JPS6395601A - 抵抗薄膜 - Google Patents

抵抗薄膜

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Publication number
JPS6395601A
JPS6395601A JP61242402A JP24240286A JPS6395601A JP S6395601 A JPS6395601 A JP S6395601A JP 61242402 A JP61242402 A JP 61242402A JP 24240286 A JP24240286 A JP 24240286A JP S6395601 A JPS6395601 A JP S6395601A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resistance
thin film
temperature coefficient
small
nickel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61242402A
Other languages
English (en)
Inventor
一雄 緒方
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、電子部品として使用される抵抗薄膜に関する
ものである。
従来の技術 この種抵抗薄膜として具備すべき好ましい特性としては
、比抵抗が比較的大きいこと、安定性すなわち抵抗値の
経時変化が小さいこと、抵抗温度係数が小さいこと、ま
た抵抗温度係数の経時変化が小さいこと等の種々にわた
る特性が要求される。
従来、抵抗薄膜はスパッタリングや電子ビーム蒸着、抵
抗加熱蒸着等により、基体上に被着することにより作ら
れている。そして、薄膜材料としては、窒化タンタル(
TaN)、窒化チタン(Tie)やニッケルークローム
(Ni−Cr)合金、ニッケルークローム−アルミニウ
ム(Ni−0r −Al )合金、ニッケルークローム
−硅素(Ni −0r−8i)合金等が実用化されてい
る。
発明が解決しようとする問題点 しかし、TiNやTaNは微量のN2ガスを導入する反
応性着膜を必要とするため、制御が難かしく、再現性が
得にくい。またTaはレアメタルであり、産地が偏在し
ており、原料価格が不安定でコストダウンの障害となっ
ている。
Ni−0rは比抵抗が小さい。その酸化皮膜は緻密で耐
熱性、耐薬品性とも優れてはいるが、その抵抗温度係数
は1oO〜1s o ppm /Cと大きい。
さらにNi −Or −8i 、 Ni −0r−41
は比抵抗が小さいが、緻密で耐熱性、耐薬品性に富み、
抵抗温度係数も小さい。しかじ人eもしくはSi量が最
適条件から少しでも外れると抵抗温度係数は大きくなる
ため、人eもしくはSlの微妙な量の加減が必要である
本発明は、上記のような点に鑑みてなされだものであり
、これらの特性を満足し、かつ安価にして安定的に抵抗
薄膜を提供することを目的とする。
問題点を解決するだめの手段 この問題点を解決するために本発明は、抵抗体の組成を
、ニッケル、クローム、アルミニウムおよび二酸化硅素
より構成して薄膜を形成するものである。
作用 この構成になる組成を有した抵抗薄膜は、比抵抗が大き
く、抵抗値の経時変化が小さく、まだ抵抗温度係数は比
較的小さく、抵抗温度係数の経時変化は小さい等の特性
上の優位性をもつ。まだ、資源的にも供給の心配の小な
い材料を使用している点、着膜が容易な点など、安価に
して安定的に抵抗薄膜をつくることができる。
実施例 まず、アルミナ基板に電子ビーム法により、2つのハー
スにいれたニッケルークローム−アルミニウムと二酸化
硅素を同時に蒸発して着膜した。
この時の各成分の比率は下記の表1に示す通りである。
次いで着膜された基体にOr、 Auを着膜し、エツチ
ングにより抵抗体部と導体部を作成する。次に抵抗体部
両端の導体部にリード線を接続し、試料とした。この試
料の抵抗温度係数、比抵抗を各10個の平均値で調べた
結果を下記の表2に示す。
また表2には、参考として、ニッケルークロームを用い
、上記と同一条件で作成した試料の特性値を併せて示し
ている。
さらに温度26℃で、電力1.3Wを1 、3 m5e
o。
印加し、0.7m5ec、  切るということをくりか
えす負荷寿命試験(発熱部=抵抗体部は空中にあり何物
にも接触していない)を行なったところ、図に示すよう
な結果を得た。それぞれ実施例1による特性a1参考例
にニッケルークローム)による特性すを比較したもので
ある。
(以下余白) 表1 表2 以上のように本発明によれば、ニッケルークローム−ア
ルミニウムおよび二酸化硅素を組成とする抵抗薄膜は、
機械的性能として、■表面は緻密で硬く、■耐熱性、耐
薬品性に富んでいる。また電気的性能として、■比抵抗
が大きく、■抵抗温度係数が比較的小さく、マた1×1
oサイクルの負荷寿命試験においても抵抗値変化率が小
さく、抵抗温度係数変化率が小さいという特徴を有し、
本発明の抵抗薄膜が長期使用状態においても安定であり
、寿命的にも効果のあることがわかる。また、生産上の
観点から、■組成が多少ズしても抵抗温度係数には犬さ
な差が生じない、■反応性着膜でなく着膜できるので制
御もむずかしくない等作りやすい膜ということができる
発明の効果 以上のように本発明の抵抗薄膜は、各種の特性において
良好な値を示し、かつ安価にして、安定的に製造するこ
とができ、その産業性は犬なるものがある。
【図面の簡単な説明】
図は本発明品と従来品による負荷寿命試験結果を比較し
て示す特性図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ニッケル、クローム、アルミニウムおよび二酸化硅素か
    らなることを特徴とする抵抗薄膜。
JP61242402A 1986-10-13 1986-10-13 抵抗薄膜 Pending JPS6395601A (ja)

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JP (1) JPS6395601A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63147305A (ja) * 1986-12-11 1988-06-20 Tdk Corp 金属薄膜抵抗体
JP2007027299A (ja) * 2005-07-14 2007-02-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜抵抗体およびそれを用いた電子部品ならびにその製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63147305A (ja) * 1986-12-11 1988-06-20 Tdk Corp 金属薄膜抵抗体
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