JPWO2006112466A1 - 鏡面基板の異物検査方法 - Google Patents
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Abstract
Description
10 レンズ
11 LED照明装置
12 鏡筒
13 鏡面
14 面取り部
15 異物
16 乱反射板
101 検査インデックス
102 磁気ディスク
103 検査ステージ
104 回転駆動装置
105 レーザー光源
106 受光カメラ
107 寸法測定器照射部
108 寸法測定器受光部
109 コンピュータ
C1 外周輪郭円
C2 内周輪郭円
DL1〜DL8 外周標本検査方向
DL9〜DL16 内周標本検査方向
E1 外周輪郭
E2 内周輪郭
L1,L2 レーザー光
L3 照明光
L4 正反射光
L5 乱反射光
O1 中心
PA1〜PA8 外周輪郭標本点
PA9〜PA16 内周輪郭標本点
Z1,Z2,Z3 異物画像
Z4,Z5 面取り部反射画像
Z6,Z7 乱反射板画像
図1から図11は、本発明の実施の形態1にかかる鏡面基板の異物検査方法を説明するための図である。図1は、実施の形態1にかかる鏡面基板の異物検査方法のフローチャートである。図2は、ステップST1に用いる検査装置の概要図である。図3は、照明光と反射光との関係を示すための磁気ディスクの断面斜視図である。図4は、画像データを示す図である。図5は、エッジ強調処理した画像データを示す図である。図6は、2値化処理した画像データを示す図である。図7は、外周輪郭標本点の検出方法を示す平面図である。図8は、内周輪郭標本点の検出方法を示す平面図である。図9は、マスク画像データを示す図である。図10は、マスク処理された画像データを示す図であり、図11は、異物の座標を示すマップ図である。
図12は、本発明の実施の形態2にかかる鏡面基板の異物検査方法を説明するための検査装置の概要図である。図13は、この検査装置によって得られる画像データを示す図である。
図1から図11は、本発明の実施の形態1にかかる鏡面基板の異物検査方法を説明するための図である。図1は、実施の形態1にかかる鏡面基板の異物検査方法のフローチャートである。図2は、ステップST1に用いる検査装置の概要図である。図3は、照明光と反射光との関係を示すための磁気ディスクの断面斜視図である。図4は、画像データを示す図である。図5は、エッジ強調処理した画像データを示す図である。図6は、2値化処理した画像データを示す図である。図7は、外周輪郭標本点の検出方法を示す平面図である。図8は、内周輪郭標本点の検出方法を示す平面図である。図9は、マスク画像データを示す図である。図10は、マスク処理された画像データを示す図であり、図11は、異物の座標を示すマップ図である。
図12は、本発明の実施の形態2にかかる鏡面基板の異物検査方法を説明するための検査装置の概要図である。図13は、この検査装置によって得られる画像データを示す図である。
10 レンズ
11 LED照明装置
12 鏡筒
13 鏡面
14 面取り部
15 異物
16 乱反射板
101 検査インデックス
102 磁気ディスク
103 検査ステージ
104 回転駆動装置
105 レーザー光源
106 受光カメラ
107 寸法測定器照射部
108 寸法測定器受光部
109 コンピュータ
C1 外周輪郭円
C2 内周輪郭円
DL1〜DL8 外周標本検査方向
DL9〜DL16 内周標本検査方向
E1 外周輪郭
E2 内周輪郭
L1,L2 レーザー光
L3 照明光
L4 正反射光
L5 乱反射光
O1 中心
PA1〜PA8 外周輪郭標本点
PA9〜PA16 内周輪郭標本点
Z1,Z2,Z3 異物画像
Z4,Z5 面取り部反射画像
Z6,Z7 乱反射板画像
Claims (5)
- 被検査基板に照射光を照射し、前記被検査基板から乱反射された乱反射光に基づき画像データを作成し、前記被検査基板の検査領域の輪郭が写し込まれた前記画像データから、前記検査領域の輪郭を示す複数箇所の輪郭標本点の座標を検出し、前記複数の輪郭標本点の座標から前記検査領域を推定し、前記画像データにおいて前記検査領域以外をマスクしたマスク画像データを作成した後、前記マスク画像データを用いて、前記画像データの異物検出処理を行うことを特徴とする鏡面基板の異物検査方法。
- 前記被検査基板の検査領域の輪郭が写し込まれた前記画像データが2値化処理された2値化画像であることを特徴とする請求項1に記載の鏡面基板の異物検査方法。
- 前記複数の輪郭標本点の座標と前記被検査基板における前記検査領域の輪郭線との距離の二乗和が最小となるように、前記輪郭線を推定することを特徴とする請求項1または請求項2のいずれか1項に記載の鏡面基板の異物検査方法。
- 前記被検査基板の近傍に光を乱反射する反射部材、または自発光する発光部材を設け、
前記被検査基板の前記検査領域より広い範囲が写し込まれた前記画像データにおいて、前記被検査基板の背景に前記反射部材または前記発光部材の像が写るようにした前記画像データを作成することを特徴とする請求項1または請求項2のいずれか1項に記載の鏡面基板の異物検査方法。 - 前記被検査基板からの乱反射光からなる画像データを暗部データ値と明部データ値の2値からなる2値化画像に変換するステップと、
前記2値化画像において設定された中心から放射状に延びる傾きの異なる複数の位置の直線上の画像データ列を抽出し、それぞれの前記直線上における前記画像データ列に対して、前記被検査基板の内周部から外周部、または外周部から内周部のいずれかの方向に向かって順次データを検査し、データ値が変化する前記データの座標を、複数の前記直線上における外周輪郭標本点座標としてそれぞれ求めるステップと、
複数箇所における前記外周輪郭標本点座標から前記被検査基板の検査領域の外周側輪郭を表す外周輪郭円の中心と半径を求めるステップと、
前記2値化画像において設定された中心から放射状に延びるさらに傾きの異なる複数の位置の直線上の画像データ列を抽出し、それぞれの前記直線上における前記画像データ列に対して、前記被検査基板の外周部から内周部、または内周部から外周部のいずれかの方向に向かって順次データを検査し、データ値が変化する前記データの座標を、複数の前記直線上における内周輪郭標本点座標としてそれぞれ求めるステップと、
複数箇所における前記内周輪郭標本点座標から前記被検査基板の前記検査領域の内周側輪郭を表す内周輪郭円の中心と半径を求めるステップと、
前記2値化画像に対して、前記外周輪郭円の外側と前記内周輪郭円の内側の画像データ値を暗部データ値に変更したマスク画像を生成するステップと、
前記2値化画像と前記マスク画像から、明部データ値を持つ画像データを検出するステップとを有することを特徴とする鏡面基板の異物検査方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005120569 | 2005-04-19 | ||
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