／ｄｌ、クロロホルム溶液、３０℃測定）が、０．１５〜０．７０の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは０．２０〜０．６０の範囲、より好ましくは０．４０〜０．５５の範囲である。

ポリフェニレンエーテルの具体例としては、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）、ポリ（２−メチル−６−エチル−１，４−フェニレンエーテル）、ポリ（２−メチル−６−フェニル−１，４−フェニレンエーテル）、ポリ（２，６−ジクロロ−１，４−フェニレンエーテル）等、さらに２，６−ジメチルフェノールと他のフェノール類（例えば、２，３，６−トリメチルフェノールや２−メチル−６−ブチルフェノール）との共重合体が挙げられる。また、ポリフェニレンエーテルと他の樹脂(例えばポリスチレンやポリアミドなど)とのアロイでも使用することができる。

ポリフェニレンエーテルと反応する官能基Ｉとしては、ポリフェニレンエーテルのフェノール末端と反応する官能基である、エポキシ基、イソシアナート基、無水マレイン酸残基、カルボキシル基が好ましく、特にエポキシ基、イソシアナート基が好ましい。

（シンジオタクチックポリスチレン）
本発明で用いるシンジオタクチックポリスチレンは、スチレンモノマーの立体規則性重合で製造された、立体規則性指標［ｒｒｒｒ］が８０モル％以上、好ましくは９０以上で、最高融点が２７０℃の結晶性ポリスチレンである。スチレンの単独重合体、スチレンとパラメチルスチレンのようなアルキル置換スチレンとの共重合体を用いることができる。
分子量は通常５０００００〜８０００００の範囲であり、この範囲にあるものであれば使用することができる。この分子量は、ＧＰＣ法により測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量を示している。
通常、シンジオタクチックポリスチレンは官能基を有さないため、後述する変性シンジオタクチックポリスチレンを用いることが好ましい。又は、グラフト共重合体の主鎖を形成するモノマーとしてスチレン、パラメチルスチレンを用いることで空間を通して親和的に作用する相互作用を用いることが好ましい。

（ポリフェニレンスルフィド）
本発明で用いるポリフェニレンスルフィドは、前記一般式（ＶＩＩＩ）で示した主鎖中の酸素原子をイオウ原子に置き換えた構造で表される重合体である。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は、式（ＶＩＩＩ）と同様である。
製造方法は、ｐ−ジクロルベンゼン（ＰＤＣＢ）とＮａＳＨ／ＮａＯＨあるいは、Ｎａ₂ＳとをＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）中、高温加圧下で重縮合反応させる方法が一般的である。
この重合体には架橋型と直鎖型があり、どちらも用いることができる。直鎖型は線状の十分に高分子量化されたものであり、架橋型は直鎖型の加熱時架橋反応により分岐結合を生成させることで製造されるもの、または、多官能性モノマーを共重縮合させることにより重縮合反応時に分岐構造を導入して製造されるものを示す。
好ましい重合体はＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴が水素原子のものである。
分子量は通常２万〜８万程度であり、この範囲の分子量のものであれば使用することができる。ここで規定する分子量は以下の関係式
［η］＝８．９１×１０^-5×Ｍｗ^0.747
によって測定されるものであり、Ｊ．ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，３２，３９５９−３９６９（１９８６）に記載された方法に基づいて測定されたものである。
末端基の成分は−Ｃｌあるいは−ＳＮａのみでなく重合溶媒のＮＭＰが分解結合したとみられるＮ−アルキルピリジン基あるいはピリジン基等の存在が判明している。また、塩酸水溶液でポリマーを洗浄しポリマー末端の−ＳＮａを−ＳＨに変化させることも容易である。
ポリフェニレンスルフィド類と反応する官能基Ｉとしては、−ＳＮａ基、−ＳＨ基と反応する官能基であれば良いが好ましくは、ポリフェニレンスルフィドのチオフェノール末端（−ＳＨ）と反応する官能基であり、エポキシ基、イソシアナート基、無水マレイン酸残基、カルボキシル基が好ましく、特にエポキシ基、イソシアナート基が好ましい。

その他のエンジニアリングプラスチックとしては、以下のものが挙げられる。
非結晶ポリアリレート：２価フェノールと芳香族ジカルボン酸との全芳香族ポリエステルであって、具体例としては、テレフタル酸とイソフタル酸混合フタル酸とビスフェノールからなる非結晶ポリアリレートなどが挙げられる。
液晶ポリエステル：溶融状態で結晶性を示すサーモトロピックポリエステルであって、具体例としては、ｐ−ヒドロキシ安息香酸とポリエチレンテレフタレートからなる液晶ポリエステル、ｐ−ヒドロキシ安息香酸とテレフタル酸、４，４’−ジヒドロキシビフェニルからなる液晶ポリエステル、ｐ−ヒドロキシ安息香酸と２，６−ヒドロキシナフトエ酸からなる液晶ポリエステルなどが挙げられる。
ポリエーテルケトン：エーテル結合とケトン結合を有する芳香族ポリエーテルケトンであって、具体例としては、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）、ポリエーテルエーテルケトンケトン（ＰＥＥＫＫ）などが挙げられる。
ポリイミド：イミド結合を繰り返し単位として主鎖に持つポリマーであって、具体例としては、熱可塑性ポリイミド（ＴＰＩ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）などが挙げられる。

エンジニアリングプラスチックの末端官能基量が不足する場合や、より反応性に富む官能基が必要な場合は、エンジニアリングプラスチックの変性物を用いることが出来る。
好ましい官能基としては、カルボキシル基、無水マレイン酸残基、エポキシ基、水酸基、アミノ基、イソシアナート基などが挙げられる。変性物の製造方法としては、上記官能基と炭素−炭素不飽和結合を有する変性剤とエンジニアリングプラスチックをラジカル開始剤の存在下に反応させることで変性処理を行う方法が挙げられ、溶融反応、溶液反応、溶媒分散状態での反応を適用することができる。

［グラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂組成物］
グラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂組成物（以下、本発明の樹脂組成物と省略する。）とは、グラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックを含有する組成物や、これらの他にグラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックの反応生成物を含有する組成物のことを指す。

本発明の樹脂組成物は、目的によってその配合量を変化させることが好ましい。以下において、成形体表面の改質、成形体の物性改良、マスターバッチの製造に分けて説明する。

（成形体表面の改質）
本発明の樹脂組成物を使用することで、成形体表面が改質され、金型離型性、塗装性、接着性が向上する。すなわち、射出成形時に金型との界面にグラフト共重合体が浸みだし、薄膜を形成する。この結果、成形品の金型離型性がよくなり、成形サイクルが短縮できる。また金型汚染が減り、金型メンテナンスが容易になる。また、成形体表面に極性部位を存在させ表面の接着性及び塗装性を向上させる。
成形体表面の改質を目的とする場合は、グラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックの配合比は、通常、グラフト共重合体１質量部に対して、エンジニアリングプラスチック１０〜５０００質量部であり、好ましくは１５〜４０００質量部、最も好ましくは２０〜３０００質量部である。上記範囲内では、エンジニアリングプラスチックが有する特性を大きく変えることなく、成形体表面の改質効果を得ることができる。

（成形体の物性改良）
本発明の樹脂組成物を使用することで、溶融流動性、耐衝撃性、高低温衝撃性（ヒートショック）、吸湿性、耐加水分解性等を改良することができる。
成形体の物性改良を目的とする場合は、グラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックの配合比は、通常、グラフト共重合体１質量部に対して、エンジニアリングプラスチック１〜１０００質量部であり、好ましくは２〜５００質量部、最も好ましくは２〜１００質量部である。上記範囲内では、目的とする物性改良効果を得ることができる。

（マスターバッチの製造）
本発明の樹脂組成物をマスターバッチとして利用することができる。
マスターバッチとして利用する場合は、グラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックの配合比は、通常、グラフト共重合体1質量部に対して、エンジニアリングプラスチック１〜２０質量部の範囲であり、共有結合を形成する官能基のモル比が、グラフト共重合体中の官能基１に対して、エンジニアリングプラスチック中の官能基が０．５〜２．０の範囲で用いることが好ましい。

本発明の樹脂組成物の製造方法としては、単軸押出機、二軸押出機、ロール、ニーダー、ブラベンダープラストグラフ、バンバリーミキサー等による加熱溶融混練方法が挙げられるが、中でも二軸押出機を用いた溶融混練法が最も好ましい。製造条件としては、通常、融点より１０℃程度高い温度以上で組成物の溶融混練を実施する。したがって反応温度は、エンジニアリングプラスチックがポリアミドの場合は１８０〜３５０℃の範囲が好ましく、ポリアセタールの場合は１８０〜２５０℃が好ましく、ポリカーボネートの場合は２００〜３１０℃が好ましく、ポリエステルの場合は２３０〜３００℃が好ましく、ポリフェニレンエーテルの場合は２２０〜３１０℃が好ましい。反応時間は１分〜６０分の範囲で任意に選ぶことができる。
溶融混練以外の方法としては、溶媒中で溶解又は微分散状態で混合する方法が挙げられる。この場合、温度は４０〜２００℃が好ましく、時間は１分〜５時間が好ましい。

本発明の樹脂組成物は、グラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分の他に、ポリオレフィンを含有してもよい。ポリオレフィンを含有することで、さらにエンジニアリングプラスチックの物性を改良することができる。
ポリオレフィンとしては、エチレン、プロピレン、ブテンの単独重合体、または、炭素数２〜１０のα−オレフィンから選択される一種以上をコモノマーとするエチレン、プロピレン、ブテン系共重合体等が挙げられる。
より具体的には、以下のものが挙げられる。
ポリエチレン：高密度ポリエチレン、高圧法低密度ポリエチレン
エチレン／α−オレフィン共重合体：エチレン／プロピレン共重合体、エチレン／ブテン共重合体、エチレン／へキセン共重合体、エチレン／オクテン共重合体などの直鎖状低密度ポリエチレン（Ｌ−ＬＤＰＥ）
エチレン／プロピレン／ジエン共重合体などのポリオレフィン系ゴム（ＥＰＤＭ）
ポリプロピレン：アタクチックポリプロピレン、アイソタクチックポリプロピレン、シンジオタクチックポリプロピレン、ブロックポリプロピレン
プロピレン共重合体：エチレン、ブテン、へキセン、オクテンなどを共重合成分とした共重合ポリプロピレン
エチレン／極性モノマー共重合体：エチレン／酢酸ビニル共重合体及びそのケン化物、エチレン／アクリル酸共重合体、エチレン／メチルメタアクリレート共重合体、エチレン／グリシジルメタクリレート共重合体など
ポリブテン：アイソタクチックポリブテン、メソペンタッド分率〔ｍｍｍｍ〕が３０〜９０モル％の低〜中アイソタクチックポリブテンなど
炭素数１６〜２８のα−オレフィンから得られる高級ポリα−オレフィン

上記ポリオレフィンの中で、好ましくは重量平均分子量が、１００００〜５０００００であるポリプロピレン系樹脂、より好ましくは低〜高結晶性ポリプロピレン、特にプロピレン連鎖の立体規則性（メソペンタッド分率〔ｍｍｍｍ〕）が４０〜９９モル％である、低〜高アイソタクチック性ポリプロピレンが好ましい。具体的にはホモポリプロピレン、エチレン２０重量％以下を含むランダムポリプロピレン、ブロックポリプロピレンが挙げられる。

ポリオレフィンを含有する樹脂組成物を製造する際の配合量は、通常、エンジニアリングプラスチック１００質量部に対して、ポリオレフィン２〜５０質量部、グラフト共重合体０．００５〜２０質量部であり、好ましくは、エンジニアリングプラスチック１００質量部に対して、ポリオレフィン５〜４５質量部、グラフト共重合体０．０１〜１５重量部であり、より好ましくは、エンジニアリングプラスチック１００質量部に対して、ポリオレフィン１０〜４０質量部、グラフト共重合体０．１〜１５質量部であり、最も好ましくは、エンジニアリングプラスチック１００質量部に対して、ポリオレフィン１５〜３５質量部、グラフト共重合体０．５〜１０質量部である。
ポリオレフィンが上記範囲内であれば、エンジニアリングプラスチックの耐熱性等の利点を損なうことなしに、物性を改良することができる。また、グラフト共重合体が上記範囲内であれば、エンジニアリングプラスチックやポリオレフィンの分散性が向上し、分散粒子径の増大や、組成物物性（剛性や伸び等）、ガスバリアー性等の機能の低下を避けることができる。

ポリオレフィンを含む上記組成物の製造方法としては、グラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分をマスターバッチとして用い、ポリオレフィンと溶融混練する方法、グラフト共重合体とポリオレフィンの組成物をマスターバッチとして用い、エンジニアリングプラスチックと溶融混練する方法、グラフト共重合体とポリオレフィン及びエンジニアリングプラスチックをドライブレンドして溶融混練する方法等が挙げられる。

ポリオレフィンを含む上記組成物の製造条件としては、下記の条件が挙げられる。
溶融方法はバッチ式、押出混練機による連続式が挙げられ、温度は耐熱性の高いエンジニアリングプラスチックのガラス転移温度または融点以上の温度を使用することができる。混練時間はグラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックの末端等との反応を伴う場合は長く設定することが好ましい。これらの溶融方法、温度、混練時間は具体的には、上記のグラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂組成物の製造方法として記載した条件を挙げることができる。
ポリオレフィンを含む上記組成物の製造においては、製品の安定性を損なわない範囲で反応を促進するために、触媒を使用することができる。触媒としてはエステル化、エステル交換、エポキシ化、ウレタン化などの公知の触媒を使用できる。

本発明の樹脂組成物は、目的に応じて添加剤を配合することができ、例えば、フィラー、繊維、核剤、酸化防止剤、塩酸吸収剤、耐熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤、難燃剤、顔料、染料、分散剤、銅害防止剤、中和剤、発泡剤、可塑剤、気泡防止剤、架橋剤、過酸化物などの流れ性改良剤、ウェルド強度改良剤などが挙げられる。

本発明の樹脂組成物は、射出成形法、押出成形法（フィルム、シート、繊維などに成形する方法）、中空成形法、真空成形法、圧空成形法、発泡成形法などの各種成形法により目的とする各種用途の成形品の製造に供することができる。

本発明の樹脂組成物を使用した成形体の例としては、ドアミラーステー、ドアトリム、ホイルキャップ、ルーフレールなどの外装部材、コンソールボックス、ドア内装材、ルーフ材、床張り材などの内装部材などの自動車内外装部品、インテークマニホールド、コネクター類などの自動車関連部材、パソコンなどの筐体、コネクター類、液晶パネル基材などの家電・ＯＡ機器関連部品、歯車、プーリー、ロッドなどの機械部品、ビン、トレーなどの容器、ラミネートフィルム、延伸フィルム、蒸着フィルムなどのフィルム、シートなどが挙げられる。

次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。

製造例１［反応性ポリプロピレンの製造］
（１）金属錯体の合成
以下のようにして、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−（インデニル）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライドを合成した。
窒素気流下、２００ミリリットルのシュレンク瓶にエーテル５０ミリリットルと（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビスインデン３．５ｇ（１０．２ｍｍｏｌ）を加え、ここに−７８℃でｎ−ブチルリチウム（ｎ−ＢｕＬｉ）のヘキサン溶液（１．６０モル／リットル、１２．８ミリリットル）を滴下した。室温で８時間攪拌した後溶媒を留去し、得られた固体を減圧乾燥することにより白色固体５．０ｇを得た。この固体をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）５０ミリリットルに溶解させ、ここへヨードメチルトリメチルシラン１．４ミリリットルを室温で滴下した。水１０ミリリットルで加水分解し、有機相をエーテル５０ミリリットルで抽出したのち、有機相を乾燥し溶媒を留去した。ここへエーテル５０ミリリットルを加え、−７８℃でｎ−ＢｕＬｉのヘキサン溶液（１．６０モル／リットル、１２．４ミリリットル）を滴下したのち、室温に上げ３時間攪拌後、エーテルを留去した。得られた固体をヘキサン３０ミリリットルで洗浄した後減圧乾燥した。この白色固体５．１１ｇをトルエン５０ミリリットルに懸濁させ、別のシュレンク瓶中でトルエン１０ミリリットルに懸濁した四塩化ジルコニウム２．０ｇ（８．６０ｍｍｏｌ）を添加した。室温で１２時間攪拌後溶媒を留去し、残渣をヘキサン５０ミリリットルで洗浄した後、残渣をジクロロメタン３０ミリリットルから再結晶化させることにより黄色微結晶１．２ｇを得た（収率２５％）。
（２）プロピレンの重合
加熱乾燥した内容積１０Ｌのステンレス鋼製オートクレーブに、乾燥ヘプタン５Ｌ、トリイソブチルアルミニウム２．８ｍｍｏｌのヘプタン溶液２．８ｍｌ、メチルアニリニウムテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート３０μｍｏｌのヘプタンスラリー３ｍｌを加え、５０℃に制御しながら１０分間攪拌した。
更に、上記（１）で調製した遷移金属化合物錯体の（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−（インデニル）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライドの３．８μｍｏｌのヘプタンスラリー６ｍｌを投入した。
更に水素を投入後、攪拌しながら温度を６０℃に昇温し、分圧で０．４９ＭＰａまでプロピレンガスを導入した。
重合反応中、圧力が一定になるように調圧器によりプロピレンガスを供給して１００分間重合し、その後冷却し、未反応プロピレンを脱圧により除去し内容物を取り出した。
内容物を風乾後、更に８０℃で減圧乾燥を８時間行なうことによってポリプロピレン１１００ｇを得た。重合評価結果を第１表に示す。

製造例２［反応性ポリプロピレンの製造２］
（１）金属錯体の合成
以下のようにして（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライドを合成した。
シュレンク瓶に（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（インデン）のリチウム塩３．０ｇ（６．９７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（テトラヒドロフラン）５０ｍｌに溶解し−７８℃に冷却した。ヨードメチルトリメチルシラン２．１ｍｌ（１４．２ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下し室温で１２時間撹拌した。
溶媒を留去し、エーテル５０ｍｌを加えて飽和塩化アンモニウム溶液で洗浄した。分液後、有機相を乾燥し溶媒を除去して（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン)−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデン）３．０４ｇ（５．８８ｍｍｏｌ）を得た（収率８４％）。
次に、窒素気流下においてシュレンク瓶に上記で得られた（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン)−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデン)３．０４ｇ（５．８８ｍｍｏｌ）とエーテル５０ｍｌを入れた。−７８℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬｉのヘキサン溶液（１．５４Ｍ、７．６ｍｌ（１．７ｍｍｏｌ））を滴下した。室温に上げ１２時間撹拌後、エーテルを留去した。得られた固体をヘキサン４０ｍｌで洗浄することによりリチウム塩をエーテル付加体として３．０６ｇ（５．０７ｍｍｏｌ）を得た（収率７３％）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、ＴＨＦ−ｄ⁸）による測定の結果は、以下のとおりである。
δ：0.04(s,18H，トリメチルシリル）,0.48(s,12H，ジメチルシリレン）,1.10(t,6H，メチル）,2.59(s,4H，メチレン）,3.38(q,4H，メチレン）,6.2-7.7(m,8H,Ar-H)
窒素気流下で、上記で得られたリチウム塩をトルエン５０ｍｌに溶解した。−７８℃に冷却し、ここへ予め−７８℃に冷却した四塩化ジルコニウム１．２ｇ（５．１ｍｍｏｌ）のトルエン（２０ｍｌ）懸濁液を滴下した。滴下後、室温で６時間撹拌した。その反応溶液の溶媒を留去した。得られた残渣をジクロロメタンにより再結晶化することにより、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル)ジルコニウムジクロライド０．９ｇ（１．３３ｍｍｏｌ）を得た（収率２６％)。
¹Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃）による測定の結果は、以下のとおりである。
δ：0.0(s,18H,トリメチルシリル）,1.02,1.12(s,12H，ジメチルシリレン）,2.51(dd,4H，メチレン）,7.1-7.6(m,8H,Ar-H)
（２）プロピレンの重合
加熱乾燥した内容積１．４Ｌのステンレス鋼製オートクレーブに、乾燥ヘプタン０．４Ｌ、トリイソブチルアルミニウム０．５ｍｍｏｌのヘプタン溶液１ｍｌ、メチルアニリニウムテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート１．５μｍｏｌのヘプタンスラリー２ｍｌを加え、５０℃に制御しながら１０分間、攪拌した。ここに、上記（１）で調製した（１，２'−ジメチルシリレン）（２，１'−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライド０．５μｍｏｌのヘプタンスラリー２ｍｌを投入した。
次に、攪拌しながら温度を７０℃に昇温し、全圧で０．８ＭＰａまでプロピレンガスを導入した。重合反応中、圧力が一定になるように調圧器によりプロピレンガスを供給して１２０分間重合し、その後冷却し、未反応プロピレンを脱圧により除去し、内容物を取り出した。内容物を風乾した後、更に８０℃で減圧乾燥を８時間行うことによってポリプロピレン１２３ｇを得た。重合評価結果を第１表に示す。

製造例３［グラフト共重合体の製造１］
５リットル攪拌装置付きガラス製セパラブルフラスコに製造例１の反応性ポリプロピレン５００ｇ、脱水トルエン１０００ｍｌを入れ、７０℃で攪拌しながら溶解した。これに、アクリル酸メチルを２１９ｇ、グリシジルメタクリレートを３２２ｇ徐々に投入した。アゾビスイソブチロニトリル２ｇを溶解したトルエン８０ｍｌを２時間わたり添加した。添加後、同温度で４時間反応させた。
反応終了後、テフロン（登録商標）コート製バットに反応混合物を全量移し、風乾後、８５℃の減圧オーブンで１０時間、未反応モノマー及びトルエンを除去した。その結果、１０２９ｇのグラフト共重合体を得た。
アセトンを用いて抽出した結果、グラフト率は７０．８％であった。また、末端ビニリデン基の消失率は５４．２％であり、グラフト共重合反応は進行していることが示された。

製造例４［グラフト共重合体の製造２］
５リットル攪拌装置付きガラス製セパラブルフラスコに製造例１の反応性ポリプロピレン５００ｇ、脱水トルエン８３０ｍｌを入れ、７０℃で攪拌しながら溶解した。これに、アクリル酸メチルを７６ｇ、グリシジルメタクリレートを１１２ｇ徐々に投入した。アゾビスイソブチロニトリル０．８４ｇを溶解したトルエン３５ｍｌを２時間わたり添加した。添加後、同温度で４時間反応させた。
反応終了後、テフロン（登録商標）コート製バットに反応混合物を全量移し、風乾後、８５℃の減圧オーブンで１０時間、未反応モノマー及びトルエンを除去した。その結果、６８７ｇのグラフト共重合体を得た。
アセトンを用いて抽出した結果、グラフト率は１９．５％であった。また、末端ビニリデン基の消失率は４３．１％であり、グラフト共重合反応は進行していることが示された。

製造例５［グラフト共重合体の製造３］
５００ｍｌ攪拌装置付きガラス製セパラブルフラスコに製造例２の反応性ポリプロピレン５０ｇ、脱水トルエン１００ｍｌを入れ、１１０℃で攪拌しながら溶解した。これに、２−アクロイルオキシエチルイソシアナートを２．８９ｇ、アクリル酸メチル１０ｇを投入した。開始剤としてパーロイルＴＣＰ２５０ｍｇを投入し、１１０℃で２時間反応した。
反応終了後、アセトン溶媒で抽出を実施し、その不溶部の２−アクロイルオキシエチルイソシアナート含有量をＮＭＲにより測定したところ、０．１ｗｔ％であった。

製造例６［グラフト共重合体の製造４］
製造例３において、トルエンを１０００ｍｌにすること以外は製造例３と同様にしてグラフト共重合体を製造した。その結果、１０２８ｇのグラフト共重合体を得た。

製造例３〜６で製造されたグラフト共重合体は以下のとおりである。なお、単量体単位含量はＮＭＲ法および、赤外線吸収スペクトル法により、カルボニル基に基づく吸収から算出したものであり、グラフト共重合体に対する値を示す。

第２表の記載の収量は全ポリマー収量を示す。その他はアセトン不溶部のポリマー構造を示す。

製造例７［反応性ポリプロピレンの製造３］
加熱乾燥した内容積１０Ｌのステンレス鋼製オートクレーブに、乾燥ヘプタン４Ｌ、トリイソブチルアルミニウム０．５ｍｍｏｌのヘプタン溶液１０ｍｌ、メチルアニリニウムテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート１．５μｍｏｌのヘプタンスラリー２０ｍｌを加え、５０℃に制御しながら１０分間攪拌した。ここに、製造例２（１）で調製した（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライドの０．５μｍｏｌのヘプタンスラリー２０ｍｌを投入した。
次に、攪拌しながら温度を７０℃に昇温し、全圧で０．８ＭＰａまでプロピレンガスを導入した。重合反応中、圧力が一定になるように調圧器によりプロピレンガスを供給して１００分間重合し、その後冷却し、未反応プロピレンを脱圧により除去し、内容物を取り出した。内容物を風乾した後、更に８０℃で減圧乾燥を８時間行なうことによってポリプロピレン１２５０ｇを得た。重合評価結果は以下の通りであった。
Ｍｗ＝１１６０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８９、［ｍｍｍｍ］＝４２．８モル％、Ｔｍ＝７１℃、末端ビニリデン０．９４個／分子

製造例８［グラフト共重合体の製造５］
５リットル攪拌装置付きガラス製セパラブルフラスコに製造例７の反応性ポリプロピレン１０００ｇ、脱水トルエン２０００ｍｌを入れ、７０℃で攪拌しながら溶解した。これに、アクリル酸ノルマルブチルを１２２．５ｇ、グリシジルメタクリレートを３５ｇ徐々に投入した。反応温度を８０℃に制御しながらアゾビスイソブチロニトリル３ｇを溶解したトルエン１００ｍｌを２０分にわたり添加した。添加後、同温度で２時間反応させた。その後、更にアゾビスイソブチロニトリル３ｇを溶解したトルエン１００ｍｌを投入し、４時間反応を継続した。
反応終了後、テフロン（登録商標）コート製バットに反応混合物を全量移し、風乾後、８５℃の減圧オーブンで１０時間、未反応モノマー及びトルエンを除去した。その結果、１１５７ｇのグラフト共重合体を得た。
アセトンを用いて抽出した結果、グラフト率は１８．２％であった。また、末端ビニリデン基の消失率は４０％であり、グラフト共重合反応は進行していることが示された。

実施例１
東洋精機製ラボプラストミル（内容量５０ｍｌ）に製造例３のグラフト共重合体２０質量部、末端水酸基を有するポリカーボネート［ビスフェノールＡとホスゲンを原料として製造されたもの、粘度平均分子量（Ｍｖ）＝１６５００，ＯＨ基量０．９２個／分子］８０質量部、全量５５ｇを投入し、２５０℃、１００回転／分で１０分間混練した。混練終了後、得られた組成物をルテニウム染色し、透過型電子顕微鏡観察を実施した。その結果、全ドメインに占める２０〜１００ｎｍのドメインの割合がほぼ６０％、残りは１〜４μｍの範囲にドメイン粒子径が分布していた。

実施例２
製造例５のグラフト共重合体を用い、混練時間を５分とすること以外は実施例１と同様に混練を行った。同様にして形態観察をしたところ平均粒子径は２．４μｍであった。

比較例１
実施例１において、グラフト共重合体の代わりに、ポリプロピレン（プライムポリマー（株）製Ｊ−５０８５Ｈ）を用いること以外は同様にして混練を行い、樹脂組成物を得た。形態観察をしたところ平均粒子径は１０μｍであった。

実施例３
第３表に記載の配合量（単位：質量部）で、混練押出機ラボテックス（日本製鋼所製 ＴＥＸ−４４ Ｌ／Ｄ＝５２）を用い、バレル温度：２３０℃、吐出樹脂温度：２５０℃、回転数：２５０ｒｐｍで溶融混練し、ストランドカットして樹脂組成物を製造した。射出物性を評価し第４表に示す。
なお、物性の測定は以下の方法に準じて行った。
引張物性：ＪＩＳＫ１６１：９４
曲げ物性：ＪＩＳＫ７１７１：９４
熱変形温度：ＪＩＳＫ１９１−１

実施例４、比較例２
第３表に記載の配合量に変えた他は実施例３と同様に溶融混練し、樹脂組成物を製造した。射出物性を評価し第４表に示す。

実施例３，４および比較例２で使用した化合物は以下のとおりである。
ランダム共重合体：エチレン／グリシジルメタクリレートランダム共重合体（高圧ラジカル法により製造した平均分子量２９００００、グリシジルメタクリレート含有量１２質量％）
ポリプロピレン：プライムポリマー（株）製Ｊ−５０８５Ｈ
ポリカーボネート：末端水酸基含有ポリカーボネート（粘度平均分子量（Ｍｖ＝１６５００，水酸基量０．９２個／分子）

実施例５
ポリカーボネート［末端水酸基含有ポリカーボネート（粘度平均分子量（Ｍｖ＝１６５００，水酸基量０．９２個／分子）］８０質量部、製造例６のグラフト共重合体５質量部、ポリプロピレンとしてＪ７８５Ｈ［プライムポリマー（株）製、ブロックポリプロピレン、ＭＦＲ＝１３］１５質量部を、バレル温度：２３０℃、吐出樹脂温度：２５０℃、滞留時間：２０分、吐出量：５ｋｇ／時間、回転数：２５０ｒｐｍで溶融混練し、ストランドカットして樹脂組成物を製造した。
この樹脂組成物を８０質量部、タルク［浅田製粉（株）製 品名：ＨＴ１３Ｂ］２０質量部を溶融押出機［東芝機械（株）製 ＴＥＭ−３５Ｂ］を用い、バレル温度：２５０℃、吐出量：３０ｋｇ／時間、回転数：３００ｒｐｍで溶融混練し、ストランドカットして樹脂組成物を製造した。射出物性を評価し第５表に示す。

比較例３
実施例５において、製造例６のグラフト共重合体をランダム共重合体［エチレン／グリシジルメタクリレートランダム共重合体（高圧ラジカル法により製造した平均分子量２９００００、グリシジルメタクリレート含有量１２質量％）］に変え、同様にしてタルク入り樹脂組成物を製造した。結果を第５表に示す。

比較例４
ポリカーボネート［末端水酸基含有ポリカーボネート（粘度平均分子量（Ｍｖ＝１６５００，水酸基量０．９２個／分子）］６４質量部、ポリプロピレンとしてＪ７８５Ｈ［プライムポリマー（株）製、ブロックポリプロピレン、ＭＦＲ＝１３］１６質量部、タルク［浅田製粉（株）製 品名：ＨＴ１３Ｂ］２０質量部を実施例５に示した溶融押出機を用い、同条件で溶融混練し、ストランドカットして樹脂組成物を製造した。射出物性を評価し第５表に示す。

物性は実施例３と同様にして測定した。
剥離評価方法は以下のとおりである。
引張試験片を室温下、１８０°折り曲げを５回実施し、折り曲げ部位の剥離、亀裂を目視で観察した。
剥離、亀裂の発生した場合：×
剥離、亀裂が観察されない場合：○

実施例６、比較例５
第６表に記載の配合量（単位：質量部）で、二軸混練押出機を用い、バレル温度：２５０℃、吐出樹脂温度：２６０℃、回転数：２５０ｒｐｍで溶融混練し、ストランドカットして樹脂組成物を製造した。射出物性を評価し第７表に示す。
なお、物性の測定は以下の方法によって行った。
引張物性：ＪＩＳＫ１６１：９４
曲げ物性：ＪＩＳＫ７１７１：９４
熱変形温度：ＪＩＳＫ１９１−１
スパイラルフロー：次に示した成形機及び成形条件で得られたスパイラルの長さを測定した（単位：ｃｍ）。
成形機（日精樹脂工業株式会社製ＮＥＸ５００）
成形条件（バレル設定温度；２８０℃、金型温度；８０℃、射出圧；１２５ＭＰａ、金型；１０ｍｍ×２ｍｍｔスパイラル金型）

ランダム共重合体：エチレン／グリシジルメタクリレートランダム共重合体（高圧ラジカル法により製造した平均分子量２９００００、グリシジルメタクリレート含有量１２質量％）
ポリプロピレン：プライムポリマー（株）製Ｊ７８５Ｈ
ポリカーボネート：末端水酸基含有ポリカーボネート（粘度平均分子量（Ｍｖ＝１６５００，水酸基量０．９２個／分子）

実施例７
東洋精機製ラボプラストミル（内容量５０ｍｌ）に製造例８のグラフト共重合体２０質量部、末端水酸基を有するポリカーボネート［ビスフェノールＡとホスゲンを原料として製造されたもの、粘度平均分子量（Ｍｖ）＝１６５００，ＯＨ基量０．９２個／分子］８０質量部、全量５５ｇを投入し、２５０℃、１００回転／分で１０分間混練した。混練終了後、得られた組成物をルテニウム染色し、透過型電子顕微鏡観察を実施した。観測された分散状態から平均分散粒子径を測定したところ、面平均粒子径が１．５μｍであり、粒径分布は単峰性であり、均一分散性が高かった。

実施例８、９、比較例６、７
第８表に記載の配合量（単位：質量部）で、実施例７と同一条件で溶融混練し、ポリエステル、ポリアミドとの複合材料を製造した。その際、付着性、延伸性、溶融状態を評価し結果を第９表に示した。また、この複合材料を用いて熱プレスシート（厚み１ｍｍ）を作成し、外観、剥離性を観察した。結果を第９表に示した。
評価基準を以下に示す。

付着性（プラストミルから溶融体を取り出す際のバレル、ローターへの付着の程度）
○：付着なし、又はわずかな付着
×：バレル、ローターに付着
表面状態（目視による溶融物表面の評価）
○：表面が滑らかで光沢あり。
△：表面の光沢性が低く、ムラが存在する。
×：表面に光沢がない。
延伸性（溶融体を引き伸ばした際の延伸性）
○：延伸過程で固化するまで破断しない。
△：固化する前に破断する。
×：延伸できない。
外観
○：光沢あり。
×：光沢が無く、表面が不均一
剥離性（シートを１８０°曲げた際のＲ部の目視観察）
○：亀裂の発生がない。
△：一部亀裂が発生する。

ポリプロピレン：プライムポリマー（株）製Ｊ７８５Ｈ
ポリエステル：ユニチカ（株）製「ＳＡ−１２６０」
ポリアミド（ナイロン６）：宇部興産（株）社製、１０３０Ｂ

本発明によれば、ポリオレフィン連鎖長が十分に長く、かつエンジニアリングプラスチックと相互作用する官能基を主鎖に有するグラフト共重合体と特定のエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂組成物を得ることができる。本発明の樹脂組成物は、エンジニアリングプラスチックおよびポリオレフィンの複合材等の材料開発に利用することができる。

Claims (13)

1. グラフト共重合体とエンジニアリングプラスチックを配合してなる樹脂成分を含む樹脂組成物であって、該グラフト共重合体が以下の（ａ）〜（ｅ）を満たすグラフト共重合体である樹脂組成物。
   （ａ）グラフト率が１〜１５０質量％
   （ｂ）ＧＰＣで測定した重量平均分子量が５００〜４０００００
   （ｃ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．５〜４
   （ｄ）主鎖が、エンジニアリングプラスチックと相互作用する官能基を有する単量体単位を１〜１００質量％含有する重合鎖
   （ｅ）側鎖が、炭素数３〜２８のα−オレフィンから選ばれる一種の単独重合鎖若しくは二種以上の共重合鎖、またはエチレン単位が５０質量％以下である、炭素数３〜２８のα−オレフィン単位およびエチレン単位からなる共重合鎖であり、かつメソペンタッド分率〔ｍｍｍｍ〕が３０〜８０モル％の重合鎖
2. グラフト共重合体が、以下の（Ａ）〜（Ｃ）を満たす反応性ポリオレフィンと、グラフト共重合体の主鎖を形成する単量体との共重合反応によって形成されたものである、請求項１に記載の樹脂組成物。
   （Ａ）一分子あたりの末端不飽和基量が０．５〜１．０個
   （Ｂ）メソペンタッド分率〔ｍｍｍｍ〕が３０〜８０モル％
   （Ｃ）炭素数３〜２８のα−オレフィンから選ばれる一種の単独重合体若しくは二種以上の共重合体、またはエチレンが５０質量％以下である、炭素数３〜２８のα−オレフィンから選ばれる一種以上の単量体とエチレンの共重合体
3. 反応性ポリオレフィンがメタロセン触媒によって製造されたものである、請求項２に記載の樹脂組成物。
4. メタロセン触媒が一般式（Ｉ）
   

   

   〔式中、Ｍは周期律表第３〜１０族の金属元素を示し、Ｅ¹及びＥ²はそれぞれシクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエニル基，インデニル基，置換インデニル基，ヘテロシクロペンタジエニル基，置換ヘテロシクロペンタジエニル基，アミド基，ホスフィン基，炭化水素基及びケイ素含有基の中から選ばれた配位子を示し、Ａ¹及びＡ²を介して架橋構造を形成している。Ｅ¹及びＥ²は互いに同一でも異なっていてもよく、また、Ｅ¹及びＥ²のうちの少なくとも一つは、シクロペンタジエニル基、置換シクロペンタジエニル基、インデニル基又は置換インデニル基である。Ｘはσ結合性の配位子を示し、Ｘが複数ある場合、複数のＸは同じでも異なっていてもよく、他のＸ，Ｅ¹，Ｅ²又はＹと架橋していてもよい。Ｙはルイス塩基を示し、Ｙが複数ある場合、複数のＹは同じでも異なっていてもよく、他のＹ，Ｅ¹，Ｅ²又はＸと架橋していてもよい。Ａ¹及びＡ²は二つの配位子を結合する二価の架橋基であって、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−Ｓｅ−、−ＮＲ¹−、−ＰＲ¹−、−Ｐ（Ｏ）Ｒ¹−、−ＢＲ¹−又は−ＡｌＲ¹−を示し、Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基又は炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基を示し、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。ｑは１〜５の整数で〔（Ｍの原子価）−２〕を示し、ｒは０〜３の整数を示す。〕
   で表される二架橋錯体である、請求項３に記載の樹脂組成物。
5. エンジニアリングプラスチックと相互作用する官能基が、エステル基、カルボキシル基、カルボン酸無水物残基、芳香環含有基、水酸基、エポキシ基、アミノ基、イソシアナート基から選ばれる官能基である、請求項１に記載の樹脂組成物。
6. グラフト共重合体の主鎖を形成する単量体が、式（ＩＩＩ）
   

   

   〔式中、Ｒ¹は、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１〜１２の炭化水素基を示し、Ｒ²は、（ＩＶ）式〜（ＶＩＩ）式
   

   

   で表されるいずれかの基である。また、Ｒ³は水素原子、炭素数１〜１２の炭化水素基、または酸素原子、窒素原子および珪素原子のいずれかの原子を含む炭素数１〜１２の基を示し、Ｒ⁴は水素原子または炭素数１〜１２の炭化水素基を示し、Ｒ⁵は水素原子、炭素数１〜１２の炭化水素基、またはエポキシ基、アミノ基、イソシアナート基、水酸基およびカルボキシル基のいずれかの基を有する炭素数１〜１２の基を示す。ｎは０〜５の整数である。〕
   で表される単量体の一種または二種以上である、請求項１に記載の樹脂組成物。
7. グラフト共重合体の主鎖を形成する単量体が、［Ｉ］アクリル酸及びその誘導体、［ＩＩ］メタアクリル酸類及びその誘導体、［ＩＩＩ］ビニルエステル及びその誘導体またはアルコキシビニルシラン、［ＩＶ］スチレン及びその誘導体から選ばれる一種または二種以上である、請求項１に記載の樹脂組成物。
8. グラフト共重合体の主鎖を形成する単量体が、下記Ａ群から選択される一種以上と下記Ｂ群から選択される一種以上である、請求項１に記載の樹脂組成物。
   Ａ群；［Ｖ］無水マレイン酸及びその置換体、［ＶＩ］マレイン酸及びそのエステル、［ＶＩＩ］マレイミド及びその置換体
   Ｂ群；［Ｉ］アクリル酸及びその誘導体、［ＩＩ］メタアクリル酸類及びその誘導体、［ＩＩＩ］ビニルエステル及びその誘導体またはアルコキシビニルシラン、［ＩＶ］スチレン及びその誘導体、［ＶＩＩＩ］α−オレフィン
9. エンジニアリングプラスチックが、ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリフェニレンエーテル、シンジオタクチックポリスチレン、およびポリフェニレンスルフィドから選ばれるものである、請求項１に記載の樹脂組成物。
10. 配合量が、グラフト共重合体１質量部に対して、エンジニアリングプラスチックが１〜１０００質量部である、請求項１に記載の樹脂組成物。
11. さらにポリオレフィンを含む樹脂組成物であって、配合量が、エンジニアリングプラスチック１００質量部に対して、ポリオレフィン２〜５０質量部、グラフト共重合体０．００５〜２０質量部である請求項１に記載の樹脂組成物。
12. 請求項１に記載の樹脂組成物を含むマスターバッチ。
13. 請求項１に記載の樹脂組成物を用いてなる成形体。