JPWO2004057381A1 - 透明導電性積層体、タッチパネル及びタッチパネル付液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明の透明導電性積層体は、光弾性定数が７０×１０−１２Ｐａ−１以下である高分子からなるフィルムと、その一方の面に形成したヘーズ値が０．２〜１．４％の範囲である光散乱層と、他方の面に形成した透明導電層とを含み、かつ全体としてλ／４の位相差を与える積層体である。かかる積層体を用いることにより、反射光を抑え、変色も見られなくしたがって、視認性に優れ、屋外でも使用しやすく高い信頼性を有するタッチパネル及びそれを用いた液晶表示装置を提供することができる。

Description

本発明は、透明導電性積層体に関する。特にタッチパネル及びタッチパネル付液晶表示装置に好適に用いることができる透明導電性積層体に関する。

近年、液晶を用いて情報を表示する表示装置と情報入力用のタッチパネル（タッチスクリーン、透明メンブレンスイッチとも称される）などの入力装置とを搭載した情報機器が広く使用され始めている。タッチパネルとしては、抵抗膜方式のものが多い。この抵抗膜方式のタッチパネルは、透明導電層が形成された二枚の透明電極基板（可動電極基板と固定電極基板）をおよそ１０〜１００μｍの間隔で相対させることにより構成されている。その際に、外力のない状態で可動電極基板と固定電極基板との間の絶縁性を保持するために、通常固定電極基板の電極面上にドットスペーサを設ける。これにより、可動電極基板の外側から、指またはペンで押圧すると、押圧部においてのみ可動電極基板と固定電極基板の電極面同士が接触してスイッチとして動作し、例えば、液晶表示装置画面上のメニューの選択あるいは手書き図形や手書き文字の入力等を行なうことができる。
タッチパネル付きの液晶表示装置を搭載した上記情報機器の中で、例えばビデオカメラ、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）、スマートフォン等は携帯用としてしばしば用いられる。これらの携帯型情報機器のタッチパネル付き液晶表示装置は、通常屋外で使用されるために種々の方向から来る光源の存在下で見られることになる。そのため、画像を認識させる光（例えば液晶表示部から来る光）の他にノイズ光（タッチパネル部からの反射光）が同時に眼に入り、表示が見にくい。
特開平０５−１２７８２２号公報には、タッチパネル部に１／４波長位相差フィルムと偏光板とノングレア処理された透明フィルムとを順次に積層することにより反射光を低下させるタッチパネルが記載されている。このタッチパネルは、タッチパネル部の反射光を低下させる効果があるが、液晶表示部から出た光が１／４波長の位相差フィルムの作用により、着色する問題がある。
ＷＯ９９／６６３９１号公報には、位相差が９０〜２００ｎｍで光弾性定数が５×１０^{− １３}ｃｍ^２／ｄｙｎｅ〜６５×１０^−１３ｃｍ^２／ｄｙｎｅ（５〜６５×１０^−１２Ｐａ^−１）の位相差フィルムと一対の透明導電基板を用いたタッチパネルが開示されている。更に位相差フィルムに透明導電層を設けたものをタッチパネルの透明導電基板として使用できることが記載されている。
しかしながら、位相差フィルムの透明導電層を設けた面と反対側の面に保護層がないと、透明導電層を設ける工程やタッチパネルに加工する工程で位相差フィルムに傷が発生したりする実際の製造上に問題や、位相差フィルムを偏光板と貼り合わせる際の接着性における信頼性が十分でない場合があることが分かった。そこで、位相差フィルムの偏光板と貼り合せる面に、偏光板との接着性を向上させるための機能と種々の加工工程での傷を防止するための機能を兼ね備えた層を設けたところ、この層の膜厚斑による縞状の赤緑色の斑が目立ち液晶表示装置の視認性が低下する問題が生じることが明らかになった。
他方、特開平５−５０５６１号公報には、フィルムの一方の面は中心線平均粗さ（Ｒａ）０．０５〜５．０μｍの範囲の粗面化された面であり、他方の面には透明導電層が形成された透明導電性フィルム（透明導電性積層体）および該透明導電性フィルム（透明導電性積層体）を下部シート（固定電極基板）に使用して構成したタッチパネルが開示されている。タッチパネルを補強するために下部シートと接するように支持板を設けた時に下部シートと支持板間に光干渉による色斑が発生する問題があったが、下部シートに粗面化面を形成することにより光干渉による色斑を防止している。粗面化面を設ける方法として無機微粒子または有機微粒子を含有する層を設ける方法が挙げられている。この方法は縞状の赤緑色の斑を解消する方法としては効果がある。しかしながら粗面化面の中心線平均粗さが大き過ぎるためヘーズが高くなり液晶ディスプレイの視認性が損なわれる問題がある。

本発明の主たる目的は、λ／４の位相差を与える新規な透明導電性積層体を提供することにある。
本発明の他の目的は、特にタッチパネルとして用いたときに見やすく、視認性が向上した上記積層体を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、上記積層体を用いたタッチパネル及びタッチパネル付き液晶表示装置を提供することにある。
本発明の他の目的および利点は以下の説明から明らかになろう。
本発明によれば、本発明の目的および利点は、第１に、光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である高分子からなるフィルム（高分子フィルムＡ）と、その一方の面に形成したヘーズ値が０．２〜１．４％の範囲である光散乱層と、他方の面に形成した透明導電層とを含み、かつ全体としてλ／４の位相差を与える透明導電性積層体によって達成される。
また本発明の目的および利点は、第２に、上記積層体を特定の位置に配置したタッチパネル及びタッチパネル付き液晶表示装置によって達成される。

図１は、実施例１（及び比較例１）で作製したタッチパネルの概略図である。
図２は、実施例２で作製したタッチパネルの概略図である。
図３は、実施例３（及び比較例２）で作製したタッチパネル付き液晶表示装置の概略図である。
図４は、実施例４で作製したタッチパネル付き液晶表示装置の概略図である。

符号の説明

１：アンチグレアハードコート層
２：光散乱層（又は透明樹脂層）
３：位相差フィルム
４：硬化樹脂層
５：透明導電層
６：ドットスペーサ
７：透明導電層
８：ガラス板
９：高屈折率層
１０：低屈折率層
１１：位相差フィルム
１２：高分子フィルム
１３：偏光板
１４−１：透明導電性積層体
１４−２：透明導電性積層体
１５：透明導電性積層体
１６：透明導電性積層体
１７：透明導電性積層体
１８：位相差フィルム
１９：偏光板
２０：位相差フィルム
２１：液晶セル部
２２：偏光板
本発明の好ましい実施形態
本発明の透明導電性積層体は、高分子からなるフィルム（以下、高分子フィルムＡという）と、その一方の面に光散乱層を有し、他方の面に透明導電層を有して構成される。そして、該積層体全体としてλ／４の位相差を与えるものである。
前記高分子フィルムＡは、１層のフィルムからなっていてもよいし、２層以上のフィルムの積層体から構成されていてもよい。
１層のフィルムからなる場合、かかる高分子フィルムＡとしては、それ１層でλ／４の位相差を与えるような機能を有するフィルム、つまりλ／４位相差フィルムが挙げられる。
２層以上のフィルムの積層体からなる場合の高分子フィルムＡとしては、例えば（ｉ）光学等方性に優れた（例えばリターデーション（Δｎｄ）値が３０ｎｍ以下の）１層のフィルムの上に接して、１層のλ／４の位相差を与えるフィルムが設けられた積層フィルム、（ｉｉ）光学等方性に優れた（例えばリターデーション（Δｎｄ）値が３０ｎｍ以下の）１層のフィルムの上に接して、１層のλ／４の位相差を与えるフィルム及び１層のλ／２の位相差を与えるフィルムが設けられた積層フィルム、（ｉｉｉ）１層のλ／４の位相差を与えるフィルムと１層のλ／２の位相差を与えるフィルムとからなる積層位相差フィルム、が挙げられる。
かかるλ／４の位相差またはλ／２の位相差を与えるフィルムを得る製法としては、例えば、光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である高分子からなるフィルムを一軸延伸する（又は逐次または同時に二軸延伸する）ことにより、高分子フィルム自身にλ／４の位相差またはλ／２の位相差を発現させる方法や、光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である高分子フィルム上にλ／４の位相差またはλ／２の位相差を発現させる化合物の層（例えば高分子液晶からなる層）を設ける方法が挙げられる。
このような高分子フィルムＡを用いることにより、全体としてλ／４の位相差を与える透明導電性積層体が提供される。特に、高分子フィルムＡが、光学等方性に優れた（例えばリターデーション（Δｎｄ）値が３０ｎｍ以下の）１層のフィルムの上に接して、１層のλ／４の位相差を与えるフィルム及び１層のλ／２の位相差を与えるフィルムが設けられた積層フィルムであるか又は、１層のλ／４位相差フィルムと１層のλ／２位相差フィルムとからなる積層位相差フィルムであると、積層体全体として広帯域性に優れるλ／４の位相差を与えるので好ましい。
本発明における好ましい実施態様の一例を図１に示す。図１は、後述する実施例１におけるタッチパネルの概略図である。図１において、高分子フィルムＡ（３：λ／４位相差フィルム）の片側に硬化樹脂層（４）を介して透明導電層（５）が配置され、該高分子フィルムＡのもう一方の片側には光散乱層（２）が設けられ透明導電性積層体Ｐ（１４−１）が構成されている。この高分子フィルムＡが透明導電性積層体Ｐ（１４−１）全体にλ／４の位相差を与えるように作用している。さらに偏光板（１３）と上記透明導電性積層体Ｐ（１４−１）との積層物と、空隙を挟んで透明導電性積層体Ｒ（１５）とが配置されて、タッチパネルが構成されている。
また本発明の透明導電性積層体は、さらに、前記高分子フィルムＡの透明導電層とは反対側の表面に、光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である高分子からなる他のフィルム（以下、高分子フィルムＢという）が積層されているものも含む。
この場合、前記高分子フィルムＡまたは高分子フィルムＢのどちらかの作用で、積層体全体としてλ／４の位相差を与えてもよく、高分子フィルムＡと高分子フィルムＢの両方の作用によって、積層体全体としてλ／４の位相差を与えてもよい。高分子フィルムＡに要求される面内のリターデーション値は高分子フィルムＢとの関係で異なる。
前記高分子フィルムＡの作用で積層体全体としてλ／４の位相差を与える積層体においては、高分子フィルムＡとしては上記したような態様のものを使用することができる。この場合、高分子フィルムＢとしては、全体の作用を妨げないような光学等方性に優れた（例えばリターデーション値（Δｎｄ）が３０ｎｍ以下の）ものを用いることができる。このような高分子フィルムＢは、高分子フィルムＡと共にタッチパネルの電極基板として用いると、全体の強度を高めるための支持体となるので好ましい場合がある。
高分子フィルムＢの作用で、積層体全体としてλ／４の位相差を与えるように機能する積層体においては、高分子フィルムＡが光学等方性に優れた（例えばリターデーション値（Δｎｄ）が３０ｎｍ以下の）フィルムであり、かつ高分子フィルムＢが、（ｉ）λ／４の位相差を与える１層のフィルムであるか、（ｉｉ）λ／４の位相差を与える１層のフィルムとλ／２の位相差を与える１層のフィルムとの積層位相差フィルムである例を挙げることができる。
かかるλ／４の位相差またはλ／２の位相差を与えるフィルムを得る製法としては、例えば、光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である高分子からなるフィルムを一軸延伸する（又は逐次または同時に二軸延伸する）ことにより、高分子フィルム自身にλ／４の位相差またはλ／２の位相差を発現させる方法や、光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である高分子フィルム上にλ／４の位相差またはλ／２の位相差を発現させる化合物の層（例えば高分子液晶からなる層）を設ける方法が挙げられる。高分子フィルムＢの作用で、積層体全体としてλ／４の位相差を与えるように機能する積層体においては、特に、高分子フィルムＢが、１層のλ／４位相差フィルムと１層のλ／２位相差フィルムとからなる積層位相差フィルムであると、積層体全体として広帯域性に優れるλ／４の位相差を与えるので好ましい。
高分子フィルムＡと高分子フィルムＢの両方の作用によって、積層体全体としてλ／４の位相差を与える積層体においては、高分子フィルムＡまたはＢのどちらか一方に前記したようなλ／４の位相差を与えるフィルムを用い、他方に前記したようなλ／２の位相差を与えるフィルムを用いることができる。
特に、高分子フィルムＡとして、１枚のλ／４位相差フィルムを用い、高分子フィルムＢとして、１枚のλ／２位相差フィルムを用いると、高分子フィルムＡとＢとの作用により積層体全体として広帯域性に優れるλ／４の位相差を与えるので好ましい。
本発明における好ましい実施態様の一例を図４に示す。図４は、後述する実施例４におけるタッチパネル付き液晶表示装置の概略図である。図４において、高分子フィルムＡ（１２：光学等方性フィルム）の片側に硬化樹脂層（４）、高屈折率層（９）、低屈折率層（１０）を介して透明導電層（５）が配置され、該高分子フィルムＡのもう一方の片側には光散乱層（２）が設けられ、さらにその上に、高分子フィルムＢ（λ／４位相差フィルム（１１）とλ／２位相差フィルム（３）とからなる積層位相差フィルム）が配置されている。この場合、積層位相差フィルムである高分子フィルムＢが、透明導電性積層体Ｐ（１７）全体にλ／４の位相差を与えるように作用している。偏光板（１３）と上記透明導電性積層体Ｐ（１７）との積層物と、空隙を挟んで透明導電性積層体Ｒ（１６）とが配置されてタッチパネル部が構成される。さらに該タッチパネル部、液晶セル部（２１）、偏光板（２２）と積層されタッチパネル付き液晶表示装置が構成されている。
ここで液晶セル部とは透明電極基板間に液晶を挟持したものであり、液晶セル部単独では画像表示は出来ない。液晶セル部と偏光板と位相差フィルムとを組み合わせることにより液晶表示装置として機能する。
＜高分子フィルムＡ＞
本発明に用いる高分子フィルムＡは、これを構成する高分子の光弾性定数が７０×１０^{− １２}Ｐａ^−１以下、好ましくは６４×１０^−１２Ｐａ^−１以下である。従来の光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１を超える高分子からなるフィルム上に透明導電層を設けた透明導電性積層体を偏光板、位相差フィルムと共に用いて構成されているタッチパネルでは、８０℃に加熱した際に、接着部（シール部）から内側に向かって円弧状に変色が発生することがある。本発明における高分子フィルムＡを用いたタッチパネルではこの変色の発生をかなり抑えることができる。更に、光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１を超える高分子からなるフィルムＡを用いることにより、加工工程での位相差の変化もかなり抑制できる。かかる光弾性定数の下限値としては特に制限はないが、通常０．５×１０^−１２Ｐａ^−１（０．５×１０^−１３ｃｍ^２／ｄｙｎｅ）である。
光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１（７０×１０^−１３ｃｍ^２／ｄｙｎｅ）以下の高分子としては、熱可塑性樹脂、例えばフルオレン環やイソホロン環を有する芳香族ポリカーボネートが挙げられる。すなわち、下記式（Ｉ）

で示される繰り返し単位を、ポリカーボネートを構成する繰り返し単位全体の７０〜３０モル％、好ましくは７０〜３５モル％を占めるポリカーボネートである。
ここで、上記式（Ｉ）において、Ｒ_１〜Ｒ_８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子および炭素数１〜６の炭化水素基から選ばれる少なくとも一種の基である。該炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基の如きアルキル基、フェニル基の如きアリール基が挙げられる。
Ｘは下記式

で表される基（フルオレン成分）、または下記式

で表される基（イソホロン成分）が挙げられる。Ｒ_９およびＲ_１０はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子またはメチル基の如き炭素数１〜３のアルキル基である。
より好ましいポリカーボネート材料としては、上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び下記式（ＩＩ）

で示される繰り返し単位からなり、かつ上記式（Ｉ）および（ＩＩ）の合計に基づき上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位は、ポリカーボネートを構成する繰り返し単位全体の７０〜３０モル％を占める。
上記式（ＩＩ）において、Ｒ_１１〜Ｒ_１８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子および炭素数１〜２２の炭化水素基から選ばれる少なくとも一種の基であり、Ｙは下記式のそれぞれで表される基：

よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基である。ここで、Ｙ中のＲ_１９〜Ｒ_２１、Ｒ_２３及びＲ_２４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基、アリール基の如き炭素数１〜２２の炭化水素基であり、Ｒ_２２及びＲ_２５はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基の如き炭素数１〜２０の炭化水素基であり、またＡｒ_１〜Ａｒ_３はそれぞれ独立に、フェニル基の如き炭素数６〜１０のアリール基である。
さらに好ましくは、上記ポリカーボネートは下記式（ＩＩＩ）

で表される繰り返し単位と、下記式（ＩＶ）

で表される繰り返し単位とを含むポリカーボネートである。
上記式（ＩＩＩ）において、Ｒ_２６及びＲ_２７はそれぞれ独立に、水素原子またはメチル基である。好ましくは、Ｒ_２６及びＲ_２７の両方がメチル基である。
上記式（ＩＶ）において、Ｒ_２８〜Ｒ_２９はそれぞれ独立に、水素原子またはメチル基である。好ましくは水素原子である。
上記ポリカーボネートは、共重合体であっても、ポリマー混合物（ブレンド体、ブレンドポリマー）であってもよい。２種類以上の共重合体の組み合わせでもよく、２種類以上のホモポリマー同士あるいはホモポリマーと共重合体が混合されていてもよい。
光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１（７０×１０^−１３ｃｍ^２／ｄｙｎｅ）以下のポリマーとしては、上記以外に、例えばシクロポリオレフィン系樹脂が挙げられる。該シクロポリオレフィン系樹脂からなる高分子フィルムとしては、三井石油化学（株）製「ＴＰＸ」、「ＡＰＯ」、日本ゼオン（株）製「ＺＥＯＮＯＲ」、ＪＳＲ製「ＡＲＴＯＮ」等が挙げられる。
上記高分子フィルムＡを構成する高分子は、透明導電性積層体を製造する際や透明導電性積層体をタッチパネルに加工する際に通常加熱工程があるため耐熱性が高いことが望ましい。
耐熱性はガラス転移点温度（Ｔｇ）と相関がある。ＴｇはＤＳＣで測定することができる。光弾性定数が低い高分子を用いた場合、加工温度よりＴｇが１０℃以上高ければ加工時のフィルムの位相差変化を抑えることができる。光弾性定数が比較的高い高分子の場合、加工時の位相差変化を抑えるためには、Ｔｇが加工温度より４５℃以上高いことが好ましい。例えば、加工温度を１２５℃とした場合、光弾性定数が７×１０^−１２Ｐａ^−１（７×１０^−１３ｃｍ^２／ｄｙｎｅ）以下のシクロオレフィンポリマーの場合、Ｔｇは１３５℃以上であることが好ましい。また、光弾性定数が３０〜７０×１０^−１２Ｐａ^−１（７０×１０^−１３ｃｍ^２／ｄｙｎｅ）のポリカーボネート樹脂等の熱可塑性樹脂の場合は、Ｔｇは１７０℃以上であることが好ましい。
上記高分子フィルムＡの製造方法としては、例えば公知の溶融押し出し法、溶液キャスト法等が用いられる。溶液キャスト法における溶剤としては、例えば上記ポリカーボネートを用いる場合にはメチレンクロライド、ジオキソラン等が好適である。
高分子フィルムＡの厚さとしては、通常５０〜２００μｍ、好ましくは７０〜１５０μｍである。
本発明の透明導電性積層体は、この積層体自身でλ／４の位相差を与えることを特徴とするものである。つまり、本発明の積層体は、例えば偏光板を通過して出た直線偏光が、本発明の積層体の一方の面から他方の面へ通過したときに、該直線偏光を円偏光に変換させることができる、いわばλ／４位相差フィルムと同じ機能を有する。
したがって、偏光板と本発明の透明導電性積層体との積層物と空隙を挟んで他の透明導電性積層体とを配置してタッチパネル部を構成した場合、タッチパネル部での外光の反射を低下させることができる。
タッチパネル部での外光の反射を低下させる原理は以下のとおりである。
即ち、入力操作側にある偏光板を通過した直線偏光は可動電極基板側にある１／４波長の位相差フィルムを通過すると円偏光になり、これが可動電極基板の電極面又は固定電極基板の電極面で反射を受けると逆回りの円偏光になる。可動電極基板側にある１／４波長の位相差フィルムを再び通過すると、偏波面が入射時と９０度回転した直線偏光になるため、偏光板に吸収され、タッチパネル部の反射が抑制される。
本発明の透明導電性積層体を用いたタッチパネル付き液晶表示装置は以下の２種類に分類され、本発明ではそれぞれ円偏光板タイプ、組み込みタイプと呼ぶこととする。
（１）円偏光板タイプ
本発明の円偏光板タイプのタッチパネル付き液晶表示装置は、入力操作面側から順に、偏光板１とλ／４の位相差を与える透明導電性積層体Ｐとの積層物と、空隙を挟んで他の透明導電性積層体Ｒとが配置されて構成されているタッチパネル部と、位相差フィルム２と、偏光板２と、位相差フィルム３と、液晶セル部と、偏光板３とが順に積層されて構成されたものである。
この場合、偏光板２と位相差フィルム３と液晶セル部と偏光板３とで液晶表示装置が構成されている。透明導電性積層体Ｒは偏光に影響を与えないようリターデーション値が３０ｎｍ以下であることが必要である。位相差フィルム２はλ／４位相差フィルムであり、透明導電性積層体Ｐの光学軸と位相差フィルム２の光学軸は互いに直交している。偏光板２から出た光は互いの光学軸同士が直交した２枚の１／４波長の位相差フィルムを通過するため実質的に位相差が打ち消され、偏光が何ら変化を受けずに入力操作側にある偏光板に達し、偏光板を通過するか又は偏光板に吸収され表示が行われる。この様にして偏光板２から出た光の着色を抑えることができる。
（２）組み込みタイプ
本発明の組み込みタイプのタッチパネル付き液晶表示装置は、入力操作面側から順に、偏光板１とλ／４の位相差を与える透明導電性積層体Ｐとの積層物と、空隙を挟んで他の透明導電性積層体Ｒとが配置されて構成されているタッチパネル部と、液晶セル部と、偏光板３とが順に積層されて構成されたものである。
この場合、偏光板１とλ／４の位相差を与える透明導電性積層体Ｐと液晶セル部と偏光板３とで液晶表示装置が構成される。透明導電性積層体Ｒのリターデーション値が３０ｎｍ以下であれば偏光に影響与えないのでタッチパネルを組み込んでも着色の問題はほとんどない。
ここで、λ／４の位相差を与えるとは、理想的には可視光領域の全ての波長に対してλ／４の位相差を与えるという意味である。しかし波長５５０ｎｍにおける位相差がλ／４であれば他の波長での位相差が多少λ／４からずれていても実用上は問題ない。波長５５０ｎｍにおけるリターデーション値（Δｎｄ）は１２５〜１５０ｎｍであることが好ましく、１３１〜１４５ｎｍであることがより好ましい。リターデンション値が、これより小さくても大きくても偏光板と組合せた場合の外光の反射低減効果が小さくなり好ましくない。
上記円偏光板タイプにおいて、位相差フィルム２は、視認性を高めるためにλ／４位相差フィルムであることが好ましい。
上記位相差フィルム２を構成する材料は特に限定しないが、本発明の透明導電性積層体Ｐとの波長５５０ｎｍにおけるリターデーション値の差は１０ｎｍ以下であることが好ましい。リターデーション値の差が１０ｎｍを超えると着色が目立つようになる。また、該透明導電性積層体Ｐと位相差フィルム２との間の波長分散の差が大きいと着色が目立つ様になる。したがって、該透明導電性積層体Ｐと位相差フィルム２の波長分散の差は小さいことが好ましい。すなわち、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍでのリターデーション値をそれぞれＲ（４５０）、Ｒ（５５０）、Ｒ（６５０）とした時、該透明導電性積層体Ｐの波長分散がＲ（４５０）／Ｒ（５５０）＞１でかつＲ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１の場合には、位相差フィルム２の波長分散もＲ（４５０）／Ｒ（５５０）＞１でかつＲ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１であることが好ましい。逆に、該透明導電性積層体Ｐの波長分散がＲ（４５０）／Ｒ（５５０）＜１でかつＲ（６５０）／Ｒ（５５０）＞１の場合には、位相差フィルム２の波長分散もＲ（４５０）／Ｒ（５５０）＜１でかつＲ（６５０）／Ｒ（５５０）＞１であることが好ましい。
位相差フィルム２の少なくとも片面に透明導電層を設けると、電磁波防止機能を付与することができる。
本発明の効果を妨げない範囲で、例えば位相差の波長分散を制御するために、高分子フィルムＡ，Ｂ上に位相差を発現する化合物層（例えば高分子液晶層）を設けたり、高分子フィルムＡ，Ｂ内部に低分子の液晶などの化合物を含ませてもよい。
上記高分子フィルムＢは、前記高分子フィルムＡと同じ材料からなるものを用いることができる。フィルムの厚さ、製法等についても前記高分子フィルムＡと同様のものを用いることができる。
＜光散乱層＞
上記高分子フィルムＡの一方の面には光散乱層を設ける。光散乱層は光を散乱させる機能を有するが、それ以外にときには高分子フィルムＢや偏光板との密着性を向上させる機能や、透明導電性積層体を加工する際の傷付きを防止する機能を有する層として機能することもある。光散乱層は、これ単独のヘーズ値が０．２〜１．４％であり、好ましくは０．３〜１％である。光散乱層単独のヘーズ値は高分子フィルムＡに光散乱層を形成する前と形成した後のヘーズ値の差として求めることが出来る。光散乱層単独のヘーズ値が０．２未満では膜厚斑による縞状の赤緑色の斑が目立ち液晶表示装置の視認性が低下する、また滑り性が悪く透明導電性積層体加工時の傷付きを防止する効果がない。また、ヘーズ値が１．４％を超えると液晶表示装置の視認性が悪くなる傾向がある。
光散乱層の厚さは、好ましくは１〜５μｍであり、より好ましくは１〜４μｍである。なお、この厚さは、凹凸などが表面に形成され実質的に平坦でない場合、任意に１０点以上測定した膜厚測定値の平均値と定義する。
光散乱層はこの層の内部および／または表面で光を散乱させる。高分子フィルムＡの表面に光散乱層を設ける方法としては、例えば、微粒子を含有する重合体層を積層する方法や微粒子を含有しない重合体層を積層する際に表面に微細凹凸を付与する方法が挙げられる。前者の方法では、重合体と屈折率の異なった微粒子を用いることにより光散乱層の内部で光散乱が起こる。また、平均粒子径が重合体層の膜さより大きな粒子を用いることにより、表面に微細凹凸が出来るため微粒子の屈折率に関係なく表面での光散乱が起こる。後者の方法では重合体層を積層する際に重合体層の表面にエンボスロール等を接触させ凹凸を形成する方法がある。
光散乱層内部での光散乱のみを利用する場合を除き光散乱層は凹凸を有するが、表面性を示す指標として中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．００５〜０．０４μｍの範囲であることが好ましい。
微粒子を含有する重合体層は、例えば塗工法、スプレー法、ラミネート法により高分子フィルムＡの表面に設けることができる。
塗工法により微粒子を含有する重合体層を形成するのに用いる微粒子としては、例えばシリカ微粒子、架橋アクリル微粒子、架橋ポリスチレン微粒子等が挙げられる。光散乱層のヘーズ値は、該微粒子の粒径、該微粒子と該重合体との混合比率や該重合体層の膜厚等を調整することにより調整することができる。
重合体としては、例えば、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のケイ素アルコキシドをモノマーとしたケイ素原子含有重合体、エーテル化メチロールメラミン等のメラミン熱硬化樹脂、フェノキシ熱硬化樹脂、エポキシ熱硬化樹脂、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の多官能アクリレートモノマーを用いた多官能アクリレート樹脂が例示できる。これらのアクリレート樹脂は、熱硬化樹脂でも放射線硬化樹脂でもよい。放射線硬化樹脂は、紫外線や電子線等の放射線を照射することによって重合が進行する樹脂を指す。
これらの中でも、放射線照射により重合硬化する多官能アクリレートモノマーは、比較的短時間に架橋度の高い重合体層が得られることから、製造プロセスへの負荷が少ない。また得られる層自体の強度も強いという特徴があり好ましく用いられる。
多官能アクリレートモノマーとしては、単位構造内に２個以上のアクリロイル基を有する多官能アクリレート成分を含有するものが挙げられる。具体的には、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート等の各種アクリレートモノマー、ポリエステル変性アクリレート、ウレタン変性アクリレート、エポキシ変性アクリレート等の多官能アクリレートオリゴマー等が本用途に好ましく用いられる。これらの樹脂は単独の組成で用いても、数種の混合組成で用いても良く、また場合によっては、各種ケイ素アルコキシドの加水分解縮合物を組成中に適量添加することも好ましく行われる。
なお、紫外線照射によって樹脂層の重合を行なう場合には公知の光反応開始剤が適量添加される。光反応開始剤としては、例えばジエトキシアセトフェノン、２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）フェニル｝−２−モルフォリノプロパン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン系化合物；ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物；ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸等のベンゾフェノン系化合物；チオキサンソン、２、４−ジクロロチオキサンソン等のチオキサンソン系化合物等が挙げられる。
また、フェノキシ熱硬化樹脂層としては、下記式（１）で示されるフェノキシ樹脂、フェノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹脂を多官能イソシアネート化合物で熱的に架橋させた重合体層が挙げられる。

上記式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^６は、同一または異なる水素または炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ^７は炭素数２〜５のアルキレン基、Ｘはエーテル基、エステル基、ｍは０〜３の整数、ｎは２０〜３００の整数をそれぞれ意味する。この中でも特にＲ^１、Ｒ^２はメチル基、Ｒ^３〜Ｒ^６は水素、Ｒ^７はペンチレン基のものが、合成が容易で生産性の面から好ましい。
また、多官能イソシアネート化合物としては、一分子中にイソシアネート基を二つ以上含有する化合物であれば良く、以下のものが例示される。２，６−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート−トリメチロールプロパンアダクト体、ｔ−シクロヘキサン−１，４−ジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３，６−ヘキサメチレントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、水添ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオホスフェート、ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ｐ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、１，６，１１−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソシアネート−４−イソシアネートメチルオクタン、ビシクロヘプタントリイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等のポリイソシアネートおよびそれらの混合物あるいは多価アルコール付加体等。この中でも特に汎用性、反応性の観点から２，６−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート−トリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートが好ましい。
この他、反応促進剤として、公知のトリエチレンジアミン等の第三アミン、ジブチル錫ジラウレート等の有機錫化合物を適量添加する事で架橋速度を向上することが可能である。
また、エポキシ熱硬化樹脂層としては、各種のものが使用できるが、その中でも、下記式（２）で示されるノボラック型のエポキシ樹脂を熱的に架橋させた層が好ましい。

上記式（２）において、Ｒ^８は水素またはメチル基、Ｒ^９は水素またはグリシジルフェニルエーテル基を示す。また、ｑは１〜５０までの整数を示すが、実際の所、ｑの値は一般的に分布を持っていて特定しにくいが、平均の数として大きい方が好ましく、３以上さらには５以上が好ましい。
このようなエポキシ樹脂を架橋させる硬化剤としては、公知のものが適用される。例えば、アミン系ポリアミノアミド系、酸および酸無水物、イミダゾール、メルカプタン、フェノール樹脂等の硬化剤が用いられる。これらの中でも、酸無水物および脂環族アミン類が好ましく用いられ、さらに好ましくは酸無水物である。酸無水物としては、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸などの脂環族酸無水物、無水フタル酸等の芳香族酸無水物、ドデセニル無水フタル酸等の脂肪族酸無水物が挙げられるが、特にメチルヘキサヒドロ無水フタル酸が好ましい。尚、脂環族アミンとしては、ビス（４−アミノ−３−メチルジシクロヘキシル）メタン、ジアミノシクロヘキシルメタン、イソホロンジアミン等が挙げられ、特にビス（４−アミノ−３−メチルジシクロヘキシル）メタンが好ましい。
ここで、硬化剤として酸無水物を用いた場合、エポキシ樹脂と酸無水物との硬化反応を促進する反応促進剤を添加しても良い。反応促進剤としては、ベンジルメチルアミン、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ピリジン、１，８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−１等の公知の第二、第三アミン類やイミダゾール類等の硬化触媒が挙げられる。
また、ケイ素アルコキシドの重合体層としては、２〜４官能性、さらに好ましくは３〜４官能性のケイ素アルコキシドを二種以上混合して用いることが好ましく、これらをあらかじめ溶液中で適度に加水分解ならびに脱水縮合を行なって適度にオリゴマー化させたものも好ましく用いられる。
ケイ素アルコキシドの例としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３、４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が例示される。
これらのケイ素アルコキシドは、加熱により重合が進行するが、必要に応じて紫外線等の活性光線を塗工膜に照射することによって、架橋度をより高めることができる。
＜透明導電層＞
高分子フィルムＡの上記光散乱層とは反対側の面には、透明導電層が形成される。
本発明に用いられる透明導電層は、金属酸化物から構成される層である。かかる金属酸化物としては、例えば、錫、テルル、カドミウム、モリブデン、タングステン、フッ素、亜鉛を含有する酸化インジウム、アンチモンを含有する酸化錫、酸化錫及び酸化カドミウムよりなる酸化物が挙げられる。中でも、透明性及び導電性の点で錫を含む酸化インジウム（ＩＴＯ）が好ましい。或いはＩＴＯに更に第３元素として、珪素、チタン、亜鉛等を添加したものが好ましい。
かかる透明導電層の厚さとしては、十分な導電性を得るためには、１５ｎｍ以上であることが好ましく、また十分に透明性の高い膜を得るためには、１５０ｎｍ以下であることが好ましい。特に好ましくは１７〜１４０ｎｍである。
＜硬化樹脂層＞
高分子フィルムＡの上記光散乱層とは反対側の面に透明導電層を形成する前に、高分子フィルムＡの表面にあらかじめ硬化樹脂層を設けることが好ましい。硬化樹脂層があると、タッチパネルに加工する工程で、溶剤による高分子フィルムＡのダメージを防ぐことができる。硬化樹脂層の厚さは、好ましくは０．１〜１０μｍ、より好ましくは２〜１０μｍである。硬化樹脂層は必ずしも１層である必要はなく、２層以上積層しても良い。また、硬化樹脂層と高分子フィルムＡとの密着性を向上するために硬化樹脂層と高分子フィルムＡとの間にアンカー層を設けても良い。
上記硬化樹脂層を形成する硬化樹脂としては、上記光散乱層を構成する重合体と同じものを用いることができる。
また、上記硬化樹脂層中に微粒子を含むことにより、硬化樹脂層表面に凹凸を設けると、可動電極基板と固定電極基板との間で発生するニュートンリングを防止することができるため、より視認性が向上する効果がある。硬化樹脂層中に添加する微粒子としては、例えばシリカ微粒子、架橋アクリル微粒子、架橋ポリスチレン微粒子が挙げられる。表面の凹凸は、用いる微粒子の粒径、該微粒子と該硬化樹脂との混合比率、硬化樹脂層の膜厚等を調整することにより制御することができる。
上記微粒子を含む硬化樹脂層は、
（Ａ）（ｉ）硬化樹脂成分と（ｉｉ）少なくとも１種類以上の平均一次粒子径が０．５μｍ以上５μｍ以下の微粒子Ａと、（ｉｉｉ）平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物及び／または金属フッ化物からなる群から選ばれる少なくとも一種の超微粒子Ｂとを含んで構成され、
（Ｂ）当該微粒子Ａの含有量は当該樹脂成分１００重量部あたり０．３重量部以上１．０重量部未満であり、
（Ｃ）当該超微粒子Ｂの含有量は当該樹脂成分１００重量部あたり１重量部以上２０重量部以下であり、かつ
（Ｄ）膜厚が０．５μｍ以上５μｍ以下
の条件を満たすと、可動電極基板と固定電極基板との間で発生するニュートンリングを防止する機能があり、かつ液晶表示装置の画面のちらつきが少ないので好ましい。
微粒子Ａとしては、平均一次粒子径が０．５μｍ以上５μｍ以下であれば特に化合物の種類に制限なく使用できる。たとえばＳｉＯ_２、またはＳｉＯ_２を主成分あるいは架橋成分とする微粒子や、スチレン系、アクリル系、ブタジエン系などのポリマーを主成分とする微粒子を適応することができる。このような微粒子は、表面改質などの処理を行っていても構わない。また、かかる微粒子を２種類以上混合して用いても構わない。さらに微粒子Ａは、異なる平均一次粒子径の材料を混合し、粒子径分布を広く持たせることも可能である。本発明では、微粒子Ａの含有量について特に制限することはないが、硬化樹脂成分１００重量部に対し、微粒子Ａの含有量は０．３重量部以上から１．０重量部未満が好ましく、更に好ましくは０．３重量部から０．９重量部であり、０．３重量部から０．８重量部であることがさらに好ましい。含有量が０．３重量部より少ないと、ニュートンリングの発生を抑えにくい。また１．０重量部を超えると、ニュートンリングの発生防止には優れるが、ヘーズが高くなるために液晶表示装置の映像、文字などの情報がぼやけやすくなるため好ましくない。
平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の超微粒子Ｂとしては特に化合物の種類に制限がなく用いることができる。例えば、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、（Ｉｎ_２Ｏ_３・ＳｎＯ_２）、ＨｆＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、ＭｇＦ_２、Ｓｂ_２Ｏ_５、（Ｓｂ_２Ｏ_５・ＳｎＯ_２）、ＳｉＯ_２、ＳｎＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２などの金属酸化物または金属フッ化物からなるものを挙げることができる。これらは２種類以上併用してもよい。また金属酸化物と金属フッ化物は同時に使用することもできる。ただし、超微粒子Ｂの屈折率が硬化樹脂成分の屈折率よりも大きい場合、得られる硬化樹脂層はヘーズが高くなりやすい。このため超微粒子Ｂの屈折率は低いほど硬化樹脂成分の選択肢が広がるので好ましい。このような材質としては例えばＳｉＯ_２、ＭｇＦ_２などが好ましく挙げられる。これらの超微粒子Ｂは比表面積が非常に大きいため一般的に凝集を起こしやすいので、分散剤を添加し、溶剤に分散させたスラリーとして製造・販売されることが多い。このような分散剤としては例えば、脂肪酸アミン系、スルホン酸アミド系、ε−カプロラクトン系、ハイドロステアリン酸系、ポリカルボン酸系、ポリエステルアミンなど各種が使用できる。また分散媒（溶媒）としてはアルコール、水、ケトン系、芳香族系などに代表される一般的なものを使用することができる。
該超微粒子Ｂの平均一次粒子径は、硬化樹脂層が内部ヘーズによる白化を起こさないため小さいほうが望ましく、好ましくは１００ｎｍ以下である。かかる超微粒子Ｂの平均一次粒子径はより好ましくは８０ｎｍ以下、さらに好ましくは６０ｎｍ以下である。また下限は特に制限ないが５ｎｍである。超微粒子Ｂの平均一次粒子径は、レーザー回折散乱方式粒度分布測定装置を使用して測定することができる。また簡易的に透過型電子顕微鏡などを用いることによって実際の大きさを測定することもできる。具体的には超微粒子Ｂを含有する硬化樹脂層をエポキシ樹脂などで包埋し、エポキシ樹脂層を完全に硬化させた後ミクロトームで薄片化して測定試料を作製する。さらにこの測定試料を透過型電子顕微鏡で観察し、超微粒子の大きさをランダムに１０点以上測定し、これらの測定値を平均化することで平均一次粒子径を求めることができる。
また、硬化樹脂層中に分散している超微粒子Ｂの含有量としては、硬化樹脂成分１００重量部に対し、超微粒子Ｂが１重量部以上２０重量部以下であり、好ましく２重量部以上１０重量部以下であり、更に好ましくは３重量部以上７重量部以下である。該超微粒子Ｂは硬化樹脂層を平坦化（レベリング）する効果がある。超微粒子Ｂの含有量が上記範囲にあると、微粒子Ａとの相乗効果により硬化樹脂層に好適な表面凹凸が形成されるため、この表面凹凸によりニュートンリングの発生防止機能が発現され、かつ液晶表示装置の画面のちらつきが少ない。超微粒子Ｂ成分を１重量部未満とした場合では、硬化樹脂層をレベリングさせることは難しく硬化樹脂層の表面凹凸が大きくなり過ぎるため液晶表示装置の画面のちらつきが目立つようになる。また、超微粒子Ｂ成分が２０重量部を超える場合には、硬化樹脂層がレベリングしすぎてしまうために、ニュートンリングを防止する機能が十分に発現されない。
＜光学干渉層＞
高分子フィルムＡと透明導電層との間には光学干渉層を設けることができる。光学干渉層を設けることによりタッチパネルの色調がより改善される。
光学干渉層の配置は前記高分子フィルムＡと前記透明導電層との間であって、該高分子フィルムＡ側から順に硬化樹脂層、光学干渉層、及び透明導電層の順で設けられていることが生産性や効果の面で好都合である。
光学干渉層は高屈折率層と低屈折率層からなり、該低屈折率層は透明導電層と接していることが好ましい。これらの高屈折率層と低屈折率層は架橋重合体よりなり、かつ高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも一方は平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の超微粒子を含むことが好ましい。架橋重合体としては、金属アルコキシドを加水分解並びに縮合重合してなる架橋重合体の他に、熱硬化樹脂や放射線硬化樹脂の架橋重合体も用いることが出来る。
金属アルコキシドを加水分解ならびに縮合重合してなる架橋重合体の中では、機械的強度や安定性、密着性が優れているとの観点から、チタニウムアルコキシド及びジルコニウムアルコキシド並びにアルコキシシランを加水分解並びに縮合重合してなる架橋重合体が好ましい。
チタニウムアルコキシドとしては、例えばチタニウムテトライソプロポキシド、テトラ−ｎ−プロピルオルトチタネート、チタニウムテトラ−ｎ−ブトキシド、テトラキス（２−エチルヘキシルオキシ）チタネート等が例示され、また、ジルコニウムアルコキシドとしては、例えばジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシド等が例示される。
アルコキシシランとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３、４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が例示される。これらのアルコキシシランは必要に応じて、層の機械的強度や密着性および耐溶剤性等の観点から二種類以上を混合して用いることが好ましい場合が多く、特にアルコキシシランの全組成中に重量比率０．５〜６０％の範囲で、分子内にアミノ基を有するアルコキシシラン含有されていることが好ましい。
これらの金属アルコキシドは、モノマーで用いても、あらかじめ加水分解と脱水縮合を行なって適度にオリゴマー化して用いても良いが、通常、適当な有機溶媒に溶解、希釈した塗液を基板上に塗工する。基板上に形成された塗工膜は、空気中の水分等により加水分解が進行し、続いて脱水縮合重合が進行する。一般に、縮合重合の促進には適当な加熱処理が必要であり、塗工法のプロセスにおいて１００℃以上の温度で数分以上の熱処理を施すことが好ましい。また、場合によっては、前記の熱処理と並行して、紫外線等の活性光線を塗膜に照射する事により、架橋度をより高めることができる。
希釈溶剤としては、アルコール系、炭化水素系の溶剤、例えば、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン等が好適であるが、この他にも、キシレン、トルエン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、酢酸イソブチル等の極性溶媒も使用可能である。これらのものは単独あるいは二種以上の混合溶剤として用いることができる。
高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも一方に平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の超微粒子を含むことにより屈折率を調整することが可能である。平均１次粒子径は１００ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは５０ｎｍ以下である。該超微粒子の平均１次粒子径を１００ｎｍ以下に制御することにより、塗膜が白化することなく良好な光学干渉層を形成することができる。
平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の超微粒子としては、例えばＡｌ_２Ｏ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３・ＳｎＯ_２、ＨｆＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_５、Ｓｂ_２Ｏ_５・ＳｎＯ_２、ＳｎＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２などの金属酸化物の超微粒子、ＭｇＦ_２などの金属フッ化物からなる超微粒子が例示される。
かくして得られた本発明の透明導電性積層体は、タッチパネルの可動電極基板または固定電極基板として使用することができる。
上述の如く、本発明の透明導電性積層体をタッチパネルの電極基板として使用し該タッチパネルを液晶表示装置に組み込んで使用することができる。
このとき用いられる偏光板は、以下に述べる偏光フィルムに必要に応じて片面又は両面に保護フィルムを積層したものである。偏光フィルムとしては、例えば（ｉ）ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム、セルロース系フィルムの如き親水性高分子フィルムに沃素及び又は２色性有機染料を吸着配向せしめてなる沃素及び又は２色性有機染料系偏光フィルム、（ｉｉ）ポリビニルアルコール系フィルムを脱水処理してポリエンを形成して配向せしめてなるポリエン系偏光フィルム、（ｉｉｉ）ポリエン塩化ビニルフィルムを脱塩酸処理してポリエンを形成して配向せしめてなるポリエン系偏光フィルム等が挙げられる。これらは通常１０〜８０μｍの厚さを有するものが使用される。
また、偏光フィルムとしては、疎水性ポリマーにあらかじめ２色性有機染料を配合した後、公知の方法によりフィルム状に成形し、少なくとも一方向に延伸し、更に熱固定して製造したフィルムも使用できる。該疎水性ポリマーとしては、１００℃以下の温度、相対湿度８０％以下の条件で収縮、膨潤等の変化を起こさない素材であれば良く、具体的にはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ナイロン−６、ナイロン−６６、ナイロン−１２等のポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリサルフォン系樹脂等であり、特に好ましくはポリエチレンテレフタレート、ナイロン−６、ナイロン−６６、ナイロン−１２である。該２色性有機染料は、分子構造上２色性を有するものであって、特に耐熱性、耐候性を有するものが好ましい。この様な偏光フィルムの製造は、上記疎水性ポリマーに２色性有機染料をヘンシェルミキサー、ブレンダー等を用いて配合し、その後、通常公知のＴダイ押出法、インフレーション法、溶液流延法等の方法でフィルム状に成形した後延伸工程に供給される。延伸工程は、樹脂のガラス転移点以上融点以下の適当な温度で一方向にできるだけ高倍率に延伸して表面積を増加させると同時に厚さを減少させる。この場合延伸方向は特に一方向に限定されるものではなく、必要に応じて延伸方向の直角方向に低倍率延伸し、フィルムの機械的強度を向上させることもできる。また、上記疎水性ポリマーに本発明の目的を阻害しない範囲内で他種ポリマーをブレンドしても良いし、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤、核生成剤、表面突起形成剤等の無機又は有機添加剤を添加しても良い。これらの偏光フィルムの厚さは２０〜２００μｍが望ましい。
偏光フィルムには前述の様に、必要に応じて片面又は両面に保護フィルムを積層することができる。保護フィルムとしては、リターデーション値が３０ｎｍ以下の光学等方性フィルム、及び又は一方向のみに延伸したフィルムを用いることができる。特に偏光板が入力操作側に用いられる場合には、偏光フィルムにおいて透明導電性積層体を積層しない側に来る面には保護フィルムを積層することが、信頼性の点で好ましい。
上記保護フィルムとして使用できるリターデンション値が３０ｎｍ以下の光学等方性フィルムとしては、ポリカーボネート系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリアリルサルフォン等のポリサルフォン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、セルローストリアセテート等のアセテート系樹脂、ポリアリレート系樹脂等のフィルムで、厚さが１０〜２００μｍのものが挙げられる。
また、上記保護フィルムとして使用できる一方向のみに延伸したプラスチックフィルムとして、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリフェニレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリアリルサルフォン等のポリサルフォン系樹脂、ポリメチルペンテン、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリ塩化ビニル、トリアセテート等の樹脂を一方向のみに延伸してなるフィルムが挙げられるが、耐薬品性等の点からは、上記のポリエステルからなるフィルムを、縦軸又は横軸方向のみに少なくとも５％、好ましくは５０〜８０％延伸し、１００℃×６０分間〜２３０℃×５分間ヒートセットしてなる、厚さ１０〜２００μｍのものが好ましい。
また、上記偏光板がタッチパネルの入力操作側に用いられる場合には、該偏光板の入力操作を行う側の面には、反射防止機能、防眩機能、耐摩耗性機能を有する層を設けることができる。
本発明における透明導電性積層体（Ｒ）は高分子フィルムあるいはガラスからなる透明基材の少なくとも一方の表面に透明導電層を有する積層体である。ここで、かかる高分子フィルムとしては、本発明の透明導電性積層体（Ｐ）に用いる光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１（７０×１０^−１３ｃｍ^２／ｄｙｎｅ）以下の高分子からなるフィルムＡと同じものを用いることができる。またかかる高分子フィルムは２層以上積層して用いてもよいし、ガラス板との積層体でもよい。但し、タッチパネル付き液晶表示装置全体の光学設計に合う様に透明基材のリターデーション値について考慮する必要がある。
該透明基材の厚さは、５０〜２０００μｍが好ましい。特に７５〜１５００μｍが好ましい。厚さが５０μｍ未満では透明導電層の加工が困難である。また、厚さが２０００μｍを超えるとタッチパネルの厚さが大になり携帯情報機器の用途には適さない。
該透明基材はリターデーション値が３０ｎｍ以下の光学等方性基板であるか、または１／４波長の位相差を与える基板のいずれかであることが好ましい。
該透明基材が光学等方性基板の場合、透明導電性積層体Ｒの光学軸は透明導電性積層体Ｐの光学軸と平行または直交する方向に配置してタッチパネルを構成することが好ましい。
透明基材が１／４波長の位相差を与える基板の場合、透明導電性積層体Ｒは位相差フィルム２を兼ねることが出来る。この場合、透明導電性積層体Ｒの光学軸と透明導電性積層体Ｐの光学軸とが互いに直交する様に配置してタッチパネルを構成する。
本発明のタッチパネルは、表示のために偏光板を必要とする反射型液晶（Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ ＬＣＤ）、透過型液晶（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｖｅ ＬＣＤ）、半透過反射型液晶（Ｔｒａｎｓｆｌｅｃｔｉｖｅ ＬＣＤ）なら通常利用することができる。例えば、ＴＮ、ＳＴＮ、ＥＣＢ（ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＣＳＨ（ｃｏｌｏｒ ｓｕｐｅｒ ｈｏｍｅｏｔｒｏｐｉｃ）、ＯＣＢ（ｏｐｔｉｃａｌ ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ ｂｅｎｄ）、ＨＡＮ（ｈａｌｆ ａｌｉｇｎｅｄ ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（ｖｅｒｔｉｃａｌ ａｌｉｇｎｅｄ）、ＩＰＳ（ｉｎ ｐｌａｉｎ ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、強誘電、反強誘電、コレステリック相転移、ＧＨ（ｇｕｅｓｔ ｈｏｓｔ）等の各種モードの液晶を挙げることができる。
本発明のタッチパネルは液晶表示装置と組合せて用いると効果が大きいが、液晶表示装置以外に用いることも可能である。例えば、ＯＬＥＤ（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ−ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）を挙げることができる。
上記の如く作製されたタッチパネルは、例えば液晶（ＬＣＤ）、ＯＬＥＤ（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ−ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）、などの表示装置の上、すなわち観測者側に載せられて円偏光板タイプのインナー型と呼ばれるタッチパネル付き表示装置、あるいは組み込みタイプのインナー型と呼ばれるタッチパネル付き表示装置として提供される。

発明の効果

本発明によれば、視認性に優れ、かつ高温での変色も見られないタッチパネル及びそれを用いた液晶表示装置を提供できる透明導電性積層体が与えられる。

以下に実施例により本発明を詳述する。但し、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。
（評価法）
（１）リターデーション値、光弾性定数の測定
リターデーション値および光弾性定数は、分光エリプソメータ『Ｍ１５０』（日本分光（株）製）により測定した。
（２）高分子のガラス転移点温度（Ｔｇ）の測定
『ＤＳＣ２９２０ Ｍｏｄｕｌａｔｅｄ ＤＳＣ』（ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）により測定した。フィルム成形後ではなく、樹脂重合後、フレークスまたはチップの状態で測定した。
（３）タッチパネルの高温試験
８０℃に加熱した表面が鏡面のホットプレート上にタッチパネルを偏光板が上側になる様にして置き、１分間放置後タッチパネルの色変化を調べた。
（４）タッチパネルの色斑観察
３波長蛍光灯下で、タッチパネルの偏光板側から色斑を観察した。
また、以下の実施例、比較例で用いたポリカーボネートのモノマー構造を以下に示す。

［実施例１及び比較例１］
攪拌機、温度計および環流冷却器を備えた反応槽に水酸化ナトリウム水溶液およびイオン交換水を仕込み、これに上記構造を有するモノマー（Ｅ）、（Ｆ）を５０：５０のモル比で溶解させ、少量のハイドロサルフィトを加えた。次にこれに塩化メチレンを加え、２０℃でホスゲンを約６０分かけて吹き込んだ。さらに、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールを加えて乳化させた後、トリエチルアミンを加えて３０℃で約３時間攪拌して反応を終了させた。反応終了後有機相を分取し、塩化メチレンを蒸発させてポリカーボネート共重合体を得た。得られた共重合体の組成比はモノマー仕込み量比とほぼ同等であった。ガラス転移温度は２１５℃であった。
この共重合体を塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度１８重量％のドープ溶液を作製した。このドープ溶液からキャストフィルムを作製し、２２０℃にて１．３０倍に縦一軸延伸することによりリ厚さ９５μｍ、リターデーション値１３８ｎｍ、光弾性定数６０×１０^−１２Ｐａ^−１である位相差フィルム（３）を得た。
次に、ポリエステルアクリレート（東亜化学株式会社製 アロニックスＭ８０６０）５０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬株式会社製 ＤＰＨＡ）５０重量部、光開始剤（チバガイギー社製 イルガキュア１８４）７重量部、希釈剤として１−メトキシ−２−プロパノール２００重量部からなる塗工液Ａを用意した。更に塗工液Ａに、微粒子として、平均粒径が約３μｍのシリコーン架橋微粒子（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製 トスパール１３０）を樹脂成分１００重量部に対して０．２重量部添加することにより塗工液Ｂを得た。また、塗工液Ａに、微粒子として、平均粒径が約３μｍのシリコーン架橋微粒子（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製 トスパール１３０）を樹脂成分１００重量部に対して０．５重量部添加することにより塗工液Ｃを得た。
上記位相差フィルム（３）の片面に該塗工液Ｂをマイクログラビア塗工装置にて塗付し６０℃で１分間乾燥後、強度１６０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて積算光量４５０ｍＪ／ｃｍ^２の条件で塗工膜を硬化させることにより厚さ約２μｍの光散乱層（２）を設けた。光散乱層単独のヘーズ値は０．５％であった。次に、位相差フィルム（３）の光散乱層を設けた側と反対面に該塗工液Ｃをマイクログラビア塗工装置にて塗付し６０℃で１分間乾燥後、強度１６０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて積算光量４５０ｍＪ／ｃｍ^２の条件で塗工膜を硬化させることにより厚さ約２μｍの硬化樹脂層（４）を設けた。
引き続いて、酸化インジウムと酸化錫が重量比９：１の組成で充填密度９８％の酸化インジウム−錫ターゲットを用いスパッタリング法で上記硬化樹脂層（４）上にＩＴＯ膜を積層することにより実施例１の透明導電性積層体（１４−１）を得た。ＩＴＯ膜の膜厚は２０ｎｍ、抵抗値は３３０Ω／□であった。リターデーション値は１３７ｎｍで殆ど変化がなかった。
また、上記位相差フィルム（３）の片面に塗工液Ａをマイクログラビア塗工装置にて塗布し６０℃で１分間乾燥後、強度１６０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて積算光量４５０ｍＪ／ｃｍ^２の条件で塗工膜を硬化させることにより厚さ約２μｍの透明樹脂層を設けた。該透明樹脂層単独のヘーズ値は０％であった。同様にして、該塗工液Ｃを用いて位相差フィルム（３）の該透明樹脂層を設けた側と反対面に厚さ約２μｍの硬化樹脂層を設けた。同様にして、硬化樹脂層上にＩＴＯ膜を積層することにより比較例１の透明導電性積層体（１４−１）を得た。ＩＴＯ膜の膜厚は２０ｎｍ、抵抗値は３４０Ω／□であった。リターデーション値は１３７ｎｍで殆ど変化がなかった。
一方、厚さ１．１ｍｍのガラス板（８）の両面にディップコーティング法によりＳｉＯ_２膜を設けた後、スパッタリング法により厚さ１８ｎｍのＩＴＯ膜を透明導電層として設けることにより透明導電性積層体（１５）を得た。次に、ＩＴＯ膜上に高さ７μｍ、直径７０μｍ、ピッチ１．５ｍｍのドットスペーサを設けた。
しかる後、外部への引き出し回路、絶縁層、粘着層を設けた後、透明導電性積層体（１４−１）と透明導電性積層体（１５）の透明導電層（ＩＴＯ膜）同士が向かい合いようにして貼り合わせアナログ型のタッチパネル部を作製した。
次に、沃素を偏光子として含有した一軸延伸ポリビニルアルコールフィルムの両面に接着剤を介してトリアセテートフィルムを貼り合わせて厚さ１５０μｍの入力操作側の偏光板（１３）を得た。なお、偏光板（１３）の入力操作面にはアンチグレアハードコート層を設けた。
この偏光板（１３）の光学軸と位相差フィルム（３）の光学軸とのなす角度が４５度になるように粘着剤を介して偏光板（１３）と透明導電性積層体（１４−１）を貼り合せることにより、実施例１と比較例１のタッチパネルを作製した。
タッチパネルの高温試験、色斑観察を行なった。結果を表１に示す。

実施例１の位相差フィルム（３）の片面に実施例１同様にして厚さ約２μｍの光散乱層（２）を設けた。光散乱層単独のヘーズ値は０．５％であった。次に、位相差フィルム（３）の光散乱層を設けた側と反対面に実施例１と同様にして厚さ約２μｍの硬化樹脂層（４）を設けた。
次に、テトラブトキシチタネート（日本槽達社製「Ｂ−４」）をリグロイン（和光純薬工業社製の等級が特級品）とブタノール（和光純薬工業社製の等級が特級品）の混合溶媒で希釈した塗工液Ｄを作製した。
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシラン（信越化学社製「ＫＢＭ４０３」）とメチルトリメトキシシラン（信越化学社製「ＫＢＭ１３」）を１：１のモル比で混合し、酢酸水溶液（ｐＨ＝３．０）により公知の方法で前記シランの加水分解を行った。こうして得たシランの加水分解物に対して、固形分の重量比率２０：１の割合でＮ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメトキシシラン（信越化学社製「ＫＢＭ６０３」）を添加し、更にイソプロピルアルコールとｎ−ブタノールの混合溶液で希釈を行い、アルコキシシラン塗工液Ｅを作製した。
塗工液Ｄのテトラブトキシチタネート成分と塗工液Ｅのアルコキシシラン成分の重量比率が７０：３０となるように塗工液Ｄと塗工液Ｅを混合した後、混合液中に１次粒子径が２０ｎｍのＴｉＯ_２超微粒子をＴｉＯ_２超微粒子と金属アルコキシド（テトラブトキシチタネートとアルコキシシランの合計）の重量比率が３０：７０となるように混合した塗工液Ｆを作製した。位相差フィルム３の硬化樹脂層上に塗工液Ｆをマイクログラビア塗工装置にて塗布後、１３０℃２分間乾燥し、膜厚が５５ｎｍの高屈折率層（９）を形成した。続いて該高屈折率層上に塗工液Ｅをマイクログラビア塗工装置にて塗布後、１３０℃２分間乾燥し、膜厚が４５ｎｍの低屈折率層（１０）を形成し高屈折率層と低屈折率層からなる光学干渉層を作成した。さらにこの低屈折率層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比９：１の組成で充填密度９８％の酸化インジウム−錫ターゲットを用いスパッタリング法でＩＴＯ膜を形成することにより実施例２の透明導電性積層体（１４−２）を得た。ＩＴＯ層の膜厚は約２０ｎｍ、表面抵抗は約３００Ω／□であった。リターデーション値は１３７ｎｍで殆ど変化がなかった。
一方、実施例１と全く同様な方法で、透明導電性積層体（１５）のＩＴＯ膜上に高さ７μｍ、直径７０μｍ、ピッチ１．５ｍｍのドットスペーサを設けた。
しかる後、外部への引き出し回路、絶縁層、粘着層を設けた後、透明導電性積層体（１４−２）と透明導電性積層体（１５）を透明導電層同士が向かい合いようにして貼り合わせアナログ型のタッチパネル部を作製した。
次に、実施例１と全く同様な方法で偏光板（１３）を得た。なお、偏光板（１３）の入力操作面側にはアンチグレアハードコート層を設けた。
この偏光板（１３）の光学軸と位相差フィルム（３）の光学軸とのなす角度が４５度になるように、粘着剤を介して偏光板（１３）と透明導電性積層体（１４−２）を貼り合せることにより、実施例２のタッチパネルを作製した。
タッチパネルの高温試験、色斑観察を行なった。結果を表１に示す。

［実施例３及び比較例２］
偏光板（１９）、位相差フィルム（２０）、液晶セル（２１）、偏光板（２２）とからなる液晶表示装置の偏光板（１９）上に、λ／４位相差フィルム（１８）を、偏光板（１９）の光軸と位相差フィルム１８の光軸が１３５度になる様に貼り合せた。しかる後、液晶表示装置上に０．４ｍｍの空隙を空けて実施例２のタッチパネルを偏光板（１３）の光軸と偏光板（１９）の光軸が平行になる様に配置することにより、円偏光板タイプのタッチパネル付き液晶表示装置を作製した。該液晶表示装置は屋外で見ても画像がはっきり見えた。更にタッチパネルの有無による液晶表示装置の色変化は無かった。
なお、実施例２のタッチパネルを構成する透明導電性積層体における位相差フィルム（３）の代わりに以下の位相差フィルムを用いて透明導電性積層体を作製した（比較例２）。すなわち、帝人化成（株）製Ｃ１４００（ガラス転移点温度１５５℃）を塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度１８重量％のドープ溶液を作製した。このドープ溶液からキャストフィルムを作製し、１５５℃にて１．０５倍に縦一軸延伸することにより厚さ７０μｍ、リターデーション値１３８ｎｍ、光弾性定数９０×１０^−１２Ｐａ^−１である位相差フィルム（３）を得た。
次に、実施例２と全く同様な方法で、位相差フィルム（３）の片面に光散乱層を設けた。更に光散乱層を設けた側と反対面に順次に硬化樹脂層、高屈折率層、低屈折率層、ＩＴＯ膜を設けることにより、透明導電性積層体（１４−２）を得た。ＩＴＯ膜の膜厚は２０ｎｍ、抵抗値は３１０Ω／□であった。リターデーション値は１４８ｎｍに変化した。
得られた透明導電性積層体（１４−２）を用いて実施例３と同じ構成のタッチパネル付き液晶表示装置を作製した。該液晶表示装置は屋外で見るとタッチパネルが無い場合に比較して液晶画面は黄色がかって見えた。更に該タッチパネルの高温試験を行なったところ、接着部（シール部）から内側に向かって円弧状に変色が発生した。

ウレタンアクリレート１００重量部、光開始剤（チバガイギー社製 イルガキュア１８４）７重量部、希釈剤として１−メトキシ−２−プロパノール１３５重量部、イソプロパノール１３５重量部からなる塗工液Ｇを用意した。更に塗工液Ｇに、微粒子Ａとして平均粒径が約３μｍのシリコーン架橋微粒子（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製 トスパール１３０）を樹脂成分１００重量部に対して０．２重量部添加することにより塗工液Ｈを得た。また、塗工液Ｇに、微粒子Ａとして平均粒径が約３μｍのシリコーン架橋微粒子（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製 トスパール１３０）を樹脂成分１００重量部に対して０．７重量部、超微粒子ＢとしてＭｇＦ_２超微粒子を樹脂成分１００重量部に対して５重量部をそれぞれ添加することにより塗工液Ｉを得た。
厚さ１００μｍ、ガラス転移温度１３６℃、リターデーション値５．５ｎｍ、光弾性定数６．５×１０^−１２Ｐａ^−１である高分子フィルム（１２）（ＺＥＯＮＯＲフィルム、ＺＦ１４−１００、日本ゼオン株式会社製）の片面に該塗工液Ｈをマイクログラビア塗工装置にて塗付し６０℃で１分間乾燥後、強度１６０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて積算光量４５０ｍＪ／ｃｍ^２の条件で塗工膜を硬化させることにより厚さ約２μｍの光散乱層（２）を設けた。光散乱層単独のヘーズ値は０．５％であった。次に、高分子フィルム（１２）の光散乱層を設けた側と反対面に該塗工液Ｉをマイクログラビア塗工装置にて塗付し６０℃で１分間乾燥後、強度１６０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて積算光量４５０ｍＪ／ｃｍ^２の条件で塗工膜を硬化させることにより厚さ約２μｍの硬化樹脂層（４）を設けた。
次に実施例２と同様にして、塗工液Ｅ、塗工液Ｆを用意した。高分子フィルム（１２）の硬化樹脂層（４）上に塗工液Ｆをマイクログラビア塗工装置にて塗布後、１２５℃２分間乾燥し、膜厚が５５ｎｍの高屈折率層（９）を形成した。続いて該高屈折率層上に塗工液Ｅをマイクログラビア塗工装置にて塗布後、１２５℃２分間乾燥し、膜厚が４５ｎｍの低屈折率層（１０）を形成し高屈折率層と低屈折率層からなる光学干渉層を作成した。さらにこの低屈折率層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比９：１の組成で充填密度９８％の酸化インジウム−錫ターゲットを用いスパッタリング法でＩＴＯ膜を形成することにより透明導電性積層体（１６）を得た。ＩＴＯ層の膜厚は約２０ｎｍ、表面抵抗は約３００Ω／□であった。リターデーション値は殆ど変化がなかった。透明導電性積層体の光散乱層（２）上にλ／４位相差フィルム（１１）、λ／２位相差フィルム（３）を１層ずつ貼り合わせ、透明導電性積層体（１７）を得た。
一方、実施例１と全く同様な方法で、透明導電性積層体（１６）のＩＴＯ膜上に高さ７μｍ、直径７０μｍ、ピッチ１．５ｍｍのドットスペーサを設けた。
しかる後、外部への引き出し回路、絶縁層、粘着層を設けた後、透明導電性積層体（１７）と透明導電性積層体（１６）を透明導電層同士が向かい合いようにして貼り合わせアナログ型のタッチパネル部を作製した。
次に、実施例１と全く同様な方法で偏光板（１３）を得た。なお、偏光板（１３）の入力操作面側にはアンチグレアハードコート層を設けた。
この偏光板（１３）を透明導電性積層体（１７）に粘着剤を介して貼り合せることによりタッチパネルを得た。引き続いて該タッチパネル、液晶セル（２１）、偏光板（２２）を貼り合わせ、実施例４の組み込みタイプのタッチパネル付き液晶表示装置を作製した。該液晶表示装置は屋外で見ても画像がはっきり見えた。

本発明の透明導電性積層体は、反射光を抑え、変色も見られなく生産性も良好である。したがって、かかる積層体を用いることにより、視認性に優れ、屋外でも使用しやすく高い信頼性を有するタッチパネル及びそれを用いた液晶表示装置を提供することができる。

本発明は、透明導電性積層体に関する。特にタッチパネル及びタッチパネル付液晶表示装置に好適に用いることができる透明導電性積層体に関する。

近年、液晶を用いて情報を表示する表示装置と情報入力用のタッチパネル（タッチスクリーン、透明メンブレンスイッチとも称される）などの入力装置とを搭載した情報機器が広く使用され始めている。タッチパネルとしては、抵抗膜方式のものが多い。この抵抗膜方式のタッチパネルは、透明導電層が形成された二枚の透明電極基板（可動電極基板と固定電極基板）をおよそ１０〜１００μｍの間隔で相対させることにより構成されている。その際に、外力のない状態で可動電極基板と固定電極基板との間の絶縁性を保持するために、通常固定電極基板の電極面上にドットスペーサを設ける。これにより、可動電極基板の外側から、指またはペンで押圧すると、押圧部においてのみ可動電極基板と固定電極基板の電極面同士が接触してスイッチとして動作し、例えば、液晶表示装置画面上のメニューの選択あるいは手書き図形や手書き文字の入力等を行なうことができる。

タッチパネル付きの液晶表示装置を搭載した上記情報機器の中で、例えばビデオカメラ、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）、スマートフォン等は携帯用としてしばしば用いられる。これらの携帯型情報機器のタッチパネル付き液晶表示装置は、通常屋外で使用されるために種々の方向から来る光源の存在下で見られることになる。そのため、画像を認識させる光（例えば液晶表示部から来る光）の他にノイズ光（タッチパネル部からの反射光）が同時に眼に入り、表示が見にくい。

特開平０５−１２７８２２号公報には、タッチパネル部に１／４波長位相差フィルムと偏光板とノングレア処理された透明フィルムとを順次に積層することにより反射光を低下させるタッチパネルが記載されている。このタッチパネルは、タッチパネル部の反射光を低下させる効果があるが、液晶表示部から出た光が１／４波長の位相差フィルムの作用により、着色する問題がある。

ＷＯ９９／６６３９１号公報には、位相差が９０〜２００ｎｍで光弾性定数が５×１０^−１３ｃｍ^２／ｄｙｎｅ〜６５×１０^−１３ｃｍ^２／ｄｙｎｅ（５〜６５×１０^−１２Ｐａ^−１）の位相差フィルムと一対の透明導電基板を用いたタッチパネルが開示されている。更に位相差フィルムに透明導電層を設けたものをタッチパネルの透明導電基板として使用できることが記載されている。

しかしながら、位相差フィルムの透明導電層を設けた面と反対側の面に保護層がないと、透明導電層を設ける工程やタッチパネルに加工する工程で位相差フィルムに傷が発生したりする実際の製造上に問題や、位相差フィルムを偏光板と貼り合わせる際の接着性における信頼性が十分でない場合があることが分かった。そこで、位相差フィルムの偏光板と貼り合せる面に、偏光板との接着性を向上させるための機能と種々の加工工程での傷を防止するための機能を兼ね備えた層を設けたところ、この層の膜厚斑による縞状の赤緑色の斑が目立ち液晶表示装置の視認性が低下する問題が生じることが明らかになった。

他方、特開平５−５０５６１号公報には、フィルムの一方の面は中心線平均粗さ（Ｒａ）０．０５〜５．０μｍの範囲の粗面化された面であり、他方の面には透明導電層が形成された透明導電性フィルム（透明導電性積層体）および該透明導電性フィルム（透明導電性積層体）を下部シート（固定電極基板）に使用して構成したタッチパネルが開示されている。タッチパネルを補強するために下部シートと接するように支持板を設けた時に下部シートと支持板間に光干渉による色斑が発生する問題があったが、下部シートに粗面化面を形成することにより光干渉による色斑を防止している。粗面化面を設ける方法として無機微粒子または有機微粒子を含有する層を設ける方法が挙げられている。この方法は縞状の赤緑色の斑を解消する方法としては効果がある。しかしながら粗面化面の中心線平均粗さが大き過ぎるためヘーズが高くなり液晶ディスプレイの視認性が損なわれる問題がある。

本発明の主たる目的は、λ／４の位相差を与える新規な透明導電性積層体を提供することにある。
本発明の他の目的は、特にタッチパネルとして用いたときに見やすく、視認性が向上した上記積層体を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、上記積層体を用いたタッチパネル及びタッチパネル付き液晶表示装置を提供することにある。
本発明の他の目的および利点は以下の説明から明らかになろう。

本発明によれば、本発明の目的および利点は、第１に、光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である高分子からなるフィルム（高分子フィルムＡ）と、その一方の面に形成したヘーズ値が０．２〜１．４％の範囲である光散乱層と、他方の面に形成した透明導電層とを含み、かつ全体としてλ／４の位相差を与える透明導電性積層体によって達成される。

また本発明の目的および利点は、第２に、上記積層体を特定の位置に配置したタッチパネル及びタッチパネル付き液晶表示装置によって達成される。

本発明によれば、視認性に優れ、かつ高温での変色も見られないタッチパネル及びそれを用いた液晶表示装置を提供できる透明導電性積層体が与えられる。

本発明の透明導電性積層体は、高分子からなるフィルム(以下、高分子フィルムＡという)と、その一方の面に光散乱層を有し、他方の面に透明導電層を有して構成される。そして、該積層体全体としてλ／４の位相差を与えるものである。

前記高分子フィルムＡは、１層のフィルムからなっていてもよいし、２層以上のフィルムの積層体から構成されていてもよい。

１層のフィルムからなる場合、かかる高分子フィルムＡとしては、それ１層でλ／４の位相差を与えるような機能を有するフィルム、つまりλ／４位相差フィルムが挙げられる。

２層以上のフィルムの積層体からなる場合の高分子フィルムＡとしては、例えば（ｉ）光学等方性に優れた（例えばリターデーション（Δｎｄ）値が３０ｎｍ以下の）１層のフィルムの上に接して、1層のλ／４の位相差を与えるフィルムが設けられた積層フィルム、（ｉｉ）光学等方性に優れた（例えばリターデーション（Δｎｄ）値が３０ｎｍ以下の）１層のフィルムの上に接して、1層のλ／４の位相差を与えるフィルム及び1層のλ／２の位相差を与えるフィルムが設けられた積層フィルム、（ｉｉｉ）1層のλ／４の位相差を与えるフィルムと1層のλ／２の位相差を与えるフィルムとからなる積層位相差フィルム、が挙げられる。

かかるλ／４の位相差またはλ／２の位相差を与えるフィルムを得る製法としては、例えば、光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である高分子からなるフィルムを一軸延伸する（又は逐次または同時にニ軸延伸する）ことにより、高分子フィルム自身にλ／４の位相差またはλ／２の位相差を発現させる方法や、光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である高分子フィルム上にλ／４の位相差またはλ／２の位相差を発現させる化合物の層（例えば高分子液晶からなる層）を設ける方法が挙げられる。

このような高分子フィルムＡを用いることにより、全体としてλ／４の位相差を与える透明導電性積層体が提供される。特に、高分子フィルムＡが、光学等方性に優れた（例えばリターデーション（Δｎｄ）値が３０ｎｍ以下の）１層のフィルムの上に接して、1層のλ／４の位相差を与えるフィルム及び1層のλ／２の位相差を与えるフィルムが設けられた積層フィルムであるか又は、１層のλ／４位相差フィルムと１層のλ／２位相差フィルムとからなる積層位相差フィルムであると、積層体全体として広帯域性に優れるλ／４の位相差を与えるので好ましい。

本発明における好ましい実施態様の一例を図１に示す。図１は、後述する実施例１におけるタッチパネルの概略図である。図１において、高分子フィルムＡ（３：λ／４位相差フィルム）の片側に硬化樹脂層（４）を介して透明導電層（５）が配置され、該高分子フィルムＡのもう一方の片側には光散乱層（２）が設けられ透明導電性積層体Ｐ（１４−１）が構成されている。この高分子フィルムＡが透明導電性積層体Ｐ（１４−１）全体にλ／４の位相差を与えるように作用している。さらに偏光板（１３）と上記透明導電性積層体Ｐ（１４−１）との積層物と、空隙を挟んで透明導電性積層体Ｒ（１５）とが配置されて、タッチパネルが構成されている。

また本発明の透明導電性積層体は、さらに、前記高分子フィルムＡの透明導電層とは反対側の表面に、光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である高分子からなる他のフィルム（以下、高分子フィルムＢという）が積層されているものも含む。

この場合、前記高分子フィルムＡまたは高分子フィルムＢのどちらかの作用で、積層体全体としてλ／４の位相差を与えてもよく、高分子フィルムＡと高分子フィルムＢの両方の作用によって、積層体全体としてλ／４の位相差を与えてもよい。高分子フィルムＡに要求される面内のリターデーション値は高分子フィルムＢとの関係で異なる。

前記高分子フィルムＡの作用で積層体全体としてλ／４の位相差を与える積層体においては、高分子フィルムＡとしては上記したような態様のものを使用することができる。この場合、高分子フィルムＢとしては、全体の作用を妨げないような光学等方性に優れた（例えばリターデーション値（Δｎｄ）が３０ｎｍ以下の）ものを用いることができる。このような高分子フィルムＢは、高分子フィルムＡと共にタッチパネルの電極基板として用いると、全体の強度を高めるための支持体となるので好ましい場合がある。

高分子フィルムＢの作用で、積層体全体としてλ／４の位相差を与えるように機能する積層体においては、高分子フィルムＡが光学等方性に優れた（例えばリターデーション値（Δｎｄ）が３０ｎｍ以下の）フィルムであり、かつ高分子フィルムＢが、（ｉ）λ／４の位相差を与える１層のフィルムであるか、（ｉｉ）λ／４の位相差を与える１層のフィルムとλ／２の位相差を与える１層のフィルムとの積層位相差フィルムである例を挙げることができる。

かかるλ／４の位相差またはλ／２の位相差を与えるフィルムを得る製法としては、例えば、光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である高分子からなるフィルムを一軸延伸する（又は逐次または同時にニ軸延伸する）ことにより、高分子フィルム自身にλ／４の位相差またはλ／２の位相差を発現させる方法や、光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である高分子フィルム上にλ／４の位相差またはλ／２の位相差を発現させる化合物の層（例えば高分子液晶からなる層）を設ける方法が挙げられる。高分子フィルムＢの作用で、積層体全体としてλ／４の位相差を与えるように機能する積層体においては、特に、高分子フィルムＢが、１層のλ／４位相差フィルムと１層のλ／２位相差フィルムとからなる積層位相差フィルムであると、積層体全体として広帯域性に優れるλ／４の位相差を与えるので好ましい。

高分子フィルムＡと高分子フィルムＢの両方の作用によって、積層体全体としてλ／４の位相差を与える積層体においては、高分子フィルムＡまたはＢのどちらか一方に前記したようなλ／４の位相差を与えるフィルムを用い、他方に前記したようなλ／２の位相差を与えるフィルムを用いることができる。

特に、高分子フィルムＡとして、１枚のλ／４位相差フィルムを用い、高分子フィルムＢとして、１枚のλ／２位相差フィルムを用いると、高分子フィルムＡとＢとの作用により積層体全体として広帯域性に優れるλ／４の位相差を与えるので好ましい。

本発明における好ましい実施態様の一例を図４に示す。図４は、後述する実施例４におけるタッチパネル付き液晶表示装置の概略図である。図４において、高分子フィルムＡ（１２：光学等方性フィルム）の片側に硬化樹脂層（４）、高屈折率層（９）、低屈折率層（１０）を介して透明導電層（５）が配置され、該高分子フィルムＡのもう一方の片側には光散乱層（２）が設けられ、さらにその上に、高分子フィルムＢ（λ／４位相差フィルム（１１）とλ／２位相差フィルム（３）とからなる積層位相差フィルム）が配置されている。この場合、積層位相差フィルムである高分子フィルムＢが、透明導電性積層体Ｐ（１７）全体にλ／４の位相差を与えるように作用している。偏光板（１３）と上記透明導電性積層体Ｐ（１７）との積層物と、空隙を挟んで透明導電性積層体Ｒ（１６）とが配置されてタッチパネル部が構成される。さらに該タッチパネル部、液晶セル部（２１）、偏光板（２２）と積層されタッチパネル付き液晶表示装置が構成されている。

ここで液晶セル部とは透明電極基板間に液晶を挟持したものであり、液晶セル部単独では画像表示は出来ない。液晶セル部と偏光板と位相差フィルムとを組み合わせることにより液晶表示装置として機能する。

＜高分子フィルムＡ＞
本発明に用いる高分子フィルムＡは、これを構成する高分子の光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１以下、好ましくは６４×１０^−１２Ｐａ^−１以下である。従来の光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１を超える高分子からなるフィルム上に透明導電層を設けた透明導電性積層体を偏光板、位相差フィルムと共に用いて構成されているタッチパネルでは、８０℃に加熱した際に、接着部（シール部）から内側に向かって円弧状に変色が発生することがある。本発明における高分子フィルムＡを用いたタッチパネルではこの変色の発生をかなり抑えることができる。更に、光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１ 以下の高分子からなるフィルムＡを用いることにより、加工工程での位相差の変化もかなり抑制できる。かかる光弾性定数の下限値としては特に制限はないが、通常０．５×１０^−１２Ｐａ^−１（０．５×１０^−１３ｃｍ^２／ｄｙｎｅ）である。

光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１（７０×１０^−１３ｃｍ^２／ｄｙｎｅ）以下の高分子としては、熱可塑性樹脂、例えばフルオレン環やイソホロン環を有する芳香族ポリカーボネートが挙げられる。すなわち、下記式（Ｉ）

で示される繰り返し単位を、ポリカーボネートを構成する繰り返し単位全体の７０〜３０モル％、好ましくは７０〜３５モル％を占めるポリカーボネートである。

ここで、上記式（Ｉ）において、Ｒ_１〜Ｒ_８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子および炭素数１〜６の炭化水素基から選ばれる少なくとも一種の基である。該炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基の如きアルキル基、フェニル基の如きアリール基が挙げられる。
Ｘは下記式

で表される基（フルオレン成分）、または下記式

で表される基（イソホロン成分）が挙げられる。Ｒ_９およびＲ_１０はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子またはメチル基の如き炭素数１〜３のアルキル基である。

より好ましいポリカーボネート材料としては、上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び下記式（ＩＩ）

で示される繰り返し単位からなり、かつ上記式（Ｉ）および（ＩＩ）の合計に基づき上記式（Ｉ）で表される繰り返し単位は、ポリカーボネートを構成する繰り返し単位全体の７０〜３０モル％を占める。

上記式（ＩＩ）において、Ｒ_１１〜Ｒ_１８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子および炭素数１〜２２の炭化水素基から選ばれる少なくとも一種の基であり、Ｙは下記式のそれぞれで表される基：

よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基である。ここで、Ｙ中のＲ_１９〜Ｒ_２１、Ｒ_２３及びＲ_２４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基、アリール基の如き炭素数１〜２２の炭化水素基であり、Ｒ_２２及びＲ_２５はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基の如き炭素数１〜２０の炭化水素基であり、またＡｒ_１〜Ａｒ_３はそれぞれ独立に、フェニル基の如き炭素数６〜１０のアリール基である。
さらに好ましくは、上記ポリカーボネートは下記式（ＩＩＩ）

で表される繰り返し単位と、下記式（ＩＶ）

で表される繰り返し単位とを含むポリカーボネートである。

上記式（ＩＩＩ）において、Ｒ_２６及びＲ_２７はそれぞれ独立に、水素原子またはメチル基である。好ましくは、Ｒ_２６及びＲ_２７の両方がメチル基である。

上記式（ＩＶ）において、Ｒ_２８〜Ｒ_２９はそれぞれ独立に、水素原子またはメチル基である。好ましくは水素原子である。

上記ポリカーボネートは、共重合体であっても、ポリマー混合物（ブレンド体、ブレンドポリマー）であってもよい。２種類以上の共重合体の組み合わせでもよく、２種類以上のホモポリマー同士あるいはホモポリマーと共重合体が混合されていてもよい。

光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１（７０×１０^−１３ｃｍ^２／ｄｙｎｅ）以下のポリマーとしては、上記以外に、例えばシクロポリオレフィン系樹脂が挙げられる。該シクロポリオレフィン系樹脂からなる高分子フィルムとしては、三井石油化学（株）製「ＴＰＸ」、「ＡＰＯ」、日本ゼオン（株）製「ＺＥＯＮＯＲ」、ＪＳＲ製「ＡＲＴＯＮ」等が挙げられる。

上記高分子フィルムＡを構成する高分子は、透明導電性積層体を製造する際や透明導電性積層体をタッチパネルに加工する際に通常加熱工程があるため耐熱性が高いことが望ましい。

耐熱性はガラス転移点温度（Ｔｇ）と相関がある。ＴｇはＤＳＣで測定することができる。光弾性定数が低い高分子を用いた場合、加工温度よりＴｇが１０℃以上高ければ加工時のフィルムの位相差変化を抑えることができる。光弾性定数が比較的高い高分子の場合、加工時の位相差変化を抑えるためには、Ｔｇが加工温度より４５℃以上高いことが好ましい。例えば、加工温度を１２５℃とした場合、光弾性定数が７×１０^−１２Ｐａ^−１（７×１０^−１３ｃｍ^２／ｄｙｎｅ）以下のシクロオレフィンポリマーの場合、Ｔｇは１３５℃以上であることが好ましい。また、光弾性定数が３０〜７０×１０^−１２Ｐａ^−１（７０×１０^−１３ｃｍ^２／ｄｙｎｅ）のポリカーボネート樹脂等の熱可塑性樹脂の場合は、Ｔｇは１７０℃以上であることが好ましい。

上記高分子フィルムＡの製造方法としては、例えば公知の溶融押し出し法、溶液キャスト法等が用いられる。溶液キャスト法における溶剤としては、例えば上記ポリカーボネートを用いる場合にはメチレンクロライド、ジオキソラン等が好適である。

高分子フィルムＡの厚さとしては、通常５０〜２００μｍ、好ましくは７０〜１５０μｍである。

本発明の透明導電性積層体は、この積層体自身でλ／４の位相差を与えることを特徴とするものである。つまり、本発明の積層体は、例えば偏光板を通過して出た直線偏光が、本発明の積層体の一方の面から他方の面へ通過したときに、該直線偏光を円偏光に変換させることができる、いわばλ／４位相差フィルムと同じ機能を有する。

したがって、偏光板と本発明の透明導電性積層体との積層物と空隙を挟んで他の透明導電性積層体とを配置してタッチパネル部を構成した場合、タッチパネル部での外光の反射を低下させることができる。

タッチパネル部での外光の反射を低下させる原理は以下のとおりである。
即ち、入力操作側にある偏光板を通過した直線偏光は可動電極基板側にある１／４波長の位相差フィルムを通過すると円偏光になり、これが可動電極基板の電極面又は固定電極基板の電極面で反射を受けると逆回りの円偏光になる。可動電極基板側にある１／４波長の位相差フィルムを再び通過すると、偏波面が入射時と９０度回転した直線偏光になるため、偏光板に吸収され、タッチパネル部の反射が抑制される。

本発明の透明導電性積層体を用いたタッチパネル付き液晶表示装置は以下の２種類に分類され、本発明ではそれぞれ円偏光板タイプ、組み込みタイプと呼ぶこととする。

（１）円偏光板タイプ
本発明の円偏光板タイプのタッチパネル付き液晶表示装置は、入力操作面側から順に、偏光板１とλ／４の位相差を与える透明導電性積層体Ｐとの積層物と、空隙を挟んで他の透明導電性積層体Ｒとが配置されて構成されているタッチパネル部と、位相差フィルム２と、偏光板２と、位相差フィルム３と、液晶セル部と、偏光板３とが順に積層されて構成されたものである。
この場合、偏光板２と位相差フィルム３と液晶セル部と偏光板３とで液晶表示装置が構成されている。透明導電性積層体Ｒは偏光に影響を与えないようリターデーション値が３０ｎｍ以下であることが必要である。位相差フィルム２はλ／４位相差フィルムであり、透明導電性積層体Ｐの光学軸と位相差フィルム２の光学軸は互いに直交している。偏光板２から出た光は互いの光学軸同士が直交した２枚の１／４波長の位相差フィルムを通過するため実質的に位相差が打ち消され、偏光が何ら変化を受けずに入力操作側にある偏光板に達し、偏光板を通過するか又は偏光板に吸収され表示が行われる。この様にして偏光板２から出た光の着色を抑えることができる。

（２）組み込みタイプ
本発明の組み込みタイプのタッチパネル付き液晶表示装置は、入力操作面側から順に、偏光板１とλ／４の位相差を与える透明導電性積層体Ｐとの積層物と、空隙を挟んで他の透明導電性積層体Ｒとが配置されて構成されているタッチパネル部と、液晶セル部と、偏光板３とが順に積層されて構成されたものである。
この場合、偏光板１とλ／４の位相差を与える透明導電性積層体Ｐと液晶セル部と偏光板３とで液晶表示装置が構成される。透明導電性積層体Ｒのリターデーション値が３０ｎｍ以下であれば偏光に影響与えないのでタッチパネルを組み込んでも着色の問題はほとんどない。
ここで、λ／４の位相差を与えるとは、理想的には可視光領域の全ての波長に対してλ／４の位相差を与えるという意味である。しかし波長５５０ｎｍにおける位相差がλ／４であれば他の波長での位相差が多少λ／４からずれていても実用上は問題ない。波長５５０ｎｍにおけるリターデーション値（Δｎｄ）は１２５〜１５０ｎｍであることが好ましく、１３１〜１４５ｎｍであることがより好ましい。リターデンション値が、これより小さくても大きくても偏光板と組合せた場合の外光の反射低減効果が小さくなり好ましくない。

上記円偏光板タイプにおいて、位相差フィルム２は、視認性を高めるためにλ／４位相差フィルムであることが好ましい。

上記位相差フィルム２を構成する材料は特に限定しないが、本発明の透明導電性積層体Ｐとの波長５５０ｎｍにおけるリターデーション値の差は１０ｎｍ以下であることが好ましい。リターデーション値の差が１０ｎｍを超えると着色が目立つようになる。また、該透明導電性積層体Ｐと位相差フィルム２との間の波長分散の差が大きいと着色が目立つ様になる。したがって、該透明導電性積層体Ｐと位相差フィルム２の波長分散の差は小さいことが好ましい。すなわち、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍでのリターデーション値をそれぞれＲ（４５０）、Ｒ（５５０）、Ｒ（６５０）とした時、該透明導電性積層体Ｐの波長分散がＲ（４５０）／Ｒ（５５０）＞１でかつＲ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１の場合には、位相差フィルム２の波長分散もＲ（４５０）／Ｒ（５５０）＞１でかつＲ（６５０）／Ｒ（５５０）＜１であることが好ましい。逆に、該透明導電性積層体Ｐの波長分散がＲ（４５０）／Ｒ（５５０）＜１でかつＲ（６５０）／Ｒ（５５０）＞１の場合には、位相差フィルム２の波長分散もＲ（４５０）／Ｒ（５５０）＜１でかつＲ（６５０）／Ｒ（５５０）＞１であることが好ましい。

位相差フィルム２の少なくとも片面に透明導電層を設けると、電磁波防止機能を付与することができる。

本発明の効果を妨げない範囲で、例えば位相差の波長分散を制御するために、高分子フィルムＡ，Ｂ上に位相差を発現する化合物層（例えば高分子液晶層）を設けたり、高分子フィルムＡ，Ｂ内部に低分子の液晶などの化合物を含ませてもよい。

上記高分子フィルムＢは、前記高分子フィルムＡと同じ材料からなるものを用いることができる。フィルムの厚さ、製法等についても前記高分子フィルムＡと同様のものを用いることができる。

＜光散乱層＞
上記高分子フィルムＡの一方の面には光散乱層を設ける。光散乱層は光を散乱させる機能を有するが、それ以外にときには高分子フィルムＢや偏光板との密着性を向上させる機能や、透明導電性積層体を加工する際の傷付きを防止する機能を有する層として機能することもある。光散乱層は、これ単独のヘーズ値が０．２〜１．４％であり、好ましくは０．３〜１％である。光散乱層単独のヘーズ値は高分子フィルムＡに光散乱層を形成する前と形成した後のヘーズ値の差として求めることが出来る。光散乱層単独のヘーズ値が０．２未満では膜厚斑による縞状の赤緑色の斑が目立ち液晶表示装置の視認性が低下する、また滑り性が悪く透明導電性積層体加工時の傷付きを防止する効果がない。また、ヘーズ値が１．４％を超えると液晶表示装置の視認性が悪くなる傾向がある。

光散乱層の厚さは、好ましくは１〜５μｍであり、より好ましくは１〜４μｍである。なお、この厚さは、凹凸などが表面に形成され実質的に平坦でない場合、任意に１０点以上測定した膜厚測定値の平均値と定義する。

光散乱層はこの層の内部および／または表面で光を散乱させる。高分子フィルムＡの表面に光散乱層を設ける方法としては、例えば、微粒子を含有する重合体層を積層する方法や微粒子を含有しない重合体層を積層する際に表面に微細凹凸を付与する方法が挙げられる。前者の方法では、重合体と屈折率の異なった微粒子を用いることにより光散乱層の内部で光散乱が起こる。また、平均粒子径が重合体層の膜さより大きな粒子を用いることにより、表面に微細凹凸が出来るため微粒子の屈折率に関係なく表面での光散乱が起こる。後者の方法では重合体層を積層する際に重合体層の表面にエンボスロール等を接触させ凹凸を形成する方法がある。

光散乱層内部での光散乱のみを利用する場合を除き光散乱層は凹凸を有するが、表面性を示す指標として中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．００５〜０．０４μｍの範囲であることが好ましい。

微粒子を含有する重合体層は、例えば塗工法、スプレー法、ラミネート法により高分子フィルムＡの表面に設けることができる。

塗工法により微粒子を含有する重合体層を形成するのに用いる微粒子としては、例えばシリカ微粒子、架橋アクリル微粒子、架橋ポリスチレン微粒子等が挙げられる。光散乱層のへーズ値は、該微粒子の粒径、該微粒子と該重合体との混合比率や該重合体層の膜厚等を調整することにより調整することができる。

重合体としては、例えば、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のケイ素アルコキシドをモノマーとしたケイ素原子含有重合体、エーテル化メチロールメラミン等のメラミン熱硬化樹脂、フェノキシ熱硬化樹脂、エポキシ熱硬化樹脂、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の多官能アクリレートモノマーを用いた多官能アクリレート樹脂が例示できる。これらのアクリレート樹脂は、熱硬化樹脂でも放射線硬化樹脂でもよい。放射線硬化樹脂は、紫外線や電子線等の放射線を照射することによって重合が進行する樹脂を指す。

これらの中でも、放射線照射により重合硬化する多官能アクリレートモノマーは、比較的短時間に架橋度の高い重合体層が得られることから、製造プロセスへの負荷が少ない。また得られる層自体の強度も強いという特徴があり好ましく用いられる。

多官能アクリレートモノマーとしては、単位構造内に２個以上のアクリロイル基を有する多官能アクリレート成分を含有するものが挙げられる。具体的には、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート等の各種アクリレートモノマー、ポリエステル変性アクリレート、ウレタン変性アクリレート、エポキシ変性アクリレート等の多官能アクリレートオリゴマー等が本用途に好ましく用いられる。これらの樹脂は単独の組成で用いても、数種の混合組成で用いても良く、また場合によっては、各種ケイ素アルコキシドの加水分解縮合物を組成中に適量添加することも好ましく行われる。

なお、紫外線照射によって樹脂層の重合を行なう場合には公知の光反応開始剤が適量添加される。光反応開始剤としては、例えばジエトキシアセトフェノン、２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）フェニル｝−２−モルフォリノプロパン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン系化合物；ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物；ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸等のベンゾフェノン系化合物；チオキサンソン、２、４−ジクロロチオキサンソン等のチオキサンソン系化合物等が挙げられる。

また、フェノキシ熱硬化樹脂層としては、下記式（１）で示されるフェノキシ樹脂、フェノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹脂を多官能イソシアネート化合物で熱的に架橋させた重合体層が挙げられる。

上記式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^６は、同一または異なる水素または炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ^７は炭素数２〜５のアルキレン基、Ｘはエーテル基、エステル基、ｍは０〜３の整数、ｎは２０〜３００の整数をそれぞれ意味する。この中でも特にＲ^１、Ｒ^２はメチル基、Ｒ^３〜Ｒ^６は水素、Ｒ^７はペンチレン基のものが、合成が容易で生産性の面から好ましい。

また、多官能イソシアネート化合物としては、一分子中にイソシアネート基を二つ以上含有する化合物であれば良く、以下のものが例示される。２，６−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート−トリメチロールプロパンアダクト体、ｔ−シクロヘキサン−１，４−ジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３，６−ヘキサメチレントリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネ−ト、水添ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオホスフェート、ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ｐ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、１，６，１１−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソシアネート−４−イソシアネートメチルオクタン、ビシクロヘプタントリイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等のポリイソシアネートおよびそれらの混合物あるいは多価アルコール付加体等。この中でも特に汎用性、反応性の観点から２，６−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート−トリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートが好ましい。

この他、反応促進剤として、公知のトリエチレンジアミン等の第三アミン、ジブチル錫ジラウレート等の有機錫化合物を適量添加する事で架橋速度を向上することが可能である。

また、エポキシ熱硬化樹脂層としては、各種のものが使用できるが、その中でも、下記式（２）で示されるノボラック型のエポキシ樹脂を熱的に架橋させた層が好ましい。

上記式（２）において、Ｒ^８は水素またはメチル基、Ｒ^９は水素またはグリシジルフェニルエーテル基を示す。また、ｑは１〜５０までの整数を示すが、実際の所、ｑの値は一般的に分布を持っていて特定しにくいが、平均の数として大きい方が好ましく、３以上さらには５以上が好ましい。

このようなエポキシ樹脂を架橋させる硬化剤としては、公知のものが適用される。例えば、アミン系ポリアミノアミド系、酸および酸無水物、イミダゾール、メルカプタン、フェノール樹脂等の硬化剤が用いられる。これらの中でも、酸無水物および脂環族アミン類が好ましく用いられ、さらに好ましくは酸無水物である。酸無水物としては、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸などの脂環族酸無水物、無水フタル酸等の芳香族酸無水物、ドデセニル無水フタル酸等の脂肪族酸無水物が挙げられるが、特にメチルヘキサヒドロ無水フタル酸が好ましい。尚、脂環族アミンとしては、ビス（４−アミノ−３−メチルジシクロヘキシル）メタン、ジアミノシクロヘキシルメタン、イソホロンジアミン等が挙げられ、特にビス（４−アミノ−３−メチルジシクロヘキシル）メタンが好ましい。

ここで、硬化剤として酸無水物を用いた場合、エポキシ樹脂と酸無水物との硬化反応を促進する反応促進剤を添加しても良い。反応促進剤としては、ベンジルメチルアミン、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ピリジン、１，８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−１等の公知の第二、第三アミン類やイミダゾール類等の硬化触媒が挙げられる。

また、ケイ素アルコキシドの重合体層としては、２〜４官能性、さらに好ましくは３〜４官能性のケイ素アルコキシドを二種以上混合して用いることが好ましく、これらをあらかじめ溶液中で適度に加水分解ならびに脱水縮合を行なって適度にオリゴマー化させたものも好ましく用いられる。

ケイ素アルコキシドの例としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３、４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が例示される。

これらのケイ素アルコキシドは、加熱により重合が進行するが、必要に応じて紫外線等の活性光線を塗工膜に照射することによって、架橋度をより高めることができる。

＜透明導電層＞
高分子フィルムＡの上記光散乱層とは反対側の面には、透明導電層が形成される。
本発明に用いられる透明導電層は、金属酸化物から構成される層である。かかる金属酸化物としては、例えば、錫、テルル、カドミウム、モリブデン、タングステン、フッ素、亜鉛を含有する酸化インジウム、アンチモンを含有する酸化錫、酸化錫及び酸化カドミウムよりなる酸化物が挙げられる。中でも、透明性及び導電性の点で錫を含む酸化インジウム（ＩＴＯ）が好ましい。或いはＩＴＯに更に第３元素として、珪素、チタン、亜鉛等を添加したものが好ましい。

かかる透明導電層の厚さとしては、十分な導電性を得るためには、１５ｎｍ以上であることが好ましく、また十分に透明性の高い膜を得るためには、１５０ｎｍ以下であることが好ましい。特に好ましくは１７〜１４０ｎｍである。

＜硬化樹脂層＞
高分子フィルムＡの上記光散乱層とは反対側の面に透明導電層を形成する前に、高分子フィルムＡの表面にあらかじめ硬化樹脂層を設けることが好ましい。硬化樹脂層があると、タッチパネルに加工する工程で、溶剤による高分子フィルムＡのダメージを防ぐことができる。硬化樹脂層の厚さは、好ましくは０．１〜１０μｍ、より好ましくは２〜１０μｍである。硬化樹脂層は必ずしも１層である必要はなく、２層以上積層しても良い。また、硬化樹脂層と高分子フィルムＡとの密着性を向上するために硬化樹脂層と高分子フィルムＡとの間にアンカー層を設けても良い。

上記硬化樹脂層を形成する硬化樹脂としては、上記光散乱層を構成する重合体と同じものを用いることができる。

また、上記硬化樹脂層中に微粒子を含むことにより、硬化樹脂層表面に凹凸を設けると、可動電極基板と固定電極基板との間で発生するニュートンリングを防止することができるため、より視認性が向上する効果がある。硬化樹脂層中に添加する微粒子としては、例えばシリカ微粒子、架橋アクリル微粒子、架橋ポリスチレン微粒子が挙げられる。表面の凹凸は、用いる微粒子の粒径、該微粒子と該硬化樹脂との混合比率、硬化樹脂層の膜厚等を調整することにより制御することができる。

上記微粒子を含む硬化樹脂層は、
（Ａ）（ｉ）硬化樹脂成分と（ｉｉ）少なくとも1種類以上の平均一次粒子径が０．５μｍ以上５μｍ以下の微粒子Ａと、（ｉｉｉ）平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物及び／または金属フッ化物からなる群から選ばれる少なくとも一種の超微粒子Ｂとを含んで構成され、
（Ｂ）当該微粒子Ａの含有量は当該樹脂成分１００重量部あたり０．３重量部以上１．０重量部未満であり、
（Ｃ）当該超微粒子Ｂの含有量は当該樹脂成分１００重量部あたり１重量部以上２０重量部以下であり、かつ
（Ｄ）膜厚が０．５μｍ以上５μｍ以下
の条件を満たすと、可動電極基板と固定電極基板との間で発生するニュートンリングを防止する機能があり、かつ液晶表示装置の画面のちらつきが少ないので好ましい。

微粒子Ａとしては、平均一次粒子径が０．５μｍ以上５μｍ以下であれば特に化合物の種類に制限なく使用できる。たとえばＳｉＯ_２、またはＳｉＯ_２を主成分あるいは架橋成分とする微粒子や、スチレン系、アクリル系、ブタジエン系などのポリマーを主成分とする微粒子を適応することができる。このような微粒子は、表面改質などの処理を行っていても構わない。また、かかる微粒子を２種類以上混合して用いても構わない。さらに微粒子Ａは、異なる平均一次粒子径の材料を混合し、粒子径分布を広く持たせることも可能である。本発明では、微粒子Ａの含有量について特に制限することはないが、硬化樹脂成分１００重量部に対し、微粒子Ａの含有量は０．３重量部以上から１．０重量部未満が好ましく、更に好ましくは０．３重量部から０．９重量部であり、０．３重量部から０．８重量部であることがさらに好ましい。含有量が０．３重量部より少ないと、ニュートンリングの発生を抑えにくい。また１．０重量部を超えると、ニュートンリングの発生防止には優れるが、ヘーズが高くなるために液晶表示装置の映像、文字などの情報がぼやけやすくなるため好ましくない。

平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の超微粒子Ｂとしては特に化合物の種類に制限がなく用いることができる。例えば、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、（Ｉｎ_２Ｏ_３・ＳｎＯ_２）、ＨｆＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、ＭｇＦ_２、Ｓｂ_２Ｏ_５、（Ｓｂ_２Ｏ_５・ＳｎＯ_２）、ＳｉＯ_２、ＳｎＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２などの金属酸化物または金属フッ化物からなるものを挙げることができる。これらは２種類以上併用してもよい。また金属酸化物と金属フッ化物は同時に使用することもできる。ただし、超微粒子Ｂの屈折率が硬化樹脂成分の屈折率よりも大きい場合、得られる硬化樹脂層はヘーズが高くなりやすい。このため超微粒子Ｂの屈折率は低いほど硬化樹脂成分の選択肢が広がるので好ましい。このような材質としては例えばＳｉＯ_２、ＭｇＦ_２などが好ましく挙げられる。これらの超微粒子Ｂは比表面積が非常に大きいため一般的に凝集を起こしやすいので、分散剤を添加し、溶剤に分散させたスラリーとして製造・販売されることが多い。このような分散剤としては例えば、脂肪酸アミン系、スルホン酸アミド系、ε−カプロラクトン系、ハイドロステアリン酸系、ポリカルボン酸系、ポリエステルアミンなど各種が使用できる。また分散媒（溶媒）としてはアルコール、水、ケトン系、芳香族系などに代表される一般的なものを使用することができる。

該超微粒子Ｂの平均一次粒子径は、硬化樹脂層が内部ヘーズによる白化を起こさないため小さいほうが望ましく、好ましくは１００ｎｍ以下である。かかる超微粒子Ｂの平均一次粒子径はより好ましくは８０ｎｍ以下、さらに好ましくは６０ｎｍ以下である。また下限は特に制限ないが５ｎｍである。超微粒子Ｂの平均一次粒子径は、レーザー回折散乱方式粒度分布測定装置を使用して測定することができる。また簡易的に透過型電子顕微鏡などを用いることによって実際の大きさを測定することもできる。具体的には超微粒子Ｂを含有する硬化樹脂層をエポキシ樹脂などで包埋し、エポキシ樹脂層を完全に硬化させた後ミクロトームで薄片化して測定試料を作製する。さらにこの測定試料を透過型電子顕微鏡で観察し、超微粒子の大きさをランダムに１０点以上測定し、これらの測定値を平均化することで平均一次粒子径を求めることができる。

また、硬化樹脂層中に分散している超微粒子Ｂの含有量としては、硬化樹脂成分１００重量部に対し、超微粒子Ｂが１重量部以上２０重量部以下であり、好ましく２重量部以上１０重量部以下であり、更に好ましくは３重量部以上７重量部以下である。該超微粒子Ｂは硬化樹脂層を平坦化（レベリング）する効果がある。超微粒子Ｂの含有量が上記範囲にあると、微粒子Ａとの相乗効果により硬化樹脂層に好適な表面凹凸が形成されるため、この表面凹凸によりニュートンリングの発生防止機能が発現され、かつ液晶表示装置の画面のちらつきが少ない。超微粒子Ｂ成分を１重量部未満とした場合では、硬化樹脂層をレベリングさせることは難しく硬化樹脂層の表面凹凸が大きくなり過ぎるため液晶表示装置の画面のちらつきが目立つようになる。また、超微粒子Ｂ成分が２０重量部を超える場合には、硬化樹脂層がレベリングしすぎてしまうために、ニュートンリングを防止する機能が十分に発現されない。

＜光学干渉層＞
高分子フィルムＡと透明導電層との間には光学干渉層を設けることができる。光学干渉層を設けることによりタッチパネルの色調がより改善される。

光学干渉層の配置は前記高分子フィルムＡと前記透明導電層との間であって、該高分子フィルムＡ側から順に硬化樹脂層、光学干渉層、及び透明導電層の順で設けられていることが生産性や効果の面で好都合である。

光学干渉層は高屈折率層と低屈折率層からなり、該低屈折率層は透明導電層と接していることが好ましい。これらの高屈折率層と低屈折率層は架橋重合体よりなり、かつ高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも一方は平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の超微粒子を含むことが好ましい。架橋重合体としては、金属アルコキシドを加水分解並びに縮合重合してなる架橋重合体の他に、熱硬化樹脂や放射線硬化樹脂の架橋重合体も用いることが出来る。

金属アルコキシドを加水分解ならびに縮合重合してなる架橋重合体の中では、機械的強度や安定性、密着性が優れているとの観点から、チタニウムアルコキシド及びジルコニウムアルコキシド並びにアルコキシシランを加水分解並びに縮合重合してなる架橋重合体が好ましい。

チタニウムアルコキシドとしては、例えばチタニウムテトライソプロポキシド、テトラーｎープロピルオルトチタネート、チタニウムテトラーｎーブトキシド、テトラキス（２ーエチルヘキシルオキシ）チタネート等が例示され、また、ジルコニウムアルコキシドとしては、例えばジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラーｎーブトキシド等が例示される。

アルコキシシランとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３、４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が例示される。これらのアルコキシシランは必要に応じて、層の機械的強度や密着性および耐溶剤性等の観点から二種類以上を混合して用いることが好ましい場合が多く、特にアルコキシシランの全組成中に重量比率０．５〜６０％の範囲で、分子内にアミノ基を有するアルコキシシラン含有されていることが好ましい。

これらの金属アルコキシドは、モノマーで用いても、あらかじめ加水分解と脱水縮合を行なって適度にオリゴマー化して用いても良いが、通常、適当な有機溶媒に溶解、希釈した塗液を基板上に塗工する。基板上に形成された塗工膜は、空気中の水分等により加水分解が進行し、続いて脱水縮合重合が進行する。一般に、縮合重合の促進には適当な加熱処理が必要であり、塗工法のプロセスにおいて１００℃以上の温度で数分以上の熱処理を施すことが好ましい。また、場合によっては、前記の熱処理と並行して、紫外線等の活性光線を塗膜に照射する事により、架橋度をより高めることができる。

希釈溶剤としては、アルコール系、炭化水素系の溶剤、例えば、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン等が好適であるが、この他にも、キシレン、トルエン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、酢酸イソブチル等の極性溶媒も使用可能である。これらのものは単独あるいは二種以上の混合溶剤として用いることができる。

高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも一方に平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の超微粒子を含むことにより屈折率を調整することが可能である。平均１次粒子径は１００ｎｍ以下が好ましく、更に好ましくは５０ｎｍ以下である。該超微粒子の平均１次粒子径を１００ｎｍ以下に制御することにより、塗膜が白化することなく良好な光学干渉層を形成することができる。

平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の超微粒子としては、例えばＡｌ_２Ｏ_３、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＣｅＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３・ＳｎＯ_２、ＨｆＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_５、Ｓｂ_２Ｏ_５・ＳｎＯ_２、ＳｎＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＺｒＯ_２などの金属酸化物の超微粒子、ＭｇＦ_２などの金属フッ化物からなる超微粒子が例示される。

かくして得られた本発明の透明導電性積層体は、タッチパネルの可動電極基板または固定電極基板として使用することができる。

上述の如く、本発明の透明導電性積層体をタッチパネルの電極基板として使用し該タッチパネルを液晶表示装置に組み込んで使用することができる。

このとき用いられる偏光板は、以下に述べる偏光フィルムに必要に応じて片面又は両面に保護フィルムを積層したものである。偏光フィルムとしては、例えば（ｉ）ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム、セルロース系フィルムの如き親水性高分子フィルムに沃素及び又は２色性有機染料を吸着配向せしめてなる沃素及び又は２色性有機染料系偏光フィルム、（ｉｉ）ポリビニルアルコール系フィルムを脱水処理してポリエンを形成して配向せしめてなるポリエン系偏光フィルム、（ｉｉｉ）ポリ塩化ビニルフィルムを脱塩酸処理してポリエンを形成して配向せしめてなるポリエン系偏光フィルム等が挙げられる。これらは通常１０〜８０μｍの厚さを有するものが使用される。

また、偏光フィルムとしては、疎水性ポリマーにあらかじめ２色性有機染料を配合した後、公知の方法によりフィルム状に成形し、少なくとも一方向に延伸し、更に熱固定して製造したフィルムも使用できる。該疎水性ポリマーとしては、１００℃以下の温度、相対湿度８０％以下の条件で収縮、膨潤等の変化を起こさない素材であれば良く、具体的にはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ナイロン−６、ナイロン−６６、ナイロン−１２等のポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリサルフォン系樹脂等であり、特に好ましくはポリエチレンテレフタレート、ナイロン−６、ナイロン−６６、ナイロン−１２である。該２色性有機染料は、分子構造上２色性を有するものであって、特に耐熱性、耐候性を有するものが好ましい。この様な偏光フィルムの製造は、上記疎水性ポリマーに２色性有機染料をヘンシェルミキサー、ブレンダー等を用いて配合し、その後、通常公知のＴダイ押出法、インフレーション法、溶液流延法等の方法でフィルム状に成形した後延伸工程に供給される。延伸工程は、樹脂のガラス転移点以上融点以下の適当な温度で一方向にできるだけ高倍率に延伸して表面積を増加させると同時に厚さを減少させる。この場合延伸方向は特に一方向に限定されるものではなく、必要に応じて延伸方向の直角方向に低倍率延伸し、フィルムの機械的強度を向上させることもできる。また、上記疎水性ポリマーに本発明の目的を阻害しない範囲内で他種ポリマーをブレンドしても良いし、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤、核生成剤、表面突起形成剤等の無機又は有機添加剤を添加しても良い。これらの偏光フィルムの厚さは２０〜２００μｍが望ましい。

偏光フィルムには前述の様に、必要に応じて片面又は両面に保護フィルムを積層することができる。保護フィルムとしては、リターデーション値が３０ｎｍ以下の光学等方性フィルム、及び又は一方向のみに延伸したフィルムを用いることができる。特に偏光板が入力操作側に用いられる場合には、偏光フィルムにおいて透明導電性積層体を積層しない側に来る面には保護フィルムを積層することが、信頼性の点で好ましい。

上記保護フィルムとして使用できるリターデーション値が３０ｎｍ以下の光学等方性フィルムとしては、ポリカーボネート系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリアリルサルフォン等のポリサルフォン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、セルローストリアセテート等のアセテート系樹脂、ポリアリレート系樹脂等のフィルムで、厚さが１０〜２００μｍのものが挙げられる。

また、上記保護フィルムとして使用できる一方向のみに延伸したプラスチックフィルムとして、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリフェニレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリアリルサルフォン等のポリサルフォン系樹脂、ポリメチルペンテン、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリ塩化ビニル、トリアセテート等の樹脂を一方向のみに延伸してなるフィルムが挙げられるが、耐薬品性等の点からは、上記のポリエステルからなるフィルムを、縦軸又は横軸方向のみに少なくとも５％、好ましくは５０〜８０％延伸し、１００℃×６０分間〜２３０℃×５分間ヒートセットしてなる、厚さ１０〜２００μｍのものが好ましい。

また、上記偏光板がタッチパネルの入力操作側に用いられる場合には、該偏光板の入力操作を行う側の面には、反射防止機能、防眩機能、耐摩耗性機能を有する層を設けることができる。

本発明における透明導電性積層体（Ｒ）は高分子フィルムあるいはガラスからなる透明基材の少なくとも一方の表面に透明導電層を有する積層体である。ここで、かかる高分子フィルムとしては、本発明の透明導電性積層体（Ｐ）に用いる光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１（７０×１０^−１３ｃｍ^２／ｄｙｎｅ）以下の高分子からなるフィルムＡと同じものを用いることができる。またかかる高分子フィルムは２層以上積層して用いてもよいし、ガラス板との積層体でもよい。但し、タッチパネル付き液晶表示装置全体の光学設計に合う様に透明基材のリターデーション値について考慮する必要がある。

該透明基材の厚さは、５０〜２０００μｍが好ましい。特に７５〜１５００μｍが好ましい。厚さが５０μｍ未満では透明導電層の加工が困難である。また、厚さが２０００μｍを超えるとタッチパネルの厚さが大になり携帯情報機器の用途には適さない。

該透明基材はリターデーション値が３０ｎｍ以下の光学等方性基板であるか、または１／４波長の位相差を与える基板のいずれかであることが好ましい。

該透明基材が光学等方性基板の場合、透明導電性積層体Ｒの光学軸は透明導電性積層体Ｐの光学軸と平行または直交する方向に配置してタッチパネルを構成することが好ましい。

透明基材が１／４波長の位相差を与える基板の場合、透明導電性積層体Ｒは位相差フィルム２を兼ねることが出来る。この場合、透明導電性積層体Ｒの光学軸と透明導電性積層体Ｐの光学軸とが互いに直交する様に配置してタッチパネルを構成する。

本発明のタッチパネルは、表示のために偏光板を必要とする反射型液晶（Reflective ＬＣＤ）、透過型液晶（Transmissive ＬＣＤ）、半透過反射型液晶（Transflective ＬＣＤ）なら通常利用することができる。例えば、ＴＮ、ＳＴＮ、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）、ＣＳＨ(color super homeotropic)、ＯＣＢ（optical compensated bend）、ＨＡＮ（half aligned nematic）、ＶＡ（vertical aligned）、ＩＰＳ（in plain switching）、強誘電、反強誘電、コレステリック相転移、ＧＨ（guest host）等の各種モードの液晶を挙げることができる。

本発明のタッチパネルは液晶表示装置と組合せて用いると効果が大きいが、液晶表示装置以外に用いることも可能である。例えば、ＯＬＥＤ（organic light-emitting diode）を挙げることができる。

上記の如く作製されたタッチパネルは、例えば液晶（ＬＣＤ）、ＯＬＥＤ（organic light-emitting diode）、などの表示装置の上、すなわち観測者側に載せられて円偏光板タイプのインナー型と呼ばれるタッチパネル付き表示装置、あるいは組み込みタイプのインナー型と呼ばれるタッチパネル付き表示装置として提供される。

以下に実施例により本発明を詳述する。但し、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。
（評価法）
（１）リターデーション値、光弾性定数の測定
リターデーション値および光弾性定数は、分光エリプソメータ『Ｍ１５０』（日本分光（株）製）により測定した。
（２）高分子のガラス転移点温度（Ｔｇ）の測定
『DSC2920 Modulated DSC』（TA Instruments社製）により測定した。フィルム成形後ではなく、樹脂重合後、フレークスまたはチップの状態で測定した。
（３）タッチパネルの高温試験
８０℃に加熱した表面が鏡面のホットプレート上にタッチパネルを偏光板が上側になる様にして置き、1分間放置後タッチパネルの色変化を調べた。
（４）タッチパネルの色斑観察
３波長蛍光灯下で、タッチパネルの偏光板側から色斑を観察した。

また、以下の実施例、比較例で用いたポリカーボネートのモノマー構造を以下に示す。

［実施例１及び比較例１］
攪拌機、温度計および環流冷却器を備えた反応槽に水酸化ナトリウム水溶液およびイオン交換水を仕込み、これに上記構造を有するモノマー（Ｅ）、（Ｆ）を５０：５０のモル比で溶解させ、少量のハイドロサルフィトを加えた。次にこれに塩化メチレンを加え、２０℃でホスゲンを約６０分かけて吹き込んだ。さらに、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールを加えて乳化させた後、トリエチルアミンを加えて３０℃で約３時間攪拌して反応を終了させた。反応終了後有機相を分取し、塩化メチレンを蒸発させてポリカーボネート共重合体を得た。得られた共重合体の組成比はモノマー仕込み量比とほぼ同等であった。ガラス転移温度は２１５℃であった。

この共重合体を塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度１８重量％のドープ溶液を作製した。このドープ溶液からキャストフィルムを作製し、２２０℃にて１．３０倍に縦一軸延伸することによりリ厚さ９５μｍ、リターデーション値１３８ｎｍ、光弾性定数６０×１０^−１２Ｐａ^−１である位相差フィルム（３）を得た。

次に、ポリエステルアクリレート（東亜化学株式会社製 アロニックスＭ８０６０）５０重量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬株式会社製 ＤＰＨＡ）５０重量部、光開始剤（チバガイギー社製 イルガキュア１８４）７重量部、希釈剤として1−メトキシ−2−プロパノール２００重量部からなる塗工液Ａを用意した。更に塗工液Ａに、微粒子として、平均粒径が約３μｍのシリコーン架橋微粒子（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製 トスパール１３０）を樹脂成分１００重量部に対して０．２重量部添加することにより塗工液Ｂを得た。また、塗工液Ａに、微粒子として、平均粒径が約３μｍのシリコーン架橋微粒子（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製 トスパール１３０）を樹脂成分１００重量部に対して０．５重量部添加することにより塗工液Ｃを得た。

上記位相差フィルム（３）の片面に該塗工液Ｂをマイクログラビア塗工装置にて塗付し６０℃で１分間乾燥後、強度１６０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて積算光量４５０ｍＪ／ｃｍ^２の条件で塗工膜を硬化させることにより厚さ約２μｍの光散乱層（２）を設けた。光散乱層単独のヘーズ値は０．５％であった。次に、位相差フィルム（３）の光散乱層を設けた側と反対面に該塗工液Ｃをマイクログラビア塗工装置にて塗付し６０℃で１分間乾燥後、強度１６０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて積算光量４５０ｍＪ／ｃｍ^２の条件で塗工膜を硬化させることにより厚さ約２μｍの硬化樹脂層（４）を設けた。

引き続いて、酸化インジウムと酸化錫が重量比９：１の組成で充填密度９８％の酸化インジウム-錫ターゲットを用いスパッタリング法で上記硬化樹脂層（４）上にＩＴＯ膜を積層することにより実施例１の透明導電性積層体（１４−１）を得た。ＩＴＯ膜の膜厚は２０ｎｍ、抵抗値は３３０Ω／□であった。リターデーション値は１３７ｎｍで殆ど変化がなかった。

また、上記位相差フィルム（３）の片面に塗工液Ａをマイクログラビア塗工装置にて塗布し６０℃で１分間乾燥後、強度１６０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて積算光量４５０ｍＪ／ｃｍ^２の条件で塗工膜を硬化させることにより厚さ約２μｍの透明樹脂層を設けた。該透明樹脂層単独のヘーズ値は０％であった。同様にして、該塗工液Ｃを用いて位相差フィルム（３）の該透明樹脂層を設けた側と反対面に厚さ約２μｍの硬化樹脂層を設けた。同様にして、硬化樹脂層上にＩＴＯ膜を積層することにより比較例１の透明導電性積層体（１４−１）を得た。ＩＴＯ膜の膜厚は２０ｎｍ、抵抗値は３４０Ω／□であった。リターデーション値は１３７ｎｍで殆ど変化がなかった。

一方、厚さ１．１ｍｍのガラス板（８）の両面にディップコーティング法によりＳｉＯ_２膜を設けた後、スパッタリング法により厚さ１８ｎｍのＩＴＯ膜を透明導電層として設けることにより透明導電性積層体（１５）を得た。次に、ＩＴＯ膜上に高さ７μｍ、直径７０μｍ、ピッチ１．５ｍｍのドットスペーサを設けた。

しかる後、外部への引き出し回路、絶縁層、粘着層を設けた後、透明導電性積層体（１４−１）と透明導電性積層体（１５）の透明導電層（ＩＴＯ膜）同士が向かい合いようにして貼り合わせアナログ型のタッチパネル部を作製した。

次に、沃素を偏光子として含有した一軸延伸ポリビニルアルコールフィルムの両面に接着剤を介してトリアセテートフィルムを貼り合わせて厚さ１５０μｍの入力操作側の偏光板（１３）を得た。なお、偏光板（１３）の入力操作面にはアンチグレアハードコート層を設けた。

この偏光板（１３）の光学軸と位相差フィルム（３）の光学軸とのなす角度が４５度になるように粘着剤を介して偏光板（１３）と透明導電性積層体（１４−１）を貼り合せることにより、実施例１と比較例１のタッチパネルを作製した。
タッチパネルの高温試験、色斑観察を行なった。結果を表１に示す。

［実施例２］
実施例１の位相差フィルム（３）の片面に実施例１同様にして厚さ約２μｍの光散乱層（２）を設けた。光散乱層単独のヘーズ値は０．５％であった。次に、位相差フィルム（３）の光散乱層を設けた側と反対面に実施例１と同様にして厚さ約２μｍの硬化樹脂層（４）を設けた。

次に、テトラブトキシチタネート（日本槽達社製「Ｂ−４」）をリグロイン（和光純薬工業社製の等級が特級品）とブタノール（和光純薬工業社製の等級が特級品）の混合溶媒で希釈した塗工液Ｄを作製した。

γ-グリシドキシプロピルトリメトキシラン（信越化学社製 「ＫＢＭ４０３」）とメチルトリメトキシシラン（信越化学社製 「ＫＢＭ１３」）を１：１のモル比で混合し、酢酸水溶液（ｐＨ＝３．０）により公知の方法で前記シランの加水分解を行った。こうして得たシランの加水分解物に対して、固形分の重量比率２０：１の割合でN-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメトキシシラン（信越化学社製 「ＫＢＭ６０３」）を添加し、更にイソプロピルアルコールとn-ブタノールの混合溶液で希釈を行い、アルコキシシラン塗工液Ｅを作製した。

塗工液Ｄのテトラブトキシチタネート成分と塗工液Ｅのアルコキシシラン成分の重量比率が７０：３０となるように塗工液Ｄと塗工液Ｅを混合した後、混合液中に1次粒子径が２０ｎｍのＴｉＯ_２超微粒子をＴｉＯ_２超微粒子と金属アルコキシド（テトラブトキシチタネートとアルコキシシランの合計）の重量比率が３０：７０となるように混合した塗工液Ｆを作製した。位相差フィルム３の硬化樹脂層上に塗工液Ｆをマイクログラビア塗工装置にて塗布後、１３０℃２分間乾燥し、膜厚が５５ｎｍの高屈折率層（９）を形成した。続いて該高屈折率層上に塗工液Ｅをマイクログラビア塗工装置にて塗布後、１３０℃２分間乾燥し、膜厚が４５ｎｍの低屈折率層（１０）を形成し高屈折率層と低屈折率層からなる光学干渉層を作成した。さらにこの低屈折率層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比９：１の組成で充填密度９８％の酸化インジウム-錫ターゲットを用いスパッタリング法でＩＴＯ膜を形成することにより実施例２の透明導電性積層体（１４−２）を得た。ＩＴＯ層の膜厚は約２０ｎｍ、表面抵抗は約３００Ω/□であった。リターデーション値は１３７ｎｍで殆ど変化がなかった。

一方、実施例１と全く同様な方法で、透明導電性積層体（１５）のＩＴＯ膜上に高さ７μｍ、直径７０μｍ、ピッチ１．５ｍｍのドットスペーサを設けた。

しかる後、外部への引き出し回路、絶縁層、粘着層を設けた後、透明導電性積層体（１４−２）と透明導電性積層体（１５）を透明導電層同士が向かい合いようにして貼り合わせアナログ型のタッチパネル部を作製した。

次に、実施例１と全く同様な方法で偏光板（１３）を得た。なお、偏光板（１３）の入力操作面側にはアンチグレアハードコート層を設けた。

この偏光板（１３）の光学軸と位相差フィルム（３）の光学軸とのなす角度が４５度になるように、粘着剤を介して偏光板（１３）と透明導電性積層体（１４−２）を貼り合せることにより、実施例２のタッチパネルを作製した。
タッチパネルの高温試験、色斑観察を行なった。結果を表１に示す。

［実施例３及び比較例２］
偏光板（１９）、位相差フィルム（２０）、液晶セル（２１）、偏光板（２２）とからなる液晶表示装置の偏光板（１９）上に、λ／４位相差フィルム（１８）を、偏光板（１９）の光軸と位相差フィルム１８の光軸が１３５度になる様に貼り合せた。しかる後、液晶表示装置上に０．４ｍｍの空隙を空けて実施例２のタッチパネルを偏光板（１３）の光軸と偏光板（１９）の光軸が平行になる様に配置することにより、円偏光板タイプのタッチパネル付き液晶表示装置を作製した。該液晶表示装置は屋外で見ても画像がはっきり見えた。更にタッチパネルの有無による液晶表示装置の色変化は無かった。

なお、実施例２のタッチパネルを構成する透明導電性積層体における位相差フィルム（３）の代わりに以下の位相差フィルムを用いて透明導電性積層体を作製した（比較例２）。すなわち、帝人化成（株）製Ｃ１４００（ガラス転移点温度１５５℃）を塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度１８重量％のドープ溶液を作製した。このドープ溶液からキャストフィルムを作製し、１５５℃にて１．０５倍に縦一軸延伸することにより厚さ７０μｍ、リターデーション値１３８ｎｍ、光弾性定数９０×１０^−１２Ｐａ^−１である位相差フィルム（３）を得た。

次に、実施例２と全く同様な方法で、位相差フィルム（３）の片面に光散乱層を設けた。更に光散乱層を設けた側と反対面に順次に硬化樹脂層、高屈折率層、低屈折率層、ＩＴＯ膜を設けることにより、透明導電性積層体（１４−２）を得た。ＩＴＯ膜の膜厚は２０ｎｍ、抵抗値は３１０Ω／□であった。リターデーション値は１４８ｎｍに変化した。

得られた透明導電性積層体（１４−２）を用いて実施例３と同じ構成のタッチパネル付き液晶表示装置を作製した。該液晶表示装置は屋外で見るとタッチパネルが無い場合に比較して液晶画面は黄色がかって見えた。更に該タッチパネルの高温試験を行なったところ、接着部（シール部）から内側に向かって円弧状に変色が発生した。

［実施例４］
ウレタンアクリレート１００重量部、光開始剤（チバガイギー社製 イルガキュア１８４）７重量部、希釈剤として1−メトキシ−2−プロパノール１３５重量部、イソプロパノール１３５重量部からなる塗工液Ｇを用意した。更に塗工液Ｇに、微粒子Ａとして平均粒径が約３μｍのシリコーン架橋微粒子（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製 トスパール１３０）を樹脂成分１００重量部に対して０．２重量部添加することにより塗工液Ｈを得た。また、塗工液Ｇに、微粒子Ａとして平均粒径が約３μｍのシリコーン架橋微粒子（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製 トスパール１３０）を樹脂成分１００重量部に対して０．７重量部、超微粒子ＢとしてＭｇＦ_２超微粒子を樹脂成分１００重量部に対して５重量部をそれぞれ添加することにより塗工液Ｉを得た。

厚さ１００μｍ、ガラス転移温度１３６℃、リターデーション値５．５ｎｍ、光弾性定数６．５×１０^−１２Ｐａ^−１である高分子フィルム（１２）（ＺＥＯＮＯＲフィルム、ＺＦ１４−１００、日本ゼオン株式会社製）の片面に該塗工液Ｈをマイクログラビア塗工装置にて塗付し６０℃で１分間乾燥後、強度１６０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて積算光量４５０ｍＪ／ｃｍ^２の条件で塗工膜を硬化させることにより厚さ約２μｍの光散乱層（２）を設けた。光散乱層単独のヘーズ値は０．５％であった。次に、高分子フィルム（１２）の光散乱層を設けた側と反対面に該塗工液Ｉをマイクログラビア塗工装置にて塗付し６０℃で１分間乾燥後、強度１６０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて積算光量４５０ｍＪ／ｃｍ^２の条件で塗工膜を硬化させることにより厚さ約２μｍの硬化樹脂層（４）を設けた。

次に実施例２と同様にして、塗工液Ｅ、塗工液Ｆを用意した。高分子フィルム（１２）の硬化樹脂層（４）上に塗工液Ｆをマイクログラビア塗工装置にて塗布後、１２５℃２分間乾燥し、膜厚が５５ｎｍの高屈折率層（９）を形成した。続いて該高屈折率層上に塗工液Ｅをマイクログラビア塗工装置にて塗布後、１２５℃２分間乾燥し、膜厚が４５ｎｍの低屈折率層（１０）を形成し高屈折率層と低屈折率層からなる光学干渉層を作成した。さらにこの低屈折率層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比９：１の組成で充填密度９８％の酸化インジウム-錫ターゲットを用いスパッタリング法でＩＴＯ膜を形成することにより透明導電性積層体（１６）を得た。ＩＴＯ層の膜厚は約２０ｎｍ、表面抵抗は約３００Ω/□であった。リターデーション値は殆ど変化がなかった。透明導電性積層体の光散乱層（２）上にλ／４位相差フィルム（１１）、λ／２位相差フィルム（３）を１層ずつ貼り合わせ、透明導電性積層体（１７）を得た。

一方、実施例１と全く同様な方法で、透明導電性積層体（１６）のＩＴＯ膜上に高さ７μｍ、直径７０μｍ、ピッチ１．５ｍｍのドットスペーサを設けた。

しかる後、外部への引き出し回路、絶縁層、粘着層を設けた後、透明導電性積層体（１７）と透明導電性積層体（１６）を透明導電層同士が向かい合いようにして貼り合わせアナログ型のタッチパネル部を作製した。

次に、実施例１と全く同様な方法で偏光板（１３）を得た。なお、偏光板（１３）の入力操作面側にはアンチグレアハードコート層を設けた。

この偏光板（１３）を透明導電性積層体（１７）に粘着剤を介して貼り合せることによりタッチパネルを得た。引き続いて該タッチパネル、液晶セル（２１）、偏光板（２２）を貼り合わせ、実施例４の組み込みタイプのタッチパネル付き液晶表示装置を作製した。該液晶表示装置は屋外で見ても画像がはっきり見えた。

本発明の透明導電性積層体は、反射光を抑え、変色も見られなく生産性も良好である。したがって、かかる積層体を用いることにより、視認性に優れ、屋外でも使用しやすく高い信頼性を有するタッチパネル及びそれを用いた液晶表示装置を提供することができる。

実施例１（及び比較例１）で作製したタッチパネルの概略図である。 実施例２で作製したタッチパネルの概略図である。 実施例３（及び比較例２）で作製したタッチパネル付き液晶表示装置の概略図である。 実施例４で作製したタッチパネル付き液晶表示装置の概略図である。

符号の説明

１：アンチグレアハードコート層
２：光散乱層（又は透明樹脂層）
３：位相差フィルム
４：硬化樹脂層
５：透明導電層
６：ドットスペーサ
７：透明導電層
８：ガラス板
９：高屈折率層
１０：低屈折率層
１１：位相差フィルム
１２：高分子フィルム
１３：偏光板
１４−１：透明導電性積層体
１４−２：透明導電性積層体
１５：透明導電性積層体
１６：透明導電性積層体
１７：透明導電性積層体
１８：位相差フィルム
１９：偏光板
２０：位相差フィルム
２１：液晶セル部
２２：偏光板

Claims (19)

1. 光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である高分子からなるフィルム（高分子フィルムＡ）と、その一方の面に形成したヘーズ値が０．２〜１．４％の範囲である光散乱層と、他方の面に形成した透明導電層とを含み、かつ全体としてλ／４の位相差を与える透明導電性積層体。
2. 前記高分子フィルムＡが、１層のフィルムである請求項１に記載の透明導電性積層体。
3. 前記高分子フィルムＡが、λ／４位相差フィルムである請求項２に記載の透明導電性積層体。
4. 前記高分子フィルムＡが、２層以上のフィルムの積層体からなる請求項１に記載の透明導電性積層体。
5. 前記高分子フィルムＡが、１層のλ／４位相差フィルムと１層のλ／２位相差フィルムとからなる積層位相差フィルムである、請求項４に記載の透明導電性積層体。
6. 前記積層体において、さらに、前記高分子フィルムＡの透明導電層とは反対側の表面に、光弾性定数が７０×１０^−１２Ｐａ^−１以下である高分子からなる他のフィルム（高分子フィルムＢ）が積層されている請求項１に記載の透明導電性積層体。
7. 前記高分子フィルムＡと該高分子フィルムＢとでλ／４の位相差を与える請求項６に記載の透明導電性積層体。
8. 前記高分子フィルムＡがリターデーション値３０ｎｍ以下の高分子フィルムであり、かつ前記高分子フィルムＢが１層のλ／４位相差フィルムと１層のλ／２位相差フィルムとの積層位相差フィルムである、請求項６に記載の透明導電性積層体。
9. 前記高分子フィルムＡが１層のλ／２位相差フィルムであり、かつ前記高分子フィルムＢが１層のλ／４位相差フィルムである、請求項６に記載の透明導電性積層体。
10. 前記高分子フィルムＡと前記透明導電層との間にさらに硬化樹脂層が設けられている、請求項１に記載の透明導電性積層体。
11. 前記硬化樹脂層は、微粒子Ａと超微粒子Ｂとを含有する、請求項１０に記載の透明導電性積層体。
12. 前記高分子フィルムＡと前記透明導電層との間に、高屈折率層と低屈折率層とからなる光学干渉層が前記低屈折率層側で前記透明導電層と接するように設けられており、かつこれらの高屈折率層及び低屈折率層はそれぞれ架橋重合体からなる請求項１に記載の透明導電性積層体。
13. 前記高分子フィルムＡと前記透明導電層との間に、該高分子フィルムＡ側から順に硬化樹脂層及び光学干渉層が設けられている請求項１に記載の透明導電性積層体。
14. 前記光散乱層の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．００５〜０．０４μｍである請求項１に記載の透明導電性積層体。
15. 前記高分子が、ガラス転移点温度（Ｔｇ）が１７０℃以上の熱可塑性樹脂である、請求項１に記載の透明導電性積層体。
16. 前記熱可塑性樹脂がポリカーボネートである、請求項１５に記載の透明導電性積層体。
17. 入力操作面側から順に、偏光板１とλ／４の位相差を与える透明導電性積層体Ｐとの積層物と、空隙を挟んで他の透明導電性積層体Ｒとが配置されて構成されているタッチパネルであって、前記透明導電性積層体Ｐが請求項１記載の透明導電性積層体である、タッチパネル。
18. 入力操作面側から順に、偏光板１とλ／４の位相差を与える透明導電性積層体Ｐとの積層物と、空隙を挟んで他の透明導電性積層体Ｒとが配置されて構成されているタッチパネル部と、位相差フィルム２と、偏光板２と、位相差フィルム３と、液晶セル部と、偏光板３とが順に積層されて構成されたタッチパネル付き液晶表示装置であって、前記透明導電性積層体Ｐが請求項１記載の透明導電性積層体である、タッチパネル付き液晶表示装置。
19. 入力操作面側から順に、偏光板１とλ／４の位相差を与える透明導電性積層体Ｐとの積層物と、空隙を挟んで他の透明導電性積層体Ｒとが配置されて構成されているタッチパネル部と、液晶セル部と、偏光板３とが順に積層されて構成されたタッチパネル付き液晶表示装置であって、前記透明導電性積層体Ｐが請求項１記載の透明導電性積層体である、タッチパネル付き液晶表示装置。

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